JP2500790B2 - 露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置及びその方法 - Google Patents
露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置及びその方法Info
- Publication number
- JP2500790B2 JP2500790B2 JP29650893A JP29650893A JP2500790B2 JP 2500790 B2 JP2500790 B2 JP 2500790B2 JP 29650893 A JP29650893 A JP 29650893A JP 29650893 A JP29650893 A JP 29650893A JP 2500790 B2 JP2500790 B2 JP 2500790B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dust
- light
- exposure mask
- defects
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Image Input (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光用マスクのゴミま
たは表面凹凸欠陥を検出する装置及びその方法に係わ
り、とくに露光用マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥の
うち、遮光パターンを除く透明部に存在するゴミまたは
表面凹凸欠陥を検出する装置及びその方法に関する。
たは表面凹凸欠陥を検出する装置及びその方法に係わ
り、とくに露光用マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥の
うち、遮光パターンを除く透明部に存在するゴミまたは
表面凹凸欠陥を検出する装置及びその方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術の露光用マスクのゴミまたは表
面凹凸欠陥を検出する装置は、密着露光用マスクやレチ
クルマスク等の露光用マスクにレーザ光を照射し、ゴミ
または表面凹凸欠陥があった場合、レーザ光が散乱光と
なることを利用していた。
面凹凸欠陥を検出する装置は、密着露光用マスクやレチ
クルマスク等の露光用マスクにレーザ光を照射し、ゴミ
または表面凹凸欠陥があった場合、レーザ光が散乱光と
なることを利用していた。
【０００３】すなわち、レーザ光を露光マスクの全面も
しくは指定区域内にスキャニングさせ、四方に取り付け
たディテクタにより散乱光と判断された場所にゴミまた
は表面凹凸欠陥があると判断していた。そして、レーザ
光の照射側にディテクタを設置するとスキャニングされ
た場所全域上のゴミまたは表面凹凸欠陥を検出し、レー
ザ光の照射側と反対側にディテクタを設置するとスキャ
ニングされた場所のうち露光マスクの透明部上のゴミま
たは表面凹凸欠陥を検出していると判断していた。
しくは指定区域内にスキャニングさせ、四方に取り付け
たディテクタにより散乱光と判断された場所にゴミまた
は表面凹凸欠陥があると判断していた。そして、レーザ
光の照射側にディテクタを設置するとスキャニングされ
た場所全域上のゴミまたは表面凹凸欠陥を検出し、レー
ザ光の照射側と反対側にディテクタを設置するとスキャ
ニングされた場所のうち露光マスクの透明部上のゴミま
たは表面凹凸欠陥を検出していると判断していた。
【０００４】また別の従来技術の露光用マスクのゴミま
たは表面凹凸欠陥を検出する装置として、イメージセン
サを用い、ゴミまたは表面凹凸欠陥が無い露光マスクを
撮像し、このイメージセンサからの出力信号を基準と
し、ゴミまたは表面凹凸欠陥が存在する露光マスクから
の出力信号との相違からゴミまたは表面凹凸欠陥を検知
するものであった。
たは表面凹凸欠陥を検出する装置として、イメージセン
サを用い、ゴミまたは表面凹凸欠陥が無い露光マスクを
撮像し、このイメージセンサからの出力信号を基準と
し、ゴミまたは表面凹凸欠陥が存在する露光マスクから
の出力信号との相違からゴミまたは表面凹凸欠陥を検知
するものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
技術のレーザ光を用いる方法は、レーザ光の照射側に対
してディテクタがどちらの側に設置してある場合でも、
クロム膜等の遮光膜をパターニングして形成された遮光
パターンは、遮光膜の段差によりその端部でレーザ光が
散乱光となってしまい、不都合なゴミまたは表面凹凸欠
陥と誤判断されることが発生するという問題点を有す
る。
技術のレーザ光を用いる方法は、レーザ光の照射側に対
してディテクタがどちらの側に設置してある場合でも、
クロム膜等の遮光膜をパターニングして形成された遮光
パターンは、遮光膜の段差によりその端部でレーザ光が
散乱光となってしまい、不都合なゴミまたは表面凹凸欠
陥と誤判断されることが発生するという問題点を有す
る。
【０００６】一方、上記従来技術のイメージセンサを用
いる方法は、多種、多様の露光マスクに対応するために
は膨大な時間がかかるという問題点を有する。
いる方法は、多種、多様の露光マスクに対応するために
は膨大な時間がかかるという問題点を有する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、レーザ
光をスキャンして密着露光用マスクやレチクルマスク等
の露光用マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥を散乱光と
して判別するゴミ検出手段と、前記露光用マスクの遮光
パターンを取込むパターン入力手段とを備え、遮光パタ
ーンにおけるゴミまたは表面欠陥を削除して処理するこ
とを可能とする露光用マスクのゴミまたは表面凹凸欠陥
を検出する装置にある。
光をスキャンして密着露光用マスクやレチクルマスク等
の露光用マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥を散乱光と
して判別するゴミ検出手段と、前記露光用マスクの遮光
パターンを取込むパターン入力手段とを備え、遮光パタ
ーンにおけるゴミまたは表面欠陥を削除して処理するこ
とを可能とする露光用マスクのゴミまたは表面凹凸欠陥
を検出する装置にある。
【０００８】本発明の他の特徴は、レーザ光をスキャン
して密着露光用マスクやレチクルマスク等の露光用マス
ク上のゴミまたは表面凹凸欠陥を散乱光として判別する
ゴミ検出手段と、前記露光用マスクの遮光パターンを取
込むパターン入力手段と、前記ゴミ検出手段により得ら
れたゴミまたは表面凹凸欠陥が存在する位置情報と前記
パターン入力手段による遮光パターン情報とを比較する
比較手段とを有する露光用マスクのゴミまたは表面凹凸
欠陥を検出する装置にある。
して密着露光用マスクやレチクルマスク等の露光用マス
ク上のゴミまたは表面凹凸欠陥を散乱光として判別する
ゴミ検出手段と、前記露光用マスクの遮光パターンを取
込むパターン入力手段と、前記ゴミ検出手段により得ら
れたゴミまたは表面凹凸欠陥が存在する位置情報と前記
パターン入力手段による遮光パターン情報とを比較する
比較手段とを有する露光用マスクのゴミまたは表面凹凸
欠陥を検出する装置にある。
【０００９】本発明の別の特徴は、密着露光用マスクや
レチクルマスク等の露光用マスクの遮光パターンを認識
記憶させ、レーザ光をスキャンして前記露光用マスク上
のゴミまたは表面凹凸欠陥を散乱光として検出し、前記
露光マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥のうち前記遮光
パターン上のゴミまたは表面凹凸欠陥を削除して処理す
る露光用マスクのゴミまたは表面凹凸欠陥を検出する方
法にある。
レチクルマスク等の露光用マスクの遮光パターンを認識
記憶させ、レーザ光をスキャンして前記露光用マスク上
のゴミまたは表面凹凸欠陥を散乱光として検出し、前記
露光マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥のうち前記遮光
パターン上のゴミまたは表面凹凸欠陥を削除して処理す
る露光用マスクのゴミまたは表面凹凸欠陥を検出する方
法にある。
【００１０】ここで、上記パターン認識記憶ステップに
おけるパターン入力手段は、露光マスクの一方の側に位
置する光源と、光源からの光、例えばこの露光用マスク
を用いて露光工程を行う際に用いる光と同種の紫外線、
ｉ線、ｇ線等の光を露光用マスクを通して受光する、露
光マスクの他方の側に位置するイメージセンサと、イメ
ージセンサからの信号を入力するパターン認識部とを有
して構成されることができる。
おけるパターン入力手段は、露光マスクの一方の側に位
置する光源と、光源からの光、例えばこの露光用マスク
を用いて露光工程を行う際に用いる光と同種の紫外線、
ｉ線、ｇ線等の光を露光用マスクを通して受光する、露
光マスクの他方の側に位置するイメージセンサと、イメ
ージセンサからの信号を入力するパターン認識部とを有
して構成されることができる。
【００１１】あるいは、上記パターン認識記憶ステップ
におけるパターン入力手段は、予じめ露光用マスクの遮
光パターンの図形データを入力し記憶することができる
パターン入力部を有して構成されることができる。
におけるパターン入力手段は、予じめ露光用マスクの遮
光パターンの図形データを入力し記憶することができる
パターン入力部を有して構成されることができる。
【００１２】また、遮光パターンの全部分を除いてレー
ザ光をスキャンすることができ、あるいは遮光パターン
の一部分を除いてレーザ光をスキャンすることができ
る。
ザ光をスキャンすることができ、あるいは遮光パターン
の一部分を除いてレーザ光をスキャンすることができ
る。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照して本発明を説明する。な
お実施例においてゴミまたは表面凹凸欠陥のうち代表と
してゴミについてのみ説明するが、表面凹凸欠陥につい
ても同様である。
お実施例においてゴミまたは表面凹凸欠陥のうち代表と
してゴミについてのみ説明するが、表面凹凸欠陥につい
ても同様である。
【００１４】図１は本発明の第１の実施例を示す図であ
る。レチクルマスク１上のゴミ３１を検査する場合にお
いて、光源３の下方にレチクルマスク１を設置し、光源
からの光３３、例えばこのレチクルマスクを用いて露光
工程を行う際に用いる光と同種の紫外線、ｉ線、ｇ線等
の光３３をレチクルマスク１の全面に照射する。レチク
ルマスク１の遮光パターン２は光３３を通さないから、
レチクルマスク１の下方に位置しているイメージセンサ
４が感知するのは遮光パターン２以外のところ、すなわ
ちレチクルマスク１のガラス透明部である。この光を感
知した信号がパターン認識部１０で処理され、遮光パタ
ーン２が認識記憶される。
る。レチクルマスク１上のゴミ３１を検査する場合にお
いて、光源３の下方にレチクルマスク１を設置し、光源
からの光３３、例えばこのレチクルマスクを用いて露光
工程を行う際に用いる光と同種の紫外線、ｉ線、ｇ線等
の光３３をレチクルマスク１の全面に照射する。レチク
ルマスク１の遮光パターン２は光３３を通さないから、
レチクルマスク１の下方に位置しているイメージセンサ
４が感知するのは遮光パターン２以外のところ、すなわ
ちレチクルマスク１のガラス透明部である。この光を感
知した信号がパターン認識部１０で処理され、遮光パタ
ーン２が認識記憶される。
【００１５】次に、レーザ部５より放出されたレーザ光
３０を、レーザスキャンコントローラ８により制御され
たスキャンミラー６を通して、レチクルマスク１の全面
もしくは指定区域へ照射する。
３０を、レーザスキャンコントローラ８により制御され
たスキャンミラー６を通して、レチクルマスク１の全面
もしくは指定区域へ照射する。
【００１６】このスキャンミラー６を通したレーザ光３
０がレチクルマスク１の表面に付着しているゴミ３１に
より散乱光３２を発生する。散乱光３２を４方向にそれ
ぞれ取付けた受光センサ７で受光し、ゴミ検出コントロ
ーラ９によりすべての（４個の）受光センサ７で一定量
以上入力した場合は散乱光が発生した等の判断処理を行
う。
０がレチクルマスク１の表面に付着しているゴミ３１に
より散乱光３２を発生する。散乱光３２を４方向にそれ
ぞれ取付けた受光センサ７で受光し、ゴミ検出コントロ
ーラ９によりすべての（４個の）受光センサ７で一定量
以上入力した場合は散乱光が発生した等の判断処理を行
う。
【００１７】ゴミ検出コントローラ９からの散乱光発生
によるゴミ情報とレーザスキャンコントローラ８からの
位置データがエリア内ゴミ検出部１１に送られて、ゴミ
３１の存在およびその位置の特定を行う。そしてこのゴ
ミ３１の存在位置情報とパターン認識部１０からの遮光
パターン情報が比較部１２に送られ、両者を比較するこ
とにより、遮光パターン２上のゴミ３１’とガラス透明
部上のゴミ３１’’とを区別して、遮光パターン２上の
ゴミ３１’は、それが存在しても露光作業に支障を生じ
ないから、ゴミの認識から削除される。
によるゴミ情報とレーザスキャンコントローラ８からの
位置データがエリア内ゴミ検出部１１に送られて、ゴミ
３１の存在およびその位置の特定を行う。そしてこのゴ
ミ３１の存在位置情報とパターン認識部１０からの遮光
パターン情報が比較部１２に送られ、両者を比較するこ
とにより、遮光パターン２上のゴミ３１’とガラス透明
部上のゴミ３１’’とを区別して、遮光パターン２上の
ゴミ３１’は、それが存在しても露光作業に支障を生じ
ないから、ゴミの認識から削除される。
【００１８】またこのことにより、遮光パターン２の端
部の段差により発生する散乱光によるものも削除される
から、誤検知になることはなくなる。
部の段差により発生する散乱光によるものも削除される
から、誤検知になることはなくなる。
【００１９】そして結果表示部１３により、レチクルマ
スク１の遮光パターン２を除く箇所、すなわちガラス透
明部上のゴミ３１’’を露光作業において不都合なゴミ
であるとして表示する。
スク１の遮光パターン２を除く箇所、すなわちガラス透
明部上のゴミ３１’’を露光作業において不都合なゴミ
であるとして表示する。
【００２０】図２は本発明の第２の実施例を示す図であ
る。
る。
【００２１】この実施例では、レチクルマスク１４の遮
光パターン１５をあらかじめその座標データ等によりパ
ターン入力部１９に入力して記憶させておく。
光パターン１５をあらかじめその座標データ等によりパ
ターン入力部１９に入力して記憶させておく。
【００２２】次に、第１の実施例と同様に、レーザ部１
６より放出されたレーザ光４０を、レーザスキャンコン
トローラ２０により制御されたスキャンミラー１７を通
して、レチクルマスク１４に照射してゴミ４１による散
乱光４２を４方向にそれぞれ取付けた受光センサ１８で
受光し、ゴミ検出コントローラ２１により散乱光が発生
した等の判断処理を行う。
６より放出されたレーザ光４０を、レーザスキャンコン
トローラ２０により制御されたスキャンミラー１７を通
して、レチクルマスク１４に照射してゴミ４１による散
乱光４２を４方向にそれぞれ取付けた受光センサ１８で
受光し、ゴミ検出コントローラ２１により散乱光が発生
した等の判断処理を行う。
【００２３】この第２の実施例では、パターン入力部１
９からの情報を比較部２３にデータ転送するとともに、
レーザスキャンコントローラ２０にも転送し、遮光パタ
ーン１５を除く透明ガラス面のみにレーザスキャンの範
囲を限定するか、遮光パターン１５のなかで大面積領域
１５Ａを除く小面積領域１５Ｂおよび透明ガラス面のみ
にレーザスキャンの範囲を限定する。図２では後者の場
合、すなわちレーザスキャンを透明ガラス面および遮光
パターン１５のなかで小面積領域１５Ｂにレーザスキャ
ンの範囲を限定した場合である。
９からの情報を比較部２３にデータ転送するとともに、
レーザスキャンコントローラ２０にも転送し、遮光パタ
ーン１５を除く透明ガラス面のみにレーザスキャンの範
囲を限定するか、遮光パターン１５のなかで大面積領域
１５Ａを除く小面積領域１５Ｂおよび透明ガラス面のみ
にレーザスキャンの範囲を限定する。図２では後者の場
合、すなわちレーザスキャンを透明ガラス面および遮光
パターン１５のなかで小面積領域１５Ｂにレーザスキャ
ンの範囲を限定した場合である。
【００２４】ゴミ検出コントローラ２１からの散乱光発
生によるゴミ情報とレーザスキャンコントローラ２０か
らの位置データがエリア内ゴミ検出部２２に送られて、
遮光パターン１５の大面積領域１５Ａに相当するスキャ
ンしない領域４５を除くスキャンした領域４４すなわち
遮光パターン１５の小面積領域１５Ｂおよびガラス透明
部におけるゴミ４１の存在およびその位置の特定を行
う。
生によるゴミ情報とレーザスキャンコントローラ２０か
らの位置データがエリア内ゴミ検出部２２に送られて、
遮光パターン１５の大面積領域１５Ａに相当するスキャ
ンしない領域４５を除くスキャンした領域４４すなわち
遮光パターン１５の小面積領域１５Ｂおよびガラス透明
部におけるゴミ４１の存在およびその位置の特定を行
う。
【００２５】そしてこのゴミの存在位置情報とパターン
入力部１９からの遮光パターン情報が比較部２３に送ら
れ、両者を比較することにより、遮光パターン１５のス
キャンされた小面積領域１５Ｂ上のゴミ４１’と透明部
上のゴミ４１’’とを区別して、遮光パターン１５Ｂ上
のゴミ４１’は、それが存在しても露光作業に支障を生
じないから、ゴミの認識から削除され、ガラス透明部上
のゴミ４１’’のみを露光作業において不都合なゴミで
あるとして結果表示部１３により表示する。
入力部１９からの遮光パターン情報が比較部２３に送ら
れ、両者を比較することにより、遮光パターン１５のス
キャンされた小面積領域１５Ｂ上のゴミ４１’と透明部
上のゴミ４１’’とを区別して、遮光パターン１５Ｂ上
のゴミ４１’は、それが存在しても露光作業に支障を生
じないから、ゴミの認識から削除され、ガラス透明部上
のゴミ４１’’のみを露光作業において不都合なゴミで
あるとして結果表示部１３により表示する。
【００２６】この第２の実施例では、レーザスキャン範
囲を限定することで、特に露光範囲が小さなものや、露
光部分が片寄っているものでは、必要な部分のみをゴミ
検査することで時間の短縮が計れるという利点がある。
囲を限定することで、特に露光範囲が小さなものや、露
光部分が片寄っているものでは、必要な部分のみをゴミ
検査することで時間の短縮が計れるという利点がある。
【００２７】また、第１および第２の実施例の装置は、
露光装置と一体化され、露光マスクの搬送によりゴミの
移動やあらたな付着がない無振動、無発塵の搬送が行わ
れる。
露光装置と一体化され、露光マスクの搬送によりゴミの
移動やあらたな付着がない無振動、無発塵の搬送が行わ
れる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、密着露光
用マスクやレチクルマスク等の露光用マスク上のゴミま
たは表面凹凸欠陥を検査する装置及びその方法におい
て、遮光パターンを認識又は登録することができ、遮光
パターン上に検出されたゴミまたは表面凹凸欠陥は削除
されて処理される。
用マスクやレチクルマスク等の露光用マスク上のゴミま
たは表面凹凸欠陥を検査する装置及びその方法におい
て、遮光パターンを認識又は登録することができ、遮光
パターン上に検出されたゴミまたは表面凹凸欠陥は削除
されて処理される。
【００２９】また、遮光パターン端面で発生するノイズ
による誤検知が低減される。
による誤検知が低減される。
【００３０】さらに、第２の実施例のようなシーケンス
を実施することで、検出時間の短縮も可能となる。
を実施することで、検出時間の短縮も可能となる。
【図１】本発明の第１の実施例を説明する図である。
【図２】本発明の第２の実施例を説明する図である。
１，１４ レチクルマスク ２ 遮光パターン ３ 光源 ４ イメージセンサ ５，１６ レーザ部 ６，１７ スキャンミラー ７，１８ 受光センサ ８，２０ レーザスキャンコントローラ ９，２１ ゴミ検出コントローラ １０ パターン認識部 １１，２２ エリア内ゴミ検出部 １２，２３ 比較部 １３，２４ 結果表示部 １５ 遮光パターン １５Ａ 遮光パターンの大面積領域 １５Ｂ 遮光パターンの小面積領域 １９ パターン入力部 ３０，４０ レーザ光 ３１，４１ ゴミ ３１’，４１’ 遮光パターン上のゴミ ３１’’，４１’’ ガラス透明部上のゴミ ３２，４２ 散乱光 ３３ 光 ４４ スキャンした領域 ４５ スキャンしない領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 9061−5Ｈ Ｇ０６Ｆ 15/70 ４５５Ｂ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｖ
Claims (10)
- 【請求項１】 レーザ光をスキャンして密着露光用マス
クやレチクルマスク等の露光用マスク上のゴミまたは表
面凹凸欠陥を散乱光として判別するゴミ検出手段と、前
記露光用マスクの遮光パターンを取込むパターン入力手
段とを備え、遮光パターンにおけるゴミまたは表面欠陥
を削除して処理することを可能とすることを特徴とする
露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置。 - 【請求項２】 レーザ光をスキャンして密着露光用マス
クやレチクルマスク等の露光用マスク上のゴミまたは表
面凹凸欠陥を散乱光として判別するゴミ検出手段と、前
記露光用マスクの遮光パターンを取込むパターン入力手
段と、前記ゴミ検出手段により得られたゴミまたは表面
凹凸欠陥が存在する位置情報と前記パターン入力手段に
よる遮光パターン情報とを比較する比較手段とを有し、
前記露光マスク上のゴミまたは表面凹凸欠陥のうち前記
遮光パターン上のゴミまたは表面凹凸欠陥を削除して処
理することを可能にしたことを特徴とする露光用マスク
のゴミまたは欠陥を検出する装置。 - 【請求項３】 前記パターン入力手段は、前記露光マス
クの一方の側に位置する光源と、前記光源からの光を前
記露光用マスクを通して受光する、前記露光マスクの他
方の側に位置するイメージセンサと、前記イメージセン
サからの信号を入力するパターン認識部とを有して構成
されていることを特徴とする請求項１もしくは請求項２
に記載の露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装
置。 - 【請求項４】 前記光源からの光は、前記露光用マスク
を用いて露光工程を行う際に用いる光と同種の光である
ことを特徴とする請求項３に記載の露光用マスクのゴミ
または欠陥を検出する装置。 - 【請求項５】 前記パターン入力手段は、予じめ前記露
光用マスクの遮光パターンの図形データを入力し記憶す
ることができるパターン入力部を有して構成されている
ことを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載の露
光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置。 - 【請求項６】 前記パターン入力手段からの信号により
前記レーザ光をスキャンする範囲を制御する手段を有す
ることを特徴とする請求項５に記載の露光用マスクのゴ
ミまたは欠陥を検出する装置。 - 【請求項７】 前記比較部からの情報により、前記露光
マスクの前記遮光パターンを除く透明部に存在するゴミ
または表面凹凸欠陥のみを表示する結果表示部を有する
ことを特徴とする請求項２に記載の露光用マスクのゴミ
または欠陥を検出する装置。 - 【請求項８】 密着露光用マスクやレチクルマスク等の
露光用マスクの遮光パターンを認識記憶させ、レーザ光
をスキャンして前記露光用マスク上のゴミまたは表面凹
凸欠陥を散乱光として検出し、前記露光マスク上のゴミ
または表面凹凸欠陥のうち前記遮光パターン上のゴミま
たは表面凹凸欠陥を削除して処理することを特徴とする
露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する方法。 - 【請求項９】 前記遮光パターンの全部分を除いて前記
レーザ光をスキャンすることを特徴とする請求項８に記
載の露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する方法。 - 【請求項１０】 前記遮光パターンの一部分を除いて前
記レーザ光をスキャンすることを特徴とする請求項８に
記載の露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29650893A JP2500790B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置及びその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29650893A JP2500790B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置及びその方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07151691A JPH07151691A (ja) | 1995-06-16 |
| JP2500790B2 true JP2500790B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=17834453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29650893A Expired - Fee Related JP2500790B2 (ja) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | 露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置及びその方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2500790B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100416660B1 (ko) * | 2001-12-20 | 2004-01-31 | 동부전자 주식회사 | 노광시스템의 페리클 검사장치 |
| JP6436672B2 (ja) * | 2014-07-25 | 2018-12-12 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 検査装置および検査方法 |
-
1993
- 1993-11-26 JP JP29650893A patent/JP2500790B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07151691A (ja) | 1995-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3647416B2 (ja) | パターン検査装置及びその方法 | |
| JPH061370B2 (ja) | マスク欠陥検査装置 | |
| JP2500790B2 (ja) | 露光用マスクのゴミまたは欠陥を検出する装置及びその方法 | |
| JP3181729B2 (ja) | 塗膜欠陥検出におけるレンズ汚れ検出方法及びその装置 | |
| JPH08272078A (ja) | パターンの検査方法及び検査装置 | |
| JPS63298035A (ja) | 欠陥検査装置 | |
| JP2524532B2 (ja) | ウエハ異物検査装置 | |
| JPH06252230A (ja) | 欠陥検査方法および装置 | |
| JP2503919B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| KR20080015208A (ko) | 레티클 이물질 검사장치 및 검사방법 | |
| JPS6366446A (ja) | 異物検査装置 | |
| JP3517100B2 (ja) | パターン検査装置及びパターン検査方法 | |
| JPH08272079A (ja) | パターンの検査方法及び検査装置 | |
| KR960042836A (ko) | 음극선관 패널 결함 검사장치 | |
| JP2970235B2 (ja) | 表面状態検査装置 | |
| JPH1054706A (ja) | パターン検出方法及びパターン検出装置 | |
| JP3218726B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| JPH0523061B2 (ja) | ||
| JPH06347415A (ja) | パーティクル検査装置およびその検査方法 | |
| JPS63103949A (ja) | 異物検査装置 | |
| JPH0516740B2 (ja) | ||
| JPH11174657A (ja) | マスクパターン外観検査装置および方法 | |
| JP3101773B2 (ja) | ウエハ異物検査装置 | |
| JP3064459B2 (ja) | マスクの異物検査方法 | |
| KR100498729B1 (ko) | 레티클 피피디 검사시 패턴영역 표시 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960130 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |