JP2024019020A - 処理液供給装置および処理液補充方法 - Google Patents

Abstract

【課題】定量ポンプの信頼性を向上させることができる技術を提供する。【解決手段】処理液供給装置は、供給タンク２１と、循環配管と、補充配管７２と、補充タンク７１と、定量ポンプ７３と、補充開閉弁７４とを備える。供給タンク２１は、基板Ｗの処理に供される処理液を貯留する。循環配管は、供給タンク２１に接続される。補充配管７２は、循環配管に接続される下流端を有する。補充タンク７１は補充配管７２の上流端に接続される。定量ポンプ７３は補充配管７２に介挿される。補充開閉弁７４は循環配管７２のうち定量ポンプ７３よりも下流側に介挿される。【選択図】図２

Description

本開示は、処理液供給装置および処理液補充方法に関する。

処理液を用いて基板を処理する処理ユニットと、該処理ユニットに処理液を供給する供給ユニットとを含む基板処理装置が提案されている。このような基板処理装置の一例として、特許文献１が開示されている。特許文献１の基板処理装置では、供給ユニットは、シリコンを含むリン酸水溶液を処理ユニットに供給し、処理ユニットは該リン酸水溶液を基板に供給して、基板のシリコン窒化膜をエッチングする。該基板処理装置には、リン酸水溶液を生成する生成用タンクと、生成用タンクに接続される循環配管と、循環配管にシリコン含有液を供給するシリコン含有液供給系とが設けられる。また、シリコン含有液供給系は、所定量のシリコン含有液を吐出するショットポンプ（定量ポンプ）を含む。

特開２０１６－３２０３０号公報

処理液が循環配管を通じて循環すると、処理液に由来する背圧が定量ポンプに印加されてしまう。このような背圧の印加により、定量ポンプの経時劣化を招いてしまう。このため、定量ポンプの信頼性が低下し得る。

本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであり、定量ポンプの信頼性を向上させることができる技術を提供することを目的とする。

第１の態様は、処理液供給装置であって、基板の処理に供される処理液を貯留する供給タンクと、前記供給タンクに接続される循環配管と、前記循環配管に接続される下流端を有する補充配管と、前記補充配管の上流端に接続される補充タンクと、前記補充配管に介挿される定量ポンプと、前記循環配管のうち前記定量ポンプよりも下流側に介挿される補充開閉弁とを備える。

第２の態様は、第１の態様にかかる処理液供給装置であって、前記循環配管は屈曲配管部を有し、前記補充配管の前記下流端は、前記屈曲配管部よりも上流側において、前記循環配管に接続される。

第３の態様は、基板の処理に供される処理液を貯留する供給タンクに対して前記処理液を補充する処理液補充方法であって、前記処理液を、前記供給タンクに接続された循環配管を通じて循環させる循環工程と、前記処理液が前記循環配管を通じて循環した状態で、前記循環配管に接続された補充配管を通じて、補充タンクからの前記処理液を前記供給タンクに補充する補充工程とを備え、前記補充工程において、前記補充配管に介挿された定量ポンプが１回以上のショット動作を行い、前記ショット動作において、前記定量ポンプは所定量の前記処理液を前記補充タンクから前記供給タンクへと供給し、前記ショット動作の少なくとも１回において、前記定量ポンプは、前記補充配管のうちの前記定量ポンプよりも下流側に介挿された補充開閉弁が閉じた状態で、前記処理液を前記補充タンクから吸い込み、前記補充開閉弁が開いた状態で、前記所定量の前記処理液を前記循環配管に向かって吐出する。

第４の態様は、第３の態様にかかる処理液補充方法であって、前記補充工程の直前において前記補充開閉弁が閉じており、前記補充工程において、前記定量ポンプが複数回の前記ショット動作を行い、少なくとも１回目の前記ショット動作において、前記定量ポンプは、前記補充開閉弁が閉じた状態で、前記処理液を前記補充タンクから吸い込み、前記補充開閉弁が開いた状態で、前記所定量の前記処理液を前記循環配管に向かって吐出する。

第５の態様は、第４の態様にかかる処理液補充方法であって、前記補充工程において、前記定量ポンプが複数回の前記ショット動作を行い、前記複数回の前記ショット動作の全てにおいて、前記定量ポンプは、前記補充開閉弁が閉じた状態で、前記処理液を前記補充タンクから吸い込み、前記補充開閉弁が開いた状態で、前記所定量の前記処理液を前記循環配管に向かって吐出する。

第６の態様は、第３から第５のいずれか一つの態様にかかる処理液補充方法であって、前記補充工程の前に、前記処理液が前記循環配管を通じて循環している期間の少なくとも一部で前記補充開閉弁を閉じる閉鎖工程をさらに備える。

第７の態様は、第３から第６のいずれか一つの態様にかかる処理液補充方法であって、前記ショット動作の回数を設定する設定工程をさらに備える。

第８の態様は、第４または第５の態様にかかる処理液補充方法であって、前記補充工程の前に、前記補充配管のうちの前記補充開閉弁と前記定量ポンプとの間の部分に接続された上流端を有する補充排出配管に介挿された補充排出弁を開き、かつ、前記補充開閉弁を閉じつつ、前記定量ポンプが前記ショット動作を行い、前記補充排出弁が開いてから所定の排出期間が経過したときに前記補充排出弁を閉じるエア抜き工程をさらに備える。

第１の態様によれば、定量ポンプよりも下流側に補充開閉弁が設けられている。補充開閉弁が閉じた状態では、循環配管を流れる処理液に由来する背圧は補充開閉弁によって阻止されるので、定量ポンプに印加される背圧を低減させることができる。このため、定量ポンプの経時劣化の程度を低減させることができる。

第２の態様によれば、補充配管から循環配管に流入する処理液および循環配管を循環する処理液が、屈曲配管部を通じて供給タンクに供給される。屈曲配管部では処理液の進行方向が急激に変化するので、処理液がよく混ざり合う。このため、より濃度分布の均一な処理液を供給タンクに供給することができる。

第３の態様によれば、補充開閉弁が閉じた状態で定量ポンプが処理液を吸い込む。定量ポンプの吸い込みによって定量ポンプには背圧が印加されるものの、補充開閉弁が閉じていれば、循環配管を流れる処理液に由来する背圧は補充開閉弁によって阻止されるので、定量ポンプに印加される背圧を低減させることができる。このため、定量ポンプの経時劣化の程度を低減させることができる。

第４の態様によれば、補充開閉弁の開閉状態の切換回数を低減させることができる。

第５の態様によれば、定量ポンプへの背圧をさらに低減させることができる。

第６の態様によれば、定量ポンプが動作していないときでも、処理液が循環している期間の少なくとも一部で補充開閉弁が閉じている。このため、該期間においても、定量ポンプへの背圧を低減することができる。

第７の態様によれば、補充工程において、適した処理量で処理液を補充することができる。

第８の態様によれば、エア抜き工程によって、補充配管の内部および定量ポンプの内部の処理液中の気泡群の少なくとも一部（例えば大部分）を、処理液とともに補充排出配管を通じて排出することができる。

ところで、定量ポンプの経年劣化もしくは製造ばらつき等により、ショット動作に要する所要動作時間が排出時間よりも長くなる場合がある。この場合、定量ポンプはエア抜き工程において十分に処理液を吐出できず、定量ポンプ内に処理液が残留する。しかしながら、定量ポンプは、次の補充工程での１回目のショット動作において、補充開閉弁が閉じた状態で補充タンクからの処理液の吸い込みを開始する。このため、当該ショット動作よりも前において、定量ポンプ内に残留した処理液は吐出されない。そして、定量ポンプは補充工程において、処理液を吸い込んだ後に、補充開閉弁が開いた状態で所定量の処理液を吐出する。したがって、定量ポンプは、適切な量（所定量）の処理液を循環配管に補充することができる。

基板処理装置の構成の一例を概略的に示す平面図である。 基板処理装置の構成の一例を概略的に示す図である。 供給ユニットのうちの定量ポンプを含む周囲の構造の一例を拡大して示す概略図である。 制御部の内部構成の一例を概略的に示す機能ブロック図である。 第１の実施の形態にかかる基板処理装置の動作の一例を示すフローチャートである。 補充工程におけるタイミングチャートの第１例を示す図である。 定量ポンプが吸引動作を行っている様子の一例を概略的に示す図である。 定量ポンプが吸引動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。 定量ポンプが吐出動作を行う様子の一例を概略的に示す図である。 基板処理装置の動作の他の一例を示すフローチャートである。 補充工程におけるタイミングチャートの第２例を示す図である。 補充工程におけるタイミングチャートの第３例を示す図である。 第２の実施の形態にかかる基板処理装置の動作の一例を示すフローチャートである。 エア抜き工程および補充工程におけるタイミングチャートの一例を示す図である。 定量ポンプが吸引動作を行っている様子の一例を概略的に示す図である。 定量ポンプが吸引動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。 定量ポンプが吐出動作を行う様子の一例を概略的に示す図である。 補充排出弁が閉じる際の様子の一例を示す図である。 定量ポンプが吸引動作を行っている様子の一例を概略的に示す図である。 定量ポンプが吸引動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。 定量ポンプが吐出動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。 比較例にかかる供給ユニットのタイミングチャートを示す図である。

以下、添付される図面を参照しながら実施の形態について説明する。なお、図面は概略的に示されるものであり、説明の便宜のため、適宜、構成の省略、または、構成の簡略化がなされるものである。また、図面に示される構成の大きさおよび位置の相互関係は、必ずしも正確に記載されるものではなく、適宜変更され得るものである。

また、以下に示される説明では、同様の構成要素には同じ符号を付して図示し、それらの名称と機能とについても同様のものとする。したがって、それらについての詳細な説明を、重複を避けるために省略する場合がある。

また、以下に記載される説明において、「第１」または「第２」などの序数が用いられる場合があっても、これらの用語は、実施の形態の内容を理解することを容易にするために便宜上用いられるものであり、これらの序数によって生じ得る順序などに限定されるものではない。

相対的または絶対的な位置関係を示す表現（例えば「一方向に」「一方向に沿って」「平行」「直交」「中心」「同心」「同軸」など）が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表すものとする。等しい状態であることを示す表現（例えば「同一」「等しい」「均質」など）が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表すものとする。形状を示す表現（例えば、「四角形状」または「円筒形状」など）が用いられる場合、該表現は、特に断らない限り、幾何学的に厳密にその形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲で、例えば凹凸や面取りなどを有する形状も表すものとする。一の構成要素を「備える」「具える」「具備する」「含む」または「有する」という表現が用いられる場合、該表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的表現ではない。「Ａ，ＢおよびＣの少なくともいずれか一つ」という表現が用いられる場合、該表現は、Ａのみ、Ｂのみ、Ｃのみ、Ａ，ＢおよびＣのうち任意の２つ、ならびに、Ａ，ＢおよびＣの全てを含む。

＜第１の実施の形態＞
＜１．基板処理装置の概略構成＞
図１は、基板処理装置１００の構成の一例を概略的に示す平面図である。図１に示されるように、基板処理装置１００は、例えば、基板の一例としての半導体基板（ウエハ）Ｗの表面に付着した有機系のゴミを除去する処理に用いることができる枚葉式の装置である。有機系の残渣としては、例えば、基板Ｗの表面に不純物を注入するイオン注入処理等の後において基板Ｗの表面に残っている不要になったレジスト、あるいは基板Ｗの表面のうちの外周部の近傍に付着しているレジスト等に由来する有機系のゴミ等、が含まれる。また、基板処理装置１００は無機系の残渣除去および基板Ｗのエッチングにも用いることができる。

基板処理装置１００は、収容器としての複数のキャリアＣを保持する収容器保持機構としてのロードポートＬＰと、基板Ｗを処理する複数（この実施の形態では、１２台）の処理ユニット１０とを含む。具体的には、例えば、平面的に配置されている４台の処理ユニット１０でそれぞれ構成されている３組の処理ユニット１０が、鉛直方向に積層するように配置されている。

基板処理装置１００は、さらに、例えば、インデクサロボットＩＲと、センターロボットＣＲと、制御部９０とを含む。インデクサロボットＩＲは、例えば、ロードポートＬＰとセンターロボットＣＲとの間で基板Ｗを搬送することができる。センターロボットＣＲは、例えば、インデクサロボットＩＲと各処理ユニット１０との間で基板Ｗを搬送することができる。制御部９０は、例えば、基板処理装置１００に備えられた各部の動作およびバルブの開閉等を制御することができる。

図１の例では、未処理の基板ＷはキャリアＣからインデクサロボットＩＲによって取り出され、基板載置部１１０を経由してセンターロボットＣＲに受け渡される。基板載置部１１０は、基板Ｗを載置する載置台を含む。センターロボットＣＲはこの未処理の基板Ｗを処理ユニット１０に搬入する。処理ユニット１０は基板Ｗに対して処理を行う。処理済みの基板ＷはセンターロボットＣＲによって処理ユニット１０から取り出され、必要に応じて他の処理ユニット１０を経由した上で、基板載置部１１０を介してインデクサロボットＩＲに受け渡される。インデクサロボットＩＲは処理済みの基板ＷをキャリアＣに搬入する。以上により、基板Ｗに対する処理が行われる。

図１の例では、ユーザインターフェース９４が設けられている。ユーザインターフェース９４は例えばいずれも不図示のディスプレイおよび入力デバイスを有している。ディスプレイは、例えば液晶ディスプレイなどのディスプレイである。ディスプレイは制御部９０によって制御されて、各種情報を表示する。入力デバイスは、例えば、キーボードおよびマウスなどのデバイスである。入力デバイスはユーザによって入力された情報を制御部９０に出力する。例えばユーザは入力デバイスを用いて、基板処理装置１００の動作開始を指示することができる。

＜２．処理ユニット＞
図２は、基板処理装置１００の構成の一例を概略的に示す図である。図２の例では、１つのタワーＴＷが示されている。図２の例では、タワーＴＷは２つの処理ユニット１０によって構成されている。つまり、各タワーＴＷにおいて、２つの処理ユニット１０が鉛直方向に沿って並んで配置されている。なお、タワーＴＷを構成する処理ユニット１０の個数は２つに限らず、適宜に変更できる。

図２の例では、各処理ユニット１０は、処理チャンバ１１と、基板保持部１２と、ノズル１３と、ガード１４と、待機ポッド１５とを含む。処理チャンバ１１は処理室を形成しており、基板保持部１２、ノズル１３、ガード１４および待機ポッド１５を収納する。

基板保持部１２は基板Ｗを水平姿勢で保持する。ここでいう水平姿勢とは、基板Ｗの厚み方向が鉛直方向に沿う姿勢である。また、基板保持部１２は、基板Ｗの中心部を通って鉛直方向に沿って延びる回転軸線のまわりで、基板Ｗを回転させる。基板保持部１２はスピンチャックとも呼ばれる。基板保持部１２は、基板Ｗの端部を複数のチャックピンで保持してもよいし、基板Ｗの裏面を真空吸着により保持してもよい。

ノズル１３は、基板保持部１２によって保持された基板Ｗの主面に向かって処理液を吐出する。回転中の基板Ｗの主面に処理液が着液すると、処理液は遠心力を受けて基板Ｗの主面上を外側に向かって流れ、基板Ｗの周縁から外側に飛散する。処理液が基板Ｗの主面に作用することで、基板Ｗに対する処理が行われる。

ガード１４は、基板保持部１２を囲む筒状の形状を有しており、基板Ｗの周縁から飛散した処理液を受け止める。

ノズル１３は、基板Ｗの直上の処理位置と、待機ポッド１５の直上の待機位置との間で移動可能に設けられている。待機ポッド１５は、待機位置に位置するノズル１３から吐出された処理液を受け止めることができる。

＜３．供給ユニット＞
図２に示されるように、基板処理装置１００は、処理ユニット１０に処理液を供給する供給ユニット（処理液供給装置）２０を含む。この供給ユニット２０は適宜に流体ボックス１２０および処理液キャビネット１３０（図１参照）に跨って設けられる。図２に示されるように、供給ユニット２０は、供給タンク２１と、循環配管の一例である外循環配管３０と、補充部７０とを含んでいる。

＜３－１．供給タンク＞
供給タンク２１は、基板Ｗの処理に供される処理液を貯留する。処理液は、例えば、エッチング液等の薬液、当該薬液を洗い流すリンス液、および、基板Ｗを除電する除電液などの液体である。より具体的な処理液の一例として、フッ酸と硝酸と水とを混合して得られるフッ硝酸、フッ酸と過酸化水素と水とを混合して得られるフッ酸過酸化水素水溶液（ＦＰＭ）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、硫酸と過酸化水素水との混合液（ＳＰＭ）、アンモニア水、および、アンモニアと過酸化水素と水との混合液（ＳＣ－１）等の液体を適用できる。なお、処理液は混合液ではなく、単液でもよい。例えば、フッ酸（ＨＦ）、過酸化水素水および硫酸などの単液を処理液として適用できる。ここでは、一例として、処理液はフッ硝酸である。

図２の例では、供給タンク２１として、第１供給タンク２１Ａおよび第２供給タンク２１Ｂが示されている。以下では、第１供給タンク２１Ａおよび第２供給タンク２１Ｂを区別する必要がない場合には、これらを供給タンク２１と呼ぶ。後述の他の構成要素についても同様である。

＜３－２．循環配管＞
＜３－２－１．外循環配管＞
供給タンク２１には外循環配管３０の上流端および下流端が接続されている。供給タンク２１からの処理液は外循環配管３０を通じて再び供給タンク２１へ戻る。つまり、処理液は外循環配管３０を通じて循環する。

図２の例では、外循環配管３０は往き配管３１、タワー配管３２および戻り配管３３を含んでいる。図２の例では、往き配管３１は第１往き配管３１Ａ、第２往き配管３１Ｂおよび共通往き配管３１Ｃを含んでいる。第１往き配管３１Ａの上流端は第１供給タンク２１Ａの例えば底部に接続されており、第２往き配管３１Ｂの上流端は第２供給タンク２１Ｂの例えば底部に接続されている。第１往き配管３１Ａおよび第２往き配管３１Ｂの下流端は共通往き配管３１Ｃの上流端に接続されている。共通往き配管３１Ｃの下流端にはタワー配管３２の上流端に接続されている。タワー配管３２はタワーＴＷの複数の処理ユニット１０に沿って鉛直方向に延びている。タワー配管３２の下流端は戻り配管３３の上流端に接続されている。戻り配管３３の下流端は供給タンク２１に接続される。図２の例では、戻り配管３３は第１戻り配管３３Ａ、第２戻り配管３３Ｂおよび共通戻り配管３３Ｃを含む。共通戻り配管３３Ｃの上流端はタワー配管３２の下流端に接続されており、共通戻り配管３３Ｃの下流端は第１戻り配管３３Ａおよび第２戻り配管３３Ｂの上流端に接続されている。第１戻り配管３３Ａの下流端は第１供給タンク２１Ａに接続されており、第２戻り配管３３Ｂの下流端は第２供給タンク２１Ｂに接続されている。

図２に示されるように、外循環配管３０には、ヒータ３４、ポンプ３５およびフィルタ３６が介挿されている。具体的な一例として、ヒータ３４、ポンプ３５およびフィルタ３６は共通往き配管３１Ｃに介挿されている。ヒータ３４は、共通往き配管３１Ｃを流れる処理液を加熱する。ヒータ３４は例えば電気抵抗式のヒータであってもよい。ポンプ３５は外循環配管３０の上流端から下流端に向かって処理液を送液する。これにより、外循環配管３０を通じて処理液が循環する。フィルタ３６は、処理液に含まれる不純物を捕捉する。これにより、外循環配管３０においてフィルタ３６よりも下流側の処理液の清浄度を向上させることができる。

外循環配管３０には、不図示の開閉弁が介挿されてもよい。例えば、第１往き配管３１Ａに第１往き開閉弁が介挿され、第２往き配管３１Ｂに第２往き開閉弁が介挿され、第１戻り配管３３Ａに第１戻り開閉弁が介挿され、第２戻り配管３３Ｂに第２戻り開閉弁が介挿されてもよい。第１往き開閉弁および第１戻り開閉弁が開くことにより、第１供給タンク２１Ａからの処理液が外循環配管３０を通じて第１供給タンク２１Ａに戻る。また、第２往き開閉弁および第２戻り開閉弁が開くことにより、第２供給タンク２１Ｂからの処理液が外循環配管３０を通じて第２供給タンク２１Ｂに戻る。

ヒータ３４が動作した状態で処理液が外循環配管３０を流れることにより、供給タンク２１および外循環配管３０内の処理液の温度を所定範囲内に調整することができる。言い換えれば、ヒータ３４は、供給タンク２１および外循環配管３０内の処理液の温度が所定範囲内となるように、処理液を加熱する。ここで、所定範囲は、例えば、基板Ｗの処理に適した温度の範囲である。

図２に示されるように、外循環配管３０には、処理ユニット１０ごとにユニット供給配管１６の上流端が接続される。図２の例では、各ユニット供給配管１６の上流端はタワー配管３２の途中に接続され、各ユニット供給配管１６の下流端は、対応する処理ユニット１０のノズル１３に接続される。ユニット供給配管１６には、不図示のノズル開閉弁および流量調整弁が介挿されており、該ノズル開閉弁の開閉動作により、ノズル１３からの処理液の吐出および吐出停止が切り替えられ、流量調整弁により、処理に適した流量でノズル１３から処理液が吐出される。

このような供給ユニット２０において、基板Ｗの処理に用いられる供給タンク２１を第１供給タンク２１Ａおよび第２供給タンク２１Ｂの間で切り替えてもよい。つまり、第１供給タンク２１Ａおよび第２供給タンク２１Ｂが相補的に用いられてもよい。例えば、まず、第１往き開閉弁および第１戻り開閉弁が開き、第２往き開閉弁および第２戻り開閉弁が閉じる。これにより、第１供給タンク２１Ａからの処理液が外循環配管３０を通じて循環する。そして、各処理ユニット１０に対応するノズル開閉弁が開くと、外循環配管３０内の処理液の一部が、対応するユニット供給配管１６を通じて処理ユニット１０に供給され、ノズル１３から基板Ｗに向かって処理液が吐出される。この状態では、第１供給タンク２１Ａが処理に用いられ、第２供給タンク２１Ｂは待機している。

例えば第１供給タンク２１Ａ内の処理液が劣化すると、基板Ｗに用いる供給タンク２１を第１供給タンク２１Ａから第２供給タンク２１Ｂに切り替える。すなわち、第１往き開閉弁および第１戻り開閉弁を閉じ、第２往き開閉弁および第２戻り開閉弁を開く。これにより、第２供給タンク２１Ｂからの処理液が外循環配管３０を通じて循環しつつ、該処理液の一部がユニット供給配管１６を通じて処理ユニット１０に供給される。この状態では、第２供給タンク２１Ｂが処理に用いられ、第１供給タンク２１Ａは待機する。第１供給タンク２１Ａ内の処理液は後述の排液部８５を通じて外部に排出されてもよく、その後、第１供給タンク２１Ａには、後述の新液供給部８０によって新しい処理液が供給されてもよい。つまり、第１供給タンク２１Ａ内の古い処理液が新しい処理液に交換されてもよい。第２供給タンク２１Ｂ内の処理液が劣化した場合も、同様の動作が行われ得る。

＜３－２－２．回収部＞
各処理ユニット１０においてノズル１３から基板Ｗに吐出された処理液は、ガード１４で受け止められて、回収部６０によって回収される。図２の例では、回収部６０は上流側回収配管６１、回収タンク６２および下流側回収配管６３を含む。ガード１４で受け止められた処理液は上流側回収配管６１の上流端に流入し、上流側回収配管６１を通じて回収タンク６２に回収される。図２に示されるように、待機ポッド１５も上流側回収配管６１に接続されていてもよい。これによれば、待機ポッド１５が受け止めた処理液も回収タンク６２に回収することができる。回収タンク６２に回収された処理液は下流側回収配管６３を通じて供給タンク２１に供給される。これにより、処理液を再利用することができる。図２の例では、下流側回収配管６３は第１回収配管６３Ａ、第２回収配管６３Ｂおよび共通回収配管６３Ｃを含んでいる。共通回収配管６３Ｃの上流端は回収タンク６２に接続されており、共通回収配管６３Ｃの下流端は第１回収配管６３Ａおよび第２回収配管６３Ｂの上流端に接続されている。第１回収配管６３Ａの下流端は第１供給タンク２１Ａに接続されており、第２回収配管６３Ｂの下流端は第２供給タンク２１Ｂに接続されている。図２の例では、下流側回収配管６３（具体的には共通回収配管６３Ｃ）にはポンプ６４が介挿されている。ポンプ６４は回収タンク６２から供給タンク２１に向かって処理液を送液する。

下流側回収配管６３には不図示の開閉弁が介挿されていてもよい。例えば、第１回収配管６３Ａには第１回収開閉弁が介挿され、第２回収配管６３Ｂには第２回収開閉弁が介挿されていてもよい。第１供給タンク２１Ａが処理に用いられ、第２供給タンク２１Ｂが待機しているときには、第１回収開閉弁が開き、第２回収開閉弁が閉じてもよい。この場合、回収タンク６２内の処理液が第１供給タンク２１Ａに回収される。一方で、第２供給タンク２１Ｂが処理に用いられ、第１供給タンク２１Ａが待機しているときには、第２回収開閉弁が開き、第１回収開閉弁が閉じてもよい。

以上のように、供給タンク２１から処理ユニット１０に供給された処理液は、上流側回収配管６１、回収タンク６２および下流側回収配管６３を通じて供給タンク２１に戻る。よって、この配管経路も循環配管であるともいえる。

＜３－２－３．フィルタ戻り配管＞
図２の例では、供給ユニット２０にはフィルタ戻り配管４１が設けられている。フィルタ戻り配管４１の上流端はフィルタ３６のドレイン口に接続されている。図２の例では、フィルタ戻り配管４１の上流端はフィルタ３６の１次側のドレイン口に接続されているものの、フィルタ３６が２次側のドレイン口を有している場合、フィルタ３６の２次側のドレイン口に接続されてもよい。フィルタ戻り配管４１の下流端は供給タンク２１に接続されている。図２の例では、フィルタ戻り配管４１は第１フィルタ戻り配管４１Ａ、第２フィルタ戻り配管４１Ｂおよび共通フィルタ戻り配管４１Ｃを含んでいる。共通フィルタ戻り配管４１Ｃの上流端はフィルタ３６のドレイン口に接続されており、共通フィルタ戻り配管４１Ｃの下流端は第１フィルタ戻り配管４１Ａおよび第２フィルタ戻り配管４１Ｂの上流端に接続されている。第１フィルタ戻り配管４１Ａの下流端は第１供給タンク２１Ａに接続されており、第２フィルタ戻り配管４１Ｂの下流端は第２供給タンク２１Ｂに接続されている。

図２の例では、フィルタ戻り配管４１には濃度計４２が介挿されている。具体的には、濃度計４２は共通フィルタ戻り配管４１Ｃに介挿されている。濃度計４２は、フィルタ戻り配管４１を流れる処理液の各主成分の濃度を測定し、その測定結果を示す電気信号を制御部９０に出力する。

フィルタ戻り配管４１には不図示のフィルタ開閉弁が介挿されてもよい。例えば、第１フィルタ戻り配管４１Ａに第１フィルタ開閉弁が介挿され、第２フィルタ戻り配管４１Ｂに第２フィルタ開閉弁が介挿されてもよい。第１供給タンク２１Ａが処理に用いられ、第２供給タンク２１Ｂが待機しているときには、第１フィルタ開閉弁が開き、第２フィルタ開閉弁が閉じてもよい。この場合、第１供給タンク２１Ａからの処理液の一部が第１フィルタ戻り配管４１Ａを通じて第１供給タンク２１Ａに戻る。同様に、第２供給タンク２１Ｂが処理に用いられ、第１供給タンク２１Ａが待機しているときには、第２フィルタ開閉弁が開き、第１フィルタ開閉弁が閉じてもよい。

また、フィルタ戻り配管４１はフィルタ３６の内部の気体を供給タンク２１側に移動させることもできる。つまり、フィルタ戻り配管４１はフィルタ３６の内部の気体を抜くことができる。

フィルタ戻り配管４１の内径は外循環配管３０の内径よりも小さく、フィルタ戻り配管４１を流れる処理液の流量は外循環配管３０を流れる処理液の流量に比べて小さい。これは、処理液の濃度測定およびフィルタ３６内の気体除去のために、大きな流量は必要がない一方で、各処理ユニット１０における基板Ｗの処理には比較的大きな流量が必要となるからである。

以上のように、供給タンク２１からフィルタ３６に供給された処理液の一部は、フィルタ戻り配管４１を通じて供給タンク２１に戻る。よって、この配管経路も循環配管であるといえる。

＜３－２－４．内循環配管＞
図２の例では、供給ユニット２０には、循環配管の一例である内循環配管５０も設けられている。内循環配管５０の上流端および下流端は供給タンク２１に接続される。図２の例では、内循環配管５０は往き配管５１と共通配管５２と戻り配管５３とを含んでいる。往き配管５１は第１往き配管５１Ａと第２往き配管５１Ｂとを含んでいる。第１往き配管５１Ａの上流端は第１供給タンク２１Ａの例えば底部に接続されており、第２往き配管５１Ｂの上流端は第２供給タンク２１Ｂの例えば底部に接続されている。第１往き配管５１Ａおよび第２往き配管５１Ｂの下流端は共通配管５２の上流端に接続されている。共通配管５２の下流端は戻り配管５３の上流端に接続される。図２の例では、戻り配管５３は第１戻り配管５３Ａと第２戻り配管５３Ｂとを含んでおり、第１戻り配管５３Ａおよび第２戻り配管５３Ｂの上流端が共通配管５２の下流端に接続されている。第１戻り配管５３Ａの下流端は第１供給タンク２１Ａに接続されており、第２戻り配管５３Ｂの下流端は第２供給タンク２１Ｂに接続されている。

内循環配管５０には、ヒータ５４およびポンプ５５が介挿されている。具体的には、ヒータ５４およびポンプ５５は共通配管５２に介挿されている。ヒータ５４は、共通配管５２を流れる処理液を加熱する。ヒータ５４は例えば電気抵抗式のヒータであってもよい。ポンプ５５は共通配管５２の上流端から下流端に向けて処理液を送液する。内循環配管５０には不図示の開閉弁が介挿されていてもよい。例えば、第１往き配管５１Ａに第１内往き開閉弁が介挿され、第２往き配管５１Ｂに第２内往き開閉弁が介挿され、第１戻り配管５３Ａに第１内戻り開閉弁が介挿され、第２戻り配管５３Ｂに第２内戻り開閉弁が介挿されてもよい。

ここでは、第１供給タンク２１Ａが処理に用いられ、第２供給タンク２１Ｂが待機しているときには、第１内往き開閉弁および第１内戻り開閉弁が閉じ、第２内往き開閉弁および第２内戻り開閉弁が開いてもよい。これによれば、待機中の第２供給タンク２１Ｂからの処理液が内循環配管５０を通じて再び第２供給タンク２１Ｂに戻る。ヒータ５４が処理液を加熱するので、内循環配管５０を通じた循環により、待機中の第２供給タンク２１Ｂ内の処理液の温度を所定範囲内に調整することができる。このため、処理に用いる供給タンク２１を第１供給タンク２１Ａから第２供給タンク２１Ｂに切り替えたときにも、その切換直後から、処理に適した温度の処理液を第２供給タンク２１Ｂから各処理ユニット１０に供給することができる。同様に、第２供給タンク２１Ｂが処理に用いられ、第１供給タンク２１Ａが待機しているときには、第２内往き開閉弁および第２内戻り開閉弁が閉じ、第１内往き開閉弁および第１内戻り開閉弁が開いてもよい。

＜３－３．液交換構造＞
供給タンク２１内の処理液が、処理に用いることができない程度に劣化すると、供給タンク２１内の古い処理液を新しい処理液に交換する必要がある。そこで、供給ユニット２０には新液供給部８０および排液部８５が設けられてもよい。

＜３－３－１．排液部＞
排液部８５は供給タンク２１内の処理液を外部に排出する。排液部８５は排出配管８６を含んでおり、排出配管８６の上流端は供給タンク２１に接続されている。図２には、排出配管８６として第１排出配管８６Ａおよび第２排出配管８６Ｂが示されている。第１排出配管８６Ａの上流端は第１供給タンク２１Ａの例えば底部に接続されており、第２排出配管８６Ｂの上流端は第２供給タンク２１Ｂの例えば底部に接続されている。各排出配管８６には不図示の開閉弁が介挿されていてもよい。供給タンク２１内の古い処理液は排出配管８６を通じて外部に排出される。

＜３－３－２．新液供給部＞
新液供給部８０は供給タンク２１に新しい処理液を供給する。図２の例では、新液供給部８０は複数の液供給配管８１を含んでいる。各液供給配管８１は、処理液を構成する混合前の液体を供給タンク２１に供給するための配管である。図２の例では、複数の液供給配管８１として３つの液供給配管８１ａ～８１ｃが示されている。液供給配管８１ａの上流端は、第１液体（例えばフッ酸）を供給する液供給源８４ａに接続され、液供給配管８１ｂの上流端は、第２液体（例えば硝酸）を供給する液供給源８４ｂに接続され、液供給配管８１ｃの上流端は、第３液体（例えば水）を供給する液供給源８４ｃに接続される。各液供給配管８１は、共通配管、第１液供給配管および第２液供給配管を含む。共通配管の上流端は、液供給源８４ａから液供給源８４ｃのうちの対応する液供給源に接続され、共通配管の下流端は第１液供給配管および第２液供給配管の上流端に接続される。第１液供給配管の下流端は第１供給タンク２１Ａに接続され、第２液供給配管の下流端は第２供給タンク２１Ｂに接続される。

液供給配管８１の第１液供給配管および第２液供給配管の各々には不図示の開閉弁が介挿されてもよい。また、液供給配管８１の第１液供給配管および第２液供給配管の各々には流量計８２が介挿されている。流量計８２は液供給配管８１を流れる液体の流量を測定し、その測定結果を示す電気信号を制御部９０に出力する。制御部９０は各流量の時間積分に基づいて、液体の供給量を測定することができる。制御部９０は、流量計８２に基づいて測定された供給量が所定の供給量となるように、液供給配管８１に介挿された各開閉弁を制御する。これより、各液体を所定の供給量で供給タンク２１に供給することができる。つまり、供給タンク２１内の処理液の各種成分の濃度を所定濃度とすることができる。

＜４．補充部＞
さて、供給タンク２１内の処理液の各種成分の濃度は、基板Ｗに対する処理が行われることにより、変動し得る。例えば処理液が基板Ｗと反応すると、処理液に含まれる各種成分の量が変動し得る。このため、基板Ｗと反応した処理液が回収部６０を通じて供給タンク２１に回収されると、供給タンク２１内の各種成分の濃度が変動し得る。また、各種成分が揮発することによっても、各主成分の量は変動し得る。

このような各種成分の濃度の変動量はさほど大きくないものの、基板Ｗの処理枚数が増えるほど、該変動量は大きくなる。処理液の各種成分の濃度は、基板Ｗに対する処理の程度（つまり良否）に影響し得るので、各種成分の濃度が所定範囲外になることは望ましくない。そこで、補充部７０は供給タンク２１に微小量の処理液を供給して、供給タンク２１内の各種成分の濃度を所定範囲に維持する。なお、補充部７０によっても処理液を治癒できない場合には、上述のように、排液部８５および新液供給部８０によって古い処理液を新しい処理液に交換する。

補充部７０は供給タンク２１に所定量の処理液（補充液）を供給することができる。所定量は例えば数十ｃｃ以下であり、その点で、新液供給部８０とは相違する。つまり、新液供給部８０は、大きな容量を有する供給タンク２１に新しい処理液を供給するために、例えば、４Ｌ／ｍｉｎ程度の大きな流量で処理液を供給する。これに対して、補充部７０は供給タンク２１に微小な所定量の処理液を供給する。この所定量は、例えば、補充による処理液の濃度の変化量が、濃度計４２によって十分な精度で検出できない程度の量である。

図２に示されるように、補充部７０は、補充タンク７１、補充配管７２、定量ポンプ７３および補充開閉弁７７を含んでいる。補充タンク７１は処理液を貯留する。より具体的な一例として、補充タンク７１は補充液としての第１液体（ここではフッ酸）を貯留している。図２の例では、補充タンク７１として第１補充タンク７１Ａおよび第２補充タンク７１Ｂが設けられている。図２の例では、補充タンク７１には液供給配管８１にも接続される。このため、補充タンク７１には、液供給源８４ａからの第１液体（ここではフッ酸）が供給される。

補充配管７２の上流端は補充タンク７１の例えば底部に接続されており、補充配管７２の下流端は循環配管（ここでは外循環配管３０）の途中に接続されている。図２の例では、補充配管７２として、第１補充配管７２Ａおよび第２補充配管７２Ｂが示されている。第１補充配管７２Ａの上流端は第１補充タンク７１Ａの例えば底部に接続され、第１補充配管７２Ａの下流端は外循環配管３０の第１戻り配管３３Ａの途中に接続されている。第２補充配管７２Ｂの上流端は第２補充タンク７１Ｂの例えば底部に接続され、第２補充配管７２Ｂの下流端は外循環配管３０の共通戻り配管３３Ｃの途中に接続されている。

定量ポンプ７３は補充配管７２に介挿されている。図２の例では、定量ポンプ７３として第１定量ポンプ７３Ａおよび第２定量ポンプ７３Ｂが示されている。第１定量ポンプ７３Ａは第１補充配管７２Ａに介挿され、第２定量ポンプ７３Ｂは第２補充配管７２Ｂに介挿されている。定量ポンプ７３は容積式ポンプとも呼ばれ、あるいは、ショットポンプとも呼ばれ得る。定量ポンプ７３は、後述のように、所定量の処理液（例えば第１液体）を補充タンク７１から外循環配管３０に向かって送液する。外循環配管３０に供給された第１液体は、外循環配管３０を循環中の処理液と混ざり合う。

補充開閉弁７７は定量ポンプ７３に対して下流側において補充配管７２に介挿されており、補充配管７２の流路の開閉を切り替える。図２の例では、補充開閉弁７７として第１補充開閉弁７７Ａおよび第２補充開閉弁７７Ｂが示されている。第１補充開閉弁７７Ａは第１補充配管７２Ａに介挿され、第２補充開閉弁７７Ｂは第２補充配管７２Ｂに介挿されている。

図３は、供給ユニット２０のうちの定量ポンプ７３を含む周囲の構造の一例を拡大して示す概略図である。図３に示されるように、定量ポンプ７３は例えば往復ポンプであり、往復機構７４、第１逆止弁機構７５および第２逆止弁機構７６を含んでいる。往復機構７４はポンプ室Ｈ１を有しており、密閉のポンプ室Ｈ１の容積を変化させることが可能である。図３の例では、往復機構７４はピストン式の構造を有しており、シリンダチューブ７４１、ピストン７４２および駆動源７４３を含んでいる。シリンダチューブ７４１は例えば有底の筒状形状を有している。ピストン７４２はシリンダチューブ７４１の内壁に当接しており、シリンダチューブ７４１の底面と向かい合っている。ポンプ室Ｈ１は、シリンダチューブ７４１の内壁および底面ならびにピストン７４２によって形成される。ピストン７４２はシリンダチューブ７４１に対して、シリンダチューブ７４１の長手方向に沿って移動可能に設けられている。ピストン７４２はシリンダチューブ７４１の内壁に摺動して移動する。駆動源７４３は例えばポンプまたはモータを含み、ピストン７４２を吐出位置Ｐ１と吸引位置Ｐ２との間で該長手方向に沿って往復移動させる。

ポンプ室Ｈ１には、吸引口７４ａおよび吐出口７４ｂが形成されている。吸引口７４ａは第２逆止弁機構７６の流出口７６ｂに接続され、第２逆止弁機構７６の流入口７６ａは補充配管７２のうちの上流側配管７２１の下流端に接続される。上流側配管７２１の上流端は補充タンク７１に接続されている。第２逆止弁機構７６は、流出口７６ｂから流入口７６ａに向かう処理液を阻止する。第２逆止弁機構７６は、例えば、流入口７６ａと流出口７６ｂとの間に設けられる弁座と、弁座の開口を開閉するキャッチボールとを含んでいてもよい。

ポンプ室Ｈ１の吐出口７４ｂは第１逆止弁機構７５の流入口７５ａに接続され、第１逆止弁機構７５の流出口７５ｂは補充配管７２のうちの下流側配管７２２の上流端に接続される。下流側配管７２２の下流端は外循環配管３０の戻り配管３３の途中に接続されている。第１逆止弁機構７５は、流出口７５ｂから流入口７５ａに向かう処理液を阻止する。第１逆止弁機構７５は、例えば、流入口７５ａと流出口７５ｂとの間に設けられる弁座と、弁座の開口を開閉するキャッチボールとを含んでいてもよい。

このような定量ポンプ７３において、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１から吸引位置Ｐ２へ移動すると、ポンプ室Ｈ１の容積が増加する。これに伴って、ポンプ室Ｈ１に負圧が生じる。このため、補充タンク７１からの第１液体が補充配管７２の上流側配管７２１および第２逆止弁機構７６を通じてポンプ室Ｈ１に吸引される。なお、このとき、第１逆止弁機構７５によって流出口７５ｂから流入口７５ａへ向かう処理液は阻止され得る。言い換えれば、第１逆止弁機構７５は、上流側配管７２１から定量ポンプ７３への第１液体の吸引を阻止する。

以上のように、ピストン７４２の移動により、定量ポンプ７３は補充タンク７１から所定のショット量の第１液体をポンプ室Ｈ１に吸い込む。所定のショット量とは、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に位置する状態でのポンプ室Ｈ１の容積と、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１に位置する状態でのポンプ室Ｈ１の容積との差に相当する。ショット量は、例えば、１ｃｃから５ｃｃ程度である。

次にピストン７４２が吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１へ移動すると、ポンプ室Ｈ１内の第１液体が押し出される。これにより、ポンプ室Ｈ１内の所定のショット量の第１液体は吐出口７４ｂ側に押し出され、第１逆止弁機構７５および補充配管７２の下流側配管７２２を通じて外循環配管３０に流入する。つまり、定量ポンプ７３は、吸い込んだ第１液体を外循環配管３０に向かって吐出する。なお、このとき、第２逆止弁機構７６によって流出口７６ｂから流入口７６ａに向かう処理液は阻止される。言い換えれば、第２逆止弁機構７６は、定量ポンプ７３から上流側配管７２１への第１液体の吐出を阻止する。

以上のように、ピストン７４２の移動により、定量ポンプ７３は所定のショット量の第１液体を吐出して外循環配管３０に流入させることができる。該第１液体は外循環配管３０を通じて供給タンク２１に供給され、外循環配管３０を通じて循環する。これにより、所定のショット量の第１液体を供給タンク２１に補充することができる。また、定量ポンプ７３によるショット量の精度は高いので、供給タンク２１に貯留される処理液の成分の濃度調整を微小かつ高精度に行うことができる。ひいては、処理液を用いた基板Ｗの処理を高精度に行うことができる。

以下では、ポンプ室Ｈ１の容積が増加する動作（つまり、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１から吸引位置Ｐ２へ移動する動作）を吸引動作と呼ぶ。また、ポンプ室Ｈ１の容積が低減する動作（つまり、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１へ移動する動作）を吐出動作と呼ぶ。また、吸引動作およびショット動作を含む一連の動作をショット動作とも呼ぶ。

図３に示されるように、補充配管７２の途中には補充排出配管８７の上流端が接続されてもよい。図３の例では、補充排出配管８７の上流端は、補充開閉弁７７と定量ポンプ７３との間で補充配管７２に接続されている。補充排出配管８７には補充排出弁８８が介挿される。補充排出弁８８が開くことにより、補充配管７２内の処理液（つまり第１液体）を、補充排出配管８７を通じて外部に排出することができる。

＜５．制御部＞
制御部９０は基板処理装置１００を統括的に制御する。具体的には、制御部９０は、インデクサロボットＩＲ、センターロボットＣＲ、処理ユニット１０および供給ユニット２０を制御する。

図４は、制御部９０の内部構成の一例を概略的に示す機能ブロック図である。制御部９０は電子回路であって、例えばデータ処理部９１および記憶部９２を有している。図４の具体例では、データ処理部９１と記憶部９２とはバス９３を介して相互に接続されている。データ処理部９１は例えばＣＰＵ（Central Processor Unit）などの演算処理装置であってもよい。記憶部９２は非一時的な記憶部（例えばＲＯＭ（Read Only Memory）またはハードディスク）９２１および一時的な記憶部（例えばＲＡＭ（Random Access Memory））９２２を有していてもよい。非一時的な記憶部９２１には、例えば制御部９０が実行する処理を規定するプログラムが記憶されていてもよい。データ処理部９１がこのプログラムを実行することにより、制御部９０が、プログラムに規定された処理を実行することができる。もちろん、制御部９０が実行する処理の一部または全部が専用の論理回路などのハードウェアによって実行されてもよい。

＜６．基板処理装置の動作（処理液補充方法）＞
図５は、第１の実施の形態にかかる基板処理装置１の動作の一例を示すフローチャートである。制御部９０は、外循環配管３０に介挿された各種の開閉弁、ヒータ３４およびポンプ３５を制御して、外循環配管３０を通じて処理液を循環させる（ステップＳ１：循環工程）。例えば、制御部９０は、第１往き配管３１Ａの第１往き開閉弁および第１戻り配管３３Ａの第１戻り開閉弁に開信号を出力し、ヒータ３４に加熱動作を行わせ、ポンプ３５を作動させる。これにより、第１供給タンク２１Ａ内の処理液が外循環配管３０を通じて循環し、第１供給タンク２１Ａおよび外循環配管３０内の処理液の温度が所定範囲内に調整される。

また、制御部９０は、フィルタ戻り配管４１に介挿された開閉弁を開いてもよい。例えば制御部９０は第１フィルタ戻り配管４１Ａの第１フィルタ開閉弁に開信号を出力する。これにより、フィルタ３６内の処理液の一部が第１フィルタ戻り配管４１Ａを通じて第１供給タンク２１Ａに戻る。

また、制御部９０は、内循環配管５０に介挿された各種の開閉弁、ヒータ５４およびポンプ５５を制御してもよい。例えば制御部９０は第２往き配管５１Ｂの第２往き開閉弁および第２戻り配管５３Ｂの第２戻り開閉弁に開信号を出力し、ヒータ５４に加熱動作を行わせ、ポンプ５５を作動させる。これにより、第２供給タンク２１Ｂからの処理液が内循環配管５０を通じて循環し、第２供給タンク２１Ｂおよび内循環配管５０内の処理液の温度が所定範囲内に調整される。

この循環工程と並行して、基板Ｗが順次に処理される。具体的には、ロードポートＬＰのキャリアＣから未処理の基板Ｗが順次に取り出され、各処理ユニット１０に１枚ずつ搬送される。各処理ユニット１０では、外循環配管３０を流れる処理液の一部がユニット供給配管１６を通じてノズル１３に供給され、ノズル１３から基板Ｗに向かって吐出される。処理液は基板Ｗに作用して基板Ｗを処理した後、基板Ｗの周縁から飛散して、ガード１４によって受け止められ、回収タンク６２に回収される。回収タンク６２に貯留された処理液は必要に応じて第１供給タンク２１Ａに戻される。処理ユニット１０が基板Ｗを処理すると、処理済みの基板ＷはキャリアＣに搬送されて、キャリアＣ内に載置される。

制御部９０は、循環工程と並行して、補充開閉弁７７に閉信号を出力してもよい（ステップＳ２：閉鎖工程）。つまり、処理液が外循環配管３０を流れており、かつ、定量ポンプ７３が動作していないときに、補充開閉弁７７は閉じてもよい。このため、処理液が外循環配管３０を流れても、当該処理液からの圧力は補充開閉弁７７によって阻止され、該圧力（つまり、背圧）は定量ポンプ７３（具体的には第１逆止弁機構７５）にほとんど印加されない。したがって、定量ポンプ７３（具体的には、第１逆止弁機構７５）の経時劣化の程度を低減させることができる。

次に制御部９０は、循環工程と並行して、補充条件が成立したか否かを判定する（ステップＳ３）。補充条件とは、補充タンク７１から供給タンク２１へ処理液を補充するためのトリガである。補充条件としては例えば次の条件を適用することができる。すなわち、供給タンク２１の処理液の寿命に関する指標が、予め設定された基準値よりも大きいという条件を適用できる。ここでいう寿命とは、例えば、補充なしで処理液を基板Ｗの処理に用いることができる期間を示す。該指標としては、例えば、前回の補充からの経過時間、前回の補充から処理ユニット１０が稼働している時間の累積値、前回の補充から処理ユニット１０が処理液を吐出している時間の累積値、および、前回の補充から基板Ｗの処理枚数の少なくともいずれかを適用することができる。時間の測定は、例えば、制御部９０に設けられた不図示のタイマ回路を用いて行われる。基板Ｗの枚数の測定は、例えば、インデクサロボットＩＲが基板Ｗを取り出すたびに、制御部９０が基板Ｗの枚数をインクリメントして該枚数を記憶しておくことで行われ得る。

補充条件が成立していなければ、制御部９０は再びステップＳ３を実行する。一方で、補充条件が成立すると、制御部９０は、予め決められた回数だけ定量ポンプ７３にショット動作を行わせる（ステップＳ４：補充工程）。簡単のために、ショット動作が１回である場合について説明する。図６は、補充工程におけるタイミングチャートの第１例を示す図である。図６の「循環」の「ＯＮ」および「ＯＦＦ」はそれぞれ、外循環配管３０における処理液の流れの有無を示している。ここでは、処理液は外循環配管３０を流れているので、図６において「循環」は常に「ＯＮ」を示している。

時刻ｔ１において補充条件が成立すると、制御部９０は該補充条件の成立に応答して、定量ポンプ７３に吸引動作を行わせる。つまり、制御部９０は、補充開閉弁７７が閉じた状態で、駆動源７４３を制御してピストン７４２を吐出位置Ｐ１から吸引位置Ｐ２へ移動させる。ここで、第１供給タンク２１Ａが処理に用いられているときには、制御部９０は、第１供給タンク２１Ａに第１液体を補充するために、第１定量ポンプ７３Ａに吸引動作を行わせる。第２供給タンク２１Ｂが処理に用いられているときには、制御部９０は第２定量ポンプ７３Ｂを駆動する。以下では、第１定量ポンプ７３Ａおよび第２定量ポンプ７３Ｂの区別なしに定量ポンプ７３を用いて説明を行う。

図７は、定量ポンプ７３が吸引動作を行っている様子の一例を概略的に示す図である。定量ポンプ７３の吸引動作により、補充タンク７１から所定のショット量の第１液体がポンプ室Ｈ１に吸引される。このとき、補充開閉弁７７が閉じているので、外循環配管３０からの処理液の圧力は補充開閉弁７７によって阻止され、第１逆止弁機構７５にほとんど印加されない。図７の例では、補充開閉弁７７が閉じていることを、模式的に黒塗りのバルブの図記号で示している。

時刻ｔ２において、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に到達すると、定量ポンプ７３の吸引動作が完了する。図８は、定量ポンプ７３が吸引動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。図８の例では、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に位置している。

次に制御部９０は補充開閉弁７７に開信号を出力する。これにより、時刻ｔ３において補充開閉弁７７が開信号に基づいて開く。補充開閉弁７７が開くと、時刻ｔ４において制御部９０は定量ポンプ７３に吐出動作を行わせる。つまり、開信号の出力から所定の開遅れ時間が経過した時刻ｔ４において、制御部９０は定量ポンプ７３に吐出動作を行わせる。開遅れ時間は例えば予め設定されており、開信号の出力から、補充開閉弁７７の開閉状態の切り替えが完了するのに必要な時間以上に設定される。

ここで、駆動源７４３がピストン７４２を押圧する押圧力は、外循環配管３０を流れる処理液に由来する背圧よりも大きい。そのため、制御部９０は、補充開閉弁７７が開いた状態で、駆動源７４３を制御してピストン７４２を吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１へ移動させることができる。図８の例では、時刻ｔ５において、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１に到達する。そして、制御部９０が補充開閉弁７７に閉信号を出力することにより、時刻ｔ６において補充開閉弁７７が閉じる。図９は、定量ポンプ７３が吐出動作を行う様子の一例を概略的に示す図である。補充開閉弁７７が開いているので、吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１へのピストン７４２の移動により、定量ポンプ７３から所定のショット量の第１液体が補充配管７２の下流側配管７２２に吐出される。このため、下流側配管７２２内の第１液体が押し出され、所定のショット量の第１液体が外循環配管３０に流入する。外循環配管３０には処理液（例えばフッ硝酸）が循環しているので、所定のショット量の第１液体（例えばフッ酸）が合流すると、循環中の処理液と流入した第１液体が混ざり合って、より均一な空間濃度分布で供給タンク２１に処理液（例えばフッ硝酸）が流入する。つまり、供給タンク２１に微小な所定のショット量の第１液体（例えばフッ酸）を補充することができる。また、循環中の処理液の流量は比較的に大きいので、外循環配管３０内で処理液と第１液体とが混ざり合いやすく、より速やかに処理液の濃度分布を空間的に均一にすることができる。

次に制御部９０は処理を終了するか否かを判定してもよい（ステップＳ５）。例えば、全ての基板Ｗに対する処理を終了したときに、制御部９０は処理を終了すると判定する。処理を終了しないと判定したときには、制御部９０は再びステップＳ１，Ｓ２を実行し、処理を終了すると判定したときには、制御部９０は処理を終了する。

＜７．まとめ＞
基板処理装置１によれば、補充配管７２の下流端は外循環配管３０の途中に接続されている。外循環配管３０を流れる処理液の流量は比較的に大きいので、補充配管７２の下流端から外循環配管３０に流入した第１液体は、循環中の処理液と混ざりやすい。このため、処理液の空間的な濃度分布をより速やかに均一にすることができる。ひいては、供給ユニット２０は処理ユニット１０へより均一な濃度分布で処理液を供給することができる。

その一方で、外循環配管３０を通じて循環する処理液の流量は大きいので、該処理液によって補充配管７２（特に下流側配管７２２）内の第１液体は補充タンク７１側に押圧される。この圧力（背圧）が定量ポンプ７３に印加されると、定量ポンプ７３の経時劣化の程度が大きくなり得る。具体的には、例えば、第１逆止弁機構７５の経時劣化の程度が大きくなり得る。

これに対して、基板処理装置１によれば、補充配管７２のうちの定量ポンプ７３よりも下流側の部分には補充開閉弁７７が介挿されている。このため、補充開閉弁７７を閉じることにより、外循環配管３０を循環する処理液による圧力を阻止することができ、該圧力（背圧）の定量ポンプ７３への印加を抑制または回避することができる。したがって、例えば、定量ポンプ７３の経時劣化を抑制または回避することができる。

上述の例では、補充開閉弁７７は、定量ポンプ７３が吸引動作を行っているときに閉じている（図６も参照）。例えば、補充開閉弁７７は、定量ポンプ７３が吸引動作を行っている期間の全てにおいて閉じている。定量ポンプ７３が吸引動作を行うと、定量ポンプ７３には吸引動作に由来した背圧が印加されるものの、補充開閉弁７７が閉じていれば、外循環配管３０を流れる処理液に由来した背圧の印加を抑制または回避することができる。したがって、吸引動作において定量ポンプ７３に印加される背圧を低減させることができる。このため、定量ポンプ７３の経時劣化の程度を低減させることができる。

一方で、補充開閉弁７７は、定量ポンプ７３が吐出動作を行っているときには、開いている。図６の動作例では、補充開閉弁７７が閉状態から開状態への切り替えを完了した後に、定量ポンプ７３が吐出動作を開始する。このため、定量ポンプ７３は適切に所定のショット量の処理液を外循環配管３０に流入させることができる。

また、上述の例では、外循環配管３０を通じて処理液が循環しており、かつ、定量ポンプ７３がショット動作を行っていないときには、補充開閉弁７７が閉じている（閉鎖工程）。このため、定量ポンプ７３への背圧の印加をより長期間にわたって抑制または回避することができる。

なお、補充開閉弁７７は、必ずしも、外循環配管３０を通じて処理液が循環し、かつ、定量ポンプ７３がショット動作を行っていない期間の全てにおいて、閉じている必要はない。補充開閉弁７７は当該期間の少なくとも一部において閉じていればよい。これによっても、補充開閉弁７７が閉じている期間では、定量ポンプ７３への背圧の印加を抑制または回避することができる。このため、例えば、第１逆止弁機構７５の経時劣化の程度を低減させることができる。

＜８．各種態様＞
＜８－１．補充配管７２と外循環配管３０の接続位置＞
図２に示されるように、外循環配管３０の一部は屈曲配管部Ｅ１を有してもよい。屈曲配管部Ｅ１は、例えば、エルボー配管もしくはベンド配管であってもよく、その内部流路が屈曲した配管である。図２に示されるように、例えば、外循環配管３０の第１戻り配管３３Ａには屈曲配管部Ｅ１が設けられている。図２の例では、屈曲配管部Ｅ１は約９０度で屈曲する。

この構造において、第１補充配管７２Ａの下流端は、第１戻り配管３３Ａのうちの屈曲配管部Ｅ１よりも上流側の部分に接続されてもよい。この構造によれば、第１補充配管７２Ａから外循環配管３０に流入した第１液体（例えばフッ酸）は、屈曲配管部Ｅ１を経由して、第１供給タンク２１Ａに流入する。屈曲配管部Ｅ１では、処理液の進行方向が急激に変化するので、処理液の流れが乱れる。このため、補充された第１液体（例えばフッ酸）および循環中の処理液（例えばフッ硝酸）が屈曲配管部Ｅ１においてより混ざり合う。したがって、より均一な濃度分布で処理液を第１供給タンク２１Ａに供給することができる。

第２補充配管７２Ｂについても同様である。

＜８－２．補充配管７２の接続先の循環配管＞
上述の例では、補充配管７２の下流端は外循環配管３０の途中に接続されている。外循環配管３０を通じて循環する処理液の流量は大きいので、補充配管７２から外循環配管３０に流入する第１液体は、外循環配管３０を流れる処理液と混ざりやすい。このため、この構造は処理液の濃度分布の均一性という点で好ましい。

しかしながら、補充配管７２の下流端の接続先は必ずしも外循環配管３０に限らない。上述の種々の循環配管を補充配管７２の接続先に適用することができる。例えば、補充配管７２の下流端をフィルタ戻り配管４１の途中に接続させてもよい。フィルタ戻り配管４１には処理液が流れているので、フィルタ戻り配管４１の内部においても、補充された第１液体を循環中の処理液と混合させることができる。またこのような構造においても、補充開閉弁７７が閉じれば、フィルタ戻り配管４１を流れる処理液に由来する圧力が定量ポンプ７３に印加することを回避または抑制できる。

あるいは、補充配管７２の下流端を例えば内循環配管５０の途中に接続させてもよい。第１供給タンク２１Ａに第１液体を補充する場合には、その第１定量ポンプ７３Ａのショット動作中において、第１戻り配管５３Ａの第１戻り開閉弁を開いておけばよい。これによっても、補充された第１液体と内循環配管５０を流れる処理液とを混合させることができる。またこのような構造においても、補充開閉弁７７が閉じれば、フィルタ戻り配管４１を流れる処理液に由来する圧力が定量ポンプ７３に印加することを回避または抑制できる。あるいは、補充配管７２の下流端を例えば回収部６０の下流側回収配管６３の途中に接続させてもよい。

＜８－３．ショット動作の回数＞
上述の例では、補充工程において定量ポンプ７３は１回のショット動作を行った。しかしながら、必ずしもこれに限らない。定量ポンプ７３は補充工程において複数回のショット動作を行ってもよい。ショット動作の回数は例えばユーザによって設定されてもよい。例えば、ユーザインターフェース９４は補充工程におけるショット動作の回数の入力を受け付けてもよい。

図１０は、基板処理装置１の動作の他の一例を示すフローチャートである。ここでは、図５のフローチャートと比べて、ステップＳ０（設定工程）がさらに実行される。ステップＳ０は例えばステップＳ１およびステップＳ２に先立って実行される。ステップＳ０では、ユーザが、補充工程におけるショット動作の回数をユーザインターフェース９４に対して入力する。ユーザインターフェース９４は、該入力があったときに、該入力を示す信号を制御部９０に出力する。制御部９０は該信号に基づいてショット動作の回数を設定する。具体的には、制御部９０は、ショット動作の回数を示す設定情報を例えば記憶部９２１に記憶させる。これにより、補充工程において、より適した処理量で第１液体を補充することができる。

また、ユーザインターフェース９４は、補充条件において処理液の寿命に関する指標との比較に用いられる基準値の入力を受け付けてもよい。例えば、指標が吐出時間の累積値である場合、基準値として時間が入力される。ユーザがユーザインターフェース９４に対して基準値を入力すると、ユーザインターフェース９４は、該入力を示す信号を制御部９０に出力する。制御部９０は該信号に基づいて基準値を示す設定情報を例えば記憶部９２１に記憶させる。

ところで、基準値が大きいほど、補充条件が成立するまでの時間が長くなるので、補充工程の実行頻度は低下する。処理液の各種成分の変動量は時間の経過とともに大きくなるので、補充工程で必要な第１液体の補充量は大きくなる。そこで、ユーザは、基準値を大きく設定するほど、ショット動作の回数を多く設定するとよい。

次に、制御部９０はステップＳ１からステップＳ５を実行する。ただし、ステップＳ３において、制御部９０は、処理液の寿命に関する指標と、設定された基準値とを互いに比較する。また、ステップＳ４において、制御部９０は、設定された回数だけ定量ポンプ７３にショット動作を行わせる。ここでは、一例として、ショット動作の回数が３回に設定された場合について説明する。図１１は、補充工程におけるタイミングチャートの第２例を示す図である。図１１の例では、定量ポンプ７３は補充工程において３回のショット動作を行っている。

時刻ｔ１において補充条件が成立すると、制御部９０は該補充条件の成立に応答して、定量ポンプ７３に吸引動作を行わせる。つまり、制御部９０は、補充開閉弁７７が閉じた状態で、駆動源７４３を制御してピストン７４２を吐出位置Ｐ１から吸引位置Ｐ２へ移動させる。この１回目のショット動作の吸引動作において、補充開閉弁７７は閉じている。そのため、外循環配管３０からの処理液の圧力は補充開閉弁７７によって阻止され、定量ポンプ７３にほとんど印加されない。このため、定量ポンプ７３の経時劣化の程度を低減させることができる。

時刻ｔ２において、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に到達すると、定量ポンプ７３の吸引動作が完了する。次に制御部９０は補充開閉弁７７に開信号を出力する。これにより、時刻ｔ３において補充開閉弁７７が開く。補充開閉弁７７が開くと、時刻ｔ４において制御部９０は定量ポンプ７３に吐出動作を行わせる。つまり、開信号の出力から所定の遅れ時間が経過した時刻ｔ４において、制御部９０は定量ポンプ７３に吐出動作を行わせる。補充開閉弁７７が開いているので、ピストン７４２の移動により、定量ポンプ７３から第１液体が補充配管７２の下流側配管７２２に徐々に吐出される。時刻ｔ５において、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１に到達すると、所定のショット量の第１液体が下流側配管７２２に吐出される。ひいては、所定のショット量の第１液体が外循環配管３０に流入する。

次に時刻ｔ６において、制御部９０は定量ポンプ７３に２回目のショット動作を行わせる。すなわち、定量ポンプ７３が時刻ｔ６において吸引動作を開始し、時刻ｔ７において吸引動作を完了する。これにより、ポンプ室Ｈ１には再び所定のショット量の第１液体が吸引される。次に、定量ポンプ７３は時刻ｔ８において吐出動作を開始し、時刻ｔ９においてと吐出動作を完了する。これにより、定量ポンプ７３は所定のショット量の第１液体を再び外循環配管３０に流入させることができる。続けて、定量ポンプ７３は時刻ｔ１０において３回目のショット動作を開始し、時刻ｔ１１において３回目のショット動作を完了する。これにより、定量ポンプ７３は所定のショット量の第１液体を三度、外循環配管３０に流入させることができ、合計で３回分のショット量の第１液体を外循環配管３０に流入させることができる。

次に、制御部９０は補充開閉弁７７に閉信号を出力し、時刻ｔ１２において補充開閉弁７７が閉じる。

以上のように、図１１の例では、補充開閉弁７７は時刻ｔ３から時刻ｔ１１において開き続けている。このため、定量ポンプ７３の２回目の吸引動作および３回目の吸引動作中では外循環配管３０を流れる処理液に由来した背圧が定量ポンプ７３に印加される。しかしながら、１回目の吸引動作中では補充開閉弁７７が閉じているので、定量ポンプ７３の経時劣化の抑制効果を招来することができる。

また、２回目以降のショット動作において、補充開閉弁７７が常に開いていれば、吐出動作の終了時刻（例えば時刻ｔ５）と次の吸引動作の開始時刻（例えば時刻ｔ６）との間の時間を短縮することができる。なぜなら、補充開閉弁７７の開閉状態の切り替えを待つ必要がないからである。同様に、吸引動作の終了時刻（例えば時刻ｔ７）と次の吐出動作の開始時刻（例えば時刻ｔ８）との間の時間を短縮することもできる。したがって、補充工程に要する補充時間を短縮することができる。このため、所定量の第１液体の補充を、補充条件の成立時刻からより速やかに完了することができる。

また、図１１の例では、閉鎖工程に続く補充工程の１回目の吸引動作中において、補充開閉弁７７が閉じている。閉鎖工程でも補充開閉弁７７が閉じているので、補充開閉弁７７の開閉状態を切り替えることなく、１回目の吸引動作において、補充開閉弁７７は閉状態を維持することができる。このため、補充開閉弁７７の開閉状態の切替回数を低減させつつも、定量ポンプ７３の経時劣化の程度を低減させることができる。また、補充開閉弁７７の切替回数が少ないほど、補充開閉弁７７の経時劣化の程度を低減させることができる。

＜８－４．補充開閉弁の開閉＞
図１１の例では、補充工程における１回目の吸引動作のみにおいて、補充開閉弁７７が閉じている。しかしながら、補充工程における複数回のショット動作の各々において、定量ポンプ７３は、補充開閉弁７７が閉じた状態で吸引動作を行い、補充開閉弁７７が開いた状態で吐出動作を行ってもよい。図１２は、補充工程におけるタイミングチャートの第３例を示す図である。図１２の例でも、定量ポンプ７３は補充工程において３回のショット動作を行っている。

時刻ｔ１から時刻ｔ５までの動作は、図１１を参照して説明した動作と同じである。時刻ｔ５において定量ポンプ７３が吐出動作を完了すると、制御部９０は補充開閉弁７７に閉信号を出力する。これにより、補充開閉弁７７は閉信号に基づいて時刻ｔ６において閉じる。

補充開閉弁７７が閉じると、時刻ｔ７において制御部９０は定量ポンプ７３に２回目のショット動作を行わせる。つまり、閉信号の開始から所定の閉遅れ時間が経過した時刻ｔ７において、制御部９０は定量ポンプ７３に吸引動作を行わせる。閉遅れ時間は例えば予め設定されており、閉信号の出力から、補充開閉弁７７が開閉状態の切り替えが完了するのに必要な時間以上に設定される。これにより、２回目のショット動作においても、定量ポンプ７３は補充開閉弁７７が閉じた状態で吸引動作を行う。

そして、制御部９０は定量ポンプ７３に吸引動作を行わせた後、補充開閉弁７７を閉状態から開状態に切り替え、その後、定量ポンプ７３に吐出動作を行わせる。図１２の例では、時刻ｔ８において、定量ポンプ７３は吐出動作を完了する。そして、制御部９０は再び補充開閉弁７７を開状態から閉状態に切り替えさせる。

次に時刻ｔ９において、制御部９０は定量ポンプ７３に３回目のショット動作を行わせる。すなわち、定量ポンプ７３が時刻ｔ９において吸引動作を開始し、時刻ｔ１０において吐出動作を完了する。このとき、１回目および２回目のショット動作と同様に、制御部９０は、定量ポンプ７３の吸引動作後かつ吐出動作前に、補充開閉弁７７を閉状態から開状態に切り替えさせる。また、制御部９０は定量ポンプ７３の吐出動作後に、補充開閉弁７７を開状態から閉状態に切り替えさせる。

以上のように、図１２の例では、補充開閉弁７７は、補充工程における全てのショット動作の吸引動作中に閉じている。つまり、補充開閉弁７７は各ショット動作の吐出動作の完了後に開状態から閉状態に切り替わり、各ショット動作の吸引動作と吐出動作との間のタイミングで、閉状態から開状態に切り替わる。このため、定量ポンプ７３の２回目の吸引動作および３回目の吸引動作中でも、外循環配管３０を流れる処理液に由来した背圧が定量ポンプ７３に印加されることを回避または抑制できる。したがって、定量ポンプ７３の経時劣化の程度をさらに低減させることができる。

＜第２の実施の形態＞
第２の実施の形態にかかる供給ユニット２０の一例は第１の実施の形態と同様である。ただし、第２の実施の形態では、補充工程に先立ってエア抜き工程を実施する。エア抜き工程とは、後に詳述するように、補充配管７２の内部および定量ポンプ７３の内部の第１液体に生じた気泡群の少なくとも一部（例えば大部分）を、第１液体とともに外部に排出する処理である。

図１３は、第２の実施の形態にかかる基板処理装置１の動作の一例を示すフローチャートである。第２の実施の形態では、図５のフローチャートと比べて、ステップＳ４０（エア抜き工程）がさらに実行される。ここでは、補充配管７２の内部および定量ポンプ７３のポンプ室Ｈ１内の第１液体中に気泡が生じているものとする。なお、以下では、第１定量ポンプ７３Ａおよび第２定量ポンプ７３Ｂの区別なしに説明を行う。

図１３に示されるように、エア抜き工程は、補充条件が成立したとき（ステップＳ３においてＹＥＳ）に実行される。図１４は、エア抜き工程および補充工程におけるタイミングチャートの一例を示す図である。時刻ｔ１１において補充条件が成立すると、制御部９０は該補充条件の成立に応答して、補充排出弁８８に開信号を出力する。補充排出弁８８は開信号に基づいて開く。

また、制御部９０は補充条件の成立に応答して、定量ポンプ７３にショット動作を行わせる。具体的には、まず、制御部９０は駆動源７４３を制御してピストン７４２を吐出位置Ｐ１から吸引位置Ｐ２へ移動させる（吸引動作）。図１５は、定量ポンプ７３が吸引動作を行っている様子の一例を概略的に示す図である。定量ポンプ７３の吸引動作により、補充タンク７１から第１液体がポンプ室Ｈ１に吸引される。このとき、補充開閉弁７７は閉じているので、外循環配管３０からの処理液の圧力は補充開閉弁７７によって阻止され、第１逆止弁機構７５にほとんど印加されない。

また、吸引動作によって、補充配管７２の上流側配管７２１内の第１液体はポンプ室Ｈ１に吸引される。このため、上流側配管７２１内の第１液体に気泡群が存在していると、当該気泡群の少なくとも一部（例えば大部分）は第１液体とともにポンプ室Ｈ１に吸引される。

そして、時刻ｔ１２において、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に到達すると、定量ポンプ７３の吸引動作が完了する。図１６は、定量ポンプ７３が吸引動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。図１６の例では、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に位置している。

次に、制御部９０は定量ポンプ７３に吐出動作を行わせる。これにより、ピストン７４２は時刻ｔ１３において吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１へ向かって移動し始める。なお、時刻ｔ１２および時刻ｔ１３は同時刻であってもよい。図１７は、定量ポンプ７３が吐出動作を行う様子の一例を概略的に示す図である。ピストン７４２の移動により、定量ポンプ７３から第１液体が補充配管７２の下流側配管７２２に吐出される。このとき、補充開閉弁７７が閉じ、補充排出弁８８が開いているので、下流側配管７２２内の第１液体は補充排出配管８７に押し出され、第１液体が補充排出配管８７を通じて外部に排出される。これにより、ポンプ室Ｈ１の内部の気泡群および補充配管７２の下流側配管７２２の内部の気泡群の少なくとも一部（例えば大部分）が、第１液体とともに、補充排出配管８７を通じて外部に排出される。

制御部９０は、補充排出弁８８を開いた時刻ｔ１１から所定の排出時間Ｔ１が経過した時刻ｔ１４において、補充排出弁８８に閉信号を出力する。これにより、補充排出弁８８が閉じる。時間の測定は、例えば制御部９０に設けられたタイマ回路によって行われる。排出時間Ｔ１は予め設定されており、例えば、定量ポンプ７３の１回のショット動作に要する所要動作時間の設計値以上に設定され得る。排出時間Ｔ１は例えば１秒以下程度に設定され、具体的には０．５秒程度に設定される。補充排出弁８８が閉じることにより、エア抜き工程（ステップＳ４０）が実質的に終了する。

なお、例えば気泡群の排出が不足する場合には、エア抜き工程において、制御部９０は定量ポンプ７３に複数回のショット動作を行わせてもよい。これにより、供給ユニット２０は気泡群をより確実に排出することができる。この場合、排出時間Ｔ１は複数回のショット動作に要する所要動作時間の設計値以上に設定され得る。

ところで、定量ポンプ７３の実際の所要動作時間は、定量ポンプ７３の製造ばらつきによって変動し得る。また、定量ポンプ７３の経年劣化によって、所要動作時間が長くなることもあり得る。このため、所要動作時間が、予め設定された排出時間Ｔ１よりも長くなることもある。図１４の例では、所要動作時間が排出時間Ｔ１よりも長いため、補充排出弁８８が閉じる時刻ｔ１４において、ピストン７４２は未だ吐出位置Ｐ１には到達しておらず、途中位置Ｐ１０に位置している。つまり、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１に到達する前に、補充排出弁８８が閉じている。

図１８は、補充排出弁８８が閉じる際の様子の一例を示す図である。図１８の例では、補充排出弁８８が閉じており、ピストン７４２は途中位置Ｐ１０に位置している。この状態では、駆動源７４３はピストン７４２に対して吐出位置Ｐ１へ向かう駆動力を作用させるものの、補充開閉弁７７および補充排出弁８８の両方が閉じているので、ピストン７４２は吐出位置Ｐ１側に移動できず、途中位置Ｐ１０で停止している。このため、定量ポンプ７３はエア抜き工程において十分に第１液体を吐出できず、そのポンプ室Ｈ１には、より多くの第１液体が残留している。具体的には、第１液体は、ポンプ室Ｈ１のうち吐出位置Ｐ１と途中位置Ｐ１０との間の空間の体積（以下、残留量Ｍ２と呼ぶ）の分だけ多くポンプ室Ｈ１内に残留する。

次に制御部９０は補充工程（ステップＳ４）を実行する。具体的には、時刻ｔ１５において、制御部９０は、予め決められた回数のショット動作の実行を定量ポンプ７３に開始させる（ステップＳ４：補充工程）。なお、時刻ｔ１４および時刻ｔ１５は同時刻であってもよい。また、ここでは簡単のために、ショット動作が１回である場合について説明する。まず、制御部９０は補充開閉弁７７が閉じた状態で吸引動作を行う。具体的には、制御部９０は駆動源７４３を制御してピストン７４２を吸引位置Ｐ２に向かって移動させる。図１９は、定量ポンプ７３が吸引動作を行っている様子の一例を概略的に示す図である。この吸引動作において、補充排出弁８８および補充開閉弁７７の両方が閉じているので、ピストン７４２は吐出位置Ｐ１側に移動することなく、途中位置Ｐ１０から吸引位置Ｐ２へ移動する（図１４も参照）。これにより、補充タンク７１から第１液体がポンプ室Ｈ１に吸引される。

また、当該吸引動作において補充開閉弁７７が閉じているので、外循環配管３０からの処理液の圧力は補充開閉弁７７によって阻止され、第１逆止弁機構７５にほとんど印加されない。

時刻ｔ１６においてピストン７４２が吸引位置Ｐ２に到達すると、定量ポンプ７３の吸引動作が完了する。図２０は、定量ポンプ７３が吸引動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。図２０の例では、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２に位置している。

次に制御部９０は、第１の実施の形態と同様に、補充開閉弁７７に開信号を出力する。これにより、時刻ｔ１７において補充開閉弁７７が開信号に基づいて開く。その後、時刻ｔ１８において制御部９０は定量ポンプ７３に吐出動作を開始させる。これにより、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１に向かって移動し、時刻ｔ１９において吐出位置Ｐ１で停止する。図２１は、定量ポンプ７３が吐出動作を完了した様子の一例を概略的に示す図である。図２１の例では、ピストン７４２が吐出位置Ｐ１に位置している。このピストン７４２の移動により、所定のショット量Ｍ１の第１液体が補充配管７２から外循環配管３０に補充される。図１４の例では、ショット量Ｍ１は、斜線のハッチングで示された領域の面積に相当する。そして、制御部９０は補充開閉弁７７に閉信号を出力する。これにより、時刻ｔ２０において補充開閉弁７７が閉じる。

以上のように、第２の実施の形態では、エア抜き工程（ステップＳ４０）によって、補充配管７２の内部および定量ポンプ７３の内部の第１液体中の気泡群の少なくとも一部（例えば大部分）を、外部に排出することができる。このため、その後の補充工程（ステップＳ４）において、外循環配管３０に気泡群が流入する可能性を低減させることができる。これによれば、ノズル１３から処理液が吐出される際に、処理液にスプラッシュが生じにくく、基板Ｗに対する処理に不具合を招きにくい。

しかも、補充工程において、定量ポンプ７３は補充開閉弁７７が閉じた状態で吸引動作を開始する。言い換えれば、制御部９０は、エア抜き工程において補充排出弁８８が閉じた時刻ｔ１４から、補充工程において定量ポンプ７３の吸引動作が開始する時刻ｔ１５までの期間において、補充開閉弁７７を閉じ続けている。このため、当該期間において、ピストン７４２は吐出位置Ｐ１に向かって移動することなく、途中位置Ｐ１０で停止する。図１４の例では、制御部９０は時刻ｔ１５よりも後の時刻ｔ１６において補充開閉弁７７を開く。つまり、制御部９０は時刻ｔ１６において補充開閉弁７７を閉状態から開状態に切り替える。

さて、補充工程において吸引動作が開始すれば、駆動源７４３はピストン７４２に対して吸引位置Ｐ２へ向かう駆動力を印加する。このため、時刻ｔ１５よりも後に補充開閉弁７７が開いても、ピストン７４２は吐出位置Ｐ１には移動しない。つまり、定量ポンプ７３のピストン７４２は途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１へ移動することなく、吸引位置Ｐ２へ向かって移動する。なお、ピストン７４２の吐出位置Ｐ１への移動をより確実に回避するためには、図１４に示されるように、補充開閉弁７７が閉じた状態で吸引動作が行われるとよい。つまり、制御部９０は、吸引動作が完了する時刻ｔ１６よりも後の時刻ｔ１７において、補充開閉弁７７を閉状態から開状態に切り替えるとよい。

比較のために、補充工程において、補充開閉弁７７が開いた状態で吸引動作を行う場合について説明する。図２２は、比較例にかかる供給ユニットのタイミングチャートを示す図である。図２２の例では、時刻ｔ３１において、補充条件の成立に応答して、補充排出弁８８が開き、定量ポンプ７３が吸引動作を開始する。定量ポンプ７３は時刻ｔ３２において吸引動作を終了し、時刻ｔ３３において吐出動作を開始する。そして、時刻ｔ３１から所定の排出時間Ｔ１が経過した時刻ｔ３４において、補充排出弁８８が閉じる。図２２でも、時刻ｔ３４においてピストン７４２は途中位置Ｐ１０に位置している。

次に制御部９０は補充工程を行う。ここでは、制御部９０は定量ポンプ７３の吸引動作に先立って補充開閉弁７７に開信号を出力する。図２２の例では、時刻ｔ３５において補充開閉弁７７が開く。補充開閉弁７７が開くと、ピストン７４２が途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１に向かって移動する。つまり、ピストン７４２が図１８の状態から図２１の状態に移動する。これは、定量ポンプ７３の駆動源７４３がピストン７４２を吐出位置Ｐ１側に押圧しているからである。

図２２の例では、時刻ｔ３６においてピストン７４２が吐出位置Ｐ１に到達する。ピストン７４２が途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１に移動すると、定量ポンプ７３のポンプ室Ｈ１のうち途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１までの残留量Ｍ２の第１液体が、補充配管７２の下流側配管７２２に流入する。これにより、下流側配管７２２から外循環配管３０に残留量Ｍ２の第１液体が補充される。図２２では、時刻ｔ３５から時刻ｔ３６までの斜線のハッチングで示された領域の面積が残留量Ｍ２に相当する。

図２２の例では、時刻ｔ３６において制御部９０は定量ポンプ７３にショット動作を開始させる。つまり、定量ポンプ７３は時刻ｔ３６において吸引動作を開始し、時刻ｔ３７において吸引動作を完了する。これにより、ピストン７４２は吐出位置Ｐ１から吸引位置Ｐ２に移動する。そして、定量ポンプ７３は時刻ｔ３８において吐出動作を開始し、時刻ｔ３９において吐出動作を完了する。これにより、ピストン７４２が吸引位置Ｐ２から吐出位置Ｐ１に移動し、ショット量Ｍ１の第１液体が外循環配管３０に補充される。次に、時刻ｔ４０において補充開閉弁７７が閉じる。

以上のように、比較例では、補充工程において、定量ポンプ７３のショット動作に先立って補充開閉弁７７が開く。このため、ピストン７４２が途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１に移動し、残留量Ｍ２の第１液体が外循環配管３０に補充される。さらに、その後のショット動作により、所定のショット量Ｍ１の第１液体が外循環配管３０に補充される。このため、補充工程によって外循環配管３０に補充される第１液の量は、ショット量Ｍ１と残留量Ｍ２との和となる。つまり、ショット量Ｍ１よりも大きな量で第１液体が外循環配管３０に補充されてしまう。したがって、供給タンク２１内の濃度が所定の濃度範囲外になり得る。

これに対して、第２の実施の形態では、補充開閉弁７７は、エア抜き工程が終了する時刻ｔ１４から補充工程において最初の吸引動作が開始する時刻ｔ１５までの期間において閉じており、時刻ｔ１５よりも後に開く。好ましくは、補充開閉弁７７は吸引動作が終了する時刻ｔ１６よりも後に開く。このため、補充工程においてピストン７４２は途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１へ移動せず、残留量Ｍ２の第１液体の補充は行われない。したがって、供給ユニット２０は補充工程において、適切な量（ショット量Ｍ１）の第１液体を外循環配管３０に補充することができる。したがって、供給ユニット２０は供給タンク２１内の濃度を所定の範囲内にすることができる。

また、補充開閉弁７７が吸引動作中も閉じ続けていれば、ピストン７４２の吐出位置Ｐ１側への移動をより確実に回避することができつつ、第１逆止弁機構７５に印加される圧力を低減させることができる。

なお、上述の例によれば、エア抜き工程（ステップＳ４０）および補充工程（ステップＳ４）の両方が補充条件の成立のたびに行われる。補充工程は補充条件の成立のたびに行われるものの、エア抜き工程は複数回の補充条件の成立に応答して行われてもよい。つまり、制御部９０はエア抜き工程なしで１回以上の補充工程を行った後に、エア抜き工程および補充工程を行ってもよい。

また、第１の実施の形態と同様に、補充工程において定量ポンプ７３は複数回のショット動作を行ってもよい。この場合、制御部９０は、エア抜き工程において補充排出弁８８が閉じてから、補充工程において１回目のショット動作が開始するまでの期間において、補充開閉弁７７を閉じ続ける。そして、制御部９０は１回目のショット動作を開始する時刻よりも後に補充開閉弁７７を開く。これにより、不要な残留量Ｍ２の第１液体の補充を回避することができる。制御部９０は、１回目のショット動作における吸引動作中も補充開閉弁７７を閉じ続けているとよい。これにより、ピストン７４２の途中位置Ｐ１０から吐出位置Ｐ１側への移動をより確実に回避することができつつ、第１逆止弁機構７５への圧力の印加を抑制することができる。

以上のように、供給ユニット２０および処理液補充方法は詳細に説明されたが、上記した説明は、全ての局面において例示であって、この開示がそれに限定されるものではない。また、上述した各種変形例は、相互に矛盾しない限り組み合わせて適用可能である。そして、例示されていない多数の変形例が、この開示の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。

例えば、定量ポンプ７３の往復機構７４は、ピストン式ではなく、ダイヤフラム式の構造を有していてもよい。また、定量ポンプ７３は第１逆止弁機構７５を必ずしも含んでいる必要はない。この場合、定量ポンプ７３は補充開閉弁７７が閉じた状態で吸引動作を行えばよい。また、補充配管７２のうちの定量ポンプ７３よりも上流側において開閉弁が介挿されている場合には、定量ポンプ７３は第２逆止弁機構７６を必ずしも含んでいる必要はない。この場合、定量ポンプ７３は該開閉弁が閉じた状態で吐出動作を行えばよい。

２０ 処理液供給装置（供給ユニット）
２１，２１Ａ，２１Ｂ 供給タンク
３０ 循環配管（外循環配管）
７１，７１Ａ，７１Ｂ 補充タンク
７２，７２Ａ，７２Ｂ 補充配管
７３，７３Ａ，７３Ｂ 定量ポンプ
７７，７７Ａ，７７Ｂ 補充開閉弁
８７ 補充排出配管
８８ 補充排出弁
Ｅ１ 屈曲配管部

Claims (8)

1. 基板の処理に供される処理液を貯留する供給タンクと、
   前記供給タンクに接続される循環配管と、
   前記循環配管に接続される下流端を有する補充配管と、
   前記補充配管の上流端に接続される補充タンクと、
   前記補充配管に介挿される定量ポンプと、
   前記循環配管のうち前記定量ポンプよりも下流側に介挿される補充開閉弁と
   を備える、処理液供給装置。
2. 請求項１に記載の処理液供給装置であって、
   前記循環配管は屈曲配管部を有し、
   前記補充配管の前記下流端は、前記屈曲配管部よりも上流側において、前記循環配管に接続される、処理液供給装置。
3. 基板の処理に供される処理液を貯留する供給タンクに対して前記処理液を補充する処理液補充方法であって、
   前記処理液を、前記供給タンクに接続された循環配管を通じて循環させる循環工程と、
   前記処理液が前記循環配管を通じて循環した状態で、前記循環配管に接続された補充配管を通じて、補充タンクからの前記処理液を前記供給タンクに補充する補充工程と
   を備え、
   前記補充工程において、前記補充配管に介挿された定量ポンプが１回以上のショット動作を行い、前記ショット動作において、前記定量ポンプは所定量の前記処理液を前記補充タンクから前記供給タンクへと供給し、
   前記ショット動作の少なくとも１回において、前記定量ポンプは、前記補充配管のうちの前記定量ポンプよりも下流側に介挿された補充開閉弁が閉じた状態で、前記処理液を前記補充タンクから吸い込み、前記補充開閉弁が開いた状態で、前記所定量の前記処理液を前記循環配管に向かって吐出する、処理液補充方法。
4. 請求項３に記載の処理液補充方法であって、
   前記補充工程の直前において前記補充開閉弁が閉じており、
   前記補充工程において、前記定量ポンプが複数回の前記ショット動作を行い、
   少なくとも１回目の前記ショット動作において、前記定量ポンプは、前記補充開閉弁が閉じた状態で、前記処理液を前記補充タンクから吸い込み、前記補充開閉弁が開いた状態で、前記所定量の前記処理液を前記循環配管に向かって吐出する、処理液補充方法。
5. 請求項４に記載の処理液補充方法であって、
   前記補充工程において、前記定量ポンプが複数回の前記ショット動作を行い、
   前記複数回の前記ショット動作の全てにおいて、前記定量ポンプは、前記補充開閉弁が閉じた状態で、前記処理液を前記補充タンクから吸い込み、前記補充開閉弁が開いた状態で、前記所定量の前記処理液を前記循環配管に向かって吐出する、処理液補充方法。
6. 請求項３から請求項５のいずれか一つに記載の処理液補充方法であって、
   前記補充工程の前に、前記処理液が前記循環配管を通じて循環している期間の少なくとも一部で前記補充開閉弁を閉じる閉鎖工程をさらに備える、処理液補充方法。
7. 請求項３から請求項５のいずれか一つに記載の処理液補充方法であって、
   前記ショット動作の回数を設定する設定工程をさらに備える、処理液補充方法。
8. 請求項４または請求項５に記載の処理液補充方法であって、
   前記補充工程の前に、前記補充配管のうちの前記補充開閉弁と前記定量ポンプとの間の部分に接続された上流端を有する補充排出配管に介挿された補充排出弁を開き、かつ、前記補充開閉弁を閉じつつ、前記定量ポンプが前記ショット動作を行い、前記補充排出弁が開いてから所定の排出時間が経過したときに前記補充排出弁を閉じるエア抜き工程をさらに備える、処理液補充方法。

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