JP2024015875A - 配線回路基板の導通検査方法および配線回路基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】導通検査の精度を向上可能な配線回路基板の導通検査方法および配線回路基板の製造方法を提供する。【解決手段】配線回路基板は、第1の端子部および第2の端子部を有する。導通試験器1は、第1の測定プローブ11および第2の測定プローブ12を含む。第1の測定プローブ11は、複数の接触子11a,11bに分岐する。配線回路基板の導通検査方法においては、複数の接触子11a,11bに分岐した第1の測定プローブ11が第1の端子部に接触され、第2の測定プローブ12が第2の端子部に接触される。【選択図】図23
Description
本発明は、配線回路基板の導通検査方法および配線回路基板の製造方法に関する。
サスペンション基板は、例えばハードディスクドライブ装置において、磁気ディスクの所望のトラックに磁気ヘッドを位置決めするために用いられる配線回路である。特許文献1には、サスペンション基板の製造過程が記載されている。特許文献1では、複数のサスペンション基板が共通の支持枠に一体的に支持された状態で形成される。
各サスペンション基板においては、支持基板上に絶縁層が形成される。絶縁層上に、他の電子回路と磁気ヘッドとを接続するための複数の配線パターンが形成される。各配線パターンの両端には、電極パッドが形成される。また、配線パターンの一部は、他の配線パターンとの干渉を回避するために、複数の線路に分割される。複数の線路は、絶縁層を貫通するビアにより支持基板の一部と電気的に接続される。
配線回路基板の製造過程においては、電極パッド間またはビアの導通検査を行うことにより、配線回路基板の良否が判定される。特許文献1においては、配線回路基板のビアと同じ構成を有するビアが形成された検査用基板が支持枠に形成され、配線回路基板のビアに代えて、検査用基板の導通検査が行われる。しかしながら、基材変形等により治具を当てる位置がずれた場合、電極パッド間またはビアが導通しているにもかかわらず、配線回路基板が不良であると判定されることが多発している。
本発明の目的は、配線回路基板の導通検査の精度を向上可能な配線回路基板の導通検査方法および配線回路基板の製造方法を提供することである。
本発明の一局面に従う配線回路基板の導通検査方法は、第1の端子部および第2の端子部を有する配線回路基板の導通検査方法であって、複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとを含む。
本発明の他の局面に従う配線回路基板の製造方法は、第1の端子部および第2の端子部を形成することと、複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを形成された前記第1の端子部に接触させることと、第2の測定プローブを形成された前記第2の端子部に接触させることとを含む。
本発明によれば、配線回路基板の導通検査の精度を向上させることができる。
以下、本発明の一実施の形態に係る配線回路基板の導通検査方法および配線回路基板の製造方法について図面を参照しつつ説明する。本実施の形態では、配線回路基板は回路付きサスペンション基板(以下、サスペンション基板と略記する。)である。
(1)回路付きサスペンション基板集合体シート
図1は、回路付きサスペンション基板集合体シートの上面図である。回路付きサスペンション基板(以下、集合体シート500と略記する。)は、サスペンション基板100の製造過程における半製品であり、金属製の長尺状の支持基板から作製される。図1に示すように、集合体シート500は、矩形状の外形を有する。集合体シート500は、支持枠510、複数の長尺状のサスペンション基板100および複数の検査用基板200を含む。
図1は、回路付きサスペンション基板集合体シートの上面図である。回路付きサスペンション基板(以下、集合体シート500と略記する。)は、サスペンション基板100の製造過程における半製品であり、金属製の長尺状の支持基板から作製される。図1に示すように、集合体シート500は、矩形状の外形を有する。集合体シート500は、支持枠510、複数の長尺状のサスペンション基板100および複数の検査用基板200を含む。
図1においては、矢印X,Yで示すように、互いに直交する二方向をX方向およびY方向と定義する。本例では、X方向およびY方向は水平面に平行な方向である。支持枠510は、一対の側部枠511,512および複数の端部枠513,514,515,516,517,518からなる。一対の側部枠511,512は、互いに対向するとともにY方向に延びる。端部枠513~518は、それぞれ一対の側部枠511,512に直交するX方向に延び、一対の側部枠511,512間をつなぐように形成される。
端部枠513~518は、一対の側部枠511,512の一端部から他端部にかけて等間隔でY方向に並ぶ。これにより、側部枠511,512および端部枠513~518により仕切られた複数(本例では5つ)の矩形領域521,522,523,524,525が形成される。複数のサスペンション基板100は、矩形領域521~525内で、Y方向に延びかつX方向に並ぶように設けられる。各サスペンション基板100の外周縁部に沿って分離溝526が形成される。
各サスペンション基板100のY方向における両端は、連結部520を介して支持枠510に連結されている。本実施の形態においては、複数の検査用基板200は、複数のサスペンション基板100にそれぞれ対応するように、複数のサスペンション基板100の一端側の端部枠513~517に形成される。本例では、矩形領域521内の複数のサスペンション基板100にそれぞれ対応する複数の検査用基板200が端部枠513に形成される。
同様に、矩形領域522内の複数のサスペンション基板100にそれぞれ対応する複数の検査用基板200が端部枠514内に形成される。矩形領域523内の複数のサスペンション基板100にそれぞれ対応する複数の検査用基板200が端部枠515に形成される。矩形領域524内の複数のサスペンション基板100にそれぞれ対応する複数の検査用基板200が端部枠516に形成される。矩形領域525内の複数のサスペンション基板100にそれぞれ対応する複数の検査用基板200が端部枠517に形成される。
このようにして、各矩形領域521~525において、複数のサスペンション基板100が整列状態で支持枠510に支持される。また、複数の検査用基板200が端部枠513~517に形成される。集合体シート500の製造後、連結部520が切断されることにより、各サスペンション基板100が支持枠510から分離される。
(2)サスペンション基板の構造
図2は、図1のサスペンション基板100の上面図である。図2に示すように、サスペンション基板100は、金属製の長尺状基板により形成される支持基板110を備える。支持基板110上には、太い点線で示すように、書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150が形成される。図2では、書込用配線パターン120,130が一本の点線で示され、読取用配線パターン140,150が一本の点線で示される。書込用配線パターン120と書込用配線パターン130とは、一対の信号線路対を構成する。読取用配線パターン140と読取用配線パターン150とは、一対の信号線路対を構成する。
図2は、図1のサスペンション基板100の上面図である。図2に示すように、サスペンション基板100は、金属製の長尺状基板により形成される支持基板110を備える。支持基板110上には、太い点線で示すように、書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150が形成される。図2では、書込用配線パターン120,130が一本の点線で示され、読取用配線パターン140,150が一本の点線で示される。書込用配線パターン120と書込用配線パターン130とは、一対の信号線路対を構成する。読取用配線パターン140と読取用配線パターン150とは、一対の信号線路対を構成する。
支持基板110の一端部には、U字状の開口111が形成されることにより磁気ヘッド搭載部(以下、タング部112と呼ぶ。)が設けられる。タング部112は、支持基板110に対して所定の角度をなすように折り曲げ加工される。タング部112の端部には、4個の電極パッド161,162,163,164が形成される。
支持基板110の他端部には4個の電極パッド165,166,167,168が形成される。タング部112上の電極パッド161~164と支持基板110の他端部の電極パッド165~168とは、それぞれ書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150により電気的に接続される。
サスペンション基板100を備える図示しないハードディスクドライブ装置においては、磁気ディスクに対する情報の書込み時に一対の書込用配線パターン120,130に電流が流れる。また、磁気ディスクに対する情報の読取り時に一対の読取用配線パターン140,150に電流が流れる。
(3)書込用配線パターン
書込用配線パターン120,130の詳細な構成について説明する。図3は、書込用配線パターン120,130の構成を示す模式図である。図3に示すように、書込用配線パターン120は、線路121~125により構成される。電極パッド161に線路121が接続され、電極パッド165に線路122が接続される。線路123,124の一端部は、線路121に一体化する。線路123の他端部と線路125の一端部とが交差領域113において電気的に接続される。交差領域113の詳細については後述する。線路124,125の他端部は、線路122に一体化する。
書込用配線パターン120,130の詳細な構成について説明する。図3は、書込用配線パターン120,130の構成を示す模式図である。図3に示すように、書込用配線パターン120は、線路121~125により構成される。電極パッド161に線路121が接続され、電極パッド165に線路122が接続される。線路123,124の一端部は、線路121に一体化する。線路123の他端部と線路125の一端部とが交差領域113において電気的に接続される。交差領域113の詳細については後述する。線路124,125の他端部は、線路122に一体化する。
書込用配線パターン130は、線路131~135により構成される。電極パッド162に線路131が接続され、電極パッド166に線路132が接続される。線路133,134の一端部は、線路131に一体化する。線路133の他端部と線路135の一端部とが交差領域114において電気的に接続される。交差領域114の詳細については後述する。線路134,135の他端部は、線路132に一体化する。
書込用配線パターン120の線路123,124と書込用配線パターン130の線路134,135とは、互いに交互にかつ平行に配置される。書込用配線パターン120の線路123は、交差領域114において書込用配線パターン130の線路133,135の端部間を通って延び、書込用配線パターン130の線路135は、交差領域113において書込用配線パターン120の線路123,125の端部間を通って延びる。
図4は、書込用配線パターン120,130の線路123,124,134,135およびその周辺部分の模式的断面図である。図4は、図3のA-A線断面図に相当する。図4に示すように、支持基板110上にベース絶縁層170が形成される。ベース絶縁層170上に書込用配線パターン120,130の線路123,124,134,135が形成される。書込用配線パターン120,130を覆うように、ベース絶縁層170上にカバー絶縁層180が形成される。
図5は、図3の交差領域113およびその周辺を示す図である。図5の上段には交差領域113の詳細な平面図が示され、図5の下段には上段の交差領域113のB-B線断面図が示される。なお、交差領域114は、交差領域113と同様の構成を有する。
図5に示すように、支持基板110に、環状の開口115が形成される。これにより、支持基板110の他の領域から電気的に分離された島状の領域116が形成される。支持基板110の領域116上を通って延びるように書込用配線パターン130の線路135が配置され、線路135の両側に書込用配線パターン120の線路123の端部および線路125の端部が配置される。
線路123の端部および線路125の端部には、円形の接続部126,127がそれぞれ設けられる。接続部126,127の形状は、円形に限らず、楕円形、三角形、四角形または扇形等の他の形状であってもよい。また、接続部126,127の下方におけるベース絶縁層170の部分に、貫通孔171,172がそれぞれ形成される。貫通孔171,172は、ベース絶縁層170の上面から下面にかけて径が漸次小さくなるようにテーパ形状に形成される。貫通孔171,172の横断面形状は、楕円形、三角形、四角形または扇形等の他の形状であってもよい。
接続部126は、貫通孔171内において支持基板110の領域116に接触し、接続部127は、貫通孔172内において支持基板110の領域116に接触する。貫通孔171内の接続部126の部分によりビア128が形成され、貫通孔172内の接続部127の部分によりビア129が形成される。これにより、ビア128,129および支持基板110の領域116を介して、線路123,125が電気的に接続される。
(4)検査用基板の構造
図6は、検査用基板200の上面図である。図7は、図6の検査用基板200のC-C線断面図である。図6および図7に示すように、検査用基板200は、金属製の長尺状基板により形成される支持基板210を備える。支持基板210上にベース絶縁層220が形成される。ベース絶縁層220には、開口221が形成される。開口221から支持基板210の一部が露出する。開口221は、支持基板210の100μm以上1500μm以下の長さの部分が露出するように形成されることが好ましい。
図6は、検査用基板200の上面図である。図7は、図6の検査用基板200のC-C線断面図である。図6および図7に示すように、検査用基板200は、金属製の長尺状基板により形成される支持基板210を備える。支持基板210上にベース絶縁層220が形成される。ベース絶縁層220には、開口221が形成される。開口221から支持基板210の一部が露出する。開口221は、支持基板210の100μm以上1500μm以下の長さの部分が露出するように形成されることが好ましい。
また、ベース絶縁層220には、貫通孔222が形成される。ベース絶縁層220上に導体層230が形成される。導体層230の一部が貫通孔222内において支持基板210に接触する。貫通孔222内の導体層230の部分によりビア231が形成される。これにより、ビア231を介して導体層230と支持基板210とが電気的に接続される。ビア231は、図5のビア128,129と同じ構成を有する。
導体層230を覆うようにベース絶縁層220上にカバー絶縁層240が形成される。カバー絶縁層240には、開口241が形成される。開口241からビア231を除く導体層230の一部が露出する。開口241は、導体層230の100μm以上1500μm以下の長さの部分が露出するように形成されることが好ましい。本例では、開口221から露出する支持基板210の面積は、開口241から露出する導体層230の面積よりも大きい。
図2のサスペンション基板100の製造過程においては、電極パッド161~164と電極パッド165~168との間の導通検査、およびビア128,129の導通検査が行われる。本例では、ビア128,129の導通検査に代えてビア231の導通検査が行われ、ビア231の検査結果がビア128,129の検査結果として援用される。
(5)導通検査方法
図8は、本実施の形態に係る導通検査方法において使用される導通試験器の構成を示す模式図である。図8に示すように、導通試験器1は、電源10、電流測定部20、電圧測定部30および測定プローブ21,22,31,32を含む。測定プローブ21は、同一のノード21Nから分岐した複数の接触子21a,21b,21c,・・・を含む。測定プローブ31は、同一のノード31Nから分岐した複数の接触子31a,31b,31c,・・・を含む。
図8は、本実施の形態に係る導通検査方法において使用される導通試験器の構成を示す模式図である。図8に示すように、導通試験器1は、電源10、電流測定部20、電圧測定部30および測定プローブ21,22,31,32を含む。測定プローブ21は、同一のノード21Nから分岐した複数の接触子21a,21b,21c,・・・を含む。測定プローブ31は、同一のノード31Nから分岐した複数の接触子31a,31b,31c,・・・を含む。
接触子21a,21b,21c,・・・は、ノード21Nに電気的に接続されている。接触子21a,21b,21c,・・・は、同一部材により一体的に形成されてもよい。同様に、接触子31a,31b,31c,・・・は、ノード31Nに電気的に接続されている。接触子31a,31b,31c,・・・は、同一部材により一体的に形成されてもよい。後述する他の接触子についても同様である。
本例では、電源10は交流電源であるが、直流電源であってもよい。電源10の一方の端子は、電流測定部20を介して測定プローブ21に接続される。電源10の他方の端子は、測定プローブ22に接続される。電圧測定部30の一方の端子は、測定プローブ31に接続される。電圧測定部30の他方の端子は、測定プローブ32に接続される。
以下、導通試験器1を用いたビア231の導通検査を説明する。図9は、本実施の形態に係る導通検査方法の一例を示す模式図である。図9の上段には検査用基板200の断面図が示され、図9の下段には検査用基板200の上面図が示される。後述する図10~図14においても同様である。図9の上段に示すように、本例では、測定プローブ21は2個の接触子21a,21bに分岐し、測定プローブ31は2個の接触子31a,31bに分岐する。接触子21a,21b間の間隔、および接触子31a,31b間の間隔は、導体層230の露出部分における最大長さよりも小さい。
測定プローブ21,31が導体層230の露出部分に接触され、測定プローブ22,32が支持基板210の露出部分に接触される。ここで、導体層230の露出部分の面積が小さい場合には、測定プローブ21,31を導体層230に接触させることは困難になる。この場合でも、測定プローブ21は接触子21a,21bに分岐するので、接触子21a,21bの少なくとも一方が導体層230に接触する確率が向上する。同様に、測定プローブ31は接触子31a,31bに分岐するので、接触子31a,31bの少なくとも一方が導体層230に接触する確率が向上する。
図9の下段に示すように、接触子21a,21b,31a,31bは、2行2列に配置されてもよい。図9の例では、接触子21aと21bとが対角に配置され、接触子31aと31bとが対角に配置される。この配置によれば、測定プローブ21,31に全体的な位置ずれが発生した場合でも、接触子21a,21bの少なくとも一方、および接触子31a,31bの少なくとも一方をより確実に導体層230に接触させることができる。
測定プローブ21,22が導体層230および支持基板210にそれぞれ接触することにより、測定プローブ21,22にそれぞれ接触抵抗r1,r2が発生する。同様に、測定プローブ31,32が導体層230および支持基板210にそれぞれ接触することにより、測定プローブ31,32にそれぞれ接触抵抗r3,r4が発生する。この状態で、測定プローブ21,22を介して電源10から検査用基板200に電流が流れる。
次に、電流測定部20により検査用基板200に流れる電流の値が測定される。また、電圧測定部30により測定プローブ31,32間の電圧の値が測定される。この場合、電圧測定部30の内部抵抗の値は十分に大きいため、電源10からの電流は電圧測定部30を含む経路にはほとんど流れない。したがって、測定プローブ31,32間の電圧の値は、接触抵抗r3,r4に起因する電圧降下をほとんど含まない。すなわち、測定プローブ31,32間の電圧の値は、導体層230と支持基板210との間の電圧の値に略等しい。
電流測定部20および電圧測定部30によりそれぞれ測定された電流および電圧に基づいて、測定プローブ21,22間の抵抗の値が算出される。上記のように、電圧測定部30により測定される電圧の値は接触抵抗r3,r4に起因する電圧降下をほとんど含まないので、測定プローブ21,22間の抵抗の値は接触抵抗r1~r4の抵抗の値をほとんど含まない。すなわち、測定プローブ21,22間の抵抗の値は、ビア231の抵抗の値に略等しい。
この検査方法によれば、導通試験器1は、ビア231の抵抗の値の微小な変化を検出することができる。したがって、算出された抵抗の値と、予め設定されたしきい値とが比較されることにより、ビア231の良否が判定される。例えば、ビア231の抵抗の値がしきい値以下である場合には、ビア231は正常であると判定される。一方、ビア231の抵抗の値がしきい値より大きい場合には、ビア231は異常であると判定される。
(6)導通検査方法の変形例
本実施の形態において、測定プローブ21が2個の接触子21a,21bに分岐し、測定プローブ31が2個の接触子31a,31bに分岐するが、実施の形態はこれに限定されない。支持基板210の露出部分が導体層230の露出部分よりも小さい場合には、測定プローブ21,31の各々が複数の接触子に分岐せず、測定プローブ22,32の各々が複数の接触子に分岐してもよい。
本実施の形態において、測定プローブ21が2個の接触子21a,21bに分岐し、測定プローブ31が2個の接触子31a,31bに分岐するが、実施の形態はこれに限定されない。支持基板210の露出部分が導体層230の露出部分よりも小さい場合には、測定プローブ21,31の各々が複数の接触子に分岐せず、測定プローブ22,32の各々が複数の接触子に分岐してもよい。
図10は、導通検査方法の第1の変形例を示す模式図である。図10の上段に示すように、本例では、測定プローブ22は、同一のノード22Nから分岐した2個の接触子22a,22bを含む。測定プローブ32は、同一のノード32Nから分岐した2個の接触子32a,32bを含む。接触子22a,22b間の間隔、および接触子32a,32b間の間隔は、支持基板210の露出部分における最大長さよりも小さい。測定プローブ21は、複数の接触子に分岐しない。また、測定プローブ31は、複数の接触子に分岐しない。
測定プローブ21,31が導体層230の露出部分に接触され、測定プローブ22,32が支持基板210の露出部分に接触される。ここで、支持基板210の露出部分の面積が小さい場合には、測定プローブ22,32を支持基板210に接触させることは困難になる。この場合でも、測定プローブ22は接触子22a,22bに分岐するので、接触子21a,21bの少なくとも一方が支持基板210に接触する確率が向上する。同様に、測定プローブ32は接触子32a,32bに分岐するので、接触子32a,32bの少なくとも一方が支持基板210に接触する確率が向上する。
図10の下段に示すように、接触子22a,22b,32a,32bは、2行2列に配置されてもよい。図10の例では、接触子22aと22bとが対角に配置され、接触子32aと32bとが対角に配置される。この配置によれば、測定プローブ22,32に全体的な位置ずれが発生した場合でも、接触子22a,22bの少なくとも一方、および接触子32a,32bの少なくとも一方をより確実に支持基板210に接触させることができる。ビア231の良否の判定方法は、図9の例と同様である。
支持基板210の露出部分および導体層230の露出部分の両方が比較的小さい場合には、測定プローブ21,22,31,32の各々が複数に分岐してもよい。図11は、導通検査方法の第2の変形例を示す模式図である。図11の上段に示すように、本例では、測定プローブ21は接触子21a,21bに分岐し、測定プローブ22は接触子22a,22bに分岐する。また、測定プローブ31は接触子31a,31bに分岐し、測定プローブ32は接触子32a,32bに分岐する。
図11の下段に示すように、接触子21a,21b,31a,31bは、2行2列に配置され、接触子22a,22b,32a,32bは、2行2列に配置されてもよい。図11の例では、接触子21aと21bとが対角に配置され、接触子31aと31bとが対角に配置される。また、接触子22aと22bとが対角に配置され、接触子32aと32bとが対角に配置される。
測定プローブの分岐数は2つに限定されない。図12は、導通検査方法の第3の変形例を示す模式図である。図12の上段に示すように、本例では、測定プローブ21は5個の接触子21a~21eに分岐し、測定プローブ31は4個の接触子31a~31dに分岐する。測定プローブ22は、複数の接触子に分岐しない。また、測定プローブ32は、複数の接触子に分岐しない。
図12の下段に示すように、接触子21a~21e,31a~31dは、交互にかつ千鳥状に配置されてもよい。図12の例では、接触子21a~21e,31a~31dが3行3列に配置される。具体的には、接触子21a~21eのうち、4つが角部に配置され、残り1つが中央に配置される。接触子31a~31dの各々は、接触子21a~21eのいずれか2つにより挟まれるように配置される。
図13は、導通検査方法の第4の変形例を示す模式図である。図13の上段に示すように、本例では、測定プローブ21は3個の接触子21a~21cに分岐し、測定プローブ22は3個の接触子22a~22cに分岐する。測定プローブ31は3個の接触子31a~31cに分岐し、測定プローブ32は3個の接触子32a~32cに分岐する。
図13の下段に示すように、接触子21a~21c,31a~31cは、交互にかつ千鳥状に配置されてもよい。図13の例では、接触子21a~21c,31a~31cが2行3列に配置される。具体的には、接触子31a~31cのうちの1つが、接触子21a~21cのうちの2つにより挟まれる。接触子21a~21cのうちの残り1つが、接触子31a~31cのうちの残り2つにより挟まれる。接触子22a~22c,32a~32cの配置についても、接触子21a~21c,31a~31cの配置と同様である。
図14は、導通検査方法の第5の変形例を示す模式図である。図14の上段に示すように、本例では、測定プローブ21は5個の接触子21a~21eに分岐し、測定プローブ31は4個の接触子31a~31dに分岐する。また、測定プローブ22は5個の接触子22a~22eに分岐し、測定プローブ32は4個の接触子32a~32dに分岐する。
図14の下段に示すように、接触子21a~21e,31a~31dは、交互にかつ千鳥状に配置されてもよい。図14の例では、接触子21a~21e,31a~31dが3行3列に配置される。具体的には、接触子21a~21eのうち、4つが角部に配置され、残り1つが中央に配置される。接触子31a~31dの各々は、接触子21a~21eのいずれか2つにより挟まれるように配置される。接触子22a~22e,32a~32dの配置についても、接触子21a~21e,31a~31dの配置と同様である。
(7)サスペンション基板の製造方法
サスペンション基板100の製造方法について説明する。本例においては、長尺状の支持基板上にロール・トゥ・ロール方式により複数の集合体シート500が製造される。各集合体シート500に複数のサスペンション基板100が形成される。図15~図19は、本発明の一実施の形態に係る集合体シート500の製造方法の一例を示す工程断面図である。図15~図19の上段の図は、図5のB-B線断面に対応する。図15~図19の下段の図は、図6のC-C線断面に対応する。
サスペンション基板100の製造方法について説明する。本例においては、長尺状の支持基板上にロール・トゥ・ロール方式により複数の集合体シート500が製造される。各集合体シート500に複数のサスペンション基板100が形成される。図15~図19は、本発明の一実施の形態に係る集合体シート500の製造方法の一例を示す工程断面図である。図15~図19の上段の図は、図5のB-B線断面に対応する。図15~図19の下段の図は、図6のC-C線断面に対応する。
まず、図15に示すように、ステンレス鋼からなる長尺状の支持基板530上にポリイミドからなるベース絶縁層540を形成する。支持基板530とベース絶縁層540との積層構造を有する2層基材を用いてもよい。支持基板530の材料は、ステンレス鋼に限らず、アルミニウム(Al)等の他の金属材料を用いてもよい。
支持基板530の厚みは、例えば10μm以上30μm以下であり、12μm以上25μm以下であることが好ましい。ベース絶縁層540の材料は、ポリイミドに限らず、エポキシ等の他の樹脂材料を用いてもよい。ベース絶縁層540の厚みは、例えば1μm以上30μm以下であり、3μm以上20μm以下であることが好ましい。
次に、図16に示すように、ベース絶縁層540を例えばエッチングすることにより、サスペンション基板100用のベース絶縁層170を形成するとともに、検査用基板200用のベース絶縁層220を形成する。同時に、図3の交差領域113,114において、ベース絶縁層170の部分に貫通孔171,172を形成する。また、ベース絶縁層220に開口221および貫通孔222を形成する。貫通孔171,172の最小の直径は例えば10μm以上200μm以下であり、20μm以上100μm以下であることが好ましい。
続いて、図17に示すように、電解めっき等によりベース絶縁層170上に銅からなる図2の書込用配線パターン120,130、読取用配線パターン140,150および電極パッド161~168を形成する。また、ベース絶縁層220上に銅からなる導体層230を形成する。図17においては、書込用配線パターン120のうち線路123,125および接続部126,127の部分ならびに書込用配線パターン130のうち線路135の部分のみが図示されている。
貫通孔171内の接続部126の部分がビア128となり、貫通孔172内の接続部127の部分がビア129となる。また、貫通孔222内の導体層230の部分がビア231となる。書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150ならびに導体層230は、アディティブ法を用いて形成してもよく、セミアディティブ法を用いて形成してもよく、またはサブトラクティブ法等の他の方法を用いて形成してもよい。
書込用配線パターン120,130、読取用配線パターン140,150、電極パッド161~168および導体層230の材料は、銅に限らず、金(Au)もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150の厚みは、例えば3μm以上25μm以下であり、4μm以上20μm以下であることが好ましい。書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150の幅は、例えば6μm以上200μm以下であり、8μm以上150μm以下であることが好ましい。
その後、図18に示すように、書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150を覆うように、ベース絶縁層170上にポリイミドからなるカバー絶縁層180を形成する。同時に、導体層230のビア231を覆うように、ベース絶縁層220上にポリイミドからなるカバー絶縁層240を形成する。カバー絶縁層180,240の材料は、ポリイミドに限定されず、エポキシ等の他の絶縁材料を用いてもよい。カバー絶縁層180,240の厚みは、例えば1μm以上30μm以下であり、3μm以上10μm以下であることが好ましい。
なお、導体層230のビア231の部分を除いて、導体層230の表面に例えば金(Au)からなるめっき層を形成してもよい。また、図2の電極パッド161~168の表面にめっき層と同様のめっき層を形成してもよい。
その後、支持基板530を例えばエッチングすることにより、支持基板530に図1の分離溝526を形成するとともに、図3の交差領域113,114において、図5(b)の環状の開口115を形成する。同時に、支持基板530に図2の開口111を形成する。また、長尺状の支持基板530を一定間隔で切断することにより個々の集合体シート500を分離する。
これにより、図19に示すように、サスペンション基板100用の支持基板110、検査用基板200用の支持基板210、図1の支持枠510および連結部520が形成される。また、支持基板110に環状の開口115が形成されるとともに、支持基板110に他の領域から分離された領域116が形成される。領域116の面積は、例えば1800μm2以上180000μm2以下であり、3200μm2以上80000μm2以下であることが好ましい。
以上の工程により、複数のサスペンション基板100、複数の検査用基板200および支持枠510を含む集合体シート500が完成する。サスペンション基板100の完成後、図9~図14のビア231の導通検査を行う。また、電極パッド161,165間、電極パッド162,166間、電極パッド163,167間および電極パッド164,168間の導通検査を行う。
電極パッド161,165間の導通検査は、図9~図14の導通試験器1の測定プローブ21,31を電極パッド161に接触させるとともに、測定プローブ22,32を電極パッド165に接触させることにより行われる。電極パッド162,166間、電極パッド163,167間および電極パッド164,168間の導通検査についても同様である。
以上の導通検査の結果、ビア231、書込用配線パターン120,130および読取用配線パターン140,150が正常であると判定された場合、サスペンション基板100は正常であると判定される。全部のサスペンション基板100が正常であると判定された場合、複数の連結部520が切断されることにより、支持枠510から各サスペンション基板100が分離される。一方、1個でもサスペンション基板100が異常であると判定された場合、そのサスペンション基板100を含む集合体シート500は廃棄される。
(8)導通試験器の他の例
上記の集合体シート500の製造工程においては、図8の導通試験器1を用いて電極パッド161~164,165~168間の導通検査が行われるが、実施の形態はこれに限定されない。電極パッド161~168の面積が比較的大きい場合には、導通試験器1とは異なる導通試験器を用いて電極パッド161~164,165~168間の導通検査が行われてもよい。
上記の集合体シート500の製造工程においては、図8の導通試験器1を用いて電極パッド161~164,165~168間の導通検査が行われるが、実施の形態はこれに限定されない。電極パッド161~168の面積が比較的大きい場合には、導通試験器1とは異なる導通試験器を用いて電極パッド161~164,165~168間の導通検査が行われてもよい。
図20は、他の例における導通試験器の構成を示す模式図である。図20に示すように、導通試験器2は、電源40、電流測定部50、電圧測定部60および測定プローブ51,52,61,62を含む。測定プローブ51,52,61,62の各々は、導通試験器1の測定プローブ21,22,31,32とは異なり、複数の接触子に分岐しない。
本例では、電源40は交流電源であるが、直流電源であってもよい。電源40の一方の端子は、電流測定部50を介して測定プローブ51に接続される。電源40の他方の端子は、測定プローブ52に接続される。電圧測定部60の一方の端子は、測定プローブ61に接続される。電圧測定部60の他方の端子は、測定プローブ62に接続される。
電極パッド161,165間の導通検査においては、測定プローブ51,61が電極パッド161に接触され、測定プローブ52,62が電極パッド162に接触される。この状態で、測定プローブ51,52を介して電源40からサスペンション基板100に電流が流れる。これにより、導通試験器1と同様に、接触抵抗の影響をほとんど受けることなく、電極パッド161,165間の抵抗の値を測定することができる。電極パッド162~164,166~168間の導通検査においても同様である。
(9)治具
導通試験器1および複数の導通試験器2を保持する治具を用いて、所定個数ずつのサスペンション基板100についての導通検査が一括的に行われてもよい。図21は、治具の一例を示す模式的上面図である。図22は、図21の治具300の部分拡大断面図である。以下、図21および図22の治具300を用いて、3個ずつのサスペンション基板100についての導通検査を一括的に行う例を説明する。
導通試験器1および複数の導通試験器2を保持する治具を用いて、所定個数ずつのサスペンション基板100についての導通検査が一括的に行われてもよい。図21は、治具の一例を示す模式的上面図である。図22は、図21の治具300の部分拡大断面図である。以下、図21および図22の治具300を用いて、3個ずつのサスペンション基板100についての導通検査を一括的に行う例を説明する。
図21および図22に示すように、治具300は、積層されたプレート310,320,330を含む。図21では、プレート310のみが図示されている。プレート320はプレート310とプレート330との間に配置される。プレート310,320,330の各々は矩形状を有する。治具300において、プレート310,320,330の一対の辺が延びる方向をx方向と定義し、他の一対の辺が延びる方向をy方向と定義する。プレート310は、図示しないアクチュエータにより、プレート320,330に対して昇降可能である。
図21に示すように、プレート310は、導通試験器1(図8)の測定プローブ21,22,31,32を保持するとともに、複数の導通試験器2(図20)の測定プローブ51,52,61,62を保持する。本例では、測定プローブ21の接触子21a,21b、測定プローブ31の接触子31a,31bおよび測定プローブ22,32がプレート310に保持される。接触子21a,21b,31a,31bおよび測定プローブ22,32は、治具300のx方向における中央部分付近に位置する。
また、1個のサスペンション基板100につき、電極パッド161~164,165~168間を一括的に導通検査するために4個の測定プローブ51,52,61,62を要する。したがって、3個のサスペンション基板100についての導通検査を一括的に行う場合、測定プローブ51,52,61,62が12個ずつプレート310に保持される。以下の説明では、プレート310に保持された測定プローブ21,31の接触子21a,21b,31a,31bおよび測定プローブ22,32,51,52,61,62の各々を単にプローブと呼ぶ。
図22に示すように、プレート320には、複数のプローブにそれぞれ対応する複数の貫通孔321が形成される。また、プレート330には、複数のプローブにそれぞれ対応する複数の貫通孔331が形成される。図22では、測定プローブ51に対応する貫通孔321,331のみが図示されている。プレート310に保持された各プローブは、対応する貫通孔321,331に挿通される。各プローブの先端は、プレート330から突出する。
治具300は、x方向およびy方向が図1の集合体シート500のX方向およびY方向を向く状態で、集合体シート500の上方に配置される。導通検査時には、検査対象である所定個数(本例では3個)のサスペンション基板100と重なるように治具300が移動される。このとき、治具300のx方向における中央部分が、上記の所定個数のサスペンション基板100を含む領域のX方向における中央部分と重なるように、治具300が位置合わせされる。
この状態で、プレート310が昇降することにより、各プローブが対応する支持基板210、導体層230または電極パッド161~168に接触する。また、上記の治具300の位置合わせによれば、集合体シート500の支持枠510が撓む場合でも、測定プローブ21の接触子21a,21bおよび測定プローブ31の接触子31a,31bを導体層230により確実に接触させることができる。
その後、導通試験器1の電源10および複数の導通試験器2の電源40が予め定められた順番で一定時間ずつオンにされる。これにより、サスペンション基板100または検査用基板200における所定の部分の間の抵抗の値が測定される。その結果、所定個数のサスペンション基板100についての導通検査が一括的に行われる。電源10および複数の電源40がオンされる順番は限定されない。
所定個数のサスペンション基板100についての導通検査の終了後、プレート310が昇降することにより、各プローブが対応する支持基板210、導体層230または電極パッド161~168から離間する。その後、次の所定個数のサスペンション基板100と重なるように治具300が移動され、同様の導通検査が行われる。
集合体シート500における全部のサスペンション基板100についての導通検査が終了するまで、上記の動作が繰り返される。なお、導通検査において、いずれか1個でもサスペンション基板100が異常であると判定された場合、そのサスペンション基板100を含む集合体シート500についての導通検査は打ち切られてもよい。
(10)効果
本実施の形態に係るサスペンション基板100の導通検査方法においては、測定プローブ21が複数の接触子21a,21b,21c,・・・に分岐する。この構成によれば、測定プローブ21を導体層230に接触させる際に、測定プローブ21に位置ずれが発生した場合、または接触子21a,21b,21c,・・・の一部が破損した場合でも、接触子21a,21b,21c,・・・の少なくとも1個を導体層230に容易に接触させることができる。
本実施の形態に係るサスペンション基板100の導通検査方法においては、測定プローブ21が複数の接触子21a,21b,21c,・・・に分岐する。この構成によれば、測定プローブ21を導体層230に接触させる際に、測定プローブ21に位置ずれが発生した場合、または接触子21a,21b,21c,・・・の一部が破損した場合でも、接触子21a,21b,21c,・・・の少なくとも1個を導体層230に容易に接触させることができる。
このサスペンション基板100の導通検査方法によれば、測定プローブ21が導体層230に適切に接触していないことに起因してサスペンション基板100が不良であると判定されることが減少する。その結果、サスペンション基板100の導通検査の精度を向上させることができる。
特に、導体層230において測定プローブ21が接触可能な領域の面積が小さい場合には、測定プローブ21を導体層230に接触させることは困難になる。この場合でも、測定プローブ21は複数の接触子21a,21b,21c,・・・に分岐するので、接触子21a,21b,21c,・・・の少なくとも1個が導体層230に接触する確率が向上する。これにより、サスペンション基板100の導通検査の精度を向上させることができる。
一方で、測定プローブ22が複数の接触子22a,22b,22c,・・・に分岐してもよい。この構成によれば、測定プローブ22を支持基板210に接触させる際に、測定プローブ22に位置ずれが発生した場合、または接触子22a,22b,22c,・・・の一部が破損した場合でも、サスペンション基板100が不良であると判定されることが減少する。
また、測定プローブ31が導体層230にさらに接触され、測定プローブ32が支持基板210にさらに接触されてもよい。この場合、接触抵抗の影響を受けることなく、導体層230と支持基板210との間の抵抗の値を測定することが可能である。これにより、サスペンション基板100の導通検査の精度をより向上させることができる。
ここで、測定プローブ31が複数の接触子31a,31b,31c,・・・に分岐してもよい。この構成によれば、測定プローブ31を導体層230に接触させる際に、測定プローブ31に位置ずれが発生した場合、または接触子31a,31b,31c,・・・の一部が破損した場合でも、サスペンション基板100が不良であると判定されることが減少する。
あるいは、測定プローブ32が複数の接触子32a,32b,32c,・・・に分岐してもよい。この構成によれば、測定プローブ32を支持基板210に接触させる際に、測定プローブ32に位置ずれが発生した場合、または接触子32a,32b,32c,・・・の一部が破損した場合でも、サスペンション基板100が不良であると判定されることが減少する。
測定プローブ21が2個の接触子21a,21bを含み、測定プローブ31が2個の接触子31a,31bを含んでもよい。この場合、接触子21a,21b,31a,31bは、接触子21aと接触子21bとが対角に位置し、接触子31aと接触子31bとが対角に位置する2行2列状に配置されることが好ましい。
あるいは、測定プローブ21が3個以上の接触子21a,21b,21c,・・・を含み、測定プローブ31が3個以上の接触子31a,31b,31c,・・・を含んでもよい。この場合、接触子21a,21b,21c,・・・と、接触子31a,31b,31c,・・・とは、交互にかつ千鳥状に配置されることが好ましい。
これらの配置によれば、測定プローブ21および測定プローブ31に全体的な位置ずれが発生した場合でも、接触子21a,21b,21c,・・・の少なくとも1個と、接触子31a,31b,31c,・・・の少なくとも1個の接触子とをより確実に導体層230に接触させることができる。これにより、サスペンション基板100の導通検査の精度を向上させることができる。
同様に、測定プローブ22が2個の接触子22a,22bを含み、測定プローブ32が2個の接触子32a,32bを含んでもよい。この場合、接触子22a,22b,32a,32bは、接触子22aと接触子22bとが対角に位置し、接触子32aと接触子32bとが対角に位置する2行2列状に配置されることが好ましい。
あるいは、測定プローブ22が3個以上の接触子22a,22b,22c,・・・を含み、測定プローブ32が3個以上の接触子32a,32b,32c,・・・を含んでもよい。この場合、接触子22a,22b,22c,・・・と、接触子32a,32b,32c,・・・とは、交互にかつ千鳥状に配置されることが好ましい。
これらの配置によれば、測定プローブ22および測定プローブ32に全体的な位置ずれが発生した場合でも、接触子22a,22b,22c,・・・の少なくとも1個と、接触子32a,32b,32c,・・・の少なくとも1個の接触子とをより確実に支持基板210に接触させることができる。これにより、サスペンション基板100の導通検査の精度を向上させることができる。
(11)他の実施の形態
(a)上記実施の形態において、導通試験器1は4個の測定プローブ21,22,31,32を含むが、実施の形態はこれに限定されない。以下、他の実施の形態における導通試験器1について、図8の導通試験器1と異なる点を説明する。図23は、他の実施の形態における導通試験器1の一例を示す図である。図23の上段には、導通試験器1の模式図が示される。図23の下段には、上段の導通試験器1の測定プローブ11,12(後述)の配置例が示される。後述する図24および図25においても同様である。
(a)上記実施の形態において、導通試験器1は4個の測定プローブ21,22,31,32を含むが、実施の形態はこれに限定されない。以下、他の実施の形態における導通試験器1について、図8の導通試験器1と異なる点を説明する。図23は、他の実施の形態における導通試験器1の一例を示す図である。図23の上段には、導通試験器1の模式図が示される。図23の下段には、上段の導通試験器1の測定プローブ11,12(後述)の配置例が示される。後述する図24および図25においても同様である。
図23に示すように、本例においては、導通試験器1は、4個の測定プローブ21,22,31,32に代えて、2個の測定プローブ11,12を含む。電源10の一方の端子は、電流測定部20を介して測定プローブ11に接続される。電源10の他方の端子は、測定プローブ12に接続される。電圧測定部30は、直列接続された電源10と電流測定部20とに対して並列に接続される。測定プローブ11は、同一のノード11Nから分岐した2個の接触子11a,11bを含む。
測定プローブ11が導体層230の露出部分に接触され、測定プローブ12が支持基板210の露出部分に接触される。ここで、導体層230の露出部分の面積が小さい場合には、測定プローブ11を導体層230に接触させることは困難になる。この場合でも、測定プローブ11は接触子11a,11bに分岐するので、接触子11a,11bの少なくとも一方が導体層230に接触する確率が向上する。
図23の例では、測定プローブ12は複数の接触子に分岐しないが、実施の形態はこれに限定されない。図24は、他の実施の形態における導通試験器1の他の例を示す図である。図24に示すように、本例においては、測定プローブ11と同様に、測定プローブ12も同一のノード12Nから分岐した2個の接触子12a,12bを含む。この構成によれば、支持基板210の露出部分の面積が小さい場合でも、接触子12a,12bの少なくとも一方が導体層230に接触する確率が向上する。
図25は、他の実施の形態における導通試験器1のさらに他の例を示す図である。図25に示すように、本例においては、測定プローブ11は3個に分岐した接触子11a~11cを含む。測定プローブ12は、4個に分岐した接触子12a~12dを含む。
図23~図25の測定プローブ11,12が導体層230および支持基板210にそれぞれ接触することにより、測定プローブ11,12にそれぞれ接触抵抗r5,r6が発生する。この状態で、測定プローブ11,12を介して電源10から検査用基板200に電流が流れる。次に、電流測定部20により検査用基板200に流れる電流の値が測定される。また、電圧測定部30により測定プローブ11,12間の電圧の値が測定される。
電流測定部20および電圧測定部30によりそれぞれ測定された電流および電圧に基づいて、測定プローブ11,12間の抵抗の値が算出される。測定プローブ11,12間の抵抗の値には、接触抵抗r5,r6の値が含まれる。しかしながら、接触抵抗r5,r6の値が比較的小さい場合には、測定された抵抗の値と、予め設定されたしきい値とを比較することにより、ビア231の良否を判定することができる。
(b)導通試験器2は4個の測定プローブ51,52,61,62を含むが、実施の形態はこれに限定されない。電極パッド161,165間または電極パッド162,166間と異なり、電極パッド163,167間または電極パッド164,168間を接続する線路は複数に分岐しない。したがって、電極パッド163,167間または電極パッド164,168間の抵抗の値の測定には、電極パッド161,165間または電極パッド162,166間の抵抗の値の測定ほどの精度は要求されない。
そのため、電極パッド163,167間または電極パッド164,168間の導通検査を行う場合には、導通試験器2は4個の測定プローブ51,52,61,62を含まなくてもよい。以下、他の実施の形態における導通試験器2について、図20の導通試験器1と異なる点を説明する。図26は、他の実施の形態における導通試験器2の一例を示す図である。
図26に示すように、本例においては、導通試験器2は、4個の測定プローブ51,52,61,62に代えて、2個の測定プローブ41,42を含む。電源40の一方の端子は、電流測定部50を介して測定プローブ41に接続される。電源40の他方の端子は、測定プローブ42に接続される。電圧測定部60は、直列接続された電源40と電流測定部50とに対して並列に接続される。
電極パッド163,167間の導通検査においては、測定プローブ41が電極パッド163に接触され、測定プローブ42が電極パッド167に接触される。この状態で、測定プローブ41,42を介して電源40からサスペンション基板100に電流が流れる。これにより、測定プローブ41,42間の抵抗の値が算出される。電極パッド164,168間の導通検査においても同様である。
(c)上記実施の形態において、複数の検査用基板200が複数のサスペンション基板100にそれぞれ一対一で対応するように集合体シート500に設けられるが、実施の形態はこれに限定されない。所定個数のサスペンション基板100に1個の検査用基板200が対応するように、複数の検査用基板200が集合体シート500に設けられてもよい。
一方、1個のサスペンション基板100に所定個数の検査用基板200が対応するように、複数の検査用基板200が集合体シート500に設けられてもよい。この場合、所定個数の検査用基板200におけるビア231の寸法は、互いに異なってもよい。
また、図21の治具300を用いた場合、所定個数のサスペンション基板100に対応する1個の検査用基板200のビア231の導通検査が行われる。そして、1個のビア231の検査結果が所定個数のサスペンション基板100のビア128,129の検査結果として援用される。しかしながら、実施の形態はこれに限定されない。治具300を用いた場合でも、所定個数のサスペンション基板100にそれぞれ対応する検査用基板200のビア231の導通検査が行われてもよい。この場合、より高精度の各サスペンション基板100のビア128,129についての検査結果を得ることができる。
(12)実施例
以下の実施例1~3では、測定プローブ21が3個の接触子21a~21cに分岐し、測定プローブ31が3個の接触子31a~31cに分岐する導通試験器1を準備した。測定プローブ22,32は複数の接触子に分岐しない。また、参考例1では、図20の導通試験器2を準備した。これらの導通試験器1,2を用いて、直径30μm、40μmおよび60μmのビア231を有する検査用基板200の各々に導通検査を行った。
以下の実施例1~3では、測定プローブ21が3個の接触子21a~21cに分岐し、測定プローブ31が3個の接触子31a~31cに分岐する導通試験器1を準備した。測定プローブ22,32は複数の接触子に分岐しない。また、参考例1では、図20の導通試験器2を準備した。これらの導通試験器1,2を用いて、直径30μm、40μmおよび60μmのビア231を有する検査用基板200の各々に導通検査を行った。
図27および図28は、実施例1~3および参考例1における測定プローブ21,22,31,32,51,52,61,62の配置を示す図である。図27に示すように、実施例1においては、6個の接触子21a~21c,31a~31cの全部を導体層230に接触させ、測定プローブ22,32を支持基板210に接触させた。実施例2においては、6個の接触子21a~21c,31a~31cのうち、4個の接触子21a,21c,31a,31bのみを導体層230に接触させ、測定プローブ22,32を支持基板210に接触させた。
図28に示すように、実施例3においては、6個の接触子21a~21c,31a~31cのうち、2個の接触子21a,31bのみを導体層230に接触させ、測定プローブ22,32を支持基板210に接触させた。参考例1においては、測定プローブ51,61を導体層230に接触させ、測定プローブ52,62を支持基板210に接触させた。
図29は、実施例1~3および参考例1における導通検査の検査結果を示す図である。図29に示すように、ビア231の直径が同じである場合、測定された抵抗の値は実施例1~3および参考例1の間で略等しかった。すなわち、3個の接触子21a~21cのうちの少なくとも1個と、接触子31a~31cのうちの少なくとも1個とが導体層230に接触する限り、略正確な抵抗の値を測定可能であることが確認された。したがって、接触子21a~21c,31a~31cの接触数とは無関係に、予め定められたしきい値を準備することにより、ビア231が正常であるか否かを判定可能であることが確認された。
以下の実施例4では、実施例1~3の導通試験器1と同じ導通試験器1を用いて、集合体シート500の不良判定の割合を評価した。同様に、参考例2では、参考例1の導通試験器2と同じ導通試験器2を用いて、集合体シート500の不良判定の割合を評価した。
図30は、実施例4および参考例2における不良判定の割合を示す図である。図30の縦軸は、集合体シート500の数を示す。図30の横軸は、集合体シート500の製造ロット番号を示す。また、ハッチングパターンが付された棒グラフは、集合体シート500の検査数を示し、ドットパターンが付された棒グラフは不良であると判定された集合体シート500の数を示す。
図30に示すように、実施例4においては、不良であると判定された集合体シート500は存在しなかった。したがって、接触子21a~21c,31a~31cのうち、何個の接触子が導体層230に接触していたかは不明であるが、接触子21a~21cのうちの少なくとも1個と、接触子31a~31cのうちの少なくとも1個とが導体層230に接触していたと推定される。
一方、参考例2においては、半数近くの集合体シート500が不良であると判定された。この点に関し、実施例4における不良の判定割合が0であったことから、参考例2において、不良と判定された集合体シート500については、実際に不良が発生していたのではなく、位置ずれにより測定プローブ51,61が導体層230に接触していなかった可能性が高い。このように、集合体シート500が不良であると判定される原因の多くは、断線等ではなく、測定プローブの接触位置ずれであると推定される。
(13)請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
電極パッド161~164と電極パッド165~168との一方、または支持基板210と導体層230との一方が第1の端子部の例である。電極パッド161~164と電極パッド165~168との他方、または支持基板210と導体層230との他方が第2の端子部の例である。
サスペンション基板100が配線回路基板の例であり、支持基板110または支持基板210が金属支持基板の例であり、ベース絶縁層170またはベース絶縁層220が絶縁層の例である。書込用配線パターン120,130、読取用配線パターン140,150または導体層230が導体層の例であり、ビア128,129またはビア231がビアの例である。
測定プローブ11,12の一方または測定プローブ21,22の一方が第1の測定プローブの例である。測定プローブ11,12の他方または測定プローブ21,22の他方が第2の測定プローブの例である。測定プローブ31,32の一方が第3の測定プローブの例である。測定プローブ31,32の他方が第4の測定プローブの例である。
接触子11a~11cと接触子12a~12dとの一方、または接触子21a~21eと接触子22a~22eとの一方が第1の測定プローブの複数の接触子の例である。接触子11a~11cと接触子12a~12dとの他方、または接触子21a~21eと接触子22a~22eとの他方が第2の測定プローブの複数の接触子の例である。接触子31a~31dと接触子32a~32dとの一方が第2の測定プローブの複数の接触子の例である。
接触子21aまたは接触子22aが第1の接触子の例である。接触子21bまたは接触子22bが第2の接触子の例である。接触子31aまたは接触子32aが第3の接触子の例である。接触子31bまたは接触子32bが第4の接触子の例である。
(14)実施の形態の総括
(第1項)第1項に係る配線回路基板の導通検査方法は、
第1の端子部および第2の端子部を有する配線回路基板の導通検査方法であって、
複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、
第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとを含む。
第1の端子部および第2の端子部を有する配線回路基板の導通検査方法であって、
複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、
第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとを含む。
この配線回路基板の導通検査方法によれば、第1の測定プローブを第1の端子部に接触させる際に、第1の測定プローブに位置ずれが発生した場合、または一部の接触子の破損が発生した場合でも、少なくとも1個の接触子を第1の端子部に容易に接触させることができる。これにより、第1の測定プローブが第1の端子部に適切に接触していないことに起因して配線回路基板が不良であると判定されることが減少する。その結果、配線回路基板の導通検査の精度を向上させることができる。
(第2項)第1項に記載の配線回路基板の導通検査方法において、
前記第1の端子部は、前記第1の測定プローブが接触可能な第1の領域を有し、
前記第2の端子部は、前記第2の測定プローブが接触可能な第2の領域を有し、
前記第1の領域の面積は前記第2の領域の面積よりも小さくてもよい。
前記第1の端子部は、前記第1の測定プローブが接触可能な第1の領域を有し、
前記第2の端子部は、前記第2の測定プローブが接触可能な第2の領域を有し、
前記第1の領域の面積は前記第2の領域の面積よりも小さくてもよい。
第1の端子部において第1の測定プローブが接触可能な領域の面積が小さい場合には、第1の測定プローブを第1の端子部に接触させることは困難になる。この場合でも、第1の測定プローブは複数の接触子に分岐するので、少なくとも1個の接触子が第1の端子部に接触する確率が向上する。これにより、配線回路基板の導通検査の精度を向上させることができる。
(第3項)第1項または第2項に記載の配線回路基板の導通検査方法において、
前記第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることは、複数の接触子に分岐した前記第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることを含んでもよい。
前記第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることは、複数の接触子に分岐した前記第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることを含んでもよい。
この方法によれば、第2の測定プローブを第2の端子部に接触させる際に、第2の測定プローブに位置ずれが発生した場合、または一部の接触子の破損が発生した場合でも、少なくとも1個の接触子を第2の端子部に容易に接触させることができる。これにより、第2の測定プローブが第2の端子部に適切に接触していないことに起因して配線回路基板が不良であると判定されることが減少する。その結果、配線回路基板の導通検査の精度をより向上させることができる。
(第4項)第1項~第3項のいずれか一項に記載の配線回路基板の導通検査方法において、
前記配線回路基板は、積層された金属支持基板、絶縁層および導体層を有し、
前記導体層と前記金属支持基板とはビアを介して電気的に接続され、
前記第1の端子部は前記導体層および前記金属支持基板の一方に形成され、
前記第2の端子部は前記導体層および前記金属支持基板の他方に形成されてもよい。
前記配線回路基板は、積層された金属支持基板、絶縁層および導体層を有し、
前記導体層と前記金属支持基板とはビアを介して電気的に接続され、
前記第1の端子部は前記導体層および前記金属支持基板の一方に形成され、
前記第2の端子部は前記導体層および前記金属支持基板の他方に形成されてもよい。
この場合、ビアを介して電気的に接続された第1の端子部と第2の端子部との間の導通検査を行うことができる。
(第5項)第1項~第4項のいずれか一項に記載の配線回路基板の導通検査方法は、
第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、
第4の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとをさらに含んでもよい。
第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、
第4の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとをさらに含んでもよい。
この場合、配線回路基板の導通検査の精度をより向上させることができる。
(第6項)第5項に記載の配線回路基板の導通検査方法において、
前記第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることは、複数の接触子に分岐した前記第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることを含んでもよい。
前記第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることは、複数の接触子に分岐した前記第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることを含んでもよい。
この方法によれば、第3の測定プローブを第1の端子部に接触させる際に、第3の測定プローブに位置ずれが発生した場合、または一部の接触子の破損が発生した場合でも、少なくとも1個の接触子を第3の端子部に容易に接触させることができる。これにより、第3の測定プローブが第1の端子部に適切に接触していないことに起因して配線回路基板が不良であると判定されることが減少する。その結果、配線回路基板の導通検査の精度をより向上させることができる。
(第7項)第6項に記載の配線回路基板の導通検査方法において、
前記第1の測定プローブの複数の接触子と、前記第3の測定プローブの複数の接触子とは、交互にかつ千鳥状に配置されてもよい。
前記第1の測定プローブの複数の接触子と、前記第3の測定プローブの複数の接触子とは、交互にかつ千鳥状に配置されてもよい。
この方法によれば、第1の測定プローブおよび第3の測定プローブに全体的な位置ずれが発生した場合でも、第1の測定プローブの少なくとも1個の接触子と、第3の測定プローブの少なくとも1個の接触子とをより確実に第1の端子部に接触させることができる。これにより、配線回路基板の導通検査の精度を向上させることができる。
(第8項)第7項に記載の配線回路基板の導通検査方法において、
前記第1の測定プローブの複数の接触子は、第1の接触子および第2の接触子を含み、
前記第3の測定プローブの複数の接触子は、第3の接触子および第4の接触子を含み、
前記第1の接触子、前記第2の接触子、前記第3の接触子および前記第4の接触子は、前記第1の接触子と前記第2の接触子とが対角に位置し、前記第3の接触子と前記第4の接触子とが対角に位置する2行2列状に配置されてもよい。
前記第1の測定プローブの複数の接触子は、第1の接触子および第2の接触子を含み、
前記第3の測定プローブの複数の接触子は、第3の接触子および第4の接触子を含み、
前記第1の接触子、前記第2の接触子、前記第3の接触子および前記第4の接触子は、前記第1の接触子と前記第2の接触子とが対角に位置し、前記第3の接触子と前記第4の接触子とが対角に位置する2行2列状に配置されてもよい。
この方法によれば、第1の測定プローブおよび第3の測定プローブに全体的な位置ずれが発生した場合でも、第1の接触子および第2の接触子の少なくとも一方と、第3の接触子および第4の接触子の少なくとも一方とをより確実に第1の端子部に接触させることができる。これにより、配線回路基板の導通検査の精度を向上させることができる。
(第9項)第9項に係る配線回路基板の製造方法は、
第1の端子部および第2の端子部を形成することと、
複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを形成された前記第1の端子部に接触させることと、
第2の測定プローブを形成された前記第2の端子部に接触させることとを含む。
第1の端子部および第2の端子部を形成することと、
複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを形成された前記第1の端子部に接触させることと、
第2の測定プローブを形成された前記第2の端子部に接触させることとを含む。
この配線回路基板の製造方法によれば、第1の端子部および第2の端子部が形成される。また、形成された第1の端子部と第2の端子部との間の導通検査が行われる。ここで、導通検査において、第1の測定プローブを第1の端子部に接触させる際に、第1の測定プローブに位置ずれが発生した場合、または一部の接触子の破損が発生した場合でも、少なくとも1個の接触子を第1の端子部に容易に接触させることができる。これにより、第1の測定プローブが第1の端子部に適切に接触していないことに起因して、配線回路基板が不良であると判定されることを減少させることができる。
1,2…導通試験器,10,40…電源,11,12,21,22,31,32,41,42,51,52,61,62…測定プローブ,11N,12N,21N,22N,31N,32N…ノード,20,50…電流測定部,11a~11c,12a~12d,21a~21e,22a~22e,31a~31d,32a~32d…接触子,30,60…電圧測定部,100…サスペンション基板,110,210,530…支持基板,111,115,221,241…開口,112…タング部,113,114…交差領域,116…領域,120,130…書込用配線パターン,121~125,131~135…線路,126,127…接続部,128,129,231…ビア,140,150…読取用配線パターン,161~168…電極パッド,170,220,540…ベース絶縁層,171,172,222,321,331…貫通孔,180,240…カバー絶縁層,200…検査用基板,230…導体層,300…治具,310,320,330…プレート,500…集合体シート,510…支持枠,511,512…側部枠,513~518…端部枠,520…連結部,521~525…矩形領域,526…分離溝,r1~r6…接触抵抗
Claims (9)
- 第1の端子部および第2の端子部を有する配線回路基板の導通検査方法であって、
複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、
第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとを含む、配線回路基板の導通検査方法。 - 前記第1の端子部は、前記第1の測定プローブが接触可能な第1の領域を有し、
前記第2の端子部は、前記第2の測定プローブが接触可能な第2の領域を有し、
前記第1の領域の面積は前記第2の領域の面積よりも小さい、請求項1記載の配線回路基板の導通検査方法。 - 前記第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることは、複数の接触子に分岐した前記第2の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることを含む、請求項1または2記載の配線回路基板の導通検査方法。
- 前記配線回路基板は、積層された金属支持基板、絶縁層および導体層を有し、
前記導体層と前記金属支持基板とはビアを介して電気的に接続され、
前記第1の端子部は前記導体層および前記金属支持基板の一方に形成され、
前記第2の端子部は前記導体層および前記金属支持基板の他方に形成される、請求項1または2記載の配線回路基板の導通検査方法。 - 第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることと、
第4の測定プローブを前記第2の端子部に接触させることとをさらに含む、請求項1または2記載の配線回路基板の導通検査方法。 - 前記第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることは、複数の接触子に分岐した前記第3の測定プローブを前記第1の端子部に接触させることを含む、請求項5記載の配線回路基板の導通検査方法。
- 前記第1の測定プローブの複数の接触子と、前記第3の測定プローブの複数の接触子とは、交互にかつ千鳥状に配置される、請求項6記載の配線回路基板の導通検査方法。
- 前記第1の測定プローブの複数の接触子は、第1の接触子および第2の接触子を含み、
前記第3の測定プローブの複数の接触子は、第3の接触子および第4の接触子を含み、
前記第1の接触子、前記第2の接触子、前記第3の接触子および前記第4の接触子は、前記第1の接触子と前記第2の接触子とが対角に位置し、前記第3の接触子と前記第4の接触子とが対角に位置する2行2列状に配置される、請求項7記載の配線回路基板の導通検査方法。 - 第1の端子部および第2の端子部を形成することと、
複数の接触子に分岐した第1の測定プローブを形成された前記第1の端子部に接触させることと、
第2の測定プローブを形成された前記第2の端子部に接触させることとを含む、配線回路基板の製造方法。
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