JP2023538465A

JP2023538465A - 封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法

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Publication number: JP2023538465A
Application number: JP2021547103A
Authority: JP
Inventors: 洋苗
Original assignee: 深▲セン▼市▲華▼星光▲電▼半▲導▼体▲顕▼示技▲術▼有限公司
Priority date: 2021-07-27
Filing date: 2021-08-03
Publication date: 2023-09-08
Also published as: CN113629210A; US20240065075A1; EP4380337A1; KR20230018290A; WO2023004839A1

Abstract

本願の実施例によれば、封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法が提供される。封止構造は、有機構造層を含む。本願の有機構造層では、無機材料の製造方法により、有機特性を有する材料が得られ、それにより、無機材料の水酸素遮断効果及び有機材料の緩衝性を有する有機構造材料が得られる。したがって、本願の封止構造によれば、良好な封止効果が得られるため、表示パネルの封止信頼性が向上する。【選択図】図１

Description

本願は、表示技術分野に関し、具体的には、封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法に関する。

有機発光ダイオード（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔ－ＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ，ＯＬＥＤ）ディスプレイは、バックライト源を必要とせずに自己発光特性を備えている。また、ＯＬＥＤディスプレイは、コントラストが高く、色域が広く、厚さが薄く、反応速度が速く、曲げパネルに使用できるなどの利点を有する。しかしながら、ＯＬＥＤ素子は水や酸素に対して敏感であるため、ＯＬＥＤディスプレイの有効適用を実現するためには、ＯＬＥＤを効果的に封止する必要がある。薄膜封止（Ｔｈｉｎ－ＦｉｌｍＥｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ，ＴＦＥ）は、一般的に使用される効果的な封止手段である。

従来技術に対する研究及び実践の過程において、本願の発明者らは、薄膜封止構造において、無機薄膜を堆積させてから、インクジェット印刷法により有機層を調製するのが一般的であることを見出した。このような封止構造は、製造プロセスにおいて基板を複数回移す必要がある。また、インクジェット印刷法では、有機層のオーバーフローが起こりやすいため、封止効果に影響を与えてしまう。

本願の実施例によれば、封止効果を改善することができる封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法が提供される。

本願の実施例によれば、有機構造層を含む封止構造であって、
前記有機構造層に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、
Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、
ｎは、１以上の正の整数であり、
ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である、
封止構造が提供される。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記有機構造層に用いられる材料は、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素のうちの一つ又は複数の組み合わせである無機材料をさらに含み、
前記有機構造層において、前記有機構造材料の含有量と前記無機材料の含有量との比は、０．０１～０．７５である。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記有機構造材料の含有量と前記無機材料の含有量との比は、０．０５～０．５である。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記有機構造層の厚さは、１μｍ～５μｍである。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記封止構造は、用いられる材料が窒化物、酸化物及び窒素酸化物のうちの一つ又は複数の組み合わせである少なくとも一つの無機層をさらに含む。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記無機層の厚さは、２０ｎｍ～１５００ｎｍである。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記封止構造は、二層の前記無機層を含み、
前記有機構造層は、二層の前記無機層の間に設けられる。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記封止構造は、三層の前記無機層と、二層の前記有機構造層とを含み、
三層の前記無機層と二層の前記有機構造層とは、交互に積層されて設けられる。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記封止構造は、三層の前記無機層と、単一の前記有機構造層と、単一の有機層とを含み、
前記無機層、前記有機構造層、前記無機層、前記有機層及び前記無機層は、順次積層されて設けられ、
前記有機層に用いられる材料は、紫外感光性ポリマー、エポキシ系ポリマー又はアクリル系ポリマーである。

これに応じて、本願の実施例によれば、アレイ基板と
前記アレイ基板に設けられる発光素子層と、
前記アレイ基板から離間する前記発光素子層の一方側に設けられ、有機構造層を含む封止構造であって、前記有機構造層に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、
Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である封止構造と、を含む、
表示パネルがさらに提供される。

これに応じて、本願の実施例によれば、アレイ基板を提供することと、
前記アレイ基板に発光素子層を設けることと、
前記発光素子層が設けられたアレイ基板をキャビティ内に移し、シランガス及び亜酸化窒素ガス、又はシランガス及びアンモニアガスである反応ガスをキャビティ内に導入することと、
反応プラズマが形成されるように前記反応ガスをイオン化することと、
前記反応プラズマにより化学反応を発生することで、有機構造層が形成されるように前記発光素子層上に堆積することと、を含み、
前記有機構造層に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、
Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である、
表示パネルの製造方法がさらに提供される。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記アレイ基板に発光素子層を設けた後に、前記アレイ基板から離間する前記発光素子層の一方側に無機層を堆積させることをさらに含む。

任意選択的に、本願のいくつかの実施例において、前記アレイ基板に発光素子層を設けた後に、前記アレイ基板から離間する前記無機層の一方側に有機層を堆積させることをさらに含む。

本願の実施例によれば、封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法が提供される。封止構造は、有機構造層を含む。有機構造層には、有機構造材料が含まれる。有機構造材料は、鎖状の化学結合を有する無機材料である。鎖状の化学結合を有するため、無機材料は、有機材料に関連する特性を有するものである。例えば、有機構造材料は、低い応力及び強いステップカバレッジを有する。本願の有機構造層では、無機材料の製造方法により、有機特性を有する材料が得られ、無機材料の水酸素遮断効果及び有機材料の緩衝性を有する有機構造材料が得られる。したがって、本願の封止構造によれば、良好な封止効果が得られるため、表示パネルの封止信頼性が向上する。

本願の実施例における技術的手段をより明確に説明するために、以下は、実施例の説明に使用する必要のある図面を簡単に紹介する。明らかに、以下の説明の図面は、本願のいくつかの実施例にすぎず、当業者にとっては、創造的な労力を払わずに、これらの図面に基づいて他の図面を得ることができる。

本願の実施例に係る封止構造の第１の構造を示す概略図である。本願の実施例に係る封止構造の第２の構造を示す概略図である。本願の実施例に係る封止構造の第３の構造を示す概略図である。本願の実施例に係る封止構造の第４の構造を示す概略図である。本願の実施例に係る表示パネルの第１の構造を示す概略図である。本願の実施例に係る表示パネルの第２の構造を示す概略図である。本願の実施例に係る表示パネルの製造方法を示す概略フローチャートである。

以下は、本願の実施例における図面を参照しながら、本願の実施例における技術的手段について明確かつ完全に説明する。明らかに、説明する実施例は、本願の一部の実施例にすぎず、全ての実施例ではない。本願の実施例に基づいて、当業者が創造的な労力を行わないことを前提に得られる他のすべての実施例は、いずれも本願の保護範囲に属する。なお、本明細書に記載される具体的な実施形態は、本願の説明及び解釈のみを目的としており、本願を限定するものではない。本願において、反対の説明がなされない場合、「上」と「下」などの使用される方位語とは、通常、実際に使用され、又は動作状態における装置の上と下、具体的には図面における図面方向を指し、「内」と「外」は、装置の輪郭に関するものである。

本願の実施例によれば、封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法が提供される。以下、それぞれ詳細に説明する。なお、以下の実施例の説明順序は、実施例の好適順序を限定するものではない。

図１を参照して、図１は、本願の実施例に係る封止構造の第１の構造を示す概略図である。本願によれば、封止構造１０が提供される。封止構造１０は、有機構造層１０１を含む。有機構造層１０１に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である。

本願に係る封止構造１０は、有機構造層１０１を含む。有機構造層１０１は、有機構造材料を含む。有機構造材料は、鎖状の化学結合を有する無機材料である。鎖状の化学結合を有するため、無機材料は、有機材料に関連する特性を有するものである。例えば、有機構造材料は、低い応力及び強いステップカバレッジ（Ｓｔｅｐ－ｃｏｖｅｒａｇｅ）を有する。本願の有機構造層１０１では、無機材料の製造方法により、有機特性を有する材料が得られる。有機構造層１０１は、有機封止材料の緩衝特性を有するだけではなく、無機封止材料の水酸素遮断効果も有する。したがって、本願の封止構造１０によれば、良好な封止効果が得られるため、表示パネルの封止信頼性が向上する。

ステップカバレッジとは、ステップに跨る箇所における膜厚と平坦箇所における膜厚との比の百分率を指す。材料のステップカバレッジが強いほど、材料の封止効果が良好になる。

ここで、有機構造層１０１の厚さは、１μｍ～５μｍである。具体的には、有機構造層１０１の厚さは、１μｍ、１．５μｍ、２μｍ、２．５μｍ、３μｍ、３．５μｍ、４μｍ、４．５μｍ又は５μｍであってもよい。上記数値は、例示にすぎず、有機構造層１０１の厚さは、１μｍ～５μｍにおける他の値であってもよい。有機構造層１０１の厚さは、封止のニーズに応じて設定される。

具体的には、有機構造材料において、Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び／又は
であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である。すなわち、Ｒ₁基及びＲ₂基におけるｘは、
、
及び
のいずれか一つから任意に選択することができる。Ｒ₂基は、
であってもよい。又は、有機構造材料におけるＲ₁基及びＲ₂基は、上記基のうちの二つ、三つ又は四つから選択することができる。

例えば、有機構造材料におけるＲ₁基が--ＳｉＨ₂--であり、Ｒ₂基が--ＮＨ--である場合、有機構造材料には、構造--ＳｉＨ₂-ＮＨ-ＳｉＨ₂-ＮＨ-ＳｉＨ₂-・・・・・・ＮＨ-ＳｉＨ₂-ＮＨ--が含まれる。また、例えば、有機構造材料におけるＲ₁基が--Ｓｉ--、--ＳｉＨ₂--であり、Ｒ₂基が--ＮＨ--である場合、有機構造材料には、構造--Ｓｉ-ＮＨ-ＳｉＨ₂-ＮＨ-・・・・・・-Ｓｉ-ＮＨ--が含まれてもよい。ここで、--Ｓｉ--の他の二つの結合位置は、
、
及び
のうちの一つ又は複数に接続され、ここでは当該化学結合を具体化する鎖状であり、他の基を完全には示していない。上記有機構造材料に含まれる鎖状構造は一例にすぎず、実際には、本願で説明する有機構造材料は、無機材料により鎖状構造を形成するだけでよく、具体的な配列方式は限定されない。

ここで、有機構造層に用いられる材料には、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素のうちの一つ又は複数の組み合わせである無機材料がさらに含まれる。有機構造層は、プラズマ強化化学気相堆積法により形成される。具体的には、反応ガスとしてシラン、アンモニアガス及び水を導入し、次にマイクロ波やＲＦなどにより、局所的にプラズマが形成されるように反応ガスをイオン化する。プラズマは、化学的に活性が高く、反応を発生しやすく、それから有機構造層が形成される。したがって、反応ガスを導入する際に、マイクロ波又はＲＦは、反応ガスの一部を
、
、
、
、
及び
にイオン化する。同時に、反応ガスの一部を
及び
に完全にイオン化する。上記基の一部は、鎖状の化学結合を有する有機構造材料を形成する。完全にイオン化された基の一部は、例えば、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素などの無機材料を形成する。

なお、有機構造材料のイオン化された後の結合は、不確定性を有するため、上記のｘ基に加えて、有機構造材料は、周囲の有機構造材料と架橋構造を互いに形成することも可能である。

ここで、具体的に形成される有機構造材料及び無機材料は、導入される反応ガスと関連している。例えば、シラン及びアンモニアガスが導入されるとき、形成される無機材料は、窒化ケイ素であり、形成される有機構造材料のＲ₁基は、
、
、
及び
のうちの一つ又は複数であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数である。無機材料である酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素並びに対応する有機構造材料の形成は、上記例と同様であり、ここでは説明を省略する。

ここで、有機構造層１０１において、有機構造材料の含有量と無機材料の含有量との比は、０．０１～０．７５である。さらに、有機構造材料の含有量と無機材料の含有量との比は、０．０５～０．５であってもよい。上述したように、有機構造材料及び無機材料は、マイクロ波又はＲＦにより異なるプラズマ基をイオン化してから化学反応を発生することで形成されるものである。異なるガス流量が導入される場合、イオン化によって発生するプラズマ基の種類や数も異なる。全体として、生成される有機構造材料と無機材料との比は、０．０１～０．７５である。すなわち、有機構造層において、有機構造材料の含有量は、無機材料の含有量の１％～７５％である。

具体的には、有機構造材料の含有量と無機材料の含有量との比は、０．０１、０．０２、０．０３、０．０４、０．０５、０．１、０．１５、０．２、０．２５、０．３、０．３５、０．４、０．４５、０．５、０．５５、０．６、０．６５、０.７又は０．７５である。上記数値は、例示にすぎず、有機構造材料と無機材料との比は、０．０１～０．７５における他の数値であってもよい。有機構造材料の含有量と無機材料の含有量との比は０．０１～０．７５であるため、有機構造層は、有機材料の特性及び優れた封止特性を有する。

封止構造１０は、封止するために一層の有機構造層１０１のみを設けることができる。一層の有機構造層１０１を封止構造１０とすることで、封止構造１０の厚さを少なくすることができる。有機構造層１０１をフレキシブル表示パネルの封止に用いる場合には、パネルの折り曲げ性を保証することができる。同時に、封止するために一層の薄膜構造しか有しないため、フレキシブル表示パネルの折り曲げ箇所における封止構造１０の厚さは小さく、折り曲げ半径を効果的に小さくすることができ、額縁を狭くするとともに、折り曲げ箇所における膜層の破裂を防止することができる。

次に、図１を参照して、封止構造１０は、少なくとも一つの無機層１０２をさらに含んでもよい。無機層１０２に用いられる材料は、窒化物、酸化物及び窒素酸化物のうちの一つ又は複数の組み合わせである。具体的には、窒化物は、窒化ケイ素であってもよい。酸化物は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム又は酸化亜鉛であってもよい。窒素酸化物は、酸窒化ケイ素であってもよい。封止構造１０に無機層１０２を設け、無機材料と有機特性を有する材料とを組み合わせて封止することにより、より良好な封止効果を得ることができる。無機層１０２は、水酸素を遮断するために用いられ、有機構造層１０１の有機特性を利用して、有機構造層１０１を有機層として水蒸気の侵入経路を延長する。同時に、有機構造層１０１は、良好なステップカバレッジを有し、封止を必要とする膜層を良好に被覆することができる。有機構造層１０１と無機層１０２とを組み合わせることで、封止構造１０の水酸素遮断能力を向上させることができ、ひいては表示パネルの寿命が向上する。

ここで、無機層１０２の厚さは、２０ｎｍ～１５００ｎｍである。具体的には、無機層１０２の厚さは、２０ｎｍ、３００ｎｍ、４００ｎｍ、５００ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍ、８００ｎｍ、９００ｎｍ、１０００ｎｍ、１１００ｎｍ、１２００ｎｍ、１３００ｎｍ、１４００ｎｍ又は１５００ｎｍであってもよい。無機層１０２の厚さは、封止のニーズに応じて適応的に設定することができる。例えば、有機構造層１０１を薄く設定する必要がある場合には、封止構造の封止効果が保障されるように無機層１０２の厚さを適宜厚くすることができる。

図１に示す封止構造１０において、封止構造１０は、二層の無機層１０２を含む。有機構造層１０１は、二層の無機層１０２の間に設けられる。有機構造層１０１を二層の無機層１０２の間に設けることで、無機層１０２は、壁のような作用を形成することができる。有機構造層１０１に水酸素を吸着させた後に、無機層１０２は、水酸素を取り囲む遮断空間が形成されるように有機構造層１０１内に水酸素を遮断することができ、ひいては水酸素の拡散侵入を回避することができる。このような封止構造１０により、水酸素遮断性能及び封止信頼性がさらに向上する。

他の実施例において、図２を参照して、図２は、本願の実施例に係る封止構造の第２の構造を示す概略図である。図２に示す封止構造１０は、一層の無機層１０２を含む。有機構造層１０１は、無機層１０２のいずれかの一方側に設けられてもよい。有機構造層１０１は、封止するために無機層１０２と組み合わせることにより、封止構造１０の水酸素遮断性を増強させることができる。

図３を参照して、図３は、本願の実施例に係る封止構造の第３の構造を示す概略図である。封止構造１０は、三層の無機層１０２と、二層の有機構造層１０１とを含む。三層の無機層１０２は、二層の有機構造層１０１と交互に積層されて設けられる。

有機構造層１０１と無機層１０２の膜層緻密度は、特に高いわけではないので、封止するために多層の有機構造層１０１と無機層１０２とを交互に設けることで、封止構造１０の緻密度を向上させることができ、水酸素の侵入をより良好に防止することができる。また、二層の有機構造層１０１を設けることで、水酸素の侵入経路を長くすることができる。同様に、無機層１０２は、有機構造層１０１内に水酸素を取り囲むことができる。したがって、五層の有機構造層１０１と無機層１０２とが交互に積層される構造を設けることで、封止効果をさらに向上させることができる。

図４を参照して、図４は、本願の実施例に係る封止構造の第４の構造を示す概略図である。封止構造１０は、三層の無機層１０２と、単一の有機構造層１０１と、単一の有機層１０３とを含む。無機層１０２、有機構造層１０１、無機層１０２、有機層１０３及び無機層１０２は順次積層されて設けられる。有機層１０３に用いられる材料は、紫外線感光性ポリマー、エポキシ系ポリマー又はアクリル系ポリマーである。

具体的には、有機層１０３に用いられる材料は、エポキシ樹脂、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリル酸エステル（ＰＥＡ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などの有機材料であってもよい。

有機層１０３は、有機材料からなる。有機構造層１０１と有機層１０３とを封止構造１０に組み合わせることで、水蒸気の侵入経路をより長くすることができ、水酸素を効果的に遮断することができる。また、有機層１０３の表面がより平坦になり、無機層１０２、有機層１０３の界面品質が向上し、膜層の脱落を効果的に防止することができる。

同様に、本願によれば、表示パネルがさらに提供される。図５を参照して、図５は、本願の実施例に係る表示パネルの第１の構造を示す概略図である。表示パネル１００は、アレイ基板２０と、発光素子層３０と、封止構造１０とを含む。発光素子層３０は、アレイ基板２０に設けられる。封止構造１０は、アレイ基板１０から離間する発光素子層３０の一方側に設けられる。封止構造１０は、上述した封止構造１０である。

具体的には、図６を参照して、図６は、本願の実施例に係る表示パネルの第２の構造を示す概略図である。ここで、アレイ基板２０は、基板２０１と薄膜トランジスタ層２０２とを含む。また、図５では、封止構造１０が無機層１０２、有機構造層１０１及び無機層１０２を含む積層構造を例として説明する。図５における各膜層の厚さや形状は、例示にすぎず、表示パネル１００の構造を制限するものではない。

ここで、基板２０１は、ガラス、センサガラス（ｓｅｎｓｏｒｇｌａｓｓ）又はフレキシブル基板であってもよい。薄膜トランジスタ層２０２の具体的な膜層及びその組立は、本分野で一般的に使用される技術的手段であり、ここでは説明を省略する。

本願に係る表示パネル１００には、有機構造層１０１を含む封止構造が用いられる。有機構造層１０１には、有機構造材料が含まれる。有機構造材料は、鎖状の化学結合を有する無機材料である。鎖状の化学結合を有するため、無機材料は、有機材料に関連する特性を有するものである。例えば、有機構造材料は、低い応力及び強いステップカバレッジを有する。本願の有機構造層１０１では、無機材料の製造方法により、有機特性を有する材料が得られる。有機構造層１０１により、有機封止材料の水酸素遮断効果を増強することができる。したがって、本願の封止構造１０によれば、表示パネル１００は、良好な封止効果を得ることができるため、表示パネルの封止信頼性が向上する。

なお、本願に係る封止構造１０の処理は、表示パネル１００の封止に加えて、他の電子部品のステップカバレッジの関連側面にも適用することができる。例えば、アンダーカット構造を有する電子部品において、アンダーカット構造によって発生するステップの被覆などの関連側面に適用することができる。

同様に、本願によれば、表示パネルの製造方法が提供される。図７を参照して、図７は、本願の実施例に係る表示パネルの製造方法を示す概略フローチャートである。表示パネルの製造方法は、具体的には以下のステップを含む。

ステップ１１において、アレイ基板を提供する。

ここで、アレイ基板は、基板と、基板に設けられる薄膜トランジスタ層とを含むことができる。基板は、ガラス、センサガラス又はフレキシブル基板であってもよい。ここで、センサガラスは、超薄ガラス上に透明な金属酸化物導電性薄膜めっき層をスパッタリングし、高温アニール処理することによって得られるものである。

ガラス、センサガラス又はフレキシブル基板を提供し、次に上記基板上に薄膜トランジスタ層を製造する。薄膜トランジスタ層の具体的な製造方法は、本分野で一般的に使用される技術的手段であり、ここでは説明を省略する。

ステップ１２において、アレイ基板に発光素子層を設ける。

ステップ１３において、発光素子層が設けられたアレイ基板をキャビティ内に移し、キャビティ内に反応ガスを導入する。

ここで、反応ガスは、シランガス（ＳｉＨ₄）及び亜酸化窒素ガス（Ｎ₂Ｏ）、又はシランガス及びアンモニアガス（ＮＨ₃）である。反応により有機構造材料を生成する必要があるため、導入される反応ガスの流量を増大させ、反応ガスを部分的にイオン化する。具体的には、通常の無機窒化ケイ素材料、酸化ケイ素材料、酸窒化ケイ素材料を生成するガス流量と比較して、有機構造材料を生成する際に、ガス流量を３～７倍に増大させる。反応ガスの流量を増大させることにより、一方では、反応ガスの部分的なイオン化を可能にし、他方では、成膜速度を増大させることができる。

ステップ１４において、反応プラズマが形成されるように反応ガスをイオン化する。

ここで、反応ガスのイオン化は、マイクロ波又はＲＦによりイオン化することができる。例えば、キャビティ内の気圧とＲＦの電力を調整し、ＲＦにより反応ガスをイオン化する。具体的には、気圧は８００ミリトレット（ｍＴｏｒｒ）から２０００ミリトットであってもよい。ＲＦ電力は１キロワット（ＫＷ）～２キロワットであってもよい。

ステップ１５において、反応プラズマにより化学反応を発生することで、有機構造層が形成されるように発光素子層上に堆積する。

ここで、有機構造層に用いられる材料は、
が含まれる有機構造材料を含み、Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である。

本願では、プラズマ強化化学気相堆積（ＰｌａｓｍａＥｎｈａｎｃｅｄＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＥＣＶＤ）法により有機構造層を製造し、調製温度が低く、発光素子層に影響を与えることがなく、発光素子層の発光効率を保証することができる。また、無機物を製造する方法により有機特性を有する材料を形成する場合、封止するために有機材料からなる膜層の代わりに有機構造層を用いることができる。インクジェット印刷法により有機物膜層を製造する必要がなく、インクジェット印刷時の材料オーバーフローの問題を回避することができる。また、ＰＥＣＶＤ法では、堆積速度が速く、成膜品質が良好であり、形成される封止構造はマイクロポアが少なく、亀裂が起こりにくく、良好な封止効果を保証することができる。

任意選択的に、アレイ基板に発光素子層を設けた後に、アレイ基板から離間する発光素子層の一方側に無機層を堆積させることをさらに含む。

ここで、無機層は、発光素子層に近接する有機構造層の一方側に設けられてもよく、発光素子層から離間する有機構造層の一方側に設けられてもよい。又は、無機層は、有機構造層の両側に同時に設けられてもよい。無機層は、一層設けられてもよく、多層設けられてもよい。

発光素子層に近接する有機構造層の一方側に無機層を設ける場合を例として説明すると、アレイ基板に発光素子層を設けた後に、発光素子層に化学気相堆積（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＣＶＤ）、原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃｌａｙｅｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＡＬＤ）又はプラズマ強化化学気相堆積法により無機層を設ける。例えば、無機層に窒化ケイ素材料が用いられる場合、発光素子層が設けられたアレイ基板をキャビティ内に移し、シランガス及びアンモニアガスを導入する。二つのガス状原料が導入されると、互いに化学反応を発生し、窒化ケイ素が形成され、発光素子層上に堆積する。無機層が形成される。ＰＥＣＶＤ法により製造される無機層は、調製速度が速く、無機層の膜層が緻密で密着性が良好である。

無機層を製造した後に、ＰＥＣＶＤ法により、同一キャビティ内で有機構造層の製造を継続する。これにより、無機層を製造した後に移す必要がなく、移し過程における膜層の破壊を回避し、さらに生産速度を速めることができる。

任意選択的に、有機構造層を製造した後に、引き続き同一キャビティ内でＰＥＣＶＤ法によりさらに一方側無機層を製造することができ、無機遮断、有機緩衝及び無機遮断の積層封止構造を形成することができる。

無機層がシランガス及びアンモニアガスにより窒化ケイ素材料が製造される場合、有機構造層は、シランガス及びアンモニアガスを導入し続けて製造することができる。無機層を製造するときの３倍から７倍までガス流量を大きくしてからイオン化すればよい。これにより、キャビティ内のガスが均一となり、他の不純物が発生することがなく、製造される封止構造は、純度が高く、欠陥が少なく、封止効果の向上により有利である。同様に、有機構造層を製造した後に、ガス流量を小さくしてから窒化ケイ素無機層を製造してもよい。以上、シランガス及びアンモニアガスを導入する例として説明したが、対応する他の材料による製造は、この例を参照することができる。なお、無機層及び有機構造層を製造する際に導入されるガスは完全に一致しなくてもよい。

任意選択的に、アレイ基板に発光素子層を設けた後に、アレイ基板から離間する無機層の一方側に有機層を堆積させることをさらに含む。

ここで、有機層は、発光素子層に近接する無機層の一方側に設けられてもよく、有機構造層と無機層との間に設けられてもよい。又は、有機層は、二層の無機層の間に設けられてもよい。有機層は、一層設けられてもよく、多層設けられてもよい。本願は、有機構造層、無機層及び有機層の位置を限定するものではない。

具体的には、インクジェット印刷法又は蒸着法により有機層を製造する。蒸着による成膜法は簡便で、膜層が薄く膜純度と緻密性が高い。インクジェット印刷法は、成膜領域を正確に制御することができ、材料を節約し、コストを削減し、製品収率を向上させることができる。

本願に係る表示パネルの製造方法では、ＣＶＤ法により無機層を製造し、ＰＥＣＶＤ法により有機構造層を製造する。無機層と有機材料特性を有する有機構造層とを同一キャビティ内で製造することができる。このような表示パネルの製造方法によれば、封止過程における基板の移しを低減させ、移し過程における封止構造や基材の破壊を回避し、表示パネルの製品収率を増大させることができる。

以上、本願の実施例に係る封止構造、表示パネル及び表示パネルの製造方法について詳細に紹介し、本明細書では、具体的な例を適用して本願の原理及び実施形態について詳述した。上記の実施例の説明は、本願の方法及びそのコア思想の理解を助けるためにのみ用いられるものである。同時に、当業者にとっては、本願の思想に基づき、具体的な実施形態及び適用範囲にいずれも変更箇所があることから、本明細書の内容は、本願の制限として理解すべきではない。

Claims

有機構造層を含む封止構造であって、
前記有機構造層に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、
Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、
ｎは、１以上の正の整数であり、
ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である、
封止構造。
前記有機構造層に用いられる材料は、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素のうちの一つ又は複数の組み合わせである無機材料をさらに含み、
前記有機構造層において、前記有機構造材料の含有量と前記無機材料の含有量との比は、０．０１～０．７５である、
請求項１に記載の封止構造。
前記有機構造材料の含有量と前記無機材料の含有量との比は、０．０５～０．５である、
請求項２に記載の封止構造。
前記有機構造層の厚さは、１μｍ～５μｍである、
請求項１に記載の封止構造。
前記封止構造は、用いられる材料が窒化物、酸化物及び窒素酸化物のうちの一つ又は複数の組み合わせである少なくとも一つの無機層をさらに含む、
請求項１に記載の封止構造。
前記無機層の厚さは、２０ｎｍ～１５００ｎｍである、
請求項５に記載の封止構造。
前記封止構造は、二層の前記無機層を含み、
前記有機構造層は、二層の前記無機層の間に設けられる、
請求項５に記載の封止構造。
前記封止構造は、三層の前記無機層と、二層の前記有機構造層とを含み、
三層の前記無機層と二層の前記有機構造層とは、交互に積層されて設けられる、
請求項５に記載の封止構造。
前記封止構造は、三層の前記無機層と、単一の前記有機構造層と、単一の有機層とを含み、
前記無機層、前記有機構造層、前記無機層、前記有機層及び前記無機層は、順次積層されて設けられ、
前記有機層に用いられる材料は、紫外感光性ポリマー、エポキシ系ポリマー又はアクリル系ポリマーである、
請求項５に記載の封止構造。
アレイ基板と、
前記アレイ基板に設けられる発光素子層と、
前記アレイ基板から離間する前記発光素子層の一方側に設けられ、有機構造層を含む封止構造であって、前記有機構造層に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、
Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である封止構造と、を含む、
表示パネル。
前記有機構造層に用いられる材料は、窒化ケイ素、酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素のうちの一つ又は複数の組み合わせである無機材料をさらに含み、
前記有機構造層において、前記有機構造材料の含有量と前記無機材料の含有量との比は、０．０１～０．７５である、
請求項１０に記載の表示パネル。
前記有機構造層の厚さは、１μｍ～５μｍである、
請求項１０に記載の表示パネル。
前記封止構造は、用いられる材料が窒化物、酸化物及び窒素酸化物のうちの一つ又は複数の組み合わせである少なくとも一つの無機層をさらに含む、
請求項１０に記載の表示パネル。
前記無機層の厚さは、２０ｎｍ～１５００ｎｍである、
請求項１３に記載の表示パネル。
前記封止構造は、二層の前記無機層を含み、
前記有機構造層は、二層の前記無機層の間に設けられる、
請求項１３に記載の表示パネル。
前記封止構造は、三層の前記無機層と、二層の前記有機構造層とを含み、
三層の前記無機層と二層の前記有機構造層とは、交互に積層されて設けられる、
請求項１３に記載の表示パネル。
前記封止構造は、三層の前記無機層と、単一の前記有機構造層と、単一の有機層とを含み、
前記無機層、前記有機構造層、前記無機層、前記有機層及び前記無機層は、順次積層されて設けられ、
前記有機層に用いられる材料は、紫外感光性ポリマー、エポキシ系ポリマー又はアクリル系ポリマーである、
請求項１３に記載の表示パネル。
アレイ基板を提供することと、
前記アレイ基板に発光素子層を設けることと、
前記発光素子層が設けられたアレイ基板をキャビティ内に移し、シランガス及び亜酸化窒素ガス、又はシランガス及びアンモニアガスである反応ガスをキャビティ内に導入することと、
反応プラズマが形成されるように前記反応ガスをイオン化することと、
前記反応プラズマにより化学反応を発生することで、有機構造層が形成されるように前記発光素子層上に堆積することと、を含み、
前記有機構造層に用いられる材料は、構造式に
が含まれる有機構造材料を含み、
Ｒ₁基は、
であり、Ｒ₂基は、
及び
のうちの一つ又は複数であり、ｎは、１以上の正の整数であり、ｘは、
、
及び
のうちの一つ又は複数である、
表示パネルの製造方法。
前記アレイ基板に発光素子層を設けた後に、前記アレイ基板から離間する前記発光素子層の一方側に無機層を堆積させることをさらに含む、
請求項1８に記載の表示パネルの製造方法。
前記アレイ基板に発光素子層を設けた後に、前記アレイ基板から離間する前記無機層の一方側に有機層を堆積させることをさらに含む、
請求項１９に記載の表示パネルの製造方法。