JP2023528145A - 光学サンプルの特徴付け - Google Patents

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Abstract

光学サンプルの特徴付けは、空気屈折率よりも高い屈折率を有するコーティングされたガラスプレートなどの光学サンプルを通る光の伝播の全範囲における任意の角度での測定および試験を容易にする。回転可能なアセンブリは、中空を有するシリンダと、中空を含むレセプタクルと、を含む。レセプタクルはまた、既知の屈折率を有する流体を含む。光学光ビームは、シリンダの表面に垂直に入力され、シリンダを通って、次に流体を介して、光学サンプルに移動し、光ビームは透過および/または反射され、次にシリンダから出て、分析のために収集される。少なくとも部分的に光学サンプルを取り囲む流体により、光学サンプルは、光学サンプルの全範囲の試験のために全範囲の角度(±90°など)にわたって回転され得る。【選択図】図14A

Description

本発明は、概して、光学試験に関し、特に、コーティングの全範囲の試験に関する。
光学部品、特にコーティングを測定するための現在の技術は、小さな範囲の角度、または小さなセットの離散的な角度に限定され、および/または屈折に起因する顕著な問題を有する。一般的に、測定結果は一貫性および/または正確性が欠如している。
光学サンプルの特徴付けは、空気屈折率よりも高い屈折率を有するコーティングされたガラスプレートなどの光学サンプルを通る光の伝播の全範囲における任意の角度での測定および試験を容易にする。回転可能なアセンブリは、中空を有するシリンダと、中空を含むレセプタクルと、を含む。レセプタクルはまた、いくつかの実装態様では、光学サンプルおよび/またはシリンダの屈折率に一致する屈折率を有する流体を含む。光学光ビームは、シリンダの表面に垂直に入力され、シリンダを通って、次に流体を介して、光学サンプルに移動し、光ビームが透過および/または反射され、次にシリンダから出て、分析のために収集される。少なくとも部分的に光学サンプルを取り囲む流体により、光学サンプルは、光学サンプルの全範囲の試験のために全範囲の角度(±90°など)にわたって回転され得る。
本実施形態の教示によれば、光学材料のサンプルの光学試験のための装置が提供され、装置は、回転可能なアセンブリであって、光学的に透明な一般的なシリンダであって、一般的なシリンダの軸上に中心中空を有し、中空が光学材料のサンプルのコア領域を少なくとも受容するようにサイズ決定された一般的なシリンダ、および中空を含むレセプタクルであって、レセプタクルは、光学材料のサンプルの少なくとも一部分を受容するようにサイズ決定され、流体が少なくともコア領域を取り囲み、接触し、一般的なシリンダと接触するように、一定量の流体を受容するように密閉されたレセプタクルを含む回転可能なアセンブリと、軸と整列され、一般的なシリンダの高さ軸の周りで回転可能なアセンブリを回転させるように動作可能なターンテーブルと、光学配置であって、軸と整列され、一般的なシリンダの第1の側で表面領域に垂直な光学光ビームを提供する光源を含み、出力信号を受け入れる光学検出器であって、出力信号が表面領域からの光学光ビームの反射を含み、光学検出器が一般的なシリンダの第1の側の表面領域に対して垂直である、光学検出器を含む、光学配置と、を備える。
本実施形態の教示によれば、光学材料のサンプルの光学試験のための装置が提供され、装置は、アセンブリであって、光学的に透明な一般的なシリンダであって、内部が一般的なシリンダの内面から一般的なシリンダの中心軸に向かってバルク材料部分で部分的に満たされ、内部が一般的なシリンダの反対側の内面から延在し、軸を含む中空部分を有し、中空が光学材料のサンプルの少なくともコア領域を受容するようにサイズ決定される、一般的なシリンダ、および中空を含むレセプタクルであって、レセプタクルは、光学材料のサンプルの少なくとも一部分を受容するようにサイズ決定され、流体が少なくともコア領域を取り囲み、接触し、一般的なシリンダおよびバルクの少なくとも一部分と接触するように、一定量の流体を受容するように密閉されたレセプタクルを含むアセンブリと、光学配置であって、軸と整列され、一般的なシリンダの第1の側の表面領域に垂直な光学光ビームを提供する光源を含み、出力信号を受け入れる光学検出器であって、光学光ビームからの出力信号がコア領域に衝突し、光学検出器が一般的なシリンダの表面領域に垂直である光学配置と、を備える。
任意選択的な実施形態では、アセンブリは回転可能なアセンブリであり、さらに、軸と整列され、一般的なシリンダの高さ軸の周りで回転可能なアセンブリを回転させるように動作可能なターンテーブルを含む。
別の任意選択的な実施形態では、バルクは、レセプタクルの実質的に半円状の半分を満たす。
別の任意選択的な実施形態では、バルク材料は、一般的なシリンダの光学的に透明な材料と同じ光学的に透明な材料である。
別の任意選択的な実施形態では、さらに、光学配置を受容するための装着配置であって、光源と光学検出器とを整列させるために調整可能な装着配置を含む。
別の任意選択的な実施形態では、レセプタクルに対してサンプルの場所を固定するクランプ機構を2さらに含む。
別の任意選択的な実施形態では、回転可能なアセンブリに動作可能に接続され、回転可能なアセンブリを回転させるように動作可能なモータと、回転可能なアセンブリに動作可能に接続され、少なくとも回転可能なアセンブリの回転角度に関する位置情報を提供するように動作可能なエンコーダと、をさらに含む。
別の任意選択的な実施形態では、一般的なシリンダは、シリンダ、およびプリズムからなる群から選択される。別の任意選択的な実施形態では、一般的なシリンダ、サンプル、および流体の屈折率は、実質的に等しい。別の任意選択的な実施形態では、流体は、屈折率整合流体であり、サンプルおよび流体の屈折率が実質的に等しい。別の任意選択的な実施形態では、一般的なシリンダおよび光学材料のサンプルは、同じ光学的に透明な固体材料で作製される。
別の任意選択的な実施形態では、一般的なシリンダは、一般的なシリンダの高さ軸に対して平行に実質的に対称的である。別の任意選択的な実施形態では、一般的なシリンダは、静止している、単一軸で回転可能である、2つ以上の軸で回転可能である、所定の範囲の角度で回転可能である、法線からサンプルまで±90度回転可能である、よりなる群に従って位置決めされる。
別の任意選択的な実施形態では、サンプルのコア領域は、光ビームがサンプルに遭遇し、サンプルの試験が実施されるサンプルの場所である。
別の任意選択的な実施形態では、レセプタクルは、一般的なシリンダのシリンダ直径に沿った方向のレセプタクル幅であって、シリンダ直径よりも小さいレセプタクル幅、およびレセプタクル幅と平行でないレセプタクル厚さであって、一般的なシリンダの第1の側と第2の側との間のレセプタクル厚さを有し、サンプルは、シリンダ直径に沿った方向のプレート幅であって、レセプタクル幅がプレート幅よりも大きいプレート幅、およびプレート幅と平行でないプレート厚さであって、レセプタクル厚さがプレート厚さよりも大きいレセプタクル厚さを有する。
別の任意選択的な実施形態では、レセプタクル幅およびプレート幅は、実質的に平行に整列される。別の任意選択的な実施形態では、レセプタクルは、0.5立方センチメートル(cc)~50ccの流体を含むように構成される。
別の任意選択的な実施形態では、サンプルは、ガラスプレート、コーティングされたガラスプレート、薄膜偏光子、ガラス偏光子、プラスチック偏光子、ビームスプリッタ、波プレート、光ガイド光学要素(LOE)、構造化光学要素であって、規則格子、ホログラフィック格子、ホログラフィックボリューム格子、回折光学要素、フレネルレンズ、サブ波長フォトニック構造、およびワイヤグリッドよりなる群から選択される構造化光学部品よりなる群から選択される。
別の任意選択的な実施形態では、光学要素は、コーティングでコーティングされ、コーティングは、サンプルに入射する光を操作するために使用される。
別の任意選択的な実施形態では、光学配置は、光学光ビームを準備し、光学光ビームを一般的なシリンダに入力する、コリメーティング光学部品であって、少なくとも2つの自由度で調整可能なコリメーティング光学部品を含む。別の任意選択的な実施形態では、光学光ビームの光路は、一般的なシリンダおよび流体を通っており、光路の大部分は、一般的なシリンダを通っている。
任意選択的な実施形態では、請求項1または請求項3に記載の装置に動作可能に接続されたコントローラが提供され、コントローラは、一般的なシリンダの第1の側面の表面領域に垂直に光学光ビームを入力することを開始し、光ビーム経路が中空に到達するまで一般的なシリンダの第1の側を介して横断し、次いで、第1の側からサンプルの第1の側上の中空の流体内に横断し、サンプルを通り、サンプルの他方の側上の流体を通り、一般的なシリンダの第2の側に入り、第2の側を横断し出力信号として一般的なシリンダの第2の側の表面領域に垂直に出るように一般的なシリンダを位置決めし、光学検出器による出力信号の捕捉をアクティブ化するよう、構成される。別の任意選択的な実施形態では、コントローラは、一般的なシリンダを光ビーム経路に対してサンプルの第1の角度で位置決めした後、サンプルが光ビーム経路に対して第2の角度にあるように一般的なシリンダを回転させ、捕捉および回転を繰り返すようにさらに構成される。
本実施形態の教示によれば、光学材料のサンプルを光学試験する方法が提供され、本方法は、装置を提供するステップであって、一般的なシリンダの第1の側面の表面領域に垂直に光学光ビームを入力するステップと、一般的なシリンダを配置するステップと、光ビーム経路が、中空に到達するまで、一般的なシリンダの第1の側を介して横断し、次いで、第1の側からサンプルの第1の側上の中空の流体内に、サンプルを通り、サンプルの他方の側上の流体を通り、一般的なシリンダの第2の側に入り、第2の側を横断し、出力信号として一般的なシリンダの第2の側の表面領域に垂直に出るように前記一般的なシリンダを位置決めするステップと、光学検出器によって出力信号を捕捉するステップと、を含む。
別の任意選択的な実施形態では、さらに、光ビーム経路に対するサンプルの第1の角度での位置決め後、サンプルが光ビーム経路に対して第2の角度であるように一般的なシリンダを回転させ、捕捉および回転を繰り返すステップを含む。別の任意選択的な実施形態では、光学試験の結果を計算するために、捕捉によって収集されたデータを処理するステップをさらに含む。
実施形態は、単なる例として、添付の図面を参照して本明細書において説明される。
全範囲の光学サンプルの特徴付け(試験)のための装置のスケッチである。 装置の断面図のスケッチである。 シリンダの上面図のスケッチである。 シリンダの側面図のスケッチである。 試験中にコーティングされたプレートが回転されるシリンダの上面図のスケッチである。 光学サンプルの透過率を試験するためのバスジグ装置のスケッチである。 バスジグ装置の断面図のスケッチである。 光学サンプルを特徴付ける方法のフローチャートである。 透過率(y軸)対角度(x軸)のプロットである。 図7Aの透過率プロットのクローズアップ(ズームイン)である。 例示的なコントローラの高レベル部分ブロック図である。 全範囲の光学サンプルの特徴付け(試験)のための装置のスケッチである。 MPL装置の分解図のスケッチである。 MPL試験装置の断面図のスケッチである。 MPL試験装置の回転断面図である。 可変位置決め機構を含むMPL試験装置のスケッチである。 プレートの試験のためのMPLシリンダの断面のスケッチである。 MPLシリンダの代替的な実装態様の実装の断面のスケッチである。 MPLシリンダの代替的な実施態様の実装の断面のスケッチである。 MPLシリンダの代替的な実装態様の実装の断面のスケッチである。 MPLシリンダの代替的な実施形態のスケッチである。
詳細な説明-装置-図1A~図4
本実施形態による装置および方法の原理および動作は、図面および添付の説明を参照してより良く理解されるであろう。本発明は、光学サンプルの特徴付けのための装置および方法である。本発明は、空気屈折率よりも高い屈折率を有するコーティングされたガラスプレートなどの光学サンプルを通る光の伝播の全範囲の角度の測定および試験を容易にする。
一般に、革新的な回転可能なアセンブリは、中空を有するガラス製シリンダを含む。中空は、回転可能なアセンブリ内のレセプタクルの一部である。レセプタクルは、可変サイズのコーティングされたガラスプレート用にサイズ決定されている。レセプタクルはまた、特定の所与の屈折率を有する一定量の流体を受容するために密封される。光ビームは、コリメーティング光学部品を介して試験ソースから伝播され、シリンダの表面に対して垂直(90度)に入り、シリンダを通り、次いで、コーティング、(コーティングされた)ガラスプレート、流体、シリンダの反対側を通る流体を介して、分析のために収集される。少なくとも部分的にコーティングされたプレートを取り囲む流体により、プレートは、コーティングの全範囲の試験における任意の特定の角度について全範囲の角度(±90°など)を通して回転させられ得る。好ましくは、シリンダおよびプレートは同じ材料で作られるため、屈折率が一致する。例示的な材料は、BK7ガラスであるが、この例は、限定的なものではなく、他のガラスおよびガラス以外の他の材料が試験され得る。この装置および方法は、コーティングされたプレートの反射率を直接測定するためにも使用され得る。
現在のデバイスおよび方法は、ガラスにおける入射角の全範囲にわたって現在および予測されるコーティングを特徴付けるのに十分ではない。従来の技術は、既存の要件を満たすのに不十分である。コーティングの最大、好ましくは全範囲の角度測定を実装するために、技術が必要である。本書の文脈では、「全範囲」という用語は、一般的に、試験されるべきコーティングされたプレートに対する法線に対して、180°、または±90°の範囲を指す。全範囲は、特定の実装態様については±90°以外であってもよい。これに対して、従来の測定技術は、典型的には、空中のみで離散的な角度の範囲を測定する。例えば、標準のシングルビームまたはダブルビーム分光光度計に任意選択的な特別なモジュールを追加した状態では、空気中の透過は70°で空気中の反射は45°である。ガラスでの測定について、従来の方法では、コーティングをプリズムアセンブリに組み立て、±5°までの範囲で性能を測定する。測定角度は、アセンブリ内のプリズムの角度(±5°)に制限される。
スネルの法則は、全内部反射(TIR)および材料を通る光の経路の依存性に関して、測定されるプレートの入射角を制限する。例えば、例示的なガラスから空気に移動する光線を考える。臨界角θctは、ある光学媒体から別の光媒体に横断する光についてスネルの法則を使用して、ガラス中の入射角θの値であり空気中の出射角θは90°に等しく、すなわち、例示的なガラスの屈折率nおよび空気の屈折率nは、それぞれ、約1.52および1であり、約41°の値を与える。したがって、空気中の測定は、ガラス中の約41°を超える角度の測定を再現することはできない。
この説明を簡単にするために、「コーティングされたプレート」という用語は、文脈から明らかになるように、「プレート」または「コーティング」と称され得る。現在の典型的なプレートサイズは、70×70mm(ミリメートル)および60×30mmである。本文書の文脈において、「コーティングされたプレート」という用語は、一般的に、プレートの表面上に光学コーティングを有するプレートを指す。コーティングは、典型的には、多層薄膜である。コーティングされたガラスプレートは、一般的に、本説明で使用されるが、限定するものではなく、他の材料および形状の他のサンプルが使用され得る。一般に、プレートは、光源と光検出器との間で自由な非散乱光路を可能にする任意の非空気形状であり得る。試験装置は、薄膜、ガラス、またはプラスチック偏光子、波プレート、ビームスプリッタ、二色反射体、光ガイド光学要素(LOE)、格子またはワイヤグリッドなどの構造化光学要素などの光学材料(サンプル、光学要素)の任意のサンプルを測定し得る。光学フィルタ(コーティング)は、入射光(コーティングされたプレートに入射)を指定された反射率、透過率、吸収、偏光などに操作するために使用される。コーティングを試験(プローブおよび測定)するため、および/またはコーティングの実際の性能とコーティングの指定された必要な性能を比較するために、光学測定が使用される。
同様に、この説明を簡単にするために、「ガラス製シリンダ」という用語が使用されるが、これに限定されない。例えば、シリンダの材料(シリンダ、シリンダリング、球体、バルク、ハーフバルクなど)はポリマーであってもよい(1つの非限定的な例は、光学非複屈折性ポリマーである)。
本説明の装置および方法の実施形態は、特徴付け、測定、および試験のために使用され得る。本装置は、コーティング装置およびプロセス(ガラスプレートなどのコーティング材料)の受け入れ測定を含む様々な機能のために実装され得る。本文書を簡単にするために、「試験」という用語が使用されるが、限定的であると考えるべきではない。
ここで図面を参照すると、図1Aは、全範囲の光学サンプルの特徴付け(試験)のための装置のスケッチであり、図1Bは、装置の断面図のスケッチである。試験装置400は、一般に、本書の文脈において「ジグ」と称される。試験装置400は、試験対象のプレート、支持構造を保持し、要素を案内し、試験の繰り返し性、精度、および交換性を提供する。試験装置400は、様々な他の要素が装着されたベース402を含む。試験される例示的な光学材料は、回転可能なアセンブリのレセプタクル110内に着座されたコーティングされたプレート102である。回転可能なアセンブリは、シリンダ100およびターンテーブルを含む。シリンダ100は、中空111を含む。ターンテーブルは、モータ408Aが接続されたモータ取り付け領域408Bを有する底部分406によって実装され得る。レセプタクル110は、流体112で満たされ、いくつかの実装態様では、屈折率整合流体である。位置ピン410は、上部分404と底部分406との間でシリンダ100をクランプするために使用され得る。流体112の例示的な側部封じ込めは、リブ100Sとして示される。入力試験光源4は、任意選択的な入力ケーブル6Fを介して光学入力信号をコリメーティング光学部品6に提供する。コリメーティング光学部品6は、回転可能なシリンダ100に入力するための入力信号を準備する。準備された光ビームは、試験のために平行照明を提供する。出力光学部品106は、任意選択的な出力ケーブル104Fを出力光コレクタ(光検出器)104に供給する。
参考の便宜上、回転可能なシリンダ100は、本文書の文脈において、シリンダ100と称される。回転可能なシリンダ100は、典型的には、光学光ビームに対して透明な固体材料、光学材料である。回転可能なシリンダ100の内部は、実質的に固体材料で満たされ、内部の少なくとも大部分は、流体112以外の固体材料で満たされる。シリンダ100の形状は、概して、数学の分野の一部の著者によって「一般的なシリンダ」として既知であるものであり得る。一般的なシリンダは、シリンダの形態としてプリズムを含む固体のカテゴリとして定義される。レセプタクル110は、シリンダおよびプリズムの両方内に形成され得るため、シリンダまたはプリズムのいずれかを使用する実施形態を含むために「一般的なシリンダ」という用語を使用する。したがって、回転可能なシリンダ100は、シリンダまたは多角形プリズムの形状を有することができる。例えば、シリンダの丸い表面は、光学入力および出力をシリンダ100の表面に対して実質的に垂直に維持しながら、任意の回転角をシリンダに使用する(したがって、コーティングされたプレート102を測定する)ことを可能にする。例えば、5または10の離散的な測定のみを必要とする場合、10または20面の多角形の円周を使用することができ、モータは、18または9度のステップに制限される。さらに一般的には、シリンダ100の形状は、光学光源4から光学検出器104への自由な非散乱光路を可能にする任意の非空気形状であり得る。この説明に基づいて、当業者は、相応じて他の装置およびシステム構成要素を設計することができるであろう。
シリンダ100は、プレートの様々な入射角および領域の試験のために、静止している、単一軸で回転する、またはプレート102を移動させるために1つ以上の軸で回転することができる。本説明および図は、固定軸(シリンダの高さ軸)の周りを回転しているシリンダ100のことのみである。この説明に基づいて、当業者は、プレート102の1つ以上の移動方向および試験を設計および実施することができるであろう。
参考の便宜上、入力信号は、図の左側からシリンダ100に入ると示され、対応するラベル付けされた第1の側は、シリンダ100Lの左側である。ラベル付けされた第2の側は、任意選択的な出力ケーブル104Fを出力光コレクタ104に供給する出力光学部品106に隣接するシリンダ100Rの右側である。シリンダ100が一般的に、実質的に対称的であることは、当業者には明らかであろう。シリンダ100は、水平に回転され得、シリンダの左側100Lおよび右側100Rは、交換され得る。非限定的な例では、シリンダ100は、レセプタクル110のために中央に中空111を有する単一の(ガラスの)ピースとして実装され得る。この場合、シリンダ100Lの左側およびシリンダ100Rの右側は、同じピースの反対側である。中空111は、シリンダの全高(上から下)に延在し得るか、または部分的であり得、例えば、シリンダ内にポケットを形成する。別の非限定的な例では、シリンダ100は、2つのピースから作成することができ、第1のピースは、シリンダ100Lの第1の、左側であり、第2のピースは、シリンダ100Rの第2の、右側である。
コリメーティング光学部品6および出力光学部品106は、光ビームの調整、初期および後続の較正を可能にするために、少なくとも2つの自由度で調整可能であることが好ましい。例えば、コリメーティング光学部品6および出力光学部品106は、光ビーム経路のx軸およびy軸に沿って±0.5mm調整され得る。
いくつかの実装態様では、流体112は、屈折率整合流体である。参考の便宜上、屈折率整合流体112は、本文書の文脈において「流体112」と称される。いくつかの実装態様では、流体112は、シリンダ100の(材料/ガラスの)屈折率と一致する屈折率を有する。いくつかの実装態様では、流体112は、プレート102の屈折率と一致する屈折率を有する。いくつかの実装態様では、シリンダ100およびプレート102は、同じ材料で作られる(したがって、それぞれの屈折率が一致する)。同様に、流体112、プレート102、およびシリンダ100の屈折率のうちの1つ以上は、互いに異なり得る。特定の屈折率整合および要素の屈折率間の差の範囲に関して、当業者は、許容差を認識するであろう。
入力ケーブル6Fおよび出力ケーブル104Fは、典型的には光ファイバであるが、実装態様の具体的な内容に応じて、任意の好適な伝送媒体であり得る。
試験装置400は、典型的には、様々なシリンダ100を支持および装着するための上部分404および底部分406を含む。位置ピン410は、上部分404を底部分406に取り付けるために使用することができ、上部分と底部分との間にシリンダ100をクランプし、使用される代替的なシリンダ100、上部分404、および底部分406を容易にする。例えば、上部分404は、レセプタクルの異なるサイズおよび/または構成を含む第2の上部分に変更されて、異なるプレートを試験することができる。または、例えば、第1の屈折率を有するプレートを試験するための第1の屈折率を有する第1の材料よりなるシリンダは、第2の屈折率を有するプレートを試験するための第2の屈折率を有する第2の材料よりなるシリンダで置き換えられ得る。別の例では、シリンダ、上部分、および底部分のすべてが、より厚いプレートを試験するため、または異なる形状、例えば丸い光学サンプルを試験するための異なる形状のレセプタクルを作成するために、より広い/厚いレセプタクルを有する(作成する)代替的な要素で置き換えられる。
シリンダ100は、様々な手段により回転させられ得る。本図において、例示的なモータ取り付け領域408Bは、底部分406の底部に設けられ、モータ408Aが接続された状態でも示される。この場合、モータ408Aは、底部分406との典型的な組み合わせでは、シリンダ100の高さ軸の周りでシリンダ100を回転させるための一般的なターンテーブルとして機能する。シリンダ100およびターンテーブルは、回転可能なアセンブリを形成する。回転可能なアセンブリを回転させることで、シリンダ100を回転させ、それによってレセプタクル110およびサンプル(コーティングされたプレート102)を回転させる。コントローラ800は、本図においてモータ408Aに動作可能に接続されており、明瞭化のため、すべての図において示されていない。回転可能なアセンブリに動作可能に接続されるエンコーダは図示されない。エンコーダは、少なくとも回転可能なアセンブリの回転角に関する位置情報を提供するため、コーティングされたプレート102の位置は、シリンダ100の軸に対して、およびコーティングされたプレート102(試験される光学サンプル)に対する法線に対する角度に対して既知である。当技術分野で既知であるように、位置エンコーダは、モータ408Aの一部、または別個の構成要素であり得る。
反射率測定のために、出力光学部品106は、試験中のプレート102から反射されたビームを収集するために典型的には、図面に示されるものとは異なる角度で配置される。
ベース402は、モータ408A、モータ取り付け領域408B、底部分406などの特定の試験構成に応じて、光学配置(光学試験光源4、入力ケーブル6F、コリメーティング光学部品6、出力光学部品106、出力ケーブル104F、および出力光コレクタ104)を受信、調整および整列させるための、様々なジグ構成要素のための装着配置を提供する。
ここで図面を参照するに、図2は、シリンダ100の上面図のスケッチである。任意選択的な入力ケーブル6Fおよび任意選択的な出力ケーブル104Fは、本図には示されていない。試験光源4は、光学入力信号をコリメーティング光学部品6に提供する。同様に、出力光学部品106は、出力光コレクタ104に供給する。任意選択的に、光学入力信号は、固定レンズ後または前に偏光子および90°±1°回転装置を介して入力される。コーティングされたプレート102は、レセプタクル110に装着され、流体112によって囲まれる。本上面図では、流体112の側部封じ込めは示されていない。本説明に基づいて、当業者は、例えば、シリンダ100の周りに延在する上部分404を使用することにより、流体のための適切な収納を設計および実装することができるようになる。コントローラ800は、典型的には、少なくとも試験光源4および出力光コレクタ104に動作可能に接続される。
プレート102は、プレート幅102Wとして水平方向に(本図のページ上で、シリンダ100の軸に沿って上下に)の第1の寸法を有し、プレート厚さ102Tとして(本図のページ上で左右に)示される第2の寸法を有する。同様に、およびそれに対応して、レセプタクル110は、レセプタクル幅110Wとして示される第1の寸法(本図のページ上で、シリンダ100の軸に沿って上下に)およびレセプタクル厚さ110Tとして示される第2の寸法(本図のページ上で左右に)を有する。レセプタクル幅110Wは、流体112の側部封じ込めの実装態様のサイズに応じて、シリンダ100の直径100Wよりもわずかに小さくてもよい。上述したように、本図では、側部封じ込めは示されておらず、レセプタクル幅110Wは、シリンダ100の直径100Wと同じサイズとして示されている。レセプタクル厚さ110Tは、シリンダ100Lの左側とシリンダ100Rの右側との間の距離である。代替的に、レセプタクル幅110Wは、シリンダ直径100Wとは異なるサイズであってもよく、例えば、レセプタクル幅110Wは、シリンダ直径100Wよりも小さい。
典型的には、プレート102およびレセプタクル110は、実質的に平行であり、すなわち、プレートの幅(プレート幅100W)およびレセプタクルの幅(レセプタクル幅110W)は整列される。レセプタクル110の側面(プレート102の測定を実施するために使用されるレセプタクル110の領域から離れた、レセプタクルの縁)は、典型的には平行であるが、平行である必要はない。必要とされる特定の測定に応じて、レセプタクルの縁におけるレセプタクルの側部間の距離は、測定が実施されるコア領域110Cにおけるレセプタクルの側部間の距離よりも近いか、または好ましくはより遠い距離であり得る。コア領域110Cは、「臨界領域」としても既知であり、コーティングが試験される場所、つまり、光ビームがコーティングされたプレート102に遭遇する場所である。典型的には、コア領域110Cは小さく、レセプタクル110の残りの領域は、主にサンプル試験プレート102を支持するように設計され得る。典型的なコア領域110Cは、±10mmの最小定義シリンダ測定ゾーンを含む。
試験装置400の本実施形態の特徴は、レセプタクル110がバスジグ500のバス5100と比較して小さいことである。流体バスを使用する代替的な実施形態は、図5Aのバスジグ500を参照して以下に説明される。バス5100は、典型的には、300cc(立方センチメートル)~2000ccの流体を保持する。従来のバスは、少なくとも300ccの流体を必要とし、そうでなければ、流体のレベルは光源の入出力よりも低く、測定は空気中(流体ではない)で行われる。典型的には、バスの体積は約500~600ccである。
反対に、レセプタクル110は、典型的には、0.5cc~50ccの流体を保持する。レセプタクル110は、様々なサイズのプレート102を収容するように、1つ以上の寸法で調整可能であり得る。試験装置400の本実施形態の別の特徴は、シリンダ100が(回転可能なアセンブリの一部として回転され、したがって、試験されるべきサンプル、コーティングされたプレート102は、流体112およびレセプタクル110に対して静止していることである。これに対して、バスジグ500では、サンプル(コーティングされたプレート102)は、流体内、つまり、バス5100内で回転される。流体112の粘度が高いため、バスジグ500内の流体112におけるプレート102の回転は、流体112内に乱れを引き起こし、次に、これは測定されたスペクトルに影響を与える。この問題は、シリンダ100の使用によって少なくとも部分的に解決される。
ここで図面を参照すると、図3は、シリンダ100および底部分406の断面側面図のスケッチである。プレート102は、プレート高さ102Hとして垂直方向に(本図のページ上で、シリンダ100の高さ軸に沿って上下に)示される第3の寸法を有する。同様に、およびそれに対応して、レセプタクル110は、レセプタクル高さ110Hとして示される第3の寸法を有する。レセプタクル高さ110Hは、シリンダ100のシリンダ高さ100Hと同じサイズであり得る。代替的に、レセプタクル高さ110Hは、シリンダ高さ100Hとは異なるサイズであり得る。例えば、レセプタクル高さ110Hは、中空111の底部、シリンダの左側100Lと右側100Rとの間の中空111内での流体封じ込め実装態様(密閉)を考慮するために、シリンダ高さ100Hよりも小さくてもよい。または、例えば、レセプタクル高さ110Hは、シリンダ高さ100Hよりも大きくてもよく(本図に示すように)、底部分406は、レセプタクル110の中空の底部(下)に密閉を提供することができる。
ここで図面を参照すると、図4は、試験中にコーティングされたプレート102が回転されるシリンダ100の上面図のスケッチである。この非限定的な例では、コーティングされたプレート102は、上記の図に示される開始位置からほぼ90°時計回りに回転されている。
本図において分かるように、光ビーム420、この場合、光学光(試験信号として)は、試験光源4によって提供される420A(任意選択的な入力ケーブル6Fは図示されない)。提供される420Aの光ビームは、コリメーティング光学部品6によって準備され、コリメートされ、次いで、回転可能なシリンダ100の表面領域に対して垂直に入力420Bされる。シリンダ100の形状の精度は、プレート102上のコーティングの測定の必要な精度によって判定され得る。光ビームは、レセプタクル110に到達するまで、シリンダ100Lの左側を介して移動420Cする。光ビームは、シリンダ100Lの左側からレセプタクル110内の流体112内に、コーティングされたガラスプレート102を通って(なお、ガラスプレート上のコーティングは図示せず)、プレート102の反対側の流体112を通って、およびシリンダ100Rの右側に420E内に横断する(420D~420E)。
次いで、信号は、シリンダ100Rの右側を横断420Fし、回転可能なシリンダ100の表面に垂直に出る420G。出力光学部品106は、出力光ビームを出力信号420Hとして出力光コレクタ104に通す(任意選択的な出力ケーブル104Fは、本図には示されていない)。
シリンダは1つの円周面のみを有するため、光学光ビームを入力させ、光学光ビームを出射/出力させることへの参照は、表面の異なる領域または範囲に対してである。それに対応して、シリンダの第1および第2の側は、ページ上に示され、図面に見ることができるように、方向上の参照である。
詳細な説明-代替的な装置-図5A~図5B。
ここで図5Aを参照すると、図5Aは光学サンプルの透過率を試験するためのバスジグ装置のスケッチであり、図5Bはバスジグ装置の断面図のスケッチである。試験用バスジグ装置500は、本書の文脈において一般的に「バスジグ」500と称される。バスジグ500は、試験装置(ジグ)400と同様に、試験対象のプレート、支持構造を保持し、要素を案内する。バスジグ500は、様々な他の要素が装着されるベース5402を含む。試験されるコーティングされたプレート102は、バス5100内のプレート装着部5110内に着座される。バス5100は、流体を含有するように構築されたバスジグ500の領域である。バス5100は、流体封じ込め領域として設計されたバスジグ500の内部の中空空間である。バス5100は、流体112(本図には示されていない)で満たされる。試験光源4は、任意選択的な入力ケーブル6F(図示せず)を介して光学入力信号をコリメーティング光学部品5006に提供する。コリメーティング光学部品5006(準備し、合焦する)は、入力信号をバス5100にコリメーティングする。
プレート装着部5110は、様々な手段により回転させられ得る。本図において、例示的なモータ取り付け領域5408Bは、バスジグ500の上部に設けられ、モータ5408Aが接続された状態でも示される。
図5Bにおいて分かるように、光ビーム5420、この場合光学光は、試験光源4によって提供される5420A。提供される5420A光ビームは、コリメーティング光学部品5006によって準備および拡張され、バス5100内の流体112内に横断する。次いで、光ビームは、バス5100内の流体112を通って、コーティングされたガラスプレート102を通って(なお、ガラスプレート上のコーティングは図示せず)、(プレート102の)反対側の流体112を通って5420F移動5420Cする。バス5100が流体112で満たされると、バスジグ500を通る光ビームのこの横断は、実質的に屈折がない。次いで、信号は、流体112から、出力信号を出力光コレクタ104に供給する5420H出力光学部品5106に出される5420E。
バスジグ500は、内部バス5100、プレート装着部5110、コーティングされたプレート102、および他の構成要素を見ることを可能にする任意選択的な前面窓5130Fおよび背面窓5130Bを伴って示される。
試験装置(ジグ)400およびバスジグ500の両方は、任意選択的な、追加の、および代替的な構成を含むことができる。1つの代替例では、ジグは、流体112から溶解した空気を抽出するために、真空ベルなどの真空を含むように適合され得る。別の代替例として、機械的および/または他の強化は、ジグ内の揺れを処理および防止するために使用され得る。光ファイバには硬質固定(硬質ルーティング)が使用され得る。レセプタクル110およびプレート装着部5110は、可変サイズのプレート102を収容するように調節可能であり得る。位置ピン410に関して上で説明されるように、ジグ、上部分404、および底部分406は、異なる屈折率のシリンダとの交換および動作の簡単さ(例えば、サンプルの配置およびクリーンアップ)を容易にするために、取り外し可能であり得る(着脱可能に取り付けられる)。
ジグの追加の代替例は、ジグ全体を覆う暗い(明るい不透明)ボックス、プレート102を傷つけないようにするための試験プレートのための動的レセプタクル、エンジンおよびドライバを含む回転ステージ、内部クリーンオプション、気泡抽出(停滞領域)、およびサンプルプレートスクイーザを含むことができる。
詳細な説明-方法-図6A~図7B
ここで図6Aを参照すると、光学サンプルを特徴付ける方法のフローチャートである。本方法は、以下の試験順序で説明するように、試験装置(ジグ)400およびバスジグ500、ならびに以下に説明するMPL試験装置1450と使用することができる。光学サンプルの特徴付けのための試験方法610は、ステップ600で開始され、光ビーム420は、シリンダ100に対して垂直に提供される。光ビームは、典型的には、本説明の文脈から当業者に明らかになるように、「入力光」または単に「光」と称される光学光ビームである。シリンダ100に対して一定の法線で光を提供することにより、シリンダ100への光カップリングの大部分を容易にし、シリンダに入るときに光、または最小限の光が失われないようにする。例示的なコーティングには、可視スペクトルの一部を透過して別の部分を反射するフィルタ、1つの偏光状態を透過して別の偏光状態を反射する偏光フィルタ、または可視光の一部を吸収する吸収コーティングが含まれる。
ステップ601では、以下に記載されるように、任意選択的な構成が使用される。
ステップ602において、出力光は、上で説明されるように、シリンダ100、レセプタクル110、およびプレート102を横断した後に収集される。出力光は、例えば、分光器で収集され得る。
ステップ604では、プレート102は回転される。プレートがどの程度回転するかは、実施される試験の特定の要件および所望の測定に依存する。例示的な回転としては、0.5°および1°のステップが含まれる。プレートを回転させた後、出力光は、新しい既知の角度で再び収集され得る(ステップ602)。この回転および収集のサイクルは、試験されるべき所望の範囲の角度に関するデータを集めるために必要に応じて繰り返され得る(ステップ604は、ステップ602に戻る)。
本実施形態の特徴は、プレート102がシリンダ100全体を回転させることによって回転されることであり、試験装置の内部、例えば、試験チャンバ内の流体のバス中で試験サンプルを回転させる従来の実装態様とは対照的であることに留意されたい。ステップ606では、任意選択的な計算(処理、信号処理)が収集された信号に対して実施されて、コーティングおよび/またはプレート102の透過率および/または反射率の性能指数が判定される。収集された出力光602からのデータは、光学試験の結果を計算するために処理される。
ステップ608では、任意選択的に、収集および処理の結果を表示することができる(出力、転送、記憶など)。
ここで、図7Aを参照するに、透過率(y軸)対角度(x軸)のプロットが示され、図7Bは、図7Aの透過率プロットのクローズアップ(ズームイン)を示す。一般に、成功したコーティングは、プロットを水平方向に配向させることによって示され、コーティングが一定範囲の角度にわたって一貫した透過率を有したことを示す。透過率(提供された光の量から収集された光の量を引いたもの)は、sまたはpの偏光であってもよい。
詳細な説明-コントローラ-図8
図8は、本発明の光学サンプルの特徴付け610のための方法を実施するように構成された例示的なコントローラ800の高レベル部分ブロック図である。コントローラ(処理システム)800は、プロセッサ802(1つ以上)および4つの例示的なメモリデバイス:ランダムアクセスメモリ(RAM)804、ブート読み取り専用メモリ(ROM)806、大容量記憶装置(ハードディスク)808、およびフラッシュメモリ810を含み、これらはすべて、共通のバス812を介して通信する。当技術分野で既知であるように、処理およびメモリは、ソフトウェアおよび/またはファームウェアおよび/またはフィールドプログラマブルロジックアレイ(FPLA)要素、ハードワイヤロジック要素、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)要素、および特定用途向け集積回路(ASIC)要素を含むが、これらに限定されない任意のハードウェア要素を記憶する任意のコンピュータ可読媒体を含むことができる。任意の命令セットアーキテクチャは、縮小命令セットコンピュータ(RISC)アーキテクチャおよび/または複雑命令セットコンピュータ(CISC)アーキテクチャを含むが、これに限定されず、プロセッサ802で使用され得る。モジュール(処理モジュール)814は、大容量記憶装置808上に示されるが、当業者には明らかであるように、メモリデバイスのいずれかに位置することができる。
大容量記憶装置808は、本明細書に記載の試験方法論を実装するためのコンピュータ可読コードを有する非一時的なコンピュータ可読記憶媒体の非限定的な例である。そのようなコンピュータ可読記憶媒体の他の例としては、そのようなコードを有するCDなどの読み取り専用メモリが挙げられる。
コントローラ800は、メモリデバイス上に記憶されたオペレーティングシステムを有してよく、ROMは、システムのブートコードを含んでよく、プロセッサは、オペレーティングシステムをRAM804にロードするためにブートコードを実行し、コンピュータ可読コードをRAM804にコピーし、コードを実行するためにオペレーティングシステムを実行するように構成され得る。
ネットワーク接続820は、コントローラ800との間に通信を提供する。典型的には、単一のネットワーク接続は、ローカルおよび/またはリモートネットワーク上の他のデバイスへの仮想接続を含む1つ以上のリンクを提供する。代替的に、コントローラ800は、2つ以上のネットワーク接続(図示せず)を含むことができ、各ネットワーク接続は、他のデバイスおよび/またはネットワークに1つ以上のリンクを提供する。
コントローラ800は、ネットワークを介してクライアントまたはサーバにそれぞれ接続されたサーバまたはクライアントとして実装され得る。
詳細な説明-代替的な装置-図9~図15
ここで図9を参照すると、図9は、全範囲の光学サンプルの特徴付け(試験)のための装置のスケッチであり、図10は、装置の分解図のスケッチである。また、可変位置試験装置1450は、本文書の文脈において「MPL装置」または「MPL」と称される。「MPL」という用語は、試験装置1450の典型的な非限定的な使用である「液体中にプレートを装着する」ことを指す。コアMPL装置は、上で説明される試験装置400と同様に構成することができ、本図には示されていないが、当業者には明らかであるように、支持構造、ベース、および関連要素がある。
MPL装置1450は、分光光度計の測定構成(ツール)内で構成されて、より完全なMPL試験システムを作成することができる。MPL試験システムは、プレート上のコーティングに対する異なる角度に対する基プレート材料と入射材料との間のコーティングの反射、透過率、および色度を含むがこれらに限定されない、試験および測定のための装置および方法を提供する。
カバー1403は、MPLシリンダの上部分1404に取り付けられる。試験用MPLシリンダ1100は、MPLシリンダ上部(上部分)1404とMPLシリンダ底部(底部分)1406との間にある。ガスケット1405は、MPL試験装置1450を動作可能に構成するのを支援するために使用される部品の非限定的な例であり、この場合、溝に着座され、2つ以上の部品間の組み立て中に圧縮され、装置の要素間のインターフェースでシールを作成するように設計される。
上記の試験装置400と同様であり、これに対応して、試験対象の例示的な光学材料(光学材料のサンプル)は、MPL試験装置1450に着座しているコーティングされたプレート102である。MPLシリンダ1100は、MPLシリンダ1100の内部の少なくとも一部分にMPL中空1111を含む。典型的には、MPL中空1111は、MPLシリンダ1100の軸上の中心中空である。MPL中空1111は、光学材料のサンプル(コーティングされたプレート102)の少なくともコア領域を受容するようにサイズ決定される。MPL中空1111は、MPLレセプタクル1110の内部部分である。MPLレセプタクル1110は、流体112がコーティングされたプレート102のコア領域を取り囲み、少なくともコア領域と接触し、流体112がMPLシリンダ1100と接触するように、一定量の流体112を受容するために密閉される。当業者には明らかであるように、この説明では、MPL中空1111内の流体112への言及は、MPLレセプタクル1110内の流体112への言及でもあり得る。いくつかの実装態様では、MPLシリンダ1100のガラスの屈折率は、流体112の屈折率と一致する。いくつかの実装態様では、MPLシリンダ1100およびプレート102は、同じ材料より作製される(したがって、それぞれの屈折率が一致する)。要素の屈折率間のインデックスの特定の整合および差の範囲に関して、当業者は、許容差を認識するであろう。
本実施形態の特徴は、円形対称性を有するシリンダ、MPLシリンダ1100にコーティングされたプレート102を装着することである。これは、異なる角度、特にプレート102の表面に対する法線に対して大きな角度でプレート102によって反射された光の測定を可能にする。
ここで図面を参照すると、図11AはMPL試験装置の断面図であり、図11Bは回転断面図である。本図において分かるように、プレート102は、好ましくは、検査領域(コア領域)を増加させ、ヴィネットなしでより大きな検査角度(AOI)を可能にするために、プレートの対角線を赤道上に配置して位置決めされる(装着される)(図14A、赤道1100Eを参照)。
ここで図12を参照すると、可変位置決め機構を含むMPL試験装置のスケッチである。MPL試験装置1450は、位置を変化させることができ、特に任意選択的で、好ましくは、機械的位置決めのすべての6度を変化させることができる。位置決めは、プレート102を、プレートの様々な入射角および領域の試験のために移動させるよう、静止すること、単一の軸内で回転すること、1つ以上の軸内で回転すること、上昇すること、および下降することを含む。装置の位置を変化させるための非限定的な例示的な実装態様は、可変位置決め機構1408A、例えば、正確な位置決めのための機械的アクチュエータを使用することである。可変位置決め機構1408Aは、MPLシリンダ底部分1406、および通常、ベース(試験装置400ベース402と同様に、図示せず)に適当に動作可能に取り付けられる。例示的な実装態様は、ターンテーブルである可変位置決め機構1408Aであり、モータが接続されたモータ取り付け領域を有するMPLシリンダ底部分1406によって実装される。可変位置決め機構1408Aは、MPL試験装置1450の位置を変化させ、それにより、プレート102の位置を変化させる。
好ましくは、MPLシリンダ1100は、MPLシリンダ1100を囲む障害物を最小限に抑えるために装着(構成)されるべきである。これにより、MPLシリンダ1100の周りの最大範囲の角度(実質的に360°)での測定が可能になり、したがって、MPLシリンダ1100内のプレート102の直接視認が可能になる。位置ピン410は、MPLシリンダ上部分1404とMPLシリンダ底部分1406との間にMPLシリンダ1100をクランプするために使用され得る。本図において、2つの例示的な位置ピン410が示される。使用されるとき、これらの位置ピン410は、所望の測定角度を考慮して配置され、所望の範囲の試験角度内のピンにより障害が最小限に抑えられる。
MPLシリンダ上部分1404およびMPLシリンダ底部分1406は、MPLシリンダ1100の様々な実装態様を支持および装着するために使用され得る。例えば、MPLシリンダ1100は、上部分と底部分との間にクランプされ得、代替的なMPLシリンダ1100、上部分1404、および底部1406が使用されることを容易にする。例えば、上部分1404は、異なるサイズおよび/または構成のレセプタクルを含む第2の上部分に変更されて、異なるプレートを試験することができる。または、例えば、第1の屈折率を有するプレートを試験するための第1の屈折率を有する第1の材料で構成されたシリンダは、第2の屈折率を有するプレートを試験するための第2の屈折率を有する第2の材料で構成されたシリンダで置き換えられ得る。別の例では、シリンダ、上部分、および底部分のすべてが、より厚いプレートを試験するため、または異なる形状の、例えば、丸い光学サンプルを試験するための異なる形状のレセプタクルを作成するために、より広い/厚いレセプタクルを有する(作成する)代替的な要素で置き換えられる。
コントローラ800は、可変位置決め機構1408Aに接続され、試験装置400およびモータ408Aで、コントローラ800の動作と同様に機能する。明確にするために、コントローラ800は、すべての図には示されていない。任意選択的に、位置決めアイテム1107(例えば、ピン)は、MPL試験装置1450を交換可能に取り外し、所与の位置に正確に戻すための動的自由を提供することができる。
ここで図13を参照すると、プレートの試験のためのMPLシリンダの断面のスケッチである。プレート102は、MPLシリンダ1100の内部に装着される。プレート102は、本文書の文脈において「ターゲット反射面」102L、「ターゲット表面」、「コーティングされた表面」、または「前面」と称される第1の表面を有する。ターゲット表面102Lは、典型的には、試験されるべき関心表面であり、1つ以上のコーティングでコーティングされ得る。代替的に、ターゲット表面102Lは、未コーティングであってもよい。プレート102は、本文書の文脈において「裏面」102Rと称される、第1の側と反対側の第2の側を有する。裏面102Rは、典型的には未コーティングであるが、1つ以上のコーティングでコーティングされ得る。簡略化のため、コーティングは図示されていない。図中の参照の便宜上、ターゲット表面102Lは、典型的には、ページ上で左向きに描かれた第1の表面、MPLシリンダ1100、およびプレート102の「左側」である。それに対応して、裏面102Rは、ページ上で右向きに描かれた第2の表面であり、MPLシリンダ1100およびプレート102の「右側」である。上で説明されるように(図11Aおよび図11Bを参照)、プレート102は、ターゲット反射面102LがMPLシリンダ1100の直径の中心にあるように装着され得る。MPLシリンダ1100は、外部の外面1100Uから反対側の外面までのMPLシリンダ直径1100Dと、外面1100Uから円周のリングの内面1100NまでのMPLシリンダ厚さ1100Tと、を有する。
上で説明される試験装置400を試験するために使用される光学配置と同様に、光ビーム420は、入力試験光源4から光学入力信号として提供される420A。提供される420A光ビームは、任意選択的に、コリメーティング光学部品6によって準備され、コリメートされ、次いで、MPLシリンダ1100の表面領域に垂直に入力される420B。光ビームは、プレート102のターゲット表面102Lに向かって移動し1420C(「左側」を介して)(コーティングされた)ターゲット表面102Lに衝突する。本図において、中空1111は、MPLシリンダ1100の内部部分全体であり、流体112は、ターゲット表面102Lおよび裏面102Rの両方と接触して、中空1111を満たし、プレート102を取り囲む。この場合、光ビームは、流体112を通って、プレート102のターゲット表面102Lに向かって左側を介して移動する1420C。
法線1115Nは、光ビーム1420Cがプレート102のターゲット表面102Lに衝突する場所において、コア領域でプレート102の表面に対して垂直に画定される。試験角度θ(シータ、1115)は、光ビーム1420Cの線と法線1115Nとの間に画定される。プレート102のターゲット表面102Lは、試験光源4と反対のプレート102の側でより遠いプレート102の裏面102Rと比較して、試験光源4に向かう側でより近い。
光ビーム420がターゲット表面102L上に衝突した後、ビームの一部分は、反射出力ビーム1420Fとして示されるように、プレート102の表面から反射され得る。ビームの一部分は、プレート102に入り、横断し得る(例えば、試験装置400および図4の上記の説明と同様に、本図には示されていない)。プレート102から反射し、プレート102内に入るビームの部分は、中空1111およびレセプタクル1110内の流体112の屈折率、入力信号(光ビーム1420C)とプレート102との間の入射角(試験角度θ1115)、任意のコーティングの屈折率および特性、ならびにプレート102の屈折率などの実装態様の具体的な特性によって判定される。
本反射率試験では、出力ビーム1420Fは、プレート102のターゲット表面102Lから離れて「左側」を介して移動する。出力ビーム1420Fは、プレート102に向かって移動する入射光ビーム1420Cと同じプレート102の側を介してプレート102から遠ざかる。中空1111を満たし、プレート102を取り囲む流体112の本場合において、出力ビーム1420Fは、ターゲット表面102Lから流体112を通って、MPLシリンダ1100の内面に向かって移動する。出力ビーム1420Fは、MPLシリンダ1100の内部表面領域(内曲表面)および外曲面の両方に垂直に出射される420G。出力ビーム1420Fは、任意選択的に、出力光学部品106によって準備され、出力信号420Hとして出力光コレクタ104に送られる。任意選択的な入力ケーブル6F、出力ケーブル104F、および他の指示要素は、本図には示されていない。上で説明されるように、コリメーティング光学部品6および出力光学部品106は、光ビームの調整、初期、および後続の較正を可能にするために、少なくとも2つの自由度で調整可能であることが好ましい。
本実施形態の特徴は、出力光コレクタ104の場所が調整可能、特に試験中のプレート102からの反射信号を受信するように構成された試験光源4の場所に対して回転可能に調整可能であることである。出力光コレクタ104の場所は、実装態様の詳細(試験光源4の場所、屈折率など上で説明される)に基づいて計算され得るか、または別様に判定され得る(例えば、実験的に)。一実装態様では、プレート102の回転中、出力光コレクタ104は、同じ軸に対してプレート102の回転の角度の2倍で同期され、回転される。例えば、プレート102が、MPLシリンダ1100の垂直軸上で2(2)度回転される場合、出力光コレクタ104は、MPLシリンダ1100の外側を中心に4(4)度回転される。代替的な実装態様では、出力光コレクタ104は、出力光ビーム420Hの場所を手動で検査することによって、または出力光コレクタ104で出力信号420Hの強度を測定し、受信した出力信号420Hの強度を最大化するよう出力光コレクタ104を位置決めすることによって、位置決めされ得る。典型的には、プレート102は、垂直であり、MPL試験装置1450の高さ軸に平行に整列されている。光源4および光コレクタ104は、対応して水平面内にあり、MPLシリンダ1100の直径と整列され、プレート102の表面に対する法線1115Nと整列される。言い換えると、出力光コレクタ104は、光源4と法線1115Nとによって画定される平面に構成され得る。
プレート102を介した光ビーム420の透過率の測定は、試験装置400およびシリンダ100に関して上で説明されている。当業者は、上記の説明を、MPLシリンダ1100を有するMPL試験装置1450の本実施形態に適用することが可能であり、ここでは詳細に説明しない。
ここで図面を参照すると、図14Aは断面のスケッチであり、図14BはMPLシリンダの代替的な実装態様の実装の断面のスケッチである。図14Aでは、MPLシリンダ1100、およびそれに対応してプレート102は方向付けられ、光コレクタ104は透過率試験のために位置決めされる。図14Bでは、MPLシリンダ1100、およびそれに対応して、プレート102は方向付けられ、光コレクタ104は、反射率試験のために位置決めされる。ターゲット反射面102Lは平行であり、MPLシリンダ1100の赤道1100Eと整列される。赤道1100Eは、シリンダの直径である。この図にはまた、MPLシリンダの上部分1404と接触するためのMPLシリンダ1100の上側からMPLシリンダの底部分1406と接触するためのMPLシリンダ1100の下側までのMPLシリンダ高さ1100Hも示されている。
図14Aの例示的な透過率試験の実装態様では、プレート102は、入力試験光ビーム420に対して垂直であり、試験角度θ(1115)は0°(ゼロ度、参照のために図に示す)であり、出力光コレクタ104は、MPLシリンダ1100の第2の側(「右側」)102R上に位置する。なお、この図の法線1115Nは、法線1115Nが見えるように光ビーム420からわずかにずれて描画されている。バルク材料1100Bを示す。バルク材料1100Bは、本文書の文脈において「バルク」と称され、以下に説明される。
ここで図面を参照すると、図14Bは、上方からある角度で見た、図14AのMPLシリンダのスケッチである。明確にするために、プレート102は、本図には示されていない。本図では、図14Aとは異なり、試験光源4および出力光コレクタ104は、プレート102の反射率試験のために構成される。入力試験光ビーム420および出力信号420Hは、ターゲット反射面102Lに対して斜角を成している。
ここで図面を参照すると、図14Cは、MPLシリンダの代替的な実装態様の断面図のスケッチである。上で説明される図14Aにおいて、試験光ビーム(光ビーム420および出力信号420H)の経路の大部分は、流体112を介してMPLシリンダ1100を通過する。本図において、試験光ビーム(420、420H)の経路の大部分は、バルク1100Bを介して、次いで、少量の流体112(バルク110Bを通る光路の長さ、または半シリンダMPLシリンダ1100の中空の1111内の流体112のサイズに対して小さい)を介して、MPLシリンダ1100を横断する。本図において、MPLシリンダ1100、およびそれに対応してプレート102は、反射率試験のために位置決めされた光源4および光コレクタ104と同様に、反射率試験のために方向付けられる。ターゲット反射面102Lは、MPLシリンダ1100の赤道1100Eと平行であり、整列される。反射率試験の場合、光ビーム420は、プレート102に対して法線1115Nに対して試験角度θ(1115)にあり(または等価的に、赤道1100Eに対して垂直)、出力光コレクタ104は、光源4Aバルク材料1100Bと同じMPLシリンダ1100の側(「左側」、ターゲット反射面側)102Lに位置する。
反射率試験を実施する場合、試験下にある表面以外の表面からの反射を減少または排除することが望ましい。例えば、前方のターゲット反射面102L、および/または前面102L上のコーティングを試験するとき、入力光ビーム420の一部分は、前面102Lを介してプレート102内に屈折し、次いで、裏面102Rから反射し、前面102Lから屈折し、結果として、不必要な光の一部分が出力光コレクタ104に衝突し、試験を妨害し得る。望ましくない反射は、例えば、中空1111内の流体112、およびMPL試験シリンダ1100の右/裏側のバルク1100Bからも生成され得る。裏面102からの反射を減少または排除する方法は、中空1111内に非反射材料を構成することを含む。代替的または追加的に、裏面102Rは粗くすることができる。代替的または追加的に、裏面102Rは、前面102Lに対して平行でないように傾斜することができる。
本実施形態の特徴は、円形MPLシリンダ1100がバルク材料1100Bで少なくとも部分的に満たされ得ることである。対応して、MPLシリンダ1100の内部の一部分は、MPLレセプタクル1110(MPL中空1111を含む)を形成し、この場合、この部分(MPL中空1111)は、MPLシリンダ1100の内部全体よりも小さい。例示的な実装態様では、バルク1100Bは、典型的には、光ビーム420に対して光学的に透明な、MPLシリンダ1100と同じ固体材料である。MPLシリンダは、バルクと同時に、同じ材料の単一の部品として構成され得、それにより、他の実装態様と比較して構成が簡略化される。シリンダの内部にバルク1100B材料を使用することにより、レセプタクル1110を満たすのに必要な流体112の量が減少され、したがって、従来のバスの実装態様における、比較的大きな量の流体の問題が軽減される。
図13に示すような基本的なMPLシリンダ1100では、シリンダは、円形の対称性を有し、材料は円周の周りのみであり、円形の内部チャンバは、MPLレセプタクル1110およびMPL中空1111をMPLシリンダ1100の内部に作成する。ただし、この構成は限定的ではない。本図において、MPLシリンダ1100の円周を作成する材料はまた、右側を部分的に満たし、円形の内部の右側半分をほぼ完全に満たし、バルク1100B部分を形成する。バルク1100Bは、典型的には、MPLシリンダ1100(レセプタクル1110)の内部の実質的に半分を満たす。バルクは実質的に半円形であり、対応するレセプタクル1110(中空1111)は実質的に半円形である。図14Aに示すような典型的な透過率試験では、光ビームの経路の実質的に半分は、バルク材料1100Bを横断する。図14Bに示すような典型的な反射率試験では、光ビームの大部分の経路は、流体112を通ることになる。図14Cに示すような典型的な反射率試験では、光ビームの大部分の経路はバルク1100Bを通り、これにより経路の大部分が固体材料を通り、流体を介して伝播される試験光に関する既知の問題を回避することができる。当技術分野で既知であるように、試験されるべき光学要素を囲む流体112(プレート102)は、流体力学により測定精度に影響を及ぼし得る。特に、流体の量が多いほど、測定精度の難易度が高くなる。したがって、装置で使用される流体112の量を減少させることが望まれる。MPLシリンダ1100でバルク1100B部分を含むことは、MPLレセプタクル1110を満たすのに必要な流体112の量を減少させ、したがって、MPL中空1111を満たすのに必要な流体112の量を減少させる。MPLシリンダ1100内の流体112の量を最小限に抑えるために、MPL試験装置1450の内部の領域を満たすといった同様の概念を使用して、MPLシリンダ上部分1404およびMPLシリンダ底部分1406(本図には示されていない)は、各部分のそれぞれの底部および上部に固体部分を含み得る。さらに、シリンダの高さ(MPLシリンダ1100のMPLシリンダ高さ1100H)は、所望の測定に必要な最小の高さに高さを低減するよう最適化され得、したがって、MPLレセプタクル1110のサイズが低減される。プレート102は、上部分および底部分の最小サイズのレセプタクルに配置され得、したがって、必要とされる流体の量が最小限に抑えられる。
上で説明されるように、特に回転可能なシリンダ100に関して、シリンダおよびバルクは、ガラス、または別の好適な材料で作製され得る。代替的に、バルクは、コーティングの同じ方向への反射を有しない、例えば、不透明、非常に拡散しやすい、または異なる方向へ偏向する任意の固体物体で満たされ得る。
MPLシリンダ1100および流体112は、同じ屈折率を有することができる。代替的に、MPLシリンダ1100および流体112は、異なる屈折率を有することができる。例えば、MPLシリンダ1100は、第1の屈折率を有することができ、流体112およびプレートは、同じ第2の屈折率を有することができる。したがって、単一の装置は、様々なプレート102で動作することができる。
典型的には、MPLシリンダ1100の外面1100Uは、シリンダへの入力試験光ビーム420Aの通常入力420Bを容易にするために研磨される。MPLシリンダ1100の内面1100Nは、研磨または未研磨であることができる。MPLシリンダ1100の精度(例えば、外面1100Uの滑らかさ)、サイズ、および形状は、プレート102上のコーティングの必要な精度の測定によって判定され得る。
ここで図15を参照すると、は、MPLシリンダの代替的な実施形態のスケッチである。MPL試験装置1450の垂直断面は、先の図に示されるように、丸くてもよく(試験MPLシリンダ1100)、または、本図に示されるように、中空ボール1100Xの完全な部分またはスライスされた部分などの代替的な形状であってもよい。代替的に、図示されていないが、くさび形であってもよい)。
実施形態は、ユニバーサル測定アクセサリ(UMA)に装着された上で説明される試験装置(ジグ)400およびMPL試験装置1450を含むことができる。これらの場合、UMAは典型的に入力試験光源4を提供する。また、UMAは、装置を保持し、装置を回転させることで、光学サンプルを回転させる、回転装着部を提供する。例えば、底部分406モータ取り付け領域408Bまたは位置決めアイテム1107が接続されているモータ408Aによって実装されるターンテーブルは、装置を回転させる(400、1450)。典型的には、回転は、サンプルの中心の周り、特に装置の高さ軸の周りである。UMAはまた、典型的には、検出器、例えば、出力光コレクタ104を提供する。検出器は、光学サンプルの周りを回転するレバレッジ(アーム)に実装され得、装置の回転軸と実質的に同じ回転軸を有する。
このUMA構成により、反射光(入力試験光)は、装置(400、1450)および検出器の角度回転を変えることにより、様々な範囲の角度で検出器に照準(偏向)され得る。一般に、試験装置(400、1450)および出力光コレクタ104は、実質的に共通の軸を有する2つの要素として構成され、それぞれ共通の軸を中心に回転し、装置は軸を中心に構成され、コレクタは装置を中心に回転する。
図6Aを再び参照すると、試験装置400に関して上で説明される光学サンプルを特徴付けする方法のフローチャートを、MPL試験装置1450に適用することができる。
試験方法610は、ステップ600で始まり、MPLシリンダ1100に対して垂直に光ビーム1420が提供される。
ステップ601では、上で説明されるように、任意選択的な構成が使用される。
ステップ602では、出力光は、上で説明されるように、MPLシリンダ1100、レセプタクル1110を横断し、プレート102から反射された後に収集される。
ステップ604では、プレート102は、上で説明されるように回転される。プレートを回転させた後、出力光は、新しい既知の角度で再び収集され得る(ステップ602)。この回転および収集のサイクルは、必要に応じて繰り返されて、試験されるべき所望の範囲の角度に関するデータが収集され得る(ステップ604は、ステップ602に戻る)。
ステップ606では、任意選択的な計算(処理、信号処理)が収集された信号に対して実施され得、収集された出力光602からのデータが処理されることで、光学試験の結果を計算し、試験中の光学サンプルのコーティングおよび/またはプレート102の透過率および/または反射率の性能指数を判定することができる。
ステップ608では、任意選択的に、収集および処理の結果を出力、表示、記憶、および/または転送することができる。
なお、上で説明される実施例、使用する数値、および例示的な計算は、本実施形態の説明を補助するものである。不用意な誤植、数学的誤差、および/または簡略化された計算の使用は、本発明の有用性および基本的利点を損なうものではない。
添付の特許請求の範囲が、複数の依存関係なしで起草されている限り、これは、そのような複数の依存関係を許可しない管轄区域内の形式的要件に対応するためだけに行われてきた。特許請求の範囲を多重依存させることによって暗示される特徴のすべての可能な組み合わせが明示的に想定され、本発明の一部とみなされるべきであることに留意されたい。
上記の説明は、例としてのみ機能することを意図しており、多くの他の実施形態は、添付の特許請求の範囲に定義される本発明の範囲内で可能であることが理解されるであろう。

Claims (27)

  1. 光学材料のサンプルの光学試験のための装置であって、
    (a)回転可能なアセンブリであって、
    (i)光学的に透明な一般的なシリンダであって、前記一般的なシリンダの軸上に中心中空を有し、前記中空が、前記光学材料のサンプルの少なくともコア領域を受容するようにサイズ決定された一般的なシリンダ、
    (ii)前記中空を含むレセプタクルであって、前記レセプタクルは、前記光学材料のサンプルの少なくとも一部分を受容するようにサイズ決定され、流体が少なくとも前記コア領域を取り囲み、接触し、前記一般的なシリンダと接触するように、一定量の前記流体を受容するように密閉されたレセプタクル、を備える、回転可能なアセンブリと、
    (b)前記軸と整列され、前記一般的なシリンダの高さ軸の周りで前記回転可能なアセンブリを回転させるように動作可能なターンテーブルと、
    (c)光学配置であって、
    (i)前記軸と整列され、
    (ii)前記一般的なシリンダの第1の側で表面領域に垂直な光学光ビームを提供する光源を含み、
    (iii)出力信号を受け入れる光学検出器であって、前記出力信号が前記表面領域からの前記光学光ビームの反射を含み、前記光学検出器が、前記一般的なシリンダの前記第1の側の表面領域に垂直である光学配置と、を備える、装置。
  2. 光学材料のサンプルの光学試験のための装置であって、
    (a)アセンブリであって、
    (i)光学的に透明な一般的なシリンダであって、内部が前記一般的なシリンダの内面から前記一般的なシリンダの中心軸に向かってバルク材料部分で部分的に満たされ、前記内部が前記一般的なシリンダの反対側の内面から延在し、前記軸を含む中空部分を有し、前記中空が前記光学材料のサンプルの少なくともコア領域を受容するようにサイズ決定される、一般的なシリンダ、
    (ii)前記中空を含むレセプタクルであって、前記レセプタクルは、前記光学材料のサンプルの少なくとも一部分を受容するようにサイズ決定され、流体が少なくとも前記コア領域を取り囲み、接触し、前記一般的なシリンダおよび前記バルクの少なくとも一部分と接触するように、一定量の前記流体を受容するように密閉されたレセプタクル、を備える、アセンブリと、
    (b)光学配置であって、
    (i)前記軸と整列され、
    (ii)前記一般的なシリンダの第1の側の表面領域に垂直な光学光ビームを提供する光源を含み、
    (iii)出力信号を受け入れる光学検出器であって、前記光学光ビームからの前記出力信号が前記コア領域に衝突し、前記光学検出器が前記一般的なシリンダの表面領域に垂直である光学配置と、を備える、装置。
  3. 前記アセンブリは、回転可能なアセンブリであり、
    (c)前記軸と整列され、前記一般的なシリンダの高さ軸の周りで前記回転可能なアセンブリを回転させるように動作可能なターンテーブルをさらに備える、請求項2に記載の装置。
  4. 前記バルクは、前記レセプタクルの実質的に半円状の半分を満たす、請求項2に記載の装置。
  5. 前記バルク材料が、前記一般的なシリンダの光学的に透明な材料と同じ光学的に透明な材料である、請求項2に記載の装置。
  6. 前記光学配置を受容し、前記光源と前記光学検出器とを整列させるために調整可能な装着配置をさらに備える、請求項1または請求項2に記載の装置。
  7. 前記レセプタクルに対して前記サンプルの場所を固定するクランプ機構をさらに備える、請求項1または請求項2に記載の装置。
  8. 前記回転可能なアセンブリに動作可能に接続され、前記回転可能なアセンブリを回転させるように動作可能なモータと、
    前記回転可能なアセンブリに動作可能に接続され、少なくとも前記回転可能なアセンブリの回転角度に関する位置情報を提供するように動作可能なエンコーダと、をさらに備える、請求項1または請求項3に記載の装置。
  9. 前記一般的なシリンダが、シリンダ、およびプリズムからなる群から選択される、請求項1または請求項2に記載の装置。
  10. 前記一般的なシリンダ、前記サンプル、および前記流体の屈折率が実質的に等しい、請求項1または請求項2に記載の装置。
  11. 前記流体が、屈折率整合流体であり、前記サンプルおよび前記流体の屈折率が、実質的に等しい、請求項1または請求項2に記載の装置。
  12. 前記一般的なシリンダおよび光学材料の前記サンプルが、同じ光学的に透明な固体材料で作製される、請求項1または請求項2に記載の装置。
  13. 前記一般的なシリンダが、前記一般的なシリンダの前記高さ軸に対して平行に実質的に対称的である、請求項1または請求項3に記載の装置。
  14. 前記一般的なシリンダが、
    (a)静止している、
    (b)単一軸で回転可能である、
    (c)2つ以上の軸で回転可能である、
    (d)所定の範囲の角度で回転可能である、
    (e)法線から前記サンプルまで±90度回転可能である、よりなる群に従って位置決めされる、請求項1または請求項2に記載の装置。
  15. 前記サンプルの前記コア領域が、光ビームが前記サンプルに遭遇し、前記サンプルの試験が実施される、前記サンプルの場所である、請求項1または請求項2に記載の装置。
  16. (a)前記レセプタクルが、
    (i)前記一般的なシリンダのシリンダ直径に沿った方向のレセプタクル幅であって、前記シリンダ直径よりも小さい、レセプタクル幅、および
    (ii)前記レセプタクル幅と平行でないレセプタクル厚さであって、前記一般的なシリンダの第1の側と第2の側との間のレセプタクル厚さ、を有し
    (b)前記サンプルが、
    (i)前記シリンダ直径に沿った方向のプレート幅であって、前記レセプタクル幅が前記プレート幅よりも大きい、プレート幅、および
    (ii)前記プレート幅に平行でないプレート厚さであって、前記レセプタクル厚さが前記プレート厚さよりも大きい、プレート厚さ、を有する、請求項1または請求項2に記載の装置。
  17. 前記レセプタクル幅および前記プレート幅が、実質的に平行に整列される、請求項16に記載の装置。
  18. 前記レセプタクルが、0.5立方センチメートル(cc)~50ccの流体を含むように構成される、請求項1または請求項2に記載の装置。
  19. 前記サンプルが、
    (a)ガラスプレート、
    (b)コーティングされたガラスプレート、
    (c)薄膜偏光子、
    (d)ガラス偏光子、
    (e)プラスチック偏光子、
    (f)ビームスプリッタ、
    (g)波プレート、
    (h)光ガイド光学要素(LOE)、
    (i)構造化光学要素であって、
    (i)規則格子、
    (ii)ホログラフィック格子、
    (iii)ホログラフィックボリューム格子、
    (iv)回折光学要素、
    (v)フレネルレンズ、
    (vi)サブ波長フォトニック構造、および
    (vii)ワイヤグリッドよりなる群から選択される、請求項1または請求項2に記載の装置。
  20. 前記光学要素がコーティングでコーティングされ、前記コーティングが前記サンプルに入射する光を操作するために使用される、請求項1または請求項2に記載の装置。
  21. 前記光学配置が、
    前記光学光ビームを準備し、前記光学光ビームを前記一般的なシリンダに入力するコリメーティング光学部品であって、少なくとも2つの自由度で調整可能なコリメーティング光学部品を含む、請求項1または請求項2に記載の装置。
  22. 前記光学光ビームの光路が、前記一般的なシリンダおよび前記流体を通っており、前記光路の大部分が、前記一般的なシリンダを通っている、請求項1に記載の装置。
  23. 請求項1または請求項3に記載の装置に動作可能に接続されたコントローラであって、
    (a)前記一般的なシリンダの第1の側の表面領域に垂直に光学光ビームを入力することを開始し、
    (b)光ビーム経路が前記中空に到達するまで前記一般的なシリンダの第1の側を介して横断し、次いで、前記第1の側から前記サンプルの第1の側上の前記中空の前記流体内に横断し、前記サンプルを通り、前記サンプルの他方の側上の前記流体を通り、前記一般的なシリンダの第2の側に入り、前記第2の側を横断し出力信号として前記一般的なシリンダの前記第2の側の表面領域に垂直に出るように、前記一般的なシリンダを位置決めし、
    (c)前記光学検出器による前記出力信号の捕捉をアクティブ化するように構成される、コントローラ。
  24. 前記コントローラは、
    (a)前記一般的なシリンダを前記光ビーム経路に対して前記サンプルの第1の角度で位置決めした後、
    (b)前記サンプルが前記光ビーム経路に対して第2の角度にあるように前記一般的なシリンダを回転させ、
    (c)前記捕捉および前記回転を繰り返すように、さらに構成される請求項23に記載のコントローラ。
  25. 光学材料のサンプルを光学試験するための方法であって、
    (a)請求項1または請求項3に記載の装置を提供するステップと、
    (b)前記一般的なシリンダの第1の側の表面領域に垂直に光学光ビームを入力するステップと、
    (c)光ビーム経路が前記中空に到達するまで前記一般的なシリンダの第1の側を介して横断し、次いで、前記第1の側から前記サンプルの第1の側上の前記中空の前記流体内に、前記サンプルを通り、前記サンプルの他方の側上の前記流体を通り、前記一般的なシリンダの第2の側に入り、前記第2の側を横断し出力信号として前記一般的なシリンダの前記第2の側の表面領域に垂直に出るように、前記一般的なシリンダを位置決めするステップと、
    (d)前記光学検出器によって前記出力信号を捕捉するステップと、を含む、方法。
  26. (a)前記光ビーム経路に対する前記サンプルの第1の角度での前記位置決め後に、
    (b)前記サンプルが前記光ビーム経路に対して第2の角度であるように前記一般的なシリンダを回転させるステップと、
    (c)前記捕捉および前記回転を繰り返すステップと、をさらに含む、請求項25に記載の方法。
  27. 前記捕捉によって収集されたデータを処理して前記光学試験の結果を計算する前記ステップをさらに含む、請求項26に記載の方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230096149A (ko) 2019-01-24 2023-06-29 루머스 리미티드 2차원 확장이 가능한 도광 광학 소자를 포함하는 광학 시스템
BR112022009872A2 (pt) 2019-12-05 2022-08-09 Lumus Ltd Dispositivo óptico e método para fabricar um dispositivo óptico
TW202235772A (zh) 2020-11-09 2022-09-16 以色列商魯姆斯有限公司 Ar系統中顏色校正的背反射
JP7490286B2 (ja) 2021-02-25 2024-05-27 ルーマス リミテッド 矩形導波路を有する光学アパーチャ増倍器
DE102022113090B4 (de) * 2022-05-24 2024-03-21 Rodenstock Gmbh Verfahren zur optischen Vermessung eines zumindest teilweise transparenten Probekörpers

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3913407B2 (ja) * 1999-07-09 2007-05-09 株式会社リコー 屈折率分布の測定装置及び方法
EP1484596A1 (de) 2003-06-05 2004-12-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zur dreidimensionalen Bestimmung des Brechungsindex von transparenten Schichten
WO2009015678A1 (en) * 2007-08-01 2009-02-05 MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Sample holding device, in particular for holding a rodent or an mr phantom in an mrt device
US9357925B2 (en) * 2013-08-02 2016-06-07 John Adamovics Method and apparatus for scanning 3D dosimeters
US9470633B2 (en) * 2014-02-14 2016-10-18 Google Inc. Method, apparatus and system for transmittance measurement
US10310248B2 (en) * 2016-08-18 2019-06-04 Olympus Corporation Microscope including a medium container containing an immersion medium in which a specimen container containing an immersion medium and a sample is immersed
CN106403830B (zh) * 2016-09-26 2018-11-20 中国科学院上海光学精密机械研究所 椭偏仪测量超薄膜层的精度提升方法和装置
US11065475B2 (en) * 2017-12-05 2021-07-20 Siemens Medical Solutions Usa, Inc. Multi-cycle dosimetry and dose uncertainty estimation
IL277715B2 (en) 2018-04-08 2024-02-01 Lumus Ltd Characteristic of optical samples
CN110542541B (zh) * 2019-08-08 2021-04-09 歌尔光学科技有限公司 一种镜片反射率测量方法及测量装置
US11733182B2 (en) * 2019-12-20 2023-08-22 Varex Imaging Corporation Radiographic inspection system for pipes and other structures using radioisotopes
WO2021178889A1 (en) * 2020-03-05 2021-09-10 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Three-dimensional dosimetry procedures, methods and devices, and optical ct scanner apparatus which utilizes fiber optic taper for collimated images

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