JP2023502086A - Ｐａｇ不含ポジ型化学増幅レジスト組成物及びそれの使用法 - Google Patents

Abstract

開示された発明は、フェノール系樹脂成分、光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート成分（ＰＡＣ）、溶剤成分を含み、かつ添加された光酸発生剤（ＰＡＧ）の使用を含まないまたは必要としないレジスト組成物に関する。前記ＰＡＣは、フリーのＰＡＣ、結合されたＰＡＣ（ＰＡＣｂ）、またはそれらの組み合わせであり、これらは、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料を含むかまたは置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合された化合物を含み、ＵＶ露光時にスルホン酸類を形成しない。前記フェノール系樹脂成分は、ノボラック誘導体であり、フリーのヒドロキシ基のうちの一部または全てが、ＰＡＣｂ部分を含むことができる酸解裂性アセタール部分で保護されているものである。開示された発明はまた、厚膜または薄膜フォトレジストデバイス製造法のいずれかに本発明の組成物を使用する方法にも関する。

Description

開示される発明は、集積回路（ＩＣ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）デバイス、及びディスプレーデバイスを製造するために使用されるポジ型感放射線性水性塩基可溶性フォトレジスト組成物に関する。

フォトレジスト組成物は、コンピュータチップ、集積回路、発光ダイオード（ＬＥＤ）デバイス及びディスプレーの製造など、微細化された電子部品の製造のためのマイクロリソグラフィプロセスに使用されている。これらのプロセスでは、一般的に、先ずフォトレジスト組成物の膜を、集積回路の製造に使用されるケイ素ウェハなどの基材に施す。次いで、コーティングされた基材をベークして、フォトレジスト組成物中の溶媒を蒸発させ、基材上にコーティングを定着させる。基材のコーティング及びベークされた表面は次に結像性放射線による像様露光に付される。

この放射線暴露は、コーティングされた表面の暴露された領域において化学的な変化を引き起こす。可視光線、紫外線（ＵＶ）、電子ビーム及びＸ線放射エネルギーが、現在マイクロリソグラフィプロセスにおいて常用されている画像形成用の放射線種である。この像様暴露の後、コーティングされた基材を現像剤溶液で処理して、基材のコーティングされた表面の放射線暴露された領域または未暴露の領域のいずれかを溶解、除去する。

フォトレジスト組成物には、ネガ作動型とポジ作動型の二つのタイプのものがある。ポジ作動型フォトレジスト組成物を放射線に像様露光すると、放射線に暴露された領域のレジスト組成物が、現像剤溶液に対して溶け易くなり（例えば、塩基可能性基の放出または溶解防止剤の光分解）、他方で、露光されていない領域のフォトレジストコーティングはこのような溶液に対して比較的不溶性のまま残る。それ故、露光されたポジ作動型レジストを現像剤で処理すると、露光された領域のフォトレジストコーティングが除去されてコーティングにポジ型の画像が形成され、それによって、元はフォトレジスト組成物が堆積していた下にある基材の表面の所望の部分が裸出される。

水性塩基で現像可能なポジ作動型感光性フォトレジスト組成物の使用は従来技術において既知である。このような従来技術の殆どは、フェノール系または（メタ）アクリレート系樹脂をベースとする化学増幅フォトレジスト、またはノボラック／ジアゾナフトキノンをベースとする非化学増幅フォトレジストのいずれかに関するものである。ノボラック／ジアゾナフトキノンフォトレジストでは、露光されたレジスト領域において水性塩基中でのノボラック樹脂のより高速な溶解を招くジアゾナフトキノン化合物（ＰＡＣ）の光分解を介してポジ型の画像が形成され、これらのタイプのフォトレジストは、より長いＵＶ波長、例えばｉ線（３６５ｎｍ）を有するＵＶ波長で使用され、そして集積回路（ＩＣ）の製造において長年にわたって主力のフォトレジストであった。

化学増幅ポジ型フォトレジストでは、塩基可溶性樹脂、通常はフェノール系樹脂または（メタ）アクリレート系樹脂が、元は塩基可溶化部分をマスクしていたこれらの樹脂上の保護基の酸触媒解裂によって、放射線に暴露された領域のレジスト中に放出され、それを水性塩基現像可能なものとする。これらの化学増幅フォトレジストでは、触媒作用を有する酸が、光酸発生剤（ＰＡＧ）成分の光分解によって形成される。これらのタイプのレジストは、典型的には、ＩＣの製造におけるより高い解像度を求めて比較的短い波長で使用される。

厚膜用途では、慣用の（ジアゾナフトキノン）ＤＮＱ／ノボラック樹脂プラットフォームは、それらの高い膜吸収の故に特に比較的厚手の膜では、傾斜したプロフィルを生じさせる。他方で、ポジ型化学増幅（ＣＡ）プラットフォームは５から１０μｍの範囲の膜厚にわたって満足な性能を供することができるが、これらの樹脂に従来から使用されるポリマーは、慣用のノボラック樹脂よりもかなり高額である。また、ポジ型化学増幅レジストのうちポスト露光ベークを要する或る設計では、ＩＣデバイススループットに悪影響が生じる場合がある。費用及びデバイススループットは、ディスプレーの製造に関する用途でも問題であるが、この用途でのレジストの厚さに関する要求は比較的小さい（１～３μｍ）。デバイススループットの問題に対する潜在的な影響は、塩基可溶化部分をマスクする保護基が、塩基可溶化部分を脱マスクするためのそれらの解裂に高い活性化エネルギーを有する或る種の化学増幅レジストにおいて起こる。これらの高エネルギー基は酸によって触媒することで除去可能であるが、この除去は、時間のかかるポスト露光ベークステップを必要とする。また、高活性化エネルギーポジ型化学増幅レジストでは、この設計に付随する空気塩基汚染に対する敏感さという問題もある。というのも、良好な解像度を有するためには、これらの樹脂は、高活性化エネルギー基の解裂の程度と露光されたレジスト膜の溶解との間に高度の非線形性を有するからである。それ故、露光後に表面上で少しでも酸が枯渇すれば、これは、露光とベークとの間の遅延時間において、表面でのこれらの基の低い程度の脱保護化を引き起こし、このことは、不溶性レジスト表面層として明らかになる。このポスト露光遅延効果は、生じるポジ型画像が望ましくない大きなＴ字型を有するためＴトッピング（Ｔ－ｔｏｐｐｉｎｇ）とも呼ばれ、これは、製造において欠陥を、そして低いデバイス収率を招く。

"Ｄｉａｚｏｎａｐｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ－ｂａｓｅｄ Ｒｅｓｉｓｔ，Ｖｏｌｕｍｅ ＴＴ １１"， Ｒａｌｐｈ Ｄａｍｍｅｌ，ＳＰＩＥ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｅｓｓ （１９９３），Ｃｈａｐｔｅｒｓ ２ ａｎｄ ３ "Ｄｉａｚｏｎａｐｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ－ｂａｓｅｄ Ｒｅｓｉｓｔｓ，Ｖｏｌｕｍｅ ＴＴ １１"， Ｒａｌｐｈ Ｄａｍｍｅｌ， ＳＰＩＥ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｅｓｓ （１９９３） ２０

開示される発明の一つの観点は、ディスプレーの製造における比較的薄い膜（１～２μｍ）の用途に使用できるが、厚膜用途（３～１０μｍ）に使用するためにも十分に柔軟性であり、光酸発生剤（ＰＡＧ）を含まずまたは必要とせず、そして薄膜用途及び一部のより厚手の膜の用途においてポスト露光ベーク（ＰＥＢ）を必要としない、慣用の化学増幅システムとノボラックジアゾナフトキノンとの間のハイブリッドをベースとする費用競争力のあるレジストシステムを提供することである。

この開示された発明は、慣用のノボラック／ＤＮＱレジストと、光酸発生剤（ＰＡＧ）を含まない化学増幅レジストとの間のハイブリッドである新規のレジストを記載する。具体的には、このハイブリッドでは、ノボラックポリマーは、そのフェノール官能基がアセタール基で部分的にブロックされている。このタイプのアセタールポリマーは、ノボラック及びＤＮＱ化合物の両方を、例えば、典型的には低温で、モノ－ビニルエーテル及び／またはジ－ビニルエーテル（ＤＶＥ）と反応させることによって製造される。加えて、この新規のハイブリッドレジストシステムの一つの変形では、モノ－ビニルエーテル保護基から誘導されるアセタールは、ＤＮＱ部分で官能化されていてよく、その際、その官能化結合点は非酸感応性連結基を介したまたは第二の酸解裂性アセタール部分を介したものでよい。

厚膜用途の一部の変形では、これらの新規のハイブリッドは、最低約４重量％までの低濃度でＤＮＱを組み入れ得る。これらの用途では、このような変形は、レジスト膜中でのＵＶ光の低い吸収を保証して、厚膜を必要とするＩＣデバイスの製造など薄厚用途での有用性をこれらのハイブリッドシステムに与える。具体的には、慣用のＤＮＱレジストは、十分な溶解防止及びコントラストを得るために、典型的には１７～３０％のＤＮＱを含む。それ故、標準的なノボラック／ＤＮＱレジストは、ここに記載の該新規ハイブリッドシステムにおけるよりもかなり大きい吸収を１μｍ当たりで有する。それ故、標準的なノボラック／ＤＮＱはＤＮＱ光活性部分（ＰＡＣ）のブリーチングを経る一方で、このブリーチングは厚膜用途では不十分であり、厚膜のかなり深い所までブリーチングされていない状態でＰＡＣを残す。それにより、レジストプロフィルが傾斜したまたはスカムが残るプロフィルを有するようになり、デバイス収率に悪影響を及ぼす。また、ここに記載の該新規ハイブリッドシステムでは、使用されるアセタール保護量は、ジビニルエーテル保護基による方策を用いる場合は比較的少ない（例えば、ノボラック中の全フェノール部分の７モル％未満の保護が必要される）。それ故、厚膜用途では、この新規プラットフォームは、慣用の化学増幅システムと比べて、吸収が小さいＤＮＱをかなりより低い濃度で用い及び保護基による保護の％がより低い高防止システムを提供する。その結果、直線状の壁プロフィルを有するレジスト画像を供することによる開示された発明のこの厚膜態様は、慣用のノボラック／ＤＮＱシステムで起こる傾斜プロフィルの問題を解決する。

より薄いレジスト膜を必要とするディスプレー用途では、ここに記載の該新規ハイブリッドレジストシステムは、より高程度にモノビニルエーテルにより保護されたノボラック、及び吸光度が決定的でない限りはより多量のＤＮＱ ＰＡＣを用いて調製し得る。この方策は、高い解像度、コントラストを持つが、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）を必要とせず、製造スループットを高め、及び有害なポスト露光遅延効果、例えばかなりの程度のＴトッピングを有する図形の形成の可能性を低減させる、薄膜フォトレジストを有利に提供する。理論より拘束されるものではないが、ＰＥＢは場合により必要ではない、というのも、低活性化エネルギーアセタール保護基は、これらの用途での比較的薄い膜の使用下に、露光された領域におけるレジスト膜が露光段階の間に完全に脱保護化されることを確実にすることを助け得、そうして、このようなベークの必要性を除去するからである。

また、アセタール基は露光の間に脱保護されるので、ＰＡＧ（追加的に供されるＰＡＧ、またはインサイチューで形成されるスルホン酸などのＰＡＧ）を含めることは必要ではない。それ故、露光の間のこの脱保護は、露光されたレジスト表面において空気汚染物が光酸を消費する機会を減らし得、そうして薄膜レジストにおけるポスト露光遅延効果、例えば画像形成されたレジスト図形の深刻なＴトッピングが避けられ得る。画像形成されたレジスト図形の深刻なＴトッピングはデバイス収率に影響を与え得るので、それは解決するのが重要な問題である。また、本発明による薄膜においてＰＥＢを無しで済ませることができるために、開示された発明の態様は、プロセス時間が減少されるために、デバイススループットを高めるという問題の解決を可能にする。

最後に、該新規ハイブリッドレジストシステムの厚膜または薄膜バリエーションのいずれでも、反応の後のポリマー抽出または単離無しで直接的な調製が簡単な低コストレジストプラットホームが供される。

先に触れた通り、ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、ここに記載のこれらの組成物が、光活性化合物（ＰＡＣ）として、フェノール系部分の２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネート（別称では、フェノール系部分の６－ジアゾ－５－オキソ－５，６－ジヒドロナフタレン－１－スルホネート）及びそれの誘導体（例えば、これらの２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネートを組み入れたより大きなモノ－またはポリフェノール系分子）を排他的に利用する点で、国際特許出願ＰＣＴ／ＥＰ２０１９／０６３２１６に開示されるものと大きく異なっている。重要な点は、これらの２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネートＰＡＣ化合物は、ＵＶ光に暴露された時にスルホン酸類を生成しないが、約３．４またはそれ超のｐＫａを有するインデンカルボン酸のみを生成することである。従って、開示及び特許請求されるレジスト組成物は、光酸発生剤（ＰＡＧ）材料（別の言い方では、約２またはそれ未満のｐＫａを有する強酸、例えばアリールスルホン酸、アルキルスルホン酸、パーフルオロアルキルスルホン酸、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＡｓＦ_６、トリス（パーフルオロアルキルスルホニル）カーバイド、ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）アミド、テトラフルオロアルキルボレート及び類似物をＵＶ暴露時に光発生する材料）を必要としないか、または含まない。

アセタール保護基の脱保護は、比較的薄い膜の用途、場合により一部の非常に薄い膜では、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）無しでＵＶ露光中にインサイチューで起こるが、これらの比較的厚手の膜におけるＵＶ露光の間の室温下での不十分な脱ブロック化の故にレジストを現像するためにＰＥＢが必要な場合がある。

ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、
（ｉ）フェノール系樹脂成分、
（ｉｉ）一つまたは複数の光活性非酸発生光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート化合物（ＰＡＣ）成分（“ＤＮＱ－ＰＡＣ成分”）；
（ｉｉｉ）溶剤成分、及び
（ｉｖ）一種または複数の任意成分、
を含む化学増幅型レジスト組成物であって、
添加されたＰＡＧを含まない、化学増幅型レジスト組成物である。

更に別の態様の一つでは、ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、添加されたＰＡＧの存在無しに、様々な濃度での前記の組成物から本質的になる。このような態様では、これらの成分の合計量は１００重量％に等しくなく、そして該レジスト組成物の効果を実質的に変化させない他の成分を含むことができる。

また更に別の態様の一つでは、ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、様々な濃度で成分（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）からなる。このような態様では、成分（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）の合計量はおおよそ１００重量％に等しいが、該レジスト組成物の効果を実質的に変化させないような少量で存在する他の少量の及び／または痕跡量の不純物を含み得る。

特に、ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、フェノール系樹脂を脱保護するために光酸発生剤（ＰＡＧ）を必要としないまたは含まず、そしてまた、或る特定のリソグラフィプロセス／用途（例えば薄膜用途）に使用される場合には、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）ステップも必要としない。

該フェノール系樹脂は、ノボラック誘導樹脂またはヒドロキシスチレン誘導樹脂である。これらの樹脂は、フリーのヒドロキシ基並びに保護されたヒドロキシ基を含む。保護されたヒドロキシ基は、様々な態様において、該フェノール系樹脂の異なるポリマー鎖の間での架橋も提供し得る酸不安定性の単官能性または置換されたアセタール基によって保護されている。

ＤＮＱ－ＰＡＣ成分は、（ｉ）ＰＡＣ部分でまたはＰＡＣ部分を含む化合物で官能化されたアセタール部分（ここでは「ＰＡＣｂ」と称する）、及び（ｉｉ）アセタール部分の成分ではないフリーのＰＡＣ成分（すなわち、ＰＡＣ、またはＰＡＣ部分を含む化合物）のうちの一つまたは複数である。

開示された発明は、リソグラフィプロセスの一部として基材上に前記レジスト組成物をコーティングする方法にも関する。

添付の図面は、開示された発明の更なる理解をもたらし、そして本明細書中に取り入れられ、それの一部を構成するものであるが、これらは、開示された発明の態様を例示し、そして発明の詳細な説明と共に、開示された発明の原理を説明するのに役立つものである。

図１は、フリーのＰＡＣ成分として使用し得るかまたは結合したＰＡＣｂ成分を形成するために使用し得る、ＤＮＱ－ＰＡＣのタイプの非限定的な例を示す。 図２は、ノボラックを酸触媒の存在下にアルキルビニルエーテル（例えば、エチルビニルエーテル）と反応させることによる、アセタール保護ノボラックを製造するための例示的な手順を示す。 図３は、Ｘａアルキレン連結基を含むフェノール系樹脂を製造するための例示的な手順であって、前記アルキレン連結部分が、酸の存在下でのノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えば１，４－ヘキサンジオールのジビニルエーテル）との反応を介して二つのポリマー鎖の間に導入され、これらの鎖を連結している、例示的手順を示す。 図４は、Ｘａアルキレン－Ｏ－アルキレン連結基を含むフェノール系樹脂を製造するための例示的な手順であって、前記アルキレン－Ｏ－アルキレン連結基が、酸の存在下でのノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えばジエチレングリコールのジビニルエーテル）との反応を介して二つのポリマー鎖の間に導入され、これらの鎖を連結している、例示的手順を示す。 図５は、Ｘａアルキレン－Ｏ－アルキレン連結基を含むフェノール系樹脂を製造するための例示的な手順であって、前記アルキレン－Ｏ－アルキレン連結基が、酸の存在下でのノボラックフェノール部分とビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）、グリコール類（例えばジエチレングリコール）との反応を介して二つのポリマー鎖の間に導入され、これらの鎖を連結している、例示的手順を示す。 図６は、Ｘｄアルキレンアセタール部分（アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）連結基及びＰＡＣｂを有する（構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む）フェノール系樹脂を製造するための例示的な手順であって、ノボラック樹脂を、酸の存在下に、ジビニルエーテル（例えば１，４－シクロヘキサンジオールまたはジエチレングリコールのジビニルエーテル）及び少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣ化合物と反応させた例示的手順を示す。 図７は、Ｘｄアルキレンアセタール部分（アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）連結基及びＰＡＣｂを有する（構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む）フェノール系樹脂を製造するための他の例示的な手順であって、ノボラック樹脂を、酸の存在下に、ジビニルエーテル（例えば１，４－シクロヘキサンジオールまたはジエチレングリコールのジビニルエーテル）及び少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣ化合物と反応させる例示的手順を示す。 図８は、ノボラックを、グリコール化合物（例えば、エチレングリコールまたはジエチレングリコール）、単官能性ビニルエーテル（例えば、エチルビニルエーテル）及び酸と反応させる例示的な手順を示す。 図９は、ノボラックを、グリコール化合物（例えば、エチレングリコールまたはジエチレングリコール）、単官能性ビニルエーテル（例えば、エチルビニルエーテル）及び酸と反応させる他の例示的な手順を示す。 図１０は、Ｘｄ連結部分が、ノボラック樹脂を酸の存在下にアルキルビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）及び少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣと反応させることによって起こるトランスアセタール反応を介して生じた直接原子価結合である例示的な手順を示す。 図１１は、酸性条件下でのビニルオキシアルキレンオキシＰＡＣ誘導体とノボラックポリマーとの間の反応によってＸｄアルキレンオキシ連結アセタール部分を形成できる例示的手順を示す。 図１２は、酸性条件下でのビニルオキシアルキレンＰＡＣ誘導体とノボラックポリマーとの間の反応によってＸｄアルキレン連結アセタール部分を形成できる例示的手順を示す。 図１３は、比較例２で得た断面ＳＥＭ写真であり、現像前露光後の僅か３０分の遅延後のＴトップドラインを示す。

前記の一般的な説明及び以下の詳細な説明は双方とも例示、説明のためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明に関してそれを限定するものではないと理解するべきである。本願において、他に具体的に記載がなければ、単数形の使用は複数を包含し、単数形は「少なくとも一つ」を意味し、そして「または」の使用は「及び／または」を意味する。更に、「含む」という記載、並びに「含まれる」などの他の動詞形の使用は限定的ではない。また、「要素」または「成分」などの記載は、他に具体的に記載がなければ、一つの構成単位を含む要素及び成分、並びに１つ超の構成単位を含む要素または成分を包含する。他に指示が無ければ、ここで使用する「及び」という接続詞は包括的であることを意図しており、「または」という接続詞は排他的であることを意図していない。例えば、「またはその代わりに」というフレーズは、排他的であることを意図している。ここで使用する「及び／または」という記載は、単一要素の使用も含む、前述される要素の任意の組み合わせを指す。

ここで使用する各章の表題は、文書構成を目的としたものであって、記載の主題を限定するものと解釈するべきではない。限定はされないが特許、特許出願、論文、書籍及び専門書を始めとした本願で引用する全ての文献または文献の一部は、全ての目的に関してそれらの内容の全てが本明細書中に掲載されたものとする。ここに掲載されたものとする文献参照及び類似の資料の一つ以上における用語の定義が、本願明細書におけるものと矛盾する場合は、本願の定義が優先する。

ここで、「連結点」という用語は、本発明のポリマーについて言う時はいずれの場合も、他のポリマー鎖への分岐点及び／または他のポリマー鎖への架橋点を指し、但しこの際、分岐及び／または架橋の程度は、生じた分岐及び／または架橋ポリマーが、ポリマーがスピンキャスト溶剤などの溶剤中に不溶性になるゲル点に到達することが避けられるのに十分に小さな分子量をなおも持つ程度である。

ここで、他に記載がなければ、アルキルとは、線状、分岐状（例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ－ブチル及び類似物）、または環状（例えばシクロヘキシル、シクロプロピル、シクロペンチル及び類似物）、多環式（例えばノルボルニル、アダマンチル及び類似物）であることができる炭化水素基を指す。これらのアルキル部分は、以下に記載のように置換されていてもまたは置換されていなくともよい。アルキルという用語は、Ｃ１～Ｃ２０炭素を有するこのような部分を指す。構造上の理由から、線状アルキルはＣ１から始まり、他方で、分岐状アルキルはＣ３から始まり、そして多環式アルキルはＣ５から始まると理解される。更に、以下に記載のアルキルから誘導される部分、例えばアルキルオキシ、ハロアルキルオキシは、他に記載がなければ、同じ炭素数範囲を有すると理解される。上記とは異なるアルキル基の長さが規定される場合は、アルキルの前記の定義は、前記の全てのタイプのアルキル部分を包含する点でなおも有効であり、及び所与のタイプのアルキル基の最小炭素数に関しての前記の構造に関する考察はなおも該当する。

アルキルオキシ（別称はアルコキシ）は、オキシ（－Ｏ－）部分を介して結合したアルキル基を指す（例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、１，２－イソプロポキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ及び類似物）。これらのアルキルオキシ部分は、以下に記載のように置換されていてもまたは置換されていなくともよい。

ハロまたはハライドは、一つの結合手によって有機部分に結合するハロゲン、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩを指す。

ハロアルキルは、水素のうちの少なくとも一つが、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、または１超のハロ部分が存在する場合にはこれらの混合物の群から選択されるハライドによって置き換えられている、先に定義したものなどの、線状、環状または分岐状の飽和アルキル基を指す。フルオロアルキルは、これらの部分の特定のサブグループである。

フルオロアルキルは、水素が部分的にもしくは完全にフッ素に置き換えられた先に定義したような線状、環状または分岐状飽和アルキル基を指す（例えば、トリフルオロメチル、パーフルオロエチル、２，２，２－トリフルオロエチル、パーフルオロイソプロピル、パーフルオロシクロヘキシル及び類似物）。これらのフルオロアルキル部分は、完全にフッ素化されていない場合には、以下に記載のように置換されていても、置換されていなくともよい。

フルオロアルキルオキシは、オキシ（－Ｏ－）部分を介して結合した先に定義したようなフルオロアルキル基を指し、これは完全にフッ素化されていても（別称では、パーフルオロ化）またはその代わりに部分的にフッ素化されていてもよい（例えば、トリフルオロメチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、２，２，２－トリフルオロエトキシ、パーフルオロシクロヘキシルオキシ及び類似物）。これらのフルオロアルキル部分は、パーフルオロ化されていない場合には、以下に記載のように置換されていても、置換されていなくともよい。

ここで、Ｃ１から始まる炭素原子数の可能な範囲を有するアルキル、アルキルオキシ、フルオロアルキル、フルオロアルキルオキシ部分、例えば非限定的な例として「Ｃ１～Ｃ２０アルキル」または「Ｃ１～Ｃ２０フルオロアルキル」に言及するときは、この範囲は、Ｃ１から始まる線状アルキル、アルキルオキシ、フルオロアルキル及びフルオロアルキルオキシを包含するが、Ｃ３から始まる分岐状アルキル、分岐状アルキルオキシ、シクロアルキル、シクロアルキルオキシ、分岐状フルオロアルキル及び環状フルオロアルキルのみを指定する。

ここでアルキレンという用語は、線状、分岐状または環状であることができ、二つ以上の結合点を有する炭化水素基を指す（二つの結合点を有するものでは、例えばメチレン、エチレン、１，２－イソプロピレン、１，４－シクロヘキシレン及び類似物、三つの結合点を有するものでは、例えば１，１，１－置換メタン、１，１，２－置換エタン、１，２，４－置換シクロヘキサン及び類似物が挙げられる）。この場合もまた、可能な炭素数範囲、例えば非限定的な例としてＣ１～Ｃ２０を指定する時は、この範囲は、Ｃ１から始まる線状アルキレンを包含するが、Ｃ３から始まる分岐状アルキレンまたはシクロアルキレンのみを指定する。これらのアルキレン部分は、以下のように、置換されていてもまたは置換されていなくともよい。

モノ及びオリゴマーアルキレンオキシアルキレンという用語は、単純なアルキレンオキシアルキレン部分、例えばエチレンオキシエチレン（－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－）、プロピレンオキシプロピレン（－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－）及び類似物と、オリゴマー性材料、例えばトリ（エチレンオキシエチレン）（－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－）、トリ（プロピレンオキシプロピレン）、（－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ ＣＨ_２－ＣＨ_２－ＣＨ_２－）、及び類似物との両方を包含する。

ここで、「アリール」または「芳香族基」という用語は、６～２４個の炭素原子を含むこのような基、例えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、アントラシル、ビフェニル類、ビス－フェニル類、トリス－フェニル類、及び類似物を指す。これらのアリール基は、前記の適当な置換のうちの任意のもの、例えば前記のアルキル、アルコキシ、アシル、またはアリール基によって更に置換されていてよい。

「ノボラック」という用語は、ここで使用する場合、構造の他の修飾語がない場合には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの水性塩基中に可溶性のノボラック樹脂を指す。

ここで、「アリーレン」という用語は、二つ以上の結合点（例えば２～５）を有する芳香族炭化水素部分を指し、この部分は、単一のベンゼン部分（例えば、二つの結合点を有するものとしては１，４－フェニレン、１，３－フェニレン及び１，２－フェニレン： 三つの結合点を有するものとしては１，２，４－置換ベンゼン、１，３，５－置換ベンゼン及び類似物）、二つの結合点を有する多環式芳香族部分、例えばナフタレン、アントラセン、ピレン及び類似物から誘導される部分、または二つの結合点を有する連鎖した複数のベンゼン環（例えばビフェニレン）を指し得る。芳香族部分が縮合芳香族環である例では、これらは、縮合環アリーレンと称することができ、より具体的には、例えばナフタレニレン、アントラセニレン、ピレニレンなどと命名される。縮合環アリーレンは、以下に記載するように置換されていてもまたは置換されていなくともよく、追加的にこれらの縮合環アリーレンは、二つの結合サイトを有する炭化水素置換基を縮合環上に含んでいてもよく、そうして、追加的な脂肪族または不飽和環を形成し、縮合環への結合によって５～１０個の炭素原子を有する環を形成してよい。

ここに開示される感光性組成物は、具体的にはＰＡＧ成分を含まず、ここで「ＰＡＧ」という用語は、２００～３００ｎｍなどのディープＵＶまたはＵＶ照射、ｉ線、ｈ線、ｇ線及び／またはブロードバンド照射下に、約２またはそれ未満のｐＫ_ａを有する強酸を光発生することができる任意の化合物である光酸発生剤を指す。このような強酸光発生酸の例は、アリールスルホン酸、アルキルスルホン酸、パーフルオロアルキルスルホン酸、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＡｓＦ_６、トリス（パーフルオロアルキルスルホニル）カーバイド、ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）アミド、テトラフルオロアルキルボレート、及び類似物である。ここに開示される組成物から排除されるＰＡＧ添加剤の非限定的な例は、オニウム塩、ジカルボキシイミジルスルホネートエステル、オキシムスルホネートエステル、ジアゾ（スルホニルメチル）化合物、ジスルホニルメチレンヒドラジン化合物、ニトロベンジルスルホネートエステル、ビイミダゾール化合物、ジアゾメタン誘導体、グリオキシム誘導体、β－ケトスルホン誘導体、ジスルホン誘導体、スルホン酸エステル誘導体、イミドイルスルホネート誘導体、ハロゲン化トリアジン化合物、及びスルホン酸類を光発生するジアゾナフトキノンスルホネートフェノール系エステル、例えば構造（ＶＩＩＩｂ）のＤＮＱ部分を組み入れたフェノール系化合物の３－ジアゾ－３，４－ジヒドロ－４－オキソ－１－ナフタレンスルホネートなどのＰＡＧ材料である。

ここで、ＰＡＣという用語は、２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート部分（ＶＩＩＩａ）が、スルホネートエステル（－ＳＯ_２－Ｏ－）結合を介してフェノール系化合物に結合している、フェノール系化合物の２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネートを指す。このスルホネートエステル結合を形成するフェノール系化合物は、１超のフェノール性ＯＨ部分で置換されたフェノール系化合物であってよく、その結果、このＰＡＣは、１超のフェノールＯＨがこのスルホネート結合を形成するこのようなフェノール系化合物であってよい。これらのフリーのＰＡＣ材料の非限定的な例は、“ＤＩＡＺＯＮＡＰＴＨＯＱＵＩＮＯＮＥ－ＢＡＳＥＤ ＲＥＳＩＳＴＳ，Ｖｏｌｕｍｅ ＴＴ １１”， Ｒａｌｐｈ Ｄａｍｍｅｌ，ＳＰＩＥ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｅｓｓ （１９９３），Ｃｈａｐｔｅｒｓ ２ ａｎｄ ３（非特許文献１）に記載されている。

これらの２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネートを含む材料（２，１，５－ＤＮＱ材料）は、ＵＶ露光した時に以下に例示するようなスルホン酸類を形成せず、光化学的にインデンカルボン酸のみを形成するジアゾナフトキノンスルホネート材料である（“ＤＩＡＺＯＮＡＰＴＨＯＱＵＩＮＯＮＥ－ＢＡＳＥＤ ＲＥＳＩＳＴＳ，Ｖｏｌｕｍｅ ＴＴ １１”，Ｒａｌｐｈ Ｄａｍｍｅｌ，ＳＰＩＥ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｐｒｅｓｓ（１９９３）２０（非特許文献２）からの抜粋）。

ここで、「アレーン」という用語は、１つの環または互いに縮合した２～８つの炭素ベース芳香族環を含む芳香族炭化水素部分を包含する。

「ヘテロアレーン」という用語は、それの芳香族性が維持される程度に限りそれぞれ１つ以上の三価または二価のヘテロ原子を含むアレーンを指す。このようなヘテロ原子の例は、Ｎ、Ｏ、Ｐ及びＳである。非限定的な例として、このようなヘテロアレーンは、１～３個のこのようなヘテロ原子を含んでよい。

明細書に他に記載がなければ、「置換された」という記載は、アリール、アルキル、アルキルオキシ、フルオロアルキル、フルオロアルキルオキシ、縮合芳香族環、アレーン、ヘレロアレーンについて言う時は、置換されていないアルキル、置換されたアルキル、置換されていないアリール、アルキルオキシアリール（アルキル－Ｏ－アリール－）、ジアルキルオキシアリール（（アルキル－Ｏ－）_２－アリール）、ハロアリール、アルキルオキシ、アルキルアリール、ハロアルキル、ハライド、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、アセチル、アルキルカルボニル、ホルミル、エテニル（ＣＨ_２＝ＣＨ－）、フェニルエテニル（Ｐｈ－ＣＨ＝ＣＨ－）、アリールエテニル（アリール－ＣＨ＝ＣＨ）、及びエテニレンアリーレン部分を含む置換基（例えばＡｒ（－ＣＨ＝ＣＨ－Ａｒ－）_ｚ（ｚは１～３））の群から選択される一つ以上の置換基も含むこれらの部分のうちの一つを指す。置換されたアリール及び置換されたアリールエテニル置換基の非限定的な具体例は次のものであり、ここで

は結合点を表す。

他は、置換基が前記の置換基のいずれかから選択された置換されたアリール、及び置換されたエテニルである。同様に、「置換されていない」という記載は、水素以外の置換基が存在しない同部分を指す。

「酸クエンチャ」及び／または「クエンチャシステム」という用語は、レジスト調合物中で、ＵＶ放射線（例えば、ｉ線またはブロードバンド放射線）への暴露の際に２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネートＰＡＣ成分によって光発生したインデンカルボン酸を捕捉するように機能し得る、アミン類などの一種以上の塩基性成分を指す。

「固形成分」という用語は、フォトレジスト調合物中の溶剤以外の成分を指す。このような成分は固形物または液体であってよい。

「フェノール系樹脂成分」という用語は、ノボラックポリマー／樹脂及びヒドロキシスチレンポリマー／樹脂を包含する、全てのフェノール系ポリマー材料を包含する。

「二つの異なる各ノボラックポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分」及び「二つの異なる各ヒドロキシスチレンポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分」という記載は、それぞれ、二官能性アセタール部分が形成した時に生じて二つの異なるフェノール性ヒドロキシノボラック繰り返し単位またはヒドロキシスチレン繰り返し単位を保護する、二つのノボラックポリマー主鎖間または二つのヒドロキシスチレンポリマー主鎖間のジアセタール連結を表すことを意図したものである。ノボラックポリマーを示す以下の非限定的な例は、二つのノボラックポリマー鎖を連結する二官能性アセタール部分を含む二つのアセタール部分を連結する有機二官能性スペーサ部分「スペーサ」を例示するものである。この例示では、以下の部分

は、第一のノボラックポリマー鎖Ａ及び第二のノボラックポリマーＢへの、ノボラックフェノール性ヒドロキシ部分を連結しそしてそれを保護するこの二官能性アセタール部分の結合を表す。

「ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分」という記載は、フェノール系ノボラックまたはヒドロキシスチレン繰り返し単位上の単一のヒドロキシ部分を保護するモノアセタール部分を表すことを意図したものである。ノボラックポリマーを示す以下の非限定的な例は、直接原子価結合または有機系スペーサ基などの連結部分が、アセタール部分を、光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート化合物に連結している例を示すものである。この例では、

の部分は、アセタールによって保護されているフェノール系ヒドロキシ部分とＰＡＣ部分で官能化された部分とを含む繰り返し単位を含むノボラックポリマー鎖を示す。

レジスト組成物
ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、次の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、任意選択に及び（Ｄ）：
（Ａ）フェノール系樹脂成分、但し、該フェノール系樹脂成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）を含むノボラック誘導体である；
（ｉ）フリーのフェノール系ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、及び
（ｉｉ）酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール系ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、但し、該酸解裂性アセタール部分は、次の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）のうちの一つ以上である；
（ａ）単官能性アルキルアセタール部分、
（ｂ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分（ここでは「ＰＡＣｂ」と称する）、
（ｃ）二つの異なる各ノボラックポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分；
（Ｂ）２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネートまたはそれの誘導体を含む、光活性でかつスルホン酸類を発生しない光活性ジアゾナフトキノン（ＰＡＣ）成分、但し、前記ＰＡＣ成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）のうちの一つ以上である；
（ｉ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分、及び
（ｉｉ）フリーのＰＡＣ成分、
（Ｃ）溶剤成分；及び
（Ｄ）一種または複数の任意成分、
を含み、
但し、添加されたＰＡＧを含まない、化学増幅型レジスト組成物である。

一つの態様では、該レジスト組成物は、前記成分を含む。

他の態様の一つでは、該レジスト組成物は、前記成分から本質的になる。

他の態様の一つでは、該レジスト組成物は、成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）からなる。

特に、ここに開示及び特許請求されるレジスト組成物は、フェノール系樹脂を脱保護するために光酸発生剤（ＰＡＧ）を必要としないまたは含まず、そしてまた、或る特定のリソグラフィプロセス（例えば、比較的薄い膜の用途）に使用される場合には、ポスト露光ベーク（ＰＥＢ）ステップを必要としない。

該ノボラック誘導樹脂は、（ｉ）フリーのフェノール系ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位及び酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール系ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位の一方または両方を含む。

前記酸解裂性アセタール部分は、（ｉ）単官能性アルキルアセタール部分；（ｉｉ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分（すなわち、ＰＡＣｂ）、（ｉｉｉ）二つの異なる各ノボラックポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分、及び（ｉｖ）これらの三種のタイプの酸解裂性アセタール部分のうちのいずれかの混合物（すなわち、酸解裂性アセタール部分が、部分（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）のうちの一つまたは複数である）のうちの一つまたは複数である。

該ＤＮＱ－ＰＡＣ成分は、（ｉ）ＰＡＣ部分でまたはＰＡＣｂ部分を含む化合物で官能化されたアセタール部分、及び（ｉｉ）アセタール部分の成分ではないフリーのＰＡＣ成分（すなわち、ＰＡＣ、またはＰＡＣ部分を含む化合物）のうちの一つまたは複数である。それ故、一つの態様では、ＰＡＣは、アセタール部分が、ＰＡＣ部分でまたはＰＡＣ部分を含む化合物で官能化されている、フェノール系樹脂を保護するアセタール部分である。他の部分の一つでは、ＰＡＣはフリーのＰＡＣであり、アセタール部分の成分ではない。更に別の他の態様の一つでは、ＰＡＣは、（ｉ）アセタール部分がＰＡＣ部分でまたはＰＡＣ部分を含む化合物で官能化されている、フェノール系樹脂を保護するアセタール部分、及び（ｉｉ）アセタール部分の成分ではないフリーのＰＡＣの両方を含む。

開示及び特許請求されたレジストの異なる観点において、ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣ化合物として使用してよく、及び／またはアセタール保護基を介してノボラック繰り返し単位中のフェノール系部分に結合（グラフト）したＰＡＣｂ部分であってよい。フリーのＰＡＣ及び／またはＰＡＣｂであるかにかかわらず、前記ＰＡＣ成分は、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料であるか、または置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合しておりかつＵＶ露光時にスルホン酸類を発生しない化合物である。図１は、フリーの成分として使用し得るかまたはその代わりに、ＰＡＣｂ部分としてフェノール系樹脂成分に結合し得る、様々なＤＮＱ－ＰＡＣの非限定的な例を示す。図１において、部分Ｄは－ＨまたはＶＩＩＩａである。

但し、この図１に示す各々の化合物において、少なくとも一つのＤは構造ＶＩＩＩａの部分である。アセタール部分を介したフェノール系樹脂成分へのＤＮＱ－ＰＡＣの結合は、エーテル結合、アセタール結合または炭素－炭素結合のいずれかを介したものであってよい。

開示された発明の一つの態様では、フェノール系樹脂成分に結合したＰＡＣｂ部分は、該フェノール系樹脂成分のフェノール系繰り返し単位へのアセタール連結基の結合点となる元々は少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＤＮＱ－ＰＡＣ材料から誘導され得る。非限定的な例として、少なくとも一つのＤ部分がＨでありかつ少なくとも一つのＤ部分が構造ＡまたはＢから選択される部分であることを条件に、図１に示すＤＮＱ－ＰＡＣを使用し得る。一つの非限定的な例において、ポリマーに結合したＰＡＣｂは、アセタール含有連結部分とエーテルまたはアセタール結合を形成するこれらのＤＮＱ－ＰＡＧ上のフリーのフェノールの反応を介して、該ポリマーと達成し得る。その代わりに、フェノール系樹脂成分への図１のＤＮＱ－ＰＡＣのアセタール含有結合は、炭素－炭素結合を介してこれらのＤＮＱ－ＰＡＣ中の芳香族環と達成し得る。

他の態様の一つでは、前記の一種または複数の任意の成分は、例えば酸クエンチャであることができる。

Ｉ．フェノール系樹脂成分
フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）から選択される少なくとも二つの繰り返し単位、好ましくは構造（Ｉ）の繰り返し単位及び構造（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）から選択される少なくとも一つの繰り返し単位を含むノボラック誘導樹脂である：

［式中、
（ｉ）Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｇ、Ｒｋ、Ｒｎ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、
（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｄ、Ｒｈ、Ｒｌ、Ｒｏ、及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、但し、Ｘは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、
（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ、ｎｇ、ｎｋ、ｎｎ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、ｎａとｎｂとの合計、ｎｃとｎｄとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、ｎｋとｎｌとの合計、ｎｎとｎｏとの合計、ｎｐとｎｑとの合計は、それぞれ３を超えず、
（ｖｉ）Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｉ、Ｒｍ、Ｒｍ２、及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、
（ｖｉｉ）構造（ＩＩＩ）を有する繰り返し単位は、

によって示される位置を介して構造（ＩＶ）の繰り返し単位または構造（Ｖ）の繰り返し単位のいずれかに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成し、
（ｖｉｉｉ）Ｘａは、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、
（ｖｉｖ）Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２であり、
（ｖｖ）Ｘｃは、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、
（ｖｖｉ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のものからなる群から選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

これらの樹脂は、フリーのヒドロキシ基並びに保護されたヒドロキシ基を含む。保護されたヒドロキシ基は、様々な態様において、該フェノール系樹脂の異なるポリマー鎖の間での架橋も提供し得る酸不安定性の単官能性または置換されたアセタール基によって保護されている。一部の態様では、アセタール基は、ＰＡＣ成分の一部または全てを含むことができる（すなわち、ＰＡＣｂ）。

以下に記載のものは、繰り返し構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の異なる組み合わせを含む様々な例示的なフェノール系樹脂成分である。しかし、当業者は、（非ノボラック系繰り返し単位も含む）他の繰り返し単位を、開示及び特許請求される発明の趣旨から逸脱することなく、該フェノール系樹脂の一部として含ませることもできることを理解するであろう。

単官能性アルキルアセタール保護ノボラック樹脂
一つの態様では、該フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位（すなわち、単官能性アルキルアセタールを有する繰り返し単位）を含む：

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ及びＲｃはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ及びＲｄはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、但しＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ及びｎｃはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ及びｎｄはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）及びｎｃとｎｄとの合計（すなわち、ｎｃ＋ｎｄ）はそれぞれ３を超えず、そして（ｖｉ）Ｒｅ及びＲｆはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択される。更に別の観点では、前記２，１，５－ＤＮＱ－ＰＡＣ成分は、フェノール系樹脂成分に結合していないフリーの２，１，５－ＤＮＱ－ＰＡＣを含む。

前記態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在し、そして構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大で約４０モル％までで存在する。本発明に関連して繰り返し単位のモル％は、各々のポリマー中の全ての繰り返し単位の全モル数を基準としたものである。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。

前記態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。

前記態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂとｎｄは両方とも０に等しい。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａとｎｃは両方とも１に等しい。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｅはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｆはエチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒａはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｃはエチルである。

非限定的な例として、図２は、ノボラックを酸触媒の存在下にアルキルビニルエーテル（例えば、エチルビニルエーテル）と反応させることによる、アセタール保護ノボラックを製造するための手順を示す。

二官能性アセタール含有部分によって連結されたノボラック樹脂
他の態様の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含む：

構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、

によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成する。

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ、Ｒｇ及びＲｋはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｌはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｇとｎｈとの合計（すなわち、ｎｇ＋ｎｈ）、及びｎｋとｎｌとの合計（すなわち、ｎｋ＋ｎｌ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ及びＲｍはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。このような態様では、２，１，５－ＤＮＱ ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣを含むが、追加的な繰り返し単位（ＶＩ）の一部としてＰＡＣｂを、またはこれらの二つのタイプの２，１，５－ＤＮＱ ＰＡＣ成分を混合して含むこともできる。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される該フェノール系樹脂成分の二つのポリマー鎖の間の連結点は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約２５モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ０に等しい。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒａ及びＲｇ及びＲｋはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｉはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｍはメチルである。

この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａはアルキレン部分である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａはアルキレンオキシアルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンはエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンはエチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）のアルキレン部分：

または構造（ＶＩＩａ）の部分：

を含む。

一つの観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）のアルキレン部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）の－アルキレンオキシアルキレン－部分である。

非限定的な例として、図３は、Ｘａアルキレン連結基を含むフェノール系樹脂を製造するための手順であって、前記アルキレン連結基が、酸の存在下でのノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えば１，４－ヘキサンジオールのジビニルエーテル）との反応を介して二つのポリマー鎖の間に導入され、これらの鎖を連結している、手順を示す。

非限定的な例として、図４は、Ｘａアルキレン－Ｏ－アルキレン連結基を含むフェノール系樹脂を製造するための手順であって、前記アルキレン－Ｏ－アルキレン連結基が、酸の存在下でのノボラックフェノール部分とジビニルエーテル（例えばジエチレングリコールのジビニルエーテル）との反応を介して二つのポリマー鎖の間に導入され、これらの鎖を連結している、手順を示す。

非限定的な例として、図５は、Ｘａアルキレン－Ｏ－アルキレン連結基を含むフェノール系樹脂を製造するための手順であって、前記アルキレン－Ｏ－アルキレン連結基が、酸の存在下でのノボラックフェノール部分とビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）、グリコール類（例えばジエチレングリコール）との反応を介して二つのポリマー鎖の間に導入され、これらの鎖を連結している、手順を示す。

他の態様の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含む：

構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、

によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成する。

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ、Ｒｇ及びＲｎはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｏはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ及びｎｎはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ及びｎｏはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｇとｎｈとの合計（すなわち、ｎｇ＋ｎｈ）、及びｎｎとｎｏとの合計（すなわち、ｎｎ＋ｎｏ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ及びＲｍ２はそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｖｉｉｉ）Ｘｃはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。このような態様では、ＤＮＱ－ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣを含むが、追加的な繰り返し単位（ＶＩ）の一部としてＰＡＣｂを含むことができるか、または構造（ＶＩＩＩａ）を含むこれらの二つのタイプの２，１，５－ＤＮＱ ＰＡＣ成分を混合して含むこともできる。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位によって形成される該フェノール系樹脂成分の二つのポリマー鎖の間の連結点は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約２５モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｈ及びｎｏはそれぞれ０である。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａ及びｎｇはそれぞれ１であり、そしてｎｎは０である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒａ及びＲｇはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｉ及びＲｍ２は両方ともメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｂは－Ｏ－である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｂは－Ｃ（ＣＨ_３）_２－である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｂは－（Ｃ＝Ｏ）－である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｂは－ＳＯ_２－である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｃはアルキレン部分である。

この態様の他の観点の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を含み、ここでＸｃはアルキレンオキシアルキレン部分である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｃは、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。更に別の観点の一つでは、Ｘｃは、－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。更に別の観点の一つでは、これらの部分内のアルキレン基は、エチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｃは、構造（ＶＩＩ）のアルキレン部分：

または構造（ＶＩＩａ）の部分：

を含む。

一つの観点では、Ｘｃは、構造（ＶＩＩ）のアルキレン部分を含む。一つの観点では、Ｘｃは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｃは、構造（ＶＩＩｂ）の－アルキレンオキシアルキレン－部分である。

構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）の繰り返し単位を含む前記のフェノール系樹脂成分では、様々な態様の連結部分Ｘｃを、スキーム２～４中のＸａの対応する態様について記載したものと類似の方法で導入し得る。

ＰＡＣ部分を含む連結基を含むアセタール（ＰＡＣｂ）で官能化されたノボラック樹脂
他の態様の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含む：

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ、Ｒｃ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｄ及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｄ及びｎｑはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｃとｎｄとの合計（すなわち、ｎｃ＋ｎｄ）、及びｎｐとｎｑとの合計（すなわち、ｎｐ＋ｎｑ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここで、Ｘｄは次のものから選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

この態様の他の観点の一つでは、ＰＡＣｂ部分は、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料であるか、または置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合しておりかつＵＶ露光時にスルホン酸類を発生しない化合物、例えば図１に例示されるもの等のものである。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大で約４０モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は最大約２０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は、前記フェノール系樹脂成分中の繰り返し単位の約４５モル％を超えない。更に別の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在し；構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は０モル％超～約４０モル％で存在し；そして構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位及び構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は、前記フェノール系樹脂成分中の繰り返し単位の約４５モル％を超えない。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｄ及びｎｑはそれぞれ０である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐはそれぞれ１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であって、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）：

を有する部分、
または構造（ＶＩＩａ）：

を有する部分であるアルキレンを含むアルキレンアセタール部分である。

一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分を含む。

式中、ａｃは２～４の整数である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｄ）を有する部分を含む。

非限定的な例として、図５及び図６は、それぞれ、Ｘｄアルキレンアセタール部分（アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）連結基及びＰＡＣｂを有する（構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む）フェノール系樹脂を製造するための手順であって、ノボラック樹脂を、酸の存在下に、ジビニルエーテル（例えば１，４－シクロヘキサンジオールまたはジエチレングリコールのジビニルエーテル）及び少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣ化合物と反応させる手順を示す。

非限定的な例として、図８及び図９は、それぞれ、ノボラック樹脂を、グリコール化合物（例えば、エチレングリコールまたはジエチレングリコール）、単官能性ビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）及び酸と反応させる手順を示す。

非限定的な例として、図１０は、Ｘｄ連結部分が、ノボラック樹脂を酸の存在下にアルキルビニルエーテル（例えばエチルビニルエーテル）及び少なくとも一つのフリーのフェノール官能基を有するＰＡＣと反応させることによって起こるトランスアセタール反応を介して生じた直接原子価結合である手順を示す。

非限定的な例として、図１１は、酸性条件下でのビニルオキシアルキレンオキシＰＡＣ誘導体とノボラックポリマーとの間の反応によってＸｄアルキレンオキシ連結アセタール部分を形成できる手順を示す。

非限定的な例として、図１２は、酸性条件下でのビニルオキシアルキレンＰＡＣ誘導体とノボラックポリマーとの間の反応によってＸｄアルキレン連結アセタール部分を形成できる手順を示す。

（ｉ）ノボラックの二つの繰り返し単位を保護する連結基及び（ｉｉ）ＰＡＣ部分を含むアセタール基（ＰＡＣｂ）を含む二官能性アセタールを有するノボラック樹脂
開示及び特許請求される当該発明の他の観点の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、アセタール連結ノボラック樹脂もまた、ＰＡＣ部分に結合したアセタール連結基（ＰＡＣｂ）で官能化されているものである。これらの態様では、アセタール連結ノボラック樹脂、及びＰＡＣ部分に結合したアセタール連結基（ＰＡＣｂ）でのそれの官能化は、スキーム２～１１に先に記載した通りに行うことができる。

一つの態様では、該フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含む：

構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、

によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成する。

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｌ及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｈとｎｇとの合計（すなわち、ｎｈ＋ｎｇ）、ｎｌとｎｋとの合計（すなわち、ｎｌ＋ｎｋ）及びｎｐとｎｑとの合計（すなわち、ｎｐ＋ｎｑ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、そして（ｖｉｉ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有し、ここで、Ｘｄは次のものからなる群から選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

この態様の他の観点の一つでは、ＰＡＣｂ部分は、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料であるか、または置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合しておりかつＵＶ露光時にスルホン酸類を発生しない化合物、例えば図１に例示されるもの等のものである。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される該フェノール系樹脂成分の二つのポリマー鎖の間の連結点は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約２５モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑは０である。

フェノール系樹脂成分が繰り返し単位（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を含む前記の本発明の態様の他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐは１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であって、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）：

を有する部分、
または構造（ＶＩＩａ）：

を有する部分であるアルキレンを含むアルキレンアセタール部分である。

一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分を含む。

式中、ａｃは２～４の整数である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｄ）を有する部分を含む。

他の態様の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）の繰り返し単位を含む：

構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、

によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタールを形成する。

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｎ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｏ及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ、ｎｎ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｎとｎｏとの合計（すなわち、ｎｎ＋ｎｏ）、ｎｌとｎｋとの合計（すなわち、ｎｌ＋ｎｋ）及びｎｐとｎｑとの合計（すなわち、ｎｐ＋ｎｑ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ及びＲｒは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｖｉｉ）Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、そして（ｖｉｉｉ）Ｘｃは－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。更に別の観点の一つでは、Ｘａのアルキレン部分は、エチレン、プロピレン及びブチレンから選択される。更に別の観点の一つでは、Ｘａのアルキレン部分はエチレンである（すなわち、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ_２－）。

この態様の更に別の観点の一つでは、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有するＰＡＣｂ部分は、次のものからなる群から選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

この態様の他の観点の一つでは、ＰＡＣｂ部分は、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料であるか、または置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合しておりかつＵＶ露光時にスルホン酸類を発生しない化合物、例えば図１に例示されるもの等のものである。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（Ｖ）の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約２５モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位は最大で約２０モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位のモル％の合計は、構造（Ｉ）の繰り返し単位のモル％の１０％を超えない。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑはそれぞれ０である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐはそれぞれ１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であって、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）：

を有する部分、
または構造（ＶＩＩａ）：

を有する部分であるアルキレンを含むアルキレンアセタール部分である。

一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。

一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分を含む。

式中、ａｃは２～４の整数である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｄ）を有する部分を含む。

単官能性アセタール部分とＰＡＣ部分に結合したアセタール連結基（ＰＡＣｂ）とで官能化されたノボラック樹脂
構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位を含む上記のフェノール系樹脂成分のいずれの場合も、他の態様の一つでは、このようなフェノール系樹脂成分は構造（ＶＩ）の繰り返し単位を更に含む：

このような態様の一つでは、例えば（ｉ）ＲｐはＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｑは－Ｘ－フェノールであり、ここでＸｄは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎｐは０～３であり、（ｉｖ）ｎｑは０または１であり、そして（ｖ）ｎｐとｎｑとの合計（すなわち、ｎｐ＋ｎｑ）は３を超えない。更に別の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は、前記フェノール系樹脂成分中の繰り返し単位の最大で約２０モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＶＩ）の繰り返し単位は最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｑは０である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｐはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｐは１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｒはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であって、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）：

を有する部分、
または構造（ＶＩＩａ）：

を有する部分であるアルキレンを含むアルキレンアセタール部分である。

一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。一つの観点では、Ｘｄは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘｄは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分を含む。

式中、ａｃは２～４の整数である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｄ）を有する部分を含む。

モノ官能性アルキルアセタール部分も含む二官能性アセタールによって連結されたノボラック樹脂
（ａ）構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）、（ｂ）構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）、または（ｃ）構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含む上記のフェノール系樹脂成分のいずれにおいても、他の態様の一つでは、このようなフェノール系樹脂成分は、それぞれ、構造（ＩＩ）の繰り返し単位を更に含むことができる：

このような態様の一つでは、例えば（ｉ）ＲｃはＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｄは－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎｃは０～３であり、（ｉｖ）ｎｄは０または１であり、そして（ｖ）ｎｃとｎｄとの合計（すなわち、ｎｃ＋ｎｄ）は３を超えない。更に別の観点の一つでは、Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルである。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は最大で約４０モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は最大約２０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｄは０である。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｃは１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｅはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｆはエチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｃはエチルである。

該フェノール系樹脂成分が、結合されたＰＡＣｂを含む構造（ＶＩ）：

の繰り返し単位を有するこの態様の他の観点の一つでは、該フェノール系樹脂成分は、フリーのＰＡＣを更に含むことができる。

（ａ）構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）、または（ｂ）構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含むフェノール系樹脂成分を有するこの態様の他の態様の一つでは、構造（ＩＶ）中の部分Ｘａは、アルキレン部分または－アルキレンオキシアルキレン－部分である。一つの観点では、Ｘａは、エチレンであるアルキレン部分を含む。他の観点の一つでは、部分Ｘａは、－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。他の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。

他の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

他の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）の部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣ成分を含む。

該フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）：

を有する繰り返し単位を含むこの態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、

によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、フェノール系樹脂成分中で二つの異なるポリマー鎖間に二官能性アセタール部分連結点を形成する。

このような態様の一つでは、例えば、（ｉ）Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｇ及びＲｋはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｄ、Ｒｈ及びＲｌはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｄ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｄとｎｃとの合計（すなわち、ｎｄ＋ｎｃ）、ｎｇとｎｈとの合計（すなわち、ｎｇ＋ｎｈ）及びｎｋとｎｌとの合計（すなわち、ｎｋ＋ｎｌ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｉ及びＲｍはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。

この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣ成分を含む。

更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位において、（ｉ）ＲｃはＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｄは－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎｃは０～３であり、（ｉｖ）ｎｄは０または１であり、そして（ｖ）ｎｃとｎｄとの合計（すなわち、ｎｃ＋ｎｄ）は３を超えない。更に別の観点では、この観点の構造（ＩＩ）の繰り返し単位において、（ｉ）Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）ｎｂ、ｎｄ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ独立して０であり、そして（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ独立して１である。更に別の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｇ及びＲｋはそれぞれ独立してメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩ）の繰り返し単位は最大で約４０モル％までで存在してよい。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位は最大約２０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約６０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約９８モル％で存在する。更に別の観点の一つでは、構造（Ｉ）を有する繰り返し単位は約７０モル％～約８０モル％で存在する。

更に別の観点では、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位によって形成される該フェノール系樹脂成分の二つのポリマー鎖の間の連結点は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約２５モル％までで存在する。更に別の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び構造（ＩＶ）の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位の最大約１０モル％までで存在する。

この態様の他の観点の一つでは、ｎｂ、ｎｄ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ０である。

この態様の他の観点の一つでは、ｎａ、ｎｃ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ１である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒａ、Ｒｃ、及びＲｇ及びＲｋはそれぞれメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｉはメチルである。

この態様の他の観点の一つでは、Ｒｍはメチルである。

この態様の他の特定の観点の一つでは、Ｘａはアルキレン部分である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａはアルキレンオキシアルキレン部分である。他の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）の－アルキレンオキシアルキレン－を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であって、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）：

を有する部分、
または構造（ＶＩＩａ）：

を有する部分であるアルキレンを含むアルキレンアセタール部分である。

一つの観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。一つの観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

ＩＩ．フリーのＤＮＱ－ＰＡＣ成分
先に詳細に記載した通り、ＤＮＱ－ＰＡＣ成分は、単一のまたは一超のＰＡＣｂ（すなわち、フェノール系樹脂成分のヒドロキシ基を保護するアセタール部分の組み入れられた要素）であることができる。しかし、ＰＡＣ成分は、代替的にまたは追加的に、開示及び特許請求された当該レジスト組成物中に、アセタール保護基に結合されていないフリーのＰＡＣとして含まれていることができる。フリーの成分としてのＰＡＣ成分については以下に記載する。

ＰＡＣｂの場合と同様に、フリーのＰＡＣは、置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料であるか、または置換されたもしくは置換されていない２，１，５－ＤＮＱ材料が結合しておりかつＵＶ露光時にスルホン酸類を発生しない化合物である。図１は、フリーの成分として使用し得るかまたはその代わりに、ＰＡＣｂ部分としてフェノール系樹脂成分に結合し得る、様々なＤＮＱ－ＰＡＣの非限定的な例を示す。図１において、部分Ｄは－ＨまたはＶＩＩＩａである。

但し、この図１に示す各々の化合物において、少なくとも一つのＤは構造ＶＩＩＩａの部分である。アセタール部分を介してフェノール系樹脂成分へのＤＮＱ－ＰＡＣの結合は、エーテル結合、アセタール結合または炭素－炭素結合のいずれかを介したものであってよい。

一つの態様では、フリーのＰＡＣ成分は、構造（Ｘ）を含む、単一のＰＡＣ化合物または複数のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかである。

式中、（ｉ）Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃ及びＤ_４ｃは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分であり、及び（ｉｉ）Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃ及びＤ_４ｃのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である。

一つの態様では、フリーのＰＡＣ成分は、構造（Ｘａ）を含む、単一のＰＡＣ化合物または複数のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかである。

式中、（ｉ）Ｄ_１ｄ、Ｄ_２ｄ、Ｄ_３ｄ及びＤ_４ｄは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択され、及び（ｉｉ）Ｄ_１ｄ、Ｄ_２ｄ、Ｄ_３ｄまたはＤ_４ｄのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である。

他の態様の一つでは、フリーのＰＡＣ成分は、構造（Ｘｂ）を含む、単一のＰＡＣ化合物または複数のＰＡＣ化合物の混合物のいずれかである。

式中、（ｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅ及びＤ_３ｅは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択され、及び（ｉｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅまたはＤ_３ｅのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である。

フリーのＰＡＣ成分とフェノール系樹脂成分との具体的な組み合わせを用いた態様
他の態様の一つでは、構造（Ｉ）：

の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分中の繰り返し単位の約９０モル％～約６０モル％を構成し、そして構造（ＩＩ）：

の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分中の繰り返し単位の約１０モル％～約４０モル％を構成する。

この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣとしてのみ存在する。

この態様の他の観点の一つでは、フェノール系樹脂成分とフリーのＰＡＣ成分との重量比は、約９５／５～約７０／３０である。更に別の観点の一つでは、前記重量比は、約９０／１０～約８０／２０である。

この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、構造（Ｘｂ）を含む：

式中、（ｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅ及びＤ_３ｅは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択され、及び（ｉｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅまたはＤ_３ｅのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。

更に別の観点の一つでは、該フェノール系樹脂は、構造（ＩＩＩ）：

の繰り返し単位、及び構造（ＩＶ）：

の繰り返し単位も含み、これらの繰り返し単位のうちの少なくとも一部は組み合わさって、該フェノール系樹脂成分の二つのポリマー鎖の間に二官能性アセタール部分連結点を形成する。

この態様の他の観点の一つでは、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の繰り返し単位は、該フェノール系樹脂成分中の繰り返し単位の約１モル％～約４モル％を構成する。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であって、エチレン、プロピレン、構造（ＶＩＩ）：

または構造（ＶＩＩａ）：

を有する部分であるアルキレンを含むアルキレンアセタール部分である。

一つの観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩ）の部分を含む。一つの観点では、Ｘａは、構造（ＶＩＩａ）の部分を含む。

この態様の更に別の観点の一つでは、Ｘａは、構造（ＶＩＩｂ）を有するアルキレンオキシアルキレン部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、Ｘａは、アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ８アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、それのアルキレン部分は、それぞれ独立してＣ２～Ｃ４アルキレン部分である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｃ）を有する部分を含む。

式中、ａｃは２～４の整数である。更に別の観点の一つでは、前記アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）は構造（ＶＩＩｄ）を有する部分を含む。

この態様の他の観点の一つでは、前記ＰＡＣ成分は、フリーのＰＡＣ成分及びＰＡＣｂ成分の両方を含む。この態様の更に別の観点の一つでは、該フェノール系樹脂は、ＰＡＣｂ単位が結合した構造（ＶＩ）：

の繰り返し単位も含む。更に別の観点の一つでは、該ＰＡＣｂ部分は構造（ＶＩＩＩ）：

を含み、式中、（ｉ）

は、フェノール系樹脂成分の繰り返し単位への結合点を表し、（ｉｉ）Ｄ_１、Ｄ_２及びＤ_３は、それぞれ独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択され、及び（ｉｉｉ）Ｄ_１、Ｄ_２またはＤ_３のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。更に別の観点の一つでは、Ｘｄは次のものからなる群から選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

この態様の更に別の観点の一つでは、該フェノール系樹脂は、ＰＡＣｂ単位が結合した構造（ＶＩ）：

の繰り返し単位も含む。更に別の観点の一つでは、該ＰＡＣｂ部分は構造（ＶＩＩＩ）を含む。

式中、（ｉ）

は、フェノール系樹脂成分の繰り返し単位への結合点を表し、（ｉｉ）Ｄ_１ａ、Ｄ_２ａ及びＤ_３ａは、それぞれ独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択され、及び（ｉｉｉ）Ｄ_１ａ、Ｄ_２ａまたはＤ_３ａのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である。更に別の観点の一つでは、Ｘｄは次のものからなる群から選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

この態様の更に別の観点の一つでは、該フェノール系樹脂は、ＰＡＣｂ単位が結合した構造（ＶＩ）：

の繰り返し単位も含む。更に別の観点の一つでは、該ＰＡＣｂ部分は構造（ＶＩＩＩｄ）を含む。

式中、（ｉ）

は、フェノール系樹脂成分の繰り返し単位への結合点を表し、（ｉｉ）Ｄ_１ｂ、Ｄ_２ｂ及びＤ_３ｂは、それぞれ独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択され、及び（ｉｉｉ）Ｄ_１ｂ、Ｄ_２ｂまたはＤ_３ｂのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である。更に別の観点の一つでは、Ｘｄは次のものからなる群から選択される：
ａ）直接原子価結合、
ｂ）アルキレン部分、
ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
ｄ）次のものからなる群から選択されるアセタール含有部分；
ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）。

この態様の他の観点の一つでは、構造（Ｉ）の繰り返し単位のモル％範囲は、約７０モル％～約９８モル％であり；存在する場合は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のモル％範囲は最大で約１０モル％までである。

ＩＩＩ．溶剤成分
上記のレジストにおいて、溶剤成分は有機溶剤である。適当な有機溶剤の例には、限定はされないが、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸シクロヘキシル、酢酸３－メトキシブチル、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、エチル－３－エトキシプロパノエート、メチル－３－エトキシプロパノエート、メチル－３－メトキシプロパノエート、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、ジアセトンアルコール、ピバル酸メチル、ピバル酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロパノエート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロパノエート、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ガンマ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、テトラメチレンスルホン、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジメチルエーテル、ガンマブチロラクトンなどが挙げられる。これらの溶剤は、単独でまたは二種以上のものの混合物として使用し得る。

一つの態様では、溶剤成分はＰＧＭＥＡ（１－メトキシ－２－プロパニルアセテート）を含む。他の態様の一つでは、溶剤成分はＰＧＭＥＡ（１－メトキシ－２－プロパニルアセテート）である。

ＩＶ．任意成分
前記レジストは、一種または複数種の適合可能な任意成分を含むことができる。このような任意成分には、限定はされないが、レジスト層の性質を改善するための酸クエンチャ、補助樹脂、チオール類、可塑剤、表面レベリング剤及び安定化剤などが挙げられる。

適当な酸クエンチャには、限定はされないが、大気圧下に１００℃を超える沸点及び少なくとも４．０のｐＫ_ａを有するアミン化合物または複数種のアミン化合物の混合物などの、塩基性材料または材料の組み合わせが挙げられる。このような酸クエンチャには、限定はされないが、構造（ＸＩＩａ）、（ＸＩＩｂ）、（ＸＩＩｃ）、（ＸＩＩｄ）、（ＸＩＩｅ）、（ＸＩＩｆ）、（ＸＩＩｇ）、（ＸＩＩｈ）、（ＸＩＩｉ）、（ＸＩＩｊ）、（ＸＩＩｋ）及び（ＸＩＩｌ）を有する化合物またはこの群からの複数の化合物の混合物が挙げられ、但し、Ｒ_ｂ１はＣ１～Ｃ２０飽和状アルキル鎖またはＣ２～Ｃ２０不飽和状アルキル鎖であり、Ｒ_ｂ２、Ｒ_ｂ３、Ｒ_ｂ４、Ｒ_ｂ５、Ｒ_ｂ６、Ｒ_ｂ７、Ｒ_ｂ８、Ｒ_ｂ９、Ｒ_ｂ１０、Ｒ_ｂ１１、Ｒ_ｂ１２、及びＲ_ｂ１３は、以下に表１に示すように、独立して、Ｈ、及びＣ１～Ｃ２０アルキルの群から選択される。

表面レベリング剤には、界面活性剤などを挙げ得る。界面活性剤には特に制限はなく、そしてそれの例には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、及びポリオキシエチレンオレインエーテル；ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、例えばポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル；ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー；ソルビタン脂肪酸エステル、例えばソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノバルミテート、及びソルビタンモノステアレート；ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステルのノニオン界面活性剤、例えばポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレンソルビタントリオレエート、及びポリオキシエチレンソルビタントリステアレート；フッ素化界面活性剤、例えばＦ－Ｔｏｐ ＥＦ３０１、ＥＦ３０３及びＥＦ３５２（ジェムコ社製）、Ｍｅｇａｆａｃ Ｆ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｒ０８、Ｒ３０、Ｒ９０及びＲ９４（大日本化学工業社製）、Ｆｌｏｒａｄ ＦＣ－４３０、ＦＣ－４３１、ＦＣ－４４３０及びＦＣ－４４３２（住友３Ｍ社製）、Ａｓａｈｉ Ｇｕａｒｄ ＡＧ７１０、Ｓｕｒｆｌｏｎ Ｓ－３８１、Ｓ－３８２、Ｓ－３８６、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６、Ｓｕｒｆｉｎｏｌ Ｅ１００４、ＫＨ－１０、ＫＨ－２０、ＫＨ－３０及びＫＨ－４０（旭硝子社製）；有機シロキサンポリマー、例えばＫＰ－３４１、Ｘ－７０－０９２及びＸ－７０－０９３（信越化学工業社製）；及びアクリル酸もしくはメタクリル酸ポリマー、例えばＰｏｌｙｆｌｏｗ Ｎｏ．７５及びＮｏ．９５（共栄社化学社製）などが挙げられる。

適当なチオール類には、限定はされないが、ヘテロ環状チオール、例えば置換されていないトリアゾールチオール、置換されたトリアゾールチオール、置換されていないイミダゾールチオール、置換されたイミダゾールチオール、置換されたトリアジンチオール、置換されていないトリアジンチオール、置換されたメルカプトピリミジン、置換されていないメルカプトピリミジン、置換されたチアジアゾール－チオール、置換されていないチアジアゾ－ル－チオール、置換されたインダゾールチオール、置換されていないインダゾールチオール、これらの互変異性体、及びこれらの組み合わせなどが挙げられる。適当なチオール類の例には、限定はされないが、更なる例として２－チオウラシルなどが挙げられる。これらには、限定はされないが、５－メチル－２－チオウラシル、５，６－ジメチル－２－チオウラシル、６－エチル－５－メチル－２－チオウラシル、６－メチル－５－ｎ－プロピル－２－チオウラシル、５－エチル－２－チオラシル、５－ｎ－プロピル－２－チオウラシル、５－ｎ－ブチル－２－チオウラシル、５－ｎ－ヘキシル－２－チオウラシル、５－ｎ－ブチル－６－エチル－２－チオウラシル、５－ヒドロキシ－２－チオウラシル、５，６－ジヒドロキシ－２－チオウラシル、５－ヒドロキシ－６－ｎ－プロピル－２－チオウラシル、５－メトキシ－２－チオウラシル、５－ｎ－ブトキシ－２－チオウラシル、５－メトキシ－６－ｎ－プロピル－２－チオウラシル、５－ブロモ－２－チオウラシル、５－クロロ－２－チオウラシル、５－フルオロ－２－チオウラシル、５－アミノ－２－チオウラシル、５－アミノ－６－メチル－２－チオウラシル、５－アミノ－６－フェニル－２－チオウラシル、５，６－ジアミノ－２－チオウラシル、５－アリル－２－チオウラシル、５－アリル－３－エチル－２－チオウラシル、５－アリル－６－フェニル－２－チオウラシル、５－ベンジル－２－チオウラシル、５－ベンジル－６－メチル－２－チオウラシル、５－アセトアミド－２－チオウラシル、６－メチル－５－ニトロ－２－チオウラシル、６－アミノ－２－チオウラシル、６－アミノ－５－メチル－２－チオウラシル、６－アミノ－５－ｎ－プロピル－２－チオウラシル、６－ブロモ－２－チオウラシル、６－クロロ－２－チオウラシル、６－フルオロ－２－チオウラシル、６－ブロモ－５－メチル－２－チオウラシル、６－ヒドロキシ－２－チオウラシル、６－アセトアミド－２－チオウラシル、６－ｎ－オクチル－２－チオウラシル、６－ドデシル－２－チオウラシル、６－テトラドデシル－２－チオウラシル、６－ヘキサデシル－２－チオウラシル、６－（２－ヒドロキシエチル）－２－チオウラシル、６－（３－イソプロピルオクチル）－５－メチル－２－チオウラシル、６－（ｍ－ニトロフェニル）－２－チオウラシル、６－（ｍ－ニトロフェニル）－５－ｎ－プロピル－２－チオウラシル、６－α－ナフチル－２－チオウラシル、６－α－ナフチル－５－ｔ－ブチル－２－チオウラシル、６－（ｐ－クロロフェニル）－２－チオウラシル、６－（ｐ－クロロフェニル）－２－エチル－２－チオウラシル、５－エチル－６－エイコシル－２－チオウラシル、６－アセトアミド－５－エチル－２－チオウラシル、６－エイコシル－５－アリル－２－チオウラシル、５－アミノ－６－フェニル－２－チオウラシル、５－アミノ－６－（ｐ－クロロフェニル）－２－チオウラシル、５－メトキシ－６－フェニル－２－チオウラシル、５－エチル－６－（３，３－ジメチルオクチル）－２－チオウラシル、６－（２－ブロモエチル）－２－チオウラシル、１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリチオール、２－メルカプト－６－メチルピリミジン－４－オール、３－メルカプト－６－メチル－１，２，４－トリアジン－５－オール、２－メルカプトピリミジン－４，６－ジオール、１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３－チオール、１Ｈ－１，２，４－トリアゾール－５－チオール、１Ｈ－イミダゾール－２－チオール、１Ｈ－イミダゾール－５－チオール、１Ｈ－イミダゾール－４－チオール、２－アザビシクロ［３．２．１］オクタ－２－エン－３－チオール、２－アザビシクロ［２．２．１］ヘプタ－２－エン－３－チオール、１Ｈ－ベンゾ［ｄ］イミダゾール－２－チオール、２－メルカプト－６－メチルピリミジン－４－オール、２－メルカプトピリミジン－４－オール、１－メチル－１Ｈ－イミダゾール－２－チオール、１，３，４－チアジアゾール－２，５－ジチオール、１Ｈ－インダゾール－３－チオール、これらの互変異性体及びこれらの組み合わせなどが挙げられる。

コーティングプロセス
開示及び特許請求される当該発明の他の観点の一つは、開示及び／または特許請求される当該レジスト組成物のいずれかを基材上にコーティングする方法である。本発明のなお更に別の観点の一つは、コーティングされた基材を用意するための、前述のレジスト組成物の使用である。

開示及び特許請求される当該発明の他の観点の一つは、次のステップを含むレジストの画像形成方法である：
ｉ）前記レジスト組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；及び
ｉｉｉ）前記選択露光された膜を現像して、前記基材上にポジに画像形成されたレジスト膜を形成するステップ。

開示及び特許請求される当該発明の他の観点の一つは、次のステップを含むレジストの画像形成方法である：
ｉａ）前記レジスト組成物を基材上にコーティングしてレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉａ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
ｉｉｉａ）前記選択露光されたレジスト膜をベークして、選択露光及びベークされたレジスト膜を形成するステップ；及び
ｉｖａ）前記選択露光及びベークされたレジスト膜を現像して、ポジに画像形成されたレジスト膜を前記基材上に形成するステップ。

以下、本開示のより具体的な態様と、このような態様をサポートする実験結果について説明する。これらの例は、開示された発明をより十分に説明するために以下に記載したものであり、どのような形でも開示された発明を限定するものと解釈するべきではない。

様々な改良及び変更を、開示された発明の趣旨または範囲から逸脱することなく、開示された発明及びここに提供される具体例に対して行うことができることは当業者には明らである。それ故、以下の例によって提供される記載を含めた開示された発明は、いずれの請求項の範囲及びそれらと等価のものの範囲内に入る、開示された発明の改良及び変更を包含することが意図される。

材料
ＳＰＮ５６０Ｆは、Ａｌｌｎｅｘ ＵＳＡ Ｉｎｃ．社によって供給されるＡｌｎｏｖａｌ ＳＰＮ－５６０ Ｆａｓｔ ４４％ＰＧＭＥＡの名称で販売されているｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラックである。このノボラックの平均分子量は、Ｍ_ｗ＝８，４３０及びＭ_ｎ＝１，５２０である。このノボラックの溶解速度は、ＡＺ３００ＭＩＦ現像剤中で１，２００Å／秒である。

ＣＫＳ－６７０は、アイカ工業株式会社によってＣＫＳ－６７０（Ｃ）の名称で販売されているビスフェノール－Ａ／ｍ－クレゾール－ホルムアルデヒドノボラックである。このノボラックの分子量は、ＭＷ＝９，０３４及びＭｎ＝２，１９５である。このノボラックの溶解速度は、ＡＺ３００ＭＩＦ現像剤中で９０００Å／秒である。

ＮＫ－２８０は、東洋合成工業株式会社によってこの名称で販売されているＤＮＱ－ＰＣである。

これは、一般式（Ｘ）を有する材料の混合物であり、式中、Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃ及びＤ_４ｃは、独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分から選択され、但し、Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃまたはＤ_４ｃの少なくとも一つは、構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分であり、そしてフェノール系部分Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃ及びＤ_４ｃ基のうちの平均して約２．８個は、（ＶＩＩＩａ）構造でエステル化されている。

２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＷ１０９３）（ＣＡＳ＃６８５１０－９３－０）は、Ａｃｃｅｌ Ｐｈａｒｍｔｅｃｈ（Ｅａｓｔ Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ、ＮＪ）から入手したものであり、これは、一般構造（Ｘｂ）を有する材料の混合物である。

式中、（ｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅ及びＤ_３ｅは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：

を有する部分から選択される。

ＰＧＭＥＡ （１－メトキシ－２－プロパニルアセタート）；フォトレジスト調合物例のために使用した溶剤は、Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社であるＳｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社から入手した。

ＡＰＳ－４３０は、信越化学工業社（日本国、東京）の界面活性剤である。

Ｒ－２０１１は、ＤＩＣ Ｃｏｒｐ（独国、デュッセルドルフ）の界面活性剤である。

Ｍｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃは、Ｃｒｏｄａ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｐｌｃ（Ｓｎａｉｔｈ，ＵＫ）から「Ｍｏｎａｚｏｌｉｎｅ－Ｃ」の商品名で販売されているアミン系クエンチャ（２－（２－ヘプタデシル－４，５－ジヒドロ－１Ｈ－イミダゾール－１－イル）エタン－１－オール）であり；これは、１気圧下に約４８９℃の沸点及び水中で約１０．０８のｐＫａを有し、そして以下の構造を有するものである：

ＡＺ３００ＭＩＦ現像剤は、ＥＭＤ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏｒｐ．（Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社）から入手した（別称では、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ））。

ＰＤ－１２６Ａは、ＨＥＸＩＯＮ（オハイオ州、コロンブス）によってＤｕｒｉｔｅ^ＴＭＲｅｓｉｎ Ｄ ＨＥＸＩＯＮ ＰＤ－１２６Ａの名称で販売されているｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドである。

ＡＰＳ－４３７は、信越化学工業社（日本国、東京）の界面活性剤である。

２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＷ１０９３）（ＣＡＳ＃６８５１０－９３－０）は、Ａｃｃｅｌ Ｐｈａｒｍｔｅｃｈ（Ｅａｓｔ Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ，ＮＪ）から入手した。

ＰＴ３９５ ６－ジアゾ－５，６－ジヒドロ－５－オキソ－１－ナフタレンスルホン酸との２，３，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノンエステル（東洋合成工業株式会社、日本）。

全ての他の化学品は、特に記載がなければ、Ｍｅｒｃｋ ＫＧａＡ（独国、ダルムシュタット）の子会社であるＳｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社から入手した。

ＤＩＣ社（東京、日本）製Ｍｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１
ポリマーの分子量は、ポリスチレン標準に較正された汎用較正法を用いるゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した。

ポリマー合成例
合成例１：エトキシエチル保護ノボラック樹脂の製造
２Ｌ丸底フラスコに、（ｉ）５００ｇのノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０Ｆ、ＰＧＭＥＡ中に４７．２重量％）及び（ｉｉ）追加的に２２５．４ｇのＰＧＭＥＡを仕込み、次いで攪拌して、透明な溶液を形成した。次いで、２８．３ｇ（ノボラック樹脂をベースに０．２当量）のエチルビニルエーテルを前記溶液に攪拌しながら加えた。混合後、７７ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。この混合物を次いで、密閉系中で室温で４時間、反応させた。ＰＧＭＥＡ中１０．０重量％のＴＭＥＥＡ（トリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン）溶液１．４４ｇ（ｐ－トルエンスルホン酸一水和物に対し１．１当量）を全て一度に加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、おおよそ３５．０重量％のエトキシエチル保護ノボラック樹脂を含んでいた。生じた樹脂は、１，４９６ｇ／モルの数平均分子量（Ｍ_ｎ）及び８，６５１ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍ_ｗ）を有していた（ＧＰＣで測定）。引き続き、調製したままの前記製品を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。

合成例２：ジエチレングリコールによって架橋されたエトキシエチル保護ノボラック樹脂の製造
２５０ｍＬ丸底フラスコに、（ｉ）５０．０ｇのノボラック樹脂（ＳＰＮ５６０Ｆ、ＰＧＭＥＡ中に４７．２重量％）及び（ｉｉ）追加的に２３．０７ｇのＰＧＭＥＡを仕込み、次いで攪拌して、透明な溶液を形成した。次いで、２．８３ｇ（ノボラック樹脂をベースに０．２当量）のエチルビニルエーテル及び０．４２ｇ（ノボラック樹脂をベースに０．０２当量）のジエチレングリコールを攪拌しながら前記溶液に加えた。混合後、９．２ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。この反応を、密閉系中で室温で一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中１０．０重量％のＴＭＥＥＡ（トリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン）溶液０．１７ｇ（ｐ－トルエンスルホン酸一水和物に対し１．１当量）を全て一度に加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、おおよそ３４．９７重量％のエトキシエチル保護ノボラック樹脂を含んでいた。生じた樹脂は、１，６０８ｇ／モルの数平均分子量（Ｍ_ｎ）及び１１，３４９ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍ_ｗ）を有していた（ＧＰＣで測定）。引き続き、調製したままの前記製品を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。

合成例３：エトキシエチル保護ノボラック樹脂の製造
２Ｌ丸底フラスコに、（ｉ）３６０．５ｇのｍ－クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂（ＨＥＸＩＯＮ社製のＰＤ－１２６Ａ）及び（ｉｉ）７８９．９ｇのＰＧＭＥＡを仕込み、次いで攪拌して、透明な溶液を形成した。次いで、６４．９ｇのエチルビニルエーテルを前記溶液に攪拌しながら加えた。混合後、１７６．２ｍｇのｐ－トルエンスルホン酸一水和物を加えた。この反応を、密閉系中で室温で一晩攪拌した。ＰＧＭＥＡ中１０．０重量％のトリス［２－（２－メトキシエトキシ）エチル］アミン溶液３．３ｇを加えることによって反応を停止した。生じた溶液は、おおよそ３４．９重量％のエトキシエチル保護ノボラック樹脂を含んでいた。生じた樹脂は、９８０ｇ／モルの数平均分子量（Ｍ_ｎ）及び２，２５７ｇ／モルの重量平均分子量（Ｍ_ｗ）を有していた。引き続き、調製したままの前記製品を直接使用することによって、フォトレジスト調合物を調製した。

調合物例：
例１：（ＰＷ１０３２、ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例１）２１．０５ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＷ１０９３）１．３０ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＭｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃ １．２３ｇ、及びＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．２ｇ、及びＰＧＭＥＡ１３．４ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、ＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。１１０ｍＪで０．８μｍＬが解像された。

例２：（ＰＴ３９５、ＰＥＢ無し）
ジエチレングリコールで連結されたエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ＰＧＭＥＡ中３５％）（ポリマー合成例２）２１．０５ｇ、ＰＴ３９５ １．３０ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＭｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃ １．２３ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．２ｇ、及びＰＧＭＥＡ １３．４ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。１６０ｍＪで０．１μｍＬが解像された。

例３：（ＰＷ１０９３、ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）１０．２ｇ、ＰＧＭＥＡ中２０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＷ１０９３）１．９８ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＭｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃ ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０９ｇ、及びＰＧＭＥＡ５．５５４ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物をケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒ベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。３５ｍＪで２μｍＬが得られた。

例４：（ＰＷ１０９３、ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）９．６２ｇ、ＰＧＭＥＡ中２０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート２．９７ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＭｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃ ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０９ｇ、及びＰＧＭＥＡ５．５５４ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。３５ｍＪで１μｍＬが得られた。

例５：（ＰＷ１０９３、ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）９．０６ｇ、ＰＧＭＥＡ中２０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート３．９６ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＭｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃ ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０９ｇ、及びＰＧＭＥＡ４．９１ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。５０ｍＪで０．７μｍＬが得られた。

例６：（ＰＤ１２６Ａ－ＰＷ１０９３、ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例２）１．５８ｇ、ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例３）８．０ｇ、ＰＧＭＥＡ中２０％の２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート２．９７ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のＭｏｎａｚｏｌｉｎｅ Ｃ ０．１８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０９ｇ、及びＰＧＭＥＡ５．１３ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。５０ｍＪで０．８μｍＬが得られた。

例７：（ＰＷ１０９３／ＴＯＡ、ＰＥＢ無し）
ジエチレングリコールで架橋されたエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ＰＧＭＥＡ中３５％）（ポリマー合成例２）９．０５ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．７８６ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２７５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０８９ｇ、及びＰＧＭＥＡ７．７９ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして１１０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。６０ｍＪで０．８μｍＬが得られた。

例８：（ＰＷ１０９３／ＴＯＡ、ＰＥＢ無し）
ジエチレングリコールで架橋されたエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ＰＧＭＥＡ中３５％）（ポリマー合成例２）９．６１ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．５８５ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２８２ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０８９ｇ、及びＰＧＭＥＡ７．４３ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして１１０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。６５ｍＪで０．８μｍＬが得られた。

例９：（ＰＷ１０９３／ＴＯＡ、ＰＥＢ無し）
ジエチレングリコールで架橋されたエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ＰＧＭＥＡ中３５％）（ポリマー合成例２）９．６１ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．５８９ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．５５３ｇ、ＰＧＭＥＡ中１０％のＭｅｇａｆａｃｅ Ｒ２０１１ ０．０８９ｇ、及びＰＧＭＥＡ７．１５ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして１１０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。６５ｍＪで１μｍＬが得られた。

例１０：Ｔ８９１（ＰＷ１０９３、ＰＥＢ無し）
ジエチレングリコールで架橋されたエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ＰＧＭＥＡ中３５％）（ポリマー合成例２）９．６１ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，４－ジアゾナフトキノンスルホネート０．５９３ｇ、及びＰＧＭＥＡ７．７８ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして１１０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。５０ｍＪで０．８μｍＬが得られた。

例１１：Ｔ４４７（ＰＷ１０９３、ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中５０％のエトキシエチルエーテル保護ｐ－ヒドロキシスチレン（ポリマー合成例＿）６．８２ｇ、２，３，４－トリヒドロキシベンゾフェノン－２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート０．５９５ｇ、及びＰＧＭＥＡ１０．６ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＵｌｔｒａｔｅｃｈ ｇｈ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。１２０ｍＪで１μｍＬが得られた。

例１２：Ｈ１５９（ＮＫ２８０＝９０／１０，ＰＧＭＥＡ）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック樹脂（ポリマー合成例２）１８．０５ｇ、６－ジアゾ－５，６－ジヒドロ－５－オキソ－１－ナフタレンスルホン酸との３，３’－ビス（２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４，４’－ジヒドロキシ－５，５’－ジメチルジフェニルメタンエステル（東洋合成工業株式会社製のＮＫ－２８０）０．７０ｇ、及びＰＧＭＥＡ１．２５ｇを溶解することによってＣＡＲ組成物を調製した。

このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし（ＦＴ＝６．４μｍ）、そして１１０℃／１２０秒でソフトベークした。これを次いで、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤で９０秒間現像した。２６０ｍＪ／ｃｍ^２で１．５０μｍＬ／Ｓ（１：１）レジストパターンが得られた。

比較例１：（アセタールＰＨＳ／ＴＯＡ，ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中４０％のエトキシエチルエーテル保護ｐ－ヒドロキシスチレン２５ｇ、４－イソプロリルチオ－Ｎ－（１，８－ナフタルイミド）トリフルオロメタンスルホネート（１１３Ｔ）０．１ｇ、ＰＧＭＥＡ中５％のトリオクチルアミン０．４ｇ、及びＰＧＭＥＡ２４．５ｇを混合することによってＣＡＲ組成物を調製した。このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークし、そしてマスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。４０ｍＪで２μｍライン／スペース（Ｌ／Ｓ）＝１：１パターンしか得られなかった。現像の前にポスト露光ベークに付されなかったこのパターンは、顕著なラインスリミング及び／またはＴトッピングを示した。これは、露光と現像との間の遅延を長くすると悪化するようであった。この有害な効果は、わずか３０分間の遅延の後でさえ顕著になる。

比較例２：（アセタールノボラック ＴＯＡ，ＰＥＢ無し）
ＰＧＭＥＡ中３５％のエトキシエチルエーテル保護ノボラック（ポリマー合成例１）８．４８ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％の４－イソプロリルチオ－Ｎ－（１，８－ナフタルイミド）トリフルオロメタンスルホネート３．０ｇ、ＰＧＭＥＡ中１％のトリオクチルアミン０．２５７ｇ、及びＰＧＭＥＡ３．３７ｇを混合することによってＣＡＲ組成物を調製した。このＣＡＲ組成物を、ケイ素基材上にスピンコートし、そして９０℃／９０秒でベークした。これを次いで、マスクを用いてＡＳＭＬ ｉ線ステッパで露光し、そしてＡＺ３００ＭＩＦ現像剤（２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液）で６０秒間現像した。１４０ｍＪで２μｍライン／スペース１：１パターンが得られた。１μｍＬ、０．８μｍＬ／Ｓも得られたが、全てのパターンがＴトップを示し、これらは有用ではなかった。また、このパターンは、現像の前にポスト露光ベークに付されなかった場合、顕著なラインスリミング及びＴトッピングを示した。図１３は、この比較用調合物で解像されたＬ／Ｓ図形に観察された顕著なＴトッピングを示した。このＴトッピングは、露光と現像との間の遅延を長くすると悪化するようであった。図１３に見られるように、この有害な効果は、わずか３０分間の遅延の後でさえ顕著になる。

まとめると、上記比較例では、強酸を光発生するＰＡＧ成分を含むこれらの調合物はどちらも、塩基性クエンチャ成分の存在下においても、ポスト露光ベークを省略した場合には、不良の画像形成性を示し、更には、露光と現像との間のポスト露光遅延寛容度を示さなかった。これとは対照的に、２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネートを含むＰＡＧ無しの本発明による調合物は、塩基性クエンチャ添加剤の不在下においても、良好な画像形成性と、ポスト露光ベーク無しで露光と現像との間の良好なポスト露光遅延寛容度（少なくとも６０分間まで）との両方を示した。

対照的に、開示された当該ＣＡＲは、アセタール保護もしくはアセタール架橋されたノボラック、またはアセタール保護ポリヒドロキシスチレン樹脂、ＤＮＱ、溶剤、任意選択に及び塩基を含む。これらの例に示されるように、パターンが、室温で余分なＰＡＧ無しで形成された。脱保護化反応は、ＤＮＱから発生する弱酸によって進行し、そして解像度、感度、ＰＥＤ安定性などのリソグラフィ性能は予期できない程に改善された。更に、開示された当該ＣＡＲは、高価なＰＡＧの使用を必要としない。

本発明を、或る程度の詳細さをもって記載及び説明したが、この開示は例示として行ったものに過ぎないこと、及び各ステップの条件及び順番の数々の変化は、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、当業者によって復元できることが理解される。

Claims (31)

1. 次の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：
   （Ａ）フェノール系樹脂成分、但し、該フェノール系樹脂成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）を含むノボラック誘導体である；
   （ｉ）フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位；及び
   （ｉｉ）酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、但し、該酸解裂性アセタール部分は、次の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）のうちの一つ以上である；
   （ａ）単官能性アルキルアセタール部分、
   （ｂ）２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネート部分またはそれの誘導体を含む、光活性でかつスルホン酸類を発生しない光活性ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分で官能化されたアセタール部分、
   （ｃ）二つの異なる各ノボラックポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分；
   （Ｂ）２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネート部分またはそれの誘導体を含む、光活性でかつスルホン酸類を発生しない光活性（ＰＡＣ）成分、但し、前記ＰＡＣ成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）のうちの一つ以上である；
   （ｉ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分、及び
   （ｉｉ）フリーのＰＡＣ成分；
   及び
   （Ｃ）溶剤成分；
   を含む、光酸発生剤（ＰＡＧ）不含のレジスト組成物であって、
   添加された光酸発生剤（ＰＡＧ）を含まない、前記レジスト組成物。
2. 次の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：
   （Ａ）フェノール系樹脂成分、但し、該フェノール系樹脂成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）を含むノボラック誘導体である；
   （ｉ）フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、及び
   （ｉｉ）酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、但し、該酸解裂性アセタール部分は、次（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）のうちの一つ以上である；
   （ａ）単官能性アルキルアセタール部分、
   （ｂ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分、
   （ｃ）二つの異なる各ノボラックポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分；
   （Ｂ）２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート部分またはそれの誘導体を含む、光活性でかつスルホン酸類を発生しない光活性（ＰＡＣ）成分、但し、該ＰＡＣ成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）のうちの一つ以上である；
   （ｉ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分、及び
   （ｉｉ）フリーのＰＡＣ成分、
   及び
   （Ｃ）溶剤成分；
   から本質的になる光酸発生剤（ＰＡＧ）不含のレジスト組成物であって、
   添加された光酸発生剤（ＰＡＧ）を含まない、前記レジスト組成物。
3. 酸クエンチャ、補助樹脂、可塑剤、表面レベリング剤及び安定剤のうちの一つ以上を更に含む、請求項１または２に記載の組成物。
4. 次の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）：
   （Ａ）フェノール系樹脂成分、但し、該フェノール系樹脂成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）を含むノボラック誘導体である；
   （ｉ）フリーのフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、及び
   （ｉｉ）酸解裂性アセタール部分で保護されたフェノール性ヒドロキシ部分を有するノボラック繰り返し単位、但し、該酸解裂性アセタール部分は、次の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）のうちの一つ以上である；
   （ａ）単官能性アルキルアセタール部分、
   （ｂ）ＰＡＣ部分で官能化されたアセタール部分、
   （ｃ）二つの異なる各ノボラックポリマー鎖上のヒドロキシ部分を保護する二官能性連結アセタール部分；
   （Ｂ）２，１，５ジアゾナフトキノンスルホネート部分またはそれの誘導体を含む、光活性でかつスルホン酸類を発生しない光活性（ＰＡＣ）成分、但し、該ＰＡＣ成分は、次の（ｉ）及び（ｉｉ）のうちの一つ以上である；
   （ｉ）光活性でかつスルホン酸類を発生しない光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）で官能化された前記アセタール部分、及び
   （ｉｉ）フリーのＰＡＣ成分；
   及び
   （Ｃ）溶剤成分；
   からなる光酸発生剤（ＰＡＧ）不含のレジスト組成物であって、
   添加された光酸発生剤（ＰＡＧ）を含まない、前記レジスト組成物。
5. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）から選択される少なくとも二つの繰り返し単位、好ましくは構造（Ｉ）の繰り返し単位及び構造（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）から選択される少なくとも一つの繰り返し単位を含み、
   式中、
   （ｉ）Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｇ、Ｒｋ、Ｒｎ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、
   （ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｄ、Ｒｈ、Ｒｌ、Ｒｏ、及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、但し、Ｘは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、
   （ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ、ｎｇ、ｎｋ、ｎｎ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、ｎａとｎｂとの合計、ｎｃとｎｄとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、ｎｋとｎｌとの合計、ｎｎとｎｏとの合計、ｎｐとｎｑとの合計は、それぞれ３を超えず、
   （ｖｉ）Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｉ、Ｒｍ、Ｒｍ２、及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、
   （ｖｉｉ）構造（ＩＩＩ）を有する繰り返し単位は、
   

   

   によって示される位置を介して構造（ＩＶ）の繰り返し単位または構造（Ｖ）の繰り返し単位のいずれかに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成し、
   （ｖｉｉｉ）Ｘａは、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、
   （ｖｉｖ）Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２であり、
   （ｖｖ）Ｘｃは、アルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、
   （ｖｖｉ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは次のａ）、ｂ）、ｃ）、及びｄ）：
   ａ）直接原子価結合、
   ｂ）アルキレン部分、
   ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
   ｄ）次のｉ）、ｉｉ）及びｉｉｉ）からなる群から選択されるアセタール含有部分；
   ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
   ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
   ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
   （更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）、
   からなる群から選択される、請求項１～４のいずれか一つに記載の組成物。
   

   
6. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を有する繰り返し単位を含み、式中、（ｉ）Ｒａ及びＲｃはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ及びＲｄはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ及びｎｃはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ及びｎｄはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計、及びｎｃとｎｄとの合計はそれぞれ３を超えず、そして（ｖｉ）Ｒｅ及びＲｆはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択される、請求項５に記載の組成物。
   

   
7. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、ここで、構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
   

   

   によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成し、
   （ｉ）Ｒａ、Ｒｇ及びＲｋはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｌはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、及びｎｋとｎｌとの合計はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ及びＲｍはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である、請求項５に記載の組成物。
   

   
8. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位を含み、
   構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、
   

   

   によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成し、及び
   （ｉ）Ｒａ、Ｒｇ及びＲｎはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ及びＲｏはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ及びｎｎはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ及びｎｏはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、及びｎｎとｎｏとの合計はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ及びＲｍ２はそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２であり、（ｖｉｉｉ）Ｘｃはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である、請求項５に記載の組成物。
   

   
9. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含み、
   （ｉ）Ｒａ、Ｒｃ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｄ及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｄ及びｎｑはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計（すなわち、ｎａ＋ｎｂ）、ｎｃとｎｄとの合計（すなわち、ｎｃ＋ｎｄ）、及びｎｐとｎｑとの合計（すなわち、ｎｐ＋ｎｑ）はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｅ、Ｒｆ及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここで、Ｘｄは次のａ）、ｂ）、ｃ）、及びｄ）：
   ａ）直接原子価結合、
   ｂ）アルキレン部分、
   ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
   ｄ）次のｉ）、ｉｉ）及びｉｉｉ）からなる群から選択されるアセタール含有部分；
   ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
   ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
   ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）（更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）、
   からなる群から選択される、請求項５に記載の組成物。
   

   
10. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含み、
    構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
    

    

    によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタール部分を形成し、及び
    （ｉ）Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｋ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｌ及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ、ｎｋ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ、ｎｌ及びｎｑはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計、ｎｈとｎｇとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ、Ｒｍ及びＲｒはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、そして（ｖｉｉ）Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、（ｖｉｉｉ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは、次のａ）、ｂ）、ｃ）、及びｄ）：
    ａ）直接原子価結合、
    ｂ）アルキレン部分、
    ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ｄ）次のｉ）、ｉｉ）及びｉｉｉ）からなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
    ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
    ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
    （更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）、
    からなる群から選択される、請求項５に記載の組成物。
    

    
11. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）及び（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含み、
    構造（ＩＩＩ）及び（Ｖ）を有する繰り返し単位は、
    

    

    によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、二つの異なるポリマー鎖間にフェノール系樹脂成分中に連結点を提供する二官能性アセタールを形成し、及び
    （ｉ）Ｒａ、Ｒｇ、Ｒｎ及びＲｐはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｈ、Ｒｏ及びＲｑはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｇ、ｎｎ及びｎｐはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｈ、ｎｏ及びｎｑはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計、ｎｎとｎｏとの合計、ｎｌとｎｋとの合計、及びｎｐとｎｑとの合計はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｉ及びＲｒは独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｖｉｉ）Ｘｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、
    （ｖｉｉｉ）Ｘｃは－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、（ｖｉｖ）ＰＡＣｂ部分は、連結基Ｘｄを介して結合した構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位中のＰＡＣ成分であり、ここでＸｄは、次のａ）、ｂ）、ｃ）、及びｄ）：
    ａ）直接原子価結合、
    ｂ）アルキレン部分、
    ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ｄ）次のｉ）、ｉｉ）及びｉｉｉ）からなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
    ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
    ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
    （更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）
    からなる群から選択される、請求項５に記載の組成物。
    

    
12. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、
    構造（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）を有する繰り返し単位は、
    

    

    によって示される位置を介して互いに結合し、それによって、フェノール系樹脂成分中で二つの異なるポリマー鎖間に二官能性アセタール部分連結点を形成することができ、及び
    （ｉ）Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｇ及びＲｋはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｂ、Ｒｄ、Ｒｈ及びＲｌはそれぞれ独立して－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎａ、ｎｃ、ｎｇ及びｎｋはそれぞれ独立して０～３であり、（ｉｖ）ｎｂ、ｎｄ、ｎｈ及びｎｌはそれぞれ独立して０または１であり、（ｖ）ｎａとｎｂとの合計、ｎｄとｎｃとの合計、ｎｇとｎｈとの合計、及びｎｋとｎｌとの合計はそれぞれ３を超えず、（ｖｉ）Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒｉ及びＲｍはそれぞれ独立してＣ１～Ｃ４アルキルから選択され、（ｖｉｉ）Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６である、請求項５に記載の組成物。
    

    
13. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（ＩＩ）を有する繰り返し単位を含み、但し、（ｉ）ＲｃはＣ１～Ｃ４アルキルであり、（ｉｉ）Ｒｄは－Ｘ－フェノールであり、ここでＸは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－であり、（ｉｉｉ）ｎｃは０～３であり、（ｉｖ）ｎｄは０または１であり、（ｖ）ｎｃとｎｄとの合計は３を超えない、請求項５に記載の組成物。
14. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（ＩＶ）を有する繰り返し単位を含み、但し、Ｘａはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び
    Ｘａは、少なくとも一つのアルキレンを含み、そしてこの少なくとも一つのアルキレンは、エチレン部分、プロピレン部分、ブチレン部分、構造（ＶＩＩ）：
    

    

    の部分、
    構造（ＶＩＩａ）：
    

    

    の部分、及び
    構造（ＶＩＩｂ）：
    

    

    の部分である、請求項５に記載の組成物。
15. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｖ）を有する繰り返し単位を含み、但し、Ｘｃはアルキレン、－アルキレンオキシアルキレン－部分、または－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ’－部分であり、ここでｘ’は２～６であり、及び
    Ｘｃは、少なくとも一つのアルキレンを含み、そしてこの少なくとも一つのアルキレンは、エチレン部分、プロピレン部分、ブチレン部分、構造（ＶＩＩ）：
    

    

    の部分、
    構造（ＶＩＩａ）：
    

    

    の部分、及び
    構造（ＶＩＩｂ）：
    

    

    の部分である、請求項５に記載の組成物。
16. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（Ｖ）を有する繰り返し単位を含み、但しＸｂは－Ｏ－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－（Ｃ＝Ｏ）－または－ＳＯ_２－である、請求項５に記載の組成物。
17. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含み、但し、Ｘｄは、次のａ）、ｂ）、ｃ）及びｄ）：
    ａ）直接原子価結合、
    ｂ）アルキレン部分、
    ｃ）アルキレンオキシ部分、但し、アルキレン端部は、構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアルキレンオキシ部分のオキシ端部は、ＰＡＣｂ部分に結合する、及び
    ｄ）次のｉ）、ｉｉ）及びｉｉｉ）からなる群から選択されるアセタール含有部分；
    ｉ）アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、
    ｉｉ）アルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）、及び
    ｉｉｉ）アルキレン（オリゴオキシアルキレン）アセタール部分（－アルキレン（－Ｏ－アルキレン）_ｘ－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）（ここで、ｘは２～６である）
    （更に、アセタールを含む前記部分のアルキレン端部は構造（ＶＩ）の繰り返し単位のアセタール酸素部分に結合し、そしてアセタールを含む前記部分のアセタール部分はＰＡＣｂ部分に結合する）
    からなる群から選択される、請求項５に記載の組成物。
18. 前記フェノール系樹脂成分が、構造（ＶＩ）を有する繰り返し単位を含み、但し、Ｘｄは、アルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ）またはアルキレンオキシアルキレンアセタール部分（－アルキレン－Ｏ－アルキレン－Ｏ－ＣＨ（ＣＨ_３）－Ｏ－）であり、及び
    Ｘｄは、少なくとも一つのアルキレンを含み、そしてこの少なくとも一つのアルキレンは、エチレン部分、プロピレン部分、ブチレン部分、構造（ＶＩＩ）：
    

    

    の部分、
    構造（ＶＩＩａ）：
    

    

    の部分、
    構造（ＶＩＩｃ）：
    

    

    を有する部分（ａｃは２～４の整数である）、及び
    構造（ＶＩＩｄ）：
    

    

    を有する部分である、請求項５に記載の組成物。
19. 前記光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分が、構造（ＶＩＩＩ）を含むＰＡＣｂ部分を含む、請求項５に記載の組成物。
    

    

    ［式中、（ｉ）Ｄ_１、Ｄ_２及びＤ_３は、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：
    

    

    を有する部分から選択され：
    及び（ｉｉ）Ｄ_１、Ｄ_２またはＤ_３のうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である］
20. 前記光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分が、構造（ＶＩＩＩｃ）を含むＰＡＣｂ部分を含む、請求項５に記載の組成物。
    

    

    ［式中、（ｉ）
    

    

    は、該フェノール系樹脂成分の繰り返し単位への結合点を表し、（ｉｉ）Ｄ_１ａ、Ｄ_２ａ及びＤ_３ａは、それぞれ独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）：
    

    

    を有する部分から選択され、
    及び（ｉｉｉ）Ｄ_１ａ、Ｄ_２ａまたはＤ_３ａのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である］
21. 前記光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分が、構造（ＶＩＩＩｄ）を含むＰＡＣｂ部分を含む、請求項５に記載の組成物。
    

    

    ［式中、（ｉ）
    

    

    は、フェノール系樹脂成分の繰り返し単位への結合点を表し、（ｉｉ）Ｄ_１ｂ、Ｄ_２ｂ及びＤ_３ｂは、それぞれ独立してＨまたは構造（ＶＩＩＩａ）：
    

    

    を有する部分から選択され、
    及び（ｉｉｉ）Ｄ_１ｂ、Ｄ_２ｂまたはＤ_３ｂのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を有する部分である］
22. 前記光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分が、構造（Ｘ）を有する化合物を含む、請求項５に記載の組成物。
    

    

    ［式中、（ｉ）Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃ及びＤ_４ｃは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：
    

    

    を有する部分から選択され、
    及び（ｉｉ）Ｄ_１ｃ、Ｄ_２ｃ、Ｄ_３ｃ及びＤ_４ｃのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である］
23. 前記光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分が、構造（Ｘａ）を有する化合物を含む、請求項５に記載の組成物。
    

    

    ［式中、（ｉ）Ｄ_１ｄ、Ｄ_２ｄ、Ｄ_３ｄ及びＤ_４ｄは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：
    

    

    を有する部分から選択され、
    及び（ｉｉ）Ｄ_１ｄ、Ｄ_２ｄ、Ｄ_３ｄまたはＤ_４ｄのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である］
24. 前記光活性２，１，５－ジアゾナフトキノンスルホネート（ＰＡＣ）成分が、構造（Ｘｂ）を有する化合物を含む、請求項５に記載の組成物。
    

    

    ［式中、（ｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅ及びＤ_３ｅは、それぞれ独立して、Ｈまたは構造（ＶＩＩＩａ）：
    

    

    を有する部分から選択され、
    及び（ｉｉ）Ｄ_１ｅ、Ｄ_２ｅまたはＤ_３ｅのうちの少なくとも一つは構造（ＶＩＩＩａ）を含む部分である］
25. 前記フェノール系樹脂成分と前記フリーのＰＡＣ成分との重量比が約９５／５～約７０／３０である、請求項５に記載の組成物。
26. チオール類を更に含む、請求項５に記載の組成物。
27. ヘテロ環状チオール類を更に含む、請求項５に記載の組成物。
28. 請求項１～２７のいずれか一つに記載の組成物を基材上に施用することを含む、基材をコーティングする方法。
29. レジストに画像形成する方法であって、次のステップ：
    ｉ）請求項１～２７のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングして、レジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉｉ）前記選択露光された膜を現像して、前記基材上にポジに画像形成されたレジスト膜を形成するステップ；
    を含む前記方法。
30. レジストに画像形成する方法であって、次のステップ：
    ｉａ）請求項１～２７のいずれか一つに記載の組成物を基材上にコーティングして、レジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉａ）マスクを用いて前記レジスト膜をＵＶ光に選択露光して、選択露光されたレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｉｉａ）前記選択露光されたレジスト膜をベークして、選択露光及びベークされたレジスト膜を形成するステップ；
    ｉｖａ）前記選択露光及びベークされたレジスト膜を現像して、ポジに画像形成されたレジスト膜を前記基材上に形成するステップ；
    を含む前記方法。
31. コーティングされた基材を製造するための、請求項１～２７のいずれか一つに記載の組成物の使用。

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