JP2023500370A - ３ｄ印刷で使用するための水洗可能な組成物 - Google Patents

３ｄ印刷で使用するための水洗可能な組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2023500370A
JP2023500370A JP2022526413A JP2022526413A JP2023500370A JP 2023500370 A JP2023500370 A JP 2023500370A JP 2022526413 A JP2022526413 A JP 2022526413A JP 2022526413 A JP2022526413 A JP 2022526413A JP 2023500370 A JP2023500370 A JP 2023500370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
water
acrylate
alkyl
phenyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022526413A
Other languages
English (en)
Inventor
ティン，ルイ
チョン，リー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JP2023500370A publication Critical patent/JP2023500370A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
    • B29C64/307—Handling of material to be used in additive manufacturing
    • B29C64/314—Preparation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/30—Auxiliary operations or equipment
    • B29C64/35—Cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y40/00—Auxiliary operations or equipment, e.g. for material handling
    • B33Y40/20—Post-treatment, e.g. curing, coating or polishing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y70/00—Materials specially adapted for additive manufacturing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/282—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing two or more oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/343—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate in the form of urethane links
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52—Amides or imides
    • C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/58—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing oxygen in addition to the carbonamido oxygen, e.g. N-methylolacrylamide, N-(meth)acryloylmorpholine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/06—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/106—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D11/107—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds from unsaturated acids or derivatives thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037—Production of three-dimensional images
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
    • B29C64/264—Arrangements for irradiation
    • B29C64/268—Arrangements for irradiation using laser beams; using electron beams [EB]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/20—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
    • B29C64/264—Arrangements for irradiation
    • B29C64/277—Arrangements for irradiation using multiple radiation means, e.g. micromirrors or multiple light-emitting diodes [LED]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2096/00—Use of specified macromolecular materials not provided for in a single one of main groups B29K2001/00 - B29K2095/00, as moulding material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
    • B29K2105/0085—Copolymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)

Abstract

本発明は、任意の溶媒又は洗浄剤による支援もなく、純水によって洗浄することができる放射線硬化性組成物に関する。印刷された三次元生成物は、水洗及び十分な後硬化の後に、きれいで滑らかな粘着性のない表面を有する。完全に硬化した三次元生成物は、耐熱性であり、ガラス転移温度、例えば２００℃を超える温度で優れた機械的性能を有する。

Description

本発明は、以下の成分、
（Ａ１）少なくとも１種の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）、
（Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
（Ｃ）任意に光開始剤（Ｃ）
を含み、
成分（Ａ１）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、２０質量％超、特に３０質量％であり、且つ成分（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、１０質量％超、特に２０質量％である、
放射線硬化性組成物；
以下の成分、
（Ａ１’）少なくとも１種の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、
（Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
（Ｃ）任意に光開始剤（Ｃ）
を含み、
成分（Ｂ１ｂ）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、４０質量％超、特に５０質量％であり、且つ成分（Ｂ１ａ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、１０質量％超、特に２０質量％である、
放射線硬化性組成物
に関するものである。
放射線硬化性組成物は、任意の溶媒又は洗浄剤による支援もなく、純水によって洗浄することができる。印刷された三次元生成物は、水洗及び十分な後硬化の後に、きれいで滑らかな粘着性のない表面を有する。完全に硬化した三次元生成物は、耐熱性であり、ガラス転移温度、例えば２００℃を超える温度で優れた機械的性能を有する。
ＵＳ９８６８８７１は、総計で８５質量パーセント以上の、オリゴマー及びモノマー
少なくとも（ｉ）光開始剤の１種、（ｉｉ）光酸発生剤及び（ｉｉｉ）光増感剤、
（ｉ）光遮断剤及び（ｉｉ）水溶性充填剤のうちの１種以上、
を含む群から選択される、１種以上の水溶性成分を含む水洗可能な３Ｄ印刷用樹脂配合物に関するものであり、
印刷された３Ｄ物体の表面上の任意の未硬化の又は部分的に硬化した前記水洗可能な３Ｄ印刷樹脂は、水で洗い流してよい。
ＵＳ９９４４８０４は、
総計で１質量パーセント以上の、オリゴマー及びモノマーを含む群から選択される１種以上の水分散性成分、
総計で１質量パーセント以上の、オリゴマー及びモノマーを含む群から選択される１種以上の水不溶性成分、
（ｉ）光開始剤及び（ｉｉ）光遮断剤の１種以上
を含む水洗可能な３Ｄ印刷樹脂配合物に関し、そして
添加される水に対応して、前記水分散性成分は、ミセル又はリポゾーム中の如何なる未硬化の水不溶性成分も包んで取り除く。
ＵＳ９９４４８０５は、
約７５質量パーセント以上のオリゴマー及びモノマーを含む群から選択される１種以上の水溶性成分、
約５質量パーセント以上のオリゴマー及びモノマーを含む群から選択される１種以上の水分散性成分、及び
（ｉ）光開始剤の１種以上、（ｉｉ）光遮断剤、（ｉｉｉ）光酸発生剤、（ｉｖ）光増感剤、及び（ｖ）充填剤
を含む水洗可能な３Ｄ印刷樹脂配合物に関する。
ＪＰ５２４７１３４Ａ２は、以下の成分、
（Ａ）式
Figure 2023500370000001
 I（Ｒ１及びＲ２はＨ又はＣ１～４アルキルであり、Ｒ３はＨ又はメチルであり、（ｎ）は１又は１以上の整数であり、ＭはＨ又は式ＩＩの基である）のエポキシ（メタ）アクリレート、
（Ｂ）希釈剤としての水溶性の反応性モノマー（例えばＮ－ビニルピロリドン）及び
（Ｃ）光重合性開始剤（例えば、２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオフェノン）を含む組成物に関する。
ＵＳ９８６１４５２は、液体放射線硬化性樹脂組成物に関するものであり、その組成物は、組成物の全質量に対して、
（ａ）約５０～約８０質量パーセントの、少なくとも２種の異なるエポキシ含有化合物を含むエポキシ成分であって、さらに、
脂環式エポキシ含有化合物と、
芳香族グリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と
を含む、エポキシ成分、
（ｂ）約５～約３０質量パーセントのオキセタン成分、
（ｃ）（メタ）アクリレート成分、
（ｄ）カチオン性光開始剤、及び
（ｅ）フリーラジカル光開始剤
を含み、
エポキシ成分の少なくとも２５質量パーセントが脂環式エポキシ含有化合物であり、
樹脂液体放射線硬化性樹脂組成物がセ氏３０度で約７５～約３００ｃｐｓの粘度を有し、及び
オキセタン成分が本質的に単官能のオキセタン化合物からなる。
ＷＯ０４０５５１２３（ＣＮ１００４７３７０１Ｃ）は、単相のエネルギー硬化性ワニス組成物に関するものであり、その組成物は、（ａ）水溶性エチレン性不飽和反応性オリゴマー及びモノマー、（ｂ）水不溶性エチレン性不飽和反応性オリゴマー及びモノマー、及び（ｃ）水溶性非反応性樹脂、水不溶性酸又は塩基性機能性樹脂及び水不溶性エチレン性不飽和反応性樹脂からなる群から選択される樹脂を含み、前記水不溶性樹脂は酸官能基を含有する。
ＣＮ１０７５０１４７７Ａは、３Ｄインクジェット印刷用光硬化性材料と、その製造方法と、印刷方法とに関し、その光硬化性材料は、５０～９８質量部の単官能モノマー、１～５０質量部の直鎖非イオン性水溶性ポリマー、０～２０質量部の極性有機溶媒、０．１～５質量部の光開始剤、及び０．５～１０質量部の補助剤を含む。光硬化性材料は、支持部を印刷するために３Ｄインクジェット印刷に使用することができ、支持部は、対象の３Ｄ物体の精度に影響を与えないように、水又は水性液体中で除去することができる。
ＪＰ０２１１１５２９Ａは、光を照射して光硬化層を形成し、それを三次元構造に積層する光硬化性樹脂に関する。三次元成形体を洗浄用水性溶液で洗浄し、外面に残った未硬化樹脂を除去する。洗浄用溶液として、界面活性剤又はアルカリ水溶液又は製品（ware）を使用する。洗浄は、例えば、洗浄槽の中に放射超音波又は撹拌下で成形品を洗浄用溶液に浸すことである。
ＥＰ０３７８１４４Ａ２は、感光性を有する液体樹脂組成物に関するものであり、その組成物は、
（ｉ）２５℃で５００ｍＰａｓを超える粘度を有する少なくとも１種の二官能性モノマー又はオリゴマーのアクリレート又はメタクリレート、
（ｉｉ）式
Figure 2023500370000002
（式中、Ｒ１は水素、メチル、ヒドロキシ又は基
Figure 2023500370000003
 を表し、そしてＲ２は基
Figure 2023500370000004
 であり、式中、ｎは整数０、１、２又は３であり、Ｒ３及びＲ４は各々互いに独立して水素又はメチルである）
の化合物からなる群から選択される少なくとも１種のトリ－、テトラ－、又はペンタアクリレート又は－メタクリレート、
（ｉｉｉ）式
Figure 2023500370000005
 の少なくとも１種の不飽和単官能のモノマー化合物（式中、Ｒ５は水素又はメチルを表し、そしてＲ６は式
Figure 2023500370000006
 の基であり、Ｒ７はテトラヒドロフルフリル、シクロヘキシル、２－フェノキシエチル、ベンジル、イソボルニル、グリシジル、ジシクロペンテニル、モルホリノエチル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル又はＣ１～Ｃ２０の直鎖状又は分岐状脂肪族残基であるか、又はＲが水素である場合、Ｒはさらにピロリジノン－２－イル、イミダゾリル、カルバゾリル、アントラセニル、フェニル、Ｃ５～Ｃ８シクロアルキル、ナフテニル、２－ノルボルニル、ピリジル、Ｎ－カプロラクタミル又はトルイルを表す）、及び
（ｉｖ）（ｉ）、（ｉｉ）及び／又は（ｉｉｉ）のための光重合開始剤
を含む。ＥＰ４５０２５４Ａ１において、成分（ｉｖ）は、アニオン性色素－ヨードニウムイオン化合物、アニオン性色素－ピリリウム化合物、又はカチオン性色素－ホウ酸塩アニオン錯体に置換される。
ＥＰ０４２５４４１Ｂ１は、ａ）５～２５質量パーセントの、分子量（ＭＷ）が８００以下であるモノマーの脂肪族又は脂環式ジ（メタ）アクリレート、ｂ）０～１５質量パーセントの、官能価が少なくとも３であり、ＭＷが６００以下であるモノマーのポリ（メタ）アクリレート、ｃ）０～２０質量パーセントの、ＭＷが５００以下であるモノ（メタ）アクリレート又はモノ－Ｎ－ビニル化合物、ｄ）２０～６０質量パーセントの、官能基が２～４であり、ＭＷが５００～１０，０００であるウレタン（メタ）アクリレート、ｅ）１０～５０質量パーセントの、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦに基づくモノマーの又はオリゴマーのジ（メタ）アクリレート、ｆ）０．１～１０質量パーセントの光開始剤、及びｇ）０～５質量パーセントの慣例の添加剤を含有する液体の感光性混合物に関するものであり、成分ａ）～ｇ）の合計割合は、１００質量パーセントである。
ＥＰ０５０６６１６Ｂ１は、以下の成分、
（１）４０～６０質量パーセントの、官能価が２～４、及び分子量（ＭＷ）が５００～１０，０００であるウレタン（メタ）アクリレート、
（２）５～４０質量パーセントの、ヒドロキシル含有脂肪族又は脂環式ジ（メタ）アクリレート、
（３）０～４０質量パーセントの、モノ（メタ）アクリレート又はＭＷが５００以下であるモノ－Ｎ－ビニル化合物、
（４）０．１～１０質量パーセントの光開始剤、
（５）０～３０質量パーセントの、脂肪族トリ（メタ）アクリレート又は芳香族ジ－又はトリ（メタ）アクリレートの（２）とは異なる脂肪族又は脂環式ジ（メタ）アクリレート、及び
（６）０～５質量パーセントの、慣例の添加剤
を、成分（１）～（６）を合わせた割合が１００質量パーセントとなるように含む、感光性液体混合物に関する。
ＪＰ０８１８３８２３Ａは、
（ａ）１００質量部の不飽和ウレタン、及び（ｂ）２５～１５０質量部の
（ｉ）Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン、又は
（ｉｉ）Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン及びジオールジ（メタ）アクリレートを含む混合物
を含む樹脂に関する。
ＪＰ０８１８３８２４Ａは、（ａ）１００質量部の不飽和ウレタン及び（ｂ）２５～１５０質量部の（ｉ）Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン又は（ｉｉ）Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン及びジオールジ（メタ）アクリレートを含む混合物を含む樹脂に関する。
ＪＰ２０１９００１８６５には、インクジェット法によるステレオリソグラフィーに使用される放射線硬化性組成物が開示されており、その組成物は、分子量が２００以下である単官能（メタ）アクリルアミド化合物（Ａ）と、（メタ）アクリレートオリゴマー（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含む。
ＥＰ３３０９２２４は、３Ｄ印刷に使用するためのインク組成物に関するものであり、その組成物は、
少なくとも１つの単官能アクリレートモノマー、
二官能アクリレートオリゴマー、多官能アクリレートオリゴマー及びそれらの混合物からなる群から選択される任意のオリゴマー、及び
光開始剤
を含む。
ＵＳ２０１７２７５４８６は、硬化性相変化ゲル化剤インク組成物に関するものであり、その組成物は、
少なくとも１種のアクリレートモノマー、オリゴマー又はプレポリマーを含む相変化インク媒体、
アクリロイルモルホリン、
相変化インク媒体と混和性である、少なくとも１種のゲル化剤、
光開始剤、及び
任意の着色剤
を含む。
ＵＳ９８６８８７１ ＵＳ９９４４８０４ ＵＳ９９４４８０５ ＪＰ５２４７１３４Ａ２ ＵＳ９８６１４５２ ＷＯ０４０５５１２３（ＣＮ１００４７３７０１Ｃ） ＣＮ１０７５０１４７７Ａ ＪＰ０２１１１５２９Ａ ＥＰ０３７８１４４Ａ２ ＥＰ４５０２５４Ａ１ ＥＰ０４２５４４１Ｂ１ ＥＰ０５０６６１６Ｂ１ ＪＰ０８１８３８２３Ａ ＪＰ０８１８３８２４Ａ ＪＰ２０１９００１８６５ ＥＰ３３０９２２４ ＵＳ２０１７２７５４８６
３Ｄ印刷可能な樹脂配合物に使用される放射線硬化性モノマー及びオリゴマーの大部分は、水に不溶である。３Ｄ印刷後の残留樹脂は通常、イソプロパノール、エタノール及びアセトンのような有機溶媒で洗浄しなければならず、このことは、ＶＯＣを含み、引火性物質の取り扱いリスク及び有害廃棄物など、多くの懸念を生じる。現在入手可能な水洗可能な樹脂は、洗浄性が低く（洗剤又は界面活性剤による補助が必要なものもある）、そして機械的性能及び熱的性能が弱い。
本発明の目的は、３Ｄ印刷に使用するための水洗可能な組成物を提供することであり、その組成物は、水洗及び十分な後硬化の後のきれいで滑らかな粘着性のない表面、及び所望の機械的特性を有する印刷された三次元生成物をもたらす。
よって本発明は、以下の成分、
（Ａ１）少なくとも１種の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）、
（Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
（Ｃ）任意に光開始剤（Ｃ）
を含み、
成分（Ａ１）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、２０質量％超、特に３０質量％であり、且つ成分（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、１０質量％超、特に２０質量％である、
放射線硬化性組成物に関する。
別の実施形態において、本発明は、以下の成分、
（Ａ１’）少なくとも１種の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、
（Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
（Ｃ）任意に光開始剤（Ｃ）
を含み、
成分（Ｂ１ｂ）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、４０質量％超、特に５０質量％であり、且つ成分（Ｂ１ａ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、１０質量％超、特に２０質量％である、
放射線硬化性組成物に関するものである。
前記実施形態において、難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）の量は、好ましくは２０質量％より多い。水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）の量は、好ましくは、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて２０質量％より多い。
難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）及び水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）の量は、より好ましくは、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて７０質量％より多い。
本発明による印刷された三次元生成物は、水洗及び十分な後硬化の後に、きれいで滑らかな粘着性のない表面を有する。この配合物は、任意の溶媒又は洗浄剤による支援もなく、純水によって洗浄することができる。完全に硬化した三次元生成物は、耐熱性であり、ガラス転移温度、例えば２００℃を超える温度で優れた機械的性能を有し、３０～８０ＭＰａの引張強さ、１８００～３５００ＭＰａの引張弾性率、２～２０％の破断点伸び、７０～１７０℃のＤＭＡによるＴｇを有する。
完全に硬化した三次元生成物は、
－水に不溶であり、
－吸水性が低く、及び／又は
－貯蔵弾性率Ｅ’（動的機械分析器（ＤＭＡ）によって測定され、高温における材料の剛性を評価するパラメータとして使用できる）がガラス転移温度（例えば２００℃）よりも高温で１０ＭＰａを超え、それ故耐熱性機能部品として使用してよい。
放射線硬化性組成物は、好ましくは、光硬化性組成物である。よって本発明は光硬化性組成物に関するものであり、その組成物は、
（Ａ１）少なくとも１種の水溶性の反応性希釈剤、
（Ａ２）少なくとも１種の水溶性のオリゴマー、
（Ｂ）水不溶性の又は難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１）又は水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）の少なくとも１つ、及び
（Ｃ）光開始剤（Ｃ）
を含み、
成分（Ａ１）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）の量に基づいて２０質量％超、特に３０質量％であり、そして成分（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）の量に基づいて１０質量％超、特に２０質量％である、
光硬化性組成物であるか、又は
（Ａ１’）少なくとも１種の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、
（Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
（Ｃ）光開始剤（Ｃ）
を含み、
成分（Ｂ１ｂ）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて２０質量％超、特に３０質量％であり、そして成分（Ｂ１ａ）及び（Ｂ２）の量が、、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて１０質量％超、特に２０質量％である、
光硬化性組成物である。
本発明の放射線硬化性、特に光硬化性組成物は、好ましくは水洗可能である。難溶性モノマーの溶解度の増加と樹脂粘度の減少により、熱水が水洗後の透明度を向上させるであろう。
好ましくは、成分（Ａ１）及び（Ａ２）の量は、本発明の光硬化性組成物を用いて印刷された３Ｄ物体（生成物）を、有機溶媒、洗剤又は界面活性剤を含有せず、室温（２０～３０℃）を有する純水で洗浄し、乾燥表面を残すのに十分である。すなわち、印刷された３Ｄ物体の表面上の組成物の未硬化の又は部分的に硬化した成分は、純水ですすぐことによって、又は場合により超音波処理、撹拌、異なる形態の流れ（静的、渦、ジェット）などを利用し、室温の純水に浸漬することによって、洗浄除去される。光硬化性組成物は、任意の溶媒又は洗浄剤による支援もなく室温の純水によって洗浄することができる。
反応性希釈剤は、処理のための放射線硬化性組成物の粘度を低下させ、その後続する共重合を介した硬化の間に、放射線硬化性組成物の一部となる物質である。この物質は通常、その粘度を下げるためにラッカーに加えられる。ＵＶ及びＥＢ（電子ビーム）硬化に使用される反応性希釈剤は、典型的には、１～４個の反応性基を有し、そして分子量がおよそ１５０～５００の範囲である。反応性希釈剤は、通常は、２５℃で５～２００センチポアズの粘度を有する液体である。
ＵＶ及びＥＢ硬化に使用されるオリゴマーは、典型的には、２５℃における粘度が数千～１００万センチポアズを超える範囲の粘性液体である。それらはまた、典型的には、分子当たり２～６個のアクリレート基を有し、そして分子量がおよそ５００～２０，０００の範囲である。
水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ以上、特に３３ｇ／Ｌ以上の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。
水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ以上、特に３３ｇ／Ｌ以上の量で水に溶解可能なオリゴマーである。水溶性の反応性オリゴマー（Ａ１）という用語は、水希釈可能なオリゴマー（Ａ２）を含む。水希釈可能なオリゴマー（Ａ２）とは、本発明において、オリゴマー（Ａ２）が、水及びオリゴマー（Ａ２）の全質量中の水の５～７５質量％の濃度範囲にわたって水と混合された場合に、均質な単相混合物を形成することを可能にするオリゴマーを意味する。水に分散可能なオリゴマーは、「水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）」という用語には含まれない。いくつかの市販の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）は、反応性希釈剤を含むことができるが、その含水量は質量で１０％未満である。
水不溶性の又は難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）は、約２０℃で１．０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）は、約２０℃で１．０ｇ／Ｌ～１０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。
水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）は、約２０℃で１．０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能なオリゴマーである。難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能なオリゴマーである。
水溶性の反応性希釈剤
水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ以上、特に３３ｇ／Ｌ以上の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。
水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）は、好ましくは、単官能又は二官能の反応性希釈剤である。
室温で１０ｇ／Ｌ～３３ｇ／Ｌの量で水に溶解する水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）の例は、ヒドロキシエチルメタクリレート（１１．８ｇ／Ｌ）及び２－（２－エトキシエトキシ）エチルアクリレート（ＥＯＥＯＡ）（１３．４ｇ／Ｌ）である。より好ましくは、室温で３３ｇ／Ｌ以上の量で水に溶解可能な水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）である。
好ましくは、水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）は、
単官能の（メタ）アクリルアクリルアミド、
式
Figure 2023500370000007
 のＮ－ビニルオキサゾリジノン（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して水素原子又は１０個以下の炭素原子を有する有機基である）、
ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート（ＰＥＧ２００ＤＡ）、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、２－ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、Ｎ－ビニル－カプロラクタム（ＮＶＣ）、Ｎ－ビニル－ピロリドン（ＮＶＰ）及びＮ－ビニル－イミダゾール（ＶＩＭ）から選択される。
上記のポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート及びポリエチレングリコール（４００）ジアクリレートは、以下の化学式で表される。
ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート
ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯ－（ＯＣ２Ｈ４）ｎ－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（式中、ｎ≒４）
ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート
ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＯ－（ＯＣ２Ｈ４）ｎ－ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２（式中、ｎ≒９）。
水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）のさらなる例として、アクリル酸、メタクリル酸、β－カルボキシエチルアクリレート、２－スルホエチルメタクリレート及びトリクロロアクリル酸が挙げられる。
単官能（メタ）アクリルアミド（Ａ１）の例には、アクリロイルモルホリン、メタクリロイルモルホリン、Ｎ－（ヒドロキシメチル）アクリルアミド及びＮ－ヒドロキシエチルアクリルアミドが含まれる。
現時点で最も好ましいアクリルアミド又はメタクリルアミド成分（Ａ１）は、アクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）である。
別の好ましい実施形態において、水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）は、式
Figure 2023500370000008
 のＮ－ビニルオキサゾリジノンである。好ましくは、式（Ｉ）のＲ１～Ｒ４の少なくとも２つは水素原子である。
特に好ましい実施形態では、式（Ｉ）のＲ１～Ｒ４の少なくとも２つは水素原子であり、任意の残りのＲ１～Ｒ４は、１０個以下の炭素原子を有する有機基である。
好ましくは、有機基は４個以下の炭素原子を有する。特に好ましい実施形態では、有機基はアルキル基又はアルコキシ基である。好ましい実施形態において、有機基はＣ１～Ｃ４アルキル基、又はＣ１～Ｃ４アルコキシ基である。最も好ましい実施形態では、有機基はメチル基である。
式（Ｉ）のＮ－ビニルオキサゾリジノンの例として化合物が挙げられ、
ここで
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は水素原子（Ｎ－ビニルオキサゾリジノン（ＮＶＯ））であるか、又は
Ｒ１はＣ１～Ｃ４アルキル基、特にメチル基であり、そしてＲ２、Ｒ３及びＲ４は水素原子（Ｎ－ビニル－５－メチルオキサゾリジノン（ＮＶＭＯ））であるか、又は
Ｒ１及びＲ２は水素原子であり、そしてＲ３及びＲ４はＣ１～Ｃ４アルキル基、特にメチル基である。
特に好ましくはＮＶＯ及びＮＶＭＯであり、最も好ましくはＮＶＭＯである。
いくつかの明示的に言及された水溶性の反応性希釈剤の水溶解度を、以下の表に示す：
Figure 2023500370000009
現時点で最も好ましい水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）は、アクリロイルモルホリン、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート、Ｎ－ビニル－カプロラクタム（ＮＶＣ）、Ｎ－ビニルオキサゾリジノン、Ｎ－ビニル－５－メチルオキサゾリジノン及びそれらの混合物から選択される。
水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）
水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ以上、特に３３ｇ／Ｌ以上の量で水に溶解可能なオリゴマーである。水溶性の反応性オリゴマー（Ａ１）という用語は、水希釈可能なオリゴマー（Ａ２）を含む。
水溶性のオリゴマー（Ａ２）は、水溶性のウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル（メタ）アクリレート、又はこれらの混合物であってよい。
本発明の好ましい実施形態において、オリゴマー（Ａ２）は、水溶性の（水希釈可能なものを含む）（メタ）アクリル化ウレタン（Ａ２）である。
水希釈可能なウレタンは、例えば、ＵＳ２０１１０１７０８５に記載されている。用語「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリル化合物又は誘導体の両方、及びそれらの混合物を包含するものとして理解される。アクリル化化合物が好ましい。
オリゴマー（Ａ２）は、より好ましくは、少なくとも１種のポリエチレングリコールセグメント及び少なくとも１種のペンダント親水性基を含有する水希釈可能な（メタ）アクリル化ポリウレタン（Ａ２）である。
水希釈可能な（メタ）アクリル化ウレタン（Ａ）は一般に、少なくとも１種のポリイソシアネート化合物（ｉ）、少なくとも１種のポリオール（ｉｉ）、好ましくは、少なくとも１種のポリエチレングリコールセグメントと少なくとも１種のペンダント親水性基とを含むポリエステルポリオール（ｖｉ）、及びイソシアネート基と反応することができる少なくとも１つの反応基を含有する少なくとも１種の（メタ）アクリル化化合物（ｉｖ）の反応から得られる。水希釈可能な（メタ）アクリル化脂肪族ウレタンが好ましい。
ポリエステルポリオール（ｖｉ）は、好ましくは水希釈可能である。水希釈可能なポリエステルポリオールは、例えばＵＳ５，００６，５９８及びＷＯ９４／２８０４３に記載されている。ポリエステルポリオール（ｖｉ）は、より好ましくは、約２００～５０００の分子量を有する。ポリエステルポリオール（ｖｉ）は、より好ましくは、少なくとも１種のポリエチレングリコールと、少なくとも１種のポリ酸と、少なくとも１つの親水性基を含有する少なくとも１種の化合物と、任意に少なくとも１種の他のポリオールとの反応から得られる。親水性基とは、イオン性である（例えばカルボキシレート基又はスルホネート基など）か、又はカルボン酸、スルホン酸、アミノ基などの塩を形成する中和剤との反応後にイオン性となる基を意味する。
ポリエチレングリコールは、好ましくは、２００～２０００、より好ましくは少なくとも４００の分子量を有する。特に好ましくは、２０～８０質量パーセント、より好ましくは４０～８０質量パーセントのポリエチレングリコールセグメント、及び５～２０質量パーセント、より好ましくは５～１５質量パーセントの、少なくとも１つの親水性基を含有する化合物、特にスルホイソフタル酸ナトリウム、２，２－ジメチロールプロピオン酸及び２，２－ジメチロールブタン酸及び／又はアルファ，オメガ－ポリプロピレングリコール－ジアミン－スルホプロピル化ナトリウム塩を含有する、ポリエステルポリオールである。適した水希釈可能な（メタ）アクリレートは、例えば、ＵＣＥＣＯＡＴ（登録商標）６５５８、ＵＣＥＣＯＡＴ（登録商標）６５５９、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）２００２及びＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）２００３の名称で市販されているものである。
本発明の別の好ましい実施形態による（メタ）アクリレート官能性ウレタンオリゴマーは、末端基－ポリイソシアネート－主鎖－ポリイソシアネート－末端基の構造を有する。ＷＯ１７００５６１３Ａ１を参照されたい。
好ましくは、前記オリゴマーは、
（ｉ）数平均分子量が、３９０ｇ／ｍｏｌ～２５０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１０００ｇ／ｍｏｌ～２５０００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは１５００ｇ／ｍｏｌ～２００００ｇ／ｍｏｌのグリコール、
（ｉｉ）ポリイソシアネート、
（ｉｉｉ）イソシアネート基と反応することができ、グリコールベースのスペーサーによって（メタ）アクリル化部分から分離された少なくとも１つの基を含む、（メタ）アクリレート官能化化合物
の反応生成物として得られる。
より好ましくは、前記（メタ）アクリレート官能性ウレタンオリゴマーは、
（ｉｖ）数平均分子量が４００ｇ／ｍｏｌ～１００００ｇ／ｍｏｌのグリコール、
（ｖ）ポリイソシアネート、
（ｖｉ）イソシアネート基と反応することができ、グリコールベースのスペーサーによって（メタ）アクリル化部分から分離された少なくとも１つの基を含む、（メタ）アクリレート官能化化合物
の反応生成物として得られる。
本明細書で（ｉ）において使用される用語「グリコール」は、ポリオール族に属する任意のクラスの有機化合物を意味する。グリコールの分子では、ヒドロキシル基（－ＯＨ）が異なる炭素原子に結合している。好ましくは、グリコールは２つのヒドロキシル基を含む。この群は、ポリエチレンオキシド及びポリカプロラクトンポリオールなどのポリアルキレンオキシドポリオールも包含する。
他の好ましいグリコールはポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコール（ＰＶＯＨ、ＰＶＡ又はＰＶＡＬ）はポリビニルアセテートの加水分解により合成される。それは２つのクラス、すなわち部分的加水分解及び完全加水分解に分類される。これらはクラレ社からＰｏｖａｌの商品名で市販されている。部分的に加水分解されたポリビニルアルコールが好ましい。
本明細書で（ｉｉｉ）において使用される用語「グリコールベースのスペーサー」は、ポリオールである。好ましくは、前記グリコールベースのスペーサーは、ポリエチレングリコール又はポリ－ｅ－カプロラクトンである。
本明細書で使用される用語「ポリイソシアネート」は、少なくとも２つのイソシアネート基を含む有機化合物を意味する。最も好ましくは、前記（メタ）アクリレート官能性ウレタンオリゴマーは、式（ｌａ）又は（ｌｂ）のものであり、式中、ｘは１～１０であり、Ｒ１はグリコールベースのスペーサー基であり、Ｒ２はポリイソシアネート由来であり、Ｒ３は骨格提供化合物である。
Figure 2023500370000010
Figure 2023500370000011
式（ｌａ）及び（ｌｂ）からわかるように、オリゴマーは、好ましくは不飽和基によって末端がキャップされている。
好ましい実施形態において、本発明の実施形態による（メタ）アクリレート官能性ウレタンオリゴマーは、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート及びポリイソシアネートの反応生成物である。特に好ましい実施形態では、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（エチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート及びポリイソシアネートの反応生成物である本発明の実施形態による（メタ）アクリレート官能性ウレタンオリゴマーは、式（ＩＩ）のものであり、ｎは４５（ＰＥＧ２０００）であり、そしてｍ＝６、ｘ＝１～１０であり、好ましくはｘ＝１～３であり、ｎ、ｍ及びｘは平均値である。
Figure 2023500370000012
別の好ましい実施形態では、本発明の実施形態による（メタ）アクリレート官能性ウレタンオリゴマーは、ポリ（エチレングリコール）、ポリ－ｅ－カプロラクトンモノ（メタ）アクリレート及びポリイソシアネートの反応生成物である。
本発明の一実施形態において、化合物（Ａ２）は水溶性化合物である。
ＷＯ２０１９０５２９８１Ａ１によれば、水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）は、以下から調製できる：
（ｉ）遊離イソシアネート基を含有する少なくとも１種の化合物、
（ｉｉ）イソシアネートと反応することができる少なくとも１つの基と、さらに少なくとも１つのエチレン性不飽和基とを含有する、少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
（ｉｉｉ－１）イソシアネート基と反応することができる少なくとも１つの基と、化合物（Ａ２）を直接水溶性とするか、又は中和剤との反応後に水溶性として、塩を提供することができるさらに少なくとも１つの親水性基とを含有する、少なくとも１種の化合物、
（ｉｖ）少なくとも１種のカルボン酸ヒドラジド、及び
（ｖ）任意に、イソシアネート基と反応することができる少なくとも１つの基を含有するがエチレン性不飽和基を含有しない、少なくとも１種の化合物、又は
（ｉ）遊離イソシアネート基を含有する少なくとも１種の化合物、
（ｉｉ）イソシアネートと反応することができる少なくとも１つの基と、さらに少なくとも１つのエチレン性不飽和基とを含有する、少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物、
（ｉｉｉ－１）イソシアネート基と反応することができる少なくとも１つの基と、化合物（Ａ２）を直接水溶性とするか、又は中和剤との反応後に水溶性として、塩を提供することができるさらに少なくとも１つの親水性基とを含有する、少なくとも１種の化合物、
（ｖ）任意に、イソシアネート基と反応することができる少なくとも１つの基を含有するがエチレン性不飽和基を含有しない、少なくとも１種の化合物。
化合物（ｉ）は、典型的にはポリイソシアネートである。「ポリイソシアネート」（ｉ）とは、少なくとも２つ、そして典型的には６つ以下のイソシアネート基を含む有機化合物を意味する。ポリイソシアネート化合物は、通常は３つ以下のイソシアネート基を含む。ポリイソシアネート化合物（ｉ）は、最も好ましくはジイソシアネートである。ポリイソシアネート化合物は一般に、脂肪族、脂環式、芳香族及び／又は複素環式ポリイソシアネート又はそれらの組み合わせから選択される。ポリイソシアネート（ｉ）は、アロファネート基、ビウレット基及び／又はイソシアヌレート基を含有してもよい。脂肪族及び脂環式ポリイソシアネートの例として、１，５－ジイソシアナトペンタン、１，６－ジイソシアナトヘキサン（ＨＤＩ）、１，１’－メチレンビス［４－イソシアナトシクロヘキサン］（Ｈ１２ＭＤＩ）、５－イソシアナト－１－イソシアナトメチル－１、３，３－トリメチル－シクロヘキサン（イソホロンジイソシアネート、ＩＰＤＩ）が挙げられる。２つを超えるイソシアネート基を含有する脂肪族ポリイソシアネートは、例えば、１，６－ジイソシアナトヘキサンビウレット及びイソシアヌレートのような、上記ジイソシアネートの誘導体である。芳香族ポリイソシアネートの例は、１，４－ジイソシアナトベンゼン（ＢＤＩ）、２，４－ジイソシアナトトルエン（２，４－ＴＤＩ）、２，６－ジイソシアナトトルエン（２，６－ＴＤＩ）、１，１’－メチレンビス［４－イソシアナトベンゼン］（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、１，５－ナフタレンジイソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート（ＴＯＤＩ）及びｐ－フェニレンジイソシアネート（ＰＰＤＩ）である。
本発明の文脈において好ましいのは、脂肪族及び／又は脂環式ポリイソシアネート、より好ましくはジイソシアネートである。特に好ましくは、脂肪族又は脂環式ジイソシアネート、及びとりわけ脂環式ジイソシアネートである。特に好ましくは、１，１’－メチレンビス［４－イソシアナトシクロヘキサン］（Ｈ１２ＭＤＩ）及び／又はイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）である。
イソシアネート基と反応することができる１つ以上の反応基及び少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する重合可能なエチレン性不飽和化合物が、好ましい化合物（ｉｉ）である。化合物（ｉｉ）は、１つ以上のエチレン性不飽和官能基（例えばアクリル基及び／又はメタクリル基）、及び好ましくはイソシアネートと反応することができる２つ以上の求核官能基（典型的にはヒドロキシル基）を含有する化合物から選択することができる。このような化合物（ｉｉ－ａ）の例は、ヒドロキシル基を含有するポリエステル（メタ）アクリレート、ヒドロキシル基を含有するポリエーテル（メタ）アクリレート、ヒドロキシル基を含有するポリエーテルエステル（メタ）アクリレート、及び／又はヒドロキシル基を含有するポリエポキシ（メタ）アクリレートである。アクリレートが特に好ましい。アクリレートは、最も典型的には、１分子当たり平均２つのヒドロキシル基を含む直鎖状化合物である。このような化合物は、当該分野において周知である。このカテゴリーにおいて好ましいのは、２つ以上、典型的には平均で２つのヒドロキシル基を有するポリエステル（メタ）アクリレート及び／又はポリエポキシ（メタ）アクリレートである。脂肪族化合物が好ましい。例えばビスフェノールＡのジアクリレートの使用は、推奨されない。
特に好ましい化合物（ｉｉ－ａ）は、１つ以上のエチレン性不飽和官能基（例えばアクリル基及び／又はメタクリル基）、及びイソシアネートと反応することができる実質的に１つの求核官能基（典型的にはヒドロキシル基）を含有するものである。さらにより好ましくは、（メタ）アクリロイルモノヒドロキシ化合物、及びとりわけポリ（メタ）アクリロイルモノヒドロキシ化合物である。アクリレートが特に好ましい。
他の化合物を使用してもよい。有用な化合物（ｉｉ－ｂ）には、脂肪族及び／又は芳香族ポリオールと、約１の残存平均ヒドロキシル官能価を有する（メタ）アクリル酸とのエステル化生成物が含まれる。脂肪族化合物（ｉｉ－ｂ）が好ましい。（メタ）アクリル酸と、トリ－、テトラ－、ペンタ－、又はヘキサヒドリックポリオール又はそれらの混合物との部分エステル化生成物が好ましい。この文脈において、このようなポリオールとエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド又はそれらの混合物との反応生成物、又はこのようなポリオールとラクトンとの反応生成物を使用することも可能であり、これらの反応生成物は、開環反応においてこれらのポリオールに添加される。適したラクトンの例は、γ－ブチロラクトン、及び特にδ－バレロラクトン及びε－カプロラクトンである。好ましくは、ヒドロキシル官能基当たり３つ以下のアルコキシ基を有するアルコキシル化ポリオール及びε－カプロラクトン変性ポリオールである。これらの変性された又は変性されていないポリオールは、アクリル酸、メタクリル酸又はそれらの混合物で、所望の残存ヒドロキシル官能価に達するまで、部分的にエステル化される。
特に好ましくは、少なくとも２つの（メタ）アクリル官能基を含む化合物、例えばグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及びその（ポリ）エトキシル化及び／又は（ポリ）プロポキシル化された（これらの任意の）当量などである。
少なくとも１つの（メタ）アクリル官能基と共にエポキシ官能基を有する脂肪族、脂環式又は芳香族化合物と（メタ）アクリル酸との反応から得られる化合物（ｉｉ－ｂ）も同様に使用することができる。脂肪族酸、脂環式酸又は芳香族酸とエポキシ基含有（メタ）アクリレートとの反応から得られる化合物、例えばグリシジル（メタ）アクリレートも使用することができる。
他の適した化合物（ｉｉ－ｂ）は、アルキル基に１～２０個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのように、少なくとも１つのヒドロキシ官能基が遊離のままである直鎖及び分岐ポリオールを有する（メタ）アクリル酸エステルである。このカテゴリーの好ましい分子は、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートである。
親水性基を含有する化合物（ｉｉｉ－ａ）は、ポリウレタンを直接水性媒体中に分散可能にするか、又は中和剤との反応後に分散可能として、塩を提供することができる。化合物（ｉｉｉ－ａ）は、典型的には、ヒドロキシル化及び／又はアミノ化された化合物である。典型的には、化合物（ｉｉｉ－ａ）は、少なくとも１つのヒドロキシル基、又は少なくとも１つの第一級又は第二級アミノ基を含有し、好ましくは、それらは、そのような親水性基のうちの少なくとも２つを含有する。化合物（ｉｉｉ－ａ）において、ポリウレタンを水性媒体中に分散可能にすることができる親水性基は、イオン性及び／又は非イオン性のものであってよい。好ましくは、これらはイオン性のものであり、より好ましくはこれらはアニオン性であり、そして最も好ましくはこれらは酸性基又はその塩である。適した酸性基の例には、カルボン酸、スルホン酸、及び／又はホスホン酸基が含まれる。適した塩は、カルボキシレート、スルホネート及び／又はホスホネートである。適した対イオンの例は、アンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、ナトリウム、カリウム、リチウムなどである。非イオン安定化は、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はそれらから製造されたブロックコポリマーを含む親水性部分によって提供されることが多い。好ましい親水性基は、カルボン酸基及びその塩である。従って化合物（ｉｉｉ－ａ）は、典型的には親水性化合物である。
典型的には、化合物（ｉｉｉ－ａ）は、少なくとも１つのヒドロキシル基及び少なくとも１つのカルボン酸基を含有する飽和ヒドロキシカルボン酸である。一般に、前記化合物中のヒドロキシル基の数は、少なくとも２つ、及び好ましくは多くても３つである。一般に、前記化合物中のカルボン酸基の数は、多くても３つである。好ましくは、該ヒドロキシカルボン酸は、少なくとも１つのヒドロキシル基を有する飽和脂肪族ヒドロキシカルボン酸である。特に好ましくは、分子当たり少なくとも１つのヒドロキシル基を有する脂肪族飽和モノ－、ジ－及び／又はトリカルボン酸である。最も好ましくは、少なくとも１つ、しばしば少なくとも２つのヒドロキシル基を含有する脂肪族飽和モノカルボン酸である。
適した飽和脂肪族ヒドロキシカルボン酸（ｉｉｉ－ａ）は、例えば、一般式（ＨＯ）ｘＲ（ＣＯＯＨ）ｙで表され、式中、Ｒは１～１２個の炭素原子を有する直鎖又は分岐炭化水素残基を表し、式中、ｘは１～３の整数であり、そしてｙは１～３の整数である。
典型的には、ｘ＋ｙの総計は、多くても５である。これらのヒドロキシカルボン酸の例には、クエン酸、マレイン酸、乳酸及び酒石酸が含まれる。好ましくは、上記一般式中ｙ＝１であるヒドロキシカルボン酸である。最も好ましくは、上記一般式中ｘ＝２及びｙ＝１であるα，α－ジメチロールアルカン酸、例えば、２，２－ジメチロールプロピオン酸及び／又は２，２－ジメチロールブタン酸である。
化合物（ｉｉｉ）は、化合物（ｉｉｉ－ａ）部分を含有する飽和ポリエステルポリオール（ｉｉｉ－ｂ）及び／又は化合物（ｉｉｉ－ａ）部分を含有する飽和ポリカーボネートポリオール（ｉｉｉ－ｃ）であってよい。「部分」とは、特にモノマー単位を意味する。
非イオン性化合物（ｉｉｉ－ｄ）の例として、非イオン性分散基を有するヒドロキシ官能性化合物を挙げることができる。非イオン性分散基は、例えばＥＰ１３２８５６５に記載されているようなアルキレンオキシド基であってよい。エチレンオキシド基が好ましいが、代わりにプロピレンオキシド基、又はエチレンオキシド基とプロピレンオキシド基との混合物も、同様に有用である。
例には、一価アルコール（１つのヒドロキシル官能基を有する化合物）、多価アルコール（「ポリオール」及びしばしばジオール）、第一級及び／又は第二級アミンが含まれるが、これらに限定されない。イソシアネート基と反応する２つ以上、典型的には平均で２つの官能基を有する化合物（ｖ）は、鎖延長剤として作用できる。それらはポリオール、第一級アミン及び／又は第二級アミノ基を有するアミンである。
適した低分子量のポリオール（ｖ－ａ）は、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，７－ヘプタンジオール、１，８－オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジブチレングリコール、２－メチル－１，３－ペンタンジオール、２－エチル－２－ブチル－１，３－プロパンジオール、２－エチル－１，６－ヘキサンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡ若しくは水素化ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物又はプロピレンオキシド付加物、又はこれらの混合物（これらのいずれか）である。グリセロール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、及びペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールなどのポリオールも使用してよい。これらは低分子量ポリオールの例である。
ポリオールは、少なくとも４００の数平均分子量を有する高分子量ポリオール（ｖ－ｂ）、４００未満の計算数平均分子量を有する低分子量ポリオール、又はそれらの任意の混合物から選択することもできる。高分子量ポリオールは、好ましくは、ポリオールのヒドロキシル指数に基づいて計算した数平均分子量が５，０００ダルトンを超えず、好ましくは２，０００ダルトンを超えず、より好ましくは１，０００ダルトンを超えない。このような高分子量ポリオールの例は、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、脂肪二量体ジオール、ポリブタジエンポリオール、シリコーンポリオール及びポリアクリレートポリオール、及びそれらの組み合わせである。適したポリエーテルポリオールは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール、又はそれらのブロックコポリマーを含む。適したポリカーボネートポリオールには、ジオール、例えばエチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール又はテトラエチレングリコールと、ホスゲンとの反応生成物、ジメチルカーボネートなどのジアルキルカーボネートとの反応生成物、ジフェニルカーボネートなどのジアリールカーボネートとの反応生成物、又はエチレン及び／又はプロピレンカーボネートなどの環状カーボネートとの反応生成物が含まれる。
適した脂肪二量体ジオールは、二量体酸、好ましくは３６個の炭素原子を含むものの水素化から得られる。
適したポリアクリレートポリオールには、ヒドロキシル化メルカプタンの存在下で熱ラジカル開始剤により開始された（メタ）アクリル及び／又は（メタ）アクリルアミドモノマーのラジカル重合、及びそれに続く短鎖ジオール、例えば１，４－ブタンジオールを用いた末端基のエステル交換により、調製されるものが含まれる。
好ましいのは、ポリエステルポリオール及び／又はポリカーボネートポリオールである。好ましい実施形態において、本発明による組成物のポリオール成分は、ポリエーテルポリオールを含まない。ポリエステルポリオールが特に好ましく、特に多価、好ましくは二価のアルコールとポリカルボン酸、好ましくはジカルボン酸又はそれらの対応する無水物とのヒドロキシル基末端反応生成物、並びにラクトンの開環重合から得られるものが好ましい。これらのポリエステルポリオールの形成に使用され得るポリカルボン酸は、脂肪族、脂環式、芳香族及び／又は複素環式でよく、それらは置換されていても、飽和又は不飽和でもよい。ジカルボン酸の例は、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、オルト－フタル酸、テトラクロロフタル酸、１，５－ナフタレン－ジカルボン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、テトラヒドロフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸及びピロメリト酸、又はそれらの混合物である。
ポリエステルポリオールの製造に好ましく用いられる多価アルコールは、１種以上の化合物（ｖ－ａ）から選ばれることが多い。
しかしながら、（１）イソフタル酸の重縮合及び（２）アジピン酸及び／又はイソフタル酸の重縮合から主に作られるポリエステルポリオールが特に好ましい。
１種以上の化合物（ｖ－ａ）及び１種以上の化合物（ｖ－ｂ）の混合を使用してもよい。
化合物（ｖ）は、アミン又はアミノアルコール（ｖ－ｃ）から、及びとりわけ１種以上の第一級又は第二級アミンから選択することもできる。第一級又は第二級アミンは、しばしば１～６個、典型的には１～４個、好ましくは１～３個、及び最も好ましくは１～２個のアミノ官能基を有する。鎖延長ポリアミンは、典型的には、平均官能価が２～４、より好ましくは２～３である。アミン（ｖ－ｃ）は、好適には、６０個以下、好ましくは１２個以下の炭素原子を有する水溶性脂肪族、脂環式、芳香族又は複素環式の第一級及び／又は第二級ポリアミン又はヒドラジンである。使用される鎖延長化合物（ｖ－ｃ）の合計量は一般に、化合物（Ａ）プレポリマー中に存在する残留イソシアネート基の量に従って計算される。プレポリマー中のイソシアネート基の、鎖延長剤（ｖ－ｃ）中のアミン基に対する比は、鎖延長の間、一般に、など価ベースで約１：０．３～約１：０．９の範囲、好ましくは、約１：０．５～約１：０．７である。ヒドラジド（ｉｖ）と反応するのに十分な利用可能なＮＣＯ基を有するために、この比は０．７以下であることがより好ましい。
適した鎖延長アミン（ｖ－ｃ）の例には、ヒドラジン、エチレンジアミン、ピペラジン、１，４－ブタンジアミン、１，６－ヘキサンジアミン、１，８－オクタンジアミン、１，１０－デカン－ジアミン、１，１２－ドデカンジアミン、２－メチルペンタメチレンジアミン、トリエチレントリアミン、イソホロンジアミン（又は１－アミノ－３－アミノメチル－３，５，５－トリメチル－シクロヘキサン）、アミノエチルエタノールアミン、ポリエチレンアミン、ポリオキシエチレンアミン及びポリオキシプロピレンアミン（例えばＨｕｎｔｓｍａｎ社のＪｅｆｆａｍｉｎｅｓ）、並びにこれらの（うちの任意の）混合物が含まれる。
一実施形態では、化合物（ｖ）は使用されない。別の実施形態では、１種以上の化合物（ｖ）が使用される。鎖延長剤が使用される場合には、最も典型的には、化合物は上記の第一級及び／又は第二級アミンから選択される。適した水希釈可能なウレタン（メタ）アクリレートの例は、例えば、ＵＣＥＣＯＡＴ（登録商標）６５６９、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）２００２及びＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）１１である。適したエポキシ（メタ）アクリレートの例には、例えば、ＵＣＥＣＯＡＴ（登録商標）７６４０が含まれる。
市販の水溶性ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000013
ＵＣＥＣＯＡＴ（登録商標）６５６９は、粘度を低下させるため、５０質量％以下の水（水溶解度＝５００ｇ／Ｌ）で希釈することができる。合計の含水量が５０％を超えると、生成物の安定性が低下することがある。
成分（Ａ１）及び（Ａ２）の量は、成分（複数可）（Ｂ）が難水溶性である限り、２０質量％まで低減することができる。
水不溶性の又は難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１）
水不溶性の又は難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１）は、約２０℃で１０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）は、約２０℃で１．０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）は、約２０℃で１．０ｇ／Ｌ～１０ｇ／Ｌ未満の量で水に溶解可能な反応性希釈剤である。
水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）の例には、カプロラクトンアクリレート、フェノキシベンジルアクリレート、３，３，５－トリメチルシクロヘキシルアクリレート、ｏ－フェニルフェノールＥＯアクリレート、
４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシルアクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ビフェニルメチルアクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシル化ノニルフェノールアクリレート、プロポキシル化ノニルフェノールアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（ＰＯ）２ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ビスフェノールＡ（ＥＯ）４ジアクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリセリン（ＰＯ）３トリアクリレート、トリメチロールプロパン（ＰＯ）３トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、アダマンチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－エチル－２－アダマンチルアクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロオクチル（メタ）アクリレート、シクロデシル（メタ）アクリレート、ジシクロデシル（メタ）アクリレート、３，３，５－トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、４－ｔ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート（ＴＭＰＴＭＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ＴＭＰＥＯ３ＴＡ）及びトリシクロデカンジメタノールジアクリレートが含まれる。
水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000014
難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）は、式
Figure 2023500370000015
 の化合物でよく、式中、Ｒ１１は水素又はメチル基であり、そしてＸは単結合又は二価の連結基、例えば、－（ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ）ｎ－（ｎ＝１～３０）を示す。式（１）で表される化合物の具体的な好ましい例には、以下に示す化合物（Ａ－１－１）及び（Ａ－１－２）
Figure 2023500370000016
Figure 2023500370000017
 が含まれるが、これらに限定されるものではない。
トリメチロールプロパンホルマールアクリレート（Ａ－１－１）が、特に好ましい。
難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）のさらなる例は、ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２－［［（ブチルアミノ）カルボニル］オキシ］エチルアクリレート、及びトリエチレングリコールジメタクリレート（ＴＥＧＤＭＡ）である。
難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000018
水に不溶の又は難水溶性のオリゴマー（Ｂ２）
オリゴマー（Ｂ２）は、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、カーボネート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートから選択され、アミン変性オリゴマーも含まれる。オリゴマー（Ｂ２）は、単一のオリゴマーであってもよいし、２種以上のオリゴマーの混合物であってもよい。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリイソシアネートと、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと、場合により鎖延長剤、例えばジオール、ポリオール、ジアミン、ポリアミン、ジチオール又はポリチオールとを反応させることによって得られる。
この種類のウレタン（メタ）アクリレートは、合成成分として実質的に、
（１）少なくとも１種の有機脂肪族、芳香族又は脂環式のジ－又はポリイソシアネート、
（２）少なくとも１個のイソシアネート反応性基及び少なくとも１個のラジカル重合性不飽和基を有する少なくとも１種の化合物、及び
（３）任意に、少なくとも２個のイソシアネート反応性基を有する少なくとも１種の化合物
を含む。
適した成分（１）は、例えば、少なくとも２、好ましくは２～５、及びより好ましくは２～４を超えるＮＣＯ官能価を有する脂肪族、芳香族、及び脂環式ジイソシアネート及びポリイソシアネートである。
考えられるポリイソシアネートには、イソシアヌレート基を含有するポリイソシアネート、ウレジオンジイソシアネート、ビウレット基を含有するポリイソシアネート、ウレタン基又はアロファネート基を含有するポリイソシアネート、オキサジアジントリオン基を含むポリイソシアネート、直鎖状又は分岐状のＣ４～Ｃ２０アルキレンジイソシアネートのウレトンイミン変性ポリイソシアネート、合計６～２０個のＣ原子を有する脂環式ジイソシアネート、又は合計８～２０個のＣ原子を有する芳香族ジイソシアネート、又はそれらの混合物が含まれる。
慣用的なジイソシアネートの例として、脂肪族ジイソシアネート、例えばテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（１，６－ジイソシアナトヘキサン）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、テトラデカメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートの誘導体、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサンジイソシアネート又はテトラメチルヘキサンジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、例えば１，４－、１，３－又は１，２－ジイソシアナトシクロヘキサン、４，４’－又は２，４’－ジ（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１－イソシアナト－３，３，５－トリメチル－５－（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（イソホロンジイソシアネート）、１，３－又は１，４－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、又は２，４－又は２，６－ジイソシアナト－１－メチルシクロヘキサン、並びに芳香族ジイソシアネート、例えばトリレン２，４－又は２，６－ジイソシアネート及びそれらの異性体混合物、ｍ－又はｐ－キシリレンジイソシアネート、２，４’－又は４，４’－ジイソシアナト－ジフェニルメタン及びそれらの異性体混合物、フェニレン１，３－又は１，４－ジイソシアネート、１－クロロフェニレン２，４－ジイソシアネート、ナフチレン１，５－ジイソシアネート、ジフェニレン４，４’－ジイソシアネート、４，４’－ジイソシアナト－３，３’－ジメチルビフェニル、３－メチルジフェニルメタン４，４’－ジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，４－ジイソシアナトベンゼン又はジフェニルエーテル４，４’－ジイソシアネートが挙げられる。
記載したジイソシアネートの混合物が存在してもよい。
本発明による成分（２）として考えられるのは、少なくとも１個のイソシアネート反応性基及び少なくとも１個のラジカル重合性基を有する少なくとも１種の化合物（２）である。
化合物（２）は、好ましくは、正確に１個のイソシアネート反応性基、及び１～５個、より好ましくは１～４個、及び非常に好ましくは１～３個のラジカル重合性基を有する。
成分（２）は、好ましくは、１００００ｇ／ｍｏｌ未満、より好ましくは５０００ｇ／ｍｏｌ未満、非常に好ましくは４０００ｇ／ｍｏｌ未満、及びより具体的には３０００ｇ／ｍｏｌ未満のモル質量を有する。特別な成分（ｂ）は、１０００ｇ／ｍｏｌ未満、又はなお６００ｇ／ｍｏｌ未満のモル質量を有する。
イソシアネート反応性基は、例えば、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＮＨ２、及び－ＮＨＲ１００であってよく、式中、Ｒ１００は、水素又は１～４個の炭素原子を含有するアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、又はｔｅｒｔ－ブチルである。成分（２）は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、アクリルアミドグリコール酸及びメタクリルアミドグリコール酸などのα，β－不飽和カルボン酸のモノエステル、及び好ましくは２～２０個のＣ原子及び少なくとも２個のヒドロキシル基を有するポリオール、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレン１，２－グリコール、プロピレン１，３－グリコール、１，１－ジメチル－１，２－エタンジオール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２－、１，３－又は１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６－ヘキサンジオール、２－メチル－１，５－ペンタンジオール、２－エチル－１，４－ブタンジオール、１，４－ジメチロールシクロヘキサン、２，２－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、グリセロール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、エリスリトール、ソルビトール、１０６～２０００のモル質量を有するポリエチレングリコール、１３４～２０００のモル質量を有するポリプロピレングリコール、１６２～２０００のモル質量を有するポリＴＨＦ、又は１３４～４００のモル質量を有するポリ－１，３－プロパンジオールである。さらに、（メタ）アクリル酸とアミノアルコール、例えば２－アミノエタノール、２－（メチルアミノ）エタノール、３－アミノ－１－プロパノール、１－アミノ－２－プロパノール又は２－（２－アミノエトキシ）エタノールとのエステル又はアミド、または例えば、２－メルカプトエタノール又はポリアミノアルカン、例えばエチレンジアミン又はジエチレントリアミン、又はビニル酢酸を使用することも可能である。
さらに、好ましさは低くなるが、２～１０の平均ＯＨ官能価を有する不飽和ポリエーテルオール又はポリエステルオール又はポリアクリレートポリオールも適している。
エチレン性不飽和カルボン酸とアミノアルコールとのアミドの例として、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド、例えばＮ－ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチルメタクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシエチルメタクリルアミド、５－ヒドロキシ－３－オキサペンチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシアルキルクロトンアミド、例えばＮ－ヒドロキシメチルクロトンアミド、又はＮ－ヒドロキシアルキルマレイミド、例えばＮ－ヒドロキシエチルマレイミドが挙げられる。
好ましくは、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート及びジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリレート、及びトリ（メタ）アクリレート、並びに２－アミノエチル（メタ）アクリレート、２－アミノプロピル（メタ）アクリレート、３－アミノプロピル（メタ）アクリレート、４－アミノブチル（メタ）アクリレート、６－アミノヘキシル（メタ）アクリレート、２－チオエチル（メタ）アクリレート、２－アミノエチル（メタ）アクリルアミド、２－アミノプロピル（メタ）アクリルアミド、３－アミノプロピル（メタ）アクリルアミド、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、又は３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミドを使用する。特に好ましいのは、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルアクリレート、１，４－ブタンジオールモノアクリレート、３－（アクリロイルオキシ）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、並びにモル質量が１０６～２３８のポリエチレングリコールのモノアクリレートである。
成分（３）として考えられるのは、少なくとも２個のイソシアネート反応性基を有する化合物であり、例として－ＯＨ、－ＳＨ、－ＮＨ２又は－ＮＨ Ｒ１０１が挙げられ、式中、Ｒ１０１は、互いに独立して、水素、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ－プロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル又はｔｅｒｔ－ブチルであってよい。
正確に２個のイソシアネート反応性基を有する化合物（３）は、好ましくは、２～２０個の炭素原子を有するジオールであり、例として、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，１－ジメチルエタン－１，２－ジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、２－エチル－１，３－プロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバレート、１，２－、１，３－又は１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，１０－デカンジオール、ビス（４－ヒドロキシシクロヘキサン）イソプロピリデン、テトラメチルシクロブタンジオール、１，２－、１，３－又は１，４－シクロヘキサンジオール、シクロオクタンジオール、ノルボルナンジオール、ピナンジオール、デカリンジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、２，４－ジエチルオクタン－１，３－ジオール、ハイドロキノン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＳ、２，２－ビス（４－ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、１，１－、１，２－、１，３－、及び１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，２－、１，３－、又は１，４－シクロヘキサンジオール、１６２～２０００のモル質量を有するポリＴＨＦ、１３４～１１７８のモル質量を有するポリ－１，２－プロパンジオール又はポリ－１，３プロパンジオール、又は１０６～２０００のモル質量を有するポリエチレングリコール、並びに脂肪族ジアミン、例えばメチレン－及びイソプロピリデン－ビス（シクロヘキシルアミン）、ピペラジン、１，２－、１，３－、又は１，４－ジアミノシクロヘキサン、１，２－、１，３－、又は１，４－シクロヘキサンビス（メチルアミン）など、ジチオール又は多官能アルコール、第二級又は第一級アミノアルコール、例えばエタノールアミン、モノプロパノールアミンなど、又はチオアルコール、例えばチオエチレングリコールが挙げられる。
ここで特に適しているのは、脂環式ジオール、例えば、ビス（４－ヒドロキシシクロヘキサン）イソプロピリデン、テトラメチルシクロブタンジオール、１，２－，１，３－，又は１，４－シクロヘキサンジオール、１，１－、１，２－、１，３－、及び１，４－シクロヘキサンジメタノール、シクロオクタンジオール又はノルボルナンジオールである。
さらなる化合物（３）は、少なくとも３個のイソシアネート反応性基を有する化合物であってよい。
例えば、これらの成分は、３～６個、好ましくは３～５個、より好ましくは３～４個、及び非常に好ましくは３個のイソシアネート反応性基を有していてよい。
これら成分の分子量は、一般に２０００ｇ／ｍｏｌ以下、好ましくは１５００ｇ／ｍｏｌ以下、より好ましくは１０００ｇ／ｍｏｌ以下、及び非常に好ましくは５００ｇ／ｍｏｌ以下である。
ウレタン（メタ）アクリレートは、好ましくは５００～２００００、特に５００～１００００、及びより好ましくは６００～３０００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量Ｍｎを有する（標準としてテトラヒドロフラン及びポリスチレンを使用するゲル浸透クロマトグラフィーにより決定する）。
エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシドと（メタ）アクリル酸とを反応させることにより得ることができる。適したエポキシドの例には、エポキシ化オレフィン、芳香族グリシジルエーテル又は脂肪族グリシジルエーテル、好ましくは芳香族又は脂肪族グリシジルエーテルのものが含まれる。
可能なエポキシ化オレフィンの例には、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド、１－ブテンオキシド、２－ブテンオキシド、ビニルオキシラン、スチレンオキシド又はエピクロロヒドリンが含まれ、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、イソブチレンオキシド、ビニルオキシラン、スチレンオキシド又はエピクロロヒドリンが好ましく、エチレンオキシド、プロピレンオキシド又はエピクロロヒドリンが特に好ましく、及びエチレンオキシド及びエピクロロヒドリンが非常に特に好ましい。
芳香族グリシジルエーテルは、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＢジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、フェノール／ジシクロペンタジエンのアルキル化生成物、例えば、２，５－ビス［（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］オクタヒドロ－４，７－メタノ－５Ｈ－インデン（ＣＡＳ番号［１３４４６－８５－０］）、トリス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］メタン異性体（ＣＡＳ番号［６６０７２－３９－７］）、フェノールベースのエポキシノボラック（ＣＡＳ番号［９００３－３５－４］）、及びクレゾールベースのエポキシノボラック（ＣＡＳ番号［３７３８２－７９－９］）である。
脂肪族グリシジルエーテルの例には、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、１，１，２，２－テトラキス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］エタン（ＣＡＳ番号［２７０４３－３７－４］）、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル（α，ω－ビス（２，３－エポキシプロポキシ）ポリ（オキシプロピレン）、ＣＡＳ番号［１６０９６－３０－３］）、及び水添ビスフェノールＡ（２，２－ビス［４－（２，３－エポキシプロポキシ）シクロヘキシル］プロパン、ＣＡＳ番号［１３４１０－５８－７］）が含まれる。
エポキシ（メタ）アクリレートは、好ましくは、２００～２００００、より好ましくは２００～１００００ｇ／ｍｏｌ、及び非常に好ましくは２５０～３０００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量Ｍｎを有し、（メタ）アクリル基の量は、エポキシ（メタ）アクリレート１０００ｇあたり、好ましくは１～５、より好ましくは２～４である（標準としてポリスチレン、溶離液としてテトラヒドロフランを使用するゲル浸透クロマトグラフィーにより決定する）。
カーボネート（メタ）アクリレートは、平均して好ましくは１～５個、特に２～４個、より好ましくは２～３個の（メタ）アクリル基、及び非常に好ましくは２個の（メタ）アクリル基を含む。
カーボネート（メタ）アクリレートの数平均分子量Ｍｎは、好ましくは３０００ｇ／ｍｏｌ未満、より好ましくは１５００ｇ／ｍｏｌ未満、非常に好ましくは８００ｇ／ｍｏｌ未満である（標準としてポリスチレン、溶媒としてテトラヒドロフランを使用するゲル浸透クロマトグラフィーにより決定する）。
カーボネート（メタ）アクリレートは、例えばＥＰ－Ａ９２２６９に記載のように、カルボン酸エステルを多価アルコール、好ましくは二価アルコール（ジオール、例えばヘキサンジオール）でトランスエステル化し、続いて遊離ＯＨ基を（メタ）アクリル酸でエステル化するか、あるいは（メタ）アクリル酸エステルでトランスエステル化することによって、簡易に得ることができる。これらは、ホスゲン、尿素誘導体を多価アルコール、例えば二価アルコールと反応させることによっても得ることができる。
ポリカーボネートポリオールの（メタ）アクリレート、例えば、前述のジオール又はポリオールの１種とカルボン酸エステル並びにヒドロキシル含有（メタ）アクリレートとの反応生成物も考えられる。
適したカルボン酸エステルの例には、エチレンカーボネート、１，２－又は１，３－プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート又はジブチルカーボネートが含まれる。
適したヒドロキシル含有（メタ）アクリレートの例として、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセリルモノ－及びジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ－及びジ（メタ）アクリレート、及びペンタエリスリトールモノ－、ジ－、及びトリ（メタ）アクリレートが挙げられる。
特に好ましいカーボネート（メタ）アクリレートは、式
Figure 2023500370000019
 のものであり、
式中、Ｒ１０２はＨ又はＣＨ３であり、Ｘ２はＣ２～Ｃ１８アルキレン基であり、そしてｎ１は１～５、好ましくは１～３の整数である。
Ｒ１０２は好ましくはＨであり、そしてＸ２は好ましくはＣ２～Ｃ１０アルキレンであり、例として１，２－エチレン、１，２－プロピレン、１，３－プロピレン、１，４－ブチレン、及び１，６－ヘキシレン、より好ましくはＣ４～Ｃ８のアルキレンが挙げられる。とりわけ好ましくは、Ｘ２はＣ６アルキレンである。
カーボネート（メタ）アクリレートは、好ましくは脂肪族カーボネート（メタ）アクリレートである。
オリゴマー（Ｂ２）のうち、ウレタン（メタ）アクリレートが特に好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレートとは、単一のウレタン（メタ）アクリレートを指すか、又は異なるウレタン（メタ）アクリレートの混合物を指す。適したウレタン（メタ）アクリレートは単官能であってよいが、好ましくは二官能であるか、より高い官能価のものである。官能価とは、化合物が示す（メタ）アクリレート官能基の数を指す。
好ましいのは、ポリエーテルジオール、又はポリエステルジオール、脂肪族、芳香族、又は環状のジイソシアネート、及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートから作られたウレタン（メタ）アクリレートである。より好ましいのは、ポリエステルジオール、芳香族、又は環状のジイソシアネート、及びヒドロキシアルキル（メタ）クリレートから作られたウレタン（メタ）アクリレートである。
ジイソシアネートは、好ましくは、４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）及びトリレン２，４－及び／又は２，６－ジイソシアネート（ＴＤＩ）から選択される。
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートは、好ましくは、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、及び４－ヒドロキシブチルアクリレートから選択される。
また、式
Figure 2023500370000020
 のラクトン、脂肪族、芳香族、又は環状のジイソシアネート及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートから作られたウレタン（メタ）アクリレートも好ましい。より好ましいのは、カプロラクトン、脂肪族、又は環状のジイソシアネート及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートから作られたウレタン（メタ）アクリレートである。
ジイソシアネートは、好ましくは、ジ（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，２，４－及び２，４，４－トリメチルヘキサンジイソシアネート、及び特に４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）から選択される。
ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートは、好ましくは、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート、及び４－ヒドロキシブチルアクリレートから選択される。
また、（メタ）アクリレートの多官能性を有するもの又はアクリルとメタクリルの混合官能性を有するものも好ましい。
好ましい実施形態では、ポリエステルウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ２）は、
（Ｄ１）ヒドロキシアルキルアクリレート、又はヒドロキシアルキルメタクリレート、
（Ｄ２）脂肪族ジイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、脂環式ポリイソシアネート、芳香族ジイソシアネート、又は芳香族ポリイソシアネート、又はそれらの混合物、特に脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、又は芳香族ジイソシアネート又はそれらの混合物、
（Ｄ３）脂肪族ジカルボン酸及び脂肪族ジオールから誘導されるポリエステルポリオール、及び（Ｄ４）任意の第２のポリオール、特にグリセロール
を反応させることによって得られる。
ヒドロキシアルキルアクリレート、又はヒドロキシアルキルメタクリレート（Ｄ１）は、好ましくは式
Figure 2023500370000021
 の化合物であり、式中、Ｒ１０３は水素原子、又はメチル基であり、ｎは２～６、特に２～４である。（Ｄ１）の例には、２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルアクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピルメタクリレート、４－ヒドロキシブチルメタクリレート及び４－ヒドロキシブチルアクリレートが含まれる。２－ヒドロキシエチルアクリレートが最も好ましい。
より短いアルキル鎖（ｎは２～４、特に２である）を有するヒドロキシアルキルアクリレート、又はヒドロキシアルキルメタクリレート（Ｄ１）は、ＵＶ硬化させた組成物に、より高いＥ弾性率をもたらす。ヒドロキシアルキルメタクリレート（Ｄ１）は、ヒドロキシアルキルアクリレートと比較して、より高いＥ弾性率をもたらす。
ポリエステルウレタンアクリレートを作るのに用いられる有機ジイソシアネート（Ｄ２）は、脂肪族、脂環式又は芳香族ジイソシアネートのいずれかである。
慣用的な脂肪族及び脂環式ジイソシアネートの例として、トリ－、テトラ－、ペンタ－、ヘキサ－、ヘプタ－及び／又はオクタメチレンジイソシアネート、２－メチルペンタメチレン１，５－ジイソシアネート、２－エチルテトラメチレン１，４－ジイソシアネート、ヘキサメチレン１，６－ジイソシアネート（ＨＤＩ）、ペンタメチレン１，５－ジイソシアネート、ブチレン１，４－ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレン１，６－ジイソシアネート、１－イソシアナト－３，３，５－トリメチル－５－イソシアナトメチルシクロヘキサン（イソホロンジイソシアネート、ＩＰＤＩ）、１，４－及び／又は１，３－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（ＨＸＤＩ）、１，４－シクロヘキサンジイソシアネート、１－メチル－２，４－及び／又は１－メチル－２，６－シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）が挙げられる。
好ましい脂肪族及び脂環式ポリイソシアネートは、ヘキサメチレン１，６－ジイソシアネート（ＨＤＩ）、１－イソシアナト－３，３，５－トリメチル－５－イソシアナトメチルシクロヘキサン（イソホロンジイソシアネート、ＩＰＤＩ）及び４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）であり、Ｈ１２ＭＤＩ及びＩＰＤＩ又はそれらの混合物が特に好ましい。
適した芳香族ジイソシアネートには、ナフチレン１．５－ジイソシアネート（ＮＤＩ）、トリレン２，４－及び／又は２，６－ジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタン２，２’－、２，４’－及び／又は４，４’－ジイソシアネート（ＭＤＩ）、３，３‘－ジメチル－４，４‘－ジイソシアナト－ジフェニル（ＴＯＤＩ）、ｐ－フェニレンジイソシアネート（ＰＤＩ）、ジフェニルエタン－４，４‘－ジイソシアネート（ＥＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’－ジメチル－ジフェニル－ジイソシアネート、１，２－ジフェニルエタンジイソシアネート及び／又はフェニレンジイソシアネートが含まれる。
現時点で最も好ましいジイソシアネートは、４，４’－，２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、又はトリレン２，４－及び／又は２，６－ジイソシアネート（ＴＤＩ）である。
ジカルボン酸及びジオールから誘導されるポリエステルポリオール（Ｄ３）が好ましく、これは例えばＵＳ２０１６０１２２４６５に記載されている。ポリエステルポリオールを作るのに使用されるジカルボン酸には、脂肪族又は脂環式ジカルボン酸、又はそれらの組み合わせが含まれる。その中でも、脂肪族ジカルボン酸が好ましい。単独又は混合で使用することができる適した脂肪族ジカルボン酸は、典型的には４～１２個の炭素原子を含有し、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸などが含まれる。アジピン酸が好ましい。
ポリエステルポリオールを作るのに使用されるジオールには、脂肪族ジオール又は脂環式ジオール、又はそれらの組み合わせ、好ましくは２～８個の炭素原子、及びより好ましくは２～６個の炭素原子を含有する脂肪族ジオールが含まれる。使用することができる脂肪族ジオールのいくつかの代表的な例には、エチレングリコール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオールなどが含まれる。
好ましい実施形態では、ポリエステルポリオールを作るのに、１種類の脂肪族ジカルボン酸のみを使用する。別の好ましい実施形態では、ポリエステルポリオールを作るのに、１種類又は２種類の脂肪族ジオールを使用する。最も好ましくは、ポリエステルポリオールは、アジピン酸及びエチレングリコール及び１，４－ブタンジオール（ポリ（エチレン１，４－ブチレンアジペート）ジオール、ＰＥＢＡ）から誘導される。ＰＥＢＡにおいて、エチレングリコールの１，４－ブタンジオールに対するモル比は、０．０５：１～１０：１、好ましくは０．２：１～５：１、より好ましくは０．５：１～１．５：１、最も好ましくは０．７５：１～１．２５：１である。
直鎖状のポリエステルポリオールは、典型的には、４×１０２～７．０×１０３、好ましくは８×１０２～６．０×１０３、より好ましくは１×１０３～５．０×１０３の範囲内の数平均分子量を有する。好ましい実施形態では、直鎖状のポリオールは、１種類の脂肪族ジカルボン酸及び２種類の脂肪族ジオールから誘導されるポリエステルポリオールであり、２．０×１０３～４．０×１０３の数平均分子量を有する。別の好ましい実施形態では、直鎖状のポリオールは、１種類の脂肪族ジカルボン酸及び１種類の脂肪族ジオールから誘導されるポリエステルポリオールであり、１．５×１０３～４．０×１０３、及びより好ましくは１．８×１０３～３．５×１０３の数平均分子量を有する。本文中に特定するあらゆる分子量は［ｇ／ｍｏｌ］の単位を有し、特に断りのない限り数平均分子量（Ｍｎ）を指す。
ポリエステルウレタンアクリレート、又はメタクリレート（Ｂ２）は、６０℃で２０００～２００００ｍＰａｓの範囲の粘度を有する。
第２のポリオール、例えばグリセロールを使用し、直鎖状又は分岐状の構造要素を導入することによって、本発明によるウレタン（メタ）アクリレートの機械的特性を微調整する。
別の好ましい実施形態では、ポリエステルウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ２）は、式
Figure 2023500370000022
 のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを、式
Figure 2023500370000023
 のラクトン、
及び少なくとも１種の脂環式又は非対称脂肪族ジイソシアネートと反応させることによって得られ、式中、Ｒ１１１は、２～１２個の炭素原子を有し、場合によりＣ１～Ｃ４アルキル基で置換されていてよい、及び／又は１個以上の酸素原子により中断されてよい二価のアルキレンラジカルであり、Ｒ１１２は、各場合において任意の他のものとは独立してメチル又は水素であり、Ｒ１１３は、１～１２個の炭素原子を有し、場合によりＣ１～Ｃ４アルキル基で置換されていてよい、及び／又は１個以上の酸素原子により中断されてよい二価のアルキレンラジカルである。ＷＯ１４１９１２２８Ａ１を参照されたい。
Ｒ１１１は、好ましくは、１，２－エチレン、１，２－又は１，３－プロピレン、１，２－、１，３－又は１，４－ブチレン、１，１－ジメチル－１，２－エチレン、１，２－ジメチル－１，２－エチレン、１，５－ペンチレン、１，６－ヘキシレン、１，８－オクチレン、１，１０－デシレン、及び１，１２－ドデシレンからなる群から選択される。
Ｒ１１３は、好ましくは、メチレン、１，２－エチレン、１，２－プロピレン、１，３－プロピレン、１，２－ブチレン、１，３－ブチレン、１，４－ブチレン、１，５－ペンチレン、１，５－ヘキシレン、１，６－ヘキシレン、１，８－オクチレン、１，１０－デシレン、１，１２－ドデシレン、２－オキサ－１，４－ブチレン、３－オキサ－１，５－ペンチレン、及び３－オキサ－１，５－ヘキシレンからなる群から選択される。
式（Ａ）のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートは、好ましくは、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、及び１，６－ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選択される。
式
Figure 2023500370000024
 のラクトンは、好ましくは、β－プロピオラクトン、γ－ブチロラクトン、γ－エチル－ガンマ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトン、デルタ－バレロラクトン、ε－カプロラクトン、７－メチルオキセパン－２－オン、１，４－ジオキセパン－５－オン、オキサシクロトリデカン－２－オン、及び１３－ブチル－オキサシクロトリデカン－２－オンからなる群から選択される。
脂環式ジイソシアネートは、１，４－、１，３－、又は１，２－ジイソシアナトシクロヘキサン、４，４’－、２，４’－、及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン（ＮＢＤＩ）、１－イソシアナト－３，３，５－トリメチル－５－（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（イソホロンジイソシアネート）、１，３－又は１，４－ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン又は２，４－又は２，６－ジイソシアナト－１－メチルシクロヘキサン、並びに３（又は４），８（又は９）－ビス（イソシアナトメチル）トリシクロ［５．２．１．０２．６］デカン異性体混合物である。
非対称脂肪族ジイソシアネートは、リジンジイソシアネートの誘導体、又はテトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサンジイソシアネート、又はテトラメチルヘキサンジイソシアネートである。
ジ（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，２，４－及び２，４，４－トリメチルヘキサンジイソシアネート、及び特に４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）がとりわけ好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレートは、特に、ε－カプロラクトン、４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、及びヒドロキシエチルアクリレートを反応させることによって製造することができる。
別の好ましい実施形態では、ポリエステルウレタン（メタ）アクリレート（Ｂ２）は、ポリアルキレングリコールを、式
Figure 2023500370000025
 のラクトン、少なくとも１種の脂環式又は非対称脂肪族ジイソシアネート、及び式（Ａ）のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと反応させることによって得られる。
式（Ａ）のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートは、好ましくは、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－又は３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、１，５－ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、及び１，６－ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレートからなる群から選択される。
ウレタン（メタ）アクリレートは、特に、ポリアルキレングリコール、好ましくはポリエチレングリコールを、ε－カプロラクトン、４，４’－、２，４’－及び／又は２，２’－メチレンジシクロヘキシルジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、及びヒドロキシエチルアクリレートと反応させることによって製造することができる。
市販の水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）の例は、以下のとおりである。
ウレタン（メタ）アクリレート：
－Ｇｅｎｏｍｅｒ（登録商標）４２４７、４２０５、４２９７、４６９０（Ｒａｈｎ社）、ＢＲ－９５２（Ｄｙｍａｘ社）、Ｅｂｅｃｒｙｌ（登録商標）５１２９ ８７０２（Ａｌｌｎｅｘ社）、
エポキシアクリレート：
－Ｇｅｎｏｍｅｒ（登録商標）２２８１、Ｅｂｅｃｒｙｌ（登録商標）３７０８、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）８９８６（ＢＡＳＦ社）、及び
樹枝状アクリレート：
ＢＤＴ－１０１５。
難水溶性のオリゴマー（Ｂ２）の例は、Ｅｂｅｃｒｙｌ（登録商標）４５８７（Ａｌｌｎｅｘ社）、Ｍｉｒａｍｅｒ（登録商標）２６０１ＮＴ、２１００（Ｍｉｗｏｎ社）及びＳＷＡ８４０１（Ｓｏｌｔｅｃｈ社）である。
特に好ましい実施形態において、本発明は、水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてアクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）を含む光硬化性組成物に関する。
前記実施形態では、光硬化性組成物は、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＡＣＭＯ、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）９～５９質量％の量の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000026
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ１）９～５９質量％の量のアクリロイルモルホリン、及び０．９～３９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としての第２の水溶性反応希釈剤、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～３９質量％の量の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000027
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＡＣＭＯ、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～３９質量％の量の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、９～５９質量％の量の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、及び０．９～３９質量％の量の第２の水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000028
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＡＣＭＯ、及び０．９～３９質量％の量の第２の水溶性の反応性希釈剤、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～３９質量％の量の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、９～５９質量％の量の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000029
別の特に好ましい実施形態において、本発明は、水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてＮ－ビニル－５－メチルオキサゾリジノン（ＮＶＭＯ）を含む光硬化性組成物に関する。
前記実施形態では、光硬化性組成物は、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＮＶＭＯ、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～３９質量％の量の水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ２）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000030
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＮＶＭＯ、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～２９質量％の量の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、及び０．９～２９質量％の量の水不溶性反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ｂ）、（Ｂ２）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000031
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＮＶＭＯ、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～２９質量％の量の第１の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、０．９～２９質量％の量の第２の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）及び０．９～２９質量％の量の水不溶性反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ２）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000032
別の特に好ましい実施形態では、本発明は、水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてＮ－ビニル－カプロラクタム（ＮＶＣ）を含む光硬化性組成物に関する。
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ１）９～５９質量％の量の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）としてのＮＶＣ、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～５９質量％の量の第１の水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び０．９～３９質量％の量の第２の水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ２）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000033
別の特に好ましい実施形態では、本発明は、水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）を含まない光硬化性組成物に関する。
前記実施形態では、光硬化性組成物は、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～２９質量％の量の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、９～５９質量％の量の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）及び０．９～２９質量％の量の水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
このような配合物の例を、下記の表に示す。
Figure 2023500370000034
前記実施形態では、光硬化性組成物は、代替的に、
（Ａ２）１１～５９質量％の量の少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
（Ｂ）０．９～２９質量％の量の水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、９～５９質量％の量の第１の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、０．９～９質量％の量の第２の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）及び０．９～２９質量％の量の水不溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）、及び
（Ｃ）０．５～５質量％の量の光開始剤（Ｃ）を含んでよい。成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）、（Ｂ２）及び（Ｃ）の量は、合計で１００質量％に達する。
Figure 2023500370000035
いくつかの難水溶性の反応性希釈剤（例：Ｌａｒｏｍｅｒ８８８７）は、温水、すなわち約５０℃の水に可溶であることに留意されたい。これらのモノマーは、水溶性モノマーがなくても良好な洗浄性を維持するための鍵である。
光開始剤（Ｃ）
光開始剤（Ｃ）は、単一の化合物、又は化合物の混合物であってよい。光開始剤（Ｃ）の例は、当業者に既知であり、例えば、Ｋｕｒｔ Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒによる「Ａ ｃｏｍｐｉｌａｔｉｏｎ ｏｆ ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌｌｙ ａｖａｉｌａｂｌｅ ｆｏｒ ＵＶ ｔｏｄａｙ」、Ｓｉｔａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｔｅｘｔｂｏｏｋ，Ｅｄｉｎｂｕｒｇｈ，Ｌｏｎｄｏｎ、２００２年で発表されている。
適したアシルホスフィンオキシド化合物の例は、式ＸＩＩ
Figure 2023500370000036
 の化合物であり、式中、
Ｒ５０は、非置換のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオにより、又はＮＲ５３Ｒ５４により置換されているシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであり、
又はＲ５０は、非置換のＣ１～Ｃ２０アルキルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオ、ＮＲ５３Ｒ５４により、又は－（ＣＯ）－Ｏ－Ｃ１～Ｃ２４アルキルにより置換されているＣ１～Ｃ２０アルキルであり、
Ｒ５１は、非置換のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオにより、又はＮＲ５３Ｒ５４により置換されているシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであり、又はＲ５１は－（ＣＯ）Ｒ’５２であり、又はＲ５１は、非置換の、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオにより、又はＮＲ５３Ｒ５４により置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、
Ｒ５２及びＲ’５２は、互いに独立して、非置換のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ４アルキル又はＣ１～Ｃ４アルコキシにより置換されているシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又はＲ５２はＳ原子又はＮ原子を含む５員又は６員の複素環であり、
Ｒ５３及びＲ５４は、互いに独立して、水素、非置換のＣ１～Ｃ１２アルキル、又は１つ以上のＯＨ又はＳＨにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、ここでアルキル鎖には場合により１～４個の酸素原子により中断され、又はＲ５３及びＲ５４は、互いに独立して、Ｃ２～Ｃ１２－アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルである。
特に好ましい実施形態では、光開始剤（Ｃ）は、式（ＸＩＩ）の化合物、例えば、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキシド、エチル（２，４，６トリメチルベンゾイルフェニル）ホスフィン酸エステル、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－２，４－ジペントキシフェニルホスフィンオキシド、及びビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシドである。
さらに、式（ＸＩＩ）の化合物と式（ＸＩ）の化合物との混合物、及び式（ＸＩＩ）の異なる化合物の混合物も関連する。
例として、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシドと１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトンとの混合物、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシドと２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オンとの混合物、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシドとエチル（２，４，６トリメチルベンゾイルフェニル）ホスフィン酸エステルとの混合物などが挙げられる。
適したベンゾフェノン化合物の例として、式
Figure 2023500370000037
 の化合物が挙げられ、
式中、
Ｒ６５、Ｒ６６及びＲ６７は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル、Ｃ１～Ｃ４－ハロゲンアルキル、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、Ｃｌ又はＮ（Ｃ１～Ｃ４アルキル）２であり、
Ｒ６８は、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル、Ｃ１～Ｃ４ハロゲンアルキル、フェニル、Ｎ（Ｃ１～Ｃ４アルキル）２、ＣＯＯＣＨ３、
Figure 2023500370000038
 であり、
Ｑは、２～６個のヒドロキシ基を有するポリヒドロキシ化合物の残基であり、
ｘは、１より大きいが、Ｑにおける利用可能なヒドロキシル基の数より大きくない数であり、
Ａは、－［Ｏ（ＣＨ２）ｂＣＯ］ｙ－又は－［Ｏ（ＣＨ２）ｂＣＯ］（ｙ－１）－［Ｏ（ＣＨＲ６９ＣＨＲ６９’）ａ］ｙ－であり、
Ｒ６９及びＲ６９’は、互いに独立して、水素、メチル又はエチルであり、ｎ（又はａ）が１より大きい場合、ラジカルＲ６９は、互いに同じであっても異なっていてもよく、
ａは、１～２の数であり、
ｂは、４～５の数であり、
ｙは、１～１０の数であり、
ｎは、そして
ｍは、２～１０の整数である。
具体的な例として、ベンゾフェノン、ＩＧＭ社から入手可能なＥｓａｃｕｒｅ ＴＺＴ（登録商標）（２，４，６－トリメチルベンゾフェノンと４－メチルベンゾフェノンとの混合物）、４－フェニルベンゾフェノン、４－メトキシベンゾフェノン、４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、４，４’－ジメチルベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン、４－メチルベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－（４－メチルチオフェニル）ベンゾフェノン、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフェノン、メチル－２－ベンゾイルベンゾエート、４－（２－ヒドロキシエチルチオ）ベンゾフェノン、４－（４－トリルチオ）ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチルベンゼンメタナミニウムクロリド、２－ヒドロキシ－３－（４－ベンゾイルフェノキシ）－Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリメチル－１－プロパナミニウムクロリド一水和物、４－（１３－アクリロイル－１，４，７，１０，１３－ペンタオキサトリデシル）ベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－［２－（１－オキソ－２－プロペニル）オキシ］エチルベンゼンメタナミニウムクロリド、［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－（４－イソプロピルフェニル）－メタノン、ビフェニル－［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－メタノン、ビフェニル－４－イル－フェニル－メタノン、ビフェニル－４－イル－ｐ－トリル－メタノン、ビフェニル－４－イル－ｍ－トリル－メタノン、［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－ｐ－トリル－メタノン、［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－（４－イソプロピル－フェニル）－メタノン、［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－（４－メトキシ－フェニル）－メタノン、１－（４－ベンゾイル－フェノキシ）－プロパン－２－オン、［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－（４－フェノキシ－フェニル）－メタノン、３－（４－ベンゾイル－フェニル）－２－ジメチルアミノ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、（４－クロロ－フェニル）－（４－オクチルスルファニル－フェニル）－メタノン、（４－クロロ－フェニル）－（４－ドデシルスルファニル－フェニル）－メタノン、（４－ブロモ－フェニル）－（４－オクチルスルファニル－フェニル）－メタノン、（４－ドデシルスルファニル－フェニル）－（４－メトキシ－フェニル）－メタノン、（４－ベンゾイル－フェノキシ）－酢酸メチルエステル、ビフェニル－［４－（２－ヒドロキシ－エチルスルファニル）－フェニル］－メタノン、１－［４－（４－ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル］－２－メチル－２－（４－メチルフェニルスルホニル）プロパン－１－オン（ＩＧＭ社から入手可能なＥｓａｃｕｒｅ（登録商標）１００１）が挙げられる。
適したアルファ－ヒドロキシケトン、アルファ－アルコキシケトン又はアルファ－アミノケトン化合物の例として、式
Figure 2023500370000039
 のものが挙げられ、
式中、
Ｒ２９は、水素又は
Figure 2023500370000040
 であり、
Ｄ、Ｅ及びｆは、１～３であり、
Ｇ１及びＧ２は、互いに独立して、ポリマー構造の末端基、好ましくは水素又はメチルであり、
Figure 2023500370000041
 であり、
Ｒ３１は、ヒドロキシ、Ｃ１～Ｃ１６アルコキシ、モルホリノ、ジメチルアミノ、又は－Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ－Ｃ１～Ｃ１６アルキルであり、
Ｒ３２及びＲ３３は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ１６アルコキシ、又は－Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ－Ｃ１～Ｃ１６アルキルであるか、又は非置換のフェニル又はベンジル、又はＣ１～Ｃ１２－アルキルにより置換されているフェニル又はベンジルであり、又はＲ３２及びＲ３３は、それらが結合している炭素原子と共にシクロヘキシル環を形成し、
Ｒ３５は、水素、ＯＲ３６又はＮＲ３７Ｒ３８であり、
Ｒ３６は、水素、Ｃ１～Ｃ１２アルキル（ただし、そのＣ１～Ｃ１２アルキルは、１個以上の連続しないＯ－原子により中断されてもよく、そして、中断された若しくは中断されていないＣ１～Ｃ１２アルキルが、場合により、１つ以上のＯＨで置換されている）であり、
又はＲ３６は、
Figure 2023500370000042
 であり、
Ｒ３７及びＲ３８は、互いに独立して、水素又は非置換であるか又は１つ以上のＯＨにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、
Ｒ３９は、場合により１個以上の連続しないＯにより中断されたＣ１～Ｃ１２アルキレン、－（ＣＯ）－ＮＨ－Ｃ１～Ｃ１２アルキレン－ＮＨ－（ＣＯ）－又は
Figure 2023500370000043
 （ただし、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、すべてが共にＣ１～Ｃ１６アルコキシ又は－Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ－Ｃ１～Ｃ１６アルキルではないことを条件とする）である。
具体的な例として、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン又は１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトンとベンゾフェノンとの混合物、２－メチル－１［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチル－ベンジル）－１－（４－モルホリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン、（３，４－ジメトキシ－ベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－フェノキシ］－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、ＩＧＭ社から提供されるＥｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ、２－ヒドロキシ－１－｛１－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－フェニル］－１，３，３－トリメチル－インダン－５－イル｝－２－メチル－プロパン－１－オンが挙げられる。
適したフェニルグリオキシレート化合物の例として、式
Figure 2023500370000044
 のものが挙げられ、
式中、
Ｒ６０は、水素、Ｃ１～Ｃ１２アルキル又は
Figure 2023500370000045
 であり、
Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８及びＲ５９は、互いに独立して、水素、非置換のＣ１～Ｃ１２アルキル、又は１つ以上のＯＨ、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、フェニル、ナフチル、ハロゲンにより、又はＣＮにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、ここでアルキル鎖は、場合により１個以上の酸素原子により中断され、又はＲ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８及びＲ５９は、互いに独立して、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、Ｃ１～Ｃ４アルキルチオ又はＮＲ５２Ｒ５３であり、
Ｒ５２及びＲ５３は、互いに独立して、水素、非置換のＣ１～Ｃ１２アルキル、又は１つ以上のＯＨ又はＳＨにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、ここでアルキル鎖は１～４個の酸素原子により中断されてもよく、又はＲ５２及びＲ５３は、互いに独立して、Ｃ２～Ｃ１２－アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルであり、そして
Ｙ１は、場合により１個以上の酸素原子によって中断されたＣ１～Ｃ１２アルキレンである。
式ＸＩＩＩの化合物の具体的な例として、オキソ－フェニル－酢酸２－［２－（２－オキソ－２－フェニル－アセトキシ）－エトキシ］－エチルエステル（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）７５４）、メチルα－オキソベンゼンアセテートが挙げられる。
適したオキシムエステル化合物の例として、式
Figure 2023500370000046
 のものが挙げられ、式中、ｚは０又は１であり、
Ｒ７０は、水素、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、非置換の又は１種以上のハロゲン、フェニルにより、又はＣＮにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであるか、又はＲ７０は、Ｃ２～Ｃ５アルケニル、非置換の又は１種以上のＣ１～Ｃ６アルキル、ハロゲン、ＣＮ、ＯＲ７３、ＳＲ７４により、又はＮＲ７５Ｒ７６により置換されているフェニルであるか、又はＲ７０は、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ、ベンジルオキシ、又は非置換の又は１種以上のＣ１～Ｃ６アルキルにより又はハロゲンにより置換されているフェノキシであり、
Ｒ７１は、フェニル、ナフチル、ベンゾイル又はナフトイルであり、それらの各々は、１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、ベンジル、フェノキシカルボニル、Ｃ２～Ｃ１２アルコキシカルボニル、ＯＲ７３、ＳＲ７４、ＳＯＲ７４、ＳＯ２Ｒ７４により、又はＮＲ７５Ｒ７６により置換されており、ここで置換基ＯＲ７３、ＳＲ７４及びＮＲ７５Ｒ７６は、フェニル環又はナフチル環上のさらなる置換基とラジカルＲ７３、Ｒ７４、Ｒ７５及び／又はＲ７６を介して、５員環又は６員環を場合により形成するか、又はそれらの各々は、フェニルにより、又は１種以上のＯＲ７３、ＳＲ７４により又はＮＲ７５Ｒ６６により置換されているフェニルにより置換されており、
又はＲ７１は、チオキサンチル、又は
Figure 2023500370000047
 であり、
Ｒ７２は、水素、非置換のＣ１～Ｃ２０アルキル、又は１種以上のハロゲン、ＯＲ７３、ＳＲ７４、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキルにより、又はフェニルにより置換されているＣ１～Ｃ２０アルキルであるか、又はＣ３～Ｃ８シクロアルキルであるか、又は非置換の又は１種以上のＣ１～Ｃ６アルキル、フェニル、ハロゲン、ＯＲ７３、ＳＲ７４により又はＮＲ７５Ｒ７６により置換されているフェニルであるか、又はＣ２～Ｃ２０アルカノイル、又は非置換の又は１種以上のＣ１～Ｃ６アルキル、フェニル、ＯＲ７３、ＳＲ７４により又はＮＲ７５Ｒ７６により置換されているベンゾイルであるか、又はＣ２～Ｃ１２アルコキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ＣＮ、ＣＯＮＲ７５Ｒ７６、ＮＯ２、Ｃ１～Ｃ４ハロアルキル、Ｓ（Ｏ）ｙ－Ｃ１～Ｃ６アルキル又はＳ（Ｏ）ｙ－フェニルであり、
ｙは、１又は２であり、
Ｙ２は、直接結合であるか、又は結合しておらず、
Ｙ３は、ＮＯ２又は
Figure 2023500370000048
 であり、
Ｒ７３及びＲ７４は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ１２アルケニル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、１個以上の、好ましくは２個のＯにより中断されたＣ３～Ｃ８シクロアルキル、フェニル－Ｃ１～Ｃ３アルキルであるか、又は、ＯＨ、ＳＨ、ＣＮ、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ、Ｃ１～Ｃ８アルカノイル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキルにより、１個以上のＯにより中断されたＣ３～Ｃ８シクロアルキルにより、置換されているＣ１～Ｃ８アルキルであるか、又はＣ１～Ｃ８アルキルが、非置換の、又は１種以上のＣ１～Ｃ６アルキル、ハロゲン、ＯＨ、Ｃ１～Ｃ４アルコキシにより、又はＣ１～Ｃ４アルキルスルファニルにより置換されているベンゾイルにより置換されているか、又はフェニル又はナフチルであり、これらの各々は、非置換であるか、又はハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、フェニル－Ｃ１～Ｃ３アルキルオキシ、フェノキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルスルファニル、フェニルスルファニル、Ｎ（Ｃ１～Ｃ１２アルキル）２、ジフェニルアミノにより、又は
Figure 2023500370000049
 により置換されており、
Ｒ７５及びＲ７６は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ２～Ｃ４ヒドロキシアルキル、Ｃ２～Ｃ１０アルコキシアルキル、Ｃ２～Ｃ５アルケニル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、フェニル－Ｃ１～Ｃ３アルキル、Ｃ１～Ｃ８アルカノイル、Ｃ３～Ｃ１２アルケノイル、ベンゾイルであるか、又はフェニル又はナフチルであり、それらの各々が、非置換であるか、又はＣ１～Ｃ１２アルキル、ベンゾイルにより又はＣ１～Ｃ１２アルコキシにより置換されており、又はＲ７５及びＲ７６が共に、Ｏ又はＮＲ７３により場合により中断されたＣ２～Ｃ６アルキレンであり、場合によりヒドロキシル、Ｃ１～Ｃ４アルコキシ、Ｃ２～Ｃ４アルカノイルオキシにより、又はベンゾイルオキシにより置換されており、
Ｒ７７は、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、チエニル、又は非置換であるか又はＣ１～Ｃ１２アルキル、ＯＲ７３、モルホリノにより又はＮ－カルバゾルイルにより置換されているフェニルである。
具体的な例として、１，２－オクタンジオン１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）、エタノン１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、９Ｈ－チオキサンテン－２－カルボキサルデヒド９－オキソ－２－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン１－［９－エチル－６－（４モルホリノベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）、エタノン１－［９－エチル－６－（２－メチル－４－（２－（１，３－ジオキソ－２－ジメチル－シクロペント－５－イル）エトキシ）－ベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（Ａｄｅｋａ Ｎ－１９１９）、エタノン１－［９－エチル－６－ニトロ－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－１－［２－メチル－４－（１－メチル－２－メトキシ）エトキシ）フェニル］－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（Ａｄｅｋａ ＮＣＩ８３１）などが挙げられる。
カチオン性光開始剤、例えばベンゾイルペルオキシド（他の適したペルオキシドは、ＵＳ４９５０５８１、第１９欄、第１７～２５行目に記載されている）又は芳香族スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、例えば、ＵＳ４９５０５８１、第１８欄、第６０行目～第１９欄、第１０行目に記載のものを加えることも可能である。
適したスルホニウム塩化合物は、式
Figure 2023500370000050
 のものであり、
式中、
Ｒ８０、Ｒ８１及びＲ８２は、それぞれ互いに独立して、非置換のフェニル、又は－Ｓ－フェニル、
Figure 2023500370000051
 により置換されているフェニルであり、
Ｒ８３は、直接結合、Ｓ、Ｏ、ＣＨ２、（ＣＨ２）２、ＣＯ又はＮＲ８９であり、
Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６及びＲ８７は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ、Ｃ２～Ｃ２０アルケニル、ＣＮ、ＯＨ、ハロゲン、Ｃ１～Ｃ６アルキルチオ、フェニル、ナフチル、フェニル－Ｃ１～Ｃ７アルキル、ナフチル－Ｃ１～Ｃ３アルキル、フェノキシ、ナフチルオキシ、フェニル－Ｃ１～Ｃ７アルキルオキシ、ナフチル－Ｃ１～Ｃ３アルキルオキシ、フェニル－Ｃ２～Ｃ６アルケニル、ナフチル－Ｃ２～Ｃ４アルケニル、Ｓ－フェニル、（ＣＯ）Ｒ８９、Ｏ（ＣＯ）Ｒ８９、（ＣＯ）ＯＲ８９、ＳＯ２Ｒ８９又はＯＳＯ２Ｒ８９であり、
Ｒ８８は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ１～Ｃ２０ヒドロキシアルキル、
Figure 2023500370000052
 であり、
Ｒ８９は、水素、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ１～Ｃ１２ヒドロキシアルキル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであり、
Ｒ９０、Ｒ９１、Ｒ９２及びＲ９３は、互いに独立して、Ｒ８４に与えられた意味の１つを有し、又はＲ９０及びＲ９１は、それらが結合しているベンゼン環と融合した環系を形成し、
Ｒ９５は、直接結合、Ｓ、Ｏ又はＣＨ２であり、
Ｒ９６は、水素、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、１個以上のＯにより中断されたＣ２～Ｃ２０アルキルであり、又は－Ｌ－Ｍ－Ｒ９８又は－Ｌ－Ｒ９８であり、
Ｒ９７は、Ｒ９６に与えられた意味の１つを有するか、又は
Figure 2023500370000053
 であり、
Ｒ９８は、一価の増感剤又は光開始剤部分であり、
Ａｒ１及びＡｒ２は、互いに独立して、非置換の、又はＣ１～Ｃ２０アルキル、ハロゲン、又はＯＲ９９により置換されているフェニルであるか、
又は非置換のナフチル、アントリル、フェナントリル又はビフェニルイルであるか、
又は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、ＯＨ又はＯＲ９９により置換されているナフチル、アントリル、フェナントリル又はビフェニルイルであるか、
又は、－Ａｒ４－Ａ１－Ａｒ３又は
Figure 2023500370000054
 であり、
Ａｒ３は、非置換のフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、又はビフェニルイルであるか、
又はＣ１～Ｃ２０アルキル、ＯＲ９９又はベンゾイルにより置換されているフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル又はビフェニルイルであり、
Ａｒ４は、フェニレン、ナフチレン、アントリレン又はフェナントリレンであり、
Ａ１は、直接結合、Ｓ、Ｏ又はＣ１～Ｃ２０アルキレンであり、
Ｘは、ＣＯ、Ｃ（Ｏ）Ｏ、ＯＣ（Ｏ）、Ｏ、Ｓ又はＮＲ９９であり、
Ｌは、直接結合、Ｓ、Ｏ、Ｃ１～Ｃ２０アルキレン又は１個以上の連続しないＯにより中断されたＣ２～Ｃ２０アルキレンであり、
Ｒ９９は、Ｃ１～Ｃ２０アルキル又はＣ１～Ｃ２０ヒドロキシアルキルであるか、又はＯ（ＣＯ）Ｒ１０２により置換されているＣ１～Ｃ２０アルキルであり、
Ｍ１は、Ｓ、ＣＯ又はＮＲ１００であり、
Ｍ２は、直接結合、ＣＨ２、Ｏ又はＳであり、
Ｒ１００及びＲ１０１は、互いに独立して、水素、ハロゲン、Ｃ１～Ｃ８アルキル、Ｃ１～Ｃ８アルコキシ又はフェニルであり、
Ｒ１０２は、Ｃ１～Ｃ２０アルキルであり、
Ｒ１０３は、
Figure 2023500370000055
 又は
Figure 2023500370000056
 であり、そして
Ｅは、アニオン、特にＰＦ６、ＳｂＦ６、ＡｓＦ６、ＢＦ４、（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＨＳＯ４、ＣＦ３－ＳＯ３、Ｆ－ＳＯ３、
Figure 2023500370000057
 ＣＨ３－ＳＯ３、ＣｌＯ４、ＰＯ４、ＮＯ３、ＳＯ４、ＣＨ３－ＳＯ４、又は
Figure 2023500370000058
 である。
スルホニウム塩化合物の具体的な例として、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）２７０（ＢＡＳＦ ＳＥ社）、Ｃｙｒａｃｕｒｅ（登録商標）ＵＶＩ－６９９０、Ｃｙｒａｃｕｒｅ（登録商標）ＵＶＩ－６９７４（Ｕｎｉｏｎ Ｃａｒｂｉｄｅ社）、Ｄｅｇａｃｕｒｅ（登録商標）ＫＩ８５（Ｄｅｇｕｓｓａ社）、ＳＰ－５５、ＳＰ－１５０、ＳＰ－１７０（Ａｓａｈｉ Ｄｅｎｋａ社）、ＧＥ ＵＶＥ１０１４（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ社）、ＳａｒＣａｔ（登録商標）ＫＩ－８５（＝トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート；Ｓａｒｔｏｍｅｒ社）、ＳａｒＣａｔ（登録商標）ＣＤ１０１０（＝混合トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート；Ｓａｒｔｏｍｅｒ社）、ＳａｒＣａｔ（登録商標）ＣＤ１０１１（＝混合トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート；Ｓａｒｔｏｍｅｒ社）が挙げられる。
適したヨードニウム塩化合物は、式
Figure 2023500370000059
 のものであり、式中、
Ｒ１１０及びＲ１１１は、それぞれ互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ２０アルキル、Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ、ＯＨ－置換Ｃ１～Ｃ２０アルコキシ、ハロゲン、Ｃ２～Ｃ１２アルケニル、Ｃ３～Ｃ８シクロアルキル、特にメチル、イソプロピル、又はイソブチルであり、そして
Ｅは、アニオン、特にＰＦ６、ＳｂＦ６、ＡｓＦ６、ＢＦ４、（Ｃ６Ｆ５）４Ｂ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＨＳＯ４、ＣＦ３－ＳＯ３、Ｆ－ＳＯ３、
Figure 2023500370000060
 ＣＨ３－ＳＯ３、ＣｌＯ４、ＰＯ４、ＮＯ３、ＳＯ４、ＣＨ３－ＳＯ４又は
Figure 2023500370000061
 である。
ヨードニウム塩化合物の具体的な例として、例えばトリルクミルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４－［（２－ヒドロキシ－テトラデシルオキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート又はヘキサフルオロホスフェート、トリルクミルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４－イソプロピルフェニル－４’－メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４－イソブチルフェニル－４’－メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）２５０、ＢＡＳＦ ＳＥ社）、４－オクチルオキシフェニル－フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート又はヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサアフルオロアンチモネート又はヘキサフルオロホスフェート、ビス（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４－メトキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メチルフェニル－４’－エトキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メチルフェニル－４’－ドデシルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メチルフェニル－４’－フェノキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。
前述のあらゆるヨードニウム塩のうち、他のアニオンとの化合物も、無論、適している。ヨードニウム塩の調製は当業者に知られていて、例えば文献に記載されており、例えばＵＳ４１５１１７５、ＵＳ３８６２３３３、ＵＳ４６９４０２９、ＥＰ５６２８９７、ＵＳ４３９９０７１、ＵＳ６３０６５５５、ＷＯ９８／４６６４７、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ、「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｅｄ Ｃａｔｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」（ＵＶ Ｃｕｒｉｎｇ：Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ編集、第２４～７７頁、Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｍａｒｋｅｔｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｎｏｒｗａｌｋ，Ｃｏｎｎ．１９８０，ＩＳＢＮ Ｎｏ．０－６８６－２３７７３－０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ，Ｊ．Ｈ．Ｗ．Ｌａｍ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０，１３０７（１９７７年）及びＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ，Ａｎｎ．Ｒｅｖ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．１９８３，１３、第１７３～１９０頁及びＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ，Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３７巻、４２４１－４２５４（１９９９年）に記載されている。
ＵＶ－Ａ領域及び（近）ＶＩＳ領域に放射ピーク（単数又は複数）を有する光源（Ｌａｓｅｒ、ＬＥＤ、ＬＣＤ）を用いて硬化させるのに、アシルホスフィンオキシド、例えば、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキシド及びエチルフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィネートが好ましい。３５５ｎｍに放射ピークを有するＵＶレーザー（ＳＬＡ）を用いて硬化させるのに、アルファ－ヒドロキシケトン系化合物、例えば、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社から提供されるＥｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ、２－ヒドロキシ－１－｛１－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－フェニル］－１，３，３－トリメチル－インダン－５－イル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、及びこれらの混合物が好ましい。
光源が広い領域、ＵＶ及び可視領域にわたって光放射する場合（例：水銀灯）、又は異なる波長の光源が組み合わされる場合（例：ＬＥＤ、レーザー）、１種の光開始剤の吸収領域が領域全体をカバーしない可能性がある。これは、２種の異なる種類の光開始剤、例えばアルファ－ヒドロキシケトン（１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、又は２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン）と、アシルホスフィンオキシド（ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキシド及びエチルフェニル（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ホスフィネートとを組み合わせることによって達成することができる。硬化に可視放射を使用する場合は、チタノセンのような特定の光開始剤、例えばビス（シクロペンタジエニル）ビス［２，６－ジフルオロ－３－（１－ピリル）フェニル］チタン（Ｏｍｎｉｒａｄ７８４）が必要である。
光開始剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．５～１０質量％、特に０．１～５．０質量％の割合で使用される。
ハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。
Ｃ１～Ｃ２４アルキル（Ｃ１～Ｃ２０アルキル、特にＣ１～Ｃ１２アルキル）は、可能であれば、典型的には直鎖状又は分岐状である。例として、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ．－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．－ブチル、ｎ－ペンチル、２－ペンチル、３－ペンチル、２，２－ジメチルプロピル、１，１，３，３－テトラメチルペンチル、ｎ－ヘキシル、１－メチルヘキシル、１，１，３，３，５，５－ヘキサメチルヘキシル、ｎ－ヘプチル、イソヘプチル、１，１，３，３－テトラメチルブチル、１－メチルヘプチル、３－メチルヘプチル、ｎ－オクチル、１，１，３，３－テトラメチルブチル及び２－エチルヘキシル、ｎ－ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、又はオクタデシルが挙げられる。Ｃ１～Ｃ８アルキルは、典型的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ．－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．－ブチル、ｎ－ペンチル、２－ペンチル、３－ペンチル、２，２－ジメチル－プロピル、ｎ－ヘキシル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、１，１，３，３－テトラメチルブチル及び２－エチルヘキシルである。Ｃ１～Ｃ４アルキルは、典型的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ．－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ．－ブチルである。
Ｃ２～Ｃ１２アルケニル基（Ｃ２～Ｃ５アルケニル）は、直鎖の又は分岐状のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、メタリル、イソプロペニル、２－ブテニル、３－ブテニル、イソブテニル、ｎ－ペンタ－２，４－ジエニル、３－メチル－ブト－２－エニル、ｎ－オクト－２－エニル、又はｎ－ドデク－２－エニルである。
Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ基（Ｃ１～Ｃ８アルコキシ基）は、直鎖の又は分岐状のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｔｅｒｔ－ブトキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ－アミルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ及びドデシルオキシである。
Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオ基（Ｃ１～Ｃ８アルキルチオ基）は、直鎖の又は分岐状のアルキルチオ基であり、酸素が硫黄に対して交換されていることを除き、アコキシ基（akoxy groups）と同じ選好を有する。
Ｃ１～Ｃ１２アルキレンは、二価のＣ１～Ｃ１２アルキル、すなわち（１ではなく）２の自由原子価を有するアルキル、例えばトリメチレン又はテトラメチレンである。
シクロアルキル基は、典型的にはＣ３～Ｃ８シクロアルキル、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、又はシクロオクチルであり、これらは非置換であっても置換されていてもよい。
いくつかの場合において、光開始剤に加えて増感剤化合物を採用することが有利である。適した増感剤化合物の例は、ＷＯ０６／００８２５１、第３６頁第３０行目から第３８頁第８行目に開示されており、その開示内容は参照によって本明細書に組み込まれる。増感剤として、とりわけ上述のベンゾフェノン化合物を用いることができる。
いくつかの場合において、光開始剤に加えて増感剤化合物を用いることが有利である。適した増感剤化合物の例は、ＷＯ０６／００８２５１、第３６頁第３０行目から第３８頁第８行目に開示されており、その開示内容は参照によって本明細書に組み込まれる。増感剤として、とりわけ上述のベンゾフェノン化合物を用いることができる。
所望される場合、光硬化性組成物は、
－以下のもの
（Ｄ．４） 消泡剤及び脱気剤、
（Ｄ．５） 潤滑剤及びレベリング剤、
（Ｄ．６） 熱硬化助剤及び／又は放射線硬化助剤、
（Ｄ．７） 基材湿潤助剤、
（Ｄ．８） 湿潤及び分散助剤、
（Ｄ．９） 疎水化剤、
（Ｄ．１０） 容器内（in-can）安定剤、及び
（Ｄ．１１） 引掻耐性を向上させるための助剤
から選択される少なくとも１種の成分Ｄ、
－以下のもの
（Ｅ．１） 染料、及び
（Ｅ．２） 顔料、
から選択される少なくとも１種の成分Ｅ、
－ 光、熱及び酸化安定剤から選択される少なくとも１種の成分Ｆ、
から選択される、さらなる混合物構成成分を含んでもよい。
成分Ｄの下に列挙した消泡剤及び脱気剤（Ｄ．４）、潤滑剤及びレベリング剤（Ｄ．５）、熱硬化助剤又は放射線硬化助剤（Ｄ．６）、基材湿潤助剤（Ｄ．７）、湿潤及び分散助剤（Ｄ．８）、疎水化剤（Ｄ．９）、容器内安定剤（Ｄ．１０）及び引掻耐性を向上させるための助剤（Ｄ．１１）の効果は、通常、互いに厳密に区別することができない。例えば、潤滑剤及びレベリング剤は、消泡剤及び／又は脱気剤として、及び／又は引掻耐性を向上させるための助剤として、さらに作用することが多い。そして放射線硬化助剤は、潤滑剤及びレベリング剤、及び／又は脱気剤として、及び／又は基材湿潤助剤としても作用することができる。従って上記の記述により、或る特定の添加剤は、以下に記載のグループ（Ｄ．４）から（Ｄ．１１）のうちの複数に帰属してよい。
グループ（Ｄ．４）の消泡剤には、シリコンを含まないポリマー及びシリコン含有ポリマーが含まれる。シリコン含有ポリマーは、例えば、変性されていない又は変性されたポリジアルキルシロキサン、又はポリジアルキルシロキサンとポリエーテル単位とから構成される分岐コポリマー、櫛形（comb）コポリマー又はブロックコポリマーであり、後者はエチレンオキシド又はプロピレンオキシドから得ることができる。
グループ（Ｄ．４）の脱気剤には、例えば、有機ポリマー、例えばポリエーテル及びポリアクリレート、ジアルキルポリシロキサン、特にジメチルポリシロキサン、有機的変性ポリシロキサン、例えばアリールアルキル変性ポリシロキサンか、又はフルオロシリコーンが含まれる。消泡剤の作用は本質的に、泡の形成を防ぐこと、又はすでに形成された泡を破壊することに基づく。脱気剤は、本質的には、脱気される媒体、例えば本発明による混合物中で、微細に分散した気体又は空気の気泡を合体させてより大きな気泡にして、よって気体（又は空気）の放出を促進するように作用する。消泡剤はしばしば脱気剤としても使用することができ、その逆も可能であるため、これらの添加剤はグループ（Ｄ．４）の下で一緒にまとめられている。
グループ（Ｄ．４）の助剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．０５～３．０質量％、好ましくは約０．５～２．０質量％の割合で使用される。
潤滑剤及びレベリング剤のグループ（Ｄ．５）には、例えばシリコンを含まないポリマーだけでなく、シリコン含有ポリマー、例えばポリアクリレート又は変性された低分子量ポリジアルキルシロキサンも含まれる。変性とは、アルキル基の一部を多種多様な有機ラジカルで置き換えることである。これらの有機ラジカルは、例えば、ポリエーテル、ポリエステルか、又は長鎖アルキルラジカルであり、前者が最も頻繁に使用されている。
対応する変性ポリシロキサンのポリエーテルラジカルは、典型的には、エチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシド単位によって形成される。変性ポリシロキサン中のこれらのアルキレンオキシド単位の割合が高いほど、得られる生成物は一般的に親水性が高くなる。
グループ（Ｄ．５）の助剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．００５～１．０質量％、好ましくは約０．０１～０．２質量％の割合で使用される。
グループ（Ｄ．６）には、放射線硬化助剤として、特に、例えばアクリレート基の一部である末端二重結合を有するポリシロキサンが含まれる。このような助剤は、化学線又は、例えば電子ビーム放射によって架橋させることができる。これらの助剤は一般に、複数の特性を１つに組み合わせる。これらは架橋されていない状態では、消泡剤、脱気剤、潤滑剤及びレベリング剤、及び／又は基材湿潤助剤として作用することができ、架橋した状態では、例えば本発明による組成物を用いて製造することができる物品のコーティング又はフィルムの、特に引掻耐性を向上させる。（例えばコーティング又はフィルムの）光沢性能の向上は、本質的に、消泡剤、脱揮発剤（devolatilizers）及び／又は潤滑剤及びレベリング剤（未架橋状態で）としてのこれらの助剤の作用の効果とみなすことができる。グループ（Ｄ．６）の熱硬化助剤は、例えば、イソシアネート基と反応することができる第一級ＯＨ基を含む。
使用される熱硬化助剤は、例えば、ＢＹＫ社から入手可能な製品ＢＹＫ（登録商標）－３７０、ＢＹＫ（登録商標）－３７３及びＢＹＫ（登録商標）－３７５である。グループ（Ｄ．６）の助剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．１～５．０質量％、好ましくは約０．１～３．０質量％の割合で使用される。
基材湿潤助剤のグループ（Ｄ．７）の助剤は、特に基材の湿潤性を高める役割を果たす。
グループ（Ｄ．７）の助剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．０１～３．０質量％、好ましくは約０．０１～１．５質量％、及び特に０．０３～１．５質量％の割合で使用される。
グループ（Ｄ．８）の湿潤及び分散助剤は、特に顔料の溶出、浮遊及び沈降を防ぐ役割を果たし、従って必要に応じて、特に顔料組成物において有用である。
これらの助剤は、本質的には添加された（additized）顔料粒子の静電的反発及び／又は立体障害によって顔料分散体を安定化させ、後者の場合には助剤と周囲の媒体（例えばバインダー）との相互作用が主要な役割を果たす。このような湿潤及び分散助剤の使用は、例えば印刷インキ及び塗料の技術分野で一般的に行われているので、所定の場合におけるこのような適した助剤の選択は、一般的に当業者にとって困難ではない。
グループ（Ｄ．８）の助剤の用量は、覆われる顔料の表面積及び助剤の平均モル質量に主に依存する。
無機顔料及び低分子量の助剤について、顔料及び助剤の総質量に基づいて、約０．５～２．０質量％の後者の含有量が典型的に想定される。高分子量の助剤の場合、含有量は約１．０～３０質量％に増加する。
有機顔料及び低分子量の助剤の場合、後者の含有量は、顔料及び助剤の総質量に基づいて、約１．０～５．０質量％である。高分子量の助剤の場合、この含有量は約１０．０～９０質量％の範囲でよい。従ってすべての場合において予備的な実験が推奨されるが、当業者はこれを簡易な方法で達成することができる。
グループ（Ｄ．９）の疎水化剤は、例えば、本発明による組成物を用いて得られる印刷又はコーティングに撥水特性を提供することを目的として使用することができる。
グループ（Ｄ．９）の助剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．０５～５．０質量％、好ましくは約０．１～３．０質量％の割合で使用される。
グループ（Ｄ．１０）の容器内安定剤は、製造から硬化まで向上した貯蔵安定性をもたらす。グループ（Ｄ．１０）の容器内安定剤の例として挙げられるのは：
ホスファイト及びホスホナイト（処理安定剤）、式
Figure 2023500370000062
 のキノンメチド（長期間の貯蔵安定性を提供する）であり、式中、
Ｒ２１及びＲ２２は、互いに独立して、Ｃ１～Ｃ１８アルキル、Ｃ５～Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ７～Ｃ１５－フェニルアルキル、場合により置換されているＣ６～Ｃ１０アリールであり、
Ｒ２３及びＲ２４は、互いに独立して、Ｈ、場合により置換されているＣ６～Ｃ１０－アリール、２－，３－，４－ピリジル、２－，３－フリル又はチエニル、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ２５、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＲ２５、ＣＯＮＲ２５Ｒ２６、－ＣＮ、－ＣＯＲ２５、－ＯＣＯＲ２５、－ＯＰＯ（ＯＲ２５）２であり、式中、Ｒ２５及びＲ２６は、互いに独立してＣ１～Ｃ８アルキル、又はフェニルである。キノンメチドが好ましく、式中、Ｒ２１及びＲ２２はｔｅｒｔ－ブチルであり、
Ｒ２３はＨであり、そしてＲ２４は場合により置換されているフェニル、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ２５、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＲ２５、ＣＯＮＲ２５Ｒ２６、－ＣＮ、－ＣＯＲ２５、－ＯＣＯＲ２５、－ＯＰＯ（ＯＲ２５）２であり、式中、Ｒ２５及びＲ２６はＣ１～Ｃ８アルキル、又はフェニルである。キノンメチドは、例えばＵＳ２０１１０３１９５３５に記載されているように、高度な立体障害ニトロキシルラジカルと組み合わせて使用してよい。
グループ（Ｄ．１０）の容器内安定剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．０１～０．３質量％、好ましくは約０．０４～０．１５質量％の割合で使用される。
引掻耐性を向上させるための助剤のグループ（Ｄ．１１）には、例えば、Ｔｅｇｏ社から入手可能な製品、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２１００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２２００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２５００、ＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２６００及びＴＥＧＯ（登録商標）Ｒａｄ２７００が含まれる。
これら助剤について、有用な量は、グループ（Ｄ．６）で述べたものと同様であり、すなわちこれら添加剤は、典型的には、組成物の総質量に基づいて、約０．１～５．０質量％、好ましくは約０．１～３．０質量％の割合で使用される。
染料のグループ（Ｅ．１）には、例えば、アゾ染料、金属錯体染料、塩基性染料、例えばジ－及びトリアリールメタン染料及びその塩、アゾメチン誘導体、ポリメチン、アントラキノン染料などのクラスの染料が含まれる。本発明による混合物に使用することができる適した染料の概要は、Ｈ．Ｚｏｌｌｉｎｇｅｒによる著書、「Ｃｏｌｏｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｗｉｌｅｙ－ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、第３版（２００３年）に記載されている。
特に、光発色性染料、熱変色性染料又は発光性染料、及びこれら特性の組み合わせを有する染料を本発明による混合物に加えることも可能である。典型的な蛍光染料に加えて、蛍光染料も光学的光沢剤を意味すると理解すべきである。光硬化性組成物の吸収特性（臨界エネルギー及び浸透の深さ）を最適化するために、蛍光増白剤を使用してよい。
後者の例には、ビススチリルベンゼン、特にシアノスチリル化合物のクラスが含まれ、式
Figure 2023500370000063
 に対応する。
スチルベンのクラスからのさらなる適した光学的光沢剤は、例えば、式
Figure 2023500370000064
 のものであり、
式中、Ｑ１は、各場合においてＣ１～Ｃ４－アルコキシカルボニル又はシアノであり、Ｑ２は、Ｃ１～Ｃ４－アルキル、特にメチルによって単置換又は二置換されていてよいベンゾオキサゾール－２－イルであり、Ｑ３はＣ１～Ｃ４－アルコキシカルボニル又は３－（Ｃ１～Ｃ４－アルキル）－１，２，４－オキサジアゾール－３－イルである。
ベンゾオキサゾールのクラスからのさらなる適した光学的光沢剤は、例えば、式
Figure 2023500370000065
 に従い、
式中、
Ｑ４は、各場合においてＣ１～Ｃ４－アルキル、特にメチルであり、Ｌは式
Figure 2023500370000066
 のラジカルであり、
そして、ｎは０～２の整数である。
クマリンのクラスからの適した光学的光沢剤は、例えば、式
Figure 2023500370000067
 を有し、式中、
Ｑ５は、Ｃ１～Ｃ４－アルキルであり、そして
Ｑ６は、フェニル又は３－ハロピラゾール－１－イル、特に３－クロロピラゾール－１－イルである。
ピレンのクラスからのさらなる適した光学的光沢剤は、例えば、式
Figure 2023500370000068
 に対応し、式中、
Ｑ７は、各場合においてＣ１～Ｃ４－アルコキシ、特にメトキシである。
上述の光沢剤は単独でも互いとの混合物としても使用することができる。
上述の光学的光沢剤は一般に、それ自体知られている市販の製品である。それらは、例えばＵｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５版、第Ａ１８巻、第１５６～１６１頁に記載されており、又はここに記載の方法によって得ることができる。
特に、所望の場合、ビススチリルベンゼンのクラス、特にシアノスチリルベンゼンのクラスからの１種以上の光学的光沢剤を使用する。後者は個々の化合物としても、また異性化合物の混合物としても使用することができる。
この場合、異性体は、式
Figure 2023500370000069
 に対応する。
光学的光沢剤は、例えば、ＢＡＳＦ ＳＥ社から、Ｕｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ００４、Ｕｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ＭＯ、Ｕｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ＭＰ及びＵｌｔｒａｐｈｏｒ（登録商標）ＳＦ ＰＯとして市販されている。
顔料のグループ（Ｅ．２）には、無機顔料及び有機顔料の両方が含まれる。本発明による混合物中に使用することができる無機着色顔料の概要は、Ｈ．Ｅｎｄｒｉｓｓによる著書、「Ａｋｔｕｅｌｌｅ ａｎｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｂｕｎｔ－Ｐｉｇｍｅｎｔｅ」［「Ｃｕｒｒｅｎｔ ｉｎｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｌｏｒｅｄ ｐｉｇｍｅｎｔｓ」］（発行人Ｕ．Ｚｏｒｉｌ，Ｃｕｒｔ－Ｒ．－Ｖｉｎｃｅｎｔｚ－Ｖｅｒｌａｇ，Ｈａｎｏｖｅｒ、１９９７年）及びＧ．Ｂｕｘｂａｕｍによる著書、「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」、Ｗｉｌｅｙ－ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、第３版、２００５年に挙げられている。さらに、前記の著書に挙げられていない有用なさらなる顔料として、ピグメントブラック６及びピグメントブラック７（カーボンブラック）、ピグメントブラック１１（酸化鉄ブラック、Ｆｅ３Ｏ４）、ピグメントホワイト４（酸化亜鉛、ＺｎＯ）、ピグメントホワイト５（リトポン、ＺｎＳ／ＢａＳＯ４）、ピグメントホワイト６（酸化チタン、ＴｉＯ２）及びピグメントホワイト７（硫化亜鉛、ＺｎＳ）が挙げられる。
本発明による混合物に添加することができる有機顔料の概要は、Ｗ．Ｈｅｒｂｓｔ及びＫ．Ｈｕｎｇｅｒによる著書、「Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｌｌｅ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ Ｐｉｇｍｅｎｔｅ」［「Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」]，Ｗｉｌｅｙ－ＶＣＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、第３版、２００４年に挙げられている。本発明による混合物には、磁性、導電性、光発色性、熱変色性又は発光性顔料、及びこれら特性の組み合わせを有する顔料を加えることも可能である。
成分Ｆとしての光、熱及び／又は酸化安定剤の例として、以下のものが含まれる：
アルキル化モノフェノール、例えば２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２－ｔｅｒｔ－ブチル－４，６－ジメチルフェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－エチルフェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ｎ－ブチルフェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－イソブチルフェノール、２，６－ジシクロペンチル－４－メチルフェノール、２－（α－メチルシクロヘキシル）－４，６－ジメチルフェノール、２，６－ジオクタデシル－４－メチルフェノール、２，４，６－トリシクロヘキシルフェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メトキシメチルフェノール、直鎖状の又は分岐状の側鎖を有するノニルフェノール、例えば２，６－ジノニル－４－メチルフェノール、２，４－ジメチル－６－（１’－メチルウンデシ－１’－イル）－フェノール、２，４－ジメチル－６－（１’－メチルヘプタデシ－１’－イル）－フェノール、２，４－ジメチル－６－（１’－メチルトリデシ－１’－イル）フェノール及びこれら化合物の混合物、
アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４－ジオクチルチオメチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、２，４－ジオクチルチオメチル－６－メチルフェノール、２，４－ジオクチルチオメチル－６－エチルフェノール及び２，６－ジドデシルチオメチル－４－ノニルフェノール、
ハイドロキノン及びアルキル化ハイドロキノン、例えば２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メトキシフェノール、２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ジ－ｔｅｒｔ－アミルハイドロキノン、２，６－ジフェニル－４－オクタデシルオキシフェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルハイドロキノン、２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシアニソール、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシアニソール、３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルステアレート及びビス－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）アジペート、
トコフェロール、例えばα－トコフェロール、β－トコフェロール、γ－トコフェロール、δ－トコフェロール及びこれら化合物の混合物、及びトコフェロール誘導体、例えばトコフェリルアセテート、トコフェリルスクシネート、トコフェリルニコチネート及びトコフェリルポリオキシエチレンスクシネート（「トコフェルソレート」）、
ヒドロキシル化ジフェニルチオエーテル、例えば２，２’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール）、２，２’－チオビス（４－オクチルフェノール）、４，４’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－３－メチルフェノール）、４，４’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－２－メチルフェノール）、４，４’－チオビス－（３，６－ジ－ｓｅｃ－アミルフェノール）及び４，４’－ビス（２，６－ジメチル－４－ヒドロキシフェニル）ジスルフィド、
アルキリデンビスフェノール、例えば２，２’－メチレンビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－エチルフェノール）、２，２’－メチレンビス［４－メチル－６－（α－メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－シクロヘキシルフェノール）、２，２’－メチレンビス（６－ノニル－４－メチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２－エチリデンビス（４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－エチリデンビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－イソブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス［６－（α－メチルベンジル）－４－ノニルフェノール］、２，２’－メチレンビス［６－（α，α－ジメチルベンジル）－４－ノニルフェノール］、４，４’－メチレンビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－メチレンビス－（６－ｔｅｒｔ－ブチル－２－メチルフェノール）、１，１－ビス（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－２－メチルフェニル）ブタン、２，６－ビス（３－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチル－２－ヒドロキシベンジル）－４－メチルフェノール、１，１，３－トリス（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－２－メチルフェニル）ブタン、１，１－ビス（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－２－メチルフェニル）－３－ｎ－ドデシルメルカブトブタン、エチレングリコールビス［３，３－ビス（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）ブチラート］、ビス（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－メチルベンジル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェニル］テレフタレート、１，１－ビス（３，５－ジメチル－２－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２－ビス（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－２－メチルフェニル）－４－ｎ－ドデシル－メルカプトブタン及び１，１，５，５－テトラキス（５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－２－メチルフェニル）ペンタン、
Ｏ－、Ｎ－及びＳ－ベンジル化合物、例えば３，５，３’，５’－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチル－４，４’－ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル４－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）スルフィド及びイソオクチル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、
芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２，４，６－トリメチルベンゼン、１，４－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２，３，５，６－テトラメチルベンゼン及び２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）フェノール、
トリアジン化合物、例えば２，４－ビス（オクチルメルカプト）－６－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシアニリノ）－１，３，５－トリアジン、２－オクチルメルカプト－４，６－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシアニリノ）－１，３，５－トリアジン、２－オクチルメルカプト－４，６－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェノキシ）－１，３，５－トリアジン、２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェノキシ）－１，２，３－トリアジン、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５－トリス（４－ｔｅｒｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルエチル）－１，３，５－トリアジン、１，３，５－トリス－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ－１，３，５－トリアジン、１，３，５－トリス（３，５－ジシクロヘキシル－４－ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート及び１，３，５－トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
ベンジルホスホネート、例えばジメチル２，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルホスホネート及びジオクタデシル５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－３－メチルベンジルホスホネート、
アシルアミノフェノール、例えば４－ヒドロキシラウロイルアニリド、４－ヒドロキシステアロイルアニリド及びオクチル－Ｎ－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）カルバメート、
例えば一価又は多価アルコールのプロピオン酸エステル及び酢酸エステル、例えばメタノール、エタノール、ｎ－オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６－ヘキサンジオール、１，９－ノナンジオール、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’－ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３－チアウンデカノール、３－チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン及び４－ヒドロキシメチル－１－ホスファ－２，６，７－トリオキサビシクロ［２．２．２］－オクタン、
アミン誘導体をベースとしたプロピオン酸アミド、例えばＮ，Ｎ’－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン及びＮ，Ｎ’－ビス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
アスコルビン酸（ビタミンＣ）及びアスコルビン酸誘導体、例えばアスコルビルパルミテート、アスコルビルラウレート及びアスコルビルステアレート、アスコルビルスルフェート及びアスコルビルホスフェート、
アミン化合物ベースの抗酸化剤、例えばＮ，Ｎ’－ジイソプロピル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジ－ｓｅｃ－ブチル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（１，４－ジメチルペンチル）－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（１－エチル－３－メチルペンチル）－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（１－メチルヘプチル）－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２－ナフチル）－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－イソプロピル－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－（１，３－ジメチルブチル）－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－（１－メチルヘプチル）－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ’－フェニル－ｐ－フェニレンジアミン、４－（ｐ－トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジメチル－Ｎ，Ｎ’－ジ－ｓｅｃ－ブチル－ｐ－フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ－アリルジフェニルアミン、４－イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ－フェニル－１－ナフチルアミン、Ｎ－（４－ｔｅｒｔ－オクチルフェニル）－１－ナフチルアミン、Ｎ－フェニル－２－ナフチルアミン、オクチル置換されているジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’－ジ－ｔｅｒｔ－オクチルジフェニルアミン、４－ｎ－ブチルアミノフェノール、４－ブチリルアミノフェノール、４－ノナノイルアミノフェノール、４－ドデカノイルアミノフェノール、４－オクタデカノイルアミノフェノール、ビス［４－メトキシフェニル］アミン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ジメチルアミノメチルフェノール、２，４－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－４，４’－ジアミノジフェニルメタン、１，２－ビス［（２－メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２－ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ－トリル）ビグアニド、ビス［４－（１’，３’－ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ－オクチル置換されているＮ－フェニル－１－ナフチルアミン、モノアルキル化及びジアルキル化されたｔｅｒｔ－ブチル／ｔｅｒｔ－オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化されたノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化されたドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化されたイソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化されたｔｅｒｔ－ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３－ジヒドロ－３，３－ジメチル－４Ｈ－１，４－ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化及びジアルキル化されたｔｅｒｔ－ブチル／ｔｅｒｔ－オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化されたｔｅｒｔ－オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ－アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラフェニル－１，４－ジアミノブト－２－エン、Ｎ，Ｎ－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オン及び２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－オール、
ホスファイト及びホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェニル）－ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６－トリス（ｔｅｒｔ－ブチルフェニル））ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）４，４’－ビフェニレンジホスホナイト、６－イソオクチルオキシ－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチル－１２Ｈ－ジベンゾ［ｄ，ｇ］－１，３，２－ジオキサホスホシン、６－フルオロ－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチル－１２－メチル－ジベンゾ［ｄ，ｇ］－１，３，２－ジオキサホスホシン、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）メチルホスファイト及びビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）エチルホスファイト、
２－（２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば２－（２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（５’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－５’－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（３’－ｓｅｃ－ブチル－５’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２’－ヒドロキシ－４’－オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ジ－ｔｅｒｔ－アミル－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’，５’－ビス－（α，α－ジメチルベンジル）－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、以下の、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－［２－（２－エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］－２’－ヒドロキシフェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）フェニル）－５－クロロベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－［２－（２－エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］－２’－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（３’－ドデシル－２’－ヒドロキシ－５’－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び２－（３’－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－ヒドロキシ－５’－（２－イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’－メチレンビス［４－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）－６－ベンゾトリアゾール－２－イルフェノール］の混合物、２－［３’－ｔｅｒｔ－ブチル－５’－（２－メトキシカルボニルエチル）－２’－ヒドロキシフェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコール３００との完全なエステル化の生成物、［Ｒ－ＣＨ２ＣＨ２－ＣＯＯ（ＣＨ２）３］２（式中、Ｒ＝３’－ｔｅｒｔ－ブチル－４’－ヒドロキシ－５’－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イルフェニル）］、
硫黄含有ペルオキシド捕捉剤及び硫黄含有抗酸化剤、例えば３，３’－チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエステル及びトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール及び２－メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチル亜鉛ジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド及びペンタエリスリトールテトラキス（β－ドデシルメルカプト）プロピオネート、
２－ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４－ヒドロキシ、４－メトキシ、４－オクチルオキシ、４－デシクロオキシ、４－ドデシルオキシ、４－ベンジルオキシ、４，２’，４’－トリヒドロキシ及び２’－ヒドロキシ－４，４’－ジメトキシ誘導体、
非置換及び置換安息香酸のエステル、例えば４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート及び２－メチル－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート、
アクリレート、例えばエチルα－シアノ－β，β－ジフェニルアクリレート、イソオクチルα－シアノ－β，β－ジフェニルアクリレート、メチルα－メトキシカルボニルシンナメート、メチルα－シアノ－β－メチル－ｐ－メトキシシンナメート、ブチル－α－シアノ－β－メチル－ｐ－メトキシ－シンナメート及びメチル－α－メトキシカルボニル－ｐ－メトキシシンナメート、
立体障害アミン、例えばビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート、ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）セバケート、ビス（１－オクチルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）－ｎ－ブチル－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジルマロネート、１－（２－ヒドロキシエチル）－２，２，６，６－テトラメチル－４－ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，５－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサメチレンジアミンと４－ｔｅｒｔ－オクチルアミノ－２，６－ジクロロ－１，３，５－トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）１，２，３，４－ブタンテトラカルボキシレート、１，１’－（１，２－エチレン）ビス（３，３，５，５－テトラメチルピペラジノン）、４－ベンゾイル－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ステアリルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）２－ｎ－ブチル－２－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルベンジル）マロネート、３－ｎ－オクチル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４．５］デカン－２，４－ジオン、ビス（１－オクチルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート、ビス（１－オクチルオキシ－２，２，６，５－テトラメチルピペリジン－４－イル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’－ビス－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサメチレンジアミンと４－モルホリノ－２，６－ジクロロ－１，３，５－トリアジンとの縮合生成物、２－クロロ－４，６－ビス（４－ｎ－ブチルアミノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－１，３，５－トリアジンと１，２－ビス（３－アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２－クロロ－４，６－ジ－（４－ｎ－ブチルアミノ－１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）－１，３，５－トリアジンと１，２－ビス（３－アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４．５］デカン－２，４－ジオン、３－ドデシル－１－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ピロリジン－２，５－ジオン、３－ドデシル－１－（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）ピロリジン－２，５－ジオン、４－ヘキサデシルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジンと４－ステアリルオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジンとの混合物、Ｎ，Ｎ’－ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）ヘキサメチレンジアミンと４－シクロヘキシルアミノ－２，６－ジクロロ－１，３，５－トリアジンとの縮合生成物、１，２－ビス（３－アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジンとの縮合生成物、４－ブチルアミノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、Ｎ－（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）－ｎ－ドデシルスクシンイミド、Ｎ－（１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジン－４－イル）－ｎ－ドデシルスクシンイミド、２－ウンデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１－オキサ－３，８－ジアザ－４－オキソ－スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９－テトラメチル－２－シクロウンデシル－１－オキサ－３，８－ジアザ－４－オキソスピロ－［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとの縮合生成物、テトラメチロールアセチレンジ尿素を有する４－アミノ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジンとポリ（メトキシプロピル－３－オキシ）－［４（２，２，６，６－テトラメチル）ピペリジニル］シロキサンとの縮合生成物、
オキサミド、例えば４，４’－ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’－ジエトキシオキサニリド、２，２’－ジオクチルオキシ－５，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブトキサニリド、２，２’－ジドデシルオキシ－５，５’－ジ－ｔｅｒｔ－ブトキサニリド、２－エトキシ－２’－エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’－ビス（３－ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２－エトキシ－５－ｔｅｒｔ－ブチル－２’－エトキサニリド及びそれと２－エトキシ－２’－エチル－５，４’－ジ－ｔｅｒｔ－ブトキサニリドとの混合物、オルト－、パラ－メトキシ－二置換オキサニリドの混合物、及びオルト－、パラ－エトキシ二置換オキサニリドの混合物、及び
２－（２－ヒドロキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、例えば２，４，６－トリス－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２，４－ジヒドロキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（２－ヒドロキシ－４－プロピルオキシフェニル）－６－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－４，６－ビス（４－メチル－５フェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－トリデシルオキシフェニル）－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－ブチルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－オクチルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［２－ヒドロキシ－４－（２－ヒドロキシ－３－ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］－４，６－ビス－（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシフェニル）－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン、２，４，６－トリス［２－ヒドロキシ－４－（３－ブトキシ－２－ヒドロキシプロポキシ）フェニル］－１，３，５－トリアジン及び２－（２－ヒドロキシフェニル）－４－（４－メトキシフェニル）－６－フェニル－１，３，５－トリアジン。
本開示（複数可）はまた、複数のポリマー層及び三次元パターンを含む三次元構造体を作るのに適した方法を提供する。
いくつかの実施形態は、基材上にポリマー画像をパターニングする方法を提供し、各方法は、
（ａ）基材上に、本明細書に記載の組成物のいずれか１つの光硬化性組成物の層を堆積させる工程、
（ｂ）光硬化性組成物の層の一部に、適切な波長（複数可）を有する光を照射し、それによって重合域及び非重合域のパターン化された層を提供する工程
を含む。或る特定の他の実施形態は、パターンの非重合域の除去をさらに含む。
本方法は、照射前に基材上に光硬化性組成物の複数の層を堆積させることを含んでよく、そのうちの少なくとも１つは本発明による光硬化性組成物である。
照射された部分は、フォトマスクの使用を介し、光の直接書き込み適用により、干渉、ナノインプリント、又は回折勾配リソグラフィーにより、インクジェット３Ｄ印刷、ステレオリソグラフィー、ホログラフィー、ＬＣＤ又はデジタルライトプロジェクション（ＤＬＰ）により、パターン化される。
光硬化性組成物は、当技術分野で知られている任意の多種多様な方法で照射してよい。パターニングは、ポジティブ又はネガティブ画像のフォトマスクを使用するフォトリソグラフィー、干渉リソグラフィー（すなわち、回折格子を使用する）、回折勾配リソグラフィーによる近接場ナノパターニング、又は光の直接のレーザー書き込み適用、例えばマルチフォトンリソグラフィー、ナノインプリントリソグラフィー、インクジェット３Ｄ印刷、ステレオリソグラフィー及びステレオリソグラフィーのデジタルマイクロミラーアレイバリエーション（一般に、デジタルライトプロジェクション（ＤＬＰ）と呼ばれる）により達成されてもよい。光硬化性組成物は、例えば、デジタルライトプロジェクション（ＤＬＰ）を含む、ステレオリソグラフィ法を使用して構造体を調製するのに特に適している。光硬化性組成物は、例えばバット重合を使用してバルク構造体として処理されてもよく、この場合フォトポリマーは、並進又は回転させた基材上に直接硬化され、照射は、ステレオリソグラフィー、ホログラフィー、又はデジタルライトプロジェクション（ＤＬＰ）を介してパターン化される。
ステレオリソグラフィー（ＳＬＡ）とは、三次元（３Ｄ）印刷技術の一形態であり、光重合（光によって分子の鎖が結合し、ポリマーが形成されるプロセス）を利用して、モデル、プロトタイプ、パターン、生産部品などを一層ずつ作成する（いわゆる「付加製造」）のに使用される。そしてこれらポリマーが、三次元の固体の本体を構成する。典型的に、ＳＬＡ付加製造プロセスでは、液体の感光性材料に浸されたビルドトレイを持つビルドプラットフォームを使用する。製造するアイテムの３Ｄモデルは、関連する３Ｄプリンタソフトウェアにインポートされる。このソフトウェアは、３Ｄモデルを２Ｄ画像にスライスし、ビルドプラットフォームに投影してフォトポリマーを感光させる。
ＵＳ４５７５３３０の図３は、印刷に対する既知の先行技術の「トップダウン」アプローチを描いている。容器２１には、ＵＶ硬化性液体２２などが充填され、指定された作業面２３が提供される。プログラム可能な紫外線（ＵＶ）光源２６は、表面２３の平面内に紫外線光のスポット２７を生成する。スポット２７は、光源２６の一部であるミラー又はその他の光学的又は機械的な要素の動きによって、表面２３を横切って移動できる。表面２３上のスポット２７の位置は、コンピュータ２８によって制御される。容器２１内の移動可能なエレベータプラットフォーム２９は、選択的に上下に移動し、プラットフォームの位置はコンピュータ２８によって制御される。エレベータプラットフォームは、機械的、空気的、油圧的又は電気的に駆動でき、通常、光学的又は電子的なフィードバックを使用して、その位置を正確に制御する。装置が動作すると、３０ａ、３０ｂ、３０ｃのような統合された積層体を段階的に構築することにより、三次元物体３０を生成する。この動作の間、ＵＶ硬化性液体２２の表面は容器２１内で一定のレベルに維持され、ＵＶ光のスポット２７はプログラムされた方式で作業面２３を横切って移動する。液体２２が硬化して固体材料が形成されると、最初は表面２３のすぐ下にあったエレベータプラットフォーム２９が、任意の適切なアクチュエータによってプログラムされた方式で表面から下に動かされる。このようにして、最初に形成されていた固体材料が表面２３の下に取り込まれ、新しい液体２２が表面２３を横切って流れる。この新しい液体の一部は、今度は、プログラムされたＵＶ光スポット２７によって固体材料に変換され、新しい材料は、その下の材料に接着的に接続される。このプロセスは、三次元物体３０全体が形成されるまで続けられる。
コンピュータ制御されたポンプ（図示されず）を使用して、作業面２３で液体２２のレベルが一定に保たれる。適切なレベル検出システム及びフィードバックネットワークを使用して、流体ポンプ又は液体置換装置を駆動し、流体体積の変化を相殺し、表面２３で一定の流体レベルを維持することができる。あるいは、源２６を感知されたレベル２３に関連して動かし、作業面２３での鋭い焦点を自動的に維持することができる。これらの代替法はすべて、コンピュータ制御システム２８と連動して動作する従来のソフトウェアによって容易に実現することができる。
代替アプローチは、ＵＳ４５７５３３０の図４に描かれているように、アイテムを「ボトムアップ」から構築することである。このアプローチでは、ＵＶ硬化性液体２２は、硬化性液体２２と非混和性かつ非湿潤性である、より重いＵＶ透明液体３２上に浮かぶ。例として、エチレングリコール又は重水が中間液体層３２に適している。図４のシステムでは、三次元物体３０は、図３のシステムで示されるように、下に降りてさらに液状媒体の中に入るのではなく、液体２２から引き上げられる。特に、図４のＵＶ光源２６は、液体２２と非混和性中間液体層３２との間の界面にスポット２７を集束させ、ＵＶ放射は、容器２１の底部に支持された石英などの適したＵＶ透過窓３３を通過する。
ＷＯ２０１８１０６９７７によれば、及び樹脂をその液相のみから印刷することに代えて、アイテムの１つ以上の層が、（ビルド表面２３で）発泡させた樹脂から印刷される。
ＷＯ２０１８１０６９７７の図３は、樹脂発泡体がプリンタ用の原材料である付加製造法及び装置の代表的な実施例を示している。トップダウンの印刷方法が描かれている。この例示的な実施形態では、ＳＬＡ装置は、放射線源３００（例えば、ＤＬＰ、レーザー、電子ビーム（ＥＢ）、Ｘ線などとスキャナー）と、フォトポリマー樹脂３０６を保持するタンク３０５内でビルドプラットフォーム３０４を垂直に上下に移動させる移動制御機構３０２（例えば、ステッピングモーター）と、水平に掃引するスイーパー３０８（「リコータ」ブレードとも呼ばれる）とを備える。これらの要素は、先に説明した方法で部品３１０を印刷するために使用される。ＳＬＡ装置は、プリンタインターフェイス、すなわち印刷される層での樹脂発泡体の製造を容易にするために、発泡体製造及び搬出機構で強化されている。この目的のために、機構は、発泡容器又は圧力容器３１２、電気機械式バルブ３１４、及びホース又はチューブ３１６を備える。マニホールド３１８がスイーパ３０８に取り付けられ、発泡樹脂をビルド表面の最上層に均等に分配する。特に、そして描かれているように、発泡容器は、液体樹脂及び適したガス（例えば、ＣＯ２、Ｎ２Ｏなど）を受け取る。ガスは、発泡容器内の液体樹脂に溶解し（例えば、振盪、欠け（missing）、撹拌などにより）、バルブ３１４が、例えば、ソレノイド又は他の電気機械的、空気的、光学的、又は電子的な制御装置により作動したときに、ホース３１６を介してビルドプレート／プラットフォームに選択的に供給される。典型的には、機構は、コンピュータを使用したプログラム制御下にあり、これは、プリンタを制御するために使用するのと同じコンピュータであってよい。この実施形態では、機構は、発泡体の生成に必要であれば、液体容器内の気体を振盪又はそうでなければ溶解させるための泡立て器３２０（例えば、機械的な撹拌器、超音波装置など）を含む。
樹脂とガスの混合物が（マニホールド３１８を介してビルドプレート上に直接）供給されると、（圧力が低いため）液体混合物からガスが自然に蒸発し、放射線硬化性の発泡体が生成される。スイーパー３０８によってプレート上に発泡体を均等に広げ、次にライトエンジンを作動させて適切な画像を表示し、発泡体を硬化（固化）させて層を形成する。層が形成されると、移動制御機構がプラットフォームを下降させ、アイテムの次の層を構築できるようにする。その後このプロセスを繰り返し、再度、好ましくは印刷インターフェースで発泡体層を使用する。
好ましい技術では、層ごとの付加製造を使用するが、例えば２つのレーザーが発泡樹脂のタンク内で交差し、その場所で樹脂を硬化させるレーザーホログラフィーなど、他の製造法を使用して発泡体を加工し、ビルドアイテムを製造してもよい。
本発明による光硬化性組成物は、好ましくは、バット光重合（ステレオリソグラフィ）及びフォトポリマージェット／プリントで使用される。
さらに、本発明は三次元物品の製造方法に関するものであり、該方法は以下の工程、
ａ） 本発明の光硬化性組成物を提供する工程、
ｂ） 光硬化性組成物を化学線に当て、硬化した断面を形成する工程、
ｃ） 工程（ａ）及び（ｂ）を繰り返して、三次元物品を構築する工程
を含む。
好ましい実施形態において、該方法はバット光重合を含み、ここで本発明の光硬化性組成物を、工程ｂ）で並進又は回転させた基材上に直接硬化させ、照射をステレオリソグラフィー、ホログラフィ、又はデジタルライトプロジェクション（ＤＬＰ）を介してパターン化する。
別の好ましい実施形態では、該方法は、以下の工程、
ａ） 本発明の光硬化性組成物の層を表面に適用する工程、
ｂ） 層を画像状に化学線に当てて、画像化された硬化断面を形成する工程、
ｃ） 光硬化性組成物の第２の層を、先に露光させた画像化した断面上に適用する工程、
ｄ） 工程（ｃ）からの層を画像状に化学線に当ててさらなる画像化した断面を形成する工程であって、放射が露光領域において第２の層を硬化させ、先に露光させた断面に接着させる工程、及び
ｅ） 三次元物品を構築するために工程ｃ）及びｄ）を繰り返す工程
を含む。
よって本発明は、本発明の方法によって製造された三次元物品、又は本発明の光硬化性組成物の硬化物である三次元物品にも関するものである。
本発明の光硬化性組成物は、ステレオリソグラフィー技術（特にＣＬＩＰ）に適した二重硬化ステレオリソグラフィー樹脂に使用してよい。ＵＳ９，４５３，１４２、ＵＳ２０１６／０１３６８８９、ＵＳ２０１６／０１３７８３８及びＵＳ２０１６／０１６０７７を参照されたい。これらの樹脂は、通常、光によって典型的に重合される第１の重合性系（「パートＡ」と呼ばれることもある）（ここから中間物体が製造される）を含み、並びに、通常、中間物体が最初に形成された後に硬化させる少なくとも第２の重合性系（「パートＢ」）（これが、望ましい構造的及び／又は引張特性を最終的な物体に付与する）を含む。本発明の光硬化性組成物は、パートＡによって構成されてもよい。
以下の実施例は、本発明を制限することなく説明するものである。
実施例１
光硬化性組成物１
Figure 2023500370000070
実施例２
光硬化性組成物２
Figure 2023500370000071
実施例３
光硬化性組成物３
Figure 2023500370000072
実施例４
光硬化性組成物４
Figure 2023500370000073
実施例５
光硬化性組成物５
Figure 2023500370000074
実施例６
光硬化性組成物６
Figure 2023500370000075
実施例７
光硬化性組成物７
Figure 2023500370000076
実施例８
光硬化性組成物８
Figure 2023500370000077
実施例９
光硬化性組成物９
Figure 2023500370000078
６０℃未満の温度の熱水は、難溶性モノマーの溶解性増加と樹脂粘度の低下により、水洗後の透明度を改善できた。
使用した洗浄液は純水のみで、洗浄を補助する有機溶媒、アルカリ、酸、洗剤、界面活性剤、吸収剤、又は如何なる他の化学品も添加しなかった。洗浄操作は、種々の方法：熱、超音波、様々な形態の水の流れ（静的、渦、振動、ジェット）などの適用、で行うことができる。
十分な洗浄後、３Ｄ印刷された物体の表面を空気で完全に乾燥させてから、後硬化及びさらなる処理（複数可）を行った。
機械的試験のための本発明の光重合体及び試料の調製
光硬化性組成物の成分を、アルミニウム箔で日光から保護された１００ｍｌのガラスジャーを用いて水浴中で３０分間、７０℃で撹拌することにより、表２に規定された比で１．５質量％光開始剤ＴＰＯと混合した。
印刷を開始するために、得られた透明な混合物をＭｏｏｎＲａｙ Ｄ７５ ＤＬＰプリンタに取り付けられた樹脂タンクに注いだ。波長４０５ｎｍの光源を用いて３ｍＷ／ｃｍ２の強度で印刷を行った。各照射時に硬化させる層の厚さは５０μｍであった。所望の層用にスライスされた標準標本のＳｔｌファイルが作成され、ＤＬＰプリンタに読み込まれた。引張試験の試料はｘ方向に、衝撃試験の試料はｙ方向に印刷した。印刷終了後、試料をピッカーから取り出し、残留樹脂を拭き取り、上記のアプローチに従って６０秒間水洗し、３０秒間エアブロー乾燥させて洗浄した試料を得、ＮｅｘｔＤｅｎｔ（商標）ＬＣ ３Ｄ Ｐｒｉｎｔｂｏｘ（ＵＶ－Ａ及び青色ランプを装備）中で４０分間後硬化させた。
相対湿度５０％で２４時間保管した後、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ５２７－１（試験片タイプ５Ａ）に準拠して、Ｚｗｉｃｋ Ｒｏｅｌｌ社の１０ｋＮ Ｐｒｏ Ｌｉｎｅを使用し、及びＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ１８０に準拠してＺｗｉｃｋ Ｒｏｅｌｌ社のＨＩＴ振り子式衝撃試験機Ｂ５１１３．３００（５．５Ｊの振り子）を使用して、試験片の機械的特性を試験した。
光重合体の粘度を、５０℃で１００ｓ－１のせん断速度で、コーン／プレート（直径６０ｍｍ、円錐角２°）レオメータ（ＨＲ－１Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社）を用いて決定した。
すべてのＵＶ用量は、ＵＶ－Ｃｏｎｔｒｏｌ ３ＣＴ（ＵＶ－ｔｅｃｈｎｉｋ ｍｅｙｅｒ Ｇｍｂｈ社）を用いて測定した。
Figure 2023500370000079
３Ｄプリンタ及び実施例９～１２の組成物を使用して３Ｄ生成物を形成した後、任意の未硬化の組成物を水洗により除去した。つまり、３Ｄ印刷された物体を、室温の純水で短時間（特に吸水を防ぐために５分未満）すすぎ、及び／又は浸漬するだけで、如何なる未硬化の組成物又は部分的に硬化した組成物も溶解した。

Claims (17)

  1. （Ａ１）少なくとも１種の水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）、
    （Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
    （Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
    （Ｃ）任意に光開始剤（Ｃ）
    を含み、
    成分（Ａ１）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、２０質量％超、特に３０質量％であり、且つ成分（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、１０質量％超、特に２０質量％である、
    放射線硬化性組成物、又は
    （Ａ１’）少なくとも１種の難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）、
    （Ａ２）少なくとも１種の水溶性の反応性オリゴマー（Ａ２）、
    （Ｂ）水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）、及び水不溶性又は難水溶性の反応性オリゴマー（Ｂ２）からなる群から選択される、少なくとも１種の反応性成分、及び
    （Ｃ）任意に光開始剤（Ｃ）
    を含み、
    成分（Ｂ１ｂ）及び（Ａ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、４０質量％超、特に５０質量％であり、且つ成分（Ｂ１ａ）及び（Ｂ２）の量が、成分（Ａ２）、（Ｂ１ａ）、（Ｂ１ｂ）及び（Ｂ２）の量に基づいて、１０質量％超、特に２０質量％である、
    放射線硬化性組成物。
  2. 水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）が、
    単官能の（メタ）アクリルアクリルアミド、
    式
    Figure 2023500370000080
     のＮ－ビニルオキサゾリジノン（式中、
    Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して水素原子又は１０個以下の炭素原子を有する有機基である）、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート（ＰＥＧ２００ＤＡ）、ポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート、Ｎ－ビニル－カプロラクタム（ＮＶＣ）、Ｎ－ビニル－ピロリドン（ＮＶＰ）及びＮ－ビニル－イミダゾール（ＶＩＭ）から選択される、請求項１に記載の放射線硬化性組成物。
  3. 水溶性の反応性希釈剤（Ａ１）が、アクリロイルモルホリン、ポリエチレングリコール（２００）ジアクリレート、Ｎ－ビニル－カプロラクタム（ＮＶＣ）、Ｎ－ビニルオキサゾリジノン、Ｎ－ビニル－５－メチルオキサゾリジノン及びそれらの混合物から選択される、請求項１又は２に記載の放射線硬化性組成物。
  4. 水溶性のオリゴマー（Ａ２）が、水溶性のウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル（メタ）アクリレート、又はこれらの混合物、特に、少なくとも１種のポリイソシアネート化合物（ｉ）、少なくとも１種のポリエチレングリコールセグメントと少なくとも１種のペンダント親水性基とを含む少なくとも１種のポリエステルポリオール（ｖｉ）、及びイソシアネート基と反応することができる少なくとも１つの反応基を含有する少なくとも１種の（メタ）アクリル化化合物（ｉｖ）の反応から得られる、水希釈可能な（メタ）アクリル化ポリウレタンである、請求項１から３のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
  5. 水不溶性のオリゴマー（Ｂ２）が、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びウレタンメタクリレートから選択される、請求項１から４のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
  6. 水不溶性のオリゴマー（Ｂ２）が、
    （ｂ１）ヒドロキシアルキルアクリレート、又はヒドロキシアルキルメタクリレート、
    （ｂ２）脂肪族ジイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、脂環式ポリイソシアネート、芳香族ジイソシアネート、又は芳香族ポリイソシアネート、又はそれらの混合物、
    （ｂ３）脂肪族ジカルボン酸及び脂肪族ジオールから誘導されるポリエステルポリオール、及び
    （ｂ４）任意の第２のポリオール、特にグリセロール
    を反応させることによって得られる、請求項１から５のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
  7. 水不溶性のオリゴマー（Ｂ２）が、ポリアルキレングリコールを、式
    Figure 2023500370000081
     のラクトン、少なくとも１種の脂環式又は非対称脂肪族ジイソシアネート、及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと反応させることによって得られ、又は式（Ｂ２ａ）のラクトンを、少なくとも１種の脂環式又は非対称脂肪族ジイソシアネート、及びヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと反応させることによって得られ、式中、Ｒ１１３が、１～１２個の炭素原子を有し、場合によりＣ１～Ｃ４アルキル基で置換されていてよい、及び／又は１個以上の酸素原子により中断されてよい二価のアルキレンラジカルである、請求項５に記載の放射線硬化性組成物。
  8. 水不溶性オリゴマー（Ｂ２）が、脂肪族、芳香族、又は環状のジイソシアネートとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとの反応、特にトリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヒドロキシエチルメタクリレートとの反応により得られる、請求項５に記載の放射線硬化性組成物。
  9. 水不溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ａ）が、アダマンチルアクリレート、２－メチル－２－アダマンチルアクリレート、２－エチル－２－アダマンチルアクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘプチル（メタ）アクリレート、シクロオクチル（メタ）アクリレート、シクロデシル（メタ）アクリレート、ジシクロデシル（メタ）アクリレート、３，３，５－トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、４－ｔ－ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパントリメタクリレート（ＴＭＰＴＭＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート（ＴＭＰＥＯ３ＴＡ）及びトリシクロデカンジメタノールジアクリレートから選択される、請求項６に記載の放射線硬化性組成物。
  10. 難水溶性の反応性希釈剤（Ｂ１ｂ）が、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、２－［［（ブチルアミノ）カルボニル］オキシ］エチルアクリレート、及びトリエチレングリコールジメタクリレート（ＴＥＧＤＭＡ）から選択される、請求項１から９のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
  11. 請求項１から１０のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物であって、
    Figure 2023500370000082
    Figure 2023500370000083
    を含む放射線硬化性組成物。
  12. 光開始剤（Ｃ）が、式
    Figure 2023500370000084
     の化合物（式中、
    Ｒ５０は、非置換のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオにより、又はＮＲ５３Ｒ５４により置換されているシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであり、
    又はＲ５０は、非置換のＣ１～Ｃ２０アルキルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオ、ＮＲ５３Ｒ５４により、又は－（ＣＯ）－Ｏ－Ｃ１～Ｃ２４アルキルにより置換されているＣ１～Ｃ２０アルキルであり、
    Ｒ５１は、非置換のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルキル、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオにより、又はＮＲ５３Ｒ５４により置換されているシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであり、
    又はＲ５１は－（ＣＯ）Ｒ’５２であり、
    又はＲ５１は、非置換の、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ１２アルコキシ、Ｃ１～Ｃ１２アルキルチオにより、又はＮＲ５３Ｒ５４により置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、
    Ｒ５２及びＲ’５２は、互いに独立して、非置換のシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又は１種以上のハロゲン、Ｃ１～Ｃ４アルキル又はＣ１～Ｃ４アルコキシにより置換されているシクロヘキシル、シクロペンチル、フェニル、ナフチル又はビフェニリルであるか、又はＲ５２はＳ原子又はＮ原子を含む５員又は６員の複素環であり、
    Ｒ５３及びＲ５４は、互いに独立して、水素、非置換のＣ１～Ｃ１２アルキル、又は１つ以上のＯＨ又はＳＨにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、ここでアルキル鎖は１～４個の酸素原子により中断されてもよく、
    又はＲ５３及びＲ５４は、互いに独立して、Ｃ２～Ｃ１２－アルケニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル又はフェニルである）であるか、
    又は前記光開始剤（Ｃ）が、式（ＸＩＩ）の化合物と式
    Figure 2023500370000085
     の化合物との混合物（式中、
    Ｒ２９は、水素又はＣ１～Ｃ１８アルコキシであり、
    Ｒ３０は、水素、Ｃ１～Ｃ１８アルキル、Ｃ１～Ｃ１２ヒドロキシアルキル、Ｃ１～Ｃ１８アルコキシ、ＯＣＨ２ＣＨ２－ＯＲ３４、モルホリノ、Ｓ－Ｃ１～Ｃ１８アルキル、基－ＨＣ＝ＣＨ２、－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、
    Figure 2023500370000086
     であり、
    Ｄ、Ｅ及びｆは、１～３であり、
    ｃは、２～１０であり、
    Ｇ１及びＧ２は、互いに独立して、ポリマー構造の末端基、好ましくは水素又はメチルであり、
    Ｒ３４は、水素、
    Figure 2023500370000087
     であり、
    Ｒ３１は、ヒドロキシ、Ｃ１～Ｃ１６アルコキシ、モルホリノ、ジメチルアミノ、又は－Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ－Ｃ１～Ｃ１６アルキルであり、
    ｇは、１～２０であり、
    Ｒ３２及びＲ３３は、互いに独立して、水素、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ１～Ｃ１６アルコキシ、又は－Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ－Ｃ１～Ｃ１６アルキルであるか、又は非置換のフェニル又はベンジル、又はＣ１～Ｃ１２－アルキルにより置換されているフェニル又はベンジルであり、
    又はＲ３２及びＲ３３は、それらが結合している炭素原子と共にシクロヘキシル環を形成し、
    Ｒ３５は、水素、ＯＲ３６又はＮＲ３７Ｒ３８であり、
    Ｒ３６は、水素、Ｃ１～Ｃ１２アルキル（ただし、そのＣ１～Ｃ１２アルキルは、１個以上の連続しないＯ－原子により中断されてもよく、そして、中断された若しくは中断されていないＣ１～Ｃ１２アルキルが、場合により、１つ以上のＯＨで置換されている）であり、
    又はＲ３６は、
    Figure 2023500370000088
     であり、
    Ｒ３７及びＲ３８は、互いに独立して、水素又は非置換であるか又は１つ以上のＯＨにより置換されているＣ１～Ｃ１２アルキルであり、
    Ｒ３９は、場合により１個以上の連続しないＯにより中断されたＣ１～Ｃ１２アルキレン、－（ＣＯ）－ＮＨ－Ｃ１～Ｃ１２アルキレン－ＮＨ－（ＣＯ）－又は
    Figure 2023500370000089
     であるが、ただしＲ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、すべてが共にＣ１～Ｃ１６アルコキシ又は－Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ－Ｃ１～Ｃ１６アルキルではないことを条件とする）であるか、
    又は前記光開始剤が前記式（ＸＩＩ）のうちの異なる化合物同士の混合物であるか、又は前記光開始剤が前記式（ＸＩＩ）及び（ＸＩ）の化合物の混合物である、請求項１から１１のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物。
  13. 請求項１から１２のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物を、光重合３Ｄ印刷プロセスにおいて、特に歯型の作製のために使用する方法。
  14. 前記光重合３Ｄ印刷プロセスがバット光重合である、請求項１３に記載の方法。
  15. ａ） 請求項１から１２のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物を提供する工程、
    ｂ） 前記放射線硬化性組成物を化学線に曝露して、硬化した断面を形成する工程、
    ｃ） 工程（ａ）及び（ｂ）を繰り返して、グリーン三次元物品を構築する工程、
    ｄ） 前記三次元物品を純水で洗浄し、前記三次元物品の表面上の組成物の未硬化の又は部分的に硬化した成分を除去する工程、及び
    ｅ） 前記三次元物品を後硬化させる工程
    を含む、三次元物品を製造する方法。
  16. バット光重合を含む請求項１５に記載の製造方法であって、工程ｂ）における請求項１から１２のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物を並進又は回転させた基材上に直接硬化させ、そしてその照射を、ステレオリソグラフィー、ホログラフィ、ＬＣＤ、又はデジタルライトプロジェクション（ＤＬＰ）を介してパターン化する製造方法。
  17. 請求項１５から１７のいずれか１項に記載の方法により製造された三次元物品、又は請求項１から１２のいずれか１項に記載の放射線硬化性組成物の硬化した生成物である三次元物品。
JP2022526413A 2019-11-07 2020-10-19 ３ｄ印刷で使用するための水洗可能な組成物 Pending JP2023500370A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNPCT/CN2019/116329 2019-11-07
CN2019116329 2019-11-07
PCT/EP2020/079382 WO2021089313A1 (en) 2019-11-07 2020-10-19 Water-washable compositions for use in 3d printing

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2023500370A true JP2023500370A (ja) 2023-01-05

Family

ID=75849483

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022526413A Pending JP2023500370A (ja) 2019-11-07 2020-10-19 ３ｄ印刷で使用するための水洗可能な組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20230002631A1 (ja)
EP (1) EP4055071A1 (ja)
JP (1) JP2023500370A (ja)
KR (1) KR20220095230A (ja)
CN (1) CN114641388A (ja)
WO (1) WO2021089313A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021134562A1 (de) * 2021-12-23 2023-06-29 INM - Leibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige Gesellschaft mit beschränkter Haftung Härtbare Zusammensetzung und ihre Anwendung
WO2024017881A1 (en) * 2022-07-19 2024-01-25 Agfa-Gevaert Nv A curable inkjet composition for the manufacturing of printed circuit boards
CN116445172A (zh) * 2023-04-04 2023-07-18 淮阴工学院 一种含三氮苯咔唑盘状光固化液晶的4d打印形状记忆树脂材料及其制备方法和应用

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5247134B2 (ja) 1973-03-20 1977-11-30
ZA741203B (en) 1973-03-23 1975-01-29 Smithkline Corp Veterinary feed compositions for inhibiting rumen microbial deamination
US4151175A (en) 1976-12-09 1979-04-24 General Electric Company Method for making diarylhalonium salts
US4399071A (en) 1982-03-12 1983-08-16 General Electric Company Method for making diaryliodonium salts
IT1151545B (it) 1982-04-15 1986-12-24 Anic Spa Composizione a base di policarbonati alifatici con terminazioni acriliche o metacriliche reticolabile in presenza di iniziatori radicalici
US4575330A (en) 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US4639472A (en) * 1984-12-17 1987-01-27 The Dow Chemical Company N-vinyl-2-oxazolidinones as reactive diluents in actinic radiation curable coatings
US4694029A (en) 1985-04-09 1987-09-15 Cook Paint And Varnish Company Hybrid photocure system
US4950581A (en) 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
JPH0813509B2 (ja) 1988-10-19 1996-02-14 松下電工株式会社 三次元形状の形成方法
KR0147812B1 (ko) 1989-01-10 1998-08-17 베르너 발대크 감광성 액체 수지 조성물 및 그로부터 3차원 물체를 제조하는 방법
DE59010008D1 (de) 1989-10-27 1996-02-08 Ciba Geigy Ag Photoempfindliches Gemisch
EP0450254A1 (en) 1990-04-03 1991-10-09 Ciba-Geigy Ag Photocurable compositions
US5006598A (en) 1990-04-24 1991-04-09 Eastman Kodak Company Water-dispersible polyesters imparting improved water resistance properties to inks
EP0506616B1 (de) 1991-03-27 1998-01-21 Ciba SC Holding AG Photoempfindliches Gemisch auf Basis von Acrylaten
FR2688783A1 (fr) 1992-03-23 1993-09-24 Rhone Poulenc Chimie Nouveaux borates d'onium ou de complexe organometallique amorceurs cationiques de polymerisation.
GB9311139D0 (en) 1993-05-28 1993-07-14 Zeneca Resins Bv Aqueous crosslinkable coating compositions
JPH08183823A (ja) 1994-12-28 1996-07-16 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 光学的立体造形用樹脂及び光学的立体造形用樹脂組成物
JPH08183824A (ja) 1994-12-28 1996-07-16 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 光学的立体造形用樹脂及び光学的立体造形用樹脂組成物
FR2762001B1 (fr) 1997-04-11 1999-07-02 Rhodia Chimie Sa Amorceurs non toxiques, resines a groupements organofonctionnels reticulables comprenant les amorceurs, et leur utilisation pour la preparation de polymeres stables et non toxiques
SG98433A1 (en) 1999-12-21 2003-09-19 Ciba Sc Holding Ag Iodonium salts as latent acid donors
JP2004512402A (ja) 2000-10-25 2004-04-22 アクゾ　ノーベル　ナムローゼ　フェンノートシャップ 光活性型水性コーティング組成物
US20040115561A1 (en) 2002-12-13 2004-06-17 Mikhail Laksin Energy curable, water washable printing inks suitable for waterless lithographic printing
CN1988956B (zh) 2004-07-21 2012-10-03 西巴特殊化学品控股有限公司 通过倒置的两阶段工序光活化催化剂的方法及其应用
ATE390457T1 (de) 2004-09-03 2008-04-15 Ciba Sc Holding Ag In-can stabilisatoren
JP2011516632A (ja) 2008-03-18 2011-05-26 サイテック サーフェース スペシャリティーズ、エス．エイ． 放射線硬化性ポリウレタン水性組成物
EP2436510A1 (en) * 2010-10-04 2012-04-04 3D Systems, Inc. System and resin for rapid prototyping
RU2654485C2 (ru) 2013-05-27 2018-05-21 Басф Се Способ получения уретан(мет)акрилатов
US20160122465A1 (en) 2013-06-04 2016-05-05 Basf Se Soft thermoplastic polyurethane elastomers and process for their preparation
US9861452B2 (en) 2013-08-09 2018-01-09 Dsm Ip Assets B.V. Low-viscosity liquid radiation curable dental aligner mold resin compositions for additive manufacturing
HUE035653T2 (en) * 2013-08-12 2018-05-28 Basf Se Inkjet printing ink containing N-vinyl oxazolidinone
JP7045796B2 (ja) 2014-06-23 2022-04-01 カーボン，インコーポレイテッド 多様な硬化機構を有する材料からの三次元物体製造方法
JP6509507B2 (ja) 2014-07-17 2019-05-08 任天堂株式会社 ゲームシステム、端末装置、コンピュータプログラム及び情報表示方法
US9868871B2 (en) 2015-06-10 2018-01-16 Full Spectrum Laser Water-washable resin formulations for use with 3D printing systems and methods
WO2017005613A1 (en) 2015-07-08 2017-01-12 Universiteit Gent Novel urethane based materials, derivatives, methods of their preparation and uses
US20170275486A1 (en) 2016-03-23 2017-09-28 Xerox Corporation Curable Gellant Ink Composition
CN107501477B (zh) 2016-06-14 2019-11-05 珠海赛纳打印科技股份有限公司 一种用于3d喷墨打印的光固化材料及制备和打印方法
US20180100073A1 (en) 2016-10-11 2018-04-12 Xerox Corporation Ink composition for use in 3d printing
US11738511B2 (en) 2016-12-08 2023-08-29 Igneous IP Holdings, LLC Additive manufacturing using foaming radiation-curable resin
US10239255B2 (en) * 2017-04-11 2019-03-26 Molecule Corp Fabrication of solid materials or films from a polymerizable liquid
JP2019001865A (ja) 2017-06-13 2019-01-10 セイコーエプソン株式会社 放射線硬化型組成物、及び放射線硬化型組成物のセット
CN111094379B (zh) 2017-09-13 2022-04-01 湛新比利时股份有限公司 可辐射固化的含水组合物
US10793735B2 (en) * 2018-03-15 2020-10-06 Ricoh Company, Ltd. Curable composition, curable ink, storing container, two-dimensional or three-dimensional image forming device, two-dimensional or three-dimensional image forming method, cured product, printed matter, and adhesive label
JP7367455B2 (ja) * 2019-10-23 2023-10-24 株式会社リコー 顔料分散組成物、硬化型組成物、収容容器、２次元又は３次元の像形成装置、２次元又は３次元の像形成方法、硬化物、及び加飾体

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021089313A1 (en) 2021-05-14
KR20220095230A (ko) 2022-07-06
CN114641388A (zh) 2022-06-17
EP4055071A1 (en) 2022-09-14
US20230002631A1 (en) 2023-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3856856B1 (en) Uv curable composition for use in 3d printing
JP2023500370A (ja) ３ｄ印刷で使用するための水洗可能な組成物
KR20210065101A (ko) 3d 인쇄에 사용하기 위한 광경화성 조성물
JP5559033B2 (ja) 二元光開始剤、光硬化型組成物、三次元物品製造へのこれらの使用、および製造方法
KR100722179B1 (ko) 광개시제 조성물
AU2017351802B2 (en) Thermosetting compositions and forming three-dimensional objects therefrom
ITMI990376A1 (it) Composizione fotoinduribil3e pigmentata
ES2970443T3 (es) (Met)acrilatos a base de limoneno para su uso en impresión 3D
CN108778688B (zh) 具有改善韧性耐高温性的加成法制造用可辐射固化组合物
US20170137641A1 (en) Active-energy-ray-curable composition, active-energy-ray-curable ink, composition stored container, two-dimensional or three-dimensional image forming apparatus, two-dimensional or three-dimensional image forming method, cured material, and structure
JP2016030764A (ja) 反応性モノマー、およびそれを用いた重合性組成物
WO2020148190A1 (en) Hydroxyurethane (meth)acrylate prepolymers for use in 3d printing
JP2023517296A (ja) 光開始剤エマルション
US20230166551A1 (en) Process for producing dichroic security features for securing value documents
KR20130018150A (ko) 광변색 필름 및 이의 제조방법
JP6834212B2 (ja) 活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク、組成物収容容器、２次元または３次元の像形成装置、像形成方法、硬化物及び構造体
JP2022054914A (ja) 活性エネルギー線重合開始剤、活性エネルギー線硬化型組成物、活性エネルギー線硬化型インク、インク収容容器、像形成装置、及び像形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20231018