JP2023158373A - 酸素除去装置 - Google Patents

Abstract

【課題】圧力損失を低減し、大風量のガス連続的に処理することができ、簡易な構造で低コストである酸素除去装置を提供する。
【解決手段】本発明の酸素除去装置は、触媒・吸着方式で用いる吸着塔内に、触媒・吸着剤ペレット等を充填するのではなく、触媒又は吸着剤といった酸素又は窒素を分離可能なガス分離部材を担持したハニカム体とし、処理操作では処理ガスをハニカム体に通風して、処理ガス中の酸素又は窒素を除去し、再生操作では再生ガスを通風することにより、ハニカム体を再生することを特徴とすることによって、圧力損失を低減し、大風量に対応できるようにした。
【選択図】図１

Description

本発明は、酸素又は窒素を分離可能なガス分離部材を用いた酸素除去装置に関する。

酸素除去濃縮技術として、ＰＳＡ（圧力スイング吸着：Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｗｉｎｇ Ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ)方式、膜分離方式、深冷分離方式、触媒・吸着方式等が知られている。ＰＳＡ方式、膜分離方式、深冷分離方式の原理は、それぞれ圧力による吸着剤の吸着速度、気体の膜通過速度、気体の沸点の差を利用して気体を分離する。触媒・吸着方式は、触媒や吸着剤等のペレットを充填した吸着塔が吸着（精製）と再生を繰り返すことで酸素を選択的に除去するものである。

特許文献１には、ＰＳＡ方式による酸素濃縮装置が開示されている。すなわち、窒素ガスを選択的に吸着するゼオライト等の吸着剤を充填した吸着筒へ加圧した空気を導入して、空気中に含まれる窒素ガスを吸着剤によって吸着し、選択的に除去して空気中の酸素濃度を上げ、その一方で、吸着筒内を減圧することによって、酸素濃縮が終わった後の吸着剤に吸着した窒素ガスを脱着させて吸着剤の吸着能を回復させることを特徴とする。

また、特許文献２には、分離膜を使用した酸素分離装置が開示されている。すなわち、空気から濃縮した酸素ガスを得るため、酸素ガスを選択的に透過する分離膜を使用し、透過速度が速い酸素と遅い窒素を分離することを特徴とする。

さらに、特許文献３には、触媒・吸着方式によりグローブボックス内の酸素や水分等を除去する不活性ガス循環精製装置付グローブボックスが開示されている。すなわち、グローブボックス内の不活性ガスの雰囲気を一定に保ち、効率良く酸素と水分を除去するため、ガス中の酸素を除去する金属触媒を充填した金属触媒充填部と、ガス中の水分を吸着除去するモレキュラーシーブの乾燥剤を充填した乾燥剤充填部から構成される吸着塔によって、酸素及び水分を除去した循環ガスを供給するように構成し、グローブボックス内のガスを循環ポンプで吸い出し、吸着塔内を通過中に酸素と水分を除去して再びグローブボックスに戻して、ガス循環を行う。

特開２００６－８７６８３号 特開２０１０－１８４８４４号 特許５６７６５２１号 特開２０１９－５２８３５号 特開２０２０－１９３７６５号

ＰＳＡ方式、膜分離方式、深冷分離方式では、断続的な運転となるため、精製した窒素を貯蔵するためのバッファタンクを要する。さらに窒素使用量はバッファタンク容量の制限を受ける。また、ＰＳＡ方式では、空気の加減圧をポンプやコンプレッサ等により行うため、加圧と減圧を繰り返すことにより、装置内部で動作音が発生するという問題がある。また、ＰＳＡ方式では、得られる酸素濃度が加圧する空気の圧力に大きく依存するので、高酸素濃度ガスを得るために、ポンプやコンプレッサ等の加圧能力を高めると、大型化したり、多くの電力を消費したり、高負荷状態での運転に伴う短寿命につながるという問題もある。

膜分離方式では、空気中の酸素ガスを高濃度に濃縮することができないという問題を有している。深冷分離方式においても、極低温までの冷却が必要となるため、設備が大きくなる、起動に時間がかかるというような欠点がある。さらに、窒素を生成する酸素除去の目的の場合には、不活性ガスとしての窒素は、ボンベに入ったもの、液化窒素を気化したもの、あるいはＰＳＡ方式、膜分離方式や深冷分離方式により空気から酸素を除去した窒素であっても、ガスの価格が高く、不活性ガスとして酸素を除去した窒素を用いる場合には、そのコストを削減することが課題である。

触媒・吸着方式を用いた特許文献３のようなグローブボックスにおいて、酸素除去と水分除去が直列カラムで行われるため、水分除去能力律速での機器選定が行われており、酸素と水分では精製速度が異なり、酸素の除去と比較して水分の除去に非常に時間がかかるため、同時に除去するのは難しいという課題があった。また、保守等による休止中に付随して、酸素除去と水分除去を同時に行う不活性ガス精製装置も停止するため、再度、グローブボックス内を低露点の不活性ガス環境に戻すための時間が掛かり過ぎるという問題がある。このように、酸素除去を不活性ガス供給の目的で行い、水分除去も同時に行う場合、従来の技術ではグローブボックスやドライルーム内において製造装置のメンテナンスや調整等を行う場合、低露点の不活性ガス環境を大気環境に戻す大気ブレーク後、不活性ガス環境に戻すまでの復帰時間が長くなり、これに伴い製造装置のライン立上げにも時間がかかっていた。

そこで、発明者らは、保管空間内を低露点、低活性ガス濃度で清浄に保つ必要のある、リチウムイオン電池材料等を開発するために用いるグローブボックス等の収納容器やドライルームに対しても用いることができる、不活性ガス精製装置と低露点ガス供給装置を開発してきた。例えば、特許文献４に開示のガス置換用ドライルームは、乾燥空気供給装置からの乾燥空気を循環させた乾燥室の内部に、ＯＬＥＤの製造や研究開発に用いる製造装置を格納する気密容器を設け、この気密容器に不活性ガス及び低露点ガスを供給するようにしてある。また、気密容器の循環路に不活性ガス精製装置と低露点ガス供給装置を分割して直列に配置し、その循環路と切り離した循環路を別途設け、互いに独立して制御するようにしたので、水分除去性能と酸素除去性能を個別に調整できる。さらに、大気ブレーク中に別途設けた循環路を循環させることにより、気密容器の大気ブレーク後の大気環境から不活性ガス環境へ戻す復帰時間を大幅に短縮できる。不活性ガスの供給を停止した状態で、低露点ガスの供給を維持することができるので、大気ブレークの後でも速やかに気密ブース内の露点は低い状態に到達する。特許文献４に開示のガス置換用ドライルームでは、低露点ガス供給装置として水分除去にデシカント除湿機を用いており、ロータはハニカム状であるため表面積が広く、低圧損であり、かつハニカムの壁は非常に薄く吸着水分の拡散が速いため、ハニカムエレメント全体において瞬時に吸脱着が行われるので、ドライルーム内の所定の水分濃度への到達時間が大幅に短縮される。

また、特許文献５に開示のガス置換用ドライルームでは、特許文献４に記載の気密容器を覆う乾燥室及び乾燥室内部に乾燥空気を供給循環させるための乾燥空気供給装置を省略し、低露点ガス供給装置及び不活性ガス精製装置を接続して一体型として構成したもので、特許文献４に記載のガス置換用ドライルームに比べて、装置の簡便化、省スペース化、運転方法の簡素化を目指したものである。これにより、低露点ガス供給装置（デシカント除湿機）と不活性ガス精製装置（窒素精製機）を接続して、一体型の装置とすることにより、特許文献４に比べて省スペースなガス置換システムとすることが可能となり、配管や設置工事等にかかるイニシャルコストを抑えることが可能になる。

しかしながら、特許文献３だけでなく、特許文献４及び特許文献５においても、不活性ガス精製装置はニッケル触媒や銅触媒、白金触媒等の金属触媒ペレット等を吸着塔に充填し、処理ガス中の酸素と触媒を反応させて酸素除去を行っている。この触媒・吸着方式は、複数の吸着塔を設けることで連続運転を可能とするが、吸着塔に触媒・吸着剤ペレット等を充填することによる大幅な圧力損失の増大により、大風量に対応することが難しいという課題がある。さらに高い圧力損失が由来して、触媒・吸着剤ペレット等の再生運転時に生じる水分の排出に時間を要することから、真空ポンプ等で水分の排出を促す機構を備える必要があり、本来の酸素除去システム以外にコストが追加されるという課題がある。また、ガス流により粒子が流動して粒子が摩滅、破損して粉塵の発生や充填層の部分閉塞による圧力損失の上昇等の不具合の原因となりうる。さらに、ペレット状ではなく、粒状のものを用いる場合には、粒子を小さくして処理ガスとの接触面積を多くすることが高性能化や小型化の点で有利であるが、粒子が小さくなるほど圧力損失が課題になり、ガス流による触媒や吸着剤の流動も誘起しやすく、設計が困難になり、また大型の装置に適用することは困難である。

本発明は以上のような課題を解決するため、触媒・吸着方式で用いる吸着塔内に、触媒・吸着剤ペレット等を充填するのではなく、触媒又は吸着剤といった酸素又は窒素を分離可能なガス分離部材を担持したハニカム体とすることで圧力損失を低減し、大風量に対応できるようにしたことを主な特徴とする。

本発明の酸素除去装置によれば、触媒・吸着方式で用いる吸着塔内に充填した触媒・吸着剤ペレット等ではなくハニカム体にすることで圧力損失を大幅に低減し、大風量に対応することができる。すなわち、酸素を除去したガスを大風量で供給することが可能である。また、ハニカム体に担持する触媒又は吸着剤の量を、ペレット等を用いる場合に比べて低減できるので、ハニカム体を用いればより少ない触媒・吸着剤使用量で、より低い圧力損失を実現でき、かつペレット等と同じ性能を発揮することができる。すなわち、ハニカム体に触媒又は吸着剤を担持することにより、ペレット等に比べて高効率に触媒又は吸着剤を利用することができる。

さらに、再生運転時に生じる水分は減圧等の操作が不要であり、コンプレッサや真空ポンプ等の加減圧手段を利用しなくてもガス置換（再生操作におけるガスの流通）により排出が可能となるため、システム全体の部品や部材性能を低減することができる。また、簡易な構成により、酸素除去装置の小型化が可能であり、消費電力も小さくできるという利点がある。

図１は本発明の酸素除去装置における処理操作と再生操作を交互に行う場合のフローの一例である。 図２は本発明の酸素除去装置における処理操作及び再生操作を同時に連続的に行うフローの一例である。 図３は本発明の酸素除去装置における吸着塔の高さを揃えたペレット充填層とハニカム体の圧力損失の比較を示すグラフである。 図４は本発明の酸素除去装置において、ハニカム体をハニカムロータとして適用する場合の模式図であり、図４（Ａ）はハニカム体を円柱（ロータ）状に巻付けて作製した円盤型ロータ、図４（Ｂ）は扇形のブロックとして組み立てた場合の円盤型ロータである。 図５は本発明の酸素除去装置において、ハニカム体を扇形のブロックにして円筒型ロータに組み立て、ハニカムロータとして適用する場合の模式図である。 図６は本発明の酸素除去装置の実施例１における閉鎖系流路を組み込んだブース内ガスのフローと酸素除去実験結果を示すグラフである。

以下に本発明を実施するための形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は以下の実施形態及び図面について限定されるものではない。

図１は本発明の酸素除去装置における処理操作と再生操作を交互に行う場合のフローの一例である。吸着塔５、６にはそれぞれハニカム体７、８が充填されている。ハニカム体７、８には処理ガス２中の酸素又は窒素を分離可能なガス分離部材をバインダー等を用いて担持してある。処理操作は、処理ガス２をハニカム体７、８に通過させて行い、再生操作は再生ガス１を用いて行う。ガス流路の切替操作は、例えばバルブ９～１６を用いて行う。

処理操作において、バルブ９、１１を閉じ、バルブ１０、１２、１３、１４、１５、１６を開く。処理ガス２を、吸着塔５に充填したハニカム体７及び吸着塔６に充填したハニカム体８を通過させることにより、ハニカム体７及び８に担持されたガス分離部材が処理ガス２中の酸素又は窒素を除去し、ハニカム体通過ガス４となる。ハニカム体通過ガス４は、処理ガス２が例えば空気である場合は、酸素が除去されると酸素貧化空気（窒素富化空気）となり、窒素が除去されると酸素富化空気となる。

一方、再生操作では、バルブ１０、１２を閉じ、バルブ９、１１、１３、１４、１５、１６を開く。再生ガス１を、吸着塔５に充填したハニカム体７及び吸着塔６に充填したハニカム体８を通過させることにより、ハニカム体７及び８に担持されたガス分離部材が再生され、排気３として排気される。再生ガス１が例えば空気であって、ガス分離部材が活性炭やゼオライト等の吸着剤である場合、処理操作において酸素が除去されると排気３は酸素が脱着され酸素富化空気となり、処理操作において窒素が吸着除去されると窒素が脱着されるので窒素富化空気となる。

このように、図１のフローでは、吸着塔５、６に処理ガス２または再生ガス１の一方を流して、処理操作と再生操作を交互に行う。なお、図１では吸着塔を二つ設けたが、一つでも複数設けるようにしてもよい。

図２では処理操作及び再生操作を同時に連続的に行う構成とする。処理操作において、バルブ１０、１２、１３、１４を開く。処理ガス２を、吸着塔５に充填したハニカム体７を通過させることにより、ハニカム体７に担持されたガス分離部材が処理ガス２中の酸素又は窒素を除去し、ハニカム体通過ガス４となる。一方、同時にもう一方の吸着塔６では再生操作を行う。再生操作では、バルブ９、１１、１８、２０を開く。再生ガス１を、吸着塔６に充填したハニカム体８を通過させることにより、ハニカム体８に担持されたガス分離部材が再生され、脱離した酸素又は窒素は排気３として排気される。このように、吸着塔５では処理操作、吸着塔６では再生操作が行われている場合、バルブ１５、１６、１７、１９は閉じた状態となる。逆に、処理操作と再生操作が切り替わり、吸着塔５では再生操作、吸着塔６では処理操作が行われている場合、バルブ１３、１４、１８、２０は閉じ、その他のバルブは開いた状態となる。

このように、図２の実施形態では二つの吸着塔を並列に設置し（二塔式）、一方の吸着塔には再生ガス１を流してハニカム体を再生している間、もう一方の吸着塔に処理ガス２を流して酸素又は窒素除去を行う。なお、吸着塔二つに限るものではなく、複数設けるようにしてもよい。図１に例えば四方弁のような流路切替バルブ等を用いて、図２のように連続的に処理操作及び再生操作を同時に行う構成としてもよい。

ハニカム体に担持したガス分離部材は、酸素除去を行うため、酸素を吸着する吸着剤、酸素を除去する触媒、窒素を吸着する吸着剤のうち、少なくとも一つを用いるようにしてもよい。酸素又は窒素を吸着する吸着剤として、ゼオライトや活性炭、シリカゲル、メソポーラスシリカ等が挙げられる。酸素を除去する触媒を用いる場合には、遷移金属元素としてマンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、白金族元素としてパラジウム、ロジウム、ルテニウム、白金、それ以外のものとして金属間化合物や複合金属酸化物(例えば、ＬａＭｎＯ_３、ＬａＦｅＯ_３、ＮｉＭｎ_２Ｏ_４等)や、これらの混合物等を用いる。

ハニカム体にガス分離部材を担持する場合には、ガス分離部材の性質に応じて、適宜バインダーや製法を選定・調製し、例えばガス分離部材とバインダーを含むスラリー中にハニカム体を浸漬担持する。あるいは、ガス分離部材を混抄又は接着コートしたシートをコルゲートしてハニカム加工するようにしてもよく、ガス分離部材を含む粘土を型押ししてハニカム体を形成するようにしてもよい。

含浸法やコート法で作製されるハニカム体は、セラミック繊維紙やガラス繊維紙等の無機性及び／又は不燃性シート、金属シート、プラスチックシート、耐熱繊維不織布等のシートをコルゲート（波付け）加工し、ブロック状に積層または円柱（ロータ）状に巻付け加工したものである。ハニカム体の断面の形状は、段ボールの断面のような波形に限らず、三角形や台形、六角形等、ガスが通風するのに問題ない形状であれば特に問わない。ハニカム体は接触面積が広くても、圧力損失が低く、軽量でありながら強度が高いので、大型化が容易という特長がある。ハニカム体は吸着塔に充填するため、ハニカム断面にガスが通気するように、適宜ブロック状又は円柱状等の形状に加工する。

図３は本発明の酸素除去装置における吸着塔の高さを揃えたペレット充填層とハニカム体の圧力損失の比較を示すグラフである。ペレット充填層は、一定の面風速を超えるガス風量において圧力損失が急激に増加する。よって、ペレット充填層で大風量を処理するには、送風機等の出力を上げる等の工夫が必要となる。ペレット充填層で急激に圧力損失が立ち上がる面風速の領域では、ハニカム体の圧力損失は急激に立ち上がることなく、低い値を維持する。従って、ハニカム体は大風量の処理を可能とする能力を有することを示す。

吸着塔の高さを揃えたペレット充填層とハニカム体の圧力損失を比較すると、例えば面速１ｍ／ｓのハニカム体の圧力損失は、ペレット充填層の圧力損失の４分の１まで低減する。 例えば、このグラフに用いた触媒の場合、触媒担持ハニカム体は触媒ペレットの約３０％程度の触媒重量で作製することができ、触媒ペレットと同じ体積を有する触媒担持ハニカム体の酸素除去性能は、再生時に減圧等の水分の排出操作なしに、１００ｐｐｍの酸素を９９％以上除去できる性能を発揮する。

なお、図１及び図２のフローにおいて、ガス流路は処理操作及び再生操作のフローのみに限らず、パージ操作を含めるなど複数の流路から構成されるようにしてもよい。処理温度や再生温度に応じてガスを冷却又は加熱したり、ハニカム体又は吸着塔自体、流路全体を冷却又は加熱するようにしてもよい。また、バルブについては、これに限定されるものではなく、ダンパやＶＡＶ（Ｖａｒｉａｂｌｅ Ａｉｒ Ｖｏｌｕｍｅ）等の風量調整装置を用いてもよい。

ハニカム体を単に吸着塔に充填するのではなく、図４及び図５に示すように、ハニカムロータとして、少なくとも処理ゾーン２３及び再生ゾーン２４を有し、処理ゾーン２３には処理ガス２を通風することにより処理ガス中の酸素又は窒素を除去し、再生ゾーン２４には加熱した再生ガス１を通風する及び／又はハニカム体としてのハニカムロータを加熱することにより、ハニカム体を再生するようにしてもよい。

ハニカムロータの形態として、図４（Ａ）のようにハニカム体を円柱（ロータ）状に巻付けて作製して円盤型ロータ２２とするか、図４（Ｂ）のように扇形のブロック２５として組み立てて円盤型ロータ２２とし、周方向に直交する方向にガスを通気する。あるいは、図５のようにハニカム体を扇形のブロック２５にして、円柱状の枠にセットして円筒型ロータ２６に組み立て、外周方向から内周方向へガスを通気するようにしてもよい。いずれにしても、少なくとも処理ゾーン２３と再生ゾーン２４に分割シールした装置内にハニカムロータを設置し、連続回転させる。これにより、連続的に酸素除去が可能となる。なお、必要に応じて、パージゾーン等その他のゾーンを設けるようにしてもよい。

以下、本発明の酸素除去装置の実施例１について図６に沿って説明する。実施例１では、特許文献４や特許文献５のように、ブース内を低露点の不活性ガス環境で清浄に保つ必要のある、ディスプレイや電池製造のドライルームを想定した。製造装置のメンテナンスや調整等を行った後、大気環境から低露点の不活性ガス環境にする場合に、まず比較的大量の窒素を供給してブース２１内の大気を窒素に置換する窒素置換運転を行い、ブース内の酸素濃度が例えば１００ｐｐｍとなった場合に、本発明の酸素除去装置による酸素除去運転を開始する。

図６のフロー図は、基本的に図１に示されたものと同じであるが、ブース２１を含む閉鎖系流路を組んでおり、図１におけるハニカム体通過ガス４は給気ＳＡとしてブース２１に供給され、処理ガス２にはブース２１からの還気ＲＡが用いられる。図６に示すグラフは、このフローにおける処理（酸素除去）操作時のブース２１内の酸素濃度の変化を示すグラフである。このグラフによれば、ブース２１内のガスをＲＡ、すなわち処理ガスとして触媒を担持したハニカム体７又は／及び８に通過させるように通過流路を切り替えることで、大風量（ブース２１容積は４３ｍ^３であった）の１００ｐｐｍの酸素を９９％以上除去できる性能を有することを示した。

実施例１では、金属触媒に銅が含まれている触媒をバインダーにより担持したハニカム体を用いた。次式のように、実施例１における処理操作では、銅が酸素と反応して酸化し、酸化銅となることにより酸素が除去される。
２Ｃｕ＋Ｏ_２→２ＣｕＯ
一方、再生操作においては、再生（還元）ガス１として水素をハニカム体に流通して触媒を還元した。この場合、次式のように、酸化銅が水素と反応して還元され、水分が排出される。なお、この水分は触媒ペレット充填層を用いる場合は、高い圧力損失が由来して、触媒ペレットの再生運転時に生じる水分の排出に時間を要するので、真空ポンプ等で水分の排出を促す機構を設ける必要がある。しかし、本発明では、ハニカム体を用いることで、圧力損失が大幅に低減するので、水分の排出を促す減圧等の操作が不要で、再生ガスを流すだけで発生した水分の排出が可能となるため、システム全体の部品や部材を低減することができる。
２ＣｕＯ＋Ｈ_２→２Ｃｕ＋Ｈ_２Ｏ

実施例１ではブース内の酸素濃度が１００ｐｐｍと極めて低濃度となったときに、ハニカム体による酸素除去を開始したが、これに限るものではなく、ハニカム体に担持する触媒や吸着剤によって、例えば空気中の２１％の酸素を除去するようにしてもよく、他の濃度であってもよい。

以上のように、本発明の酸素除去装置は、窒素精製機（不活性ガス精製装置）として除湿機（低露点ガス供給装置）と組み合わせることで、除湿装置特許文献５に記載の除湿機と精製機の一体型でも、特許文献４に記載の除湿機と精製機の分離型でも、どちらのパターンにも適用できる。担持した触媒や吸着剤の特性に合わせて、様々な酸素濃度を含むガスから酸素を除去することができ、窒素吸着剤を用いれば、空気中や窒素及び酸素を含むガスから、窒素を除去することで、酸素を分離することも可能である。

本発明はハニカム体を用いており、従来のペレット充填層に比べて圧力損失を低減でき、少ない触媒又は吸着剤量で、高性能な酸素除去を可能とする。よって、ペレット充填層で課題であった大風量のガスの酸素除去処理が連続的に可能となる。

ディスプレイや電池産業の拡大に伴い、それらの製造に必要な無酸素空間の大容量化が求められている。 酸素が共存する空間でディスプレイや電池を製造すると、材料表面に酸化物を形成してしまい、本来のポテンシャルを発揮することができない。従来、グローブボックス等人間の手が届く範囲での作業しか行えなかった作業が大規模生産まで至った背景にはロボット産業の発展が一翼を担っている。無酸素空間で製造された製品は、最終的には大気開放して使用されるため、無酸素空間と大気開放の切り替え時間が製造速度を大きく左右する。大風量の窒素精製又は酸素除去を可能とする本発明の酸素除去装置は、短時間での無酸素空間の生成に資する。

また、種々の酸素濃度を含有するガスに対応しているので、例えば、空気を原料とし、外気よりも酸素濃度が低い低酸素空気を生成し、この低酸素空気を例えば模擬的な高地トレーニングを行うことができるトレーニング装置等に用いることもできる。

１ 再生ガス
２ 処理ガス
３ 排気
４ ハニカム体通過ガス
５、６ 吸着塔
７、８ ハニカム体
９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０ バルブ
２１ ブース
２２ ハニカムロータ
２３ 処理ゾーン
２４ 再生ゾーン
２５、２６ ブロック

Claims (6)

1. 処理ガス中の酸素又は窒素を分離可能なガス分離部材を担持したハニカム体。
2. 前記ガス分離部材は、酸素を吸着する吸着剤、酸素を除去する触媒、窒素を吸着する吸着剤の少なくとも一つからなる請求項１に記載のハニカム体。
3. 前記ハニカム体は円柱状またはブロック状であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のハニカム体。
4. 請求項１又は請求項２に記載のハニカム体を吸着塔に充填し、処理ガスを前記ハニカム体に通風することにより前記処理ガス中の酸素又は窒素を除去し、再生ガスを通風することにより、前記ハニカム体を再生し、前記吸着塔は少なくとも一つからなることを特徴とする酸素除去装置。
5. 請求項４に記載の酸素除去装置において、前記再生ガス及び／又は前記ハニカム体を加熱することにより、前記ハニカム体を再生することを特徴とする除去装置。
6. 請求項１又は請求項２に記載のハニカム体はハニカムロータであって、少なくとも処理ゾーン及び再生ゾーンを有し、処理ゾーンには処理ガスを通風することにより前記処理ガス中の酸素又は窒素を除去し、再生ゾーンには加熱した再生ガスを通風する及び／又は前記ハニカムロータを加熱することにより、前記ハニカム体を再生することを特徴とする酸素除去装置。

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