JP2023136302A - ３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法 - Google Patents
３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023136302A JP2023136302A JP2022041840A JP2022041840A JP2023136302A JP 2023136302 A JP2023136302 A JP 2023136302A JP 2022041840 A JP2022041840 A JP 2022041840A JP 2022041840 A JP2022041840 A JP 2022041840A JP 2023136302 A JP2023136302 A JP 2023136302A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- isothiazole
- aminobenzo
- reaction
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 21
- WIJQCPIRWXSWQG-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzothiazol-3-amine Chemical class C1=CC=C2C(N)=NSC2=C1 WIJQCPIRWXSWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 27
- -1 3-aminobenzo[c]isothiazole-5-sulfonamide derivative Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 21
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 72
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 16
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 15
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims description 14
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 claims description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzothiazole Chemical class C1=CC=C2C=NSC2=C1 CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 2
- JSKJAICVFPRVHJ-UHFFFAOYSA-N 2,1-benzothiazol-3-amine Chemical compound C1=CC=CC2=C(N)SN=C21 JSKJAICVFPRVHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 95
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 50
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 32
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 7
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- ZPANXIHYBLDJNI-UHFFFAOYSA-N 3-amino-1,2-benzothiazole-5-sulfonic acid Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(N)=NSC2=C1 ZPANXIHYBLDJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011549 crystallization solution Substances 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HLCPWBZNUKCSBN-UHFFFAOYSA-N 2-aminobenzonitrile Chemical compound NC1=CC=CC=C1C#N HLCPWBZNUKCSBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005849 sulfamoylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
Abstract
【課題】新規化合物である３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体及びその製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体及びその製造方法。下記一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。JPEG2023136302000017.jpg3057【選択図】なし
Description
本開示は、３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法に関する。
３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体は種々の用途に使用される。例えば、３－アミノベンゾイソチアゾール－５－スルホン酸が市販されており、医薬品、試薬等の中間体として有用とされている。３－アミノベンゾイソチアゾール－５－スルホン酸は、２－アミノベンゾニトリル（ＯＡＢＮ）にスルホン酸基を導入し、硫化水素ガスの存在下、過酸化水素を作用させて得られる。しかしながら、３－アミノベンゾイソチアゾール－５－スルホン酸の水酸基を直接アミノ化する方法及びアミノ化された化合物は知られていない。
本発明者らの検討によれば、３－アミノベンゾイソチアゾール－５－スルホン酸におけるベンゾイソチアゾールの５位に存在するスルホン酸基部分がハロゲン化された３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体、及び上記クロルスルホニル基がスルファモイル化された３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体はいずれも新規化合物である。
本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、新規な３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体を提供することである。
本開示の別の実施形態が解決しようとする課題は、新規な３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体の製造方法を提供することである。
本開示の別の実施形態が解決しようとする課題は、新規な３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体の製造方法を提供することである。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体。
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
＜２＞ 下記一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体。
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
＜３＞ 下記一般式（１）で表されるベンゾイソチアゾール誘導体と、ハロゲン化スルホン酸を含む反応溶媒とを反応させて、下記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を得る工程を含み、上記反応溶媒全量に対するハロゲン化スルホン酸以外の溶媒の含有量が１質量％未満である、下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
一般式（２－２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表し、Ｒ４はハロゲン原子を表す。
一般式（２－２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表し、Ｒ４はハロゲン原子を表す。
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
＜４＞ 上記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を単離することなく、アンモニアを含む反応溶媒と反応させ、上記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体を得る工程をさらに含む、＜３＞に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
＜５＞ 上記アンモニアを含む反応溶媒は、アンモニア水、又は、アンモニア水とテトラヒドロフランとの混合溶媒である、＜４＞に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
＜５＞ 上記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体と、アンモニアを含む反応溶媒との反応は、－１０℃～５℃の温度条件下で行われる、＜３＞又は＜４＞に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
＜５＞ 上記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体と、アンモニアを含む反応溶媒との反応は、－１０℃～５℃の温度条件下で行われる、＜３＞又は＜４＞に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
本発明の一実施形態によれば、新規な３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体を提供することができる。
本開示の別の実施形態によれば、新規な３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体の製造方法を提供することができる。
本開示の別の実施形態によれば、新規な３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体の製造方法を提供することができる。
以下、本開示の内容について説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明は以下の実施態様に限定されない。
本開示において「～」を用いて記載した数値範囲は、「～」の前後の数値を下限値及び上限値として含む数値範囲を表す。
本開示において記載される各成分の量は、当該成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、当該複数の物質の合計量を意味する。
本開示において段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合がある。
本開示において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明は以下の実施態様に限定されない。
本開示において「～」を用いて記載した数値範囲は、「～」の前後の数値を下限値及び上限値として含む数値範囲を表す。
本開示において記載される各成分の量は、当該成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、当該複数の物質の合計量を意味する。
本開示において段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合がある。
本開示において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
＜一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体＞
下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体（以下、「一般式（３）で表される化合物」とも称する）は新規化合物である。
下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体（以下、「一般式（３）で表される化合物」とも称する）は新規化合物である。
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、tert－ブチル基が挙げられ、なかでも、メチル基又はエチル基が好ましく挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等が挙げられ、Ｃｌ又はＦが好ましく挙げられる。
ハロアルキル基としては、上記アルキル基の水素原子の少なくとも１つがハロゲン原子に置換された基が挙げられ、－ＣＦ３が好ましく挙げられる。
炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、tert－ブチル基が挙げられ、なかでも、メチル基又はエチル基が好ましく挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等が挙げられ、Ｃｌ又はＦが好ましく挙げられる。
ハロアルキル基としては、上記アルキル基の水素原子の少なくとも１つがハロゲン原子に置換された基が挙げられ、－ＣＦ３が好ましく挙げられる。
以下に、一般式（３）で表される化合物の具体例である例示化合物－１～例示化合物－９について、一般式（３）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３を明示することで開示するが、一般式（３）で表される化合物は、下記例示化合物に限定されない。
上記例示化合物のなかでも、合成適性の観点からは、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の全てが水素原子である例示化合物－１が好ましく挙げられる。
＜一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体＞
下記一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体（以下、「一般式（２）で表される化合物」とも称する）は新規化合物である。
下記一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体（以下、「一般式（２）で表される化合物」とも称する）は新規化合物である。
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、tert－ブチル基が挙げられ、なかでも、メチル基又はエチル基が好ましく挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等が挙げられ、Ｃｌ又はＦが好ましく挙げられる。
ハロアルキル基としては、上記アルキル基の水素原子の少なくとも１つがハロゲン原子に置換された基が挙げられ、－ＣＦ３が好ましく挙げられる。
炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉ－ブチル基、tert－ブチル基が挙げられ、なかでも、メチル基又はエチル基が好ましく挙げられる。
ハロゲン原子としては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等が挙げられ、Ｃｌ又はＦが好ましく挙げられる。
ハロアルキル基としては、上記アルキル基の水素原子の少なくとも１つがハロゲン原子に置換された基が挙げられ、－ＣＦ３が好ましく挙げられる。
一般式（２）で表される化合物としては、合成適性の観点からは、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３の全てが水素原子である化合物が好ましく挙げられる。
一般式（２）で表される化合物は、上記一般式（３）で表される化合物を合成する際の中間体として有用であり、一般式（２）におけるクロルスルホニル基のＣｌをアミノ基に置換することで、一般式（３）で表される化合物が得られる。
＜一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法＞
上記一般式（３）で表される化合物の製造方法には特に制限はなく、公知の合成方法により製造できる。
なかでも、収率がより高いという観点からは、以下に示す一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法（以下、「本開示の製造方法」とも称する）により製造されることが好ましい。
上記一般式（３）で表される化合物の製造方法には特に制限はなく、公知の合成方法により製造できる。
なかでも、収率がより高いという観点からは、以下に示す一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法（以下、「本開示の製造方法」とも称する）により製造されることが好ましい。
本開示の製造方法は、下記一般式（１）で表されるベンゾイソチアゾール誘導体〔以下、「一般式（１）で表される化合物」とも称する）と、ハロゲン化スルホン酸を含む反応溶媒とを反応させて、下記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を得る工程（Ｉ）を含み、上記反応溶媒全量に対するハロゲン化スルホン酸以外の溶媒の含有量が１質量％未満である。
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３は、既述の一般式（２）で表される化合物におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３と同じであり、好ましい例も同様である。
一般式（２－２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表し、Ｒ４はハロゲン原子を表す。
一般式（２－２）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３は、既述の一般式（２）で表される化合物におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３と同じであり、好ましい例も同様である。
一般式（２－２）におけるＲ４は、ハロゲン原子を表し、ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒが挙げられ、反応性の観点からは、Ｃｌが好ましい。
一般式（２－２）におけるＲ４がＣｌである化合物が、既述の本開示の一般式（２）で表される化合物である。
一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３は、既述の一般式（２）で表される化合物におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３と同じであり、好ましい例も同様である。
一般式（２－２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表し、Ｒ４はハロゲン原子を表す。
一般式（２－２）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３は、既述の一般式（２）で表される化合物におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３と同じであり、好ましい例も同様である。
一般式（２－２）におけるＲ４は、ハロゲン原子を表し、ハロゲン原子としては、Ｃｌ、Ｂｒが挙げられ、反応性の観点からは、Ｃｌが好ましい。
一般式（２－２）におけるＲ４がＣｌである化合物が、既述の本開示の一般式（２）で表される化合物である。
〔工程Ｉ〕
工程Ｉにおける上記反応では、一般式（１）で表される化合物にハロゲン化スルホン酸基を導入する際には、ハロゲン化スルホン酸（ＨＳＯ３Ａ、Ａはハロゲン原子を表す）を含む反応溶媒を用いる。
ハロゲン化スルホン酸としては、クロルスルホン酸（ＨＳＯ３Ｃｌ）、ブロムスルホン酸（ＨＳＯ３Ｂｒ）等が挙げられ、より高い収率を期待できるという観点からは、クロルスルホン酸が好ましい。
クロルスルホン酸は液状であり、反応溶媒として用いることで、上記スキームの良好な反応性が得られる。従って、工程Ｉにおける反応溶媒は、クロルスルホン酸のみでよく、クロルスルホン酸以外の溶媒の併用は特に必要はない。併用し得る溶媒としては、ハロゲン系有機溶剤が挙げられる。反応溶媒全量に対するハロゲン化スルホン酸以外の溶媒の含有量は１質量％未満であることが、反応性及び副反応の抑制の観点から好ましく、不可避不純物としての溶媒を除き、ハロゲン化スルホン酸のみを反応溶媒として用いることがより好ましい。
なお、クロルスルホン酸は、水と接触すると激しく反応するため、反応溶媒に水を混入させないことが好ましい。
工程Ｉにおける上記反応では、一般式（１）で表される化合物にハロゲン化スルホン酸基を導入する際には、ハロゲン化スルホン酸（ＨＳＯ３Ａ、Ａはハロゲン原子を表す）を含む反応溶媒を用いる。
ハロゲン化スルホン酸としては、クロルスルホン酸（ＨＳＯ３Ｃｌ）、ブロムスルホン酸（ＨＳＯ３Ｂｒ）等が挙げられ、より高い収率を期待できるという観点からは、クロルスルホン酸が好ましい。
クロルスルホン酸は液状であり、反応溶媒として用いることで、上記スキームの良好な反応性が得られる。従って、工程Ｉにおける反応溶媒は、クロルスルホン酸のみでよく、クロルスルホン酸以外の溶媒の併用は特に必要はない。併用し得る溶媒としては、ハロゲン系有機溶剤が挙げられる。反応溶媒全量に対するハロゲン化スルホン酸以外の溶媒の含有量は１質量％未満であることが、反応性及び副反応の抑制の観点から好ましく、不可避不純物としての溶媒を除き、ハロゲン化スルホン酸のみを反応溶媒として用いることがより好ましい。
なお、クロルスルホン酸は、水と接触すると激しく反応するため、反応溶媒に水を混入させないことが好ましい。
反応溶媒としてハロゲン化スルホン酸と一般式（１）で表される化合物とを反応させる工程Ｉの具体的な手順の一例を以下に記載する。
一般式（１）で表される化合物とハロゲン化スルホン酸との反応は、発熱反応であるため、反応容器内にハロゲン化スルホン酸を投入し、氷冷下で撹拌しながら、一般式（１）で表される化合物を添加する。
分割添加の速度は、８ｇ／ｍｉｎ～１０ｇ／ｍｉｎとすることができる。
反応は、反応容器内の液の温度（以下、液温とも称する）を２０℃以下に維持しながら継続することが好ましい。反応容器内の温度は、０℃～２０℃に維持することが好ましく、５℃～２０℃に維持することがより好ましい。
一般式（１）で表される化合物を全量添加するまで、撹拌及び反応容器内の液温を上記温度に維持することを継続する。
一般式（１）で表される化合物に対する反応溶媒としてのハロゲン化スルホン酸の使用量は、質量換算で、一般式（１）で表される化合物：ハロゲン化スルホン酸の比率を１：６～１：６．５とすることができる。
一般式（１）で表される化合物とハロゲン化スルホン酸との反応は、発熱反応であるため、反応容器内にハロゲン化スルホン酸を投入し、氷冷下で撹拌しながら、一般式（１）で表される化合物を添加する。
分割添加の速度は、８ｇ／ｍｉｎ～１０ｇ／ｍｉｎとすることができる。
反応は、反応容器内の液の温度（以下、液温とも称する）を２０℃以下に維持しながら継続することが好ましい。反応容器内の温度は、０℃～２０℃に維持することが好ましく、５℃～２０℃に維持することがより好ましい。
一般式（１）で表される化合物を全量添加するまで、撹拌及び反応容器内の液温を上記温度に維持することを継続する。
一般式（１）で表される化合物に対する反応溶媒としてのハロゲン化スルホン酸の使用量は、質量換算で、一般式（１）で表される化合物：ハロゲン化スルホン酸の比率を１：６～１：６．５とすることができる。
一般式（１）で表される化合物を全量添加した後、反応容器内の温度を３０℃～４５℃、好ましくは３５℃～４０℃に昇温し、反応を継続することが好ましい。反応は、１時間～２時間継続することが好ましく、１時間～１．５時間継続することがより好ましい。
反応終了後、反応容器内の液温を１０℃～２０℃に冷却することが好ましく、１２℃～１５℃に冷却することがより好ましい。
別工程として、氷の中に食塩、濃塩酸、及びアセトンを適量添加して晶析液を調製することが好ましい。
得られた晶析液を満たした反応容器内の液温を－１０℃～－２℃に冷却して撹拌を継続しながら、先に得た反応液の液温を１０℃以下に維持しながら滴下することが好ましい。滴下速度は、２０ｇ／ｍｉｎ～３０ｇ／ｍｉｎとすることができる。
滴下終了後、反応容器内の液温を０℃～１２℃に維持して所定時間撹拌を行うことが好ましい。撹拌時間は、１５分間～４５分間とすることができる。
反応終了後、反応容器内の液温を１０℃～２０℃に冷却することが好ましく、１２℃～１５℃に冷却することがより好ましい。
別工程として、氷の中に食塩、濃塩酸、及びアセトンを適量添加して晶析液を調製することが好ましい。
得られた晶析液を満たした反応容器内の液温を－１０℃～－２℃に冷却して撹拌を継続しながら、先に得た反応液の液温を１０℃以下に維持しながら滴下することが好ましい。滴下速度は、２０ｇ／ｍｉｎ～３０ｇ／ｍｉｎとすることができる。
滴下終了後、反応容器内の液温を０℃～１２℃に維持して所定時間撹拌を行うことが好ましい。撹拌時間は、１５分間～４５分間とすることができる。
撹拌継続後、吸引ろ過を行って、一般式（２－２）で表される化合物を含む反応液から、残余の反応溶媒を除去する。反応溶媒等を吸引ろ過して除去した後に得られた固形分は、一般式（２）で表される化合物を含む。得られた一般式（２－２）で表される化合物を含む固形分は、単離、及び、乾燥することなく、後述の一般式（３）で示される化合物の合成に使用することができる。
工程Ｉにより得られた一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体、好ましくは、一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体は、不安定な化合物であるため、次工程である工程ＩＩにおいては、一般式（２－２）で表される化合物は、工程Ｉの反応終了後、ハロゲン化スルホン酸を含む反応溶媒をろ過により除去した後、得られた化合物を、単離、及び、乾燥することなく、反応溶媒と分離された固形分をそのまま工程ＩＩのスルファモイル化反応に供することが好ましい。
工程Ｉにより得られた一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体、好ましくは、一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体は、不安定な化合物であるため、次工程である工程ＩＩにおいては、一般式（２－２）で表される化合物は、工程Ｉの反応終了後、ハロゲン化スルホン酸を含む反応溶媒をろ過により除去した後、得られた化合物を、単離、及び、乾燥することなく、反応溶媒と分離された固形分をそのまま工程ＩＩのスルファモイル化反応に供することが好ましい。
〔工程ＩＩ〕
本開示の製造方法は、工程Ｉの次工程として、一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を単離することなく、アンモニアを含む反応溶媒と反応させ、既述の一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体を得る工程ＩＩをさらに含むことが好ましい。
工程Ｉにより得られた一般式（２－２）で表される化合物に導入されたハロゲン化スルホニル基のハロゲン原子をアミノ化することにより、一般式（３）で表される化合物を得る。
本開示の製造方法は、工程Ｉの次工程として、一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を単離することなく、アンモニアを含む反応溶媒と反応させ、既述の一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体を得る工程ＩＩをさらに含むことが好ましい。
工程Ｉにより得られた一般式（２－２）で表される化合物に導入されたハロゲン化スルホニル基のハロゲン原子をアミノ化することにより、一般式（３）で表される化合物を得る。
工程ＩＩでは、一般式（２－２）で表される化合物とアンモニアを含む反応溶媒との反応により、一般式（２－２）で表される化合物のハロゲン化スルホニル基におけるハロゲン原子部分がアミノ化され、一般式（３）で表される化合物が得られる。
アンモニアを含む反応溶媒としては、アンモニア水、アンモニア水と有機溶剤との混合溶媒が挙げられる。
反応溶媒としてのアンモニア水は、濃度が１５質量％～５０質量％が好ましく、２０質量％～３０質量％がより好ましい。
混合溶媒に用いられる有機溶剤としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、イソプロピルアルコール等が挙げられる。
混合溶媒は、アンモニア水と有機溶媒との混合比率を、体積換算で０．５：１．５～１：１．３の範囲とすることができる。
工程ＩＩにおける反応溶媒としては、アンモニア水、又は、アンモニア水とテトラヒドロフランとの混合溶媒が好ましい。
また、アンモニアの有機溶剤溶液（例えば、アンモニアの２－プロピルアルコール溶液等）を反応溶媒として用いてもよい。
アンモニアを含む反応溶媒としては、アンモニア水、アンモニア水と有機溶剤との混合溶媒が挙げられる。
反応溶媒としてのアンモニア水は、濃度が１５質量％～５０質量％が好ましく、２０質量％～３０質量％がより好ましい。
混合溶媒に用いられる有機溶剤としては、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、イソプロピルアルコール等が挙げられる。
混合溶媒は、アンモニア水と有機溶媒との混合比率を、体積換算で０．５：１．５～１：１．３の範囲とすることができる。
工程ＩＩにおける反応溶媒としては、アンモニア水、又は、アンモニア水とテトラヒドロフランとの混合溶媒が好ましい。
また、アンモニアの有機溶剤溶液（例えば、アンモニアの２－プロピルアルコール溶液等）を反応溶媒として用いてもよい。
まず、反応溶媒を反応容器内に投入し、反応容器内の液温を－１０℃～５℃に維持しながら、撹拌を継続し、工程Ｉで得た一般式（２－２）で表される化合物を含む固形分の全量を添加する。
即ち、一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体と、アンモニアを含む反応溶媒との反応は、－１０℃～５℃の温度条件下で行われることが好ましい。
工程ＩＩにおける、反応溶媒に含まれるアンモニアと一般式（２－２）で表される化合物との反応は、発熱反応であるため、反応容器内の温度を、例えば、予め０℃以下に冷却し、反応を開始させることが好ましい。
反応容器内の温度は－１０℃～５℃とすることが好ましく、０℃～５℃に維持することがより好ましい。反応は、１５分間～６０分間撹拌を継続して行うことが好ましい。
その後、反応容器内の液温を１５℃～３０℃にて、５０分間～９０分間撹拌を継続することが好ましい。
次いで、反応系のｐＨを、ｐＨ７～８に下げるため、濃塩酸を、容器内の液温を２０℃以下、好ましくは、１０℃～２０℃に保持して滴下し、その後、水を容器内の温度を２０℃以下に維持しながら滴下する。水の滴下後、反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温し、さらに２時間撹拌する。
水の添加量は、濃塩酸の添加量に対し、体積換算で５倍量以上添加することが好ましく、６倍以上添加することがより好ましい。水の添加量には、特に制限はないが、体積換算で、６．５倍以下とすることができる。
その後、吸引ろ過を行い、一般式（３）で表される化合物を分取する。分取した固形物は、水にて洗浄を行って、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶を得ることができる。
即ち、一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体と、アンモニアを含む反応溶媒との反応は、－１０℃～５℃の温度条件下で行われることが好ましい。
工程ＩＩにおける、反応溶媒に含まれるアンモニアと一般式（２－２）で表される化合物との反応は、発熱反応であるため、反応容器内の温度を、例えば、予め０℃以下に冷却し、反応を開始させることが好ましい。
反応容器内の温度は－１０℃～５℃とすることが好ましく、０℃～５℃に維持することがより好ましい。反応は、１５分間～６０分間撹拌を継続して行うことが好ましい。
その後、反応容器内の液温を１５℃～３０℃にて、５０分間～９０分間撹拌を継続することが好ましい。
次いで、反応系のｐＨを、ｐＨ７～８に下げるため、濃塩酸を、容器内の液温を２０℃以下、好ましくは、１０℃～２０℃に保持して滴下し、その後、水を容器内の温度を２０℃以下に維持しながら滴下する。水の滴下後、反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温し、さらに２時間撹拌する。
水の添加量は、濃塩酸の添加量に対し、体積換算で５倍量以上添加することが好ましく、６倍以上添加することがより好ましい。水の添加量には、特に制限はないが、体積換算で、６．５倍以下とすることができる。
その後、吸引ろ過を行い、一般式（３）で表される化合物を分取する。分取した固形物は、水にて洗浄を行って、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶を得ることができる。
一般式（３）で表される化合物の存在は、ＮＭＲ等で確認することができる。
なお、一般式（２）で表される化合物は、単離されてはいないが、下記反応スキームより、一般式（３）で示される化合物の中間体であり、下記構造を有することは明らかであり、一般式（２）で表される化合物が新規化合物であることは確認されている。下記一般式（３）及び一般式（２）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３は既述のとおりである。
なお、一般式（２）で表される化合物は、単離されてはいないが、下記反応スキームより、一般式（３）で示される化合物の中間体であり、下記構造を有することは明らかであり、一般式（２）で表される化合物が新規化合物であることは確認されている。下記一般式（３）及び一般式（２）におけるＲ１、Ｒ２、及びＲ３は既述のとおりである。
本開示の一般式（３）で表される化合物、及び一般式（２）で表される化合物は、公知の化合物である３－アミノベンゾイソチアゾール－５－スルホン酸と同様に、種々の用途に好適に使用することができる。
また、本開示の製造方法によれば、一般式（３）で表される化合物を収率よく製造することができる。
また、本開示の製造方法によれば、一般式（３）で表される化合物を収率よく製造することができる。
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本開示の実施形態の範囲は以下に示す具体例に限定されない。
〔実施例１〕
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
クロルスルホン酸５０２．７gを反応容器内に投入し、氷冷下、撹拌を継続しながら、一般式（１）で表される化合物であって、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のいずれもが水素原子である下記化合物Ａ ８１．０gを、反応容器内の液温を２０℃以下に維持しながら、分割添加した。
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
クロルスルホン酸５０２．７gを反応容器内に投入し、氷冷下、撹拌を継続しながら、一般式（１）で表される化合物であって、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３のいずれもが水素原子である下記化合物Ａ ８１．０gを、反応容器内の液温を２０℃以下に維持しながら、分割添加した。
その後、反応容器内の液温を４０℃に上げて１時間半、撹拌を継続しながら反応を行った。反応終了後、反応容器内の液温を１５℃に冷却して、反応液を得た。
氷１３２０ｇの中に食塩８０ｇ、濃塩酸１６０ｍＬ（ミリリットル）、アセトン４０ｍＬを添加して、晶析液を調製した。得られた晶析液を別の反応容器に投入し、反応容器内の液温を－５℃として撹拌を継続しながら、先に得た反応液を、晶析液中に滴下した。
晶析液が投入された反応容器内の液温を１０℃以下維持して、３０分間撹拌を行った。撹拌終了後、析出した固形分を、吸引ろ過して、反応溶媒を除去し、固形分を分取した。濾過した一般式（２）で表される化合物である下記化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
晶析液が投入された反応容器内の液温を１０℃以下維持して、３０分間撹拌を行った。撹拌終了後、析出した固形分を、吸引ろ過して、反応溶媒を除去し、固形分を分取した。濾過した一般式（２）で表される化合物である下記化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（３）で表される化合物の合成：工程ＩＩ＞
反応容器内にアセトニトリル２００ｍＬを投入し、さらに２５質量％アンモニア水１７０ｍＬを添加した後、反応容器内の液温を０℃～５℃として撹拌を行って混合溶媒を得た。上記工程Ｉで得た化合物Ｂを含む固形分の全量を、反応容器内に、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら３０分間撹拌し、その後、反応容器内の液温を２０℃に昇温して、さらに１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物である下記例示化合物－１の黄色結晶を８７．８ｇ得た。
反応率は７７％であり、収率は７１％であつた。
反応容器内にアセトニトリル２００ｍＬを投入し、さらに２５質量％アンモニア水１７０ｍＬを添加した後、反応容器内の液温を０℃～５℃として撹拌を行って混合溶媒を得た。上記工程Ｉで得た化合物Ｂを含む固形分の全量を、反応容器内に、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら３０分間撹拌し、その後、反応容器内の液温を２０℃に昇温して、さらに１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物である下記例示化合物－１の黄色結晶を８７．８ｇ得た。
反応率は７７％であり、収率は７１％であつた。
＜例示化合物－１の確認＞
得られた黄色結晶の核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）により得たスペクトル：１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ：８．３７（ｓ，２Ｈ）、８．２５（ｓ，２Ｈ）、７．５４－７．５９（ｄ，２Ｈ）、７．３２－７．３７（ｄ，２Ｈ）、７．２４（ｓ，２Ｈ）
ＮＭＲスペクトルにより、得られた化合物は、３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミドの構造を有することを確認した。
得られた黄色結晶の核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）により得たスペクトル：１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６）δ：８．３７（ｓ，２Ｈ）、８．２５（ｓ，２Ｈ）、７．５４－７．５９（ｄ，２Ｈ）、７．３２－７．３７（ｄ，２Ｈ）、７．２４（ｓ，２Ｈ）
ＮＭＲスペクトルにより、得られた化合物は、３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミドの構造を有することを確認した。
〔実施例２〕
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
実施例１の工程Ｉと同様にして、一般式（２）で表される化合物である上記化合物Ｂを含む固形分を得た。化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
実施例１の工程Ｉと同様にして、一般式（２）で表される化合物である上記化合物Ｂを含む固形分を得た。化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（３）で表される化合物の合成：工程ＩＩ＞
アンモニアを２ｍｏｌ／Ｌ含む２－プロパノール溶液１１３０ｍＬを、反応容器内に投入し、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら撹拌を行い、上記で得た化合物Ｂを含む固形分の全量を、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。液温を０℃～５℃として、３０分間撹拌を行い、その後、液温を２０℃に昇温して１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶を６１．８ｇ得た。
反応率は７６％であり、収率は５０％であった。
実施例１と同様の条件にてＮＭＲスペクトルを得たところ、得られた化合物は、例示化合物－１の構造を有することを確認した。
アンモニアを２ｍｏｌ／Ｌ含む２－プロパノール溶液１１３０ｍＬを、反応容器内に投入し、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら撹拌を行い、上記で得た化合物Ｂを含む固形分の全量を、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。液温を０℃～５℃として、３０分間撹拌を行い、その後、液温を２０℃に昇温して１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶を６１．８ｇ得た。
反応率は７６％であり、収率は５０％であった。
実施例１と同様の条件にてＮＭＲスペクトルを得たところ、得られた化合物は、例示化合物－１の構造を有することを確認した。
〔実施例３〕
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
実施例１の工程Ｉと同様にして、一般式（２）で表される化合物である上記化合物Ｂを含む固形分を得た。化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
実施例１の工程Ｉと同様にして、一般式（２）で表される化合物である上記化合物Ｂを含む固形分を得た。化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（３）で表される化合物の合成：工程ＩＩ＞
イソプロピルアルコール２００ｍＬ中に２５質量％アンモニア水１７０ｍＬを反応容器内に投入し、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら撹拌を行い、上記で得た化合物Ｂを含む固形分の全量を、液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。液温を０℃～５℃として、３０分間撹拌を行い、その後、反応容器内の液温を２０℃に昇温して１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶を６８．０ｇ得た。
反応率は６７％であり、収率は５５％であった。
実施例１と同様の条件にてＮＭＲスペクトルを得たところ、得られた化合物は、例示化合物－１の構造を有することを確認した。
イソプロピルアルコール２００ｍＬ中に２５質量％アンモニア水１７０ｍＬを反応容器内に投入し、反応容器内の液温を０℃～５℃に維持しながら撹拌を行い、上記で得た化合物Ｂを含む固形分の全量を、液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。液温を０℃～５℃として、３０分間撹拌を行い、その後、反応容器内の液温を２０℃に昇温して１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶を６８．０ｇ得た。
反応率は６７％であり、収率は５５％であった。
実施例１と同様の条件にてＮＭＲスペクトルを得たところ、得られた化合物は、例示化合物－１の構造を有することを確認した。
〔実施例４〕
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
実施例１の工程Ｉと同様にして、一般式（２）で表される化合物である上記化合物Ｂを含む固形分を得た。化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（２）で表される化合物の合成：工程Ｉ＞
実施例１の工程Ｉと同様にして、一般式（２）で表される化合物である上記化合物Ｂを含む固形分を得た。化合物Ｂの結晶を含む固形分は乾燥することなく、以下の工程ＩＩにおいて、一般式（３）で表される化合物の合成に使用した。
＜一般式（３）で表される化合物の合成：工程ＩＩ＞
テトラヒドロフラン２００ｍＬに２５質量％アンモニア水１７０ｍＬを混合して得た混合溶媒を反応容器内に投入し、反応容器の液温を０℃～５℃に維持しながら撹拌を行い、上記で得た化合物Ｂの全量を、液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。液温を０℃～５℃として、３０分間撹拌を行い、その後、液温を２０℃に昇温して１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶９２．７ｇを得た。
反応率は８６％であり、収率は７５％であった。
実施例１と同様の条件にてＮＭＲスペクトルを得たところ、得られた化合物は、例示化合物－１の構造を有することを確認した。
テトラヒドロフラン２００ｍＬに２５質量％アンモニア水１７０ｍＬを混合して得た混合溶媒を反応容器内に投入し、反応容器の液温を０℃～５℃に維持しながら撹拌を行い、上記で得た化合物Ｂの全量を、液温を０℃～５℃に維持しながら添加した。液温を０℃～５℃として、３０分間撹拌を行い、その後、液温を２０℃に昇温して１時間撹拌を行った。
次いで、反応系のｐＨをｐＨ７～８に調整するため濃塩酸８０ｍＬを、反応容器内の液温を２０℃以下に保持して滴下し、その後、さらに、水５２０ｍＬを同温度で滴下した。
反応容器内の液温を２０℃に維持して３０分間撹拌した後、液温を５℃に降温して２時間撹拌した。撹拌終了後、吸引ろ過により固形分を分取し、水２４０ｍＬにて洗浄を行なって、一般式（３）で表される化合物の黄色結晶９２．７ｇを得た。
反応率は８６％であり、収率は７５％であった。
実施例１と同様の条件にてＮＭＲスペクトルを得たところ、得られた化合物は、例示化合物－１の構造を有することを確認した。
実施例１～実施例４に明らかな如く、各実施例の製造方法により、新規化合物である一般式（３）で表される化合物、及び、その中間体である一般式（２）で表される化合物を得ることができた。
また、各実施例の対比より、一般式（２）で示される化合物から一般式（３）で表される化合物を合成する工程ＩＩでは、アンモニア水とアセトニトリルとの混合溶媒を用いた実施例１、及び、アンモニア水とテトラヒドロフランとの混合溶媒を用いた実施例４は、収率がより良好であることが分かる。
また、各実施例の対比より、一般式（２）で示される化合物から一般式（３）で表される化合物を合成する工程ＩＩでは、アンモニア水とアセトニトリルとの混合溶媒を用いた実施例１、及び、アンモニア水とテトラヒドロフランとの混合溶媒を用いた実施例４は、収率がより良好であることが分かる。
Claims (6)
- 下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体。
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。 - 下記一般式（２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－クロルスルホニル誘導体。
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。 - 下記一般式（１）で表されるベンゾイソチアゾール誘導体と、ハロゲン化スルホン酸を含む反応溶媒とを反応させて、下記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を得る工程を含み、
前記反応溶媒全量に対するハロゲン化スルホン酸以外の溶媒の含有量が１質量％未満である、下記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。
一般式（２－２）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表し、Ｒ４はハロゲン原子を表す。
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１～４のアルキル基、ハロゲン原子、又は、ハロアルキル基を表す。 - 前記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体を単離することなく、アンモニアを含む反応溶媒と反応させ、前記一般式（３）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体を得る工程をさらに含む、請求項３に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
- 前記アンモニアを含む反応溶媒は、アンモニア水、又は、アンモニア水とテトラヒドロフランとの混合溶媒である、請求項４に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
- 前記一般式（２－２）で表される３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－ハロゲン化スルホニル誘導体と、アンモニアを含む反応溶媒との反応は、－１０℃～５℃の温度条件下で行われる、請求項３又は請求項４に記載の３－アミノベンゾ［ｃ］イソチアゾール－５－スルホンアミド誘導体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022041840A JP2023136302A (ja) | 2022-03-16 | 2022-03-16 | ３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法 |
| CN202310193965.6A CN116768817A (zh) | 2022-03-16 | 2023-03-02 | 3-氨基苯并异噻唑衍生物及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022041840A JP2023136302A (ja) | 2022-03-16 | 2022-03-16 | ３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023136302A true JP2023136302A (ja) | 2023-09-29 |
Family
ID=87984861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022041840A Pending JP2023136302A (ja) | 2022-03-16 | 2022-03-16 | ３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023136302A (ja) |
| CN (1) | CN116768817A (ja) |
-
2022
- 2022-03-16 JP JP2022041840A patent/JP2023136302A/ja active Pending
-
2023
- 2023-03-02 CN CN202310193965.6A patent/CN116768817A/zh active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN116768817A (zh) | 2023-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2724105C2 (ru) | Способ синтеза молекул, содержащих функциональную группу нитрилоксида | |
| PL210148B1 (pl) | Sposób wytwarzania sulfonamidu | |
| JPS60172984A (ja) | １，２，４−トリアゾロ〔１，５−ａ〕−ピリミジン−２−スルホニルクロライドの製造法 | |
| US6114541A (en) | Method for the preparation of α-Bromo-Lactam derivatives | |
| JP2023136302A (ja) | ３－アミノベンゾイソチアゾール誘導体及びその製造方法 | |
| WO2001036383A1 (en) | Process for the preparation of sulfamides | |
| US7102010B2 (en) | Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds | |
| US6545172B1 (en) | Processes for the production of methyl dithiocarbazinate | |
| JP2578797B2 (ja) | Ｎ−（スルホニルメチル）ホルムアミド類の製造法 | |
| JPS5838242A (ja) | Ｎ−置換メタクリルアミド及びアクリルアミドの製造方法 | |
| SU921466A3 (ru) | Способ получени 1,2,3-тиадиазол-5-ил-мочевин | |
| CA2218669C (en) | A process for reducing dithiocarbazinate buildup in the preparation of methyl dithiocarbazinate | |
| AU700620B2 (en) | Process for the preparation of 5-aryl-2,4-dialkyl-3 h-1,2,4-triazole-3-thiones | |
| US6589903B2 (en) | Method of synthesizing complexes of platinum and alkenylpolysiloxane, especially of platinum and divinyltetramethyldisiloxane | |
| EA010569B1 (ru) | Способ получения хирально чистой кристаллической модификации натеглинида | |
| JP4913589B2 (ja) | １，２−ベンズイソキサゾール−３−メタンスルホンアミドのワンポット製造法 | |
| CN107602483B (zh) | 色瑞替尼中间体及其制备方法 | |
| EP3609877B1 (en) | Process for the synthesis of firocoxib | |
| JPH0579672B2 (ja) | ||
| JPH09124605A (ja) | ３，４−ジヒドロカルボスチリルの製造方法 | |
| EP0131472A2 (en) | 5-Mercapto-1,2,3-thiadiazoles composition and process for preparing the same | |
| CN106432182B (zh) | 特地唑胺中间体的合成方法 | |
| JP4447741B2 (ja) | １−（チアゾリン−２−イル）アゼチジン誘導体の製造法 | |
| JP4278316B2 (ja) | ヒドラジン誘導体の製造方法 | |
| JP3266358B2 (ja) | アルキルスルホナート誘導体の製造方法 |