JP2023097826A - 検査装置、及び検査装置の調整方法 - Google Patents

Abstract

【課題】被検物を検査する検査装置の調整方法を提供する。【解決手段】検査装置は、配置台と、撮像ユニットと、制御部とを有する。配置台は、被検物が配置される。撮像ユニットは、レンズと撮像部とを有する。撮像部は、レンズを透過した光を受光する。撮像ユニットは、配置台に配置された対象物２００を撮像する。対象物２００は、第１被測定形状部２０１と、第２被測定形状部２０２とを有する。撮像ユニットの光軸方向Ｄｐにおいて、第１被測定形状部と第２被測定形状部とは、互いに異なる高さに配置される。制御部は、撮像ユニットによる第１被測定形状部の検出結果に基づいて第１位置Ｏ２０１を算出し、撮像ユニットによる第２被測定形状部の検出結果に基づいて第２位置Ｏ２０２を算出する。【選択図】図５

Description

本発明は、検査装置、及び検査装置の調整方法に関する。

従来、被検物が配置される配置台と、撮像ユニットとを備えた検査装置が知られている。このような検査装置として、例えば、部品の欠陥を検査する装置、及び、レンズ枠に対するレンズの心出しを行う装置（例えば、特許文献１参照）が知られている。特許文献１には、レンズ等を有する被検物が配置される配置台と、被検物を撮像する撮像ユニットとを備えた、レンズ心出し装置が記載されている。

特開２００８－２０９５３７号公報

しかしながら、特許文献１のレンズ心出し装置では、撮像ユニットの光軸が配置台に対して傾斜している場合、レンズの心出しを精度良く行うことが困難である。また、他の検査装置も同様であり、撮像ユニットの光軸が配置台に対して傾斜している場合、例えば、部品の欠陥を精度良く検出することが困難である。

本発明は、上記課題に鑑みてなされており、その目的は、撮像ユニットの光軸方向を適切に調整することが可能な検査装置、及び検査装置の調整方法を提供することである。

本発明のある観点からの例示的な検査装置は、被検物を検査する。検査装置は、配置台と、撮像ユニットと、制御部とを有する。前記配置台は、前記被検物が配置される。前記撮像ユニットは、レンズと撮像部とを有する。前記撮像部は、前記レンズを透過した光を受光する。前記撮像ユニットは、前記配置台に配置された対象物を撮像する。前記対象物は、第１被測定形状部と、第２被測定形状部とを有する。前記撮像ユニットの光軸方向において、前記第１被測定形状部と前記第２被測定形状部とは、互いに異なる高さに配置される。前記制御部は、前記撮像ユニットによる前記第１被測定形状部の検出結果に基づいて第１位置を算出し、前記撮像ユニットによる前記第２被測定形状部の検出結果に基づいて第２位置を算出する。

本発明の別の観点からの例示的な検査装置の調整方法は、被検物が配置される配置台と、レンズと前記レンズを透過した光を受光する撮像部とを有する撮像ユニットとを有する検査装置の調整方法である。前記調整方法は、前記配置台に配置された対象物を前記撮像ユニットによって撮像する工程を有する。前記対象物は、第１被測定形状部と、第２被測定形状部とを有する。前記撮像ユニットの光軸方向において、前記第１被測定形状部と前記第２被測定形状部とは、互いに異なる高さに配置される。前記調整方法は、前記撮像ユニットによる前記第１被測定形状部の検出結果に基づいて第１位置を算出する工程と、前記撮像ユニットによる前記第２被測定形状部の検出結果に基づいて第２位置を算出する工程と、前記第１位置及び前記第２位置に基づいて、前記撮像ユニットの光軸方向を調整する工程とを有する。

本発明のある例示的な観点によれば、撮像ユニットの光軸方向を適切に調整することが可能な検査装置、及び検査装置の調整方法を提供できる。

図１は、本発明の第１実施形態の検査装置の模式図である。 図２は、本発明の第１実施形態の検査装置の配置台の構造を示す斜視図である。 図３は、本発明の第１実施形態の検査装置の調整に用いる治具の構造を示す斜視図である。 図４は、本発明の第１実施形態の検査装置の調整に用いる治具の構造を示す平面図である。 図５は、本発明の第１実施形態の検査装置の撮像ユニットの光軸が配置台に対して垂直に配置されている状態を模式的に示す図である。 図６は、本発明の第１実施形態の検査装置の撮像ユニットの光軸が配置台に対して＋Ｘ方向に傾斜している状態を模式的に示す図である。 図７は、本発明の第１実施形態の検査装置の撮像ユニットの光軸が配置台に対して－Ｘ方向に傾斜している状態を模式的に示す図である。 図８は、本発明の第１実施形態の検査装置の撮像ユニットの光軸方向を調整するフローを示す図である。 図９Ａは、治具の回転角度が０°である状態を示す平面図である。 図９Ｂは、治具の回転角度が９０°である状態を示す平面図である。 図９Ｃは、治具の回転角度が１８０°である状態を示す平面図である。 図９Ｄは、治具の回転角度が２７０°である状態を示す平面図である。 図１０Ａは、本発明の第２実施形態の検査装置の調整に用いる治具の構造を示す斜視図である。 図１０Ｂは、本発明の第２実施形態の検査装置の調整に用いる治具の構造を示す平面図である。 図１１Ａは、本発明の第３実施形態の検査装置の調整に用いる治具の構造を示す斜視図である。 図１１Ｂは、本発明の第３実施形態の検査装置の調整に用いる治具の構造を示す平面図である。 図１２は、本発明の第４実施形態の検査装置の模式図である。

以下、図面を参照して本発明による検査装置、及び検査装置の調整方法の例示的な実施形態を説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。なお、本願明細書では、発明の理解を容易にするため、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を記載することがある。典型的には、Ｚ軸は、鉛直方向を示し、Ｘ軸及びＹ軸は、水平方向を示す。ただし、本実施形態は、これに限定されない。

なお、本明細書において、方位、線及び面のうちのいずれかと他のいずれかとの位置関係において、「平行」は、両者がどこまで延長しても全く交わらない状態のみならず、実質的に平行である状態を含む。また、「垂直」及び「直交」はそれぞれ、両者が互いに９０度で交わる状態のみならず、実質的に垂直である状態及び実質的に直交する状態を含む。さらに、「鉛直」は、重力が作用する方向のみならず、重力が実質的に作用する方向を示す。また、「水平」は、重力が作用する方向に対して厳密に直交する方向のみならず、重力が作用する方向に対して実質的に直交する方向を示す。つまり、「平行」、「垂直」、「直交」、「鉛直」及び「水平」はそれぞれ、両者の位置関係に本発明の効果を奏する程度の角度ずれがある状態を含み得ることは言うまでもない。

（第１実施形態）
まず、図１を参照して、本発明の第１実施形態の検査装置１００を説明する。図１は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の模式図である。

図１に示すように、検査装置１００は、検査対象物Ｓを検査する。なお、検査対象物Ｓは、本発明の「被検物」の一例である。検査装置１００は、特に限定されないが、例えば、部品である検査対象物Ｓの欠陥を検査する装置であってもよいし、検査対象物Ｓのうち一部品と他部品との同心度を検査又は測定する装置であってもよい。検査装置１００は、検査対象物Ｓが配置される配置台１６０と、撮像ユニット１１０と、制御部１５２とを有する。検査対象物Ｓは、検査装置１００の配置台１６０に載置された状態で検査される。以下、具体的に説明する。

検査装置１００は、撮像ユニット１１０と、環状光源１２０と、面光源１３０と、抑制部１４０とを備える。検査装置１００において、撮像ユニット１１０、環状光源１２０及び面光源１３０は、固定して配置されることが好ましい。例えば、撮像ユニット１１０、環状光源１２０及び面光源１３０は、同一の固定台に固定して配置されることが好ましい。ただし、面光源１３０は、撮像ユニット１１０及び環状光源１２０に対して移動可能であってもよい。

撮像ユニット１１０は、検査対象物Ｓを撮像する。撮像ユニット１１０は、検査対象物Ｓに対して一方側（＋Ｚ方向側）に配置される。

撮像ユニット１１０は、撮像範囲内を撮像する。撮像ユニット１１０は、光軸Ｐａを中心に広がる撮像範囲を撮像する。撮像ユニット１１０の撮像範囲は、調整可能であってもよい。撮像ユニット１１０の光軸Ｐａは、光軸方向Ｄｐに延びる。なお、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａは、後述するレンズ１１２の光軸と一致する。ここでは、光軸方向Ｄｐは、略鉛直方向に平行である。検査対象物Ｓは、光軸Ｐａ上に配置される。

撮像ユニット１１０は、レンズ１１２と、撮像部１１４とを有する。撮像部１１４は、レンズ１１２を透過した光を受光する。撮像部１１４は、例えば、カメラである。撮像部１１４は、撮像素子を含む。例えば、撮像素子は、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）イメージセンサー又はＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサーである。レンズ１１２は、特に限定されないが、本実施形態ではテレセントリックレンズである。テレセントリックレンズは、主光線が光軸に対して平行なレンズであり、被撮像物がレンズから遠ざかっても倍率が変化しないレンズである。

環状光源１２０は、環状構造を有する。環状光源１２０は、検査対象物Ｓに光を照射する。典型的には、環状光源１２０の中心は、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａと一致する。環状光源１２０は、検査対象物Ｓに対して一方側（＋Ｚ方向側）に配置される。環状光源１２０は、環状の中心に向けて斜めに光を照射する。典型的には、環状光源１２０は、所定のエリアからほぼ一定の強度の光を検査対象物Ｓに向けて照射する。

環状光源１２０は、光を出射する出射面１２０ｓを有する。出射面１２０ｓは、ＸＹ平面に対して斜めに傾いている。出射面１２０ｓの法線方向は、斜め下方向を向く。撮像ユニット１１０は、環状光源１２０から光が照射された検査対象物Ｓを撮像する。また、撮像ユニット１１０は、配置台１６０に配置された後述する治具２００を撮像する。

面光源１３０は、検査対象物Ｓに光を照射する。面光源１３０は、面状に光を照射する。面光源１３０は、光を出射する出射面１３０ｓを有する。出射面１３０ｓの法線方向は、Ｚ方向に延びる。典型的には、面光源１３０は、所定のエリアからほぼ一定の強度の光を照射する。

面光源１３０は、検査対象物Ｓに対しての他方側（－Ｚ方向側）に配置される。少なくとも面光源１３０が検査対象物Ｓに光を照射する場合、面光源１３０は、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａ上に位置する。撮像ユニット１１０は、面光源１３０から光が照射された検査対象物Ｓを撮像する。

抑制部１４０は、環状光源１２０から照射された光が面光源１３０に入射することを抑制する。上述したように、面光源１３０が検査対象物Ｓに光を照射する際に、撮像ユニット１１０は、面光源１３０から光が照射された検査対象物Ｓを撮像する。この場合、抑制部１４０は、面光源１３０から照射された光が検査対象物Ｓに入射することを遮らない。

一方で、撮像ユニット１１０は、環状光源１２０から光が照射された検査対象物Ｓを撮像する。この場合、抑制部１４０は、環状光源１２０から照射された光が面光源１３０に入射することを抑制する。具体的には、撮像ユニット１１０が、環状光源１２０から光が照射された検査対象物Ｓを撮像する場合、抑制部１４０は、環状光源１２０から照射された光が面光源１３０に入射することを抑制する。これにより、撮像ユニット１１０が面光源１３０で反射された光を受光することを抑制できる。

ここでは、抑制部１４０は、遮光位置と退避位置との間を移動可能な遮光板１４０ｐを含む。遮光位置は、面光源１３０の出射面１３０ｓの全面を覆う位置である。退避位置は、図１に示す位置であり、面光源１３０から検査対象物Ｓに向かう光を遮らない位置である。

検査装置１００は、制御装置１５０をさらに備えてもよい。制御装置１５０は、検査装置１００の撮像ユニット１１０、環状光源１２０、面光源１３０及び抑制部１４０の動作を制御してもよい。あるいは、制御装置１５０は、撮像ユニット１１０において撮像した撮像画像を解析して検査対象物Ｓの検査結果を判定してもよい。例えば、制御装置１５０は、撮像画像を画像解析することによって検査対象物Ｓ内に異物がないか検査できる。

制御装置１５０は、制御部１５２と、記憶部１５４とを有する。制御部１５２は、演算素子を含む。演算素子は、プロセッサーを含む。一例では、プロセッサーは、中央演算処理装置（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ：ＣＰＵ）を含む。

記憶部１５４は、種々のデータを記憶する。例えば、記憶部１５４は、後述する治具２００の各部の形状及び寸法を記憶する。また、記憶部１５４は、制御プログラムを記憶する。制御部１５２は、制御プログラムを実行することによって、制御装置１５０の演算を制御する。詳細には、制御部１５２のプロセッサーは、記憶部１５４の記憶素子の記憶しているコンピュータープログラムを実行して、制御装置１５０の各構成を制御する。

例えば、コンピュータープログラムは、非一時的コンピューター読取可能記憶媒体に記憶される。非一時的コンピューター読取可能記憶媒体は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＣＤ－ＲＯＭ、磁気テープ、磁気ディスク又は光データ記憶装置を含む。

検査装置１００は、検査対象物Ｓが配置される配置台１６０を備える。典型的には、配置台１６０は、検査装置１００の所定の位置に配置される。

図２は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の配置台１６０の構造を示す斜視図である。図２に示すように、配置台１６０は、検査対象物Ｓが配置される配置面１６０ａを有する。配置面１６０ａは、光軸方向Ｄｐと交差する方向に延びる面であり、ここでは略水平方向に延びる。配置台１６０は、薄板形状を有する。

また、配置台１６０は、検査対象物Ｓが配置される位置を決める位置決め部１６０ｐを有する。位置決め部１６０ｐにより、検査対象物Ｓを所定の位置に位置決めできる。また、配置台１６０は、貫通孔１６０ｈを有する。貫通孔１６０ｈは、検査対象物Ｓの一部を収容したり、光を透過させたりする。

検査対象物Ｓの形状は、特に限定されないが、円柱構造を有してもよい。また、例えば、検査対象物Ｓは、薄い円板であってもよい。検査対象物Ｓは、透光部材を有してもよい。透光部材は、光を透過する。透光部材は、透明であってもよい。あるいは、透光部材は、着色されていてもよい。

図１に示すように、検査装置１００は、光軸調整機構１９０をさらに備える。光軸調整機構１９０は、撮像ユニット１１０を保持するとともに、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整可能に構成されている。光軸調整機構１９０は、固定台に固定して配置される。なお、検査装置１００は、撮像ユニット１１０を保持する保持部材をさらに備え、光軸調整機構１９０は、保持部材の姿勢を調整することによって撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整してもよい。また、光軸調整機構１９０は、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐだけでなく、撮像ユニット１１０の上下方向又は水平方向の位置も調整可能に構成されていてもよい。

次に、図３及び図４を参照して、本実施形態の検査装置１００の撮像ユニット１１０の調整方法について説明する。図３は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の調整に用いる治具２００の構造を示す斜視図である。図４は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の調整に用いる治具２００の構造を示す平面図である。検査装置１００による検査対象物Ｓの検査精度を高めるためには、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａを、配置台１６０の配置面１６０ａ（図２参照）に対して垂直に配置する必要がある。以下、検査装置１００の撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する方法について詳細に説明する。

撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する場合、治具２００（図３参照）を用いる。治具２００は、配置台１６０の配置面１６０ａに配置される。なお、治具２００は、本発明の「対象物」の一例である。

図３及び図４に示すように、治具２００は、第１被測定形状部２０１と、第２被測定形状部２０２とを有する。第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、例えば、特徴的な形状を有する。本実施形態では、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、円形状を有する。第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、例えば、多角形状又は矩形状を有してもよい。また、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、例えば、所定の比率の長さを有する二直線、又は、所定の角度で交差する二直線を有してもよい。

第１被測定形状部２０１と第２被測定形状部２０２とは、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐにおいて、互いに異なる高さに配置される。

本実施形態では、治具２００は、例えば、略円盤形状又は略円柱形状を有する。具体的には、治具２００は、治具本体２１０と、突出部２２０とを有する。治具本体２１０は、治具２００の外形を形成する。治具本体２１０は、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐから見て、例えば、円形状又は真円形状を有する。治具本体２１０は、一定の厚みを有する。

突出部２２０は、治具本体２１０から撮像ユニット１１０側に突出する。突出部２２０は、治具本体２１０よりも小さい外形を有する。突出部２２０は、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐから見て、例えば、円形状又は真円形状を有する。突出部２２０は、一定の厚みを有する。

また、治具２００は、穴部２３０を有する。穴部２３０は、治具２００を厚み方向に貫通する。言い換えると、穴部２３０は、治具本体２１０及び突出部２２０を厚み方向に貫通する。治具２００の厚み方向は、光軸方向Ｄｐに沿った方向である。なお、穴部２３０は、治具２００を厚み方向に貫通しない窪みであってもよい。

本実施形態では、第１被測定形状部２０１は、治具本体２１０の上面２１０ａの周縁部である。また、第２被測定形状部２０２は、穴部２３０の上端の周縁部である。言い換えると、第２被測定形状部２０２は、突出部２２０の上面２２０ａの内周縁部である。さらに言い換えると、第２被測定形状部２０２は、上面２２０ａと穴部２３０とが交差する部分である。

第２被測定形状部２０２の位置及び大きさは、特に限定されない。ただし、第２被測定形状部２０２は、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐから見て第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２と第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１とが一致しないように、配置されている。

制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第１被測定形状部２０１の検出結果に基づいて、第１位置を算出する。本実施形態では、第１位置は、第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１である。

また、制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２の検出結果に基づいて、第２位置を算出する。本実施形態では、第２位置は、第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２である。

また、本実施形態では、制御部１５２は、第１位置と第２位置との間の距離を算出する。具体的には、制御部１５２は、第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１と、第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２との間の距離を算出する。制御部１５２は、光軸方向Ｄｐから見たときの中心位置Ｏ２０１と中心位置Ｏ２０２との間の距離を算出する。本実施形態において、距離とは、特に記載が無い場合、光軸方向Ｄｐから見たときの距離を意味する。なお、本実施形態では、治具２００の厚み方向から見て、第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１と、第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２との間の距離が０．０５ｍｍとなるように、治具２００が形成されている例について説明する。

ここで、図５～図７を参照して、第１位置と第２位置との間の距離について説明する。図５は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが配置台１６０に対して垂直に配置されている状態を模式的に示す図である。図６は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが配置台１６０に対して＋Ｘ方向に傾斜している状態を模式的に示す図である。図７は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが配置台１６０に対して－Ｘ方向に傾斜している状態を模式的に示す図である。なお、配置面１６０ａに対する光軸Ｐａの傾きは数°以下であるが、図６及び図７では、理解を容易にするために、光軸Ｐａに対する治具２００の傾きを大きく描いている。また、図５～図７では、理解を容易にするために、光軸方向Ｄｐを基準として治具２００が傾斜するように描いている。

図５に示すように、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが配置台１６０の配置面１６０ａ（図２参照）に対して垂直である場合、第１位置（第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１）と第２位置（第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２）との間の距離Ｗ１は、例えば、０．０５ｍｍとなる。

図６に示すように、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが配置台１６０の配置面１６０ａに対して＋Ｘ方向に傾斜している場合、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２）との間の距離Ｗ２は、距離Ｗ１よりも小さく（例えば、０．０４ｍｍ）なる。

図７に示すように、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが配置台１６０の配置面１６０ａに対して－Ｘ方向に傾斜している場合、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２）との間の距離Ｗ３は、距離Ｗ１よりも大きく（例えば、０．０６ｍｍ）なる。

つまり、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２）との間の距離が距離Ｗ１（０．０５ｍｍ）に比べて、大きいか、又は、小さいかによって、光軸Ｐａの傾斜方向が決まる。また、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２）との間の距離と距離Ｗ１（０．０５ｍｍ）との差によって、光軸Ｐａの傾斜角度が決まる。そして、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２）との間の距離を表示パネル等の表示部に表示したり、光軸Ｐａの傾斜方向及び傾斜角度を表示部に表示したり、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを変更すべき方向及び角度を表示部に表示したりする。これにより、ユーザは、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを適切に調整することができる。

なお、図６及び図７を参照して、光軸Ｐａが＋Ｘ方向又は－Ｘ方向に傾斜している場合に、光軸Ｐａの傾斜をＸ方向に沿って調整する例について説明したが、光軸Ｐａが＋Ｙ方向又は－Ｙ方向に傾斜している場合についても同様である。つまり、光軸Ｐａが＋Ｙ方向又は－Ｙ方向に傾斜している場合、光軸Ｐａの傾斜をＹ方向に沿って調整することができる。

以上、図１～図７を用いて説明したように、制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第１被測定形状部２０１の検出結果に基づいて第１位置を算出し、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２の検出結果に基づいて第２位置を算出する。従って、算出された第１位置及び第２位置に基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを適切に調整できる。よって、調整後の撮像ユニット１１０を用いて検査対象物Ｓを精度良く検査できる。

また、本実施形態では、上記のように、第１位置は、第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１であり、第２位置は、第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２である。従って、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２に基づいて、第１位置及び第２位置を容易に算出できる。

また、本実施形態では、制御部１５２は、第１位置と第２位置との間の距離を算出する。従って、算出した距離に基づいて、容易に、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整できる。

また、本実施形態では、レンズ１１２は、テレセントリックレンズである。テレセントリックレンズを有する撮像ユニットを用いた場合、テレセントリックレンズから被撮像物までの距離が変化しても倍率が変化しないため、撮像ユニットの光軸方向を調整することは、通常、困難である。しかしながら、本実施形態では、上述したように、光軸方向Ｄｐを適切に調整できるため、テレセントリックレンズを用いた検査装置１００に本発明を適用することは、特に有効である。

また、本実施形態では、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、円形状である。従って、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２を容易に精度良く形成できる。

次に、図８及び図９を参照して、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整するフローについて説明する。図８は、本発明の第１実施形態の検査装置１００の撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整するフローを示す図である。図９Ａは、治具２００の回転角度が０°である状態を示す平面図である。図９Ｂは、治具２００の回転角度が９０°である状態を示す平面図である。図９Ｃは、治具２００の回転角度が１８０°である状態を示す平面図である。図９Ｄは、治具２００の回転角度が２７０°である状態を示す平面図である。

本実施形態の検査装置１００の撮像ユニット１１０の調整方法は、ステップＳ１～ステップＳ７を含む。ステップＳ１～ステップＳ７は、特に記載が無い場合、制御部１５２によって実行される。ここでは、図３及び図４に示した構造の治具２００を用いて撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する場合について説明する。

図８に示すように、ステップＳ１において、ユーザは、治具２００を配置台１６０に配置する。そして、配置台１６０に配置された治具２００を撮像ユニット１１０によって撮像する。具体的には、配置台１６０の配置面１６０ａ上に配置された治具２００に対して、環状光源１２０から光を照射する。そして、配置台１６０の配置面１６０ａ上に配置された治具２００を撮像ユニット１１０によって撮像する。撮像データは、制御部１５２に送信される。

次に、ステップＳ２において、撮像ユニット１１０による第１被測定形状部２０１の検出結果に基づいて第１位置を算出する。具体的には、制御部１５２は、撮像データを画像化する。そして、制御部１５２は、記憶部１５４に記憶されている治具２００に関するデータに基づいて、画像化された撮像データから、第１被測定形状部２０１に対応するデータを抽出する。その後、制御部１５２は、抽出したデータに基づいて、第１位置を算出する。本実施形態では、制御部１５２は、抽出したデータに基づいて、第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１を算出する。

次に、ステップＳ３において、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２の検出結果に基づいて第２位置を算出する。具体的には、制御部１５２は、撮像データを画像化する。そして、制御部１５２は、記憶部１５４に記憶されている治具２００に関するデータに基づいて、画像化された撮像データから、第２被測定形状部２０２に対応するデータを抽出する。その後、制御部１５２は、抽出したデータに基づいて、第２位置を算出する。本実施形態では、制御部１５２は、抽出したデータに基づいて、第２被測定形状部２０２の中心位置Ｏ２０２を算出する。

次に、ステップＳ４において、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２）との間の距離が算出される。なお、ステップＳ４の算出は、制御部１５２が行ってもよいし、ユーザが行ってもよい。

次に、ステップＳ５において、撮像回数が閾値（ここでは４回）以上であるか否かが判定される。なお、ステップＳ５の判定は、制御部１５２が行ってもよいし、ユーザが行ってもよい。

ステップＳ５で撮像回数が閾値未満であると判定された場合、ステップＳ６に進む。

次に、ステップＳ６において、治具２００が配置台１６０上で所定角度（例えば９０°）回転される。なお、ステップＳ６の治具２００の回転は、検査装置１００が行ってもよい。具体的には、検査装置１００は、治具２００を回転させる回転機構（図示せず）をさらに有し、回転機構が治具２００を所定角度回転させてもよい。また、ステップＳ６の治具２００の回転は、ユーザが手動で行ってもよい。

次に、ステップＳ１に戻り、ステップＳ１～ステップＳ６が繰り返される。ステップＳ１～ステップＳ４が４回行われると、例えば図９Ａ～図９Ｄに示した状態（回転角度が０°、９０°、１８０°及び２７０°の状態）で、治具２００が撮像され、第１位置と第２位置との間の距離が算出される。そして、各状態（４つの回転角度）における、第１位置と第２位置との間の距離が算出される。その結果、下記の表１に示す調整前の欄の例えば「０．０４」「０．０６」「０．０６」「０．０４」が得られる。なお、回転角度が０°又は９０°のときの治具２００の状態を第１状態と記載することがある。また、回転角度が１８０°又は２７０°のときの治具２００の状態を第２状態と記載することがある。

ステップＳ５で撮像回数が閾値（ここでは４回）以上であると判定された場合、ステップＳ７に進む。

次に、ステップＳ７において、第１位置及び第２位置に基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する。本実施形態では、第１位置と第２位置との間の距離に基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する。なお、ステップＳ７の光軸方向Ｄｐの調整は、制御部１５２が光軸調整機構１９０を駆動することによって行ってもよいし、ユーザが光軸調整機構１９０を操作して行ってもよい。光軸方向Ｄｐの調整は、２方向（ここでは、Ｘ方向及びＹ方向）に行う。

具体的には、表１の調整前の０°の距離「０．０４」、及び、１８０°の距離「０．０６」に基づいて、上述したように光軸Ｐａの傾斜をＸ方向に沿って調整する。より具体的には、距離「０．０４」と距離「０．０６」との平均値０．０５になるように、光軸Ｐａの傾斜をＸ方向に沿って調整する。これにより、配置台１６０の配置面１６０ａに対する撮像ユニット１１０の光軸ＰａのＸ方向の傾斜がなくなる。よって、表１の調整１回目の欄に示すように、０°の距離が「０．０５」になり、１８０°の距離が「０．０５」になる。つまり、第１状態（回転角度が０°）の第１位置と第２位置との間の距離と、第２状態（回転角度が１８０°）の第１位置と第２位置との間の距離とに基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向ＤｐをＸ方向に沿って調整する。

続いて、表１の調整前の９０°の距離「０．０６」、及び、２７０°の距離「０．０４」に基づいて、上述したように光軸Ｐａの傾斜をＹ方向に沿って調整する。より具体的には、距離「０．０６」と距離「０．０４」との平均値０．０５になるように、光軸Ｐａの傾斜をＹ方向に沿って調整する。これにより、配置台１６０の配置面１６０ａに対する撮像ユニット１１０の光軸ＰａのＹ方向の傾斜がなくなる。よって、表１の調整２回目の欄に示すように、９０°の距離が「０．０５」になり、２７０°の距離が「０．０５」になる。つまり、第１状態（回転角度が９０°）の第１位置と第２位置との間の距離と、第２状態（回転角度が２７０°）の第１位置と第２位置との間の距離とに基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向ＤｐをＹ方向に沿って調整する。

以上のようにして、配置台１６０の配置面１６０ａに対して撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが垂直になり、処理が終了する。

本実施形態では、図８に示すように、治具２００を撮像し、第１位置、第２位置及び距離を算出した後に、治具２００を回転させる例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、治具２００の撮像と治具２００の回転とを複数回繰り返した後に、各回転角度における第１位置、第２位置及び距離をまとめて算出してもよい。

また、本実施形態では、ステップＳ７において、光軸ＰａのＸ方向の調整と、光軸ＰａのＹ方向の調整との両方を行う例について示したが、本発明はこれに限らない。言い換えると、治具２００の撮像と、第１位置、第２位置及び距離の算出とを複数回繰り返した後に、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａを調整する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、０°及び１８０°について、治具２００の撮像と距離等の算出とを実行した後、光軸ＰａのＸ方向の傾斜を調整してもよい。その後、例えば、９０°及び２７０°について、治具２００の撮像と距離等の算出とを実行した後、光軸ＰａのＹ方向の傾斜を調整してもよい。

以上、図８及び図９を用いて説明したように、検査装置１００の調整方法は、治具２００を撮像ユニット１１０によって撮像する工程（ステップＳ１）と、第１被測定形状部２０１の検出結果に基づいて第１位置を算出する工程（ステップＳ２）と、第２被測定形状部２０２の検出結果に基づいて第２位置を算出する工程（ステップＳ３）と、第１位置及び第２位置に基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する工程（ステップＳ７）とを有する。従って、算出された第１位置及び第２位置に基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを適切に調整できる。よって、調整後の撮像ユニット１１０を用いて検査対象物Ｓを精度良く検査できる。

また、本実施形態では、上記のように、検査装置１００の調整方法は、治具２００を配置台１６０上で第１状態から第２状態に回転させる工程（ステップＳ６）を有し、撮像する工程（ステップＳ１）は、第１状態における治具２００を撮像する工程と、第２状態における治具２００を撮像する工程とを有する。そして、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する工程（ステップＳ７）において、第１状態（例えば、回転角度が０°）の第１位置と第２位置との間の距離と、第２状態（例えば、回転角度が１８０°）の第１位置と第２位置との間の距離とに基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する。従って、例えば、算出した２つの距離が平均値となるように、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整することができる。よって、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐをより精度良く調整できる。

さらに、本実施形態では、上記のように、第１状態（例えば、回転角度が９０°）の第１位置と第２位置との間の距離と、第２状態（例えば、回転角度が２７０°）の第１位置と第２位置との間の距離とに基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する。従って、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐの調整を、容易に、２方向（ここでは、Ｘ方向及びＹ方向）に行うことができる。

（第２実施形態）
次に、図８、図１０Ａ及び図１０Ｂを参照して、本発明の第２実施形態の検査装置１００について説明する。図１０Ａは、本発明の第２実施形態の検査装置１００の調整に用いる治具２００の構造を示す斜視図である。図１０Ｂは、本発明の第２実施形態の検査装置１００の調整に用いる治具２００の構造を示す平面図である。第２実施形態では、上記第１実施形態と異なり、治具２００が２つの第２被測定形状部２０２を有する例について説明する。

図１０Ａ及び図１０Ｂに示すように、治具２００は、第１被測定形状部２０１と、第２被測定形状部２０２とを有する。本実施形態では、治具２００は、２つの第２被測定形状部２０２を有する。

具体的には、治具２００は、穴部２３０及び穴部２３１を有する。穴部２３１は、穴部２３０と同じ形状を有する。なお、穴部２３１は、穴部２３０の内径よりも大きい又は小さい内径を有してもよい。また、穴部２３０と中心位置Ｏ２０１との間の距離は、穴部２３１と中心位置Ｏ２０１との間の距離と同じであっても良いし、穴部２３１と中心位置Ｏ２０１との間の距離に比べて、大きく又は小さくてもよい。第２被測定形状部２０２の一方（以下、第２被測定形状部２０２ａとも記載する）は、穴部２３０の上端の周縁部である。第２被測定形状部２０２の他方（以下、第２被測定形状部２０２ｂとも記載する）は、穴部２３１の上端の周縁部である。

制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２ａの検出結果に基づいて、第２位置（第２被測定形状部２０２ａの中心位置Ｏ２０２ａ）を算出する。また、制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２ｂの検出結果に基づいて、第２位置（第２被測定形状部２０２ｂの中心位置Ｏ２０２ｂ）を算出する。

２つの第２被測定形状部２０２の位置及び大きさは、特に限定されない。ただし、中心位置Ｏ２０２ａ、中心位置Ｏ２０２ｂ、及び、中心位置Ｏ２０１は、一直線上に配置されない。言い換えると、２つの第２位置の一方（以下、中心位置Ｏ２０２ａとも記載する）と第１位置（中心位置Ｏ２０１）とを通過する第１直線Ｍ１と、２つの第２位置の他方（以下、中心位置Ｏ２０２ｂとも記載する）と第１位置（中心位置Ｏ２０１）とを通過する第２直線Ｍ２とは、交差する。本実施形態では、第１直線Ｍ１と第２直線Ｍ２とは、直交する。

以上、図１０Ａ及び図１０Ｂを用いて説明したように、治具２００は、２つの第２被測定形状部２０２を有する。従って、第２被測定形状部２０２が１つだけ形成されている場合に比べて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する際に治具２００を回転させる回数を削減できる。具体的には、本実施形態では、１回の撮像によって２つの第２被測定形状部２０２を撮像でき、２つの第２位置が算出される。言い換えると、上記第１実施形態において例えば回転角度が０°及び９０°の位置で撮像した場合と同様の効果又は結果が得られる。よって、例えば第１実施形態と比べて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する際に治具２００を回転させる回数を削減できる。

第２実施形態のその他の構造は、第１実施形態と同様である。

次に、図８を参照して、本実施形態による撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整するフローについて説明する。以下、第１実施形態と異なる点について主に説明する。

図８に示すように、ステップＳ１において、第１実施形態と同様、配置台１６０に配置された治具２００を撮像ユニット１１０によって撮像する。

次に、ステップＳ２において、第１実施形態と同様、撮像ユニット１１０による第１被測定形状部２０１の検出結果に基づいて第１位置を算出する。

次に、ステップＳ３において、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２の検出結果に基づいて第２位置を算出する。このとき、本実施形態では、第２被測定形状部２０２ａの中心位置Ｏ２０２ａと、第２被測定形状部２０２ｂの中心位置Ｏ２０２ｂとを算出する。

次に、ステップＳ４において、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２ａ）との間の距離と、第１位置（中心位置Ｏ２０１）と第２位置（中心位置Ｏ２０２ｂ）との間の距離とが算出される。

次に、ステップＳ５において、撮像回数が閾値（ここでは２回）以上であるか否かが判定される。

ステップＳ５で撮像回数が閾値未満であると判定された場合、ステップＳ６に進む。

次に、ステップＳ６において、治具２００が配置台１６０上で所定角度（例えば１８０°）回転される。言い換えると、治具２００は、第１状態（回転角度が０°の状態）から第２状態（回転角度が１８０°の状態）に回転される。そして、ステップＳ１に戻る。

ステップＳ５で撮像回数が閾値（ここでは２回）以上であると判定された場合、ステップＳ７に進む。

次に、ステップＳ７において、第１位置及び２つの第２位置に基づいて、撮像ユニット１１０の光軸方向ＤｐをＸ方向及びＹ方向に調整する。

これにより、配置台１６０の配置面１６０ａに対して撮像ユニット１１０の光軸Ｐａが垂直になり、処理が終了する。

第２実施形態のその他の調整フロー及びその他の効果は、第１実施形態と同様である。

本実施形態では、図１０Ａ及び図１０Ｂに示したように、２つの第２被測定形状部２０２を設けるために、２つの穴部２３０及び２３１を形成する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、第１実施形態において、治具２００の突出部２２０の中心位置を、治具本体２１０の中心位置からずらしてもよい。そして、突出部２２０の上面２２０ａの外周縁部を第２被測定形状部２０２ｂとしてもよい。

（第３実施形態）
次に、図１１Ａ及び図１１Ｂを参照して、本発明の第３実施形態の検査装置１００について説明する。図１１Ａは、本発明の第３実施形態の検査装置１００の調整に用いる治具２００の構造を示す斜視図である。図１１Ｂは、本発明の第３実施形態の検査装置１００の調整に用いる治具２００の構造を示す平面図である。

図１１Ａ及び図１１Ｂに示すように、治具２００は、治具本体２１０と、凹部２５０とを有する。なお、本実施形態では、治具２００は、突出部２２０を有しない。凹部２５０は、治具本体２１０の上面２１０ａから撮像ユニット１１０とは反対側に窪む。凹部２５０は、上面２１０ａに対して垂直な内側面２５１と、内側面２５１に接続する内側面２５２とを有する。内側面２５１は、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐから見て、例えば、円形状又は真円形状を有する。内側面２５２は、例えば、円錐形状を有する。

内側面２５１は、治具本体２１０の上面２１０ａから途中の深さまで形成されている。内側面２５２は、内側面２５１の端部から、治具本体２１０の下面まで形成されている。なお、内側面２５２は、治具本体２１０の下面まで形成されてなくてもよい。つまり、本実施形態では凹部２５０は治具本体２１０を貫通するが、凹部２５０は治具本体２１０を貫通しなくてもよい。

本実施形態では、第２実施形態と同様、治具２００は、２つの第２被測定形状部２０２（第２被測定形状部２０２ａ及び第２被測定形状部２０２ｂ）を有する。第２被測定形状部２０２ａは、凹部２５０の上端の周縁部である。また、第２被測定形状部２０２ｂは、凹部２５０の下端の周縁部である。なお、凹部２５０は、光軸方向Ｄｐから見て凹部２５０の中心位置と第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１とが一致しないように配置されている。

また、本実施形態では、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐから見て、２つの第２被測定形状部２０２の一方（ここでは、第２被測定形状部２０２ｂ）は、２つの第２被測定形状部２０２の他方（ここでは、第２被測定形状部２０２ａ）の内部に配置される。従って、２つの第２被測定形状部２０２を１つの凹部２５０によって形成できる。なお、例えば、凹部２５０を上下に反転させた形状の凸部を治具本体２１０上に形成することも可能である。この場合、２つの第２被測定形状部（図示せず）を１つの凸部によって形成できる。

制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２ａの検出結果に基づいて、第２位置（第２被測定形状部２０２ａの中心位置Ｏ２０２ａ）を算出する。また、制御部１５２は、撮像ユニット１１０による第２被測定形状部２０２ｂの検出結果に基づいて、第２位置（第２被測定形状部２０２ｂの中心位置Ｏ２０２ｂ）を算出する。

２つの第２被測定形状部２０２の位置及び大きさは、特に限定されない。ただし、第２被測定形状部２０２ａの中心位置Ｏ２０２ａ、第２被測定形状部２０２ｂの中心位置Ｏ２０２ｂ、及び、中心位置Ｏ２０１は、一直線上に配置されない。言い換えると、２つの第２位置の一方（中心位置Ｏ２０２ａ）と第１位置（中心位置Ｏ２０１）とを通過する第１直線Ｍ１と、２つの第２位置の他方（中心位置Ｏ２０２ｂ）と第１位置（中心位置Ｏ２０１）とを通過する第２直線Ｍ２とは、交差する。

以上、本実施形態では、第２実施形態と同様、治具２００は、２つの第２被測定形状部２０２を有する。従って、第２被測定形状部２０２が１つだけ形成されている場合に比べて、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整する際に治具２００を回転させる回数を削減できる。

なお、第３実施形態では、凹部２５０の上端の周縁部を第２被測定形状部２０２ａとし、凹部２５０の下端の周縁部を第２被測定形状部２０２ｂとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、凹部２５０の上端の周縁部を第１被測定形状部２０１とし、凹部２５０の下端の周縁部を第２被測定形状部２０２としてもよい。この場合、第１実施形態と同様のフローによって、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整できる。また、この場合、治具本体２１０の上面２１０ａの外周縁部を第１被測定形状部２０１とする場合と異なり、第１被測定形状部２０１が他の部材と接触することを抑制できるため、第１被測定形状部２０１が変形することを抑制できる。

また、第３実施形態では、光軸方向Ｄｐから見て凹部２５０の上端の中心位置と第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１とが一致しないように、凹部２５０を配置する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、凹部２５０は、光軸方向Ｄｐから見て凹部２５０の上端の中心位置と第１被測定形状部２０１の中心位置Ｏ２０１とが一致するように、配置されてもよい。言い換えると、凹部２５０は、第１被測定形状部２０１と同心円状に配置されてもよい。ただし、この場合、凹部２５０の上端の周縁部を第２被測定形状部２０２として用いることができないため、治具２００は、第２被測定形状部２０２を１つだけ有することになる。

第３実施形態のその他の構造、その他の調整フロー及びその他の効果は、第１実施形態及び第２実施形態と同様である。

（第４実施形態）
次に、図１２を参照して、本発明の第４実施形態の検査装置１００を説明する。図１２は、本発明の第４実施形態の検査装置１００の模式図である。

図１２に示すように、検査装置１００は、撮像ユニット１１０、環状光源１２０、面光源１３０、抑制部１４０、配置台１６０（図１参照）及び光軸調整機構１９０に加えて固定台１８０をさらに備える。固定台１８０は、環状光源１２０、面光源１３０、抑制部１４０、配置台１６０及び光軸調整機構１９０を固定して配置する。撮像ユニット１１０は、光軸調整機構１９０に対して着脱可能に取り付けられる。

以上、図面を参照して本発明の実施形態を説明した。ただし、本発明は、上記の実施形態に限られず、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。また、上記の実施形態に開示される複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明の形成が可能である。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる場合もある。また、上記の実施形態で示す各構成要素の材質、形状、寸法等は一例であって、特に限定されず、本発明の効果から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

例えば、第１実施形態～第４実施形態では、検査装置１００が、検査対象物Ｓに光を上方から照射する環状光源１２０と、検査対象物Ｓに光を下方から照射する面光源１３０とを有する例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、検査装置１００は、環状光源１２０及び面光源１３０以外の光源を有してもよい。また、例えば、検査装置１００が検査対象物Ｓに光を下方から照射する光源を有しない場合、配置台１６０は、貫通孔１６０ｈを有しなくてもよい。また、検査装置１００は、光源を有しなくてもよい。

また、第１実施形態～第３実施形態では、治具２００が略円盤形状又は略円柱形状を有する例について示したが、本発明はこれに限らない。治具２００の形状は、特に限定されない。治具２００は、例えば、矩形状等の略多角形状を有してもよい。

また、例えば、治具２００は、光軸方向Ｄｐから見て略Ｌ字形状等の中心位置を算出しにくい外形を有してもよい。この場合、治具２００は、例えば、第２被測定形状部２０２としての穴部２３０に加えて、第１被測定形状部２０１としての穴部をさらに有してもよい。このように構成すれば、第１位置を容易に算出できる。

また、第１実施形態～第３実施形態では、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２が円形状を有する例について示したが、本発明はこれに限らない。第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２の形状は、特に限定されない。第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、例えば、矩形状等の多角形状を有してもよい。

また、第１実施形態～第３実施形態では、第１位置及び第２位置が第１被測定形状部２０１の中心位置、及び、第２被測定形状部２０２の中心位置である例について示したが、本発明はこれに限らない。例えば、第１位置及び第２位置は、第１被測定形状部２０１の中心位置、及び、第２被測定形状部２０２の中心位置でなくてもよい。

なお、例えば、第１被測定形状部２０１及び第２被測定形状部２０２は、平行な二直線、又は、交差する二直線であってもよい。この場合、第１位置及び第２位置は、一方の直線の中心位置、又は、端部であってもよい。

また、第１実施形態～第３実施形態では、制御部１５２が、第１位置と第２位置との間の距離を算出する例について示したが、本発明はこれに限らない。制御部１５２は、第１位置と第２位置との間の距離に加え、例えば、第１位置から第２位置に向かう方向を算出してもよい。このように構成すれば、治具２００を１８０°回転させなくても、撮像ユニット１１０の光軸Ｐａの傾斜方向を判別することが可能である。従って、例えば、第２状態の治具２００を撮像することなく、第１状態の治具２００を撮像することによって、撮像ユニット１１０の光軸方向Ｄｐを調整することが可能である。

１００ ：検査装置
１１０ ：撮像ユニット
１１２ ：レンズ
１１４ ：撮像部
１５２ ：制御部
１６０ ：配置台
２００ ：治具（対象物）
２０１ ：第１被測定形状部
２０２，２０２ａ，２０２ｂ ：第２被測定形状部
Ｄｐ ：光軸方向
Ｍ１ ：第１直線
Ｍ２ ：第２直線
Ｏ２０１ ：中心位置（第１位置）
Ｏ２０２，Ｏ２０２ａ，Ｏ２０２ｂ ：中心位置（第２位置）
Ｐａ ：光軸
Ｓ ：検査対象物（被検物）
Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３ ：距離

Claims (9)

1. 被検物を検査する検査装置であって、
   前記被検物が配置される配置台と、
   レンズと前記レンズを透過した光を受光する撮像部とを有する撮像ユニットと、
   制御部と
   を有し、
   前記撮像ユニットは、前記配置台に配置された対象物を撮像し、
   前記対象物は、第１被測定形状部と、第２被測定形状部とを有し、
   前記撮像ユニットの光軸方向において、前記第１被測定形状部と前記第２被測定形状部とは、互いに異なる高さに配置され、
   前記制御部は、
   前記撮像ユニットによる前記第１被測定形状部の検出結果に基づいて第１位置を算出し、
   前記撮像ユニットによる前記第２被測定形状部の検出結果に基づいて第２位置を算出する、検査装置。
2. 前記第１位置は、前記第１被測定形状部の中心位置であり、
   前記第２位置は、前記第２被測定形状部の中心位置である、請求項１に記載の検査装置。
3. 前記制御部は、前記第１位置と前記第２位置との間の距離を算出する、請求項１又は請求項２に記載の検査装置。
4. 前記レンズは、テレセントリックレンズである、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の検査装置。
5. 前記対象物は、２つの前記第２被測定形状部を有し、
   前記制御部は、前記撮像ユニットによる前記２つの第２被測定形状部の検出結果に基づいて、２つの前記第２位置を算出し、
   前記２つの第２位置の一方と前記第１位置とを通過する第１直線と、前記２つの第２位置の他方と前記第１位置とを通過する第２直線とは、交差する、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の検査装置。
6. 前記撮像ユニットの光軸方向から見て、前記２つの第２被測定形状部の一方は、前記２つの第２被測定形状部の他方の内部に配置される、請求項５に記載の検査装置。
7. 前記第１被測定形状部及び前記第２被測定形状部は、円形状である、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の検査装置。
8. 被検物が配置される配置台と、レンズと前記レンズを透過した光を受光する撮像部とを有する撮像ユニットとを有する検査装置の調整方法であって、
   前記配置台に配置された対象物を前記撮像ユニットによって撮像する工程を有し、
   前記対象物は、第１被測定形状部と、第２被測定形状部とを有し、
   前記撮像ユニットの光軸方向において、前記第１被測定形状部と前記第２被測定形状部とは、互いに異なる高さに配置され、
   前記調整方法は、
   前記撮像ユニットによる前記第１被測定形状部の検出結果に基づいて第１位置を算出する工程と、
   前記撮像ユニットによる前記第２被測定形状部の検出結果に基づいて第２位置を算出する工程と、
   前記第１位置及び前記第２位置に基づいて、前記撮像ユニットの光軸方向を調整する工程と
   を有する、検査装置の調整方法。
9. 前記対象物を前記配置台上で第１状態から第２状態に回転させる工程をさらに有し、
   前記撮像する工程は、
   前記第１状態における前記対象物を撮像する工程と、
   前記第２状態における前記対象物を撮像する工程と
   を有し、
   前記撮像ユニットの光軸方向を調整する工程において、前記第１状態の前記第１位置と前記第２位置との間の距離と、前記第２状態の前記第１位置と前記第２位置との間の距離とに基づいて、前記撮像ユニットの光軸方向を調整する、請求項８に記載の検査装置の調整方法。

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