JP2023053016A - 画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた耐光性を有し、かつブルーライトを遮蔽できる画像表示装置を提供する。
【解決手段】
本発明の一の態様によれば、有機発光ダイオード素子２０と、有機発光ダイオード素子
２０よりも観察者側に設けられたカバー層６０と、有機発光ダイオード素子２０とカバー
層６０との間に設けられた樹脂層４９と、を備え、樹脂層４９のインデンテーション硬さ
が、１００ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下であり、樹脂層４９が、波長３８０ｎｍ以上５０
０ｎｍ以下の波長域の光を吸収する光吸収剤を含む、画像表示装置１０が提供される。
【選択図】図１

Description

本発明は、画像表示装置に関する。

近年、表示素子として、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）素子を用いた画像表示装置の
開発が進んでいる（例えば、特許文献１参照）。有機発光ダイオード素子を用いた画像表
示装置は、液晶表示装置に代表される非発光型の表示装置とは異なり、自発光型であり、
バックライト装置などの光源が不要であるため、薄型化および軽量化を図ることが可能で
ある。

ＯＬＥＤ素子は、外光等によって劣化するおそれがある。このため、現在、ＯＬＥＤ素
子を用いた画像表示装置においては、ＯＬＥＤ素子の劣化を抑制することが望まれている
。

また、ＯＬＥＤ素子は、ブルーライトと呼ばれる光を発している。ブルーライトは、波
長３８０ｎｍ～５００ｎｍの波長域の光で紫外線に近い性質を持っており、強いエネルギ
ーを有しているため、角膜や水晶体で吸収されずに網膜に到達することで、網膜の損傷、
眼精疲労、睡眠への悪影響等の原因になると言われている。このため、現在、ブルーライ
トを遮蔽することが望まれている。

このようなブルーライトの問題を解決する方法として、例えば、画像表示装置等に用い
られる層に紫外線吸収剤を含有させる方法が検討されている。紫外線吸収剤としては、例
えば、ベンゾトリアゾール系化合物が知られている（特許文献１および２参照）。

特開２０００－０３４４６４号公報 特開２００６－２６４３１２号公報

しかしながら、従来の紫外線吸収剤は、吸収波長域が３００ｎｍ～３６０ｎｍ付近を中
心とした比較的短い波長域であるため、ブルーライト遮蔽性能は充分とは言えないもので
あった。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、有機発光ダイオ
ード素子の劣化を抑制できるとともに、ブルーライトを遮蔽できる画像表示装置を提供す
ることを目的とする。

本発明の一の態様によれば、有機発光ダイオード素子と、前記有機発光ダイオード素子
よりも観察者側に設けられたカバー層と、前記有機発光ダイオード素子と前記カバー層と
の間に設けられた樹脂層と、を備え、前記樹脂層のインデンテーション硬さが、１００Ｍ
Ｐａ以上６００ＭＰａ以下であり、前記樹脂層が、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の
波長域の光を吸収する光吸収剤を含む、画像表示装置が提供される。

上記画像表示装置において、前記樹脂層の膜厚が、０．５μｍ以上５０μｍ以下であっ
てもよい。

上記画像表示装置において、前記光吸収剤が、下記一般式（Ａ）で表される化合物であ
ってもよい。

（式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６の直鎖状
または分岐鎖状のアルキレン基または炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアル
キレン基を表す。）

上記画像表示装置において、前記光吸収剤が、下記一般式（Ｂ）で表される化合物であ
ってもよい。

（式（Ｂ）中、Ｒ^３は、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基またはアラルキル基を表し、
Ｒ^４は、－ＣＮまたは－ＣＯＯＲ^５を表し、ここで、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい
アルキル基またはアラルキル基（ただし、Ｒ^３がメチル基である場合はエチル基を除く。
）を表す。）

本発明の他の態様によれば、有機発光ダイオード素子と、前記有機発光ダイオード素子
よりも観察者側に設けられたカバー層と、前記有機発光ダイオード素子と前記カバー層と
の間に設けられた樹脂層と、を備え、前記樹脂層が、セサモール型ベンゾトリアゾール系
化合物およびインドール系化合物の少なくともいずれかを含む、画像表示装置が提供され
る。

上記画像表示装置において、前記樹脂層のインデンテーション硬さが、１００ＭＰａ以
上６００ＭＰａ以下であってもよい。

上記画像表示装置において、前記樹脂層の膜厚が、０．５μｍ以上５０μｍ以下であっ
てもよい。

上記画像表示装置において、前記樹脂層が、接着層であってもよい。

上記画像表示装置において、前記セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物が、下記一
般式（Ａ）で表される化合物であってもよい。

（式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６の直鎖状
または分岐鎖状のアルキレン基または炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアル
キレン基を表す。）

上記画像表示装置において、前記インドール系化合物が、下記一般式（Ｂ）で表される
化合物であってもよい。

（式（Ｂ）中、Ｒ^３は、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基またはアラルキル基を表し、
Ｒ^４は、－ＣＮまたは－ＣＯＯＲ^５を表し、ここで、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい
アルキル基またはアラルキル基（ただし、Ｒ^３がメチル基である場合はエチル基を除く。
）を表す。）

本発明の一の態様および他の態様によれば、有機発光ダイオード素子の劣化を抑制でき
るとともに、ブルーライトを遮蔽できる画像表示装置を提供することができる。

第１の実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。 第１の実施形態に係る他の画像表示装置の概略構成図である。 第２の実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。

［第１の実施形態］
以下、本発明の実施形態に係る画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。
本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、
互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ば
れるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る画像表示装置の概略構
成図であり、図２は本実施形態に係る他の画像表示装置の概略構成図である。

＜＜＜＜＜画像表示装置＞＞＞＞＞
図１に示される画像表示装置１０は、観察者側に向けて、有機発光ダイオード素子（以
下、「ＯＬＥＤ素子」と称することもある。）２０と、タッチセンサ３０と、樹脂層４９
を含む円偏光板４０と、カバー層６０とを、この順で備えている。樹脂層４９は、円偏光
板４０に組み込まれているが、ＯＬＥＤ素子とカバー層との間に設けられていれば、円偏
光板に組み込まれていなくともよい。タッチセンサ３０と円偏光板４０との間および円偏
光板４０とカバー層６０との間は、接着層７１、７２を介して接着されている。本明細書
における「接着」とは粘着を含む概念である。

画像表示装置１０の大きさは、特に制限されず、例えば、スマートフォン、タブレット
端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレ
ビジョン等の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、画像表示装置１０の大きさは
、例えば、１インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。

＜＜＜＜有機発光ダイオード素子＞＞＞＞
有機発光ダイオード素子２０としては、公知の有機発光ダイオード素子を用いることが
できる。

＜＜＜＜タッチセンサ＞＞＞＞
タッチセンサ３０としては、公知のタッチセンサを用いることができる。タッチセンサ
３０の種類としては、特に限定されないが、例えば、静電容量方式のタッチセンサを用い
ることができる。タッチセンサ３０は、ＯＬＥＤ素子２０と円偏光板４０との間に配置さ
れているが、円偏光板とカバー層との間に配置されていてもよい。

＜＜＜＜カバー層＞＞＞＞
カバー層６０の表面６０Ａは、画像表示装置１０の表面１０Ａとなっている。カバー層
６０は、カバーガラスまたは樹脂からなるカバーフィルムであってもよい。画像表示装置
１０が、屈曲性を有する場合には、カバー層６０は屈曲性を有するガラスや屈曲性を有す
る樹脂から構成されていることが好ましい。屈曲性を有する樹脂としては、例えば、ポリ
イミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂（例え
ば、ポリエチレンテレフタレート樹脂やポリエチレンナフタレート樹脂）、またはこれら
の樹脂を２以上混合した混合物等が挙げられる。

＜＜＜＜接着層＞＞＞＞
接着層７１、７２は、電離放射線重合性化合物を含む液状の電離放射線硬化性接着剤（
例えば、ＯＣＲ：Optically Clear Resin）の硬化物や粘着剤（例えば、ＯＣＡ：Optical
Clear Adhesive)から構成することが可能である。

接着層７１、７２の膜厚は、画像表示装置１０の薄型化を図る観点から、０．５μｍ以
上５０μｍ以下であることが好ましい。接着層７１、７２の厚みは、走査型電子顕微鏡（
ＳＥＭ）を用いて、接着層７１、７２の断面を撮影し、その断面の画像において接着層７
１、７２の厚みを２０箇所測定し、その２０箇所の膜みの算術平均値を求めることによっ
て求めることができる。

具体的な断面写真の撮影方法は以下の通りとする。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出し
た接着層を含む積層体を包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから
一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ～３００ｎｍ程度の切片
を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイク
ロシステムズ株式会社）等を用いる。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された
残りのブロックを測定サンプルとする。その後、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（製品名「
Ｓ－４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写
真を撮影する。上記Ｓ－４８００を用いて断面写真を撮影する際には、検出器を「ＳＥ」
、加速電圧を「３ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」にして断面観察を行った。倍
率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観
察しながら１００～１０万倍、好ましくは接着層の膜厚に応じて１０００倍～１万倍で適
宜調節する。なお、膜厚の測定ぶれを低減するために、接着層の膜厚を極力低倍率で測定
することが推奨される。例えば、接着層の膜厚が９μｍ程度の場合には倍率２０００倍、
５μｍ程度の場合には倍率２０００～５０００倍が好ましい。さらに、アパーチャーを「
ビームモニタ絞り１」にし、対物レンズ絞りを「２」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」に
する。

＜＜＜＜円偏光板＞＞＞＞
円偏光板４０は、外光をカットする機能を有する。円偏光板４０は、例えば、観察者側
に向けて、第１の位相差フィルム４１（以下、単に「位相差フィルム４１」と称すること
もある。）と、接着層４２と、第２の位相差フィルム４３（以下、単に「位相差フィルム
４３」と称することもある。）と、接着層４４と、第１の保護フィルム４５（以下、単に
「保護フィルム４５」と称することもある。）と、偏光子４６と、第２の保護フィルム４
７（以下、単に「保護フィルム４７」と称することもある。）とを、この順で備えている
。

円偏光板４０は、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満となっており、波長４
１０ｎｍにおける分光透過率が０．５％以上３０％未満となっており、かつ波長４４０ｎ
ｍにおける分光透過率が３５％以上となっていることが好ましい。円偏光板４０における
波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であれば、優れたブルーライトの遮蔽率を
達成できる。また、円偏光板における波長４１０ｎｍにおける分光透過率が０．５％以上
であれば、円偏光板４０の黄色味を抑制でき、また波長４１０ｎｍにおける分光透過率が
３０％未満であると、透過光に悪影響を与えずに優れたブルーライトの遮蔽率を達成でき
る。円偏光板４０における波長４４０ｎｍにおける分光透過率が３５％以上であれば、イ
エローインデックスが低く円偏光板４０自体の色味が黄色くならず、また可視光領域の透
過率低下を抑制できる。円偏光板４０の波長３８０ｎｍにおける分光透過率の上限は、０
．５％未満、０．２％未満であることがより好ましい（数値が小さいほど好ましい）。円
偏光板４０の波長４１０ｎｍにおける分光透過率の下限は１％以上であることがより好ま
しく、上限は２５％以下であることがより好ましい。円偏光板４０の波長４４０ｎｍにお
ける分光透過率の下限は、４０％以上、４５％以上であることがより好ましい（数値が大
きいほど好ましい）。

分光透過率は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した円偏光板を、透過率を０．５
ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製
、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に円偏光板の第１の位相差フィルム
側が光源側となるように配置した状態で、以下の測定条件で、波長３８０ｎｍ、４１０ｎ
ｍ、および４４０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を測
定し、その平均値を算出することによって求めるものとする。なお、波長３８０ｎｍ、４
１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率は、それぞれ３回測定して得られた値の
算術平均値とする。また、分光透過率のスペクトルにうねりが出るようであれば、デルタ
５．０ｎｍでスムージング処理を行ってもよい。
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ～７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施

円偏光板４０は、波長４２０ｎｍにおける分光透過率が５％以上２５％以下であること
が好ましい。波長４２０ｎｍにおける分光透過率をこの範囲内にすることによって、ブル
ーライト遮蔽性能の発揮、着色による視認性低下の抑制および透明性の確保を図ることが
できる。円偏光板４０における波長４２０ｎｍにおける分光透過率も、波長３８０ｎｍ等
における分光透過率と同様に測定するものとする。

円偏光板に粘着層や接着層を介してカバーガラス等が設けられている場合には、粘着層
や接着層とともにカバーガラス等を剥離してから、波長３８０ｎｍ、４１０ｎｍ、４２０
ｎｍ、４４０ｎｍにおける分光透過率を測定するものとする。カバーガラス等の剥離は、
例えば、以下のようにして行うことができる。まず、円偏光板に粘着層や接着層を介して
カバーガラス等が付いた積層体をドライヤーで加熱し、円偏光板とカバーガラス等の界面
と思われる部位にカッターの刃先を入れて、ゆっくりと剥離していく。このような加熱と
剥離を繰り返すことで、粘着層や接着層およびカバーガラス等を剥離することができる。
なお、このような剥離工程があったとしても、分光透過率の測定には大きな影響はない。

円偏光板４０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。円
偏光板４０のＹＩが１５以下であれば、円偏光板４０の黄色味を抑制でき、透明性が求め
られる用途にも適用できる。イエローインデックス（ＹＩ）は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大
きさに切り出した保護フィルムを、分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島
津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に円偏光板の第１の位相
差フィルム側が光源側となるように配置した状態で測定した円偏光板の波長３００ｎｍ～
７８０ｎｍの透過率から、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色
度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ Ｄ１９２５：１９６
２に記載された演算式に従って算出される値である。イエローインデックス（ＹＩ）は、
保護フィルム１枚に対して波長３００ｎｍ～７８０ｎｍの透過率を３回測定することによ
って３回算出し、３回算出して得られた値の算術平均値とする。なお、ＵＶ－２４５０に
おいては、イエローインデックスは、ＵＶ－２４５０に接続されたモニター上で、上記透
過率の測定データを読み込み、計算項目にて「ＹＩ」の項目にチェックを入れることによ
って算出される。波長３００ｎｍ～７８０ｎｍの透過率の測定条件は、上記波長３８０ｎ
ｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率の測定条件と同様である。ＹＩの
下限は、本来は高透明性の確保という観点から低い方が好ましいが、ブルーライトカット
性能も付与することを考えると、１以上、２以上、３以上であることがより好ましい（数
値が大きい方が好ましい）。ただし、ＹＩが大きすぎると今度は黄色味が強くなってしま
う場合がある。このため、ＹＩの上限は、１０以下、７以下、６以下であることがより好
ましい（数値が小さい方が好ましい）。

また、円偏光板に粘着層や接着層を介してカバーガラス等が設けられている場合には、
上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともにカバーガラスを剥離してから、イエロ
ーインデックス（ＹＩ）を測定するものとする。なお、このような剥離工程があったとし
ても、イエローインデックス（ＹＩ）の測定には大きな影響はない。

円偏光板４０は、ブルーライトの遮蔽率が２０％以上であることが好ましい。ブルーラ
イトの遮蔽率が２０％以上であれば、上述したブルーライトに起因した問題が充分に解消
できる。上記ブルーライトの遮蔽率は、例えば、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切
り出した円偏光板を、分光透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（製品名「
ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ラン
プ）内に円偏光板の第１の位相差フィルム側が光源側となるように配置した状態で、波長
３００ｎｍ～７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を
測定する。そして、ブルーライトカット率（％）をＡとし、波長３８０ｎｍ～５００ｎｍ
の透過率の平均値（％）をＢとし、波長５００ｎｍ～６５０ｎｍの透過率の平均値（％）
をＣとして、ブルーカット率を下記式によって求める。なお、ブルーライトの遮蔽率は、
３回測定して得られた値の算術平均値とする。また、分光透過率の測定条件は、上記波長
３８０ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透過率の測定条件と同様である
。
Ａ＝（１－Ｂ／Ｃ）×１００

また、円偏光板に粘着層や接着層を介してカバーガラス等が設けられている場合には、
上記と同様の方法によって粘着層や接着層とともにカバーガラス等を剥離してから、ブル
ーライトの遮蔽率を測定するものとする。なお、このような剥離工程があったとしても、
ブルーライトの遮蔽率の測定には大きな影響はない。

円偏光板４０は、最小二乗法を用いて得られた波長４１０ｎｍ～４２０ｎｍの範囲の透
過スペクトルの傾きが、２以上３．８以下であることが好ましい。上記傾きが２以上であ
れば、ブルーライトの光波長域、例えば、波長３８０ｎｍ～５００ｎｍの波長域において
充分に光がカットできる。また、ブルーライトの光波長域（波長３８０ｎｍ～５００ｎｍ
）をカットしすぎている可能性も考えられ、その場合、画像表示装置の発光波長域（例え
ば、ＯＬＥＤ素子の波長４３０ｎｍからの発光）に干渉してしまい、色味が悪くなるとい
った不具合が発生する可能性が大きくなることがある。

上記傾きは、以下のようにして求めるものとする。まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさ
に切り出した円偏光板を、例えば、透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（
製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製）内に円偏光板の第１の位相差フィル
ム側が光源側となるように配置した状態で、波長４１０ｎｍ～４２０ｎｍにおいてそれぞ
れ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を測定し、その平均値を算出することによ
って波長４１０ｎｍ～４２０ｎｍの分光透過率をそれぞれ求める。次いで、得られた分光
透過率を用いて、最小二乗法によって波長４１０ｎｍ～４２０ｎｍの分光透過率の傾きを
求める。なお、上記傾きは、３回測定して得られた値の算術平均値とする。また、分光透
過率の測定条件は、上記波長３８０ｎｍ、４１０ｎｍ、および４４０ｎｍにおける分光透
過率の測定条件と同様である。

円偏光板４０に対し、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－１：１９９９に準じるマンドレル試験
（２ｍｍから３２ｍｍの金属製円柱にサンプルを巻きつける試験）を行ったとき、円偏光
板４０にクラック（ひび）が発生しなかったときの円柱の最小直径は６ｍｍ以下であるこ
とが好ましい。最小直径が６ｍｍ以下であれば、優れたフレキシブル性を得ることができ
る。マンドレル試験は、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した円偏光板を、第２の樹
脂層が内側となるように円柱に巻き付けて行うものとする。

＜＜＜第１の位相差フィルム＞＞＞
位相差フィルム４１としては、ポジティブＣプレートまたはλ／４位相差フィルムを用
いることができる。

＜＜ポジティブＣプレート＞＞
ポジティブＣプレートは、面内方向の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、厚さ方向の屈折率をｎ
ｚとすると、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚの関係を満たすフィルムである。ポジティブＣプレートを
配置することにより、表示画面の法線方向に対して斜め方向から見たときの色味を改善で
きる。ポジティブＣプレートは、例えば、垂直配向した液晶層から構成されていてもよい
。

＜＜λ／４位相差フィルム＞＞
λ／４位相差フィルムとは、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム
の面内位相差が約１／４となる特性を備えるフィルムである。λ／４位相差フィルムを配
置することにより、直線偏光を円偏光に、または円偏光を直線偏光に変換することができ
る。

λ／４位相差フィルムとしては、正の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムや負の
波長分散性を有するλ／４位相差フィルムが挙げられる。正の波長分散性を有するλ／４
位相差フィルムは、長波長になるほど位相差が小さくなる性質を有するフィルムであり、
負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムは、長波長になるほど位相差が大きくなる
性質を有するフィルムである。

正の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムは、延伸倍率を調整しながら樹脂フィル
ムを延伸することによって得ることができる。λ／４位相差フィルムを得るための樹脂フ
ィルムを構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、セルロース系樹脂等
が挙げられる。負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムは、例えば、ポリカーボネ
ート系樹脂、芳香族構造を有する樹脂によって得ることができる。

＜＜＜接着層＞＞＞
接着層４２、４４は、電離放射線重合性化合物を含む液状の電離放射線硬化性接着剤（
例えば、ＯＣＲ：Optically Clear Resin）の硬化物や粘着剤（例えば、ＯＣＡ：Optical
Clear Adhesive)から構成することが可能である。接着層４２の膜厚は、０．５μｍ以上
５０μｍ以下であることが好ましい。接着層４２、４４の膜厚は、接着層７１、７２の膜
厚と同様の方法によって求めることができる。

＜＜＜第２の位相差フィルム＞＞＞
位相差フィルム４１がポジティブＣプレートである場合には、位相差フィルム４３とし
ては、負の波長分散性（逆波長分散性）を有するλ／４位相差フィルムを用いることがで
き、また位相差フィルム４１がλ／４位相差フィルムである場合には、λ／２位相差フィ
ルムを用いることができる。

＜＜負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルム＞＞
負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムとしては、上記λ／４位相差フィルムの
欄で説明した負の波長分散性を有するλ／４位相差フィルムと同様であるので、ここでは
説明を省略するものとする。

＜＜λ／２位相差フィルム＞＞
λ／２位相差フィルムとは、所定の光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム
の面内位相差が約１／２となる特性を備えたフィルムである。λ／２位相差フィルムを配
置することにより、広い波長帯域において円偏光に変換することができる。

λ／２位相差フィルムは、延伸倍率を調整しながら樹脂フィルムを延伸することによっ
て得ることができる。λ／２位相差フィルムを得るための樹脂フィルムを構成する樹脂と
しては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。

＜＜＜第１の保護フィルム＞＞＞
保護フィルム４５は、偏光子４６を保護するためのものである。保護フィルム４５の厚
みは、５μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましい。保護フィルム４５の厚みは、接着
層７１、７２の膜厚と同様の方法によって求めることができる。

保護フィルム４５は、樹脂から構成されていることが好ましい。樹脂としては、例えば
、ポリエステル系樹脂、アセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエー
テルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリ
ル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂
等が挙げられる。これらの中でも、ＯＬＥＤ素子２０は水分によっても劣化しやすいので
、水蒸気透過率が低く、ＯＬＥＤ素子２０の水分による劣化を抑制する観点から、（メタ
）アクリル系樹脂が好ましい。これらの光透過性基材は必要に応じて、可塑剤、紫外線吸
收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。

ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
エチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリブチレ
ンナフタレート（ＰＢＮ）の少なくとも１種を構成成分とする樹脂等が挙げられる。ポリ
エステル基材を用いた場合、紫外光が照射されると励起されて蛍光を発する性質を有する
ことが知られている。このような蛍光は、表示面の色味に影響を及ぼすことがあるので、
ポリエステル系樹脂を用いる場合には、上述のように波長３８０ｎｍ以下の光はほぼ遮蔽
することが好ましい。これにより樹脂としてポリエステル系樹脂を用いたとしても、蛍光
が生じることを好適に防止することができる。

アセチルセルロース系樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース系樹脂、ジアセ
チルセルロース系樹脂が挙げられる。トリアセチルセルロース系樹脂は、可視光域３８０
～７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な基材である。トリ
アセチルセルロース系基材の平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好
ましい。

なお、トリアセチルセルロース系樹脂としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に
、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロ
ースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。ま
た、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他の
セルロース低級脂肪酸エステルが添加されていてもよい。

シクロオレフィン系樹脂としては、例えばノルボルネン系モノマーおよび単環シクロオ
レフィンモノマー等の重合体からなる基材が挙げられる。シクロオレフィン系樹脂の市販
品としては、例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系
樹脂）、住友ベークライト株式会社製のスミライトＦＳ－１７００、ＪＳＲ株式会社製の
アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学株式会社製のアペル（環状オレフィン共
重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成株式会
社製のオプトレッツＯＺ－１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。

ポリカーボネート系樹脂としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）
をベースとする芳香族ポリカーボネート系樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネート等の脂肪族ポリカーボネート系樹脂等が挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル系樹脂、ポ
リ（メタ）アクリル酸エチル系樹脂、（メタ）アクリル酸メチル－（メタ）アクリル酸ブ
チル共重合体系樹脂等が挙げられる。

＜＜＜偏光子＞＞＞
偏光子４６は、保護フィルム４５、４７間に配置されている。偏光子４６は、ヨウ素ま
たは二色性色素により染色し、一軸延伸させたポリビニルアルコール系樹脂フィルムが上
げられる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂を鹸化したもの
を用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体である
ポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げ
られる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、
オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリ
ルアミド類等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂は、変性されていてもよく、例
えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等を用い
ることもできる。

＜＜＜第２の保護フィルム＞＞＞
保護フィルム４７も、偏光子４６を保護するためのものである。保護フィルム４７は、
光透過性基材４８と、第１の樹脂層４９（以下、単に「樹脂層４９」と称することもある
。）と、第２の樹脂層５０（以下、単に「樹脂層５０」と称することもある。）が、この
順で積層された積層体となっている。保護フィルム４７の表面は、第２の樹脂層５０の表
面となっている。「第２の樹脂層の表面」とは、第２の樹脂層における光透過性基材側の
面とは反対側の面を意味するものとする。

保護フィルム４７の厚みは、５μｍ以上８０μｍ以下であることが好ましい。保護フィ
ルム４７の厚みは、接着層７１、７２の膜厚と同様の方法によって求めることができる。

保護フィルム４７は、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満となっており、波
長４１０ｎｍにおける分光透過率が１％以上６０％未満となっており、かつ波長４４０ｎ
ｍにおける分光透過率が７０％以上となっていることが好ましい。保護フィルム４７にお
ける波長３８０ｎｍにおける分光透過率が１％未満であれば、優れたブルーライトの遮蔽
率を達成できる。また、保護フィルムにおける波長４１０ｎｍにおける分光透過率が１％
以上であれば、保護フィルム４７の黄色味を抑制でき、また波長４１０ｎｍにおける分光
透過率が６０％未満であると、透過光に悪影響を与えずに優れたブルーライトの遮蔽率を
達成できる。保護フィルム４７における波長４４０ｎｍにおける分光透過率が７０％以上
であれば、イエローインデックスが低く保護フィルム４７自体の色味が黄色くならず、ま
た可視光領域の透過率低下を抑制できる。保護フィルム４７の波長３８０ｎｍにおける分
光透過率の上限は、０．５％未満、０．２％未満であることがより好ましい（数値が小さ
いほど好ましい）。保護フィルム４７の波長４１０ｎｍにおける分光透過率の下限は３％
以上であることがより好ましく、上限は５５％以下であることがより好ましい。保護フィ
ルム４７の波長４４０ｎｍにおける分光透過率の下限は、７５％以上、８０％以上である
ことがより好ましい（数値が大きいほど好ましい）。保護フィルム４７の分光透過率は、
円偏光板４０の分光透過率と同様の方法によって測定するものとする。

保護フィルム４７の表面（樹脂層５０の表面）は、柔軟性を得る観点から、鉛筆硬度試
験で測定されたときの硬度（鉛筆硬度）が、Ｂ～Ｈであることが好ましい。鉛筆硬度試験
は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した保護フィルムをガラス板上に折れやシワ
がないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で固定し、保護フィルムの表面
に対し鉛筆硬度試験機（製品名「鉛筆引っかき塗膜硬さ試験機（電動式）」、株式会社東
洋精機製作所製）を用いて、鉛筆（製品名「ユニ」、三菱鉛筆株式会社製）に３００ｇの
荷重を加えながら３ｍｍ／秒の移動速度で移動させることにより行うものとする。鉛筆硬
度は、鉛筆硬度試験において保護フィルム４７の表面に傷が付かなかった最も高い硬度と
する。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆１
本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上保護フィルム４７の表面に傷が付
かなかった場合には、この硬度の鉛筆においては保護フィルム４７の表面に傷が付かなか
ったと判断する。上記傷は、鉛筆硬度試験を行った保護フィルム４７の表面を蛍光灯下で
透過観察して視認されるものを指す。

保護フィルム４７の表面（樹脂層５０の表面）における水に対する接触角は、７５°以
下となっていることが好ましい。この接触角が、７５°以下であれば、接着層７２との密
着性が良好となる。保護フィルム４７の表面における水に対する接触角は、ＪＩＳ Ｒ３
２５７－１９９９に記載の静滴法に従って、顕微鏡式接触角計（製品名「ＤｒｏｐＭａｓ
ｔｅｒ３００」、協和界面科学株式会社製）を用いて、測定する。水に対する接触角は、
１μＬの水を保護フィルム４７の表面に滴下して、滴下直後における接触角を１０点測定
し、それらの算術平均値を保護フィルム４７の表面の接触角とする。保護フィルム４７の
表面における水に対する接触角は、７０°以下となっていることがより好ましい。

＜＜光透過性基材＞＞
光透過性基材４８の厚みは、保護フィルム４５の厚みと同様の理由から、５μｍ以上８
０μｍ以下であることが好ましい。光透過性基材４８の厚みは、接着層７１、７２の膜厚
と同様の方法によって求めることができる。光透過性基材４８は、樹脂から構成されてい
ることが好ましい。樹脂は、保護フィルム４５と同様のものを用いることができるので、
ここでは説明を省略するものとする。

＜＜第１の樹脂層＞＞
樹脂層４９は、ＯＬＥＤ素子２０とカバー層６０との間に配置されており、ハードコー
ト層として機能する層である。樹脂層４９のインデンテーション硬さは、１００ＭＰａ以
上６００ＭＰａ以下となっている。樹脂層４９のインデンテーション硬さが、１００ＭＰ
ａ以上であれば、所望の硬度を得ることができるとともに耐擦傷性の低下を抑制でき、ま
た６００ＭＰａ以下であれば、柔軟性に優れた樹脂層４９を得ることができる。樹脂層４
９のインデンテーション硬さの下限は１５０ＭＰａ以上であることが好ましく、上限は５
００ＭＰａ以下であることが好ましい。本明細書における「インデンテーション硬さ」と
は、圧子の負荷から除荷までの荷重－変位曲線から求められる値である。

インデンテーション硬さ（Ｈ_ＩＴ）は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製のＴＩ
９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒを用いて測定することができる。具体的には、まず
、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した保護フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作
製し、ナノインデンテーション法での硬度測定に適した測定用サンプルを作製する。測定
用サンプルの作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシス
テムズ株式会社）等を用いることができる。次いで、測定サンプルの圧子を押し込む面が
ステージの載置面と平行となるように測定サンプルをＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）
社製のＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒのステージに固定する。そして、樹脂層
の断面中央の平坦な部分に、荷重制御方法で、最大押し込み荷重が３００μＮとなるよう
に、荷重速度１０μＮ／秒でバーコビッチ型圧子を、３０秒で荷重０μＮから３００μＮ
まで負荷を加えながら樹脂層に押し込み、その後３００μＮで５秒間保持した後、３０秒
で３００μＮから０μＮまで除荷する。そして、このときの押し込み荷重Ｆ（Ｎ）に対応
する押し込み深さｈ（ｎｍ）を連続的に測定し、荷重－変位曲線を作成する。作成された
荷重－変位曲線からインデンテーション硬さＨ_ＩＴを、下記式（１）のように最大押し込
み荷重Ｆ_ｍａｘ（Ｎ）を、圧子と樹脂層が接している投影面積Ａ_ｐ（ｍｍ^２）で除した値
により求めることができる。インデンテーション硬さは、１０箇所測定して得られた値の
算術平均値とする。
Ｈ_ＩＴ＝Ｆ_ｍａｘ／Ａ_ｐ …（１）
ここで、Ａ_ｐは下記式（２）によって求められる値である。
Ａ_ｐ＝２３．９６（ｈ_ｍａｘ－０．７５（ｈ_ｍａｘ－ｈ_ｒ））^２ …（２）
上記式（２）中、ｈ_ｍａｘは最大押し込み深さであり、ｈ_ｒはＦ_ｍａｘにおける除荷曲
線の接線が横軸（変位）の交点の値である。

樹脂層４９の膜厚は、０．５μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。樹脂層４９
の膜厚が、０．５μｍ以上であれば、生産工程での傷付き防止可能な硬度を得ることがで
きる。また、樹脂層４９の膜厚が、１５μｍ以下であれば、折り曲げ時や湾曲時における
クラックの発生を抑制できる。樹脂層４９の膜厚は、接着層７１、７２の膜厚と同様の方
法によって求めることができる。樹脂層４９の膜厚の下限は、１μｍ以上であることがよ
り好ましく、上限は、１０μｍ以下であることがより好ましい。

樹脂層４９は、主に樹脂から構成されているが、樹脂以外にまたは樹脂の一部として波
長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収する光吸収剤を含んでいる。

＜樹脂＞
樹脂層に含まれる樹脂としては、電離放射線重合性化合物の重合物を含むものである。
樹脂は、電離放射線重合性化合物の重合物の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物を含ん
でいてもよい。

（電離放射線重合性化合物）
電離放射線重合性化合物は、電離放射線重合性官能基を少なくとも１つ有するものであ
る。本明細書における、「電離放射線重合性官能基」とは、電離放射線照射により重合反
応し得る官能基である。電離放射線重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイ
ル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、本明細書におけ
る「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の
両方を含む意味である。また、電離放射線重合性化合物を重合する際に照射される電離放
射線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる
。

エチレン性不飽和基を１つ有する電離放射線重合性化合物としては、例えば、エチル（
メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン
、Ｎ－ビニルピロリドン等を挙げることができる。エチレン性不飽和基を２以上有する電
離放射線重合性化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６－
ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物
（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる
。

上記化合物のほかに、エチレン性不飽和基を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂
、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、ス
ピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射
線重合性化合物として使用することができる。

（溶剤乾燥型樹脂）
溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を
乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を併用することによっ
て、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。上記電離放射線重合性化合物と併
用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性
樹脂を使用することができる。

上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリ
ル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフ
ィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ
ース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。

上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや重合性化合物
を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の
観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

（熱硬化性化合物）
熱硬化性化合物としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン－尿素共縮合樹脂、ケイ素
樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。

＜光吸収剤＞
光吸収剤は、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収すればよく、この
波長域内に吸収ピークを有しなくともよい。また、光吸収剤は、波長３８０ｎｍ以上５０
０ｎｍ以下の波長域内の一部の波長の光を吸収していればよく、この波長域内の全ての波
長の光を吸収している必要はない。光吸収剤においては、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ
以下の波長域内での最大吸光度は、０．５以上であることが好ましい。

光吸収剤としては、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収するもので
あれば、特に限定されず、例えば、セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物およびイン
ドール系化合物の少なくともいずれかが挙げられる。樹脂層が、光吸収剤を含むか否かは
、まず、樹脂層の欠片を採取して、その欠片を赤外分光分析（ＩＲ）によって測定し、得
られた赤外吸収スペクトルを市販の光吸収剤と比べることによって調べることができる。
光吸収剤は、樹脂層４９を構成する樹脂中に共重合体として含まれていてもよい。

（セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物）
セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、下記一般式（Ａ）で表さ
れる化合物が挙げられる。下記一般式（Ａ）で表される化合物であれば、波長３８０ｎｍ
以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収することができる。下記一般式（Ａ）で表される
化合物は、樹脂層４９を構成する樹脂中に単量体単位として含まれる。

式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６の直鎖状
または分岐鎖状のアルキレン基または炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアル
キレン基を表す。

上記一般式（Ａ）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系化合物は、ベンゾトリ
アゾール環の２位の窒素原子にセサモールを結合させた化合物からの誘導体であり、ベン
ゾトリアゾール環のベンゼン部位に重合性２重結合を導入した分子構造を有する。最大吸
収波長λ_ｍａｘは３６５ｎｍ以上であり、波長３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下の波長域を
包括する広い範囲の紫外線吸収スペクトルを有し、４００ｎｍ付近の長波長域まで紫外線
吸収能力を有する。

上記セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物としては特に制限されないが、具体的な
物質名としては、２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル
）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレート、２－［２－（６－ヒ
ドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－
イル］エチルアクリレート、３－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール
－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］プロピルメタクリレート、３－［
２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリア
ゾール－５－イル］プロピルアクリレート、４－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３
］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］ブチルメタクリレ
ート、４－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－
ベンゾトリアゾール－５－イル］ブチルアクリレート、２－［２－（６－ヒドロキシベン
ゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イルオキシ］
エチルメタクリレート、２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５
－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イルオキシ］エチルアクリレート、２－［３
－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾト
リアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２－［３－{２－（
６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール
－５－イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４－［３－{２－（６－ヒドロキ
シベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}
プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ
［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノ
イルオキシ］ブチルアクリレート、２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］
ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ
］エチルメタクリレート、２－［３－{２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソ
ール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル}プロパノイルオキシ］エチル
アクリレート、２－（メタクリロイルオキシ）エチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，
３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５カルボキシレート、２－
（アクリロイルオキシ）エチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５
－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート、４－（メタクリロイルオ
キシ）ブチル２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－
ベンゾトリアゾール－５－カルボキシレート、４－（アクリロイルオキシ）ブチル２－（
６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール
－５－カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリ
アゾール系化合物は１種類で用いることもできるし、２種類以上を用いることもできる。

（インドール系化合物）
インドール系化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が挙げられ
る。下記一般式（Ｂ）で表される化合物であれば、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の
波長域の光を吸収することができる。

式（Ｂ）中、Ｒ^３は、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基またはアラルキル基を表し、
Ｒ^４は、－ＣＮまたは－ＣＯＯＲ^５を表し、ここで、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい
アルキル基またはアラルキル基（ただし、Ｒ^３がメチル基である場合はエチル基を除く。
）を表す。

Ｒ^３の炭素数は、炭素数１～１２とすることが可能である。Ｒ^３の具体例としては、メ
チル基、エチル基、（イソ）ブチル基、ｔ－ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２－エ
チルヘキシル基、ドデシル基、ベンジル基等が挙げられる。Ｒ^５の具体例としては、例え
ば上記Ｒ^３で例示した基およびβ－シアノエチル基、β－クロロエチル基、エトキシプロ
ピル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル基が挙げられる。ただし
、Ｒ^３がメチル基である場合、Ｒ^５はエチル基ではない。

インドール系化合物としては、オリヱント化学工業株式会社製のＢＯＮＡＳＯＲＢ Ｕ
Ａ－３９１１等が挙げられる。

上記光吸収剤は、例えば、樹脂層４９中に０．０５質量％以上５０質量％以下で含有さ
れていてもよい。このような範囲で光吸収剤が含有されていることで、上述した分光透過
率を満たすことができる。なお、上記光吸収剤がセサモール型ベンゾトリアゾール系化合
物である場合には、樹脂層４９中に０．１質量％以上５０質量％以下で含有されていても
よい。

樹脂層４９は、例えば、電離放射線重合性化合物および光吸収剤を含む第１の樹脂層用
組成物を光透過性基材４８の一方の面側に塗布し、乾燥させ、電離放射線を照射して硬化
させることによって、形成することができる。

＜樹脂層用組成物＞
樹脂層用組成物は、電離放射線重合性化合物および光吸収剤の他、溶剤乾燥型樹脂、熱
硬化性化合物、重合開始剤、溶剤等を含んでいてもよい。

（重合開始剤）
重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、重合開
始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイル
ベンゾエート、α－アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベ
ンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を
混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ－ブチルアミン、トリ
エチルアミン、ポリ－ｎ－ブチルホスフィン等が挙げられる。

重合開始剤としては、上記電離放射線重合性化合物がラジカル重合性官能基を有する場
合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記電離放射線重
合性化合物がカチオン重合性官能基を有する場合は、重合開始剤としては、芳香族ジアゾ
ニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾイ
ンスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。

樹脂層用組成物における上記重合開始剤の含有量は、上記電離放射線硬化型樹脂１００
質量部に対して、１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。１質量部以上であ
れば、樹脂層４９の硬度が不充分なるおそれがなく、また１０質量部以下であれば、塗設
した膜の深部まで電離放射線が届くので、内部でも硬化が促進され、目標とする樹脂層の
表面の硬度（例えば、鉛筆硬度でＢ以上）が得られる。

上記重合開始剤の含有量の下限は２質量部以上であることがより好ましく、上限は８質
量部以下であることがより好ましい。上記重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、
膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。

（溶剤）
溶剤としては、使用する電離放射線重合性化合物の種類および溶解性に応じて選択して
使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、
テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素
類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素
類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘ
キサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブ
アセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。

樹脂層用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、５質
量％以上７０質量％以下が好ましく、２５質量％以上６０質量％以下がより好ましい。

樹脂層用組成物には、硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する、および
／または防眩性を付与する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止
剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベ
リング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、
易滑剤等を添加していてもよい。

樹脂層用組成物は、光増感剤を混合して用いてもよく、その具体例としては、例えば、
ｎ－ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ－ｎ－ブチルホソフィン等が挙げられる。

樹脂層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例え
ば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行
うことができる。

樹脂層用組成物を光透過性基材上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、ス
ピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター
法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の
公知の方法が挙げられる。

樹脂層用組成物の硬化に用いられる電離放射線として、紫外線を用いる場合、紫外線源
としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラッ
クライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長と
しては、１９０～３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例として
は、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又
は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

＜＜第２の樹脂層＞＞
樹脂層５０は、オーバーコート層として機能する層である。光吸収剤はブリードアウト
しやすいので、樹脂層４９上に樹脂層５０を形成することにより、光吸収剤が樹脂層４９
からブリードアウトして、接着層７２に影響を与えることを抑制することができる。また
、樹脂層４９は、光吸収剤を含有しているので、耐擦傷性に劣り、偏光板の作製時に傷が
付いてしまうおそれがある。樹脂層５０を形成することにより、耐擦傷性を向上させるこ
とができるので、円偏光板４０の作製時に傷が付くことを抑制できる。

樹脂層５０のインデンテーション硬さは、１００ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下となって
いることが好ましい。樹脂層５０のインデンテーション硬さが、１００ＭＰａ以上であれ
ば、所望の硬度を得ることができ、また６００ＭＰａ以下であれば、柔軟性に優れた樹脂
層５０を得ることができる。樹脂層のインデンテーション硬さの下限は１５０ＭＰａ以上
であることが好ましく、上限は５００ＭＰａ以下であることが好ましい。

樹脂層５０の膜厚は、０．５μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましい。樹脂層５０
の膜厚が、０・５μｍ以上であれば、生産工程での傷付き防止可能な硬度を得ることがで
きる。また、樹脂層５０の膜厚が、１５μｍ以下であれば、折り曲げ時や湾曲時における
クラックの発生を抑制できる。樹脂層５０の膜厚は、接着層７１、７２の膜厚と同様の方
法によって求めることができる。樹脂層５０の膜厚の下限は、１μｍ以上であることがよ
り好ましく、上限は、１０μｍ以下であることがより好ましい。

樹脂層５０は、主に樹脂から構成されている。樹脂層５０は、樹脂の他、保護フィルム
４７をロール状に巻回したときの保護フィルム４７同士の貼り付きを防止するためにブロ
ッキング防止剤を含んでいてもよい。

＜樹脂＞
樹脂層５０に含まれる樹脂としては、電離放射線重合性化合物の重合物を含むものであ
る。樹脂は、電離放射線重合性化合物の重合物の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性化合物を
含んでいてもよい。

樹脂層５０を構成する電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマー、
電離放射線重合性オリゴマー、または電離放射線重合性プレポリマーが挙げられ、これら
を適宜調整して、用いることができる。電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重
合性モノマーと、電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーとの
組み合わせが好ましい。

電離放射線重合性モノマーとしては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アク
リレート等の水酸基を含むモノマーや、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート
、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ
）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート等の（メタ）
アクリル酸エステル類が挙げられる。

電離放射線重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましく、電
離放射線重合性官能基が３つ（３官能）以上の多官能オリゴマーが好ましい。上記多官能
オリゴマーとしては、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）ア
クリレート、ポリエステル－ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アク
リレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシア
ヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

電離放射線重合性プレポリマーは、重量平均分子量が１万を超えるものであり、重量平
均分子量としては１万以上８万以下が好ましく、１万以上４万以下がより好ましい。重量
平均分子量が８万を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる
光透過性樹脂の外観が悪化するおそれがある。多官能プレポリマーとしては、ウレタン（
メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル－ウレタン
（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

＜ブロッキング防止剤＞
ブロッキング防止剤としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、シリカ
、酸化カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛等の酸化物、水酸化アルミニウム、水酸化マグ
ネシウム、水酸化カルシウム等の水酸化物、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等の炭酸
塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の硫酸塩、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸アルミニウ
ム、ケイ酸カルシウム、アルミノケイ酸等のケイ酸塩、その他、カオリン、タルク、けい
そう土等の無機化合物系の１種ないし２種以上が挙げられる。

無機化合物系のブロッキング防止剤の平均粒子径は、５０ｎｍ以上３μｍ以下であるこ
とが好ましい。ブロッキング防止剤の平均粒子径が５０ｎｍ以上であれば、樹脂層の表面
の凹凸形状が小さすぎないので、アンチブロッキング効果が得られ、また、平均粒子径が
３μｍ以下であれば、樹脂層の表面の凹凸が大きくなりすぎないので、透明性の低下を抑
制できる。

ブロッキング防止剤としては、例えば、高密度ポリエチレン、分子量３０００００以上
の超高分子ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステ
ル、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル系樹脂、その他等の微粉末等から
なる有機化合物系を原料の１種ないし２種以上とするものであってもよい。

ブロッキング防止剤の含有量は、樹脂層を構成する樹脂１００質量部に対して、０．０
１質量部以上６質量部以下であることが好ましく、２質量部以上５質量部以下であること
がより好ましい。ブロッキング防止剤の含有量が０．０１質量部未満であると、光透過性
機能層の表面の凹凸形状の形成が不充分となり、耐ブロッキング性が不充分となることが
あり、また６質量部を超えると、樹脂層の透明性が低下することがある。

樹脂層５０は、例えば、電離放射線重合性化合物およびブロッキング防止剤を含む第２
の樹脂層用組成物を樹脂層４９の表面に塗布し、乾燥させ、電離放射線を照射して硬化さ
せることによって、形成することができる。

＜＜＜＜他の画像表示装置＞＞＞＞
図１に示される画像表示装置１０は、樹脂層４９上に樹脂層５０を備える第２の保護フ
ィルム４７を備えているが、画像表示装置としては、図２に示されるように、樹脂層４９
上に樹脂層５０を備えない第２の保護フィルム９１を備える画像表示装置８０であっても
よい。

画像表示装置８０、円偏光板９０、および保護フィルム９１は、樹脂層５０を備えてい
ないこと以外は、画像表示装置１０、円偏光板４０、および保護フィルム４７と同様であ
るので、ここでは説明を省略するものとする。なお、樹脂層５０を備えていないので、樹
脂層４９の表面が保護フィルム９１の表面となっている。

本実施形態によれば、ＯＬＥＤ素子２０よりも観察者側に波長３８０ｎｍ以上５００ｎ
ｍ以下の波長域の光を吸収する光吸収剤を含む樹脂層４９を備えているので、樹脂層４９
により外光のうち波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収することができ
る。これにより、ＯＬＥＤ素子２０の外光による劣化を抑制できる。また、ＯＬＥＤ素子
２０から発せられる波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収することがで
きるので、ブルーライトを遮蔽できる。

本実施形態によれば、ＯＬＥＤ素子２０よりも観察者側にセサモール型ベンゾトリアゾ
ール系化合物およびインドール系化合物の少なくともいずれかを含む樹脂層４９を備えて
いるので、樹脂層４９により外光のうち波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光
を吸収することができる。これにより、ＯＬＥＤ素子２０の外光による劣化を抑制できる
とともに、ＯＬＥＤ素子２０から発せられるブルーライトを遮蔽できる。

本実施形態によれば、偏光子４６よりも観察者側に波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下
の波長域の光を吸収する光吸収剤を含む樹脂層４９を備えているので、ＯＬＥＤ素子２０
のみならず、偏光子４６の外光による劣化を抑制できる。

第２の実施形態のように、接着層に上記光吸収剤を含ませた場合にも、ＯＬＥＤ素子２
０の外光による劣化を抑制できるとともに、ブルーライトを遮蔽できるが、接着層に光吸
収剤を含ませると、接着力が低下しやすい。このため、接着層の薄膜化を図ることは困難
である。また、円偏光板等の構成によって、接着層の種類を変えることもあるので、接着
層の種類毎に光吸収剤を含ませる必要がある。これに対し、本実施形態によれば、インデ
ンテーション硬さが１００ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下の樹脂層４９に光吸収剤を含ませ
ているので、樹脂層４９の薄膜化を図ることができる。また、樹脂層４９に光吸収剤を含
ませているので、円偏光板４０等の構成によって接着層の種類が変わったとしても、樹脂
層４９で対応することができる。

［第２の実施形態］
以下、本発明の第２の実施形態に係る画像表示装置について、図面を参照しながら説明
する。図３は本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。

＜＜＜＜＜画像表示装置＞＞＞＞＞
図３に示される画像表示装置１００は、観察者側に向けて、有機発光ダイオード素子２
０と、タッチセンサ３０と、樹脂層１１１を含む円偏光板１１０と、カバー層６０とを、
この順で備えている。タッチセンサ３０と円偏光板１１０との間および円偏光板１１０と
カバー層６０との間は、接着層７１、７２を介して接着されている。本実施形態において
は、光吸収剤は、樹脂層１１３には含まれておらず、接着層として機能する樹脂層１１１
に含まれている。なお、図２において、図１と同じ符号が付されている部材は、図１で示
した部材と同じものであるので、説明を省略するものとする。

＜＜＜＜円偏光板＞＞＞＞
円偏光板１１０は、例えば、観察者側に向けて、第１の位相差フィルム４１と、接着層
４２と、第２の位相差フィルム４３と、第３の樹脂層１１１（以下、単に「樹脂層１１１
」と称することもある。）と、第１の保護フィルム４５と、偏光子４６と、第２の保護フ
ィルム１１２とを、この順で備えている。保護フィルム１１２は、光透過性基材４８と、
第１の樹脂層１１３（以下、単に「樹脂層１１３」と称することもある。）と、第２の樹
脂層５０が、この順で積層された積層体となっている。

＜＜＜樹脂層＞＞＞
樹脂層１１１は、第２の位相差フィルム４３と第１の保護フィルム４５を接合するため
の接着層として機能する。樹脂層１１１は、主に樹脂から構成されているが、樹脂以外に
または樹脂の一部として波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収する光吸
収剤を含んでいる。なお、樹脂層１１１のインデンテーション硬さは、１００ＭＰａ以上
６００ＭＰａ以下の範囲になくともよい。

＜＜光吸収剤＞＞
光吸収剤は、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収すればよく、この
波長域内に吸収ピークを有しなくともよい。また、光吸収剤は、波長３８０ｎｍ以上５０
０ｎｍ以下の波長域内の一部の波長の光を吸収していればよく、この波長域内の全ての波
長の光を吸収している必要はない。光吸収剤においては、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ
以下の波長域内での最大吸光度は、０．５以上であることが好ましい。

光吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、セサモール型ベンゾトリアゾール系
化合物およびインドール系化合物の少なくともいずれかが挙げられる。セサモール型ベン
ゾトリアゾール系化合物およびインドール系化合物は、第１の実施形態で説明したセサモ
ール型ベンゾトリアゾール系化合物およびインドール系化合物と同様であるので、説明を
省略するものとする。

なお、本実施形態においては、第２の位相差フィルム４３と第１の保護フィルム４５の
間に設けられ、かつ接着層として機能する樹脂層１１１に光吸収剤を含ませているが、樹
脂層１１１の代わりに、接着層４２、７１、７２に光吸収剤を含ませてもよい。

＜＜＜樹脂層＞＞＞
樹脂層１１３は、光吸収剤を含まないこと以外は、樹脂層４９と同様であるので、ここ
では説明を省略するものとする。

本実施形態によれば、接着層として機能し、かつセサモール型ベンゾトリアゾール系化
合物およびインドール系化合物の少なくともいずれかを含む樹脂層１１１を備えているの
で、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収することができる。これによ
り、樹脂層１１１により外光のうち波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸
収することができるので、ＯＬＥＤ素子２０の外光による劣化を抑制できるとともに、Ｏ
ＬＥＤ素子２０から発せられるブルーライトを遮蔽できる。

光吸収剤を含む樹脂層１１１は、偏光子４６や保護フィルム４５、１１２よりもＯＬＥ
Ｄ素子２０側に配置されているので、偏光子４６や保護フィルム４５、１１２で外光を吸
収することができる。このため、樹脂層１１１に含ませる光吸収剤の量を減らすことがで
きる。

画像表示装置１０、８０、１００の用途は、特に限定されない。例えば、画像表示装置
１０、８０、１００は、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ、テ
レビジョン（ローラブルテレビジョンを含む）、デジタルサイネージ、パブリックインフ
ォメーションディスプレイ（ＰＩＤ）、車載ディスプレイ、電化製品に用いてもよい。ま
た、画像表示装置１０、８０、１００は、曲面等、意匠性やデザイン性が求められる用途
にも好適に用いることができる。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの
記載に限定されない。なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質
量基準とする。

＜実施例Ａ１＞
（樹脂層用組成物１の調製）
２００ｍＬの４つ口フラスコに玉付きコンデンサー、水銀温度計、撹拌装置を取り付け
、６－［５－（２－ヒドロキシエチル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル］ベンゾ
［１，３］ジオキソール－５－オール４．０ｇ（０．０１３モル）、トルエン４０ｍＬ、
メタクリル酸１．８ｇ（０．０２１モル）、メタンスルホン酸０．４ｇ（０．００４モル
）を入れて、１１０～１１５℃で４時間還流脱水した。次いで、水３０ｍＬ、炭酸ナトリ
ウム０．６ｇ（０．００６モル）を加え、静置して下層部の水層を分離して除去し、活性
炭０．２ｇを加え、還流撹拌して脱色させた。そして、ろ過した後に、ろ液からトルエン
４０ｍＬを減圧で回収し、イソプロピルアルコール１００ｍＬを加え、析出した結晶をろ
過し、イソプロピルアルコール４０ｍＬで洗浄した後、減圧下４０℃で乾燥し、黄色結晶
を４．２ｇ得た。この黄色結晶４．２ｇをイソプロピルアルコールでリパルプ洗浄して、
減圧下４０℃で乾燥し、セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物として、３．４ｇの２
－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－５－イル）－２Ｈ－ベンゾト
リアゾール－５－イル］エチルメタクリレートを得た。

次いで、四つ口フラスコにジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌
装置を取り付け、合成した２－［２－（６－ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール－
５－イル）－２Ｈ－ベンゾトリアゾール－５－イル］エチルメタクリレートを８質量部、
他の単量体としてのメチルメタクリレート（ＭＭＡ）を３２質量部、溶媒としてのトルエ
ン２０質量部、メチルエチルケトン２０質量部、および、重合開始剤としての１，１’－
アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．６質量部を入れて、攪拌しながら
窒素ガス流量１０ｍＬ／ｍｉｎで１時間フラスコ内を窒素置換後に、反応液温度９０～９
６℃で１０時間還流状態にて重合反応を行った。

重合反応終了後、トルエン１０質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１０質量部を追
加し、セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物がＭＭＡに反応結合されたアクリルポリ
マー１（光吸収剤１）を含む溶液１００．６質量部を得た。

多官能モノマー（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬株式会社製）お
よび上記アクリルポリマー１を固形分質量比２０：８０で混ぜ合わせ、固形分２５％まで
溶剤（メチルエチルケトンおよびトルエンの質量比８０：２０）にて希釈して樹脂組成物
を調製した。

次いで、得られた樹脂組成物１６０質量部に対し、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ
Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量比５０：５０）
４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部とを
混ぜ合わせ、よく攪拌することで、樹脂層用組成物１を調製した。

（樹脂層用組成物２の調製）
多官能モノマー（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬株式会社製）を
、固形分５０％まで溶剤（メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン、質量比５
０：５０）にて希釈して樹脂組成物を調製した。

次いで、得られた樹脂組成物２００質量部に対し、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ
Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４）４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」
、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部とを混ぜ合わせ、よく攪拌することで、樹脂層用組成
物２を調製した。

（円偏光板および画像表示装置の作製）
得られた樹脂層用組成物１を、ミヤバーにて厚みが２５μｍのトリアセチルセルロース
基材（製品名「ＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）の表面に塗布して、塗膜を形
成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０
秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が２００ｍＪ／ｃ
ｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が５μｍの第１の樹脂層を
形成した。

第１の樹脂層を形成した後、ミヤバーにて第１の樹脂層の表面に樹脂層用組成物２を塗
布して、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．５ｍ／ｓの流速で７０℃
の乾燥空気を３０秒間流通させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量
が２００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が４μｍ
の第２の樹脂層を形成した。これにより、トリアセチルセルロース基材上に膜厚５μｍの
第１の樹脂層および膜厚４μｍの第２の樹脂層を備える第２の保護フィルムを得た。

第１の樹脂層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、第１の樹脂層の断面を
撮影し、その断面の画像において第１の樹脂層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の
膜厚の算術平均値とした。具体的な断面写真の撮影方法は以下の通りとした。まず、１ｍ
ｍ×１０ｍｍに切り出した第２の保護フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作
製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ
～３００ｎｍ程度の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ
ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いた。そして、この穴等がない
均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとした。その後、走査型電子顕
微鏡（ＳＥＭ）（製品名「Ｓ－４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用い
て、測定サンプルの断面写真を撮影した。上記Ｓ－４８００を用いて断面写真を撮影する
際には、検出器を「ＳＥ」、加速電圧を「５ｋＶ」、エミッション電流を「１０μＡ」に
して断面観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさ
を各層が見分けられるか観察しながら第１の樹脂層の膜厚に応じて１０００倍～１万倍の
範囲内で適宜調節した。具体的には、膜厚の測定ブレを低減するために２０００～５００
０倍で調節した。さらに、アパーチャーを「ビームモニタ絞り１」にし、対物レンズ絞り
を「２」にし、またＷ．Ｄ．を「８ｍｍ」にした。また、第２の樹脂層の膜厚も、第１の
樹脂層の膜厚と同様の方法によって測定した。なお、実施例２～５および比較例１～４に
おいても、実施例Ａ１と同様の手法によって第１の樹脂層や第２の樹脂層の膜厚を測定し
た。

第２の保護フィルムを得た後、次いで、第２の保護フィルムを、２規定、温度５５℃の
水酸化ナトリウム水溶液に３分間浸漬させることによって、第２の保護フィルムを鹸化処
理した。一方で、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させ、その後、一軸延
伸して配向させることによって、偏光子を作製し、また偏光子の両面にポリビニルアルコ
ール系接着剤（ポリビニルアルコール樹脂（製品名「ＰＶＡ－１１７」、株式会社クラレ
製）を純水にて固形分５％に希釈したポリビニルアルコール水溶液）を塗布した。

偏光子の一方の面に第２の保護フィルムのトリアセチルセルロース基材が接し、かつ偏
光子の他方の面に鹸化処理済みの厚さ２５μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「
ＴＪ２５ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）である第１の保護フィルムが接するように、
第２の保護フィルム、偏光子、第１の保護フィルムを配置した。この状態で、１００℃で
１０分間乾燥して、第１の保護フィルムと偏光子および第２の保護フィルムと偏光子がポ
リビニルアルコール系接着剤で貼り合わせられた偏光板を得た。

偏光板を得た後、偏光板の第１の保護フィルムにおける偏光子側の面とは反対側の面に
、粘着層（製品名「ＰＤ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して、λ／２位相差フィル
ムを貼り合せた。λ／２位相差フィルムは、厚さ１００μｍのシクロオレフィン系樹脂フ
ィルム（製品名「ゼオノアＺＦ－１４」、日本ゼオン株式会社製）を、５５０ｎｍの波長
における面内リタデーションが２７０ｎｍとなるように１５０℃で延伸することによって
得た。さらに、λ／２位相差フィルムにおける偏光板側の面とは反対側の面に、粘着層（
製品名「ＰＤ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して、λ／４位相差フィルムを貼り合
せた。これにより、円偏光板を得た。λ／４位相差フィルムは、厚さ１００μｍのシクロ
オレフィン系樹脂フィルム（製品名「ゼオノアＺＦ－１４」、日本ゼオン株式会社製）を
、５５０ｎｍの波長における面内リタデーションが１４０ｎｍとなるように１５０℃で延
伸することによって得た。

円偏光板を得た後、円偏光板のλ／４位相差フィルムにおけるλ／２位相差フィルム側
の面とは反対側の面に、粘着層（製品名「ＰＤ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して
、有機ＥＬディスプレイ（製品名「Ｇａｌａｘｙ ＳＩＩ」、Ｓａｍｓｕｎｇ社製）から
取り出した有機発光ダイオード素子を含む有機発光ダイオードパネル（ＯＬＥＤパネル）
を貼り合せた。さらに、円偏光板の第２の保護フィルムにおける偏光子側の面とは反対側
の面に、粘着層（製品名「ＰＤ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して、Ｇａｌａｘｙ
ＳＩＩのカバーガラスを貼り合せた。これにより、観察者側に向けて、ＯＬＥＤパネル
、粘着層、円偏光板、粘着層、およびカバーガラスをこの順で積層した画像表示装置を得
た。

＜実施例Ａ２＞
実施例２においては、第２の樹脂層を形成しなかったこと以外は、実施例Ａ１と同様に
して第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を得た。

＜実施例Ａ３＞
実施例３においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物３を用いたこと以
外は、実施例Ａ１と同様にして第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を得た
。樹脂層用組成物３は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物３）
ポリエステル樹脂（製品名「バイロン２４ＳＳ」、東洋紡株式会社製）を固形分２５％
までメチルエチルケトンにて希釈して樹脂組成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成
物１２０質量部に対し、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａ
ｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量比５０：５０）４質量部、インドール系化合
物（製品名「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ－３９１２」、オリヱント化学工業株式会社製）（
光吸収剤２）３質量部、およびベンゾトリアゾール化合物（製品名「ＪＦ－７９」、城北
化学株式会社製）５質量部、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０
．２質量部を混ぜ合わせ、よく攪拌することで、樹脂層用組成物３を調製した。

＜実施例Ａ４＞
実施例４においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物４を用いたこと以
外は、実施例Ａ１と同様にして第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を得た
。樹脂層用組成物４は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物４）
ウレタンアクリレート（製品名「ＲＵＡ－０５１」、亜細亜工業株式会社製）９０質量
部およびフェノキシエチルアクリレート（製品名「ビスコート＃１９２」、大阪有機化学
工業株式会社製）１０質量部を固形分２５％までメチルエチルケトンにて希釈して樹脂組
成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成物と上記アクリルポリマー１を固形分質量比
２０：８０で混ぜ合わせ、混合樹脂組成物を得た。その後、混合樹脂組成物に対し、重合
開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａ
ｄ８１９の質量比５０：５０）４質量部、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株
式会社製）０．２質量部を混ぜ合わせ、さらにメチルイエチルケトンで固形分２５％まで
希釈して、よく攪拌することで、樹脂層用組成物４を調製した。

＜実施例Ａ５＞
実施例Ａ５においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物５を用いたこと
以外は、実施例Ａ１と同様にして第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を得
た。樹脂層用組成物５は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物５）
ジペンタエリスリトールポリアクリレート（製品名「Ａ－９５５０」、新中村化学工業
株式会社製）７０質量部、シリカ粒子（製品名「ＰＧＭ－ＡＣ－２１４０Ｙ」、日産化学
工業株式会社製）３０質量部、およびフッ素系レベリング剤（製品名「メガファックＦ－
４４４」、ＤＩＣ株式会社製）０．１質量部を固形分２５％までメチルエチルケトンにて
希釈して樹脂組成物を調製した。次いで、得られた樹脂組成物と上記アクリルポリマー１
を固形分質量比２０：８０で混ぜ合わせ、混合樹脂組成物を得た。その後、混合樹脂組成
物に対し、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およ
びＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量比５０：５０）４質量部を混ぜ合わせ、さらにメチルイエ
チルケトンで固形分２５％まで希釈して、よく攪拌することで、樹脂層用組成物５を調製
した。

＜実施例Ｂ１＞
実施例Ｂ１においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物６を用い、かつ
第１の保護フィルムとλ／２位相差フィルムの間に位置する粘着層の代わりに、樹脂層用
組成物７からなる第３の樹脂層を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、円偏光板
および画像表示装置を得た。樹脂層用組成物６および７は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物６）
まず、四つ口フラスコにジムロート冷却器、水銀温時計、窒素ガス吹き込み管、攪拌装
置を取り付け、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）を３２質量部、溶媒としてのトルエン２
０質量部、メチルエチルケトン２０質量部、および、重合開始剤としての１，１’－アゾ
ビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．６質量部を入れて、攪拌しながら窒素
ガス流量１０ｍＬ／ｍｉｎで１時間フラスコ内を窒素置換後に、反応液温度９０～９６℃
で１０時間還流状態にて重合反応を行った。

重合反応終了後、トルエン１０質量部、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１０質量部を追
加し、セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物を含まないアクリルポリマー２を含む溶
液１００．６質量部を得た。

多官能モノマー（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬株式会社製）お
よび上記アクリルポリマー２を固形分質量比８０：２０で混ぜ合わせ、固形分２５％まで
溶剤（メチルエチルケトンおよびトルエン、質量比８０：２０）にて希釈して樹脂組成物
を調製した。

次いで、得られた樹脂組成物１６０質量部に対し、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ
Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４およびＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量比５０：５０）
４質量部と、レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部とを
混ぜ合わせ、よく攪拌することで、樹脂層用組成物６を調製した。

（樹脂層用組成物７）
アクリル系粘着剤（製品名「ＳＫダイン１６０４Ｎ」、綜研化学株式会社製）１００質
量部、硬化剤（製品名「コロネートＬ」、東ソー株式会社製）２質量部、および上記光吸
収剤１を１０質量部混合し、トルエンで固形分が２５％になるまで希釈して、樹脂層用組
成物７を得た。

＜実施例Ｂ２＞
実施例Ｂ２においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物６を用い、かつ
第１の保護フィルムとλ／２位相差フィルムの間に位置する粘着層の代わりに、樹脂層用
組成物８からなる樹脂層を用いたこと以外は、実施例Ａ１と同様にして、円偏光板および
画像表示装置を得た。樹脂層用組成物８は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物８）
アクリル系粘着剤（製品名「ＳＫダイン１６０４Ｎ」、綜研化学株式会社製）１００質
量部、硬化剤（製品名「コロネートＬ」、東ソー株式会社製）２質量部、およびインドー
ル系化合物（製品名「ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ－３９１２」、オリヱント化学工業株式会
社製）（光吸収剤２）３質量部を混合し、トルエンで固形分が２５％になるまで希釈して
、樹脂層用組成物８を得た。

＜比較例Ａ１＞
比較例Ａ１においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物６を用いたこと
以外は、実施例Ａ１と同様にして第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を得
た。

＜比較例Ａ２＞
比較例Ａ２においては、樹脂層用組成物１の代わりに、樹脂層用組成物９を用いたこと
以外は、実施例Ａ１と同様にして第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を得
た。樹脂層用組成物９は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物９）
多官能モノマー（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ－３０」、日本化薬株式会社製）１
００質量部、重合開始剤（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製のＯｍｎｉｒａｄ１８４お
よびＯｍｎｉｒａｄ８１９の質量比５０：５０）４質量部、レベリング剤（製品名「Ｆ５
６８」、ＤＩＣ株式会社製）０．２質量部、およびヒドロキシフェニルトリアジン系紫外
線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９」、ＢＡＳＦ社製）（光吸収剤３）３質量部を
混合し、ＭＥＫで固形分２５％になるまで希釈して、樹脂層用組成物９を得た。

＜比較例Ｂ１＞
比較例Ｂ１においては、樹脂層用組成物４の代わりに、樹脂層用組成物１０を用いたこ
と以外は、実施例Ｂ１と同様にして第２の保護フィルム、円偏光板および画像表示装置を
得た。樹脂層用組成物１０は、下記のように調製された。

（樹脂層用組成物１０）
アクリル系粘着剤（製品名「ＳＫダイン１６０４Ｎ」、綜研化学株式会社製）１００質
量部、硬化剤（製品名「コロネートＬ」、東ソー株式会社製）２質量部、およびヒドロキ
シフェニルトリアジン系紫外線吸収剤（製品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９」、ＢＡＳＦ社製
）（光吸収剤３）３質量部を混合し、トルエンで固形分が２５％になるまで希釈して、樹
脂層用組成物１０を得た。

＜最大吸収波長および波長３８０ｎｍ～５００ｎｍの吸光度＞
光吸収剤１～３の最大吸収波長λ_ｍａｘおよび波長３８０ｎｍ～５００ｎｍの吸光度を
、分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステン
ランプおよび重水素ランプ）を用いて測定した。光吸収剤１の最大吸収波長λ_ｍａｘおよ
び吸光度の測定は、得られた光吸収剤１を含む溶液を減圧乾燥にて脱溶剤した後に、濃度
４０ｐｐｍのクロロホルム溶液とした状態で行い、光吸収剤２、３の最大吸収波長λ_ｍａ
ｘおよび吸光度の測定は、光吸収剤２、３を濃度４０ｐｐｍのクロロホルム溶液とした状
態で行われた。

＜ブルーライトカット（遮蔽）率＞
実施例および比較例に係る画像表示装置における円偏光板のブルーライトカット率（Ｂ
Ｌカット率）を測定した。具体的には、まず、５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した
円偏光板を、透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（製品名「ＵＶ－２４５
０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）内に円偏
光板のλ／４位相差フィルム側が光源側となるように配置した。円偏光板は、欠点（異物
の混入）がなく、クラックがなく、皺がなく、汚れがないものであり、また、カールのな
い平坦な状態で分光光度計に保持された。この状態で、以下の測定条件で、波長３００ｎ
ｍ～７８０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低５ポイント分の透過率を測定した
。そして、ブルーライトカット率（％）をＡとし、波長３８０ｎｍ～５００ｎｍの透過率
の平均値（％）をＢとし、波長５００ｎｍ～６５０ｎｍ間の透過率の平均値（％）をＣと
して、ブルーカット率を下記式によって求めた。なお、ブルーライトカット率は、３回測
定して得られた値の算術平均値とした。
Ａ＝（１－Ｂ／Ｃ）×１００
（測定条件）
・波長域：３００ｎｍ～７８０ｎｍ
・スキャン速度：高速
・スリット幅：２．０
・サンプリング間隔：オート（０．５ｎｍ間隔）
・照明：Ｃ
・光源：Ｄ２およびＷＩ
・視野：２°
・光源切替波長：３６０ｎｍ
・Ｓ／Ｒ切替：標準
・検出器：ＰＭ
・オートゼロ：ベースラインのスキャン後５５０ｎｍにて実施

＜分光透過率＞
実施例および比較例に係る円偏光板において、波長３８０ｎｍ、４１０ｎｍ、４２０ｎ
ｍ及び４４０ｎｍにおける分光透過率を測定した。具体的には、５０ｍｍ×５０ｍｍの大
きさに切り出した円偏光板を、透過率を０．５ｎｍ刻みにて測定可能な分光光度計（製品
名「ＵＶ－２４５０」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素
ランプ）内に円偏光板のλ／４位相差フィルム側が光源側となるように配置した。上記円
偏光板は、欠点（異物の混入）がなく、クラックがなく、皺がなく、汚れがないものであ
り、また、カールのない平坦な状態で分光光度計に保持された。この状態で、波長３８０
ｎｍ、４１０ｎｍ、４２０ｎｍおよび４４０ｎｍにおいてそれぞれ前後１ｎｍの間で最低
５ポイント分の透過率を測定し、その平均値を算出することによって波長３８０ｎｍ、４
１０ｎｍ、４２０ｎｍおよび４４０ｎｍにおける分光透過率を求めた。波長３８０ｎｍ、
４１０ｎｍ、４２０ｎｍおよび４４０ｎｍにおける分光透過率は、３回測定して得られた
値の算術平均値とした。また、分光透過率の測定条件は、上記ブルーライト遮蔽率の測定
条件と同様とした。

＜耐光性試験＞
実施例および比較例に係る画像表示装置において、耐光性試験を行い、耐光性試験前後
の輝度を測定することによって、ＯＬＥＤパネルが劣化しているか否かを確認した。具体
的には、まず、耐光性試験前の画像表示装置を点灯させて、輝度を測定した。輝度は、画
像表示装置の表面（カバーガラスの表面）から出射する光の輝度を、画像表示装置の厚み
方向から、分光放射輝度計（製品名「ＣＳ２０００」、コニカミノルタ株式会社製）を用
いて、測定角１°の条件で、測定した。次いで、耐光性試験機（製品名「紫外線フェード
メータＵ４８ＡＵ」、スガ試験機株式会社製）を用いて、４２℃、相対湿度５０％の環境
下でカーボンアークランプからの光を画像表示装置に５０時間照射する耐光性試験（以下
、この試験を「５０時間耐光性試験」と称することもある。）を行った。そして、耐光性
試験後の画像表示装置を点灯させて、耐光性試験前の画像表示装置の輝度測定と同様の条
件で、輝度を測定した。また、同様に、耐光性試験機（製品名「紫外線フェードメータＵ
４８ＡＵ」、スガ試験機株式会社製）を用いて、４２℃、相対湿度５０％の環境下でカー
ボンアークランプからの光を画像表示装置に１００時間照射する耐光性試験を行い、耐光
性試験後の画像表示装置を点灯させて、耐光性試験前の画像表示装置の輝度測定と同様の
条件で、輝度を測定した。

測定したこれらの輝度から、耐光性試験前の輝度に対する耐光性試験後の輝度の維持率
をそれぞれ求めた。輝度維持率は、輝度維持率（％）をＤとし、点灯時における耐光性試
験前の画像表示装置の表面の輝度をＥとし、点灯時における耐光性試験後の画像表示装置
の表面の輝度をＦとし、下記式によって求めた。
Ｄ＝Ｆ／Ｅ×１００

そして、得られた輝度維持率から耐光性試験によってＯＬＥＤパネルが劣化したか否か
を確認した。具体的には、輝度維持率が８０％未満である場合には、ＯＬＥＤパネルが劣
化した評価し、輝度維持率が８０％以上である場合には、ＯＬＥＤパネルが劣化していな
いと評価した。評価基準は以下の通りとした。
○：ＯＬＥＤパネルの劣化が確認されなかった。
×：ＯＬＥＤパネルの劣化が確認された。

＜光吸収剤を含む層のインデンテーション硬さ（Ｈ_ＩＴ）＞
実施例に係る円偏光板において、光吸収剤を含む層のインデンテーション硬さを測定し
た。すなわち、実施例Ａ１～Ａ５においては、光吸収剤１、２を含む第１の樹脂層のイン
デンテーション硬さを測定し、実施例Ｂ１、Ｂ２においては、光吸収剤１、２を含む粘着
層のインデンテーション硬さを測定した。インデンテーション硬さ（Ｈ_ＩＴ）は、ＨＹＳ
ＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製のＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒを用いて測
定した。具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した円偏光板を包埋樹脂によって
包埋したブロックを作製し、ナノインデンテーション法での硬度測定に適した測定用サン
プルを作製した。測定用サンプルの作製には、「ウルトラミクロトーム ＥＭ ＵＣ７」
（ライカ マイクロシステムズ株式会社）を用いた。次いで、測定用サンプルの圧子を押
し込む面がステージの載置面と平行となるように測定サンプルをＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイ
ジトロン）社製のＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒのステージに固定した。そし
て、光吸収剤を含む層（実施例Ａ１～Ａ５においては、第１の樹脂層であり、実施例Ｂ１
、Ｂ２においては、粘着層）の断面中央の平坦な部分に、荷重制御方法で、最大押し込み
荷重が３００μＮとなるように、荷重速度１０μＮ／秒でバーコビッチ型圧子を、３０秒
で荷重０μＮから３００μＮまで負荷を加えながら光吸収剤を含む層の断面中央部に押し
込み、その後３００μＮで５秒間保持した後、３０秒で３００μＮから０μＮまで除荷し
た。そして、このときの押し込み荷重Ｆ（Ｎ）に対応する押し込み深さｈ（ｎｍ）を連続
的に測定し、荷重－変位曲線を作成した。作成された荷重－変位曲線からインデンテーシ
ョン硬さＨ_ＩＴを、上記式（１）のように最大押し込み荷重Ｆ_ｍａｘ（Ｎ）を、圧子と光
吸収剤を含む層が接している投影面積Ａ_ｐ（ｍｍ^２）で除した値により求めた。インデン
テーション硬さは、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。なお、Ａ_ｐは上記
式（２）によって求められる値であった。

＜鉛筆硬度＞
実施例に係る第２の保護フィルムの表面（実施例Ａ２以外は第２の樹脂層の表面、実施
例Ａ２は第１の樹脂層の表面）における鉛筆硬度を、それぞれ測定した。なお、鉛筆硬度
の測定の際には、第２の保護フィルムから５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出したサンプ
ルをガラス板上に折れやシワがないようニチバン株式会社製のセロテープ（登録商標）で
固定した状態で、鉛筆に３００ｇの荷重をかけながら、鉛筆を速度３ｍｍ／秒で移動させ
た。鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験においてサンプルの表面に傷が付かなかった最も高い硬度
とする。なお、鉛筆硬度の測定の際には、硬度が異なる鉛筆を複数本用いて行うが、鉛筆
１本につき５回鉛筆硬度試験を行い、５回のうち４回以上蛍光灯下でサンプルの表面を透
過観察した際にサンプルの表面に傷が視認されなかった場合には、この硬度の鉛筆におい
てはサンプルの表面に傷が付かなかったと判断する。

＜耐擦傷性試験＞
実施例に係る第２の保護フィルムの表面（実施例Ａ２以外は第２の樹脂層の表面、実施
例Ａ２は第１の樹脂層の表面）に対し耐擦傷性試験を行った。具体的には、まず、５０ｍ
ｍ×５０ｍｍの大きさに切り出した第２の保護フィルムの裏面を、膜厚５０μｍの透明粘
着層（屈折率：１．５５、製品名「ＰＤ－Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して、大き
さ１０ｃｍ×１０ｃｍおよび厚さ２ｍｍのアクリル板（製品名「コモグラス ＤＦＡ５０
２Ｋ」、株式会社クラレ製）に貼り合せた。そして、第２の保護フィルムの表面に対し、
♯００００番のスチールウール（製品名「ボンスター」、日本スチールウール株式会社製
）を用いて１５０ｇ／ｃｍ^２の荷重を加えながら１０往復擦る耐擦傷性試験を行い、目視
により第２の保護フィルムの表面に傷が確認されるか否か観察した。評価結果は、以下の
通りとした。
○：傷が確認されなかった。
△：傷が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
×：傷が明確に確認された。

＜フレキブル性＞
実施例に係る円偏光板において、マンドレル試験（２ｍｍから３２ｍｍの金属製円柱に
サンプルを巻きつける試験）を行い、フレキシブル性を評価した。具体的には、５０ｍｍ
×５０ｍｍの大きさに切り出した円偏光板に対し、ＪＩＳ Ｋ５６００－５－１：１９９
９に準じてマンドレル試験を行い、第２の樹脂層が内側となるように円偏光板を円柱に巻
き付けたときの円偏光板にクラック（ひび）が発生しなかった円柱の最小直径を求めた。
評価結果は、以下の通りとした。
○：最小直径が６ｍｍ以下であった。
×：最小直径が６ｍｍを超えていた。

以下、結果を表１～３に示す。

表２に示されたように、比較例Ａ１に係る画像表示装置においては、光吸収剤を用いて
いなかったので、耐光性試験によってＯＬＥＤパネルが劣化した。また、表２および表３
に示されたように、比較例Ａ２、Ｂ１に係る画像表示装置においては、光吸収剤を用いて
いたが、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収するものではなかったの
で、５０時間耐光性試験によってＯＬＥＤパネルが劣化した。さらに、比較例Ａ１、Ａ２
、Ｂ１に係る円偏光板は、ブルーライトカット率が低かった。これに対し、表２および表
３に示されたように、実施例Ａ１～Ａ５および実施例Ｂ１、Ｂ２に係る画像表示装置にお
いては、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収する光吸収剤１や光吸収
剤２を用いたので、５０時間耐光性試験によってＯＬＥＤパネルが劣化しなかった。また
、実施例Ａ１～Ａ５および実施例Ｂ１、Ｂ２に係る円偏光板は、ブルーライトカット率に
優れていた。

１０、８０、９０…画像表示装置
２０…有機発光ダイオード素子
３０…タッチセンサ
４０…円偏光板
４５…第１の保護フィルム
４６…偏光子
４７、１１２…第２の保護フィルム
４８…光透過性基材
４９…第１の樹脂層
５０…第２の樹脂層
６０…カバー層
１１１…第３の樹脂層

Claims (11)

1. 有機発光ダイオード素子と、
   前記有機発光ダイオード素子よりも観察者側に設けられたカバー層と、
   前記有機発光ダイオード素子と前記カバー層との間に設けられ、かつ樹脂層および偏光子を備える円偏光板と、を備え、
   前記樹脂層のインデンテーション硬さが、１００ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下であり、
   前記樹脂層が、波長３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長域の光を吸収する光吸収剤を含む、画像表示装置。
2. 前記樹脂層の膜厚が、０．５μｍ以上５０μｍ以下である、請求項１に記載の画像表示
   装置。
3. 前記光吸収剤が、下記一般式（Ａ）で表される化合物である、請求項１に記載の画像表
   示装置。
   

   

   （式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６の直鎖状
   または分岐鎖状のアルキレン基または炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアル
   キレン基を表す。）
4. 前記光吸収剤が、下記一般式（Ｂ）で表される化合物である、請求項１に記載の画像表
   示装置。
   

   

   （式（Ｂ）中、Ｒ^３は、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基またはアラルキル基を表し、
   Ｒ^４は、－ＣＮまたは－ＣＯＯＲ^５を表し、ここで、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい
   アルキル基またはアラルキル基（ただし、Ｒ^３がメチル基である場合はエチル基を除く。
   ）を表す。）
5. 有機発光ダイオード素子と、
   前記有機発光ダイオード素子よりも観察者側に設けられたカバー層と、
   前記有機発光ダイオード素子と前記カバー層との間に設けられ、かつ樹脂層および偏光子を備える円偏光板と、を備え、
   前記樹脂層が、セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物およびインドール系化合物の少なくともいずれかを含む、画像表示装置。
6. 前記樹脂層のインデンテーション硬さが、１００ＭＰａ以上６００ＭＰａ以下である、
   請求項５に記載の画像表示装置。
7. 前記樹脂層の膜厚が、０．５μｍ以上５０μｍ以下である、請求項５に記載の画像表示
   装置。
8. 前記樹脂層が、接着層である、請求項５に記載の画像表示装置。
9. 前記セサモール型ベンゾトリアゾール系化合物が、下記一般式（Ａ）で表される化合物
   である、請求項５に記載の画像表示装置。
   

   

   （式（Ａ）中、Ｒ^１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^２は、炭素数１～６の直鎖状
   または分岐鎖状のアルキレン基または炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアル
   キレン基を表す。）
10. 前記インドール系化合物が、下記一般式（Ｂ）で表される化合物である、請求項５に記
    載の画像表示装置。
    

    

    （式（Ｂ）中、Ｒ^３は、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基またはアラルキル基を表し、
    Ｒ^４は、－ＣＮまたは－ＣＯＯＲ^５を表し、ここで、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい
    アルキル基またはアラルキル基（ただし、Ｒ^３がメチル基である場合はエチル基を除く。
    ）を表す。）
11. 前記樹脂層が、前記偏光子よりも観察者側に位置する、請求項１または５に記載の画像表示装置。
    

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