JP2023043501A - 流量計校正システム、基板処理装置および流量計校正方法 - Google Patents

Abstract

【課題】流量計の校正作業を省力化することができる技術を提供する。【解決手段】流量計校正システムは、基板に処理液を供給する処理液供給ラインと、処理液の流量値を検出する流量計と、流量計よりも下流側に設けられ処理液を排出する処理液排出ラインと、処理液排出ラインを制御する制御部と、を備える。処理液排出ラインは、処理液を貯留する秤量タンクと、秤量タンクの底部から下方に排出される処理液の流路を開閉するバルブと、を有する。制御部は、バルブにより処理液の流路を閉じて、秤量タンクに貯留される処理液の量に基づき、流量計の流量値を校正する。【選択図】図２

Description

本開示は、流量計校正システム、基板処理装置および流量計校正方法に関する。

特許文献１には、処理液を用いて基板を処理する基板処理装置（液処理装置）が開示されている。この基板処理装置は、処理液の供給経路に流量計を備え、流量計が検出する流量値を用いて、処理液の流量を制御している。

特開２００８－９８４２６号公報

本開示は、流量計の校正作業を省力化することができる技術を提供する。

本開示の一態様によれば、基板に処理液を供給する処理液供給ラインと、前記処理液供給ラインに設けられ、前記処理液の流量値を検出する流量計と、前記流量計よりも下流側に設けられ、前記処理液供給ラインを流通した前記処理液を排出する処理液排出ラインと、前記処理液排出ラインを制御する制御部と、を備え、前記処理液排出ラインは、前記処理液を貯留する秤量タンクと、前記秤量タンクの底部から下方に排出される前記処理液の流路を開閉するバルブと、を有し、前記制御部は、前記バルブにより前記処理液の流路を閉じて、前記秤量タンクに貯留される前記処理液の量に基づき、前記流量計の流量値を校正する、流量計校正システムが提供される。

一態様によれば、流量計の校正作業を省力化することができる。

一実施形態に係る流量計校正システムを有する基板処理装置の全体構成を示す概略説明図である。 流量計校正システムを構成する供給機構、排出機構および制御部を示す概略説明図である。 流量計校正方法を示すフローチャートである。 流量計校正方法の動作タイミングを示すタイミングチャートである。 流量計校正方法における補正係数の算出を示す説明図であり、（ａ）は流量積分値の概念図、（ｂ）は温度と単位時間あたりの揮発量の関係を示すグラフである。 変形例に係る流量計校正システムを構成する供給機構、排出機構および制御部を示す概略説明図である。

以下、図面を参照して本開示を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。

一実施形態に係る基板処理装置１について、図１を参照しながら説明する。基板処理装置１は、処理液Ｌによって基板Ｗを処理（液処理）する液処理装置である。基板Ｗは、例えば、シリコンウエハまたは化合物半導体ウエハなどの半導体基板を対象とし得る。基板Ｗは、液処理時において円板状に形成されている。なお、基板Ｗは、ガラス基板であってもよく、また角板状などの別形状に形成されてもよい。

基板処理装置１は、実際に基板Ｗの液処理を行う液処理ユニット２と、この液処理ユニット２を制御する制御部９と、を備える。液処理ユニット２は、基板Ｗを処理する処理容器１００と、処理液Ｌを供給する供給機構５０と、処理液Ｌを排出する排出機構７０と、を有する。また、処理容器１００は、基板Ｗに供給した処理液を回収するカップ２０と、カップ２０内で基板Ｗを保持するチャック３０と、チャック３０を回転させる回転機構４０と、を有する。

カップ２０は、基板Ｗを収容するために水平方向に広い有底筒状を呈しており、基板Ｗに供給した処理液Ｌを回収する。

チャック３０は、基板Ｗの形状に応じて円板状に形成される。チャック３０は、基板Ｗを水平に保持する。チャック３０は、当該チャック３０の中心（回転中心）と基板Ｗの中心とが一致するように、基板Ｗを保持する。図１中のチャック３０はメカニカルチャックであるが、チャック３０は、真空チャックまたは静電チャックなどを適用してもよい。

回転機構４０は、上端においてチャック３０を支持する回転軸４１と、回転軸４１の下端に接続される回転駆動部４２と、を有する。回転軸４１は、チャック３０の中心に一致する軸心を有し、鉛直方向に沿って直線状に延在している。回転駆動部４２は、制御部９に接続されており、基板Ｗの液処理時に、回転軸４１を介してチャック３０に保持された基板Ｗを回転させる。

供給機構５０は、カップ２０に収容された基板Ｗに対して処理液Ｌを吐出する。なお、本実施形態に係る供給機構５０は、一種類の処理液Ｌを基板Ｗに供給するが、供給機構５０は、複数種類の処理液Ｌを予め定められた順番で基板Ｗに供給してもよい。例えば、基板処理装置１は、複数種類の処理液Ｌとして、薬液、リンス液、乾燥液を順に供給する構成をとることができる。これにより、基板Ｗは、先に薬液の液膜が表面に形成され、次いで薬液の液膜がリンス液の液膜に置換され、その後、リンス液の液膜が乾燥液の液膜に置換される。

薬液は、特に限定されないが、例えばＤＨＦ（希フッ酸）、ＳＣ－１（水酸化アンモニウムと過酸化水素とを含む水溶液）、ＳＣ－２（塩化水素と過酸化水素とを含む水溶液）などが挙げられる。薬液は、アルカリ性でもよいし、酸性でもよい。複数種類の薬液が順番に供給されてもよく、その場合、第１薬液の液膜の形成と、第２薬液の液膜の形成との間に、リンス液の液膜を形成するとよい。

リンス液は、基板Ｗの表面に供給されることで、表面の薬液を洗い流してリンス液の液膜を形成する。リンス液としては、例えばＤＩＷ（脱イオン水）などの純水が用いられる。

乾燥液は、基板Ｗの表面に供給され、リンス液を洗い流して乾燥液の液膜を形成する。乾燥液としては、リンス液よりも低い表面張力を有するものが用いられることが好ましく、これにより表面張力による凹凸パターンの倒壊を抑制できる。乾燥液としては、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）などの有機溶剤があげられる。

供給機構５０は、チャック３０の上方に配置され、チャック３０に保持された基板Ｗの中心に対して上方から処理液Ｌを供給するノズル５１を有する。処理液Ｌは、回転機構４０により回転する基板Ｗの表面の中心に供給されて、遠心力によって基板Ｗの表面の径方向全体に広がり、表面全体に液膜を形成する。供給機構５０は、複数種類の処理液Ｌを吐出する場合に、複数種類の処理液Ｌ毎にノズル５１を用意して各ノズル５１から吐出する構成でもよく、同一のノズル５１によって各処理液Ｌを吐出する構成でもよい。

また、供給機構５０は、カップ２０の外部に設けられ、ノズル５１が待機するノズルバス６０と、ノズル５１を移動させる移動機構６１と、を備える。ノズルバス６０は、上部が開放された凹状容器であり、ノズル５１を収容するとともに、ノズル５１から吐出される処理液Ｌを一時的に受ける受容空間６０ａを有する。ノズルバス６０の受容空間６０ａの容積は、カップ２０や後記の秤量タンク８６（図２参照）の容積よりも小さい。

移動機構６１は、基板Ｗに処理液Ｌを吐出する処理位置（例えば図１に実線で示す位置）と、ノズルバス６０に対して処理液Ｌを吐出する待機位置（例えば図１に一点鎖線で示す位置）と、の間でノズル５１を移動させる。移動機構６１は、例えば、ノズル５１を保持する旋回アーム６２と、旋回アーム６２を旋回させる旋回機構（不図示）とを有する。旋回機構は、旋回アーム６２を昇降させる機構を兼ねてもよい。旋回アーム６２は、水平に配置され、その長手方向一端部にてノズル５１を保持し、その長手方向他端部から下方に延びる旋回軸を中心に旋回させられる。なお、移動機構６１は、旋回アーム６２と旋回機構との代わりに、ガイドレールと直動機構とを有する構成でもよい。ガイドレールは水平に配置され、直動機構がガイドレールに沿ってノズル５１を移動させる。

図１および図２に示すように、供給機構５０は、ノズル５１に対して処理液Ｌを供給する処理液供給ライン５２を有する。処理液供給ライン５２は、流路を内側に有する配管が複数接続されることで、一連に連続した処理液Ｌの経路を形成している。処理液供給ライン５２の流路の内径は、処理液Ｌのちぎれ（間欠的な流通）を防止するために、適度に小さな寸法（細径）に設定される。

処理液供給ライン５２の上流端は、図示しない処理液供給源に接続されている。処理液供給ライン５２の下流端は、ノズル５１に接続されている。また、供給機構５０は、処理液供給ライン５２の上流（処理液供給源）側から下流（ノズル５１）に向かって順に、流量計５４、流量調整バルブ５５、供給側バルブ５６を有する。

供給機構５０は、制御部９による流量調整バルブ５５および供給側バルブ５６の制御に基づき、処理液供給ライン５２を介して、処理液供給源の処理液Ｌをノズル５１に供給する。処理液供給源は、処理液Ｌを加圧した状態で送り出す機構（例えば、不活性ガスの供給に基づき処理液Ｌを圧送する機構）を備えているとよい。なお、処理液Ｌは、図示しないポンプにより圧送されてもよい。また、供給機構５０は、処理液供給源よりも上流側もしくは処理液供給源自体に、ＤＩＷなどの純水で処理液Ｌを希釈する希釈構造を備えていてもよい。

流量計５４は、処理液供給ライン５２の流路を通過する処理液Ｌの流量を計測して、計測した流量値（測定結果）を制御部９に送信する。流量計５４は、計測対象の処理液Ｌの種類に応じて適切なものを用いればよく、電磁式、超音波式などの流量計５４を適用することができる。なお、図示例では流量調整バルブ５５よりも上流側に流量計５４を備えるが、流量計５４は、供給側バルブ５６と流量調整バルブ５５の間に設けられてもよく、供給側バルブ５６よりも下流側に設けられてもよい。

流量調整バルブ５５は、処理液供給ライン５２の処理液Ｌの流量を制御することで、ノズル５１から基板Ｗに吐出する処理液Ｌの供給量を調整する。流量調整バルブ５５は、特に限定されないが、電空レギュレータ（不図示）に接続された定圧弁を適用することが好ましい。この場合、制御部９は、流量計５４の流量値とその目標値との偏差を算出し、算出した偏差に基づいて、目標値に応じた定圧弁の二次側圧力を達成するための操作圧力を求める。そして、制御部９は、電空レギュレータを制御して、求めた操作圧力をパイロットポートに供給することで、流量計５４の流量値が目標値で一定となるように処理液Ｌの流量を調整する。制御部９は、例えば、７５ｍＬ／ｍｉｎ～３００ｍＬ／ｍｉｎの範囲の流量で処理液Ｌを流すように制御する。

また、供給側バルブ５６は、処理液供給ライン５２の流路を開放することで処理液Ｌを流通可能とし、処理液供給ライン５２の流路を閉塞することで処理液Ｌの流通を遮断する。すなわち、処理液供給ライン５２は、供給側バルブ５６の開放に基づきノズル５１から処理液を吐出する。なお、供給側バルブ５６と流量調整バルブ５５とは、一体化されてもよい。

以上の供給機構５０を有する基板処理装置１は、基板Ｗを液処理する際に、制御部９により流量計５４が検出した流量値に応じて流量調整バルブ５５を制御し、処理液Ｌの流量を調整する。この流量計５４は、基板処理装置１の設置時やメンテナンス時に、実際の処理液Ｌを用いて校正が行われる。これにより、基板処理装置１は、処理液Ｌの流量を精度よく調整できる。流量計５４の流量値の校正において、供給機構５０は、処理液供給源から処理液供給ライン５２を介してノズル５１まで処理液Ｌを流通させる。このため、供給機構５０は、流量計５４の流量値を校正する流量計校正システム１０の一部と言える。

図１に戻り、基板処理装置１の排出機構７０は、ノズル５１から吐出された後の処理液Ｌを、基板処理装置１から排出して廃棄または回収する。排出機構７０は、カップ２０に接続される処理容器側排出部７１と、ノズルバス６０に接続されるバス側排出部７５と、を含む。

処理容器側排出部７１は、カップ２０の底部２１の鉛直方向下方に突出する排液ポート７２および排気ポート７３を有する。排液ポート７２は、カップ２０の外部に設けられた処理液排出ライン７７に接続され、基板Ｗから振り落された処理空間２０ａ内の処理液Ｌをカップ２０の外部に排出する。処理液排出ライン７７は、流路を内側に有する配管が複数接続されることで、一連に連続した処理液Ｌの経路を構成している。一方、排気ポート７３は、カップ２０の外部に設けられた排気ライン７４に接続され、処理空間２０ａ内のガスをカップ２０の外部に排出する。

バス側排出部７５は、ノズルバス６０の底部の鉛直方向下方に突出する排液ポート７６を有する。排液ポート７６も、処理液排出ライン７７に接続されている。すなわち、処理液排出ライン７７は、処理容器側排出部７１の排液ポート７６に接続される容器側排液ライン７７Ａと、バス側排出部７５の排液ポート７６に接続されるバス側排液ライン７７Ｂと、を有する。容器側排液ライン７７Ａおよびバス側排液ライン７７Ｂは、合流してもよい。

バス側排液ライン７７Ｂは、ノズルバス６０の設置位置より鉛直方向下方に設置される。そして、本実施形態に係るバス側排液ライン７７Ｂは、図２に示すように、流量計５４の流量値の校正において、ノズル５１からノズルバス６０に吐出された処理液Ｌの秤量を行う構造部を有している。すなわち、バス側排出部７５は、流量計５４の流量値を校正する流量計校正システム１０の一部と言える。

バス側排液ライン７７Ｂの流路の内径は、処理液Ｌのちぎれ（間欠的な流通）を防止するために、適度に小さな寸法（細径）に設定されることが好ましい。バス側排液ライン７７Ｂの流路の内径は、例えば、５ｍｍ～２０ｍｍの範囲に設定されるとよい。

バス側排液ライン７７Ｂは、ノズルバス６０に接続されて処理液Ｌが流通する上流側から下流側に向かって順に、排液上流バルブ７８と、秤量部８０と、排液下流バルブ７９と、を備える。

排液上流バルブ７８は、バス側排液ライン７７Ｂの上方位置（例えば、排液ポート７６の下端）に設置される。排液上流バルブ７８は、通常状態で流路を閉塞しており、ノズルバス６０からバス側排液ライン７７Ｂへの処理液Ｌの排出を遮断している。そして、排液上流バルブ７８は、制御部９の開指令に基づき流路を開放することで、ノズルバス６０からバス側排液ライン７７Ｂに処理液Ｌを排出させる。また、排液上流バルブ７８は、エアが流通し易い内径からなるオリフィスを内部に備えていることが好ましい。これにより、ノズルバス６０からバス側排液ライン７７Ｂに処理液Ｌを排出する際に、バス側排液ライン７７Ｂ（秤量部８０など）からノズルバス６０にエアを排出することができ、処理液Ｌを下流側に安定して流すことできる。

秤量部８０は、流量計５４の校正時に、バス側排液ライン７７Ｂを流通する処理液Ｌを秤量する部位である。秤量部８０は、排液上流バルブ７８と排液下流バルブ７９の間で、バス側排液ライン７７Ｂを２つの経路に分岐させている。具体的には、秤量部８０は、分岐部８１と、分岐部８１から分岐した第１ライン８２および第２ライン８３と、第１ライン８２と第２ライン８３が合流した接続部８４と、接続部８４から延在する合流ライン８５と、を含む。また、第１ライン８２は、処理液Ｌを一時的に貯留可能な秤量タンク８６を途中位置に有する。第２ライン８３は、処理液Ｌの液面を検出する液位センサ８７を途中位置に２つ備える。

分岐部８１は、当該分岐部８１よりも上流側（１次側）のバス側排液ライン７７Ｂと、第１ライン８２と、第２ライン８３とを接続している。１次側のバス側排液ライン７７Ｂの流路、第１ライン８２の流路、第２ライン８３の流路は、分岐部８１内において相互に連通し合っている。

１次側のバス側排液ライン７７Ｂは水平方向に延在しており、第１ライン８２の上端および第２ライン８３の上端は、略同じ高さ位置から分岐し、かつ鉛直方向に沿って同じ高さ位置に配置される。これにより、流量計校正システム１０は、第１ライン８２および第２ライン８３に流入した処理液Ｌに対して気圧を揃えることが可能となり、第１ライン８２と第２ライン８３における処理液の液面のずれを抑制できる。

また、分岐部８１の内部には、第１ライン８２の接続空間に対して第２ライン８３の接続空間が高くなる段差８１ａが形成されている。このため、１次側のバス側排液ライン７７Ｂから分岐部８１を経由して処理液Ｌが第２ライン８３に向かうことが規制され、秤量タンク８６を流通した処理液Ｌのみが下側から流入するようになる。分岐部８１または第２ライン８３の上部には、大気開放されていることで、気体を外部に排出可能なベント部（不図示）が設けられてもよい。

第１ライン８２に設けられた秤量タンク８６は、底部８６１および天井部８６２を閉塞した筒状（円筒状または角筒状）に形成され、貯留空間８６ａを内側に有する。秤量タンク８６は、その軸心が鉛直方向に沿うように、基板処理装置１の適宜の構造に固定される。また、貯留空間８６ａを囲う秤量タンク８６の内周面は、鉛直方向に沿って一定の内径（断面積）に設定されている。したがって、秤量タンク８６は、鉛直方向に沿って貯留空間８６ａの容積が一定の割合で変化するように形成されている。

この秤量タンク８６は、成形精度が高く、また温度変化に伴う変形を抑制できる、金属材料（例えば、ステンレス）または石英により形成されることが好ましい。これにより、秤量タンク８６の加工誤差および環境誤差によって生じる測定誤差が可及的に小さくなる。あるいは、秤量タンク８６は、樹脂材料により形成されてもよい。この場合、制御部９は、流量計５４の流量値の校正時に、樹脂タンクが温度に応じて伸びた分の温度補正係数を積算して、貯留容積を補正すればよい。

また、秤量タンク８６の天井部８６２には、貯留空間８６ａに処理液Ｌを流入させる第１ライン８２の流入配管８２１が接続される一方で、秤量タンク８６の底部８６１には貯留空間８６ａの処理液Ｌを流出させる第１ライン８２の流出配管８２２が接続される。流入配管８２１および流出配管８２２は、秤量タンク８６の軸心に配置されている。

流入配管８２１は、天井部８６２から貯留空間８６ａを通って底部８６１の近傍位置まで延在しており、その延出端（下端）に処理液Ｌを吐出する吐出口８２１ａを有する。流入配管８２１の吐出口８２１ａから貯留空間８６ａに吐出された処理液Ｌは、供給時における液はねを抑制することができる。また、底部８６１付近まで延在する流入配管８２１は、処理液Ｌの液面が揺れないようにする隔壁として機能する。

流出配管８２２は、秤量タンク８６の貯留空間８６ａに連通するとともに、秤量タンク８６の底部８６１から延在して接続部８４に接続されている。接続部８４は、第１ライン８２、第２ライン８３および合流ライン８５を接続する３ポートコネクタを適用し得る。

一方、秤量部８０の第２ライン８３は、分岐部８１から接続部８４まで一連に延在し、秤量タンク８６の内径よりも小さな内径かつ透明性を有するチューブにより構成されている。第２ライン８３は、形状の変形を抑制可能な剛性を有していることが好ましい。例えば、第２ライン８３は、石英により形成されるとよい。

第２ライン８３は、秤量タンク８６に対して水平方向に隣接するように基板処理装置１の適宜の構造に固定される。第２ライン８３において少なくとも秤量タンク８６と同じ高さ位置（以下、秤量領域８３Ｘという）は、鉛直方向に沿って直線状に延在している。第２ライン８３は、排液下流バルブ７９の閉塞により処理液Ｌがせき止められることで、下方（下流）側から液位が増加していく。すなわち、流量計校正システム１０は、流量計５４の流量値の校正において、第１ライン８２の秤量タンク８６と第２ライン８３の両方に、処理液Ｌを貯留していく。

第２ライン８３において秤量領域８３Ｘから接続部８４までの範囲（以下、下流領域８３Ｙという）は、可及的に小さい圧損を有する。例えば、秤量部８０は、流出配管８２２の内径（流路断面積）および延在長さ、下流領域８３Ｙの内径（流路断面積）および延在長さを調整することで、処理液Ｌの圧損を可及的に小さくすることが可能となる。処理液Ｌの圧損が小さいほど、第１ライン８２の液面と、第２ライン８３の液面とのずれが抑制される。

そして、第２ライン８３は、秤量領域８３Ｘの鉛直方向の異なる位置に２つの液位センサ８７を有する。以下、２つの液位センサ８７について、鉛直方向下方に位置するものを第１液位センサ８７１といい、第１液位センサ８７１よりも鉛直方向上方に位置するものを第２液位センサ８７２という。

第１液位センサ８７１は、秤量タンク８６の底部８６１よりも上方に位置して、第２ライン８３に溜まる処理液Ｌの液面を検出する。第２液位センサ８７２は、第１液位センサ８７１よりも上方に所定間隔離れ、かつ秤量タンク８６の天井部８６２よりも下方に位置して、第２ライン８３に溜まる処理液Ｌの液面を検出する。第１液位センサ８７１および第２液位センサ８７２は、例えば、処理液Ｌの有りと処理液Ｌの無しとを光学的に検知可能な光学センサを適用することができる。

なお、第１液位センサ８７１および第２液位センサ８７２は、光学センサに限定されず、種々のセンサを適用し得る。他の液位センサ８７としては、例えば、超音波式センサ、マイクロ波式センサ、または処理液Ｌのバブリングと圧力をモニタリングする圧力式レベルセンサ、電極やフロートなどの検出子が処理液Ｌに接触する接液式のセンサなどがあげられる。

排液下流バルブ７９は、バス側排液ライン７７Ｂの合流ライン８５において接続部８４寄りに設置される。排液下流バルブ７９は、通常状態で流路を開放しており、バス側排液ライン７７Ｂの下流側に向かって処理液Ｌを排出させる。そして、排液下流バルブ７９は、制御部９の閉指令に基づき流路を閉塞することで、バス側排液ライン７７Ｂの下流側への処理液Ｌの排出を遮断する。流量計５４を校正するために秤量タンク８６に処理液Ｌを貯留する場合には、制御部９は、この排液下流バルブ７９を閉塞することで、第１ライン８２および第２ライン８３の両方に処理液Ｌを貯留していく。

また、流量計校正システム１０は、第２ライン８３および秤量タンク８６の温度を調整可能な温度調整機構８８を備えていてもよい。温度調整機構８８は、特に限定されず、例えば、処理液を加温するヒータや処理液を冷却する冷却器などを適宜組み合わせて構成することができる。温度調整機構８８は、制御部９の制御下に温度が調整され、秤量タンク８６内の処理液Ｌの温度を、基板Ｗの液処理時の温度と同じ温度とする。これにより、流量計５４の流量値の校正において、処理液の温度誤差を可及的に低減することが可能となる。例えば、温度調整機構８８としてヒータを適用する場合、秤量タンク８６の外側に巻き付けられるリボンヒータを用いることができる。

また、流量計校正システム１０は、流量計５４の流量値の校正時に、排液ポート７６にノズル５１を直接接触させて接触部分をシールすることで、ノズルバス６０の受容空間６０ａに処理液Ｌを溜めずにバス側排液ライン７７Ｂに処理液Ｌを流す構成でもよい。これにより、ノズルバス６０からバス側排液ライン７７Ｂに向かう処理液Ｌのちぎれを防止することができる。

この場合、バス側排出部７５は、秤量タンク８６などに溜まっているエアをバス側排液ライン７７Ｂから排出可能なベント構造６５を備えていることが好ましい。例えば、ベント構造６５は、第２ライン８３の上端部（秤量領域８３Ｘよりも上方）から分岐し、かつ排液下流バルブ７９よりも下流側の合流ライン８５（バス側排液ライン７７Ｂの下流側）に接続されるベントライン６５ａを備える。また、ベントライン６５ａの途中位置には、当該ベントライン６５ａを開閉するベント用バルブ６５ｂが設けられている。

流量計校正システム１０は、秤量部８０において秤量を行う場合に、排液下流バルブ７９を閉塞するとともに、排液上流バルブ７８およびベント用バルブ６５ｂを開放する。これにより、第２ライン８３や秤量タンク８６に溜まっているエアを安定的に抜くことが可能となる。なお、ベント構造６５は、ノズル５１を排液ポート７６に直接接触させない構成に設けられてもよいことは勿論である。

図１に戻り、制御部９は、基板処理装置１全体を制御するコントローラ本体９１と、コントローラ本体９１に接続されるユーザインタフェース９４と、を有する。コントローラ本体９１は、１以上のプロセッサ９２、メモリ９３、図示しない入出力インタフェースおよび電子回路を有するコンピュータを適用し得る。プロセッサ９２は、ＣＰＵ、ＡＳＩＣ、ＦＰＧＡ、複数のディスクリート半導体からなる回路などのうち１つまたは複数を組み合わせたものである。メモリ９３は、揮発性メモリ、不揮発性メモリ（例えば、コンパクトディスク、ＤＶＤ、ハードディスク、フラッシュメモリなど）を含み、基板処理装置１を動作させるプログラム、プロセス条件などのレシピを記憶している。

コントローラ本体９１は、メモリ９３に記憶されたプログラムをプロセッサ９２に実行させることにより、基板Ｗを液処理する際に、回転機構４０、供給機構５０、移動機構６１、排出機構７０などの各構成の動作を制御する。また、コントローラ本体９１は、プログラムの実行に基づき、流量計５４の流量値を校正する流量計校正方法を実施する。すなわち、制御部９は、流量計校正システム１０の一部と言える。

ユーザインタフェース９４は、ユーザが基板処理装置１を管理するためにコマンドの入力操作などを行うキーボード、基板処理装置１の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ、または表示および入力の両機能の有するタッチパネルなどを適用し得る。

本実施形態に係る基板処理装置１は、基本的には以上のように構成され、以下、その動作（流量計校正方法）について説明する。

流量計５４の流量値の校正において、基板処理装置１の制御部９は、当該基板処理装置１の設置時またはメンテナンス時と、基板処理装置１を日常的に運用する際とで、異なる処理を実施する。以下、基板処理装置１の設置時またはメンテナンス時に行う処理を基準校正モードといい、基板処理装置１を日常的に運用する際に行う処理を健全性チェックモードという。

制御部９は、例えば、メモリ９３内に設けられた流量計校正方法用のステータスレジスタ（不図示）を識別することで、基準校正モードおよび健全性チェックモードを選択する。ステータスレジスタは、基板処理装置１の初期設定やメンテナンスにおいて、ユーザインタフェース９４を介した作業者（ユーザ）の実行操作により、基準校正モード用のフラグを立ち上げる。制御部９は、このフラグの立ち上がりを認識すると、適宜のタイミングで基準校正モードを開始する。また、ステータスレジスタは、基板処理装置１の通常運用中において起動を開始した後に自動的に、健全性チェックモード用のフラグを立ち上げる。制御部９は、このフラグの立ち上がりを認識すると、適宜のタイミングで健全性チェックモードを開始する。なお、健全性チェックモードも、ユーザの操作に基づき実行してよい。

図３に示すように、制御部９は、流量計５４の校正方法を開始すると、まず基準校正モードを実施するか否か（基準校正モードまたは健全性チェックモードの実施）を判定する（ステップＳ１）。基準校正モードを実施する場合（ステップＳ１：ＹＥＳ）、制御部９は、ステップＳ２に進む。

ステップＳ２において、制御部９は、ノズルバス６０にノズル５１を待機した状態とし、処理液供給ライン５２、ノズル５１、ノズルバス６０、バス側排液ライン７７Ｂを介して処理液Ｌを秤量部８０に導き、秤量部８０に対する処理液Ｌの貯留を開始する。この際例えば、制御部９は、供給機構５０の流量調整バルブ５５を全開状態として、処理液供給ライン５２の処理液をバス側排液ライン７７Ｂに導く。

またこの際、制御部９は、図４の時点ｔ１に示すように、先に排液上流バルブ７８を閉状態から開状態に切り替えて、第１ライン８２、第２ライン８３および合流ライン８５に処理液Ｌを通過させることで、秤量部８０に残る残留物（気体、液体）を排出する。そして時点ｔ１から所定時間経過した図４の時点ｔ２において、排液下流バルブ７９を開状態から閉状態に切り替える。これにより、排液下流バルブ７９よりも上流側の合流ライン８５に処理液Ｌが貯留され始め、さらに処理液Ｌが接続部８４を超えると、第１ライン８２の流出配管８２２および第２ライン８３の下流領域８３Ｙに処理液Ｌが貯留されていく。

その結果、秤量タンク８６および第２ライン８３の鉛直方向下方から処理液Ｌが徐々に貯留されるようになる。上記したように、秤量部８０は、流出配管８２２と第２ライン８３の下流領域８３Ｙにおける処理液Ｌの圧損が可及的に小さくなっており、また処理液Ｌにかかる気圧が略同一となっている。そのため、秤量タンク８６の処理液Ｌの液面と、第２ライン８３の秤量領域８３Ｘの液面とは、同じ高さで上昇していく。さらに、分岐部８１の内部が段差８１ａとなっていることで、分岐部８１からの第２ライン８３への処理液Ｌの流入が回避され、液位センサ８７の誤検知を防ぐことができる。

排液下流バルブ７９の閉塞後、秤量タンク８６および第２ライン８３の秤量領域８３Ｘに処理液Ｌが溜まっていくと、図４の時点ｔ３において、第２ライン８３の第１液位センサ８７１が処理液Ｌの液面を検出する。制御部９は、第１液位センサ８７１による処理液Ｌの液面検出を受信することに基づき、供給機構５０の流量計５４による流量値の計測を開始する（図３のステップＳ３も参照）。

その後、秤量タンク８６および第２ライン８３の秤量領域８３Ｘに処理液Ｌが溜まり続けることで、処理液Ｌの液面が上昇していく。この過程でも、制御部９は流量計５４による処理液Ｌの流量値の累積を継続する。図４の時点ｔ４において、第２ライン８３の第２液位センサ８７２が処理液Ｌの液面を検出する。制御部９は、第２液位センサ８７２による処理液Ｌの液面検出を受信することで、流量計５４の流量値の計測を停止する（図３のステップＳ４も参照）。またこの際、制御部９は、供給側バルブ５６および排液上流バルブ７８を閉塞することで、秤量部８０への処理液Ｌの流入を禁止する。なお、制御部９は、第２液位センサ８７２の液面検出後に、排液上流バルブ７８を所定期間開放し続けることで秤量部８０への処理液Ｌの貯留を継続し、所定期間後に排液上流バルブ７８を閉塞してもよい。

そして、図３のステップＳ５において、制御部９は、時点ｔ３～時点ｔ４（秤量タンク８６で設定された貯留容積となる期間）における流量計５４の校正用流量積分値を算出し、さらに校正用積分値に基づき補正係数を算出する。すなわち、図５に示すように、第１液位センサ８７１による第１検出タイミングと第２液位センサ８７２による第２検出タイミングの積算期間にわたって累積した流量値は、秤量タンク８６および第２ライン８３で上昇した処理液Ｌの貯留容積（貯留量）に一致する。また、時点ｔ３～時点ｔ４における流量値の累積は、積算期間と流量計５４の流量値とを積分した流量積分値にあたる。そして第１液位センサ８７１と第２液位センサ８７２間の秤量タンク８６および第２ライン８３（秤量領域８３Ｘ）における処理液Ｌの貯留容積は、秤量タンク８６の容積および第２ライン８３の容積に応じて予め規定される。したがって、校正用流量積分値をＡとし、貯留容積をＢとした場合、以下の式（１）によって流量計５４の流量値の補正係数Ｃを得ることができる。
Ｃ＝Ｂ／Ａ …（１）

なお本実施形態において、秤量部８０の貯留容積Ｂは、秤量タンク８６の容積と第２ライン８３の容積とを加算して規定されたものである。ただし、第１液位センサ８７１と第２液位センサ８７２間の第２ライン８３の容積が秤量タンク８６の容積よりも充分に小さい場合には、秤量部８０の貯留容積Ｂとして秤量タンク８６の容積のみを用いてもよい。

また、処理液Ｌの種類によっては、秤量タンク８６内において揮発が生じる場合がある。図５（ａ）中では、揮発量Ｄを点線で示している。制御部９は、揮発量Ｄと校正用流量積分値Ａと貯留容積Ｂに基づいて補正係数Ｃを得ることが好ましい。例えば、以下の式（２）によって補正係数Ｃを得ることができる。
Ｃ＝（Ｂ＋Ｄ）／Ａ …（２）

制御部９は、揮発量Ｄを求めるために、処理液Ｌの種類に応じた揮発量Ｄのマップ情報ＭＩを予め保有する。例えば、揮発量Ｄのマップ情報ＭＩは、処理液Ｌの温度と、単位時間あたりの揮発量との関係を示す表や関数であるとよい。図５（ｂ）では、温度と単位時間あたりの揮発量の関係を示すグラフを例示している。

制御部９は、校正時の温度、および第１液位センサ８７１による第１検出タイミングから第２液位センサ８７２による第２検出タイミングまでの期間を計測する。そして、制御部９は、校正時の温度に基づき単位時間あたりの揮発量を、マップ情報ＭＩから抽出し、抽出した単位時間あたりの揮発量と期間を積算することで、校正時に生じた揮発量を精度よく算出することができる。

図３に戻り、制御部９は、流量計５４の補正係数Ｃを算出すると、当該補正係数Ｃをメモリ９３に記憶して、基準校正モードを終了する。メモリ９３に記憶された補正係数Ｃは、基板Ｗの液処理において流量計５４が処理液Ｌの流量値を計測した際に使用される。つまり、制御部９は、受信した流量値に補正係数Ｃを積算して流量値を補正することで、処理液Ｌの正確な流量値を得る。そして、制御部９は、この流量値に基づき流量調整バルブ５５を制御することで、基板Ｗに対する処理液Ｌの供給量を精度よく調整できる。

また、制御部９は、健全性チェックモードを実施する場合（図３のステップＳ１：ＮＯ）に、ステップＳ６に進む。ステップＳ６～Ｓ８は、上記のステップＳ２～Ｓ４の処理フローと同じ処理を行う。よって、具体的な説明は省略する。ステップＳ８により、秤量部８０による秤量（第２液位センサ８７２による処理液Ｌの検出）が終了すると、ステップＳ９に進む。

ステップＳ９において、制御部９は、流量計５４の再現性を算出する。流量計５４の再現性とは、基準校正モードで得られた校正用流量積分値Ａに対して、運用中に同じ評価を行った場合に同じ流量積分値を得られているかどうかを指標として算出するものである。例えば、流量計５４の再現性をＥとし、健全性チェックモードにおけるチェック用流量積分値をＦとした場合に、再現性Ｅは、校正用流量積分値Ａを利用して、以下の式（３）で算出することができる。
Ｅ＝（Ｆ－Ａ）／Ａ×１００［％］ …（３）

そして、制御部９は、再現性Ｅを算出すると、この再現性Ｅが所定の許容差（例えば、±５％以内）に含まれるか否かを判定する（ステップＳ１０）。再現性Ｅが許容差の範囲内である場合（ステップＳ１０：ＹＥＳ）、制御部９は、流量計校正システム１０が正常であると判定する。この結果、制御部９は、健全性チェックモードを終了し、基板処理装置１による基板Ｗの液処理に移行する。

一方、再現性Ｅが許容差の範囲を超えている場合（ステップＳ１０：ＮＯ）、制御部９は、流量計校正システム１０が異常であると判定する。この際、制御部９は、ユーザインタフェース９４を介してユーザにアラートを報知する（ステップＳ１１）。これにより、ユーザは、流量計校正システム１０の異常に応じて適切な対処をとることができる。

なお、本実施形態に係る流量計校正システム１０、基板処理装置１および流量計校正方法は、上記の実施形態に限定されず、種々の変形例をとり得る。例えば、排液下流バルブ７９は、流出配管８２２を介して秤量タンク８６よりも下流側に設けられる構成に限定されず、秤量タンク８６の底部８６１に設けられてもよい。この場合、第２ライン８３は、底部８６１に連通して処理液を貯留する構成とすればよい。

また例えば、秤量部８０は、液位センサ８７に代えて、秤量タンク８６の処理液Ｌの液面を、アナログで（リニアに）測定できる図示しないカメラやセンサを適用してもよい。一例として、流量計校正方法では、カメラの監視下に秤量タンク８６の計測開始位置まで処理液Ｌを貯留した後、計測開始位置から所定の積算期間にわたって処理液Ｌを吐出させ、カメラにより処理液Ｌの液面の計測終了位置を測定する。そして、制御部９は、流量計５４における積算期間の校正用流量積分値Ａまたはチェック用流量積分値Ｆと、測定した上昇量（計測開始位置から計測終了位置までの量）とに基づき、流量計５４の流量値の校正を行うことができる。

あるいは、秤量部８０は、秤量タンク８６に貯留される処理液Ｌの重量を測定して、この重量を流量計５４の流量値の校正に使用してもよい。例えば、秤量部８０は、水平バーに歪みゲージ８９（重量計測部：図２の２点鎖線参照）を介して秤量タンク８６を吊り下げる形態をとることで、秤量タンク８６内の処理液Ｌの重量を簡単に計測することができる。計測した処理液Ｌの重量は、流量計５４を通過した処理液Ｌの流量と比例関係にあるため、制御部９は、所定期間における重量変化に基づき流量計５４の流量値を校正することができる。

例えば、流量計校正方法では、吐出前の秤量タンク８６の重量を測定し、積算期間にわたって処理液Ｌを吐出した際の、流量計５４の校正用流量積分値Ａまたはチェック用流量積分値Ｆを算出するとともに、吐出終了後の秤量タンク８６の重量を測定する。制御部９は、吐出前の秤量タンク８６の重量と、吐出後の秤量タンク８６の重量とに基づき、秤量タンク８６に吐出した実際の処理液Ｌの重量を算出する。そして、制御部９は、校正用流量積分値Ａと重量とに基づき、流量計５４の流量値を校正することができ、またチェック用流量積分値Ｆと重量とに基づき、健全性をチェックすることができる。

さらに、基板処理装置１は、上記の流量計校正システム１０による流量計校正方法とともに、別の流量計校正システムを組み合わせてもよい。例えば、別の流量計校正システム１０としては、処理液供給ライン５２およびバス側排液ライン７７Ｂと同一の配管レイアウトを有するサンプリングユニット（不図示）を備えることがあげられる。制御部９は、このサンプリングユニットにて計測した流量積分値または貯留容積を組み合わせて、補正係数Ｃを算出することで、校正の精度を一層高めることができる。

また、流量計校正システム１０は、カップ２０内のチャック３０にダミーウエハを収容し、流量計５４を介してノズル５１からダミーウエハに吐出された処理液Ｌの動きを赤外線センサにより検出して、流量値の校正に使用してもよい。すなわち、制御部９は、赤外線センサの検出結果に基づき、時間毎の処理液Ｌの動きから処理液Ｌの流量を演算することができる。

また、流量計校正システム１０は、Ｋ型熱電対などの温度計をノズルバス６０に設置して、処理液Ｌを一定量の供給した際の、温度計の温度変化を検出して、この検出結果を流量値の校正に使用してもよい。

また、流量計校正システム１０は、光学的測定を行う液検出センサ（ファイバセンサ）を、処理液供給ライン５２に複数設け、その検出結果を流量値の校正に使用してもよい。例えば、制御部９は、第１液検出センサの液検出タイミングと、第２液検出センサの液検出タイミングと、第１液検出センサおよび第２液検出センサの間隔および流路断面積に基づき、処理液供給ライン５２を流通する処理液Ｌの流量を算出することができる。

また、流量計校正システム１０は、処理液供給ライン５２に複数の流量計５４を設置して、一の流量計５４の流量値を基準として、他の流量計５４の流量値を補正してもよい。この場合、複数の流量計５４は、同じ検出方式の流量計５４を適用してもよく、異なる検出方式（例えば、電磁式に対して超音波式やコリオリ式）を組み合わせた構成でもよい。

図６に示す変形例に係る流量計校正システム１０Ａは、処理液供給ライン５２の流量計５４および流量調整バルブ５５よりも下流側に、処理液Ｌを流通させる別ライン５７を備え、この別ライン５７に処理液排出ライン７７を接続している。別ライン５７は、基板処理装置１から処理液Ｌを排出する廃棄部に接続されてもよく、処理液供給源に接続されることで処理液Ｌを回収する構成でもよい。別ライン５７は、この別ライン５７の流路を開閉する別ライン側バルブ５８を途中位置に備える。別ライン側バルブ５８は、通常時に閉塞していることで、ノズル５１に処理液Ｌを向かわせ、必要に応じて開放することで、処理液供給ライン５２の処理液Ｌを流通させる。

処理液排出ライン７７は、例えば、別ライン側バルブ５８よりも上流側の別ライン５７に接続され、別ライン５７から処理液Ｌを流入することが可能である。すなわち、流量計５４の校正時には、処理液供給ライン５２の供給側バルブ５６および別ライン５７の別ライン側バルブ５８を閉塞する一方で、排液上流バルブ７８を開放することで秤量部８０に処理液Ｌを導くことができる。したがって、変形例に係る流量計校正システム１０Ａでも、上記の実施形態と同じ流量計校正方法を行うことができ、流量計５４の流量値を精度よく校正することが可能となる。なお、処理液排出ライン７７は、別ライン５７に接続されずに、流量計５４よりも下流側の処理液供給ライン５２に直接接続されていてもよい。また、この流量計校正システム１０Ａでも、図２に示したベント構造６５を備えてよいことは勿論である。

以上の実施形態で説明した本開示の技術的思想および効果について以下に記載する。

本開示の第１の態様に係る流量計校正システム１０、１０Ａは、基板Ｗに処理液Ｌを供給する処理液供給ライン５２と、処理液供給ライン５２に設けられ、処理液Ｌの流量値を検出する流量計５４と、流量計５４よりも下流側に設けられ、処理液供給ライン５２を流通した処理液Ｌを排出する処理液排出ライン７７と、処理液排出ライン７７を制御する制御部９と、を備え、処理液排出ライン７７は、処理液Ｌを貯留する秤量タンク８６と、秤量タンク８６の底部８６１から下方に排出される処理液Ｌの流路を開閉するバルブ（排液下流バルブ７９）と、を有し、制御部９は、バルブにより処理液Ｌの流路を閉じて、秤量タンク８６に貯留される処理液Ｌに基づき、流量計５４の流量値を校正する。

上記によれば、流量計校正システム１０、１０Ａは、処理液排出ライン７７の秤量タンク８６およびバルブ（排液下流バルブ７９）により流量計５４の流量値を校正することで、人手による校正作業をなくして、流量計５４の校正作業を省力化することができる。特に、流量計校正システム１０、１０Ａは、基板に近い位置の処理液Ｌを秤量タンク８６に導入することで、よりプロセス処理条件に近い条件で秤量でき、流量計５４の校正の精度を一層高めることができる。また、処理容器１００の外に秤量タンク８６を備えた流量計校正システム１０、１０Ａは、処理容器１００のサイズを大きくすることなく所望の容積の秤量タンク８６を使用することができる。仮に特許文献１に開示されている基板処理装置のように、吐出ノズルが退避する容器（ノズルバス）において秤量を行う場合、容器のサイズが大きくなってしまい、チャンバサイズ（処理容器のサイズ）が大きくなってしまう。これに対して、流量計校正システム１０、１０Ａは、ノズルバス６０よりも下流側の処理液排出ライン７７に秤量タンク８６を有するため、秤量タンク８６の容積を充分に確保でき、例えば、処理に用いられる処理液Ｌの総量を秤量することが可能となる。

また、処理液排出ライン７７は、秤量タンク８６を有する第１ライン８２と、秤量タンク８６に貯留される処理液の液面と同じ高さまで、秤量タンクから排出された処理液が流入する第２ライン８３と、を有し、第２ライン８３は、第２ライン８３に流入した処理液Ｌの液面を検出する液位センサ８７を有する。これにより、流量計校正システム１０、１０Ａは、秤量タンク８６により生じる測定誤差を低減して、秤量タンク８６に貯留される処理液Ｌの液面を正確に検出することができる。

また、第１ライン８２および第２ライン８３は、秤量タンク８６よりも鉛直方向上方において相互に連通している。これにより、流量計校正システム１０、１０Ａは、秤量タンク８６の処理液Ｌにかかる気圧と、第２ライン８３の処理液Ｌにかかる気圧とを略同一にすることができ、液面のずれを抑制できる。

また、第１ライン８２は、秤量タンク８６内に処理液Ｌを流入させる流入配管８２１を備え、流入配管８２１は、秤量タンク８６の底部８６１の近傍位置に、処理液を吐出する吐出口８２１ａを有する。これにより、流量計校正システム１０、１０Ａは、秤量タンク８６に処理液Ｌを貯留する際に、処理液Ｌの液はねや液面の揺れを抑制することができる。

また、秤量タンク８６の温度を調整する温度調整機構８８を備える。これにより、流量計校正システム１０、１０Ａは、基板Ｗに処理液Ｌを供給する際の処理液Ｌの温度と同じ条件で、処理液Ｌを流通した際の流量値を校正することができ、校正の精度をより高めることができる。例えば、処理液ＬとしてＩＰＡを適用する場合、処理液Ｌは温度によって濃度や粘度が異なるため、処理液Ｌの温度に応じてより効果的に校正できる。

また、処理液供給ライン５２の先端に設けられるノズル５１を収容する容器（ノズルバス６０）を有し、処理液排出ライン７７は、容器に接続され、容器で受けた処理液Ｌを秤量タンク８６、バルブ（排液下流バルブ７９）の順に流通させる。これにより、流量計校正システム１０は、バスよりも下流側の処理液排出ライン７７において処理液Ｌの秤量を良好に行うことができる。

また、処理液排出ライン７７は、処理液供給ライン５２の先端に設けられるノズル５１と流量計５４と間で処理液供給ライン５２から分岐しており、ノズル５１による処理液Ｌの吐出を停止した状態で、処理液Ｌを秤量タンク８６、バルブ（排液下流バルブ７９）の順に流通させる。この場合でも、流量計校正システム１０、１０Ａは、流量計５４の下流の処理液供給ライン５２から処理液排出ライン７７に導入した処理液Ｌの秤量を良好に行うことができる。

また、制御部９は、流量計５４の流量値の校正において、処理液Ｌを秤量タンク８６に貯留し流量計５４の計測を開始してから設定された貯留容積Ｂまで貯留される期間（積算期間）を計測するとともに、期間における流量計５４の流量値を積分した校正用流量積分値Ａを算出し、貯留容積Ｂと校正用流量積分値Ａとに基づき、流量計５４の流量値を補正する補正係数Ｃを得る。これにより、制御部９は、流量計５４の流量値を適切に校正することができる。

また、制御部９は、秤量タンク８６に貯留される処理液Ｌの揮発量Ｄを推定し、揮発量Ｄと貯留容積Ｂと校正用流量積分値Ａとに基づき、流量計５４の流量値を補正する補正係数Ｃを得る。このように処理液Ｌの揮発量を加味することで、制御部９は、流量計５４の流量値の校正を一層精度よく行うことができる。

また、制御部９は、流量計５４の流量値の校正の実施以降に、流量計５４の正常または異常を確認する健全性チェックモードを行い、健全性チェックモードでは、処理液Ｌを秤量タンク８６に貯留し流量計５４の計測を開始してから設定された貯留容積Ｂまで貯留される期間（積算期間）を計測するとともに、期間における流量計５４の流量値を積分したチェック用流量積分値Ｆを算出し、校正用流量積分値Ａとチェック用流量積分値Ｆとに基づき、流量計５４の正常または異常を判定する。これにより、制御部９は、液処理時に、流量が調整された処理液Ｌを、基板Ｗに安定して供給することが可能となり、また流量計５４の異常を早期に把握することができる。

また、秤量タンク８６の重量を計測する重量計測部（歪みゲージ８９）を備え、制御部９は、秤量タンク８６に処理液Ｌを貯留した際の重量変化に基づき、処理液Ｌの重量を算出し、当該処理液Ｌの重量を用いて流量計５４が検出する処理液Ｌの流量値を校正する。この場合でも、流量計校正システム１０、１０Ａは、流量計５４の流量値を精度よく校正できる。

また、本開示の第２の態様は、基板Ｗを処理液Ｌで処理する基板処理装置１であって、基板Ｗに処理液Ｌを供給する処理液供給ライン５２と、処理液供給ライン５２に設けられ、処理液Ｌの流量値を検出する流量計５４と、流量計５４よりも下流側に設けられ、処理液供給ライン５２を流通した処理液Ｌを排出する処理液排出ライン７７と、処理液排出ライン７７を制御する制御部９と、を備え、処理液排出ライン７７は、処理液Ｌを貯留可能な秤量タンク８６と、秤量タンク８６の底部から下方に排出される処理液Ｌの流路を開閉するバルブ（排液下流バルブ７９）と、バルブにより処理液Ｌの流路を閉じて、秤量タンクに貯留される処理液Ｌの量に基づき、流量計５４の流量値を校正する制御部９と、を有する。これにより、基板処理装置１は、流量計５４の校正作業を省力化することができる。

また、本開示の第３の態様は、基板Ｗに処理液Ｌを供給する処理液供給ライン５２に設けられる流量計５４の流量値を校正する流量計校正方法であって、流量計５４よりも下流側に設けられ、処理液供給ライン５２を流通した処理液を排出する処理液排出ライン７７を備え、処理液排出ライン７７は、処理液を貯留する秤量タンク８６と、秤量タンク８６の底部８６１から下方に排出される処理液の流路を開閉するバルブ（排液下流バルブ７９）と、を有し、流量計校正方法では、処理液供給ライン５２を流通した処理液Ｌを処理液排出ライン７７に排出する工程と、バルブにより処理液Ｌの流路をとじて、秤量タンク８６に処理液Ｌを貯留する工程と、秤量タンク８６に貯留される処理液Ｌの量に基づき、流量計５４の流量値を校正する工程と、を有する。このように第３の態様でも、流量計５４の校正作業を省力化することができる。

また、処理液を貯留する工程では、処理液を前記秤量タンク８６に貯留し流量計５４の計測を開始してから設定された貯留容積まで貯留される期間と、当該期間における流量計５４の流量値を計測し、流量計５４の流量値を校正する工程では、期間における流量計５４の流量値を積分した校正用流量積分値Ａを算出し、貯留容積Ｂと校正用流量積分値Ａとに基づき、流量計５４の流量値を補正する補正係数Ｃを得る。これにより、流量計校正方法は、流量計５４の流量値を適切に校正することができる。

また、流量計５４の流量値を校正する工程では、秤量タンク８６に貯留される処理液Ｌの揮発量Ｄを推定し、揮発量Ｄと貯留容積Ｂと校正用流量積分値Ａとに基づき、流量計５４の流量値を補正する補正係数Ｃを得る。これにより、流量計校正方法は、流量計５４の流量値の校正を一層精度よく行うことができる。

また、流量計５４の流量値の校正の実施以降に、流量計５４の正常または異常を確認する工程を有し、流量計５４の正常または異常を確認する工程では、処理液Ｌを秤量タンク８６に貯留し流量計５４の計測を開始してから設定された貯留容積まで貯留される期間を計測するとともに、期間における流量計５４の流量値を積分したチェック用流量積分値Ｆを算出し、校正用流量積分値Ａとチェック用流量積分値Ｆとに基づき、流量計５４の正常または異常を判定する。これにより、流量計校正方法は、流量計５４の異常を早期に把握することができる。

今回開示された実施形態に係る流量計校正システム１０、１０Ａ、基板処理装置１および流量計校正方法は、すべての点において例示であって制限的なものではない。実施形態は、添付の請求の範囲およびその主旨を逸脱することなく、様々な形態で変形および改良が可能である。上記複数の実施形態に記載された事項は、矛盾しない範囲で他の構成も取り得ることができ、また、矛盾しない範囲で組み合わせることができる。

１ 基板処理装置
１０、１０Ａ 流量計校正システム
５２ 処理液供給ライン
５４ 流量計
７７ 処理液排出ライン
７９ 排液下流バルブ
８６ 秤量タンク
９ 制御部
Ｌ 処理液
Ｗ 基板

Claims (16)

1. 基板に処理液を供給する処理液供給ラインと、
   前記処理液供給ラインに設けられ、前記処理液の流量値を検出する流量計と、
   前記流量計よりも下流側に設けられ、前記処理液供給ラインを流通した前記処理液を排出する処理液排出ラインと、
   前記処理液排出ラインを制御する制御部と、を備え、
   前記処理液排出ラインは、前記処理液を貯留する秤量タンクと、前記秤量タンクの底部から下方に排出される前記処理液の流路を開閉するバルブと、を有し、
   前記制御部は、前記バルブにより前記処理液の流路を閉じて、前記秤量タンクに貯留される前記処理液の量に基づき、前記流量計の流量値を校正する、
   流量計校正システム。
2. 前記処理液排出ラインは、
   前記秤量タンクを有する第１ラインと、
   前記秤量タンクに貯留される前記処理液の液面と同じ高さまで、前記秤量タンクから排出された前記処理液が流入する第２ラインと、を有し、
   前記第２ラインは、前記第２ラインに流入した前記処理液の液面を検出する液位センサを有する、
   請求項１に記載の流量計校正システム。
3. 前記第１ラインおよび前記第２ラインは、前記秤量タンクよりも鉛直方向上方において相互に連通している、
   請求項２に記載の流量計校正システム。
4. 前記第１ラインは、前記秤量タンク内に前記処理液を流入させる流入配管を備え、
   前記流入配管は、前記秤量タンクの底部の近傍位置に、前記処理液を吐出する吐出口を有する、
   請求項２または３に記載の流量計校正システム。
5. 前記秤量タンクの温度を調整する温度調整機構を備える、
   請求項１乃至４のいずれか１項に記載の流量計校正システム。
6. 前記処理液供給ラインの先端に設けられるノズルを収容する容器を有し、
   前記処理液排出ラインは、前記容器に接続され、前記容器で受けた前記処理液を前記秤量タンク、前記バルブの順に流通させる、
   請求項１乃至５のいずれか１項に記載の流量計校正システム。
7. 前記処理液排出ラインは、前記処理液供給ラインの先端に設けられるノズルと前記流量計の間で前記処理液供給ラインから分岐しており、
   前記ノズルによる前記処理液の吐出を停止した状態で、前記処理液を前記秤量タンク、前記バルブの順に流通させる、
   請求項１乃至５のいずれか１項に記載の流量計校正システム。
8. 前記制御部は、前記流量計の流量値の校正において、前記処理液を前記秤量タンクに貯留し前記流量計の計測を開始してから設定された貯留容積まで貯留される期間を計測するとともに、前記期間における前記流量計の流量値を積分した校正用流量積分値を算出し、前記貯留容積と前記校正用流量積分値とに基づき、前記流量計の流量値を補正する補正係数を得る、
   請求項１乃至７のいずれか１項に記載の流量計校正システム。
9. 前記制御部は、前記秤量タンクに貯留される前記処理液の揮発量を推定し、前記揮発量と前記貯留容積と前記校正用流量積分値とに基づき、前記流量計の流量値を補正する補正係数を得る、
   請求項８に記載の流量計校正システム。
10. 前記制御部は、前記流量計の流量値の校正の実施以降に、前記流量計の正常または異常を確認する健全性チェックモードを行い、
    前記健全性チェックモードでは、前記処理液を前記秤量タンクに貯留し前記流量計の計測を開始してから設定された貯留容積まで貯留される期間を計測するとともに、前記期間における前記流量計の流量値を積分したチェック用流量積分値を算出し、前記校正用流量積分値と前記チェック用流量積分値とに基づき、前記流量計の正常または異常を判定する、
    請求項８または９に記載の流量計校正システム。
11. 前記秤量タンクの重量を計測する重量計測部を備え、
    前記制御部は、前記秤量タンクに前記処理液を貯留した際の重量変化に基づき、前記処理液の重量を算出し、当該処理液の重量を用いて前記流量計が検出する前記処理液の流量値を校正する、
    請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の流量計校正システム。
12. 基板を処理液で処理する基板処理装置であって、
    前記基板に前記処理液を供給する処理液供給ラインと、
    前記処理液供給ラインに設けられ、前記処理液の流量値を検出する流量計と、
    前記流量計よりも下流側に設けられ、前記処理液供給ラインを流通した前記処理液を排出する処理液排出ラインと、
    前記処理液排出ラインを制御する制御部と、を備え、
    前記処理液排出ラインは、前記処理液を貯留する秤量タンクと、
    前記秤量タンクの底部から下方に排出される前記処理液の流路を開閉するバルブと、を有し、
    前記制御部は、前記バルブにより前記処理液の流路を閉じて、前記秤量タンクに貯留される前記処理液の量に基づき、前記流量計の流量値を校正する、
    基板処理装置。
13. 基板に処理液を供給する処理液供給ラインに設けられる流量計の流量値を校正する流量計校正方法であって、
    前記流量計よりも下流側に設けられ、前記処理液供給ラインを流通した前記処理液を排出する処理液排出ラインを備え、
    前記処理液排出ラインは、前記処理液を貯留する秤量タンクと、前記秤量タンクの底部から下方に排出される前記処理液の流路を開閉するバルブと、を有し、
    前記流量計校正方法では、
    前記処理液供給ラインを流通した前記処理液を前記処理液排出ラインに排出する工程と、
    前記バルブにより前記処理液の流路を閉じて、前記秤量タンクに前記処理液を貯留する工程と、
    前記秤量タンクに貯留される前記処理液の量に基づき、前記流量計の流量値を校正する工程と、を有する、
    流量計校正方法。
14. 前記処理液を貯留する工程では、前記処理液を前記秤量タンクに貯留し前記流量計の計測を開始してから設定された貯留容積まで貯留される期間と、当該期間における前記流量計の流量値とを計測し、
    前記流量計の流量値を校正する工程では、前記期間における前記流量計の流量値を積分した校正用流量積分値を算出し、前記貯留容積と前記校正用流量積分値とに基づき、前記流量計の流量値を補正する補正係数を得る、
    請求項１３に記載の流量計校正方法。
15. 前記流量計の流量値を校正する工程では、前記秤量タンクに貯留される前記処理液の揮発量を推定し、前記揮発量と前記貯留容積と前記校正用流量積分値とに基づき、前記流量計の流量値を補正する補正係数を得る、
    請求項１４に記載の流量計校正方法。
16. 前記流量計の流量値の校正の実施以降に、前記流量計の正常または異常を確認する工程を有し、
    前記流量計の正常または異常を確認する工程では、前記処理液を前記秤量タンクに貯留し前記流量計の計測を開始してから設定された貯留容積まで貯留される期間を計測するとともに、前記期間における前記流量計の流量値を積分したチェック用流量積分値を算出し、前記校正用流量積分値と前記チェック用流量積分値とに基づき、前記流量計の正常または異常を判定する、
    請求項１４または１５に記載の流量計校正方法。

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