JP2023029486A

JP2023029486A - Surface treatment method and manufacturing method for r-t-b base sintered magnet

Info

Publication number: JP2023029486A
Application number: JP2022211020A
Authority: JP
Inventors: 真一和田; Shinichi Wada
Original assignee: Proterial Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 2019-03-20
Filing date: 2022-12-28
Publication date: 2023-03-03
Also published as: JP7287037B2; JP2019104106A

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel surface treatment method and a novel manufacturing method for an R-T-B base sintered magnet, which can suppress rusting.

SOLUTION: The surface treatment method for an R-T-B base sintered magnet discharges a slurry including abrasive grains and a liquid by means of air pressure, and applies the slurry to the surface of the conveyed R-T-B base sintered magnet to treat the surface. The discharging direction of the slurry is a direction inclined to a plane orthogonal to a conveying direction, and first to fourth nozzles for discharging the slurry upstream to downstream or vice versa in the conveying direction to one surface of the conveyed R-T-B base sintered magnet and the other surface opposite to the one surface are provided at different positions in the conveying direction.

SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法および製造方法に関する。 The present invention relates to a surface treatment method and a production method for RTB based sintered magnets.

Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素のうち少なくとも一種でありＮｄを必ず含む、Ｔは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありＦｅを必ず含む、Ｂはホウ素である）は優れた磁気特性を有していることから自動車や産業用機械、電子機器など様々な分野で使用されている。その使用量は電気自動車や電子機器の普及により増加が期待されている。また、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石は錆が発生しやすいため、表面に防錆処理を施して使用されてきている。 RTB-based sintered magnets (R is at least one rare earth element and must contain Nd, T is at least one transition metal element and must contain Fe, and B is boron) are excellent. Due to its magnetic properties, it is used in various fields such as automobiles, industrial machinery, and electronic equipment. Its usage is expected to increase due to the spread of electric vehicles and electronic devices. In addition, since RTB sintered magnets are prone to rust, they have been used after being subjected to antirust treatment on their surfaces.

例えば、特許文献１に記載の防錆処理方法では、切断加工されたＮｄ磁石素材をローラバレル装置により面取加工をした後、コーン状のウェットブラストバレル容器に入れ、エアーノズルから圧力空気とともにメディアを吐出させながらバレル容器を回転させることにより、Ｎｄ磁石素材の表面を凹凸状の表面に荒らすとともに面取加工工程で生じた粉塵を除去する表面処理を行い、その後、バレル塗装装置により樹脂防錆塗料を塗装している。 For example, in the rust prevention treatment method described in Patent Document 1, a cut Nd magnet material is chamfered by a roller barrel device, then placed in a cone-shaped wet blast barrel container, and media is discharged from an air nozzle with pressurized air. By rotating the barrel container while discharging, the surface of the Nd magnet material is roughened into an uneven surface and surface treatment is performed to remove dust generated in the chamfering process. I am applying paint.

しかし、特許文献１のように表面処理において、Ｎｄ磁石素材（Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石）の表面を凹凸状に荒らしてしまう（表面粗さを大きくしてしまう）と、細かい粉塵が除去し難くなるうえ、錆の原因となる酸素や水分に接触する面積が大きくなってしまうことから、除去しきれなかった粉塵が残っている箇所や、酸素や水分に接触する面積が大きい箇所に錆が発生しやすくなってしまう。 However, if the surface of the Nd magnet material (RTB-based sintered magnet) is roughened (increased the surface roughness) in the surface treatment as in Patent Document 1, fine dust is generated. In addition to being difficult to remove, the area that comes into contact with oxygen and moisture, which cause rust, becomes larger. Rust is likely to occur.

特開平１１－２３８６１１号公報JP-A-11-238611

そこで本発明は、錆の発生を抑制する、新たなＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法および製造方法を提供する。 Accordingly, the present invention provides a new surface treatment method and manufacturing method for RTB based sintered magnets that suppress the generation of rust.

上記の点に鑑みてなされたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法は、例示的な態様１において、砥粒と液体とを含むスラリーをエアーの圧力で吐出させ、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素のうち少なくとも一種でありＮｄを必ず含む、Ｔは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありＦｅを必ず含む、Ｂはホウ素である）の表面に当てることで表面処理するＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法であって、スラリーが吐出される方向は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向であり、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の表面に対して、搬送方向の上流から下流に向かってスラリーを吐出する第１ノズルと、搬送方向の下流から上流に向かってスラリーを吐出する第２ノズルと、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の面と対向する他方の表面に対して、搬送方向の上流から下流に向かってスラリーを吐出する第３ノズルと、搬送方向の下流から上流に向かってスラリーを吐出する第４ノズルと、が、搬送方向において異なる位置に設けられているＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法である。
態様２において、砥粒の粒径Ｄ_５０は６０μｍ以上、１３０μｍ以下であり、スラリー中の前記砥粒の体積百分率は５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下であり、エアーの圧力は０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下であり、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下である、態様１に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法である。
態様３において、砥粒の形状は球状形状である態様１または態様２に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法である。
態様４において、砥粒はジルコニアである態様１乃至態様３に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法である。
態様５において、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石はローラによって搬送される態様１乃至態様４に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法である。
態様６において、液体は水である態様１乃至態様５に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法である。 A surface treatment method for RTB sintered magnets, which has been made in view of the above points, is an exemplary embodiment 1 in which a slurry containing abrasive grains and a liquid is discharged by air pressure, and a conveyed R - Applied to the surface of a TB system sintered magnet (R is at least one rare earth element and must contain Nd, T is at least one transition metal element and must contain Fe, and B is boron) In the surface treatment method for a RTB based sintered magnet, the direction in which the slurry is discharged is a direction that is inclined with respect to a plane perpendicular to the conveying direction, and the conveyed R- A first nozzle that discharges slurry from upstream to downstream in the conveying direction and a second nozzle that discharges slurry from downstream to upstream in the conveying direction to one surface of a TB based sintered magnet. , a third nozzle that discharges slurry from upstream to downstream in the conveying direction onto the other surface of the sintered RTB magnet that is conveyed, and from downstream in the conveying direction: and a fourth nozzle for discharging slurry toward the upstream are provided at different positions in the conveying direction.
In aspect 2, the particle size _D50 of the abrasive grains is 60 μm or more and 130 μm or less, the volume percentage of the abrasive grains in the slurry is 5 vol% or more and 15 vol% or less, and the air pressure is 0.1 MPa or more and 0 .4 MPa or less, and the feed rate of the RTB sintered magnet is 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less, according to the surface treatment method of the RTB system sintered magnet according to aspect 1. be.
In Aspect 3, the surface treatment method for a sintered RTB magnet according to Aspect 1 or Aspect 2, wherein the abrasive grains are spherical.
Aspect 4 is the surface treatment method for RTB based sintered magnets according to Aspects 1 to 3, wherein the abrasive grains are zirconia.
Aspect 5 is the surface treatment method for a sintered RTB magnet according to aspects 1 to 4, wherein the sintered RTB magnet is conveyed by rollers.
Aspect 6 is the surface treatment method for RTB based sintered magnets according to aspects 1 to 5, wherein the liquid is water.

上記の点に鑑みてなされたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法は、例示的な態様７において、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素のうち少なくとも一種でありＮｄを必ず含む、Ｔは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありＦｅを必ず含む、Ｂはホウ素である）を用意する工程と、砥粒と液体とを含むスラリーをエアーの圧力で吐出させて、搬送される前記Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面に当てることで表面処理する表面処理工程であって、前記スラリーが吐出される方向は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向であり、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の表面に対して、搬送方向の上流から下流に向かってスラリーを吐出する第１ノズルと、搬送方向の下流から上流に向かってスラリーを吐出する第２ノズルと、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の面と対向する他方の表面に対して、搬送方向の上流から下流に向かってスラリーを吐出する第３ノズルと、搬送方向の下流から上流に向かってスラリーを吐出する第４ノズルと、が、搬送方向において異なる位置に設けられている表面処理工程と、を含む、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法である。
態様８において、砥粒の粒径Ｄ_５０は６０μｍ以上、１３０μｍ以下であり、スラリー中の前記砥粒の体積百分率は５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下であり、エアーの圧力は０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下であり、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下である、態様７に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法である。 A method for manufacturing an RTB based sintered magnet, which has been made in view of the above points, is an exemplary embodiment 7 in which an RTB based sintered magnet (R is at least one rare earth element and Nd T is at least one of the transition metal elements and always contains Fe, B is boron), and a slurry containing abrasive grains and liquid is discharged by air pressure and conveyed. a surface treatment step in which the slurry is discharged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the conveying direction. There is a first nozzle that discharges slurry from upstream to downstream in the conveying direction to one surface of the RTB sintered magnet that is conveyed, and slurry from downstream to upstream in the conveying direction. and a third nozzle that discharges the slurry from upstream to downstream in the conveying direction to the other surface facing the one surface of the RTB sintered magnet being conveyed. and a surface treatment step in which a fourth nozzle for discharging slurry from downstream to upstream in the conveying direction is provided at different positions in the conveying direction. manufacturing method.
In aspect 8, the particle diameter _D50 of the abrasive grains is 60 μm or more and 130 μm or less, the volume percentage of the abrasive grains in the slurry is 5 vol % or more and 15 vol % or less, and the air pressure is 0.1 MPa or more and 0 .4 MPa or less, and the feed rate of the RTB sintered magnet is 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less. .

本発明によれば、錆の発生を抑制する、新たなＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法および製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a new surface treatment method and manufacturing method for RTB based sintered magnets that suppress the generation of rust.

表面処理装置の概略図を示す。1 shows a schematic diagram of a surface treatment apparatus; FIG. （ａ）はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の形状が角柱形状の場合のローラのＹ－Ｚ面断面図を示し、（ｂ）はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の形状が円柱形状の場合のローラのＹ－Ｚ面断面図を示す。(a) shows a YZ plane cross-sectional view of the roller when the shape of the RTB system sintered magnet is prismatic, and (b) shows the shape of the RTB system sintered magnet is cylindrical. 2 shows a YZ plane cross-sectional view of the roller in the case of . （ａ）はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の表面に対してスラリーを吐出する場合のノズル配置のＹ－Ｚ面概略図を示し、（ｂ）は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の他方の表面に対してスラリーを吐出する場合のノズル配置のＹ－Ｚ面概略図を示す。(a) shows a YZ plane schematic diagram of the nozzle arrangement when slurry is discharged to one surface of an RTB system sintered magnet, and (b) shows an RTB system sintered magnet. FIG. 11 shows a schematic YZ plane view of the nozzle arrangement when discharging slurry against the other surface of the magnet.

本発明のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法は、砥粒と液体とを含むスラリーをエアーの圧力で吐出させ、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素のうち少なくとも一種でありＮｄを必ず含む、Ｔは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありＦｅを必ず含む、Ｂはホウ素である）の表面に当てることで表面処理する表面処理方法であって、砥粒の粒径Ｄ_５０は６０μｍ以上、１３０μｍ以下であり、スラリー中の砥粒の体積百分率は５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下であり、エアーの圧力は０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下であり、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下であり、スラリーが吐出される方向は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向である。
以下、本発明の詳細を説明する。 In the surface treatment method of the RTB system sintered magnet of the present invention, a slurry containing abrasive grains and a liquid is discharged by air pressure, and the RTB system sintered magnet (R is a rare earth at least one of the elements and always containing Nd, T being at least one of the transition metal elements and always containing Fe, and B being boron). The particle diameter _D50 of the abrasive grains is 60 μm or more and 130 μm or less, the volume percentage of the abrasive grains in the slurry is 5 vol % or more and 15 vol % or less, and the air pressure is 0.1 MPa or more and 0.4 MPa or less. , the feed rate of the RTB based sintered magnet is 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less, and the direction in which the slurry is discharged is the direction inclined with respect to the plane orthogonal to the conveying direction.
The details of the present invention are described below.

本発明のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法は、例えば、図１～３に記載の表面処理装置１を用いて表面処理をおこなう。図面には、参考のため、互いに直交する-Ｘ－Ｘ軸、-Ｙ－Ｙ軸及び-Ｚ－Ｚ軸が模式的に示されている。Ｚ軸が鉛直方向に平行である。図１に記載の表面処理装置１は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを搬送する搬送部２と、砥粒と液体とを含むスラリーＳをエアーの圧力で吐出させ、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に当てて処理するウェットブラスト処理部３と、ウェットブラスト処理を行ったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを洗浄するための洗浄処理部４と、洗浄後のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを乾燥させるための乾燥処理部５とを有している。なお、表面処理装置１は、ウェットブラスト処理部３を有していればよく、必ずしも洗浄処理部４および乾燥処理部５を表面処理装置１に有している必要はない。別の装置を準備して洗浄処理部４および乾燥処理部５の処理を行ってもよい。 In the surface treatment method of the RTB based sintered magnet of the present invention, for example, the surface treatment is performed using the surface treatment apparatus 1 shown in FIGS. In the drawing, for reference, -XX axes, -YY axes and -ZZ axes that are orthogonal to each other are schematically shown. The Z axis is parallel to the vertical direction. The surface treatment apparatus 1 shown in FIG. - A wet blasting unit 3 for applying treatment to the surface M1 of the TB based sintered magnet M, and a cleaning processing unit 4 for cleaning the wet blasted RTB based sintered magnet M. , and a drying processing unit 5 for drying the RTB based sintered magnet M after washing. The surface treatment apparatus 1 only needs to have the wet blasting section 3, and the surface treatment apparatus 1 does not necessarily need to have the cleaning section 4 and the drying section 5. FIG. A separate device may be prepared to perform the processing of the cleaning processing section 4 and the drying processing section 5 .

搬送部２には複数のローラ２１が設けられており、ウェットブラスト処理部３、洗浄処理部４、乾燥処理部５の順に、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを連続して搬送できるように設けられている。また、図１の例では、ローラ２１はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石ＭをＺ軸方向に対向し、挟むように設けられており、Ｚ方向側のローラ２１をＹ軸方向を中心に反時計回りに回転させ、－Ｚ方向側のローラ２１を時計回りに回転させることでＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを搬送する。 A plurality of rollers 21 are provided in the conveying section 2 so that the RTB based sintered magnets M can be continuously conveyed to the wet blast processing section 3, the cleaning processing section 4, and the drying processing section 5 in this order. is provided in Further, in the example of FIG. 1, the rollers 21 are provided so as to face and sandwich the sintered RTB magnet M in the Z-axis direction. By rotating counterclockwise and rotating the roller 21 on the -Z direction side clockwise, the RTB system sintered magnet M is conveyed.

Ｚ方向側に配置されている複数ローラ２１の間隔Ｋ１と－Ｚ方向側に配置されている複数のローラ２１の間隔Ｋ１は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送方向の長さＫ２よりも短く、複数箇所で支持できる。好ましくは、ローラ２１は等間隔となるように配置されている。ただし、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１にスラリーＳを当てる位置については、当てる側のローラ２１の間隔Ｋ１が広くなるように設け、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを複数箇所で支持出来るように配置する。この様に設けることにより、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを安定した状態で搬送しながらスラリーＳを当てることが出来る。 The interval K1 between the plurality of rollers 21 arranged on the Z direction side and the interval K1 between the plurality of rollers 21 arranged on the −Z direction side are the length K2 in the conveying direction of the RTB system sintered magnet M. It is shorter and can be supported at multiple points. Preferably, the rollers 21 are arranged at regular intervals. However, regarding the position where the slurry S is applied to the surface M1 of the RTB system sintered magnet M, it is provided so that the interval K1 of the roller 21 on the contact side is widened, and the RTB system sintered magnet M is placed. Arrange so that it can be supported at multiple points. By providing in this manner, the slurry S can be applied while the RTB system sintered magnet M is transported in a stable state.

また、ローラ２１の形状は、円柱形状であっても良いが、図２（ａ）,（ｂ）に示すようにＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの形状に合わせて凹部が形成されていてもよい。図２におけるローラ２１ａおよび２１ｂは、ローラ２１のある実施形態を示す例である。また、図２（ａ）は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの形状が角柱形状の場合のローラ２１ａのＹ－Ｚ面断面図を示し、図２（ｂ）はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの形状が円柱形状の場合のローラ２１ｂのＹ－Ｚ面断面図を示している。 Further, the roller 21 may have a cylindrical shape, but as shown in FIGS. may Rollers 21 a and 21 b in FIG. 2 are examples of one embodiment of roller 21 . Further, FIG. 2(a) shows a YZ plane cross-sectional view of the roller 21a when the shape of the RTB based sintered magnet M is prismatic, and FIG. 3 shows a cross-sectional view of the roller 21b along the YZ plane when the sintered magnet M has a cylindrical shape.

図２（ａ）のローラ２１ａは、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの角柱形状に合わせて、Ｚ方向側のローラ２１ａと－Ｚ方向側のローラ２１ａの中央にコの字状の凹部２２ａを設けたものである。凹部２２ａのＹ軸方向の幅Ｋ３は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石ＭのＹ軸方向の幅と同じ幅であってもよく、クリアランスを持たせた幅であってもよい。また、Ｚ方向側のローラ２１ａと－Ｚ方向側のローラ２１ａのどちらか一方に凹部２２ａが形成されたものが配置されていてもよい。更に、凹部２２ａを中央に設けているが、どの様な位置に設けてもよく、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを複数個ずつ搬送する場合は凹部２２ａが複数形成されていてもよい。このように凹部２２ａを設けることで、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送中にＹ軸方向にずれる力が生じても凹部２２ａがＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍに接触するため、ローラ２１ａから落下することなく、安定して搬送する事が可能となる。 The roller 21a shown in FIG. 2(a) has U-shaped recesses at the center of the roller 21a on the Z-direction side and the roller 21a on the −Z-direction side in accordance with the prismatic shape of the RTB sintered magnet M. 22a is provided. The width K3 of the concave portion 22a in the Y-axis direction may be the same as the width in the Y-axis direction of the sintered RTB magnet M, or may have a width with a clearance. Alternatively, one of the roller 21a on the Z direction side and the roller 21a on the −Z direction side may be provided with the concave portion 22a. Furthermore, although the recess 22a is provided in the center, it may be provided at any position, and in the case of transporting a plurality of RTB system sintered magnets M, a plurality of recesses 22a may be formed. . By providing the recess 22a in this way, the recess 22a is in contact with the sintered RTB magnet M even if a force that shifts the RTB system sintered magnet M in the Y-axis direction is generated during transportation. Therefore, the sheet can be stably conveyed without dropping from the roller 21a.

図２（ｂ）のローラ２１ｂは、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの円柱形状に合わせて、Ｚ方向側のローラ２１ｂと－Ｚ方向側のローラ２１ｂの中央に弧状の凹部２２ｂを設けたものである。凹部２２ｂの曲率半径は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍと同じ曲率半径であってもよく、クリアランスを持たせた大きい曲率半径であってもよい。また、Ｚ方向側のローラ２１ｂと－Ｚ方向側のローラ２１ｂのどちらか一方に凹部２２ｂが形成されたものが配置されてもよい。更に、凹部２２ｂを中央に設けているが、どの様な位置に設けてもよく、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを複数個ずつ搬送する場合は凹部２２ｂが複数形成されていてもよい。このように凹部２２ｂを設けることで、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送中にＹ軸方向にずれる力が生じても凹部２２ｂがＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍに接触するため、ローラ２１ｂから落下することなく、安定して搬送する事が可能となる。 The roller 21b in FIG. 2(b) is provided with an arcuate concave portion 22b in the center of the roller 21b on the Z direction side and the roller 21b on the −Z direction side in accordance with the cylindrical shape of the RTB system sintered magnet M. It is a thing. The radius of curvature of the concave portion 22b may be the same radius of curvature as the sintered RTB magnet M, or may have a larger radius of curvature with a clearance. Alternatively, one of the roller 21b on the Z-direction side and the roller 21b on the -Z-direction side may be provided with the concave portion 22b. Furthermore, although the recessed portion 22b is provided in the center, it may be provided at any position, and a plurality of recessed portions 22b may be formed when a plurality of RTB based sintered magnets M are transported. . By providing the recess 22b in this way, the recess 22b is in contact with the sintered RTB magnet M even if a displacement force is generated in the Y-axis direction during transportation of the sintered RTB magnet M. Therefore, it is possible to stably convey the sheet without falling from the roller 21b.

ローラ２１の材質は、特にスラリーＳによる摩耗に対して耐久性のある材質がよく、例えばウレタン樹脂を用いるとよい。 The material of the roller 21 is preferably a material that is particularly resistant to wear due to the slurry S, such as urethane resin.

ローラ２１によるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの送り速度は、３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下となるようにすると良い。送り速度が３０ｍｍ／ｓｅｃよりも遅くなると、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１にスラリーＳが当たる時間が長くなるため、砥粒より表面Ｍ１の表面粗さを大きくしてしまう可能性がある。また、送り速度が９０ｍｍ／ｓｅｃよりも早くなると、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１にスラリーＳが当たる時間が短くなるため、表面Ｍ１に付着した粉塵を十分に除去できず、また表面を均し難くなる。 The feeding speed of the RTB system sintered magnet M by the roller 21 is preferably 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less. If the feed speed is slower than 30 mm/sec, the time that the slurry S hits the surface M1 of the RTB sintered magnet M becomes longer, so the surface roughness of the surface M1 may become larger than that of the abrasive grains. have a nature. In addition, when the feed speed is higher than 90 mm/sec, the time for the slurry S to contact the surface M1 of the RTB sintered magnet M is shortened, so the dust adhering to the surface M1 cannot be sufficiently removed. Moreover, it becomes difficult to level the surface.

図１に示すウェットブラスト処理部３は、ウェットブラスト処理をおこなうところであり、搬送部２によって搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に砥粒と液体とを含むスラリーＳをエアーの圧力で吐出させるノズル３１と、吐出されたスラリーＳを貯留するスラリー貯留部３２が設けられている。 The wet blasting unit 3 shown in FIG. 1 is a place for performing wet blasting, and a slurry S containing abrasive grains and liquid is applied to the surface M1 of the RTB based sintered magnet M conveyed by the conveying unit 2. A nozzle 31 for discharging by air pressure and a slurry storage section 32 for storing the discharged slurry S are provided.

ノズル３１は、吐出されるスラリーＳの方向が、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送方向（Ｘ方向）と直行する面（Ｙ－Ｚ面）に対して傾斜する方向となるように、ノズル３１が傾斜して設けられている。より具体的には、Ｙ－Ｚ面からＸ軸方向に向かって２５度～３５度傾斜して設けられている。この様にノズル３１を傾斜して設けることにより、スラリーＳ中の砥粒がＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に当たった際に発生する衝突エネルギーの一部が面方向に分散するため、付着した粉塵が除去しやすくなり、表面を均しやすくなる。 The nozzle 31 is arranged so that the direction of the discharged slurry S is inclined with respect to the plane (YZ plane) perpendicular to the conveying direction (X direction) of the RTB based sintered magnet M. , the nozzle 31 is inclined. More specifically, it is provided at an angle of 25 to 35 degrees from the YZ plane toward the X-axis direction. By slanting the nozzle 31 in this way, part of the collision energy generated when the abrasive grains in the slurry S collide with the surface M1 of the RTB sintered magnet M is dispersed in the plane direction. This makes it easier to remove adhering dust and smooth the surface.

また、ノズル３１はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａと、一方の表面Ｍ１ａと対向する他方の表面（一方の表面の裏面、あるいは一方の表面の背面ともいう）Ｍ１ｂとにスラリーＳが当たるように、ノズル３１が複数設けられている。言い換えると、搬送部２に対してＺ方向側と－Ｚ方向側にノズル３１がそれぞれ設けられている。このようにノズル３１を設けることで、効率よく粉塵を除去し、表面を均すことができる。 In addition, the nozzle 31 has one surface M1a of the RTB system sintered magnet M and the other surface (also referred to as the back surface of one surface or the back surface of one surface) M1b facing the one surface M1a. A plurality of nozzles 31 are provided so that the slurry S hits the . In other words, the nozzles 31 are provided on the Z-direction side and the -Z-direction side with respect to the transport section 2, respectively. By providing the nozzle 31 in this manner, dust can be efficiently removed and the surface can be leveled.

そして、ノズル３１はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送方向の上流から下流に向かう方向と、搬送方向の下流から上流に向かう方向にスラリーＳが吐出できるよう、ノズル３１が複数設けられている。言い換えると、Ｘ方向にスラリーＳを吐出するノズル３１と、－Ｘ方向にスラリーＳを吐出するノズル３１が設けられている。このようにノズル３１を設けることで、一方向では除去し難かった粉塵を除去でき、均し難かった表面を均らすことができる。 A plurality of nozzles 31 are provided so that the nozzles 31 can discharge the slurry S in the direction from upstream to downstream in the transport direction of the RTB system sintered magnet M and in the direction from downstream to upstream in the transport direction. ing. In other words, the nozzles 31 for discharging the slurry S in the X direction and the nozzles 31 for discharging the slurry S in the -X direction are provided. By providing the nozzles 31 in this way, it is possible to remove dust that was difficult to remove in one direction, and to level the surface that was difficult to level.

例えば、ノズル３１はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａに対して、上流から下流に向かって吐出するノズル３１ａと、下流から上流に向かって吐出するノズル３１ｂと、他方の表面Ｍ１ｂに対して上流から下流に向かって吐出するノズル３１ｃと、下流から上流に向かって吐出するノズル３１ｄとがそれぞれ複数設けられている。また、ノズル３１ａ～３１ｃは、それぞれ複数個であってもよく、例えば、それぞれ２つずつノズル３１を設けた場合、合計８つのノズル３１が設けられる。 For example, the nozzles 31 have nozzles 31a that discharge from upstream to downstream, nozzles 31b that discharge from downstream to upstream, and nozzles 31b that discharge toward one surface M1a of the sintered RTB magnet M. A plurality of nozzles 31c that discharge liquid from upstream to downstream and a plurality of nozzles 31d that discharge liquid from downstream to upstream are provided on the surface M1b. Moreover, each of the nozzles 31a to 31c may be plural in number. For example, when two nozzles 31 are provided for each, a total of eight nozzles 31 are provided.

なお、それぞれ２つずつノズル３１を設ける場合、図３（ａ）,（ｂ）に示すように設けることが好ましい。図３（ａ）は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａに対してスラリーを吐出する場合のノズル３１ａ,３１ｂの配置を示すＹ－Ｚ面の概略図であり図３（ｂ）は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの他方の表面Ｍ１ｂに対してスラリーを吐出する場合のノズル３１ｃ,３１ｄの配置を示すＹ－Ｚ面の概略図である。 When two nozzles 31 are provided for each, it is preferable to provide them as shown in FIGS. 3(a) and 3(b). FIG. 3(a) is a schematic view of the YZ plane showing the arrangement of nozzles 31a and 31b when slurry is discharged onto one surface M1a of the RTB sintered magnet M. (b) is a schematic view of the YZ plane showing the arrangement of nozzles 31c and 31d when slurry is discharged onto the other surface M1b of the RTB sintered magnet M. FIG.

図３（ａ）に示すように、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａに対してスラリーを吐出する場合、ノズル３１ａ,３１ｂの一方は、Ｘ－Ｚ面に対して傾斜し、Ｙ方向に向かってスラリーを吐出できるように配置され、ノズル３１ａ,３１ｂの他方はＸ－Ｚ面に対して傾斜し、－Ｙ方向に向かってスラリーを吐出できるように配置される。また、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石ＭのＺ軸方向の中心線Ｃに対して線対称となるように配置される。このように設けることにより、スラリー中の砥粒の衝突エネルギーの分散方向が増加し、一方の表面Ｍ１ａの除去し難かった粉塵を除去することができ、表面を均らしやすくすることができる。 As shown in FIG. 3(a), when slurry is discharged onto one surface M1a of the RTB sintered magnet M, one of the nozzles 31a and 31b is inclined with respect to the XZ plane. The nozzles 31a and 31b are arranged so as to discharge slurry in the Y direction, and the other of the nozzles 31a and 31b is inclined with respect to the XZ plane and arranged so as to discharge slurry in the -Y direction. In addition, they are arranged so as to be symmetrical with respect to the center line C of the RTB system sintered magnet M in the Z-axis direction. Such provision increases the dispersion direction of the collision energy of the abrasive grains in the slurry, makes it possible to remove dust that was difficult to remove from the one surface M1a, and makes it easier to level the surface.

図３（ｂ）に示すように、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの他方の表面Ｍ１ｂに対してスラリーを吐出する場合、ノズル３１ｃ,３１ｄの一方は、Ｘ－Ｚ面に対して傾斜し、Ｙ方向に向かってスラリーを吐出できるように配置され、ノズル３１ｃ,３１ｄの他方は、Ｘ－Ｚ面に対して傾斜し、－Ｙ方向に向かってスラリーを吐出できるように配置される。また、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石ＭのＺ軸方向の中心線Ｃに対して線対称となるように配置される。このように設けることにより、スラリーＳ中の砥粒の衝突エネルギーの分散方向が増加し、他方の表面Ｍ１ｂの除去し難かった粉塵を除去することができ、表面を均らしやすくすることができる。 As shown in FIG. 3(b), when the slurry is discharged onto the other surface M1b of the RTB sintered magnet M, one of the nozzles 31c and 31d is tilted with respect to the XZ plane. The nozzles 31c and 31d are arranged so as to discharge slurry in the Y direction, and the other of the nozzles 31c and 31d is inclined with respect to the XZ plane and arranged so as to discharge slurry in the -Y direction. In addition, they are arranged so as to be symmetrical with respect to the center line C of the RTB system sintered magnet M in the Z-axis direction. By providing in this way, the direction in which the collision energy of the abrasive grains in the slurry S disperses increases, dust that was difficult to remove from the other surface M1b can be removed, and the surface can be easily leveled.

なお、ノズル３１ａ～３１ｄの数はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの大きさや形状に合わせて設ける数を調整してもよく、１つだけ配置されているところや３つ以上配置されているところがあってもよい。 The number of nozzles 31a to 31d may be adjusted according to the size and shape of the sintered RTB magnet M. There may be places.

図１に示すノズル３１から吐出されるスラリーＳは砥粒と液体を含んでいる。砥粒の粒径Ｄ_５０は６０μｍ以上、１３０μｍ以下のものを用いる。粒径Ｄ_５０が６０μｍより小さい場合、効率よく粉塵を除去し難くなり、また表面を均し難くなる。１３０μｍよりも大きい場合、衝突エネルギーが大きくなるため表面が荒れやすくなる。なお、粒径Ｄ_５０は、流分散式レーザ解析法による測定で得られる体積中心値（体積基準メジアン径）のことを意味する。 The slurry S discharged from the nozzle 31 shown in FIG. 1 contains abrasive grains and liquid. Abrasive grains having a particle diameter _D50 of 60 μm or more and 130 μm or less are used. If the particle size _D50 is less than 60 μm, it becomes difficult to efficiently remove dust and level the surface. If it is larger than 130 μm, the collision energy increases and the surface tends to be roughened. The particle size _D50 means the volume median value (volume-based median diameter) obtained by measurement by a flow dispersion laser analysis method.

砥粒の形状は球状形状のものがよい。球状形状である方が、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に砥粒が当たった際に衝突エネルギーを分散しやすいため、当たった場所の表面を均しやすく、分散したエネルギー方向にある粉塵を除去することができる。材質は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの硬度が高いことから、靭性が高く耐摩耗性の高いジルコニアを用いるとよい。なお、材質は硬度に合わせてセラミックス材料の中から適宜選択してよい。 Abrasive grains preferably have a spherical shape. Since the spherical shape makes it easier to disperse the collision energy when the abrasive grains hit the surface M1 of the RTB sintered magnet M, it is easier to level the surface of the hit location and the direction of the dispersed energy. It can remove dust in Zirconia, which has high toughness and high wear resistance, is preferably used as the material because the hardness of the sintered RTB magnet M is high. The material may be appropriately selected from among ceramic materials according to hardness.

スラリーＳに用いる液体は水であることが好ましい。また、スラリーＳ中の砥粒の体積百分率は５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下となるようにするとよい。体積百分率が５ｖｏｌ％よりも低い場合、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に当たる砥粒の数が少なくなるため、効率よく粉塵を除去し難くなり、均し難くなる。また、体積百分率が１５ｖｏｌ％よりも高い場合、ノズル３１から吐出するスラリーＳの飛散性が低くなり、効率よく粉塵を除去し難くなり、均し難くなる。なお、本発明の砥粒の体積百分率は、スラリーＳ中の砥粒を十分に沈殿させ、外観から見て測定した時の砥粒の体積と液体の体積の比率から導かれた値である。 The liquid used for the slurry S is preferably water. Also, the volume percentage of the abrasive grains in the slurry S is preferably 5 vol % or more and 15 vol % or less. If the volume percentage is lower than 5 vol %, the number of abrasive grains that come into contact with the surface M1 of the RTB sintered magnet M is reduced, making it difficult to efficiently remove dust and level it. On the other hand, if the volume percentage is higher than 15 vol %, the scattering property of the slurry S discharged from the nozzle 31 becomes low, making it difficult to efficiently remove dust and leveling. The volume percentage of the abrasive grains of the present invention is a value derived from the ratio of the volume of the abrasive grains to the volume of the liquid when the abrasive grains in the slurry S are sufficiently precipitated and measured from the outside.

ノズル３１から吐出されるスラリーＳは、エアー供給部３３から供給されるエアーの圧力により吐出しており、各ノズル３１とエアー供給部３３はエアー供給菅３３ａを介して接続して設けられている。エアーの圧力は、０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下となるように調整されている。０．１ＭＰａよりも低い圧力の場合、スラリーＳの飛散性が低くなり、効率よく粉塵を除去したり凹凸状の表面を均すことが難しくなる。また、０．４ＭＰａよりも高い圧力の場合、砥粒の衝突エネルギーが大きくなるため、表面が荒れやすくなる。 The slurry S discharged from the nozzles 31 is discharged by the pressure of air supplied from the air supply section 33, and each nozzle 31 and the air supply section 33 are connected via an air supply tube 33a. . The air pressure is adjusted to be 0.1 MPa or more and 0.4 MPa or less. When the pressure is lower than 0.1 MPa, the scattering property of the slurry S becomes low, making it difficult to efficiently remove dust and level the uneven surface. Moreover, when the pressure is higher than 0.4 MPa, the collision energy of the abrasive grains increases, so the surface tends to be roughened.

スラリー貯留部３２は、搬送部２に対して－Ｚ方向側に設けられており、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍに付着した粉塵や磁石くずや、砥粒（以降、粉塵、磁石くず、砥粒くずをまとめてスラッジと称する）を含んだスラリーＳが貯留されている。そして、スラッジを含んだスラリーＳは、第１のポンプＰ１によって排出され、ノズル３１へと供給される。スラリーＳは、本発明の砥粒の粒径Ｄ_５０およびスラリー中の砥粒の体積百分率の範囲になるように、スラリーＳの一部または全部をスラッジと使用可能な砥粒とを分離するための分離部３４に供給したのちに、ノズル３１へ供給してもよく、スラリーＳの一部または全部をスラリー濃度を調整するための濃度調整部３５に供給したのちに、ノズル３１へ供給してもよい。また、スラリーＳの一部または全部は、分離部３４および濃度調整部３５の両方に供給されたのちにノズル３１へ供給してもよい。また、分離部３４および濃度調整部３５に供給されたスラリーＳの一部は、スラリー貯留部３２内を攪拌するためにスラリー貯留部３２内に戻してもよい。 The slurry storage unit 32 is provided on the -Z direction side with respect to the conveying unit 2, and removes dust, magnet waste, and abrasive grains (hereinafter, dust, magnet waste, etc.) attached to the RTB sintered magnet M , abrasive grain scraps are collectively referred to as sludge) is stored. Then, the slurry S containing sludge is discharged by the first pump P1 and supplied to the nozzle 31 . In order to separate the sludge and the usable abrasive grains, the slurry S is partially or entirely in the range of the particle size D ₅₀ of the abrasive grains of the present invention and the volume percentage of the abrasive grains in the slurry. After being supplied to the separation unit 34, it may be supplied to the nozzle 31. After supplying part or all of the slurry S to the concentration adjustment unit 35 for adjusting the slurry concentration, it is supplied to the nozzle 31. good too. Further, part or all of the slurry S may be supplied to both the separation section 34 and the concentration adjustment section 35 and then supplied to the nozzle 31 . Also, part of the slurry S supplied to the separation section 34 and the concentration adjustment section 35 may be returned into the slurry storage section 32 in order to stir the inside of the slurry storage section 32 .

ノズル３１へ供給されるスラリーＳは、第１のポンプＰ１とノズル３１とを接続するスラリー供給菅３２ａによって供給される。 The slurry S supplied to the nozzle 31 is supplied by a slurry supply pipe 32a that connects the first pump P1 and the nozzle 31 .

分離部３４に供給されたスラリーＳは、例えばサイクロン装置を用いてスラッジと使用可能な砥粒とを分離し、分離されたスラッジを含む液はスラッジ回収部３６へと供給され、使用可能な砥粒を含む液はスラリー貯留部３２内へと戻される。 The slurry S supplied to the separation section 34 is separated into sludge and usable abrasive grains by using, for example, a cyclone device, and the liquid containing the separated sludge is supplied to the sludge recovery section 36 to be used as abrasive grains. The liquid containing the grains is returned into the slurry reservoir 32 .

濃度調整部３５に供給されたスラリーＳは、砥粒の体積百分率が５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下となるように調整しており、体積百分率が５ｖｏｌ％よりも低くなった場合は砥粒を供給して５ｖｏｌ％以上となるように調整している。 The slurry S supplied to the concentration adjustment unit 35 is adjusted so that the volume percentage of the abrasive grains is 5 vol% or more and 15 vol% or less, and when the volume percentage is lower than 5 vol%, the abrasive grains are supplied. and adjusted to be 5 vol% or more.

スラッジ回収部３６は、分離部３４で分離されたスラッジを含む液が供給され、スラッジ中の、粉塵や磁石くずと、砥石くずと液体を分離している。この様に分離することで、粉塵や磁石くずを原料として再利用することができる。 The sludge recovery section 36 is supplied with the liquid containing the sludge separated by the separation section 34, and separates dust, magnet waste, grindstone waste, and the liquid in the sludge. By separating in this way, dust and magnet waste can be reused as raw materials.

洗浄処理部４は、ウェットブラスト処理部３で付着したスラリーＳや、スラッジを洗い落とすところであり、搬送部２によってウェットブラスト処理部３から搬送されたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍに向かって洗浄液Ｌを吐出する洗浄ノズル４１と、吐出された洗浄液Ｌを貯留するための洗浄液貯留部４２とが設けられている。 The cleaning processing unit 4 is a place to wash off the slurry S and sludge adhered in the wet blasting processing unit 3. A cleaning nozzle 41 for discharging the cleaning liquid L and a cleaning liquid reservoir 42 for storing the discharged cleaning liquid L are provided.

洗浄ノズル４１は、吐出される洗浄液Ｌの方向が、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送方向（Ｘ方向）と直行する方向（Ｚ軸方向）に吐出するように設けられている。また、洗浄ノズル４１はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａと他方の表面Ｍ１ｂに当たるように、洗浄ノズル４１が複数設けられている。言い換えると、搬送部２に対してＺ方向側と－Ｚ方向側に洗浄ノズル４１ａ,４１ｂが設けられている。なお、洗浄ノズル４１はウェットブラスト処理部３のノズル３１と同様に傾斜させてもよい。 The washing nozzle 41 is provided so that the washing liquid L is discharged in the direction (Z-axis direction) perpendicular to the conveying direction (X direction) of the RTB system sintered magnet M. A plurality of cleaning nozzles 41 are provided so that the cleaning nozzles 41 come into contact with one surface M1a and the other surface M1b of the sintered RTB magnet M. As shown in FIG. In other words, the cleaning nozzles 41a and 41b are provided on the Z-direction side and the -Z-direction side with respect to the transport section 2, respectively. Note that the cleaning nozzle 41 may be inclined in the same manner as the nozzle 31 of the wet blasting section 3 .

また、洗浄ノズル４１はＺ方向側と－Ｚ方向側のそれぞれに複数設けていてもよい。例えば、搬送方向（Ｘ方向）に沿って一定の間隔をあけて設けてもよい。更に、必要に応じてＹ軸方向に沿って複数設けてもよい。 Also, a plurality of cleaning nozzles 41 may be provided on each of the Z direction side and the -Z direction side. For example, they may be provided at regular intervals along the transport direction (X direction). Furthermore, a plurality of them may be provided along the Y-axis direction as needed.

洗浄液Ｌは水であるが、目的に合わせて水以外の液体を用いてもよい。また、洗浄液Ｌは洗浄液供給部４３から洗浄ノズル４１に供給されている。 The cleaning liquid L is water, but liquids other than water may be used depending on the purpose. Also, the cleaning liquid L is supplied to the cleaning nozzle 41 from the cleaning liquid supply unit 43 .

洗浄液貯留部４２は、搬送部２に対して－Ｚ方向側に設けられており、図１の例では、乾燥処理部５まで貫通して設けられている。また、洗浄液貯留部４２内は、スラリーＳや洗浄液Ｌ、乾燥処理部５で除去された洗浄液Ｌを貯留しており、適宜第２のポンプＰ２によって排出される。なお、洗浄ノズル４１を搬送方向（Ｘ方向）に沿って間隔をあけて複数設けている場合、上流側に配置されている洗浄ノズル４１から吐出された洗浄液Ｌはスラリー貯留部３２に貯留されるように設け、下流側に配置されている洗浄ノズル４１から吐出された洗浄液Ｌは洗浄液貯留部４２に貯留されるように設けてもよい。 The cleaning liquid storage section 42 is provided on the -Z direction side with respect to the transport section 2, and is provided so as to penetrate to the drying processing section 5 in the example of FIG. In addition, the slurry S, the cleaning liquid L, and the cleaning liquid L removed by the drying processing section 5 are stored in the cleaning liquid storage section 42, and are appropriately discharged by the second pump P2. When a plurality of cleaning nozzles 41 are provided at intervals along the transport direction (X direction), the cleaning liquid L discharged from the cleaning nozzles 41 arranged on the upstream side is stored in the slurry reservoir 32. , and the cleaning liquid L ejected from the cleaning nozzle 41 arranged on the downstream side may be stored in the cleaning liquid reservoir 42 .

乾燥処理部５は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した洗浄液Ｌをエアーで吹き飛ばして除去し、乾燥させるところであり、搬送部２によって洗浄処理部４から搬送されたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍに向かってエアーを送風する送風ノズル５１を用いて乾燥させる。 The drying processing unit 5 blows away the cleaning liquid L adhering to the surface M1 of the RTB sintered magnet M with air to remove it, and dries it. - The sintered magnet M of TB system is dried using a blowing nozzle 51 that blows air toward it.

送風ノズル５１は、送風されるエアーの方向が、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの搬送方向（Ｘ方向）と直行する方向（Ｚ軸方向）に送風するように設けられている。また、送風ノズル５１はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａと他方の表面Ｍ１ｂに当たるように、送風ノズル５１が複数設けられている。言い換えると、搬送部２に対してＺ方向側と－Ｚ方向側に送風ノズル５１ａ,５１ｂが設けられている。なお、送風ノズル５１はウェットブラスト処理部３のノズル３１と同様に目的に合わせて傾斜させてもよい。 The blowing nozzle 51 is provided so that the direction of blown air is in the direction (Z-axis direction) perpendicular to the conveying direction (X direction) of the RTB system sintered magnet M. A plurality of blowing nozzles 51 are provided so as to hit one surface M1a and the other surface M1b of the RTB system sintered magnet M. As shown in FIG. In other words, the blower nozzles 51a and 51b are provided on the Z direction side and the −Z direction side with respect to the transport section 2. As shown in FIG. Note that the blowing nozzle 51 may be inclined according to the purpose, like the nozzle 31 of the wet blasting section 3 .

また、送風ノズル５１はＺ方向側と－Ｚ方向側のそれぞれに複数設けていてもよい。例えば、搬送方向（Ｘ方向）に沿って一定の間隔をあけて設けてもよい。更に、必要に応じてＹ軸方向に沿って複数設けてもよい。送風ノズル５１から送風されるエアーは、送風エアー供給部５２から供給される。乾燥処理部５は、必ずしもこのような実施形態に限定されない。例えば、ヒータによりＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを加熱することにより乾燥させてもよく、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した洗浄液Ｌを乾燥させることができればその方法は特に問わない。 Also, a plurality of blowing nozzles 51 may be provided on each of the Z direction side and the −Z direction side. For example, they may be provided at regular intervals along the transport direction (X direction). Furthermore, a plurality of them may be provided along the Y-axis direction as needed. The air blown from the blow nozzle 51 is supplied from the blown air supply section 52 . The drying processing section 5 is not necessarily limited to such an embodiment. For example, the RTB system sintered magnet M may be dried by heating it with a heater. The method is not particularly limited.

次に、図１に記載の表面処理装置１を用いたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面処理方法を説明する。まず、ウェットブラスト処理部３内で、搬送部２により搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１のウェットブラスト処理をおこなう。 Next, a surface treatment method for the RTB system sintered magnet M using the surface treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 will be described. First, in the wet blasting section 3, the surface M1 of the RTB system sintered magnet M conveyed by the conveying section 2 is wet blasted.

Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは公知のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石を用いることが出来る。例えば、原料を合金化して粉砕し、磁場中成形した後、焼結・熱処理し、切削加工されたものを用いる。なお、切削加工されたものに限られず焼結・熱処理後で表面に凹凸が形成される工程、例えば拡散処理後のものなどに対して、本発明の表面処理方法を用いてもよい。本発明の表面処理方法はＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面の粉塵を除去や、凹凸を均すための処理をさす。 As the RTB system sintered magnet M, a known RTB system sintered magnet can be used. For example, the raw material is alloyed, pulverized, compacted in a magnetic field, sintered and heat-treated, and cut. In addition, the surface treatment method of the present invention may be used not only for cutting, but also for processes in which irregularities are formed on the surface after sintering and heat treatment, such as after diffusion treatment. The surface treatment method of the present invention refers to a treatment for removing dust from the surface of a sintered RTB magnet and smoothing unevenness.

Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは搬送部２により搬送され、送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下となるように調整されている。また、スラリーＳは搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に吐出される。スラリーＳの砥粒の粒径Ｄ_５０は、６０μｍ以上、１３０μｍ以下のものを使用し、スラリー中の砥粒の体積百分率が５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下となるよう調整されている。スラリーＳを吐出するためのエアーの圧力は、０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下となるように調整されている。このような条件でウェットブラスト処理をおこなうことで、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した粉塵を除去することができ、表面を均一に均らすことができる。その結果、錆の発生を抑制することが出来る。 The RTB system sintered magnet M is transported by the transport unit 2, and the feed speed is adjusted to be 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less. Moreover, the slurry S is discharged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. The grain size _D50 of the abrasive grains of the slurry S is 60 μm or more and 130 μm or less, and the volume percentage of the abrasive grains in the slurry is adjusted to 5 vol % or more and 15 vol % or less. The pressure of the air for discharging the slurry S is adjusted to be 0.1 MPa or more and 0.4 MPa or less. By performing the wet blasting treatment under such conditions, dust adhering to the surface M1 of the RTB sintered magnet M can be removed, and the surface can be made uniform. As a result, rust generation can be suppressed.

ウェットブラスト処理が終わったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により洗浄処理部４に搬送され、ウェットブラスト処理部３で付着したスラリーＳや、スラッジを洗浄液Ｌで洗い落とす。 After wet blasting, the RTB sintered magnet M is transported by the transporting unit 2 to the cleaning processing unit 4, where the slurry S and sludge adhered in the wet blasting processing unit 3 are washed off with the cleaning liquid L.

その後、洗浄液Ｌで洗ったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により乾燥処理部５に搬送され、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した洗浄液Ｌをエアーで吹き飛ばして除去し、乾燥させる。 After that, the RTB system sintered magnet M washed with the cleaning liquid L is transported to the drying processing section 5 by the transportation section 2, and the cleaning liquid L adhering to the surface M1 of the RTB system sintered magnet M is removed. Blow off with air and dry.

次に、図１に記載の表面処理装置１を用いたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの製造方法を説明する。まず、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを用意する。Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、公知のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石を用いることが出来る。例えば、原料を合金化して粉砕し、磁場中成形した後、焼結・熱処理し、切削加工されたものを用意する。なお、切削加工されたものに限られず焼結・熱処理後で表面に凹凸が形成される工程、例えば拡散処理後のものを用意してもよい。 Next, a method for manufacturing an RTB based sintered magnet M using the surface treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 will be described. First, an RTB based sintered magnet M is prepared. As the RTB based sintered magnet M, a known RTB based sintered magnet can be used. For example, raw materials are alloyed, pulverized, compacted in a magnetic field, sintered and heat-treated, and machined. It should be noted that the material is not limited to the one processed by cutting, and the material may be prepared after a step of forming irregularities on the surface after sintering and heat treatment, for example, after diffusion treatment.

その後、ウェットブラスト処理部３内で、搬送部２により搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１のウェットブラスト処理をおこなう。送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下となるように調整されている。また、スラリーＳは搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に吐出される。スラリーＳの砥粒の粒径Ｄ_５０は、６０μｍ以上、１３０μｍ以下のものを使用し、スラリー中の砥粒の体積百分率が５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下となるよう調整されている。スラリーＳを吐出するためのエアーの圧力は、０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下となるように調整されている。このような条件でウェットブラスト処理をおこなうことで、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した粉塵を除去することができ、表面を均一に均らしたＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを製造することができる。その結果、錆の発生を抑制しながら製造することが出来る。 After that, in the wet blasting section 3, the surface M1 of the RTB system sintered magnet M transported by the transporting section 2 is wet blasted. The feed speed is adjusted to be 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less. Moreover, the slurry S is discharged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. The grain size _D50 of the abrasive grains of the slurry S is 60 μm or more and 130 μm or less, and the volume percentage of the abrasive grains in the slurry is adjusted to 5 vol % or more and 15 vol % or less. The pressure of the air for discharging the slurry S is adjusted to be 0.1 MPa or more and 0.4 MPa or less. By performing the wet blasting under such conditions, the dust adhering to the surface M1 of the RTB system sintered magnet M can be removed, and the RTB system with the surface evenly leveled can be removed. A sintered magnet M can be produced. As a result, it is possible to manufacture while suppressing the generation of rust.

本発明の実施例１～３では、図１に記載の表面処理装置１を用いて表面処理をおこなった。また、搬送部２のローラ２１の形状は図２（ａ）のローラを使用した。 In Examples 1 to 3 of the present invention, the surface treatment was performed using the surface treatment apparatus 1 shown in FIG. As for the shape of the roller 21 of the conveying section 2, the roller shown in FIG. 2(a) was used.

ウェットブラスト処理部３のノズル３１は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に配置した。より具体的には、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａに対して、上流から下流に向かってスラリーＳを吐出するノズル３１ａが２つと、下流から上流に向かってスラリーＳを吐出するノズル３２ｂが２つと、他方の表面Ｍ１ｂに対して上流から下流に向かってスラリーＳを吐出するノズル３１ｃが２つと、下流から上流に向かってスラリーＳを吐出するノズル３１ｄが２つの、合計８つのノズル３１を使用し、図３（ａ）,（ｂ）に示すようにそれぞれ配置した。 The nozzles 31 of the wet blasting section 3 were arranged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. More specifically, on one surface M1a of the RTB sintered magnet M, there are two nozzles 31a for discharging slurry S from upstream to downstream, and slurry S from downstream to upstream. , two nozzles 31c for discharging slurry S from upstream to downstream toward the other surface M1b, and two nozzles 31d for discharging slurry S from downstream to upstream, A total of eight nozzles 31 were used and arranged as shown in FIGS. 3(a) and 3(b).

洗浄処理部４の洗浄ノズル４１は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に配置した。より具体的には、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａ側に洗浄ノズル４１ａを３つ、他方の表面Ｍ１ｂ側に洗浄ノズル４１ｂを３つの、合計６つの洗浄ノズル４１を設け、それぞれ搬送方向に沿って一定の間隔をあけて配置した。また、洗浄ノズル４１は下流から上流に向かって洗浄液Ｌを吐出するように傾斜して設けた。 The cleaning nozzles 41 of the cleaning processing unit 4 are arranged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. More specifically, three cleaning nozzles 41a are provided on one surface M1a side of the RTB based sintered magnet M, and three cleaning nozzles 41b are provided on the other surface M1b side, for a total of six cleaning nozzles 41. and arranged at regular intervals along the conveying direction. Further, the cleaning nozzle 41 is inclined so as to discharge the cleaning liquid L from the downstream side to the upstream side.

乾燥処理部５の送風ノズル５１は、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの一方の表面Ｍ１ａ側と他方の表面Ｍ１ｂ側に１つずつ設け、搬送方向に対して直交するように設けた。 The blowing nozzles 51 of the drying processing section 5 are provided on one surface M1a side and the other surface M1b side of the RTB based sintered magnet M, and are provided so as to be perpendicular to the conveying direction.

表面処理をおこなうＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、原料を合金化して粉砕し、磁場中成形した後、焼結・熱処理し、四角柱形状に切削加工された状態のものを用いた。 The RTB-based sintered magnet M to be surface-treated is in a state in which raw materials are alloyed, pulverized, compacted in a magnetic field, sintered and heat-treated, and cut into a quadrangular prism shape. .

また、錆の発生の有無を確認するため、乾燥処理後のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍを温度が２３℃±３℃、湿度が５０％±１０％の環境下に１６８ｈ放置し、表面Ｍ１の錆の発生有無を確認した。表１は、実施例１～３の条件で表面処理を行い、錆の発生有無の結果を示している。 In addition, in order to check the presence or absence of rust, the RTB system sintered magnet M after the drying treatment was left for 168 hours in an environment with a temperature of 23°C ± 3°C and a humidity of 50% ± 10%. The presence or absence of rust on the surface M1 was confirmed. Table 1 shows the results of the presence or absence of rust when the surface treatment was performed under the conditions of Examples 1 to 3.

実施例１
まず、ウェットブラスト処理部３内で、搬送部２により搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１のウェットブラスト処理をおこなった。搬送部２の送り速度は、６５ｍｍ／ｓｅｃとなるように搬送した。 Example 1
First, in the wet blasting section 3, the surface M1 of the RTB based sintered magnet M conveyed by the conveying section 2 was wet blasted. The conveying unit 2 was conveyed at a feeding speed of 65 mm/sec.

ノズル３１から吐出されるスラリーＳは搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に吐出させた。スラリーＳの砥粒はジルコニアであり、粒径Ｄ_５０が１２０μｍのものを使用し、液体は水を使用した。スラリー中の砥粒の体積百分率は、１０ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下となるよう調整した。スラリーＳを吐出するためのエアーの圧力は０．１５ＭＰａとなるように調整した。 The slurry S discharged from the nozzle 31 was discharged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. The abrasive grains of the slurry S were zirconia with a particle diameter _D50 of 120 μm, and water was used as the liquid. The volume percentage of the abrasive grains in the slurry was adjusted to 10 vol % or more and 15 vol % or less. The air pressure for discharging the slurry S was adjusted to 0.15 MPa.

ウェットブラスト処理が終わったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により６５ｍｍ／ｓｅｃの送り速度で洗浄処理部４に搬送し、ウェットブラスト処理部３で付着したスラリーＳや、スラッジを洗浄液Ｌで洗い落とした。なお、洗浄液Ｌとして水を使用した。 The RTB sintered magnet M that has undergone the wet blasting process is transported to the cleaning processing unit 4 at a feed rate of 65 mm/sec by the transporting unit 2, and the slurry S attached in the wet blasting processing unit 3 and the sludge was washed off with washing liquid L. Water was used as the cleaning liquid L.

そして、洗浄液Ｌで洗ったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により６５ｍｍ／ｓｅｃの送り速度で乾燥処理部５に搬送し、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した洗浄液Ｌをエアーで吹き飛ばして除去し、乾燥後、錆の発生の有無を確認した。確認の結果、錆は発生していなかった。 Then, the RTB system sintered magnet M washed with the cleaning liquid L is transported to the drying processing unit 5 at a feed rate of 65 mm/sec by the transport unit 2, and the surface of the RTB system sintered magnet M is The cleaning liquid L adhering to M1 was removed by blowing off with air, and after drying, the presence or absence of rust generation was confirmed. As a result of confirmation, rust was not generated.

実施例２
まず、ウェットブラスト処理部３内で、搬送部２により搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１のウェットブラスト処理をおこなった。搬送部２の送り速度は、８０ｍｍ／ｓｅｃとなるように搬送した。 Example 2
First, in the wet blasting section 3, the surface M1 of the RTB based sintered magnet M conveyed by the conveying section 2 was wet blasted. The conveying unit 2 was conveyed at a feeding speed of 80 mm/sec.

ノズル３１から吐出されるスラリーＳは搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に吐出させた。スラリーＳの砥粒はジルコニアであり、粒径Ｄ_５０が６０μｍのものを使用し、液体は水を使用した。スラリー中の砥粒の体積百分率は、５ｖｏｌ％以上、１０ｖｏｌ％以下となるよう調整した。スラリーＳを吐出するためのエアーの圧力は０．３ＭＰａとなるように調整した。 The slurry S discharged from the nozzle 31 was discharged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. The abrasive grains of the slurry S were zirconia with a particle diameter _D50 of 60 μm, and water was used as the liquid. The volume percentage of abrasive grains in the slurry was adjusted to 5 vol % or more and 10 vol % or less. The air pressure for discharging the slurry S was adjusted to 0.3 MPa.

ウェットブラスト処理が終わったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により８０ｍｍ／ｓｅｃの送り速度で洗浄処理部４に搬送し、ウェットブラスト処理部３で付着したスラリーＳや、スラッジを洗浄液Ｌで洗い落とした。なお、洗浄液Ｌとして水を使用した。 After the wet blasting process, the RTB sintered magnet M is transported to the cleaning processing unit 4 at a feed rate of 80 mm/sec by the transporting unit 2, and the slurry S and sludge adhered in the wet blasting processing unit 3 are removed. was washed off with washing liquid L. Water was used as the cleaning liquid L.

そして、洗浄液Ｌで洗ったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により８０ｍｍ／ｓｅｃの送り速度で乾燥処理部５に搬送し、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した洗浄液Ｌをエアーで吹き飛ばして除去し、乾燥後、錆の発生の有無を確認した。確認の結果、錆は発生していなかった。 Then, the RTB system sintered magnet M washed with the cleaning liquid L is transported to the drying processing unit 5 at a feed rate of 80 mm/sec by the transport unit 2, and the surface of the RTB system sintered magnet M is The cleaning liquid L adhering to M1 was removed by blowing off with air, and after drying, the presence or absence of rust generation was confirmed. As a result of confirmation, rust was not generated.

実施例３
まず、ウェットブラスト処理部３内で、搬送部２により搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１のウェットブラスト処理をおこなった。搬送部２の送り速度は、４０ｍｍ／ｓｅｃとなるように搬送した。 Example 3
First, in the wet blasting section 3, the surface M1 of the RTB based sintered magnet M conveyed by the conveying section 2 was wet blasted. The conveying unit 2 was conveyed at a feed speed of 40 mm/sec.

ノズル３１から吐出されるスラリーＳは搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向に吐出させた。スラリーＳの砥粒はジルコニアであり、粒径Ｄ_５０が９０μｍのものを使用し、液体は水を使用した。スラリー中の砥粒の体積百分率は、１０ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下となるよう調整した。スラリーＳを吐出するためのエアーの圧力は０．２ＭＰａとなるように調整した。 The slurry S discharged from the nozzle 31 was discharged in a direction inclined with respect to a plane perpendicular to the transport direction. The abrasive grains of the slurry S were zirconia with a particle size _D50 of 90 μm, and water was used as the liquid. The volume percentage of the abrasive grains in the slurry was adjusted to 10 vol % or more and 15 vol % or less. The air pressure for discharging the slurry S was adjusted to 0.2 MPa.

ウェットブラスト処理が終わったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により４０ｍｍ／ｓｅｃの送り速度で洗浄処理部４に搬送し、ウェットブラスト処理部３で付着したスラリーＳや、スラッジを洗浄液Ｌで洗い落とした。なお、洗浄液Ｌとして水を使用した。 After wet blasting, the RTB sintered magnet M is transported to the cleaning processing unit 4 by the transporting unit 2 at a feed rate of 40 mm/sec, and the slurry S and sludge adhering to the wet blasting unit 3 are removed. was washed off with washing liquid L. Water was used as the cleaning liquid L.

そして、洗浄液Ｌで洗ったＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍは、搬送部２により４０ｍｍ／ｓｅｃの送り速度で乾燥処理部５に搬送し、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石Ｍの表面Ｍ１に付着した洗浄液Ｌをエアーで吹き飛ばして除去し、乾燥後、錆の発生の有無を確認した。確認の結果、錆は発生していなかった。 Then, the RTB system sintered magnet M washed with the cleaning liquid L is transported to the drying processing unit 5 at a feed rate of 40 mm/sec by the transport unit 2, and the surface of the RTB system sintered magnet M is The cleaning liquid L adhering to M1 was removed by blowing off with air, and after drying, the presence or absence of rust generation was confirmed. As a result of confirmation, rust was not generated.

尚、本発明は、本実施例に限られるものではなく、各構成要件の具体的構成は適宜設計し得るものである。 It should be noted that the present invention is not limited to this embodiment, and the specific configuration of each component can be appropriately designed.

本発明は、錆の発生を抑制する、新たなＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法および製造方法を提供できる点において、産業上の利用可能性を有する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has industrial applicability in that it can provide a new surface treatment method and production method for RTB based sintered magnets that suppress the generation of rust.

１…表面処理装置
２…搬送部
３…ウェットブラスト処理部
４…洗浄処理部
５…乾燥処理部
２１,２１ａ,２１ｂ…ローラ
２２ａ,２２ｂ…凹部
３１,３１ａ,３１ｂ,３１ｃ,３１ｄ…ノズル
３２…スラリー貯留部
３２ａ…スラリー供給菅
３３…エアー供給部
３３ａ…エアー供給管
３４…分離部
３５…濃度調整部
３６…スラッジ回収部
４１,４１ａ,４１ｂ…洗浄ノズル
４２…洗浄液貯留部
４３…洗浄液供給部
５１,５１ａ,５１ｂ…送風ノズル
５２…送風エアー供給部
Ｍ…Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石
Ｍ１,Ｍ１ａ,Ｍ１ｂ…Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面
Ｓ…スラリー
Ｋ１…ローラの間隔
Ｋ２…Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の搬送方向の長さ
Ｋ３…幅
Ｃ…中心線
Ｐ１…第１のポンプ
Ｐ２…第２のポンプ
Ｌ…洗浄液
REFERENCE SIGNS LIST 1 surface treatment apparatus 2 conveying unit 3 wet blast processing unit 4 cleaning processing unit 5 drying processing unit 21, 21a, 21b rollers 22a, 22b concave portions 31, 31a, 31b, 31c, 31d nozzle 32 Slurry storage section 32a Slurry supply tube 33 Air supply section 33a Air supply tube 34 Separation section 35 Concentration adjustment section 36 Sludge collection section 41, 41a, 41b Cleaning nozzle 42 Cleaning liquid storage section 43 Cleaning liquid supply section 51, 51a, 51b Blower nozzle 52 Blower air supply unit M RTB system sintered magnet M1, M1a, M1b Surface of RTB system sintered magnet S Slurry K1 Spacing between rollers K2... Length of the RTB system sintered magnet in the conveying direction K3... Width C... Center line P1... First pump P2... Second pump L... Cleaning liquid

Claims

砥粒と液体とを含むスラリーをエアーの圧力で吐出させ、搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素のうち少なくとも一種でありＮｄを必ず含む、Ｔは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありＦｅを必ず含む、Ｂはホウ素である）の表面に当てることで表面処理するＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法であって、
前記スラリーが吐出される方向は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向であり、
前記搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の表面に対して、
前記搬送方向の上流から下流に向かって前記スラリーを吐出する第１ノズルと、
前記搬送方向の下流から上流に向かって前記スラリーを吐出する第２ノズルと、
前記搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の面と対向する他方の表面に対して、
前記搬送方向の上流から下流に向かって前記スラリーを吐出する第３ノズルと、
前記搬送方向の下流から上流に向かって前記スラリーを吐出する第４ノズルと、が、
前記搬送方向において異なる位置に設けられている、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法。 Slurry containing abrasive grains and liquid is discharged by air pressure, and transported RTB sintered magnet (R is at least one of rare earth elements and always contains Nd, T is transition metal element at least one of which necessarily contains Fe and B is boron) is applied to the surface of the RTB system sintered magnet,
The direction in which the slurry is discharged is a direction that is inclined with respect to a plane perpendicular to the conveying direction,
For one surface of the transported RTB system sintered magnet,
a first nozzle that discharges the slurry from upstream to downstream in the conveying direction;
a second nozzle that discharges the slurry from downstream to upstream in the conveying direction;
For the other surface facing the one surface of the conveyed RTB system sintered magnet,
a third nozzle that discharges the slurry from upstream to downstream in the conveying direction;
a fourth nozzle that discharges the slurry from downstream to upstream in the conveying direction,
A surface treatment method for RTB based sintered magnets provided at different positions in the conveying direction.

前記砥粒の粒径Ｄ_５０は６０μｍ以上、１３０μｍ以下であり、
前記スラリー中の前記砥粒の体積百分率は５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下であり、
前記エアーの圧力は０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下であり、
前記Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下である、請求項１に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法。 The grain size _D50 of the abrasive grains is 60 μm or more and 130 μm or less,
The volume percentage of the abrasive grains in the slurry is 5 vol% or more and 15 vol% or less,
The pressure of the air is 0.1 MPa or more and 0.4 MPa or less,
2. The method for surface treatment of a sintered RTB magnet according to claim 1, wherein the feeding speed of said sintered RTB magnet is 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less.

前記砥粒の形状は球状形状である請求項１または請求項２に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法。 3. The surface treatment method for a sintered RTB magnet according to claim 1, wherein the abrasive grains are spherical.

前記砥粒はジルコニアである請求項１乃至請求項３に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法。 4. The surface treatment method for RTB based sintered magnets according to claim 1, wherein said abrasive grains are zirconia.

前記Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石はローラによって搬送される請求項１乃至請求項４に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法。 5. The surface treatment method for a sintered RTB magnet according to claim 1, wherein said sintered RTB magnet is conveyed by rollers.

前記液体は水である請求項１乃至請求項５に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面処理方法。 6. The surface treatment method for RTB based sintered magnets according to claim 1, wherein said liquid is water.

Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素のうち少なくとも一種でありＮｄを必ず含む、Ｔは遷移金属元素のうち少なくとも一種でありＦｅを必ず含む、Ｂはホウ素である）を用意する工程と、
砥粒と液体とを含むスラリーをエアーの圧力で吐出させて、搬送される前記Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の表面に当てることで表面処理する表面処理工程であって、
前記スラリーが吐出される方向は、搬送方向と直交する面に対して傾斜する方向であり、
前記搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の表面に対して、
前記搬送方向の上流から下流に向かって前記スラリーを吐出する第１ノズルと、
前記搬送方向の下流から上流に向かって前記スラリーを吐出する第２ノズルと、
前記搬送されるＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の一方の面と対向する他方の表面に対して、
前記搬送方向の上流から下流に向かって前記スラリーを吐出する第３ノズルと、
前記搬送方向の下流から上流に向かって前記スラリーを吐出する第４ノズルと、が、
前記搬送方向において異なる位置に設けられている表面処理工程と、
を含む、Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法。 Prepare an RTB based sintered magnet (where R is at least one rare earth element and must contain Nd, T is at least one transition metal element and must contain Fe, and B is boron). process and
A surface treatment step in which a slurry containing abrasive grains and a liquid is ejected under air pressure and applied to the surface of the RTB system sintered magnet being conveyed to treat the surface,
The direction in which the slurry is discharged is a direction that is inclined with respect to a plane perpendicular to the conveying direction,
For one surface of the transported RTB system sintered magnet,
a first nozzle that discharges the slurry from upstream to downstream in the conveying direction;
a second nozzle that discharges the slurry from downstream to upstream in the conveying direction;
For the other surface facing the one surface of the conveyed RTB system sintered magnet,
a third nozzle that discharges the slurry from upstream to downstream in the conveying direction;
a fourth nozzle that discharges the slurry from downstream to upstream in the conveying direction,
surface treatment steps provided at different positions in the conveying direction;
A method for producing an RTB-based sintered magnet, comprising:

前記砥粒の粒径Ｄ_５０は６０μｍ以上、１３０μｍ以下であり、
前記スラリー中の前記砥粒の体積百分率は５ｖｏｌ％以上、１５ｖｏｌ％以下であり、
前記エアーの圧力は０．１ＭＰａ以上、０．４ＭＰａ以下であり、
前記Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の送り速度は３０ｍｍ／ｓｅｃ以上、９０ｍｍ／ｓｅｃ以下である、請求項８に記載のＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法。
The grain size _D50 of the abrasive grains is 60 μm or more and 130 μm or less,
The volume percentage of the abrasive grains in the slurry is 5 vol% or more and 15 vol% or less,
The pressure of the air is 0.1 MPa or more and 0.4 MPa or less,
9. The method for producing a RTB based sintered magnet according to claim 8, wherein the feeding speed of the RTB based sintered magnet is 30 mm/sec or more and 90 mm/sec or less.