JP2022553372A - Uv処理のための光学特性及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(態様1)
UV消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられたUV-C源であって、前記UV-C源が、UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにUV-C光を発するように形成されている、UV-C源と、
前記ハウジング内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記UV-C源と前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なUV-C光パターンを生成するように形成されたレンズと
を含む、UV消毒デバイス。
(態様2)
UV-Cレンズが、SiO 2 マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料である、態様1に記載のUV消毒デバイス。
(態様3)
UV-Cレンズが可変の厚さを有している、態様1に記載のUV消毒デバイス。
(態様4)
UV-Cレンズが、SiO 2 マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料であり、且つ前記UV-Cレンズが可変の厚さを有しており、これらが組み合わさって前記UV-Cレンズの形態、前記概ね均一なUV-C光パターンに貢献する、態様1に記載のUV消毒デバイス。
(態様5)
UV-Cレンズの内側表面がUVブロッキングパターンを含む、態様1に記載のUV消毒デバイス。
(態様6)
UV-Cレンズの外側表面がテキスチャ加工されている、態様1に記載のUV消毒デバイス。
(態様7)
UV消毒デバイスのためのパターン化レンズであって、前記パターン化レンズが、
レンズと、
前記レンズの表面に被着されたUVブロッキングパターンであって、前記UVブロッキングパターンが、レンズによってレンズ表面全体にわたって入射するUV光を一様にし、UV光が所定の部分へ向かって集中するのを防止するように形成されている、UVブロッキングパターンと
を含む、UV消毒デバイスのためのパターン化レンズ。
(態様8)
前記UVブロッキングパターンは、レンズを通した比較的均一な光分布をもたらし、これにより前記レンズ内のUVホットスポットを低減する、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様9)
前記UVブロッキングパターン及び前記レンズを通過するUV光によって生成されたUV光パターンが概ね均一であるように、前記UVブロッキングパターンの形状、サイズ、及び材料が選択される、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様10)
前記UVブロッキングパターンの特徴が、UV源の形状にしたがって選択される、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様11)
前記UVブロッキングパターンの特徴が、UV源の測定されたUV光出力マッピング、及び仮想環境内のUV源のシミュレートされたUV光出力マッピングのうちの少なくとも一方にしたがって選択される、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様12)
前記UVブロッキングパターンが、前記レンズの表面に被着された薄膜及び被膜のうちの少なくとも1つである、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様13)
前記UVブロッキングパターンが、前記レンズの表面上にエッチングされたパターンである、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様14)
前記UVブロッキングパターンが種々異なる光学特徴を有する複数のゾーンを含む、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様15)
複数のゾーンが、より高い強度のUV光を受容する一次ゾーンと、より低い強度のUV光を受容する二次ゾーンとを含み、それぞれのゾーン内の前記パターン化レンズを通るUV光が、UV消毒システム内の通常の使用を通して、UVレンズを変形、損傷、又は変色させ得る閾値を下回ったままにするように、前記複数のゾーンが協働する、態様7に記載のパターン化レンズ。
(態様16)
ヒューマンインターフェイスデバイスであって、
前記ヒューマンインターフェイスデバイスのUV拡散特性を改善するためのUV拡散マイクロ粒子を装填されたUV透過ハウジングを含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様17)
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボードキー、マウス、カウンタートップ、及びデスク表面のうちの少なくとも1つである、態様16に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様18)
前記UV透過ハウジングが約70%のPFAと30重量%のSiO 2 マイクロビードとから形成されている、態様16に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様19)
前記SiO 2 マイクロビードが銅を有している、態様18に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様20)
UV消毒デバイスと一緒に使用するための複合レンズであって、前記複合レンズが、
第1UVC透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第1UVC透過性レベルよりも高い第2UVC透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、UV消毒デバイスの通常の使用中にUVホットスポットを低減又は防止する、
複合レンズ。
(態様21)
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるUVブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの1つ又は2つ以上を変更すること、のうちの1つ又は2つ以上によって選択される、態様20に記載の複合レンズ。
(態様22)
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、態様20に記載の複合レンズ。
(態様23)
前記一次及び二次レンズが接合されている態様20に記載の複合レンズであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたUV消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なUV光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、態様20に記載の複合レンズ。
(態様24)
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、態様20に記載の複合レンズ。
(態様25)
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、態様20に記載の複合レンズ。
(態様26)
UV消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたUV-C源であって、前記UV-C源が、UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにUV-C光を発するように形成されている、UV-C源と、
前記ハウジングの内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記UV-C源と前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なUV-C光パターンを生成するように形成されたレンズと、
前記ハウジングと接合され、前記UV-C源と前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされた複合レンズであって、前記複合レンズが、前記UV-C源のより近くでは低減された強度でUV光パターンを生成し、標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように形成されている、複合レンズと、
を含み、前記複合レンズが、
第1UVC透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第1UVC透過性レベルよりも高い第2UVC透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、UV消毒デバイスの通常の使用中にUVホットスポットを低減又は防止する、
UV消毒デバイス。
(態様27)
前記UV-C源が前記標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、複合レンズを含む前記UV消毒デバイスが、前記標的消毒領域に対して非垂直角度に位置決めされている、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様28)
前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるUVブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの1つ又は2つ以上を変更すること、のうちの1つ又は2つ以上によって、選択される、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様29)
前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様30)
前記一次及び二次レンズが接合されている態様26のUV消毒デバイスであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたUV消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なUV光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様31)
前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様32)
前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様33)
前記一次レンズが補助プリズムを含み、前記補助プリズムが、前記標的消毒領域でより均一な光分布を生成するように形成された、前記標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している、態様26に記載のUV消毒デバイス。
(態様34)
UV消毒デバイスのための可変厚レンズであって、前記可変厚レンズが、
UV光入力面と、
UV光出力面と、
UV光入力面とUV光出力面との間のUV光媒体であって、前記UV光媒体の厚さが、UV光入力面に入射したUV光に応じて、UV出力面を通る概ね均一な強度を有する拡散UVエネルギーパターンを提供するように選択される、UV光媒体と、
を含む、UV消毒デバイスのための可変厚レンズ。
(態様35)
前記UV出力面を通る概ね均一な強度が、UV消毒デバイス内の通常の使用を通して、UVホットスポットが前記可変厚レンズ上に形成されるのを防止する、態様34に記載の可変厚レンズ。
(態様36)
前記可変厚レンズが前記UV消毒デバイス内に設けられたときに、UV源の形状及び位置にしたがって、前記UV光媒体の厚さが選択される、態様34に記載の可変厚レンズ。
(態様37)
前記UV光入力面の曲率、前記UV光出力面の曲率、UV光媒体の厚さ、前記UV光媒体内の光学変向特性を有する添加材、及びUV光出力面の表面テキスチャの組み合わせが、前記拡散UVエネルギーのパターンを形成するように選択される、態様34に記載の可変厚レンズ。
(態様38)
前記UV光媒体の厚さが、測定されたUV光出力マッピング、及び仮想環境内のシミュレートされたUV光出力マッピングのうちの少なくとも一方に応じて選択される、態様34に記載の可変厚レンズ。
(態様39)
UV源と併せて動作可能なヒューマンインタフェースデバイスであって、前記ヒューマンインターフェイスデバイスは、
定義されたUV光パターンに従って当該ハウジングによって入射したUV光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成された、ハウジング
を含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様40)
前記ハウジングの光学特性が、前記ハウジングに添加材を装填すること、前記ハウジングの少なくとも一部に異なるUVブロッキングパターンを被着すること、及びハウジング材料のタイプ、厚さ、形状、層、又はテキスチャを変更すること、のうちの1つ又は2つ以上の組み合わせによって、選択される、態様39に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様41)
前記光学特性が、前記ハウジングによって入射したUV光に応じて、所期UV消毒線量を前記ハウジングの露出面に提供することを含む、態様39に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様42)
前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボード、マウス、チューブ、及びデバイスケースのうちの少なくとも1つである、態様39に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
(態様43)
UV源と併せて動作可能なUV光分配改善型カウンタートップであって、前記UV光分配改善型カウンタートップが、
露出面を有するカウンタートップと、
前記カウンタートップと接合されたUV透過スキンであって、前記UV透過スキンが、前記カウンタートップの露出面に沿った、定義されたUV光パターンにしたがって、UV透過スキンによって、入射したUV光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成されている、UV透過スキンと
を含む、
UV光分配改善型カウンタートップ。
(態様44)
光学特性が、前記UV透過スキンにUV透過マイクロ粒子を装填すること、前記UV透過スキンの厚さを変更すること、及びUV透過スキンの表面テキスチャを変更すること、のうちの1つ又は2つ以上によって選択される、態様43に記載のUV光分配改善型カウンタートップ。
(態様45)
ヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにUV光を分配するヒューマンインターフェイスデバイスに接合可能な多層フィルムであって、前記多層フィルムが、
前記多層フィルムの長さに沿ってUV光を透過させるためのUV透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された1つの表面と、人間相互作用に晒された1つの表面とを有するインターフェイス層と、
を含み、
前記輸送層が、前記輸送層内のUV光をインターフェイス層へ再指向する第1量のUV光変更マイクロ粒子を含み、
インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたUV光を、消毒のために露出面へ拡散する第2量のUV光変化マイクロ粒子を含む、
多層フィルム。
(態様46)
前記輸送層が第1厚を有し、前記インターフェイス層が第2厚を有しており、前記輸送層の第1厚が、前記輸送層内でUV光を前記インターフェイス層へ再指向することに貢献し、前記インターフェイス層の第2厚が、前記輸送層から受容されたUV光を、消毒のために前記露出面へ拡散することに貢献する、態様45に記載の多層フィルム。
(態様47)
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のUV光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記輸送層への所定のUV入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分な線量を与える多層フィルム形態を提供する、態様46に記載の多層フィルム。
(態様48)
定義されたUV入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のUV光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なUV光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、UV光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なUV光がある、態様46に記載の多層フィルム。
(態様49)
テキスタイル製品であって、
織り合わされてファブリックになった複数の繊維であって、前記複数の繊維の部分集合が、改善型UV透過繊維であり、前記改善型UV透過繊維が前記ファブリックを通るUV光貫通量を増大させ、前記ファブリックの内部で捕捉された生物活性を処理するように形成されている、
テキスタイル製品。
(態様50)
前記テキスタイル製品がラボコート及び実験用座席のうちの少なくとも一方である、態様49に記載のテキスタイル製品。
(態様51)
前記改善型UV透過繊維がPFA、FEP、及びPTFEのうちの少なくとも1種から製造されている、態様49に記載のテキスタイル製品。
(態様52)
前記改善型UV透過繊維が、UV光拡散特性を高めるために、SiO 2 マイクロ粒子を装填されている、態様51に記載のテキスタイル製品。
(態様53)
前記改善型UV透過繊維の形状及びサイズが、可撓性及び摩耗特徴にしたがって可変である、態様49に記載のテキスタイル製品。
(態様54)
当該UV消毒充電器上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにUV光を分配するUV消毒充電器に接続可能な多層媒体であって、前記多層媒体が、
前記多層媒体の長さに沿ってUV光を透過させるためのUV透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された1つの表面と、前記ヒューマンインターフェイスデバイスの処理のために晒された1つの表面とを有するインターフェイス層と
を含み、
前記輸送層が、前記UV光を前記輸送層に沿って導くUV光特性を有しており、
前記インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたUV光を、前記消毒のために露出面へ拡散するUV光学特性を有している、
多層媒体。
(態様55)
前記輸送層が第1厚を有し、前記インターフェイス層が第2厚を有しており、前記輸送層の第1厚が、前記輸送層内でUV光を導くことに貢献し、前記インターフェイス層の第2厚が、前記輸送層から受容されたUV光を、消毒のために露出面へ拡散することに貢献する、態様54に記載の多層媒体。
(態様56)
前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のUV光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記多層媒体へのUV入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するのに十分な線量を提供する多層フィルム形態を提供する、態様55に記載の多層媒体。
(態様57)
定義されたUV入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のUV光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なUV光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、UV光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なUV光がある、態様55に記載の多層媒体。
(態様58)
UV透過ガスケットを含む、態様54に記載の多層媒体。
(態様59)
前記UV透過ガスケットが前記輸送層を取り囲み、そしてUV光を前記輸送層へ向かって促進する、態様58に記載の多層媒体。
(態様60)
UV消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたUV-C光源であって、前記UV-C光源がUV-C光を発するように形成されている、UV-C源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をシールするように形成されたレンズであって、前記レンズが、前記UV-C光源からのUV-C光を、前記開口を通して導くように形成されている、レンズと、
前記ハウジング内部に設けられたUV-Cリフレクタであって、前記UV-Cリフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光を、前記ハウジングの前記開口へ向かって反射するように形成されたUV-Cリフレクタと、
を含む、UV消毒デバイス。
(態様61)
前記ハウジングが前記ハウジングの開口内部に複数の指向性ルーバを含み、前記レンズが、前記UV-C光を前記複数のルーバに向けるように形成されており、複数のルーバ間の空間を通るUV-C光が、UV-C光をUV-C光パターンに制限し、前記複数のルーバの間隔は、前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるUV-C光パターンの均一性を高めるように形成されている、態様60に記載のUV消毒デバイス。
(態様62)
前記ハウジングがアイブローを含み、前記アイブローが複数のルーバと協働して、前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるUV-C光パターンの均一性を高める、態様61に記載のUV消毒デバイス。
(態様63)
前記開口が下向きの角度を指すように、前記ハウジングが配向されており、アイブローが、前記UV消毒デバイスと同じ目の高さに位置決めされた使用者のために、UV源に対する視線を制限する、態様61に記載のUV消毒デバイス。
(態様64)
前記ハウジングが前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段を含み、前記開口を通るUV-C光の一部が前記光学遮蔽手段によってブロックされることにより、前記UV-C光が2つの異なるUV-C光パターンに分割されて、一方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の一方の側に入り、そして他方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の他方の側に入るようになっており、前記光学遮蔽手段が前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるUV-C光パターンの均質性を高める、態様61に記載のUV消毒デバイス。
(態様65)
前記標的消毒領域における前記UV-C光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、前記光学遮蔽手段は、UV光が通過するのを可能にするアパーチャを含む、態様64に記載のUV消毒デバイス。
(態様66)
前記光学遮蔽手段は、第1アパーチャと、より大きい第2のアパーチャとを含み、前記第2のアパーチャは、前記標的消毒領域における前記UV-C光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、UV光が通過するのを可能にする、態様64に記載のUV消毒デバイス。
(態様67)
前記ハウジングが、前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段のエッジから外方へ向かって延びるフィン対を含み、前記フィン対がそれぞれ前記UV消毒デバイスの端部へ向かって角度付けされている、態様60に記載のUV消毒デバイス。
(態様68)
各フィンの内側表面がUV反射性である態様67に記載のUV消毒デバイスであって、前記UV消毒デバイスがキーボード上に搭載されたときにUV-C光パターンが前記キーボードのエッジに達するように、前記フィンの角度が前記UV-C光パターンを成形するように形成されている、態様67に記載のUV消毒デバイス。
(態様69)
前記フィンが、前記強度を前記UV-C光パターンの中心へ向かって制限する、態様68に記載のUV消毒デバイス。
(態様70)
前記レンズが、切り欠き部分を有するUV透過シートであり、前記切り欠き部分が、前記開口をカバーするために前記ハウジングの内部キャビティ内部に前記UV透過シートを整合させるように形成されている、態様60に記載のUV消毒デバイス。
(態様71)
前記UV透過シートがUV透過パターンを含み、前記UV透過パターンが、前記UV消毒デバイスに対して標的領域のUV-C光の強度の均一性を高めるように形成されている、態様70に記載のUV消毒デバイス。
(態様72)
前記レンズが、UV透過パターンを形成する複数のアパーチャを有するシリコーンシートを含む、態様60に記載のUV消毒デバイス。
(態様73)
前記レンズが、UV透過パターンを形成する複数のアパーチャを含むホウケイ酸ガラスシートを含む、態様60に記載のUV消毒デバイス。
(態様74)
UVレンズがUV不透明層とUV透過層とを含み、前記UV不透明層が、パターン状に形成された複数のアパーチャを含む、態様60に記載のUV消毒デバイス。
(態様75)
前記複数のアパーチャのパターンがXよりも大きい密度を含む、態様74に記載のUV消毒デバイス。
(態様76)
パターンが、前記レンズの中心の近くに大きなアパーチャを、より小さなアパーチャの2つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、態様74に記載のUV消毒デバイス。
(態様77)
UV消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたUV-C光源であって、前記UV-C光源がUV-C光を発するように形成されている、UV-C光源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をカバーするように形成されたUV透過パターンを有するシートであって、前記UV透過パターンが、前記UV-C光源からのUV-C光を、前記開口を通して導くように形成されている、シートと、
を含む、UV消毒デバイス。
(態様78)
前記ハウジング内部に設けられたUV-Cリフレクタを含み、前記UV-Cリフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光をUV透過フィルムへ向かって反射するように形成されている、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様79)
前記UV透過パターンが、前記ハウジングをシールするフィルムである、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様80)
前記UV透過パターンが、2つの層、すなわち第1UV透過フィルム層と、前記UV透過パターンを形成する複数の穴を有する第2UV不透明層とを含むフィルムである、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様81)
前記UV透過パターンが、前記UV透過パターンを形成する複数の穴を有するホウケイ酸ガラスシートである、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様82)
ホウケイ酸ガラスシートの厚さが175ミリメートルである、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様83)
前記UV透過パターンが、前記UV透過パターンを形成する複数の穴を有するシリコーンシートである、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様84)
前記シリコーンシートの厚さが200マイクロメートルである、態様83に記載のUV消毒デバイス。
(態様85)
前記UV透過パターンが、UV透過パターンを形成する複数の穴を有する金属シートである、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様86)
前記UV透過パターンが、前記パターンの中心の近くに大きな穴を、より小さなアパーチャの2つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様87)
前記UV透過パターンが、第1密度を有する複数の穴を含む、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様88)
前記UV透過パターンが、第2密度を有する複数の穴を含む、態様77に記載のUV消毒デバイス。
(態様89)
UV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法であって、
UV不透明材料層を用意し、
UV透過材料層を用意し、
前記UV不透明材料層から材料を除去することにより、前記UV不透明材料層内に複数の穴を穴パターンの形態で形成し、UV不透明材料層の残りの部分がUVブロッキングパターンを形成し、
前記UVブロッキングパターンを形成する、前記UV不透明材料層の前記残りの部分を、前記UV透過材料層と接合し、これにより、前記UV不透明材料層の前記接合された残りの部分と前記UV透過材料層とが、UVブロッキング部分を有するUV-C透過レンズを形成する、
ことを含む、UV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
(態様90)
UV不透明材料層がホウケイ酸塩である、態様89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
(態様91)
前記UV不透明材料層がシリコーンである、態様89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
(態様92)
前記UV不透明材料層が金属である、態様89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
(態様93)
前記穴パターンを有するUV不透明材料層と、UV透過材料層とを接合したものをカットすることにより、レンズの形状にすることを含む、態様89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
(態様94)
レンズの形状が、前記UV-C透過パターン化シーリングレンズを消毒デバイスのハウジングに対して位置決めしシーリングするための複数の切り欠きを含む、態様89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
Claims (94)
- UV消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジング内部に設けられたUV-C源であって、前記UV-C源が、UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにUV-C光を発するように形成されている、UV-C源と、
前記ハウジング内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記UV-C源と前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なUV-C光パターンを生成するように形成されたレンズと
を含む、UV消毒デバイス。 - UV-Cレンズが、SiO2マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料である、請求項1に記載のUV消毒デバイス。
- UV-Cレンズが可変の厚さを有している、請求項1に記載のUV消毒デバイス。
- UV-Cレンズが、SiO2マイクロ粒子を装填されたフルオロポリマー材料であり、且つ前記UV-Cレンズが可変の厚さを有しており、これらが組み合わさって前記UV-Cレンズの形態、前記概ね均一なUV-C光パターンに貢献する、請求項1に記載のUV消毒デバイス。
- UV-Cレンズの内側表面がUVブロッキングパターンを含む、請求項1に記載のUV消毒デバイス。
- UV-Cレンズの外側表面がテキスチャ加工されている、請求項1に記載のUV消毒デバイス。
- UV消毒デバイスのためのパターン化レンズであって、前記パターン化レンズが、
レンズと、
前記レンズの表面に被着されたUVブロッキングパターンであって、前記UVブロッキングパターンが、レンズによってレンズ表面全体にわたって入射するUV光を一様にし、UV光が所定の部分へ向かって集中するのを防止するように形成されている、UVブロッキングパターンと
を含む、UV消毒デバイスのためのパターン化レンズ。 - 前記UVブロッキングパターンは、レンズを通した比較的均一な光分布をもたらし、これにより前記レンズ内のUVホットスポットを低減する、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 前記UVブロッキングパターン及び前記レンズを通過するUV光によって生成されたUV光パターンが概ね均一であるように、前記UVブロッキングパターンの形状、サイズ、及び材料が選択される、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 前記UVブロッキングパターンの特徴が、UV源の形状にしたがって選択される、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 前記UVブロッキングパターンの特徴が、UV源の測定されたUV光出力マッピング、及び仮想環境内のUV源のシミュレートされたUV光出力マッピングのうちの少なくとも一方にしたがって選択される、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 前記UVブロッキングパターンが、前記レンズの表面に被着された薄膜及び被膜のうちの少なくとも1つである、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 前記UVブロッキングパターンが、前記レンズの表面上にエッチングされたパターンである、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 前記UVブロッキングパターンが種々異なる光学特徴を有する複数のゾーンを含む、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- 複数のゾーンが、より高い強度のUV光を受容する一次ゾーンと、より低い強度のUV光を受容する二次ゾーンとを含み、それぞれのゾーン内の前記パターン化レンズを通るUV光が、UV消毒システム内の通常の使用を通して、UVレンズを変形、損傷、又は変色させ得る閾値を下回ったままにするように、前記複数のゾーンが協働する、請求項7に記載のパターン化レンズ。
- ヒューマンインターフェイスデバイスであって、
前記ヒューマンインターフェイスデバイスのUV拡散特性を改善するためのUV拡散マイクロ粒子を装填されたUV透過ハウジングを含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。 - 前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボードキー、マウス、カウンタートップ、及びデスク表面のうちの少なくとも1つである、請求項16に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
- 前記UV透過ハウジングが約70%のPFAと30重量%のSiO2マイクロビードとから形成されている、請求項16に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
- 前記SiO2マイクロビードが銅を有している、請求項18に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
- UV消毒デバイスと一緒に使用するための複合レンズであって、前記複合レンズが、
第1UVC透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第1UVC透過性レベルよりも高い第2UVC透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、UV消毒デバイスの通常の使用中にUVホットスポットを低減又は防止する、
複合レンズ。 - 前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるUVブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの1つ又は2つ以上を変更すること、のうちの1つ又は2つ以上によって選択される、請求項20に記載の複合レンズ。
- 前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、請求項20に記載の複合レンズ。
- 前記一次及び二次レンズが接合されている請求項20に記載の複合レンズであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたUV消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なUV光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、請求項20に記載の複合レンズ。
- 前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、請求項20に記載の複合レンズ。
- 前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、請求項20に記載の複合レンズ。
- UV消毒デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたUV-C源であって、前記UV-C源が、UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域を消毒するためにUV-C光を発するように形成されている、UV-C源と、
前記ハウジングの内部に設けられたリフレクタであって、前記リフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光を反射するように形成されたリフレクタと、
前記ハウジングと接合され、前記UV-C源と前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされたレンズであって、前記レンズが、概ね均一なUV-C光パターンを生成するように形成されたレンズと、
前記ハウジングと接合され、前記UV-C源と前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域との間に位置決めされた複合レンズであって、前記複合レンズが、前記UV-C源のより近くでは低減された強度でUV光パターンを生成し、標的距離及び線量まで概ね均一な強度パターンで全エネルギー出力パターンを提供するように形成されている、複合レンズと、
を含み、前記複合レンズが、
第1UVC透過性レベルを有する一次レンズと、
前記第1UVC透過性レベルよりも高い第2UVC透過性レベルを有する二次レンズと、
を含み、
前記一次及び二次レンズが協働して、UV消毒デバイスの通常の使用中にUVホットスポットを低減又は防止する、
UV消毒デバイス。 - 前記UV-C源が前記標的消毒領域からオフセットされて位置決めされており、複合レンズを含む前記UV消毒デバイスが、前記標的消毒領域に対して非垂直角度に位置決めされている、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- 前記一次及び二次レンズの材料の特性が、前記一次及び二次レンズに添加材を装填すること、前記一次及び二次レンズに異なるUVブロッキングパターンを被着すること、前記一次及び二次レンズの材料タイプ、厚さ、形状、及び表面テキスチャのうちの1つ又は2つ以上を変更すること、のうちの1つ又は2つ以上によって、選択される、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- 前記一次及び二次レンズのレンズ材料が、異なる光拡散特性を提供する異なる量の添加材を装填されている、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- 前記一次及び二次レンズが接合されている請求項26のUV消毒デバイスであって、前記複合レンズが標的消毒表面に対して所定の角度に配向されたUV消毒デバイス内に設けられたときに、概ね均一なUV光パターンを生成するために、前記二次レンズの位置が前記一次レンズに対してオフセットされている、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- 前記二次レンズが、前記二次レンズを少なくとも部分的に取り囲むフィンガ対を用いて前記一次レンズによって所定の位置に保持された挿入体である、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- 前記一次レンズが概ね立方体の形状を有しており、前記二次レンズが概ね楕円円筒の形状を成している、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- 前記一次レンズが補助プリズムを含み、前記補助プリズムが、前記標的消毒領域でより均一な光分布を生成するように形成された、前記標的消毒領域から離れるように内方に向かって突出している、請求項26に記載のUV消毒デバイス。
- UV消毒デバイスのための可変厚レンズであって、前記可変厚レンズが、
UV光入力面と、
UV光出力面と、
UV光入力面とUV光出力面との間のUV光媒体であって、前記UV光媒体の厚さが、UV光入力面に入射したUV光に応じて、UV出力面を通る概ね均一な強度を有する拡散UVエネルギーパターンを提供するように選択される、UV光媒体と、
を含む、UV消毒デバイスのための可変厚レンズ。 - 前記UV出力面を通る概ね均一な強度が、UV消毒デバイス内の通常の使用を通して、UVホットスポットが前記可変厚レンズ上に形成されるのを防止する、請求項34に記載の可変厚レンズ。
- 前記可変厚レンズが前記UV消毒デバイス内に設けられたときに、UV源の形状及び位置にしたがって、前記UV光媒体の厚さが選択される、請求項34に記載の可変厚レンズ。
- 前記UV光入力面の曲率、前記UV光出力面の曲率、UV光媒体の厚さ、前記UV光媒体内の光学変向特性を有する添加材、及びUV光出力面の表面テキスチャの組み合わせが、前記拡散UVエネルギーのパターンを形成するように選択される、請求項34に記載の可変厚レンズ。
- 前記UV光媒体の厚さが、測定されたUV光出力マッピング、及び仮想環境内のシミュレートされたUV光出力マッピングのうちの少なくとも一方に応じて選択される、請求項34に記載の可変厚レンズ。
- UV源と併せて動作可能なヒューマンインタフェースデバイスであって、前記ヒューマンインターフェイスデバイスは、
定義されたUV光パターンに従って当該ハウジングによって入射したUV光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成された、ハウジング
を含む、
ヒューマンインターフェイスデバイス。 - 前記ハウジングの光学特性が、前記ハウジングに添加材を装填すること、前記ハウジングの少なくとも一部に異なるUVブロッキングパターンを被着すること、及びハウジング材料のタイプ、厚さ、形状、層、又はテキスチャを変更すること、のうちの1つ又は2つ以上の組み合わせによって、選択される、請求項39に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
- 前記光学特性が、前記ハウジングによって入射したUV光に応じて、所期UV消毒線量を前記ハウジングの露出面に提供することを含む、請求項39に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
- 前記ヒューマンインターフェイスデバイスが、エレベータ操作盤、電灯スイッチ、キーボード、マウス、チューブ、及びデバイスケースのうちの少なくとも1つである、請求項39に記載のヒューマンインターフェイスデバイス。
- UV源と併せて動作可能なUV光分配改善型カウンタートップであって、前記UV光分配改善型カウンタートップが、
露出面を有するカウンタートップと、
前記カウンタートップと接合されたUV透過スキンであって、前記UV透過スキンが、前記カウンタートップの露出面に沿った、定義されたUV光パターンにしたがって、UV透過スキンによって、入射したUV光を分配するのを支援する光学特性を有するように形成されている、UV透過スキンと
を含む、
UV光分配改善型カウンタートップ。 - 光学特性が、前記UV透過スキンにUV透過マイクロ粒子を装填すること、前記UV透過スキンの厚さを変更すること、及びUV透過スキンの表面テキスチャを変更すること、のうちの1つ又は2つ以上によって選択される、請求項43に記載のUV光分配改善型カウンタートップ。
- ヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにUV光を分配するヒューマンインターフェイスデバイスに接合可能な多層フィルムであって、前記多層フィルムが、
前記多層フィルムの長さに沿ってUV光を透過させるためのUV透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された1つの表面と、人間相互作用に晒された1つの表面とを有するインターフェイス層と、
を含み、
前記輸送層が、前記輸送層内のUV光をインターフェイス層へ再指向する第1量のUV光変更マイクロ粒子を含み、
インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたUV光を、消毒のために露出面へ拡散する第2量のUV光変化マイクロ粒子を含む、
多層フィルム。 - 前記輸送層が第1厚を有し、前記インターフェイス層が第2厚を有しており、前記輸送層の第1厚が、前記輸送層内でUV光を前記インターフェイス層へ再指向することに貢献し、前記インターフェイス層の第2厚が、前記輸送層から受容されたUV光を、消毒のために前記露出面へ拡散することに貢献する、請求項45に記載の多層フィルム。
- 前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のUV光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記輸送層への所定のUV入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分な線量を与える多層フィルム形態を提供する、請求項46に記載の多層フィルム。
- 定義されたUV入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のUV光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なUV光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、UV光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なUV光がある、請求項46に記載の多層フィルム。
- テキスタイル製品であって、
織り合わされてファブリックになった複数の繊維であって、前記複数の繊維の部分集合が、改善型UV透過繊維であり、前記改善型UV透過繊維が前記ファブリックを通るUV光貫通量を増大させ、前記ファブリックの内部で捕捉された生物活性を処理するように形成されている、
テキスタイル製品。 - 前記テキスタイル製品がラボコート及び実験用座席のうちの少なくとも一方である、請求項49に記載のテキスタイル製品。
- 前記改善型UV透過繊維がPFA、FEP、及びPTFEのうちの少なくとも1種から製造されている、請求項49に記載のテキスタイル製品。
- 前記改善型UV透過繊維が、UV光拡散特性を高めるために、SiO2マイクロ粒子を装填されている、請求項51に記載のテキスタイル製品。
- 前記改善型UV透過繊維の形状及びサイズが、可撓性及び摩耗特徴にしたがって可変である、請求項49に記載のテキスタイル製品。
- 当該UV消毒充電器上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するためにUV光を分配するUV消毒充電器に接続可能な多層媒体であって、前記多層媒体が、
前記多層媒体の長さに沿ってUV光を透過させるためのUV透過材料から成る輸送層と、
前記輸送層に接合された1つの表面と、前記ヒューマンインターフェイスデバイスの処理のために晒された1つの表面とを有するインターフェイス層と
を含み、
前記輸送層が、前記UV光を前記輸送層に沿って導くUV光特性を有しており、
前記インターフェイス層が、前記輸送層から受容されたUV光を、前記消毒のために露出面へ拡散するUV光学特性を有している、
多層媒体。 - 前記輸送層が第1厚を有し、前記インターフェイス層が第2厚を有しており、前記輸送層の第1厚が、前記輸送層内でUV光を導くことに貢献し、前記インターフェイス層の第2厚が、前記輸送層から受容されたUV光を、消毒のために露出面へ拡散することに貢献する、請求項54に記載の多層媒体。
- 前記輸送層及び前記インターフェイス層の厚さと、前記輸送層及び前記インターフェイス層のUV光変化マイクロ粒子との組み合わせが、前記多層媒体へのUV入力光に応じて、前記インターフェイス層の露出面上に配置されたヒューマンインターフェイスデバイスを消毒するのに十分な線量を提供する多層フィルム形態を提供する、請求項55に記載の多層媒体。
- 定義されたUV入力光のための、前記輸送層の厚さと、前記輸送層内のUV光変化マイクロ粒子の量とが協働して、前記インターフェイス層に十分なUV光を提供し、これにより、前記インターフェイス層による拡散後、UV光入力から最も遠い前記露出面の領域を含む、インターフェイス層の露出面を消毒するのに十分なUV光がある、請求項55に記載の多層媒体。
- UV透過ガスケットを含む、請求項54に記載の多層媒体。
- 前記UV透過ガスケットが前記輸送層を取り囲み、そしてUV光を前記輸送層へ向かって促進する、請求項58に記載の多層媒体。
- UV消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたUV-C光源であって、前記UV-C光源がUV-C光を発するように形成されている、UV-C源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をシールするように形成されたレンズであって、前記レンズが、前記UV-C光源からのUV-C光を、前記開口を通して導くように形成されている、レンズと、
前記ハウジング内部に設けられたUV-Cリフレクタであって、前記UV-Cリフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光を、前記ハウジングの前記開口へ向かって反射するように形成されたUV-Cリフレクタと、
を含む、UV消毒デバイス。 - 前記ハウジングが前記ハウジングの開口内部に複数の指向性ルーバを含み、前記レンズが、前記UV-C光を前記複数のルーバに向けるように形成されており、複数のルーバ間の空間を通るUV-C光が、UV-C光をUV-C光パターンに制限し、前記複数のルーバの間隔は、前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるUV-C光パターンの均一性を高めるように形成されている、請求項60に記載のUV消毒デバイス。
- 前記ハウジングがアイブローを含み、前記アイブローが複数のルーバと協働して、前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるUV-C光パターンの均一性を高める、請求項61に記載のUV消毒デバイス。
- 前記開口が下向きの角度を指すように、前記ハウジングが配向されており、アイブローが、前記UV消毒デバイスと同じ目の高さに位置決めされた使用者のために、UV源に対する視線を制限する、請求項61に記載のUV消毒デバイス。
- 前記ハウジングが前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段を含み、前記開口を通るUV-C光の一部が前記光学遮蔽手段によってブロックされることにより、前記UV-C光が2つの異なるUV-C光パターンに分割されて、一方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の一方の側に入り、そして他方は前記開口を通って前記光学遮蔽手段の他方の側に入るようになっており、前記光学遮蔽手段が前記UV消毒デバイスの外部の標的消毒領域におけるUV-C光パターンの均質性を高める、請求項61に記載のUV消毒デバイス。
- 前記標的消毒領域における前記UV-C光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、前記光学遮蔽手段は、UV光が通過するのを可能にするアパーチャを含む、請求項64に記載のUV消毒デバイス。
- 前記光学遮蔽手段は、第1アパーチャと、より大きい第2のアパーチャとを含み、前記第2のアパーチャは、前記標的消毒領域における前記UV-C光パターン内の強度が閾値レベルを上回る強度を有するように、UV光が通過するのを可能にする、請求項64に記載のUV消毒デバイス。
- 前記ハウジングが、前記開口内部に位置決めされた光学遮蔽手段のエッジから外方へ向かって延びるフィン対を含み、前記フィン対がそれぞれ前記UV消毒デバイスの端部へ向かって角度付けされている、請求項60に記載のUV消毒デバイス。
- 各フィンの内側表面がUV反射性である請求項67に記載のUV消毒デバイスであって、前記UV消毒デバイスがキーボード上に搭載されたときにUV-C光パターンが前記キーボードのエッジに達するように、前記フィンの角度が前記UV-C光パターンを成形するように形成されている、請求項67に記載のUV消毒デバイス。
- 前記フィンが、前記強度を前記UV-C光パターンの中心へ向かって制限する、請求項68に記載のUV消毒デバイス。
- 前記レンズが、切り欠き部分を有するUV透過シートであり、前記切り欠き部分が、前記開口をカバーするために前記ハウジングの内部キャビティ内部に前記UV透過シートを整合させるように形成されている、請求項60に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過シートがUV透過パターンを含み、前記UV透過パターンが、前記UV消毒デバイスに対して標的領域のUV-C光の強度の均一性を高めるように形成されている、請求項70に記載のUV消毒デバイス。
- 前記レンズが、UV透過パターンを形成する複数のアパーチャを有するシリコーンシートを含む、請求項60に記載のUV消毒デバイス。
- 前記レンズが、UV透過パターンを形成する複数のアパーチャを含むホウケイ酸ガラスシートを含む、請求項60に記載のUV消毒デバイス。
- UVレンズがUV不透明層とUV透過層とを含み、前記UV不透明層が、パターン状に形成された複数のアパーチャを含む、請求項60に記載のUV消毒デバイス。
- 前記複数のアパーチャのパターンがXよりも大きい密度を含む、請求項74に記載のUV消毒デバイス。
- パターンが、前記レンズの中心の近くに大きなアパーチャを、より小さなアパーチャの2つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、請求項74に記載のUV消毒デバイス。
- UV消毒デバイスであって、
開口を有するハウジングと、
前記ハウジングの内部に設けられたUV-C光源であって、前記UV-C光源がUV-C光を発するように形成されている、UV-C光源と、
前記ハウジングの内部に設けられ、前記開口をカバーするように形成されたUV透過パターンを有するシートであって、前記UV透過パターンが、前記UV-C光源からのUV-C光を、前記開口を通して導くように形成されている、シートと、
を含む、UV消毒デバイス。 - 前記ハウジング内部に設けられたUV-Cリフレクタを含み、前記UV-Cリフレクタが、前記UV-C源から発せられたUV-C光をUV透過フィルムへ向かって反射するように形成されている、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、前記ハウジングをシールするフィルムである、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、2つの層、すなわち第1UV透過フィルム層と、前記UV透過パターンを形成する複数の穴を有する第2UV不透明層とを含むフィルムである、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、前記UV透過パターンを形成する複数の穴を有するホウケイ酸ガラスシートである、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- ホウケイ酸ガラスシートの厚さが175ミリメートルである、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、前記UV透過パターンを形成する複数の穴を有するシリコーンシートである、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記シリコーンシートの厚さが200マイクロメートルである、請求項83に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、UV透過パターンを形成する複数の穴を有する金属シートである、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、前記パターンの中心の近くに大きな穴を、より小さなアパーチャの2つの集合によってそれぞれの側で挟まれた状態で含む、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、第1密度を有する複数の穴を含む、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- 前記UV透過パターンが、第2密度を有する複数の穴を含む、請求項77に記載のUV消毒デバイス。
- UV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法であって、
UV不透明材料層を用意し、
UV透過材料層を用意し、
前記UV不透明材料層から材料を除去することにより、前記UV不透明材料層内に複数の穴を穴パターンの形態で形成し、UV不透明材料層の残りの部分がUVブロッキングパターンを形成し、
前記UVブロッキングパターンを形成する、前記UV不透明材料層の前記残りの部分を、前記UV透過材料層と接合し、これにより、前記UV不透明材料層の前記接合された残りの部分と前記UV透過材料層とが、UVブロッキング部分を有するUV-C透過レンズを形成する、
ことを含む、UV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。 - UV不透明材料層がホウケイ酸塩である、請求項89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
- 前記UV不透明材料層がシリコーンである、請求項89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
- 前記UV不透明材料層が金属である、請求項89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
- 前記穴パターンを有するUV不透明材料層と、UV透過材料層とを接合したものをカットすることにより、レンズの形状にすることを含む、請求項89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
- レンズの形状が、前記UV-C透過パターン化シーリングレンズを消毒デバイスのハウジングに対して位置決めしシーリングするための複数の切り欠きを含む、請求項89に記載のUV-C透過パターン化シーリングレンズを製造する方法。
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