JP2022501086A - ティッシュ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記第1エンボス層に第1エンボス層低突起及び第1エンボス層高突起がエンボスされており、前記第1エンボス層低突起は、第1エンボス層低突起幅及び第1エンボス層低突起高さを含み、前記第1エンボス層高突起は、第1エンボス層高突起幅及び第1エンボス層高突起高さを含み、
前記第2エンボス層に第2エンボス層突起及び第2エンボス層突起間平面があり、前記第2エンボス層突起は、第2エンボス層突起幅及び第2エンボス層突起高さを含み、前記第2エンボス層突起間平面は、第2エンボス層突起間平面幅を有し、
前記第3エンボス層に第3エンボス層突起及び第3エンボス層突起間平面がエンボスされており、前記第3エンボス層突起は、第3エンボス層突起幅及び第3エンボス層突起高さを含むティッシュであって、
前記第1エンボス層高突起高さは、前記第2エンボス層突起高さよりも大きく、前記第2エンボス層突起高さは、前記第3エンボス層突起高さ以上であり、
前記第1エンボス層低突起幅は、前記第2エンボス層突起幅または第2エンボス層突起間平面幅以下であり、
前記第1エンボス層低突起の密度は、前記第2エンボス層突起の密度よりも大きく、
前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第1エンボス層高突起と前記第2エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起に支持され、
或いは、前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第1エンボス層高突起と前記第2エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起間平面に支持され、
複合して結合剤が塗布された後の第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより前記第3エンボス層と複合するティッシュを提供する。
前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起間平面に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、前記第3エンボス層に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起は、前記第3エンボス層突起間平面に粘着され、前記第3エンボス層突起及び前記第2エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌される、ティッシュの製造方法を提供する。
前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起間平面に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、前記第3エンボス層に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起間平面は、前記第3エンボス層突起間平面に粘着され、前記第3エンボス層突起及び前記第2エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌される、ティッシュの製造方法を提供する。
図3に示すように、前記第1エンボス層10に第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12及び第1エンボス層平面13がエンボスされ、
前記第1エンボス層低突起11は、第1エンボス層低突起幅d11及び第1エンボス層低突起高さh11を含み、第1エンボス層低突起幅d11は、エンボス後に形成された突起底面の幅を指し、第1エンボス層低突起高さh11は、エンボス層平面とエンボス後に形成された突起底面との間の距離を指し、前記第1エンボス層低突起11は、第1エンボス層低突起左側辺111、第1エンボス層低突起右側辺113及び第1エンボス層低突起底面112からなり、第1エンボス層低突起11は、エンボス触感を改善するためのものであってもよく、通常、高さh11が0.6mm程度であり、第1エンボス層低突起幅d11が0.3〜0.7mmの間にあり、第1エンボス層低突起左側辺111、第1エンボス層低突起右側辺113の片側勾配は25〜35度程度であり、第1エンボス層低突起11の密度は一般的に40〜80点/cm2の間にある。
図5に示すように、前記第3エンボス層30に第3エンボス層突起31、第3エンボス層突起間平面32及び第3エンボス層平面33がエンボスされ、第3エンボス層突起31は、第3エンボス層突起幅d31及び第3エンボス層突起高さh31を含み、第3エンボス層突起31は、第3エンボス層突起左側辺311、第3エンボス層突起右側辺312及び第3エンボス層突起底面313からなり、第3エンボス層突起高さh31は一般的に0.6〜1.5mm程度であり、第3エンボス層突起幅d31の大きさは一般的に0.3〜1.6mmの間にあり、第3エンボス層突起左側辺311、第3エンボス層突起右側辺312の片側勾配は25〜35度程度であり、第3エンボス層突起31の密度は一般的に30〜80点/cm2程度である。
前記第1エンボス層低突起幅d11は、前記第2エンボス層突起幅d21または第2エンボス層突起間平面幅d22以下であり、前記第1エンボス層低突起11の密度が前記第2エンボス層突起21の密度よりも大きく、一部の前記第1エンボス層低突起11は前記第2エンボス層突起21に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起11は前記第2エンボス層突起間平面22に支持され、離散または連続した支持点が形成され、製品の厚さが最大限に向上され、一部の第2エンボス層突起21は前記第3エンボス層突起31に支持され、一部の第2エンボス層突起21は第3エンボス層突起間平面32に支持される。
或いは、前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20がローラにより複合する過程において、前記第1エンボス層高突起12と前記第2エンボス層突起間平面22は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起11は、前記第2エンボス層突起間平面22に支持され、
複合して結合剤が塗布された後の第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20は、ローラにより前記第3エンボス層30と複合する。
前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20は、ローラにより複合して結合剤40が塗布され、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起21は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起11は、前記第2エンボス層突起21に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起11は、前記第2エンボス層突起間平面22に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布された前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20は、前記第3エンボス層30に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起21は、前記第3エンボス層突起間平面32に粘着され、前記第3エンボス層突起31と前記第2エンボス層突起間平面22は互いに押し出されて象嵌される、ティッシュの製造方法を提供する。
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20は、前記第3エンボス層30に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起間平面22は、前記第3エンボス層突起間平面32に粘着され、前記第3エンボス層突起31及び前記第2エンボス層突起21は互いに押し出されて象嵌される。
前記第1エンボス層10に第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12及び第1エンボス層平面13がエンボスされ、第1エンボス層低突起11は圧点であり、エンボスの触感を改善するためのものであり、前記第1エンボス層高突起12は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12はともに下向きであり、
前記第2エンボス層上20aは、第2エンボス層突起21及び第2エンボス層突起間平面22を有し、第2エンボス層突起21は下向きであり、
前記第3エンボス層30に第3エンボス層突起31、第3エンボス層突起間平面32及び第3エンボス層平面33がエンボスされ、第3エンボス層突起31は上向きであり、
前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20aは、ローラにより複合して結合剤40が塗布され、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起21は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布され、第1エンボス層10及び第2エンボス層20aの複合過程において、第2エンボス層突起底面213に第1エンボス層高突起12のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられており、前記第1エンボス層低突起d11の幅が前記第2エンボス層突起幅d21以下であり、前記第1エンボス層低突起11の密度が前記第2エンボス層突起21の密度よりも大きく、一部の前記第1エンボス層低突起11は前記第2エンボス層突起21に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起11は前記第2エンボス層突起間平面22に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布された前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20aは、前記第3エンボス層30に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起21は、前記第3エンボス層突起間平面32に粘着され、前記第3エンボス層突起31と前記第2エンボス層突起間平面22は互いに押し出されて象嵌され、第1エンボス層10での第1エンボス層高突起21は、第2エンボス層20a、第3エンボス層30を貫通し、最終的に3つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて1つの強固な立体構造を形成する、ティッシュ。
前記第1エンボス層10に第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12及び第1エンボス層平面13がエンボスされ、第1エンボス層低突起11は圧点であり、エンボスの触感を改善するためのものであり、前記第1エンボス層高突起12は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12はともに下向きであり、
前記第2エンボス層20bは、第2エンボス層突起21及び第2エンボス層突起間平面22を有し、第2エンボス層突起21は上向きであり、
前記第3エンボス層30に第3エンボス層突起31、第3エンボス層突起間平面32及び第3エンボス層平面33がエンボスされ、第3エンボス層突起31は上向きであり、
前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20bは、ローラにより複合して結合剤40が塗布され、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起間平面22は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布され、第1エンボス層10及び第2エンボス層20bの複合過程において、第2エンボス層突起間平面22に第1エンボス層高突起12のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられており、前記第1エンボス層低突起d11の幅が第2エンボス層突起間平面幅d22以下であり、前記第1エンボス層低突起11の密度が前記第2エンボス層突起21の密度よりも大きく、一部の前記第1エンボス層低突起11は第2エンボス層突起間平面22の上端の2つの第2エンボス層突起d21に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起11は前記第2エンボス層突起間平面22に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布された前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20bは、前記第3エンボス層30に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起間平面22は、前記第3エンボス層突起間平面32に粘着され、前記第3エンボス層突起31及び前記第2エンボス層突起21は互いに押し出されて象嵌され、第1エンボス層での第1エンボス層高突起21は、第2エンボス層20b、第3エンボス層30を貫通し、最終的に3つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて1つの強固な立体構造を形成する、ティッシュ。
前記第1エンボス層10に第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12及び第1エンボス層平面13がエンボスされ、第1エンボス層低突起11は圧点であり、エンボスの触感を改善するためのものであり、前記第1エンボス層高突起12は、装飾的な線及び点の組み合わせ図形であり、第1エンボス層低突起11、第1エンボス層高突起12はともに下向きであり、
前記第2エンボス層はしわ、波紋輪郭、波状輪郭等の波浪構造であり、上向きの突起及び下向きの突起を有し、下向きの突起を、第2エンボス層突起と理解でき、
前記第2エンボス層突起は、湿紙の抄紙プロセス過程に形成された波浪構造であり、或いは、前記第2エンボス層突起は、乾紙にエンボス機を使用することで形成されたエンボス圧点である、ティッシュ。
前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20cは、ローラにより複合して結合剤40が塗布され、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起21は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布され、第1エンボス層10及び第2エンボス層20cの複合過程において、第2エンボス層突起底面213に第1エンボス層高突起12のエンボス跡が残され、かつ該跡に結合剤が塗りつけられており、前記第1エンボス層低突起d11の幅が前記第2エンボス層突起幅d21以下であり、前記第1エンボス層低突起11の密度が前記第2エンボス層突起21の密度よりも大きく、前記第1エンボス層低突起11は前記第2エンボス層突起21に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤40が塗布された前記第1エンボス層10及び前記第2エンボス層20cは、前記第3エンボス層30に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起12及び前記第2エンボス層突起21は、前記第3エンボス層突起間平面32に粘着され、前記第3エンボス層突起31及び前記第2エンボス層突起間平面22は互いに押し出されて象嵌され、第1エンボス層での第1エンボス層高突起21は、第2エンボス層20c、第3エンボス層30を貫通し、最終的に3つの異なるエンボス層を貼り付けてロックし合わせて1つの強固な立体構造を形成する。
11 ・・・第1エンボス層低突起;
d11 ・・・第1エンボス層低突起幅;
h11 ・・・第1エンボス層低突起高さ;
111 ・・・第1エンボス層低突起左側辺;
113 ・・・第1エンボス層低突起右側辺;
112 ・・・第1エンボス層低突起底面;
12 ・・・第1エンボス層高突起;
d12 ・・・第1エンボス層高突起幅;
h12 ・・・第1エンボス層高突起幅;
121 ・・・第1エンボス層高突起左側辺;
122 ・・・第1エンボス層高突起右側辺;
123 ・・・第1エンボス層高突起底面;
13 ・・・第1エンボス層平面;
20 ・・・第2エンボス層;
21 ・・・第2エンボス層突起;
d21 ・・・第2エンボス層突起幅;
h21 ・・・第2エンボス層突起高さ;
211 ・・・第2エンボス層突起左側辺;
212 ・・・第2エンボス層突起右側辺;
213 ・・・第2エンボス層突起底面;
22 ・・・第2エンボス層突起間平面;
d22 ・・・第2エンボス層突起間平面幅;
23 ・・・第2エンボス層平面;
30 ・・・第3エンボス層;
31 ・・・第3エンボス層突起;
311 ・・・第3エンボス層突起左側辺;
312 ・・・第3エンボス層突起右側辺;
313 ・・・第3エンボス層突起底面;
d31 ・・・第3エンボス層突起幅;
h31 ・・・第3エンボス層突起高さ;
32 ・・・第3エンボス層突起平面;
33 ・・・第3エンボス層平面。
Claims (10)
- 第1エンボス層、第2エンボス層、及び第3エンボス層を含み、
前記第1エンボス層に第1エンボス層低突起及び第1エンボス層高突起がエンボスされており、前記第1エンボス層低突起は、第1エンボス層低突起幅及び第1エンボス層低突起高さを含み、前記第1エンボス層高突起は、第1エンボス層高突起幅及び第1エンボス層高突起高さを含み、
前記第2エンボス層に第2エンボス層突起及び第2エンボス層突起間平面があり、前記第2エンボス層突起は、第2エンボス層突起幅及び第2エンボス層突起高さを含み、前記第2エンボス層突起間平面は、第2エンボス層突起間平面幅を有し、
前記第3エンボス層に第3エンボス層突起及び第3エンボス層突起間平面がエンボスされており、前記第3エンボス層突起は、第3エンボス層突起幅及び第3エンボス層突起高さを含むティッシュであって、
前記第1エンボス層高突起高さは、前記第2エンボス層突起高さよりも大きく、前記第2エンボス層突起高さは、前記第3エンボス層突起高さ以上であり、
前記第1エンボス層低突起幅は、前記第2エンボス層突起幅または第2エンボス層突起間平面幅以下であり、
前記第1エンボス層低突起の密度は、前記第2エンボス層突起の密度よりも大きく、
前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第1エンボス層高突起と前記第2エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起に支持され、
或いは、前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層がローラにより複合する過程において、前記第1エンボス層高突起と前記第2エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起間平面に支持され、
複合して結合剤が塗布された後の第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより前記第3エンボス層と複合することを特徴とするティッシュ。 - 複合して結合剤が塗布された後の第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより前記第3エンボス層と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起は、前記第3エンボス層突起間平面に粘着され、前記第3エンボス層突起及び前記第2エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とする請求項1に記載のティッシュ。
- 複合して結合剤が塗布された後の第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより前記第3エンボス層と複合し、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起間平面は、前記第3エンボス層突起間平面に粘着され、前記第3エンボス層突起及び前記第2エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とする請求項1に記載のティッシュ。
- 前記第1エンボス層、前記第2エンボス層、及び前記第3エンボス層は、いずれも1層、2層または多層であることを特徴とする請求項2または3に記載のティッシュ。
- 前記第1エンボス層低突起は圧点であり、前記第1エンボス層高突起は点線の組み合わせ図形であることを特徴とする請求項2または3に記載のティッシュ。
- 前記第2エンボス層突起は波浪構造であり、或いは、前記第2エンボス層突起はエンボス圧点であることを特徴とする請求項2または3に記載のティッシュ。
- 前記波浪構造はしわ、波紋輪郭、波状輪郭であることを特徴とする請求項6に記載のティッシュ。
- 前記結合剤は、のりや水や天然抽出液であり、前記結合剤は、色や香りがあり、または無色で無味であることを特徴とする請求項2または3に記載のティッシュ。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載のティッシュの製造方法であって、エンボスローラにより第1エンボス層、第2エンボス層、及び第3エンボス層が形成され、
前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起間平面に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、前記第3エンボス層に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起は、前記第3エンボス層突起間平面に粘着され、前記第3エンボス層突起と前記第2エンボス層突起間平面は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とするティッシュの製造方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のティッシュの製造方法であって、エンボスローラにより第1エンボス層、第3エンボス層が形成され、
前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、ローラにより複合して結合剤が塗布され、前記第1エンボス層高突起と前記第2エンボス層突起間平面は、互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起間平面に支持され、一部の前記第1エンボス層低突起は、前記第2エンボス層突起に支持され、
互いに押し出されて象嵌されるとともに結合剤が塗布された前記第1エンボス層及び前記第2エンボス層は、前記第3エンボス層に貼り付けられ、前記第1エンボス層高突起及び前記第2エンボス層突起間平面は、前記第3エンボス層突起間平面に粘着され、前記第3エンボス層突起と前記第2エンボス層突起は互いに押し出されて象嵌されることを特徴とするティッシュの製造方法。
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