JP2022140412A - レチクル保管ポッド及びレチクル保持方法 - Google Patents
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- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims abstract description 391
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 46
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 180
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 17
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 50
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 44
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- 230000008569 process Effects 0.000 description 27
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 24
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 23
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 12
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 12
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 12
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000013461 design Methods 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 9
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 9
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 7
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 1
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67294—Apparatus for monitoring, sorting or marking using identification means, e.g. labels on substrates or labels on containers
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67769—Storage means
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Packages (AREA)
Abstract
Description
101 専用内側ポッド
102 専用外側ポッド
10 レチクルポッド
11 内側ポッド
110 蓋体
111 ハンドル
112 フィルターメンブレンカバー
114 凹溝
12 外側ポッド
120 レチクルリテーナ
121 本体
122 弾性アーム
123 制限部
124 傾斜面
125 押付部
130 ベース部
131 ペリクル溝
132 位置決め溝
134 支持体
135 傾斜面
136 制限ブロック
1500~1510 ステップ
150 外側蓋体
151 ハンドル
152 平らな頂面
153 馬蹄形のホールドダウンリブ
154 ホールドダウン柱
1600~1608 ステップ
160 外側ベース部
161 位置決めピン
162 気体バルブ
163 位置決め溝
1700~1712 ステップ
1800A 外側ポッド蓋体支持面
1802A 昇降台
1900 レチクル挟持機構
1900’ レチクル挟持機構
1902 レール
1904 挟持組立体
1906 挟持アーム
1908 接触板
1910 係合部
2000 昇降台
200 レチクルローディングシステム
200’ レチクルローディングシステム
200” レチクルローディングシステム
202 第1ポート
204 第2ポート
206 レチクル移載環境
20 ベース部
2600 前端
2602 後端
2604 気体充填管路
2606 ノズル
2608 キネマティックカップリングピン
2610 止め部
2612 連結アーム
2700 ラッチ機構
2800 前端
2802 後端
2804 位置決めピン
2900 給気管路
2901 ボールバルブ
2902 流量ディスプレイ
2903 リストリクタ弁
2904 フィルタ
2905 温湿度計
2906 機械式圧力計
2907 電子式圧力計
2908 圧力調整弁
2909 主管路
2910 圧力計
2911 エアバルブ
3000 フローコントローラ
3001 フィルタ
3002 ニードルバルブ
300 フローコントローラ
30 蓋体
32 ホールドダウンピン
3300~3310 ステップ
3400~3408 ステップ
34 キャップ
3500~3510 ステップ
3700 シングルポッド
3900~3912 ステップ
3800 コネクタ
3802 キネマティックカップリングピン
3804 ガイドピン
4000~4012 ステップ
400 レチクルストッカの気体充填管路システム
40 外側ベース部
4100 ロボットアームの把持機構
4102 ロボットアームの前端(インタラクション機構)
4104 収納室
4200 把持部
4202 プッシュ部
4204 収納室
4206 ゲート
4208 板
4300 主管路
4302 窒素気体源
4304 分岐管路
4306 フローコントローラ
4308 調節バルブ
4310 パーティクルフィルタ
4312 圧力計
4314 圧力センサー
4316 レギュレーター
4318 ボールバルブ
4500~4516 ステップ
4600~4622 ステップ
500 レチクルストッカ管理システム
50 外側蓋体
52 ハンドル
600 レチクルストッカシステム
600’ レチクルストッカシステム
600” レチクルストッカシステム
602 保管庫
604 保管棚
604’ 収納室
606 バッファ領域
608 管理手段
609 ロボットアーム
610 制御手段
612 流量制御手段
614 洗浄装置
A 第1昇降手段
A0~A2 高さ
B 第2昇降手段
B0~B2 高さ
H 垂直の段差
P ポッド
R レチクル
W 窓
Claims (29)
- 複数の支持体が配置され、各支持体がレチクルの角部を支持するために用いられ、各前記支持体から一対の制限ブロックが上向きに延び、前記一対の制限ブロックが前記角部の両側面に各々位置するベース部と、
前記複数の支持体に各々対応して複数の弾性ホールドダウン機構が配置され、各弾性ホールドダウン機構が少なくとも1つの弾性アームを備え、前記弾性アームが、対応する前記支持体によって支持される前記レチクルの前記角部に作用する蓋体と、
を含むレチクル保管ポッドであって、
前記レチクルを収容するように前記蓋体を前記ベース部に被せた時、前記一対の制限ブロックは前記弾性アームの横方向移動を制限するレチクル保管ポッド。 - 前記支持体は一対の傾斜面を有し、前記一対の傾斜面は前記角部の両側下縁部に各々係合される請求項1に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記弾性ホールドダウン機構は、本体と、前記本体から異なる方向で延びる一対の弾性アームとを含み、各前記弾性アームが制限部と、前記制限部から延びる傾斜面とを有し、前記一対の弾性アームの2つの傾斜面は前記角部の両側上縁部に各々係合される請求項1に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記一対の制限ブロックは、前記一対の弾性アームの2つの制限部を制限する請求項3に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記一対の弾性アームの2つの傾斜面は、前記制限部から離れて延在し、互いに結合されている請求項3に記載のレチクル保管ポッド。
- 蓋体と、ベース部と、保持機構とを含み、前記蓋体と前記ベース部とが結合して収納スペースを画定し、前記保持機構がレチクルを前記収納スペースに保持するように構成される、内側ポッドと、
外側ポッドであって、外側蓋体と、外側ベース部とを含み、前記外側蓋体と前記外側ベース部とが結合して前記内側ポッドを前記外側ポッド内に収容する前記外側ポッドとを含むレチクル保管ポッドであって、
前記外側蓋体が、平らな頂面と、前記平らな頂面から下向きに延びる周側面を有し、前記周側面に少なくとも一対のハンドルが設けられ、前記一対のハンドルが前記平らな頂面の高さを超えないレチクル保管ポッド。 - 前記外側ベース部の頂面には前記内側ポッドの前記ベース部を支持する複数の位置決めピンが設けられる請求項6に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記外側蓋体には前記蓋体に作用して前記内側ポッドを保持する少なくとも1つのホールドダウン機構が設けられる請求項6に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記ホールドダウン機構は、前記内側ポッドの前記蓋体に作用するホールドダウン柱である請求項8に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記保持機構は、前記ベース部に設けられた少なくとも1つの支持体と、前記支持体に対応して前記蓋体に設けられた少なくとも1つの弾性ホールドダウン機構とを含み、前記外側蓋体と前記外側ベース部とが結合して前記内側ポッドを収容する時、前記ホールドダウン柱が前記弾性ホールドダウン機構に押し当てられることで、前記弾性ホールドダウン機構が前記レチクルを保持する請求項9に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記ホールドダウン機構がホールドダウン凸リブであり、前記外側蓋体と前記外側ベース部とが結合して前記内側ポッドを収容する時、前記ホールドダウン凸リブが前記内側ポッドの前記蓋体の上面に押し当てられる請求項8に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記蓋体の上面の、前記ホールドダウン凸リブに対応する箇所に凹溝が形成されており、前記外側蓋体と前記外側ベース部とが結合して前記内側ポッドを収容する時、前記ホールドダウン凸リブが、対応する前記凹溝内に押し当てられる請求項11に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記ホールドダウン凸リブが、対応する前記凹溝内に押し当てられることで、前記蓋体を安定的に位置決めて前記ベース部上に結合させる請求項12に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記保持機構は、前記ベース部に設けられた少なくとも1つの支持体と、前記支持体に対応して前記蓋体に設けられ、少なくとも1つの弾性アームを有する少なくとも1つのレチクルリテーナとを含み、前記蓋体と前記ベース部とが結合して前記レチクルを収容する時、前記支持体が前記レチクルの角部を支持し、前記レチクルリテーナの前記弾性アームが、対応する前記角部に係合されることで、前記保持機構が前記レチクルを保持する請求項6に記載のレチクル保管ポッド。
- 内側表面に複数のホールドダウン機構が設けられた外側ポッドへの格納に適し、蓋体と、ベース部と、複数の保持機構とを含み、前記蓋体と前記ベース部とが結合することで収納スペースを画定し、これらの保持機構が、レチクルを前記収納スペースに収容されるように保持するように構成される、内側ポッドを含むレチクル保管ポッドであって、
前記蓋体の上面の、前記複数のホールドダウン機構に各々対応する箇所に複数の凹溝が形成され、前記内側ポッドが前記外側ポッドに格納される時、前記蓋体のそれらの凹溝が前記ホールドダウン機構に各々対応して係合され、押さえ付け力が得られて前記内側ポッドを安定に位置決めることで、前記保持機構による前記レチクルの保持を強化させるレチクル保管ポッド。 - 前記凹溝は、底面と、前記底面を囲繞する周側面とを有し、前記周側面が輪郭を有し、前記蓋体が前記凹溝の下面に前記保持機構を露出させる請求項15に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記ホールドダウン機構は、前記凹溝に対応する前記輪郭を有するホールドダウン凸リブであり、前記内側ポッドが前記外側ポッドに格納される時、前記ホールドダウン凸リブが前記凹溝の前記底面に対応して押し当てられる請求項16に記載のレチクル保管ポッド。
- 外側ポッドを含み、前記外側ポッドが外側蓋体と、外側ベース部とを含み、前記外側蓋体と前記外側ベース部が結合して、異なる構造の第1内側ポッド又は第2内側ポッドのいずれかを前記外側ポッド内に安定して収容し、前記第1内側ポッド及び前記第2内側ポッドがレチクルを各々収容するために用いられるレチクル保管ポッドであって、
前記外側蓋体には、少なくとも1つの第1ホールドダウン機構及び少なくとも1つの第2ホールドダウン機構が設けられ、前記第1ホールドダウン機構及び前記第2ホールドダウン機構が前記異なる構造の前記第1内側ポッドの蓋体及び第2内側ポッドの蓋体に各々作用するレチクル保管ポッド。 - 前記第1ホールドダウン機構及び前記第2ホールドダウン機構は、前記外側蓋体の下面から異なる高さで延在することで、前記第1ホールドダウン機構及び前記第2ホールドダウン機構がそれぞれ、前記異なる構造の前記第1内側ポッド及び前記第2内側ポッドの蓋体の対応する構造に係合される請求項18に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記第1ホールドダウン機構がホールドダウン柱であり、前記第2ホールドダウン機構が馬蹄形輪郭を有するホールドダウン凸リブであり、かつ、前記ホールドダウン柱が前記ホールドダウン凸リブの馬蹄形輪郭の内側に位置する請求項18に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記第1内側ポッドの前記蓋体の、前記第1ホールドダウン機構に対応する箇所に弾性ホールドダウン機構が設けられ、前記弾性ホールドダウン機構がホールドダウンピンを含み、前記第1内側ポッドが前記外側ポッドに収容される時、前記ホールドダウン柱が前記ホールドダウンピンに押し当てられることで前記第1内側ポッドの収容する前記レチクルを保持する請求項20に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記弾性ホールドダウン機構が前記ホールドダウンピンを制限するキャップを含み、前記第1内側ポッドが前記外側ポッドに収容される時、前記ホールドダウン凸リブの馬蹄形の輪郭が前記キャップの横方向移動を制限する請求項21に記載のレチクル保管ポッド。
- 前記第2内側ポッドの前記蓋体の、前記第2ホールドダウン機構に対応する箇所に凹溝が設けられ、前記凹溝が底面と、前記底面を囲繞する周側面とを有し、かつ、前記周側面が前記ホールドダウン凸リブに対応する馬蹄形の輪郭を有し、前記第2内側ポッドが前記外側ポッドに収容される時、前記ホールドダウン凸リブが前記凹溝の前記底面に押し当てられ、かつ、前記ホールドダウン凸リブが前記蓋体の横方向移動を制限する請求項20に記載のレチクル保管ポッド。
- レチクル保管ポッドに用いられてレチクルを保持するレチクルの保持方法であって、
前記レチクル保管ポッドのベース部に、各支持体から一対の制限ブロックが上向きに延びる複数の支持体を配置するステップと、
前記複数の支持体に各々対応して、少なくとも1つの弾性アームを各々備えた複数の弾性ホールドダウン機構を前記レチクル保管ポッドの蓋体に配置するステップと、
前記蓋体と前記ベース部とが結合して前記レチクルを収容する時、各前記支持体が前記レチクルの角部を支持し、各前記弾性ホールドダウン機構の前記弾性アームが、対応する前記角部に作用し、かつ前記一対の制限ブロックが前記弾性アームの横方向移動を制限するステップと
を含むレチクルの保持方法。 - 前記一対の制限ブロックは、前記角部の両側面に各々位置する請求項24に記載のレチクルの保持方法。
- 前記弾性ホールドダウン機構が本体と、一対の弾性アームとを含み、各前記弾性アームが制限部と、前記制限部から延びる傾斜面とを有する請求項24に記載のレチクルの保持方法。
- 前記蓋体と前記ベース部とが結合して前記レチクルを収容する時、前記一対の弾性アームの2つの傾斜面は前記角部の両側上縁部に各々係合される請求項26に記載のレチクルの保持方法。
- 前記一対の弾性アームは、前記本体の異なる方向から延びる請求項26に記載のレチクルの保持方法。
- 前記一対の弾性アームの末端は、一緒に連結される請求項26に記載のレチクルの保持方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024013349A JP2024059638A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルストッカシステム及びそれを用いた方法 |
JP2024013348A JP2024059637A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルローディングシステム及び方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US202163160066P | 2021-03-12 | 2021-03-12 | |
US63/160,066 | 2021-03-12 | ||
US202163249155P | 2021-09-28 | 2021-09-28 | |
US63/249,155 | 2021-09-28 | ||
US17/684,879 | 2022-03-02 | ||
US17/684,879 US11822257B2 (en) | 2021-03-12 | 2022-03-02 | Reticle storage pod and method for securing reticle |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024013349A Division JP2024059638A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルストッカシステム及びそれを用いた方法 |
JP2024013348A Division JP2024059637A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルローディングシステム及び方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022140412A true JP2022140412A (ja) | 2022-09-26 |
JP7457741B2 JP7457741B2 (ja) | 2024-03-28 |
Family
ID=83194752
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022038174A Active JP7457741B2 (ja) | 2021-03-12 | 2022-03-11 | レチクル保管ポッド及びレチクル保持方法 |
JP2024013349A Pending JP2024059638A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルストッカシステム及びそれを用いた方法 |
JP2024013348A Pending JP2024059637A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルローディングシステム及び方法 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024013349A Pending JP2024059638A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルストッカシステム及びそれを用いた方法 |
JP2024013348A Pending JP2024059637A (ja) | 2021-03-12 | 2024-01-31 | レチクルローディングシステム及び方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US11822257B2 (ja) |
JP (3) | JP7457741B2 (ja) |
KR (3) | KR20220128315A (ja) |
CN (3) | CN117908321A (ja) |
TW (3) | TW202414660A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220102177A1 (en) * | 2020-09-30 | 2022-03-31 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. | Reticle pod with antistatic capability |
US12013649B1 (en) * | 2022-12-30 | 2024-06-18 | Gudeng Equipment Co., Ltd. | Clamping appliance of reticle inner pod |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102214147B1 (ko) | 2016-08-27 | 2021-02-09 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 레티클이 측면 격납되는 레티클 포드 |
US11249392B2 (en) * | 2017-01-25 | 2022-02-15 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | EUV reticle pod |
TWI634383B (zh) * | 2017-01-26 | 2018-09-01 | 家登精密工業股份有限公司 | 光罩盒 |
TWI690771B (zh) * | 2018-01-11 | 2020-04-11 | 家登精密工業股份有限公司 | 光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器 |
-
2022
- 2022-03-02 US US17/684,879 patent/US11822257B2/en active Active
- 2022-03-03 TW TW112146956A patent/TW202414660A/zh unknown
- 2022-03-03 TW TW112146957A patent/TW202414079A/zh unknown
- 2022-03-03 TW TW111107838A patent/TWI823279B/zh active
- 2022-03-11 CN CN202410141230.3A patent/CN117908321A/zh active Pending
- 2022-03-11 JP JP2022038174A patent/JP7457741B2/ja active Active
- 2022-03-11 CN CN202410125583.4A patent/CN117872670A/zh active Pending
- 2022-03-11 CN CN202210242935.5A patent/CN115079508A/zh active Pending
- 2022-03-14 KR KR1020220031401A patent/KR20220128315A/ko unknown
-
2023
- 2023-11-20 US US18/513,827 patent/US20240085807A1/en active Pending
- 2023-11-20 US US18/513,844 patent/US20240160116A1/en active Pending
-
2024
- 2024-01-03 KR KR1020240000824A patent/KR20240008964A/ko active Search and Examination
- 2024-01-03 KR KR1020240000827A patent/KR20240009523A/ko active Search and Examination
- 2024-01-31 JP JP2024013349A patent/JP2024059638A/ja active Pending
- 2024-01-31 JP JP2024013348A patent/JP2024059637A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024059637A (ja) | 2024-05-01 |
TW202236002A (zh) | 2022-09-16 |
JP2024059638A (ja) | 2024-05-01 |
JP7457741B2 (ja) | 2024-03-28 |
TWI823279B (zh) | 2023-11-21 |
US11822257B2 (en) | 2023-11-21 |
KR20240008964A (ko) | 2024-01-19 |
US20240160116A1 (en) | 2024-05-16 |
US20240085807A1 (en) | 2024-03-14 |
KR20240009523A (ko) | 2024-01-22 |
CN117872670A (zh) | 2024-04-12 |
KR20220128315A (ko) | 2022-09-20 |
TW202414079A (zh) | 2024-04-01 |
CN115079508A (zh) | 2022-09-20 |
CN117908321A (zh) | 2024-04-19 |
US20220291596A1 (en) | 2022-09-15 |
TW202414660A (zh) | 2024-04-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A977 | Report on retrieval |
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A601 | Written request for extension of time |
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|
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