JP2022107906A - 基板搬送装置、基板搬送方法、および基板処理システム - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、基板処理システムの一例を示す概略平面図である。
本例の基板処理システム100は、複数の基板に対して連続的に処理を実施するものである。基板の処理は特に限定されず、例えば成膜処理、エッチング処理、アッシング処理、クリーニング処理のような種々の処理を挙げることができる。基板は、特に限定されるものではないが、以下の説明では、基板として半導体ウエハ(以下単にウエハともいう)を用いた場合を例にとって説明する。
次に、基板搬送装置の一例について、上述の図1の他、図2~7に基づいて詳細に説明する。図2は基板搬送装置の搬送ユニットおよび平面モータを説明するための部分断面側面図、図3は平面モータの駆動原理を説明するための斜視図、図4はベースにおける第1部材に対する第2部材の回転を説明するための図、図5は搬送ユニットが縮退した状態を示す平面図、図6は搬送ユニットが伸長した状態を示す側面図、図7は搬送ユニットが伸長した状態を示す平面図である。
基板搬送装置150においては、制御部160により平面モータ(リニアユニット)10のリニア駆動部13から電磁コイル12に供給する電流を制御して永久磁石37,38と反発する磁場を生成することにより、ベース31,32を磁気浮上させる。このときの浮上量は電流の制御により制御することができる。
図10は、基板処理システムの他の例を示す概略平面図である。
本例の基板処理システム100´は、図1の基板処理システム100と同様、複数の基板に対して連続的に所望の処理を行うものである。基板処理システム100´の基本構成は、基板処理システム100と同様であるから、基板処理システム100と同じものには同じ符号を付して説明を省略する。
以上、実施形態について説明したが、今回開示された実施形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の特許請求の範囲およびその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
11;本体部
12;電磁コイル
13;リニア駆動部
20,20´,20″;搬送ユニット
30,31,32;ベース
33,35,30a;第1部材
34,36,30b;第2部材
37,38;永久磁石
41,42,45,46;リンク部材
50;エンドエフェクタ(基板保持部)
60;ガイド部材
100,100´;基板処理システム
110;処理室
120;真空搬送室
130;ロードロック室
140;大気搬送室
150;基板搬送装置
160;制御部
170;バッファ室
G,G1,G2;ゲートバルブ
W;半導体ウエハ(基板)
Claims (16)
- 基板を基板搬送位置に搬送する基板搬送装置であって、
基板を保持する基板保持部、内部に複数の磁石を有し、前記基板保持部を移動させるベース、および前記基板保持部と前記ベースを連結するリンク部材を有する搬送ユニットと、
本体部、前記本体部内に配列された複数の電磁コイル、および、前記電磁コイルに給電し、前記ベースを磁気浮上させるとともにリニア駆動するリニア駆動部を有する平面モータと、
を有し、
前記ベースは、第1部材と、前記第1部材内に回転可能に設けられた第2部材と、を有し、前記第1部材および前記2部材の内部に前記磁石が設けられ、
前記リンク部材は、前記第2部材に回転可能に連結され、
前記リニア駆動部は、前記第2部材を前記第1部材に対して回転させ、前記基板保持部を前記リンク部材を介して伸縮させる、
基板搬送装置。 - 前記基板保持部が縮退した際には、前記ベース、前記リンク部材、および前記基板保持部が上下に重なった状態となり、その状態で前記ベースがリニア駆動される、請求項1に記載の基板搬送装置。
- 前記基板保持部が縮退された状態では、平面視した場合に、前記ベースおよび前記リンク部材が、前記基板保持部に保持された前記基板の存在領域内に含まれるように構成される、請求項2に記載の基板搬送装置。
- 前記基板保持部を前記基板搬送位置にアクセスする際には、前記基板保持部が前記ベースから伸長した状態とされる、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
- 前記搬送ユニットは、2つの前記ベースと、2つの前記リンク部材とを有し、それぞれの前記リンク部材は、それぞれの前記ベースの前記第2部材と前記基板保持部とを連結する、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
- 前記リンク部材は、関節を有し、フロッグレッグタイプの伸縮動作を行う、請求項5に記載の基板搬送装置。
- 前記搬送ユニットは、前記基板保持部をガイドするガイド部材をさらに有する、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
- 前記搬送ユニットは、基板に処理を行う処理室が接続された搬送室内に設けられ、基板搬送位置が前記処理室であり、前記平面モータの前記本体部は、前記搬送室の底壁を構成する、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の基板搬送装置。
- 基板を基板搬送位置に搬送する基板搬送方法であって、
基板を保持する基板保持部、内部に複数の磁石を有し、前記基板保持部を移動させるベース、および前記基板保持部と前記ベースを連結するリンク部材を有する搬送ユニットと、本体部、前記本体部内に配列された複数の電磁コイル、および、前記電磁コイルに給電し、前記ベースを磁気浮上させるとともにリニア駆動するリニア駆動部を有する平面モータと、を有し、前記ベースは、第1部材と、前記第1部材内に回転可能に設けられた第2部材と、を有し、前記第1部材と前記2部材とは内部に前記磁石が設けられ、前記リンク部材は、前記第2部材に回転可能に連結され、前記リニア駆動部は、前記第2部材を前記第1部材に対して回転させることが可能な基板搬送装置を用い、
前記基板が保持された前記基板保持部を縮退させ、前記ベース、前記リンク部材、および前記基板保持部が上下に重なった状態として前記ベースをリニア駆動して前記基板を搬送することと、
前記基板が前記基板搬送位置に対応する位置に搬送された際に、前記リニア駆動部により前記第2部材を前記第1部材に対して回転させ、前記基板が保持された前記基板保持部を前記ベースから前記リンク部材を介して伸長させて前記基板を前記基板搬送位置に受け渡すことと、
を有する、基板搬送方法。 - 前記基板保持部が縮退された状態では、平面視した場合に、前記ベースおよび前記リンク部材が、前記基板保持部に保持された前記基板の存在領域内に含まれるように構成される、請求項9に記載の基板搬送方法。
- 前記搬送ユニットは、基板に処理を行う処理室が接続された搬送室内に設けられ、基板搬送位置が前記処理室であり、前記平面モータの前記本体部は、前記搬送室の底壁を構成する、請求項9または請求項10に記載の基板搬送方法。
- 基板に対して処理を行う処理室と、
前記処理室が接続された搬送室と、
前記搬送室内で前記基板を搬送し、前記処理室内へ前記基板を受け渡す基板搬送装置と、
を具備し、
前記基板搬送装置は、
基板を保持する基板保持部、内部に複数の磁石を有し、前記基板保持部を移動させるベース、および前記基板保持部と前記ベースを連結するリンク部材を有する搬送ユニットと、
本体部、前記本体部内に配列された複数の電磁コイル、および、前記電磁コイルに給電し、前記ベースを磁気浮上させるとともにリニア駆動するリニア駆動部を有する平面モータと、
を有し、
前記ベースは、第1部材と、前記第1部材内に回転可能に設けられた第2部材と、を有し、前記第1部材と前記2部材とは内部に前記磁石が設けられ、
前記リンク部材は、前記第2部材に回転可能に連結され、
前記リニア駆動部は、前記第2部材を前記第1部材に対して回転させ、前記基板保持部を前記リンク部材を介して伸縮させる、
基板処理システム。 - 前記基板保持部が縮退した際には、前記ベース、前記リンク部材、および前記基板保持部が上下に重なった状態となり、その状態で前記ベースがリニア駆動される、請求項12に記載の基板処理システム。
- 前記基板保持部が縮退された状態では、平面視した場合に、前記ベースおよび前記リンク部材が、前記基板保持部に保持された前記基板の存在領域内に含まれるように構成される、請求項13に記載の基板処理システム。
- 前記基板保持部に保持された基板を前記処理室に受け渡す際には、前記基板保持部が前記ベースから伸長した状態とされる、請求項12から請求項14のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記平面モータの前記本体部は、前記搬送室の底壁を構成する、請求項12から請求項15のいずれか一項に記載の基板処理システム。
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