JP2022092825A - 光学フィルタ - Google Patents
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Abstract
Description
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る光学フィルタを示す模式的断面図である。図1に示すように、光学フィルタ1は、透明基板2と、フィルタ部3とを備える。光学フィルタ1は、特に限定されないが、例えば、LiDARなどのセンサに用いられる。
以下、光学フィルタ1の製造方法の一例について詳細に説明する。
(実施例1)
まず、透明基板としてガラス基板を用意した。次に、透明基板の第1の主面上にフィルタ部を形成した。フィルタ部は、透明基板の第1の主面上に、低屈折率膜及び高屈折率膜をこの順に交互に積層することにより形成した。高屈折率膜及び低屈折率膜は、それぞれ、スパッタリング法により形成した。
水素化シリコン膜の形成におけるスパッタリングガスの流量以外においては、実施例1と同様にして光学フィルタを作製した。具体的には、水素化シリコン膜の形成に際し、シリコン膜の成膜においては、スパッタリングガスしてのアルゴンガスの流量を290sccmとした。上記シリコン膜の水素化においては、スパッタリングガスとしてのアルゴンガスの流量を120sccmとし、水素ガスの流量を10sccmとした。
水素化シリコン膜の形成におけるスパッタリングガスの流量以外においては、実施例1と同様にして光学フィルタを作製した。具体的には、水素化シリコン膜の形成に際し、シリコン膜の成膜においては、スパッタリングガスしてのアルゴンガスの流量を330sccmとした。上記シリコン膜の水素化においては、スパッタリングガスとしてのアルゴンガスの流量を84sccmとし、水素ガスの流量を6sccmとした。
水素化シリコン膜の形成におけるスパッタリングガスの流量以外においては、実施例1と同様にして光学フィルタを作製した。具体的には、水素化シリコン膜の形成に際し、シリコン膜の成膜においては、スパッタリングガスしてのアルゴンガスの流量を360sccmとした。上記シリコン膜の水素化においては、スパッタリングガスとしてのアルゴンガスの流量を56sccmとし、水素ガスの流量を4sccmとした。
水素化シリコン膜の形成におけるスパッタリングガスの流量以外においては、実施例1と同様にして光学フィルタを作製した。具体的には、水素化シリコン膜の形成に際し、シリコン膜の成膜においては、スパッタリングガスしてのアルゴンガスの流量を370sccmとした。上記シリコン膜の水素化においては、スパッタリングガスとしてのアルゴンガスの流量を47sccmとし、水素ガスの流量を3sccmとした。
水素化シリコン膜の形成におけるスパッタリングガスの流量以外においては、実施例1と同様にして光学フィルタを作製した。具体的には、水素化シリコン膜の形成に際し、シリコン膜の成膜においては、スパッタリングガスしてのアルゴンガスの流量を380sccmとした。上記シリコン膜の水素化においては、スパッタリングガスとしてのアルゴンガスの流量を38sccmとし、水素ガスの流量を2sccmとした。
各実施例及び各比較例の光学フィルタにおける水素化シリコンのスピン密度をESRにより測定した。さらに、各光学フィルタの、波長940nmにおける屈折率n、吸光度k及び透過率を測定した。これらの結果を表2に示す。さらに、水素化シリコンのスピン密度と、吸光度k及び透過率との関係を、図3及び図4に示す。図3及び図4の各プロットは、各実施例及び各比較例の結果を示す。
図5は、本発明の第2の実施形態に係る光学フィルタを示す模式的断面図である。光学フィルタ21では、透明基板2の第2の主面2b上に反射防止膜6が設けられている。その他の点は、第1の実施形態と同様である。
1a…主面
2…透明基板
2a…第1の主面
2b…第2の主面
3…フィルタ部
4…高屈折率膜
5…低屈折率膜
6…反射防止膜
7…高屈折率膜
8…低屈折率膜
21…光学フィルタ
Claims (4)
- 水素化シリコン含有膜を有する、光学フィルタであって、
水素化シリコンのスピン密度が1.0×1018個/cm2以下である、光学フィルタ。 - 透明基板と、
前記透明基板の一方側主面上に設けられており、かつ相対的に屈折率が高い高屈折率膜及び相対的に屈折率が低い低屈折率膜を有する多層膜からなるフィルタ部と、
を備え、
前記高屈折率膜が、前記水素化シリコン含有膜である、請求項1に記載の光学フィルタ。 - 前記低屈折率膜が、酸化ケイ素含有膜である、請求項2に記載の光学フィルタ。
- 前記透明基板の他方側主面上に設けられており、かつ水素化シリコンを含む反射防止膜をさらに備える、請求項2または3に記載の光学フィルタ。
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