JP2022046901A - Simultaneous biaxial stretching device - Google Patents

Simultaneous biaxial stretching device Download PDF

Info

Publication number
JP2022046901A
JP2022046901A JP2020152534A JP2020152534A JP2022046901A JP 2022046901 A JP2022046901 A JP 2022046901A JP 2020152534 A JP2020152534 A JP 2020152534A JP 2020152534 A JP2020152534 A JP 2020152534A JP 2022046901 A JP2022046901 A JP 2022046901A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnet
state
clip link
detection unit
biaxial stretching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020152534A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
裕也 竹下
Hironari Takeshita
佳久 池田
Yoshihisa Ikeda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Shibaura Machine Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Machine Co Ltd filed Critical Shibaura Machine Co Ltd
Priority to JP2020152534A priority Critical patent/JP2022046901A/en
Publication of JP2022046901A publication Critical patent/JP2022046901A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)

Abstract

To provide a simultaneous biaxial stretching device capable of freely setting stretching conditions while reducing a traveling load of a clip link.SOLUTION: There is provided a simultaneous biaxial stretching device that is configured in that: a control unit controls an excitation state of an electromagnet to a first state in which a permanent magnet installed on a main stem near the electromagnet is repelled from the electromagnet when a photoelectric sensor (a first detector) detects that the permanent magnet (a magnetic material) installed at an end of the main stem (a clip link) has passed a position of a first distance from the electromagnet; and the control unit controls the excited state of the electromagnet to a second state in which the permanent magnet installed on the main stem is attracted to the electromagnet when a proximity sensor (a second detector) detects that the permanent magnet installed on the main stem has passed a position at a second distance from the electromagnet.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、シートやフィルム等の薄膜状の延伸対象物を延伸させる同時２軸延伸装置に関する。 The present invention relates to a simultaneous biaxial stretching device for stretching a thin film-like stretchable object such as a sheet or a film.

従来、同時２軸延伸装置として、無端に連結されたチェーンリンクにシートやフィルム等の薄膜状の延伸対象物を把持するクリップを、平面視で左右対称に配置して、当該クリップのクリップ間距離を、ガイドレールによって徐々に拡大して、レールを横切る方向に横延伸を行うと同時に、リンクを伸縮させて、レールの進行方向にクリップ間距離を広げることによって縦延伸を行う装置が知られている。 Conventionally, as a simultaneous biaxial stretching device, clips for gripping a thin film-shaped stretchable object such as a sheet or a film are arranged symmetrically in a plan view on a chain link connected endlessly, and the distance between the clips of the clips is arranged. Is known as a device that gradually expands the film with a guide rail and stretches it laterally in the direction across the rail, and at the same time stretches the link to expand and contract it to widen the distance between clips in the direction of travel of the rail. There is.

このような同時２軸延伸装置は、パンタグラフ状のリンク機構を有するため、走行抵抗や延伸負荷によるリンクテンションによって、クリップの軌道用の走行ベアリングとレールとの間、およびクリップ間隔をコントロールする走行ベアリングとレールとの間には、リンクテンションに応じた押付力が発生する。この押付力は、それに比例した走行抵抗となるため、隣接するリンクには、走行抵抗が加算されたリンクテンションが掛かることになる。リンク式の同時２軸延伸装置は、多数のリンクを連結しているため、駆動スプロケットに近い部分のリンクには、過大なリンクテンションが掛かり、当該リンクテンションを超える大きな駆動力が必要になっていた。 Since such a simultaneous biaxial stretching device has a pantograph-shaped link mechanism, a traveling bearing that controls the distance between the traveling bearing for the track of the clip and the rail and the clip spacing by the link tension due to the traveling resistance and the stretching load. A pressing force corresponding to the link tension is generated between the rail and the rail. Since this pressing force has a running resistance proportional to the running resistance, a link tension to which the running resistance is added is applied to the adjacent links. Since the link type simultaneous biaxial stretching device connects a large number of links, an excessive link tension is applied to the link near the drive sprocket, and a large driving force exceeding the link tension is required. rice field.

このような課題に対して、例えば、特許文献１では、駆動スプロケットとは別の駆動スプロケットや駆動チェーンを設けて、補助的な駆動力を与えることによって、走行経路におけるクリップリンクの走行負荷を低減させていた。 To solve such a problem, for example, in Patent Document 1, a drive sprocket or a drive chain different from the drive sprocket is provided to provide an auxiliary driving force to reduce the traveling load of the clip link in the traveling path. I was letting you.

特開平０４－１４１４０９号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 04-141409

しかしながら、特許文献１では、固定ピッチの駆動スプロケットや駆動チェーンを用いるため、必要となるクリップ間隔に合わせた駆動スプロケットや駆動チェーンを用意する必要があった。そのため、走行経路におけるクリップリンクの走行負荷を低減しながら、同時２軸延伸装置の延伸条件を自由に設定することができないという問題があった。 However, in Patent Document 1, since a drive sprocket or a drive chain having a fixed pitch is used, it is necessary to prepare a drive sprocket or a drive chain that matches the required clip spacing. Therefore, there is a problem that the stretching conditions of the simultaneous biaxial stretching device cannot be freely set while reducing the running load of the clip link in the running path.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、クリップリンクの走行負荷を低減しながら、延伸条件を自由に設定することができる同時２軸延伸装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a simultaneous biaxial stretching device capable of freely setting stretching conditions while reducing the traveling load of the clip link.

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る同時２軸延伸装置は、延伸対象物の幅方向両端をクリップで把持する、連接した一対の把持機構を、一対の無端ループで形成された移動経路にガイドされたローラによって移動させながら、対向及び隣接する前記クリップの間隔を変更して、前記延伸対象物を、前記幅方向及び前記移動経路方向に延伸させるクリップリンクを備える同時２軸延伸装置において、前記クリップリンクの端部に設置された磁性体と、前記クリップリンクが移動する際に、前記クリップリンクの端部と対向する位置に設置された電磁石と、前記クリップリンクが、前記電磁石から第１の距離の位置を通過したことを検出する第１の検出部と、前記クリップリンクが、前記電磁石から第２の距離の位置を通過したことを検出する第２の検出部と、前記第１の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体が、前記電磁石から反発される、または前記磁性体と前記電磁石との間に力が働かない第１の状態に制御して、前記第２の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体が、前記電磁石に吸引される第２の状態に制御する制御部と、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, the simultaneous biaxial stretching device according to the present invention has a pair of connected gripping mechanisms that grip both ends in the width direction of the object to be stretched with a pair of endless loops. It is provided with a clip link for stretching the object to be stretched in the width direction and the movement path direction by changing the distance between the opposing and adjacent clips while being moved by a roller guided by the movement path formed by the above. In the simultaneous biaxial stretching device, a magnetic material installed at the end of the clip link, an electromagnet installed at a position facing the end of the clip link when the clip link moves, and the clip link. The first detection unit that detects that the electromagnet has passed the position of the first distance, and the second detection that detects that the clip link has passed the position of the second distance from the electromagnet. When the unit and the first detection unit detect the passage of the clip link, the excited state of the electromagnet is repelled by the magnetic material installed in the clip link in the vicinity of the electromagnet. Or, when the second detection unit detects the passage of the clip link by controlling the first state in which no force acts between the magnetic material and the electromagnet, the excited state of the electromagnet is changed. It is characterized by comprising a control unit for controlling the magnetic material installed in the clip link in the vicinity of the electromagnet to a second state attracted by the electromagnet.

本発明に係る同時２軸延伸装置は、クリップリンクの走行負荷を低減しながら、延伸条件を自由に設定することができるという効果を奏する。 The simultaneous biaxial stretching device according to the present invention has an effect that stretching conditions can be freely set while reducing the traveling load of the clip link.

図１は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置の全体概要図である。FIG. 1 is an overall schematic view of the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. 図２は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置に用いられるクリップの概略構造の一例を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an example of a schematic structure of a clip used in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. 図３は、同時２軸延伸装置に用いられるクリップリンク機構の上面図である。FIG. 3 is a top view of the clip link mechanism used in the simultaneous biaxial stretching device. 図４は、図３のＡ－Ａ断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 図５は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置が備える光電センサと近接センサと電磁石の配置状態を示す概要図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an arrangement state of a photoelectric sensor, a proximity sensor, and an electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. 図６は、図５のＢ－Ｂ矢視図である。FIG. 6 is a view taken along the line BB of FIG. 図７は、図５のＣ－Ｃ矢視図である。FIG. 7 is a view taken along the line CC of FIG. 図８は、図５のＤ－Ｄ矢視図である。FIG. 8 is a view taken along the line DD of FIG. 図９は、電磁石の動作を説明する図である。FIG. 9 is a diagram illustrating the operation of the electromagnet. 図１０は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置が備えるセンサの設置位置を説明する図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an installation position of a sensor included in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. 図１１は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置が備える電磁石の励磁状態を制御するタイミングチャートの一例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing an example of a timing chart for controlling the excitation state of the electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. 図１２は、第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置が備えるセンサの設置位置を説明する図である。FIG. 12 is a diagram illustrating an installation position of a sensor included in the simultaneous biaxial stretching device of the modified example of the first embodiment. 図１３は、第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置が備える電磁石の励磁状態を制御するタイミングチャートの一例を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing an example of a timing chart for controlling the excitation state of the electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the modified example of the first embodiment. 図１４は、第２の実施形態の同時２軸延伸装置が備える第１の検出部と第２の検出部と電磁石の配置状態を示す概要図である。FIG. 14 is a schematic view showing an arrangement state of a first detection unit, a second detection unit, and an electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the second embodiment. 図１５は、第３の実施形態の同時２軸延伸装置が備える第１の検出部と第２の検出部と電磁石の配置状態を示す概要図である。FIG. 15 is a schematic view showing an arrangement state of a first detection unit, a second detection unit, and an electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the third embodiment.

以下に、本開示に係る同時２軸延伸装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が置換可能、且つ、容易に想到できるもの、或いは実質的に同一のものが含まれる。 Hereinafter, embodiments of the simultaneous biaxial stretching apparatus according to the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to this embodiment. Further, the components in the following embodiments include those that can be easily conceived by those skilled in the art, or those that are substantially the same.

（第１の実施形態）
［同時２軸延伸装置の概略構成の説明］
まず、図１を用いて第１の実施形態における同時２軸延伸装置１０ａの全体構成について説明する。図１は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置の全体概要図である。 (First Embodiment)
[Explanation of the schematic configuration of the simultaneous biaxial stretching device]
First, the overall configuration of the simultaneous biaxial stretching device 10a in the first embodiment will be described with reference to FIG. 1. FIG. 1 is an overall schematic view of the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment.

同時２軸延伸装置１０ａは、平面視で、左右両側に、シート状部材Ｓを把持する多数のクリップ２０を有する無端ループ１０Ｒと無端ループ１０Ｌとを左右対称に有する。延伸対象のシート状部材Ｓは、入口１ａから送り込まれて、延伸した状態で出口１ｂから排出される。なお、延伸対象のシート・フィルムの入口１ａ側から見て右側の無端ループを右側無端ループ１０Ｒ、左側の無端ループを左側無端ループ１０Ｌと呼ぶことにする。なお、シート状部材Ｓは、例えば、熱可塑性を有する樹脂フィルム等である。 The simultaneous biaxial stretching device 10a has an endless loop 10R and an endless loop 10L symmetrically having a large number of clips 20 for gripping the sheet-like member S on both left and right sides in a plan view. The sheet-shaped member S to be stretched is sent from the inlet 1a and discharged from the outlet 1b in a stretched state. The endless loop on the right side when viewed from the inlet 1a side of the sheet film to be stretched is referred to as the right endless loop 10R, and the endless loop on the left side is referred to as the left endless loop 10L. The sheet-shaped member S is, for example, a resin film having thermoplasticity.

クリップ２０は、各々、長方形状のメインステム３０の長手方向の一端部（入口１ａと出口１ｂとの間で、互いに向かい合う位置）に取り付けられる。すなわち、向かい合う一対のクリップ２０が、シート状部材Ｓの幅方向両端に配置されて、延伸対象物であるシート状部材Ｓを把持する把持装置として機能する。即ち、シート状部材Ｓは、本開示における延伸対象物の一例である。また、メインステム３０は、本開示におけるクリップリンクの一例である。 Each of the clips 20 is attached to one end of the rectangular main stem 30 in the longitudinal direction (position facing each other between the inlet 1a and the outlet 1b). That is, a pair of clips 20 facing each other are arranged at both ends in the width direction of the sheet-shaped member S, and function as a gripping device for gripping the sheet-shaped member S which is an object to be stretched. That is, the sheet-shaped member S is an example of the object to be stretched in the present disclosure. The main stem 30 is an example of a clip link in the present disclosure.

メインステム３０は、基準レール１００に案内されてループ状に巡回移動する。右側無端ループ１０Ｒは時計廻りに巡回移動し、左側無端ループ１０Ｌは反時計廻りに巡回移動する。具体的には、メインステム３０が備える駆動ローラ２８（図４参照）が、駆動用スプロケット１１、１２に選択的に係合し、各メインステム３０を巡回経路に沿って走行させる。つまり、駆動用スプロケット１１、１２は、各メインステム３０の駆動ローラ２８と選択的に係合し、電動モータによって回転駆動されて、各メインステム３０を巡回経路に沿って走行させる。具体的には、駆動用スプロケット１２は、非図示の減速機によって減速された、電動モータ１４の回転駆動力によって駆動される。２個の駆動用スプロケット１１は、非図示の電動モータの回転駆動力を、非図示の２台の減速機で、それぞれ逆方向に減速した回転駆動力によって駆動される。 The main stem 30 is guided by the reference rail 100 and circulates in a loop. The right endless loop 10R circulates clockwise, and the left endless loop 10L circulates counterclockwise. Specifically, the drive roller 28 (see FIG. 4) included in the main stem 30 selectively engages with the drive sprockets 11 and 12, and each main stem 30 is made to travel along the circular path. That is, the drive sprockets 11 and 12 are selectively engaged with the drive rollers 28 of each main stem 30, and are rotationally driven by an electric motor to drive each main stem 30 along the cyclic path. Specifically, the drive sprocket 12 is driven by the rotational driving force of the electric motor 14 decelerated by a speed reducer (not shown). The two driving sprockets 11 are driven by the rotational driving force of the electric motor (not shown), which is decelerated in the opposite directions by the two speed reducers (not shown).

右側無端ループ１０Ｒの基準レール１００と、左側無端ループ１０Ｌの基準レール１００との間隔が大きくなると、シート状部材Ｓは横方向（Ｘ軸方向）に延伸される。 When the distance between the reference rail 100 of the right endless loop 10R and the reference rail 100 of the left endless loop 10L becomes large, the sheet-shaped member S is stretched in the lateral direction (X-axis direction).

隣接するメインステム３０同士は、複数のリンクで構成されたクリップリンク機構９０によって接続される。クリップリンク機構９０は、ピッチ設定レール１２０に案内されて、メインステム３０を連れ添ってループ状に巡回移動する。 The adjacent main stems 30 are connected to each other by a clip link mechanism 90 composed of a plurality of links. The clip link mechanism 90 is guided by the pitch setting rail 120 and circulates in a loop with the main stem 30.

クリップリンク機構９０は、基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔に応じて、隣接するメインステム３０の間隔（以下、クリップ間隔と呼ぶ）を設定する。クリップ間隔が大きくなるほど、シート状部材Ｓは、幅方向と直交する方向、すなわち、メインステム３０の移動方向である縦方向（Ｙ軸方向）に延伸される。なお、図１は、入口１ａから送り込まれたシート状部材Ｓが、縦横２軸方向に延伸される様子を示している。図面をわかり易くするため、シート状部材Ｓを不連続に描いているが、実際は、シート状部材Ｓは、入口１ａから出口１ｂに亘って連続している。 The clip link mechanism 90 sets the distance between adjacent main stems 30 (hereinafter referred to as clip distance) according to the distance between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120. As the clip spacing becomes larger, the sheet-shaped member S is stretched in a direction orthogonal to the width direction, that is, in the vertical direction (Y-axis direction) which is the moving direction of the main stem 30. Note that FIG. 1 shows how the sheet-shaped member S sent from the inlet 1a is stretched in the vertical and horizontal biaxial directions. The sheet-shaped member S is drawn discontinuously in order to make the drawing easy to understand, but in reality, the sheet-shaped member S is continuous from the inlet 1a to the outlet 1b.

同時２軸延伸装置１０ａは、シート状部材Ｓの入口１ａ側から出口１ｂ側へ向けて、予熱ゾーンＡと、延伸ゾーンＢと、熱処理ゾーンＣとを備える。 The simultaneous biaxial stretching device 10a includes a preheating zone A, a stretching zone B, and a heat treatment zone C from the inlet 1a side to the outlet 1b side of the sheet-shaped member S.

予熱ゾーンＡでは、左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒの基準レール１００同士の間隔（離間距離）が横延伸初期幅相当に設定されて、全域に亘って左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒとが互いに平行に配置される。なお、左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒにおいて、基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔は、縦延伸初期ピッチ相当である。 In the preheating zone A, the distance (separation distance) between the reference rails 100 of the left endless loop 10L and the right endless loop 10R is set to correspond to the initial width of lateral stretching, and the left endless loop 10L and the right endless loop 10R are set over the entire area. Are placed parallel to each other. In the left endless loop 10L and the right endless loop 10R, the distance between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120 corresponds to the initial pitch of the longitudinal extension.

延伸ゾーンＢでは、予熱ゾーンＡの側から熱処理ゾーンＣに向かうに従って左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒの離間距離が徐々に拡大され、左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒとが非平行に配置される。延伸ゾーンＢにおける左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒの離間距離は、延伸開始端（予熱ゾーンＡとの接続端）では横延伸初期幅相当になっており、延伸終了端（熱処理ゾーンＣとの接続端）では横延伸最終幅相当に設定されている。すなわち、延伸ゾーンＢでは、予熱ゾーンＡの側から熱処理ゾーンＣに向かうに従って、左側無端ループ１０Ｌの基準レール１００と、右側無端ループ１０Ｒの基準レール１００との間隔が徐々に拡大される。各基準レール１００の間隔は、延伸開始端（予熱ゾーンＡとの接続端）では横延伸の初期幅相当になっており、延伸終了端（熱処理ゾーンＣとの接続端）では横延伸の最終幅相当になっている。 In the extension zone B, the separation distance between the left endless loop 10L and the right endless loop 10R is gradually increased from the preheating zone A side toward the heat treatment zone C, and the left endless loop 10L and the right endless loop 10R are arranged non-parallel. Will be done. The separation distance between the left endless loop 10L and the right endless loop 10R in the stretching zone B is equivalent to the initial width of lateral stretching at the stretching start end (connection end with the preheating zone A), and is equal to the stretching end end (heat treatment zone C). At the connection end), it is set to correspond to the final width of lateral stretching. That is, in the extension zone B, the distance between the reference rail 100 of the left endless loop 10L and the reference rail 100 of the right endless loop 10R is gradually increased from the side of the preheating zone A toward the heat treatment zone C. The distance between the reference rails 100 corresponds to the initial width of the transverse stretching at the stretching start end (connection end with the preheating zone A), and the final width of the transverse stretching at the stretching end end (connection end with the heat treatment zone C). It has become considerable.

さらに、延伸ゾーンＢでは、予熱ゾーンＡの側から熱処理ゾーンＣに向かうに従って、左側無端ループ１０Ｌにおける基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔が徐々に縮小される。そして、右側無端ループ１０Ｒにおける基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔も同様に、徐々に縮小される。基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔は、延伸開始端（予熱ゾーンＡとの接続端）では縦延伸初期ピッチ相当になっており、延伸終了端（熱処理ゾーンＣとの接続端）では縦延伸最終ピッチ相当になっている。すなわち、同時２軸延伸装置１０は、延伸ゾーンＢにおいて、シート状部材Ｓに対して、縦延伸と横延伸とを同時に行う。 Further, in the extension zone B, the distance between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120 in the left endless loop 10L is gradually reduced from the side of the preheating zone A toward the heat treatment zone C. Then, the distance between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120 in the right endless loop 10R is also gradually reduced. The distance between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120 is equivalent to the initial vertical stretching pitch at the stretching start end (connection end with the preheating zone A), and vertically at the stretching end end (connection end with the heat treatment zone C). It is equivalent to the final stretching pitch. That is, the simultaneous biaxial stretching device 10 simultaneously performs longitudinal stretching and transverse stretching on the sheet-shaped member S in the stretching zone B.

熱処理ゾーンＣでは、左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒの離間距離が横延伸最終幅相当に設定されて、全域に亘って左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒとが互いに平行に配置される。また、基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔は、縦延伸最終ピッチ相当に設定されて、全域に亘って基準レール１００とピッチ設定レール１２０とは互いに平行な配置になっている。 In the heat treatment zone C, the separation distance between the left endless loop 10L and the right endless loop 10R is set to correspond to the final width of lateral stretching, and the left endless loop 10L and the right endless loop 10R are arranged in parallel with each other over the entire area. Further, the distance between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120 is set to correspond to the final pitch of the longitudinal extension, and the reference rail 100 and the pitch setting rail 120 are arranged parallel to each other over the entire area.

［クリップの構造の説明］
次に、図２を用いて、クリップ２０の概略構造を説明する。図２は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置に用いられるクリップの概略構造の一例を示す側面図である。左側無端ループ１０Ｌと右側無端ループ１０Ｒが備える複数のクリップ２０は、各々、メインステム３０の長手方向の一端部に取り付けられる。クリップ２０は、シート状部材Ｓを係脱可能に把持するものであり、ヨーク形状のクリップ本体２１と、クリップ本体２１に固定装着された下側固定クリップ部材２２と、ピン２３によってクリップ本体２１に回動可能に取り付けられた可動レバー２４と、可動レバー２４の下端にピン２５によって揺動可能に取り付けられた上側可動クリップ部材２６とを有し、下側固定クリップ部材２２と上側可動クリップ部材２６とで、シート状部材Ｓの側縁を挟み込んで把持する。これにより、クリップ２０は、シート状部材Ｓを挟んで支持したり、その支持状態を解放させたりすることが可能となる。 [Explanation of clip structure]
Next, the schematic structure of the clip 20 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a side view showing an example of a schematic structure of a clip used in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. The plurality of clips 20 included in the left endless loop 10L and the right endless loop 10R are each attached to one end portion in the longitudinal direction of the main stem 30. The clip 20 grips the sheet-shaped member S in a detachable manner, and is attached to the clip body 21 by a yoke-shaped clip body 21, a lower fixed clip member 22 fixedly attached to the clip body 21, and a pin 23. It has a movable lever 24 rotatably attached and an upper movable clip member 26 swayably attached to the lower end of the movable lever 24 by a pin 25, and has a lower fixed clip member 22 and an upper movable clip member 26. Then, the side edge of the sheet-shaped member S is sandwiched and gripped. As a result, the clip 20 can support the sheet-like member S by sandwiching it, and can release the supported state.

［クリップリンク機構の説明］
次に、図３と図４を用いて、本実施形態に係る同時２軸延伸装置１０ａのクリップリンク機構９０の詳細構造について説明する。図３は、同時２軸延伸装置に用いられるクリップリンク機構の上面図である。図４は、図３のＡ－Ａ断面図である。なお、図３に示すクリップリンク機構９０は、右側無端ループ１０Ｒ側に備えられるものである。左側無端ループ１０Ｌ側が備えるクリップリンク機構９０は、図３の左右を反転した構造を有する。以後の説明は、簡単のために、右側無端ループ１０Ｒが備えるクリップリンク機構９０についてのみ行う。 [Explanation of clip link mechanism]
Next, the detailed structure of the clip link mechanism 90 of the simultaneous biaxial stretching apparatus 10a according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a top view of the clip link mechanism used in the simultaneous biaxial stretching device. FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. The clip link mechanism 90 shown in FIG. 3 is provided on the right endless loop 10R side. The clip link mechanism 90 provided on the left endless loop 10L side has a structure in which the left and right sides of FIG. 3 are inverted. For the sake of simplicity, the following description will be given only to the clip link mechanism 90 included in the right endless loop 10R.

図３に示すように、クリップリンク機構９０は、最小の構成要素として、メインステム３０と、第１のリンク部材３４ａと、第２のリンク部材３４ｂとを備える。そして、クリップリンク機構９０は、複数のメインステム３０と、第１のリンク部材３４ａと、第２のリンク部材３４ｂとが、クリップ間隔Ｈを変更可能に接続されている。 As shown in FIG. 3, the clip link mechanism 90 includes a main stem 30, a first link member 34a, and a second link member 34b as the minimum components. In the clip link mechanism 90, a plurality of main stems 30, a first link member 34a, and a second link member 34b are connected so that the clip interval H can be changed.

メインステム３０のＸ軸正側の端部には、本開示における磁性体の一例である永久磁石４０が設置される。永久磁石４０の機能については後述する。 A permanent magnet 40, which is an example of the magnetic material in the present disclosure, is installed at the end of the main stem 30 on the positive side of the X-axis. The function of the permanent magnet 40 will be described later.

第１のリンク部材３４ａの一方の端部は、メインステム３０の第１の軸部材３２ａに回動可能に接続される。そして、第１のリンク部材３４ａの他方の端部は、隣接するメインステム３０に形成された長孔３１にスライド可能に設置されたスライダ３３に、第２の軸部材３２ｂによって回動可能に接続される。 One end of the first link member 34a is rotatably connected to the first shaft member 32a of the main stem 30. Then, the other end of the first link member 34a is rotatably connected to the slider 33 slidably installed in the elongated hole 31 formed in the adjacent main stem 30 by the second shaft member 32b. Will be done.

第２のリンク部材３４ｂの一方の端部は、第１のリンク部材３４ａの中央付近に、第３の軸部材３２ｃによって回動可能に接続される。そして、第２のリンク部材３４ｂの他方の端部は、メインステム３０の第１の軸部材３２ａに回動可能に接続される。 One end of the second link member 34b is rotatably connected to the vicinity of the center of the first link member 34a by a third shaft member 32c. The other end of the second link member 34b is rotatably connected to the first shaft member 32a of the main stem 30.

図４に示すように、メインステム３０は、Ｘ軸方向正側の端部に、自重受ローラ３７ａを備える。自重受ローラ３７ａは、第３の軸部材３５ａによって、ＹＺ平面上で回転可能に軸支される。また、メインステム３０は、Ｘ軸方向負側の端部に自重受ローラ３７ｂを備える。自重受ローラ３７ｂは、第４の軸部材３５ｂによって、ＹＺ平面上で回転可能に軸支される。 As shown in FIG. 4, the main stem 30 is provided with a self-weight receiving roller 37a at the end on the positive side in the X-axis direction. The self-weight receiving roller 37a is rotatably supported on the YZ plane by the third shaft member 35a. Further, the main stem 30 is provided with a self-weight receiving roller 37b at the end on the negative side in the X-axis direction. The self-weight receiving roller 37b is rotatably supported on the YZ plane by the fourth shaft member 35b.

自重受ローラ３７ａは、クリップリンク機構９０の自重を支えて、基台１１０の上部を転動しながら移動する。また自重受ローラ３７ｂは、クリップリンク機構９０の自重を支えて、基台１１０の上部を転動しながら移動する。 The self-weight receiving roller 37a supports the self-weight of the clip link mechanism 90 and moves while rolling on the upper part of the base 110. Further, the self-weight receiving roller 37b supports the self-weight of the clip link mechanism 90 and moves while rolling on the upper part of the base 110.

第１の軸部材３２ａの上端には、前記した駆動用スプロケット１１、１２と係合することによって、クリップリンク機構９０に駆動力を与える駆動ローラ２８が設置される。 At the upper end of the first shaft member 32a, a drive roller 28 that applies a driving force to the clip link mechanism 90 by engaging with the driving sprockets 11 and 12 described above is installed.

また、第１の軸部材３２ａの下端には、案内ローラ３６ａが設置される。案内ローラ３６ａは、第１の軸部材３２ａに回動可能に設置される。案内ローラ３６ａは、クリップリンク機構９０が移動する際に、基準レール１００に沿って移動する。 Further, a guide roller 36a is installed at the lower end of the first shaft member 32a. The guide roller 36a is rotatably installed on the first shaft member 32a. The guide roller 36a moves along the reference rail 100 when the clip link mechanism 90 moves.

第２の軸部材３２ｂの下端には、案内ローラ３６ｂが設置される。案内ローラ３６ｂは、第２の軸部材３２ｂに回動可能に設置される。案内ローラ３６ｂは、クリップリンク機構９０が移動する際に、ピッチ設定レール１２０に沿って移動する。 A guide roller 36b is installed at the lower end of the second shaft member 32b. The guide roller 36b is rotatably installed on the second shaft member 32b. The guide roller 36b moves along the pitch setting rail 120 when the clip link mechanism 90 moves.

［メインステムの位置検出機構の説明］
次に、図５，図６，図７を用いて、本実施形態に係る同時２軸延伸装置１０ａが、メインステム３０の位置を検出する機構を説明する。図５は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置が備える光電センサと近接センサと電磁石の配置状態を示す概要図である。図６は、図５のＢ－Ｂ矢視図である。図７は、図５のＣ－Ｃ矢視図である。 [Explanation of the position detection mechanism of the main stem]
Next, with reference to FIGS. 5, 6, and 7, a mechanism by which the simultaneous biaxial stretching device 10a according to the present embodiment detects the position of the main stem 30 will be described. FIG. 5 is a schematic diagram showing an arrangement state of a photoelectric sensor, a proximity sensor, and an electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. FIG. 6 is a view taken along the line BB of FIG. FIG. 7 is a view taken along the line CC of FIG.

図５は、図３に示したクリップリンク機構９０が、同時２軸延伸装置１０ａに備えられた様子を示している。なお、図面を簡単にするため、図３に示した第１のリンク部材３４ａと第２のリンク部材３４ｂは、記載を簡略化している。 FIG. 5 shows how the clip link mechanism 90 shown in FIG. 3 is provided in the simultaneous biaxial stretching device 10a. In addition, in order to simplify the drawing, the description of the first link member 34a and the second link member 34b shown in FIG. 3 is simplified.

図５に示すように、同時２軸延伸装置１０ａは、隣接するメインステム３０のクリップ間隔Ｈが等しい区間、即ち、シート状部材Ｓの縦延伸を行わない区間に、メインステム３０の通過を検出する光電センサ８０と近接センサ８２、および電磁石８４が、それぞれ１組設置される。また、同時２軸延伸装置１０ａは、光電センサ８０と近接センサ８２の出力に基づいて、電磁石８４の励磁状態を制御する制御部８９ａを備える。 As shown in FIG. 5, the simultaneous biaxial stretching device 10a detects the passage of the main stem 30 in a section where the clip intervals H of adjacent main stems 30 are equal, that is, in a section where the sheet-shaped member S is not vertically stretched. A set of a photoelectric sensor 80, a proximity sensor 82, and an electromagnet 84 are installed. Further, the simultaneous biaxial stretching device 10a includes a control unit 89a that controls the excitation state of the electromagnet 84 based on the outputs of the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82.

光電センサ８０は、投光部８０ａから照射された赤外光や可視光を、受光部８０ｂで検出する。そして、投光部８０ａから照射された光が受光部８０ｂで検出されないこと、即ち、光が遮断されたことを検出することによって、投光部８０ａと受光部８０ｂとの間に、遮光性のある物体が存在することを検出する。 The photoelectric sensor 80 detects infrared light or visible light emitted from the light projecting unit 80a by the light receiving unit 80b. Then, by detecting that the light emitted from the light projecting unit 80a is not detected by the light receiving unit 80b, that is, that the light is blocked, the light blocking property is established between the light emitting unit 80a and the light receiving unit 80b. Detects the existence of an object.

近接センサ８２は、物体に接触することなく、当該物体が近接センサ８２に接近したことを検出する。近接センサ８２には、物体とセンサとの間の静電容量の変化を検出する静電容量型のセンサや、センサが備えるコイルに交流磁界を発生させて、検出物体（金属）に生じる渦電流によるインピーダンスの変化を検出する誘導型のセンサが知られている。 The proximity sensor 82 detects that the object has approached the proximity sensor 82 without touching the object. The proximity sensor 82 includes a capacitance type sensor that detects a change in capacitance between an object and the sensor, and an eddy current generated in the detected object (metal) by generating an AC magnetic field in a coil included in the sensor. Inductive sensors are known that detect changes in impedance due to.

図５の例では、光電センサ８０によって、メインステム３０（３０ａ）に備えられた駆動ローラ２８が、電磁石８４から距離Ｄ１の位置を通過したことが検出される（図６参照）。また、近接センサ８２によって、メインステム３０（３０ｂ）が、電磁石８４から距離Ｄ２の位置を通過したことが検出される。なお、光電センサ８０は、本開示における第１の検出部の一例であり、距離Ｄ１は、本開示における第１の距離の一例である。また、近接センサ８２は、本開示における第２の検出部の一例であり、距離Ｄ２は、本開示における第２の距離の一例である。 In the example of FIG. 5, the photoelectric sensor 80 detects that the drive roller 28 provided in the main stem 30 (30a) has passed the position of the distance D1 from the electromagnet 84 (see FIG. 6). Further, the proximity sensor 82 detects that the main stem 30 (30b) has passed the position of the distance D2 from the electromagnet 84. The photoelectric sensor 80 is an example of the first detection unit in the present disclosure, and the distance D1 is an example of the first distance in the present disclosure. Further, the proximity sensor 82 is an example of the second detection unit in the present disclosure, and the distance D2 is an example of the second distance in the present disclosure.

制御部８９ａは、光電センサ８０（第１の検出部）がメインステム３０ａの通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、電磁石８４の近傍のメインステム３０ｂに設置された永久磁石４０が、電磁石８４から反発される状態（第１の状態）に制御する。また、制御部８９ａは、近接センサ８２（第２の検出部）がメインステム３０ｂの通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、消磁状態、即ち電磁石８４の近傍のメインステム３０ａに設置された永久磁石４０が電磁石８４に吸引される状態（第２の状態）に制御する。即ち、本実施形態の場合、制御部８９ａは、永久磁石４０と電磁石８４との間に反発力が働く第１の状態と、永久磁石４０と電磁石８４との間に吸引力が働く、第１の状態とは異なる第２の状態とを交互に切り替える。 When the photoelectric sensor 80 (first detection unit) detects the passage of the main stem 30a, the control unit 89a sets the excited state of the electromagnet 84 by the permanent magnet 40 installed on the main stem 30b near the electromagnet 84. , The state of being repelled from the electromagnet 84 (first state) is controlled. Further, the control unit 89a installs the excited state of the electromagnet 84 in the degaussed state, that is, in the main stem 30a near the electromagnet 84 when the proximity sensor 82 (second detection unit) detects the passage of the main stem 30b. The permanent magnet 40 is controlled to be attracted to the electromagnet 84 (second state). That is, in the case of the present embodiment, the control unit 89a has a first state in which a repulsive force acts between the permanent magnet 40 and the electromagnet 84, and a first state in which an attractive force acts between the permanent magnet 40 and the electromagnet 84. The second state different from the state of is switched alternately.

なお、光電センサ８０は、図６に示すように、基台１１０のＸ軸方向両端に設置されたブラケット８１に、Ｘ軸に沿って取り付けられる。より具体的には、投光部８０ａはブラケット８１ａに設置されて、受光部８０ｂはブラケット８１ｂに設置される。なお、投光部８０ａと受光部８０ｂは、駆動ローラ２８と同じＺ軸方向の高さ位置に設置される。 As shown in FIG. 6, the photoelectric sensor 80 is attached to brackets 81 installed at both ends of the base 110 in the X-axis direction along the X-axis. More specifically, the light emitting unit 80a is installed on the bracket 81a, and the light receiving unit 80b is installed on the bracket 81b. The light projecting unit 80a and the light receiving unit 80b are installed at the same height position in the Z-axis direction as the drive roller 28.

また、図７に示すように、近接センサ８２は、基台１１０のＸ軸方向正側の端部付近に設置されたブラケット８３に、Ｚ軸方向負側に向けて取り付けられる。そして、近接センサ８２の先端は、メインステム３０の上面と近接する位置に保持される。 Further, as shown in FIG. 7, the proximity sensor 82 is attached to the bracket 83 installed near the end of the base 110 on the positive side in the X-axis direction toward the negative side in the Z-axis direction. Then, the tip of the proximity sensor 82 is held at a position close to the upper surface of the main stem 30.

光電センサ８０と近接センサ８２は、いずれを用いてもよい。即ち、第１の検出部として近接センサ８２を用いてもよく、第２の検出部として光電センサ８０を用いてもよい。これらのセンサを設置するためには、クリップリンク機構９０の移動経路にセンサを設置するスペースが必要であるため、クリップリンク機構９０のサイズやセンサの設置に必要なスペースの大きさ等に応じて、使用するセンサを選定すればよい。 Either the photoelectric sensor 80 or the proximity sensor 82 may be used. That is, the proximity sensor 82 may be used as the first detection unit, or the photoelectric sensor 80 may be used as the second detection unit. In order to install these sensors, a space for installing the sensors is required in the movement path of the clip link mechanism 90, so depending on the size of the clip link mechanism 90, the size of the space required for installing the sensors, and the like. , The sensor to be used may be selected.

なお、第１の検出部および第２の検出部の具体的な設置位置については後述する。 The specific installation positions of the first detection unit and the second detection unit will be described later.

［電磁石の機能の説明］
次に、図８と図９を用いて、電磁石８４の機能を説明する。図８は、図５のＤ－Ｄ矢視図である。図９は、電磁石の動作を説明する図である。 [Explanation of the function of the electromagnet]
Next, the function of the electromagnet 84 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a view taken along the line DD of FIG. FIG. 9 is a diagram illustrating the operation of the electromagnet.

同時２軸延伸装置１０ａは、図８に示すように、メインステム３０ｂのＸ軸正側端部に設置された永久磁石４０と対向する位置に、電磁石８４を備える。電磁石８４は、所定のタイミングで直流電流を流すことによって励磁されて、永久磁石４０を反発させる反発力を発生する。また、電磁石８４は、所定のタイミングで直流電流を停止することによって消磁されて、永久磁石４０を引き寄せる吸引力を発生する。また、後述する変形例として、電磁石８４は、所定のタイミングで、前記したのと逆方向の直流電流を流すことによって前記とは逆方向に励磁されて、永久磁石４０を引き寄せる吸引力を発生する。 As shown in FIG. 8, the simultaneous biaxial stretching device 10a includes an electromagnet 84 at a position facing the permanent magnet 40 installed at the X-axis positive end of the main stem 30b. The electromagnet 84 is excited by passing a direct current at a predetermined timing to generate a repulsive force that repels the permanent magnet 40. Further, the electromagnet 84 is degaussed by stopping the direct current at a predetermined timing, and generates an attractive force that attracts the permanent magnet 40. Further, as a modification described later, the electromagnet 84 is excited in the direction opposite to the above by passing a direct current in the direction opposite to the above at a predetermined timing, and generates an attractive force for attracting the permanent magnet 40. ..

電磁石８４は、基台１１０のＸ軸方向正側の端部付近に設置されたブラケット８５に、Ｘ軸に沿って取り付けられる。 The electromagnet 84 is attached to the bracket 85 installed near the end of the base 110 on the positive side in the X-axis direction along the X-axis.

図９（ａ）に示すように、電磁石８４は、鉄心８６にコイル８７が巻回されて構成される。そして、直流電源８８によってコイル８７に電流ｉを流すことによって、鉄心８６のＸ軸方向負側がＮ極、Ｘ軸正方向側がＳ極になるように励磁された状態になる。このように励磁された電磁石８４のＮ極の近傍に、Ｙ軸正方向に向かって移動しているメインステム３０の端部に設置された永久磁石４０が接近すると、永久磁石４０には、電磁石８４から反発される反発力Ｆａが発生する。なお、永久磁石４０は、電磁石８４側がＮ極、メインステム３０側がＳ極になるように磁極配置されているものとする。そして、この反発力Ｆａによって、メインステム３０は、Ｙ軸正方向に移動する駆動力を得る。 As shown in FIG. 9A, the electromagnet 84 is configured by winding a coil 87 around an iron core 86. Then, by passing a current i through the coil 87 by the DC power supply 88, the iron core 86 is excited so that the negative side in the X-axis direction becomes the N pole and the positive side in the X-axis direction becomes the S pole. When the permanent magnet 40 installed at the end of the main stem 30 moving in the positive direction of the Y-axis approaches the vicinity of the N pole of the electromagnet 84 excited in this way, the permanent magnet 40 is subjected to the electromagnet. The repulsive force Fa repelled from 84 is generated. It is assumed that the permanent magnets 40 are arranged with magnetic poles so that the electromagnet 84 side has an N pole and the main stem 30 side has an S pole. Then, by this repulsive force Fa, the main stem 30 obtains a driving force that moves in the positive direction of the Y axis.

図９（ｂ）に示すように、直流電源８８を切断して、コイル８７に流れる電流ｉを停止すると、電磁石８４は、励磁されていない消磁状態となる。このとき、電磁石８４に、Ｙ軸正方向に向かって移動しているメインステム３０の端部に設置された永久磁石４０が接近すると、永久磁石４０には、電磁石８４に吸引される吸引力Ｆｂが発生する。この吸引力Ｆｂによって、メインステム３０は、Ｙ軸正方向に移動する駆動力を得る。 As shown in FIG. 9B, when the DC power supply 88 is cut off and the current i flowing through the coil 87 is stopped, the electromagnet 84 is in an unexcited degaussed state. At this time, when the permanent magnet 40 installed at the end of the main stem 30 moving in the positive direction of the Y axis approaches the electromagnet 84, the permanent magnet 40 has an attractive force Fb attracted by the electromagnet 84. Occurs. By this suction force Fb, the main stem 30 obtains a driving force that moves in the positive direction of the Y axis.

そして、同時２軸延伸装置１０ａは、図９（ｂ）の状態と、図９（ａ）の状態とを交互に発生させることによって、メインステム３０は、Ｙ軸正方向に移動する駆動力を得る。 Then, the simultaneous biaxial stretching device 10a alternately generates the state of FIG. 9B and the state of FIG. 9A, so that the main stem 30 exerts a driving force to move in the positive direction of the Y axis. obtain.

なお、永久磁石４０の磁極配置は、図９に示す方向に限定されない。即ち、永久磁石４０を、電磁石８４側がＳ極、メインステム３０側がＮ極になるように励磁してもよい。なお、この場合、図９に示すのと同じ向きの反発力Ｆａを得るためには、電磁石８４に流す電流ｉの向きを逆転させればよい。 The magnetic pole arrangement of the permanent magnet 40 is not limited to the direction shown in FIG. That is, the permanent magnet 40 may be excited so that the electromagnet 84 side has an S pole and the main stem 30 side has an N pole. In this case, in order to obtain the repulsive force Fa in the same direction as shown in FIG. 9, the direction of the current i flowing through the electromagnet 84 may be reversed.

図９（ｃ）は、電磁石８４を逆方向に励磁した状態を示す図であるが、詳しくは、第１の実施形態の変形例で説明する。 FIG. 9 (c) is a diagram showing a state in which the electromagnet 84 is excited in the reverse direction, and details thereof will be described with reference to a modification of the first embodiment.

［センサの設置位置の説明］
次に、図１０と図１１を用いて、光電センサ８０と近接センサ８２の設置位置について説明する。図１０は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置が備えるセンサの設置位置を説明する図である。図１１は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置が備える電磁石の励磁状態を制御するタイミングチャートの一例を示す図である。 [Explanation of sensor installation position]
Next, the installation positions of the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82 will be described with reference to FIGS. 10 and 11. FIG. 10 is a diagram illustrating an installation position of a sensor included in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment. FIG. 11 is a diagram showing an example of a timing chart for controlling the excitation state of the electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the first embodiment.

図１０に示すように、光電センサ８０（８０ａ，８０ｂ）は、電磁石８４の中心位置から、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に距離Ｄ１だけ離れた位置に設置される。また、近接センサ８２は、電磁石８４の中心位置から、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に距離Ｄ２だけ離れた位置に設置される。 As shown in FIG. 10, the photoelectric sensor 80 (80a, 80b) is installed at a position separated by a distance D1 from the center position of the electromagnet 84 on the upstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90. Further, the proximity sensor 82 is installed at a position separated by a distance D2 from the center position of the electromagnet 84 on the downstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90.

メインステム３０ｂが移動して、消磁状態の電磁石８４に接近すると、メインステム３０ｂのＸ軸正側端部に設置された永久磁石４０が、電磁石８４の鉄心８６（図９参照）に引き付けられる。これにより、クリップリンク機構９０には、永久磁石の吸引力による駆動力が加えられる。 When the main stem 30b moves and approaches the degaussed electromagnet 84, the permanent magnet 40 installed at the positive end of the X-axis of the main stem 30b is attracted to the iron core 86 (see FIG. 9) of the electromagnet 84. As a result, a driving force due to the attractive force of the permanent magnet is applied to the clip link mechanism 90.

そして、光電センサ８０がメインステム３０ａの通過を検出した際に、メインステム３０ａの下流側に隣接するメインステム３０ｂは、電磁石８４の中心位置から、距離ΔＤ１だけ、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に位置する。この状態にあるとき、同時２軸延伸装置１０ａの制御部８９ａは、図９（ａ）に示すように電磁石８４に直流電流を流して励磁する。 Then, when the photoelectric sensor 80 detects the passage of the main stem 30a, the main stem 30b adjacent to the downstream side of the main stem 30a is located in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance ΔD1 from the center position of the electromagnet 84. Located on the upstream side. In this state, the control unit 89a of the simultaneous biaxial stretching device 10a applies a direct current to the electromagnet 84 to excite it as shown in FIG. 9A.

これにより、永久磁石４０は、電磁石８４から反発力を受ける。この反発力により、クリップリンク機構９０には、クリップリンク機構９０の移動方向に沿う駆動力が加えられる。 As a result, the permanent magnet 40 receives a repulsive force from the electromagnet 84. Due to this repulsive force, a driving force along the moving direction of the clip link mechanism 90 is applied to the clip link mechanism 90.

そして、近接センサ８２がメインステム３０ｂの接近を検出すると、同時２軸延伸装置１０ａの制御部８９ａは、図９（ｂ）に示すように電磁石８４を消磁状態に制御する。 Then, when the proximity sensor 82 detects the approach of the main stem 30b, the control unit 89a of the simultaneous biaxial stretching device 10a controls the electromagnet 84 in a degaussed state as shown in FIG. 9B.

第１の検出部である光電センサ８０の具体的な設置位置、即ち距離Ｄ１は、同時２軸延伸装置１０ａの仕様、即ちメインステム３０の長さ、クリップ間隔Ｈ、永久磁石４０と電磁石８４の性能とサイズ等に基づいて決められる。また、第２の検出部である近接センサ８２の具体的な設置位置、即ち距離Ｄ２は、電磁石８４が永久磁石４０を反発しきった位置から、光電センサ８０が次のメインステム３０を検出するまでの間に、反発された永久磁石４０を備えるメインステム３０が近接センサ８２を通過するように決められる。 The specific installation position of the photoelectric sensor 80, which is the first detection unit, that is, the distance D1, is the specification of the simultaneous biaxial stretching device 10a, that is, the length of the main stem 30, the clip interval H, the permanent magnet 40, and the electromagnet 84. It is decided based on performance and size. Further, the specific installation position of the proximity sensor 82, which is the second detection unit, that is, the distance D2 is from the position where the electric magnet 84 completely repels the permanent magnet 40 until the photoelectric sensor 80 detects the next main stem 30. In the meantime, the main stem 30 with the repulsed permanent magnet 40 is determined to pass the proximity sensor 82.

なお、図１０では、電磁石８４に対して、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に光電センサ８０を設置して、電磁石８４に対して、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に近接センサ８２を設置する例を説明したが、各センサの設置位置は、これに限定されるものではない。即ち、距離Ｄ１，Ｄ２を保った状態であれば、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に近接センサ８２を設置してもよい。また、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に光電センサ８０を設置してもよい。なお、光電センサ８０の代わりに近接センサ８２を使用してもよく、近接センサ８２の代わりに光電センサ８０を使用してもよいことは、前記した通りである。 In FIG. 10, the photoelectric sensor 80 is installed on the upstream side of the clip link mechanism 90 in the moving direction with respect to the electromagnet 84, and the proximity sensor is installed on the downstream side of the clip link mechanism 90 in the moving direction with respect to the electromagnet 84. Although an example of installing the 82 has been described, the installation position of each sensor is not limited to this. That is, the proximity sensor 82 may be installed on the upstream side of the clip link mechanism 90 in the moving direction as long as the distances D1 and D2 are maintained. Further, the photoelectric sensor 80 may be installed on the downstream side of the clip link mechanism 90 in the moving direction. As described above, the proximity sensor 82 may be used instead of the photoelectric sensor 80, and the photoelectric sensor 80 may be used instead of the proximity sensor 82.

前記した処理の流れをタイミングチャートで表すと、図１１のようになる。即ち、同時２軸延伸装置１０ａの制御部８９ａは、光電センサ８０がメインステム３０ａを検出した時刻ｔ１，ｔ３において、電磁石８４に電流ｉを流して励磁する。このとき、電磁石８４の近傍にあるメインステム３０ｂが備える永久磁石４０は、電磁石８４から反発力を受けて、Ｙ軸正方向に向かって反発される（第１の状態）。そして、同時２軸延伸装置１０ａの制御部８９ａは、近接センサ８２がメインステム３０ｂを検出した時刻ｔ２，ｔ４において、電磁石８４に流していた電流ｉを止めて消磁する。このとき、電磁石８４に接近しているメインステム３０ａが備える永久磁石４０は、電磁石８４の鉄心８６に吸引される（第２の状態）。したがって、メインステム３０ａは、Ｙ軸正方向に向かう力を受ける。以後、同時２軸延伸装置１０ａは、同じ処理を繰り返す。これによって、クリップリンク機構９０は、Ｙ軸正方向に向かう補助駆動力を得る。 The timing chart of the above-mentioned processing flow is as shown in FIG. That is, the control unit 89a of the simultaneous biaxial stretching device 10a causes the electromagnet 84 to be excited by passing a current i at the times t1 and t3 when the photoelectric sensor 80 detects the main stem 30a. At this time, the permanent magnet 40 included in the main stem 30b in the vicinity of the electromagnet 84 receives a repulsive force from the electromagnet 84 and is repelled in the positive direction of the Y axis (first state). Then, the control unit 89a of the simultaneous biaxial stretching device 10a stops and demagnetizes the current i flowing through the electromagnet 84 at the time t2 and t4 when the proximity sensor 82 detects the main stem 30b. At this time, the permanent magnet 40 included in the main stem 30a that is close to the electromagnet 84 is attracted to the iron core 86 of the electromagnet 84 (second state). Therefore, the main stem 30a receives a force in the positive direction of the Y axis. After that, the simultaneous biaxial stretching device 10a repeats the same process. As a result, the clip link mechanism 90 obtains an auxiliary driving force in the positive direction of the Y axis.

以上説明したように、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、制御部８９ａは、光電センサ８０（第１の検出部）が、メインステム３０ａ（クリップリンク）の端部に設置された永久磁石４０（磁性体）が、電磁石８４から距離Ｄ１（第１の距離）の位置を通過したことを検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、電磁石８４の近傍にあるメインステム３０ｂに設置された永久磁石４０が電磁石８４から反発される第１の状態に制御する。また、制御部８９ａは、近接センサ８２（第２の検出部）が、メインステム３０ｂに設置された永久磁石４０が、電磁石８４から距離Ｄ２（第２の距離）の位置を通過したことを検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、メインステム３０ａに設置された永久磁石４０が、電磁石８４に吸引される第２の状態に制御する。したがって、電磁石８４と永久磁石４０との間に発生する磁力によって、クリップリンク機構９０を移動させる補助駆動力が得られるため、クリップリンク機構９０の走行負荷を低減することができる。そして、同時２軸延伸装置１０ａは、クリップ間隔Ｈが一定の区間において補助駆動力を得るため、得られた補助駆動力によって、クリップ間隔Ｈが一定でない区間においても、クリップリンク機構９０の走行負荷を低減することができる。これによって、シート状部材Ｓの延伸条件を自由に設定することができる。 As described above, in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment, in the control unit 89a, the photoelectric sensor 80 (first detection unit) is installed at the end of the main stem 30a (clip link). When it is detected that the permanent magnet 40 (magnetic material) has passed the position of the distance D1 (first distance) from the electromagnet 84, the excited state of the electromagnet 84 is transferred to the main stem 30b in the vicinity of the electromagnet 84. The installed permanent magnet 40 is controlled to the first state where it is repelled from the electromagnet 84. Further, the control unit 89a detects that the proximity sensor 82 (second detection unit) has passed the permanent magnet 40 installed on the main stem 30b at the position of the distance D2 (second distance) from the electromagnet 84. In this case, the excited state of the electromagnet 84 is controlled to the second state in which the permanent magnet 40 installed on the main stem 30a is attracted to the electromagnet 84. Therefore, since the auxiliary driving force for moving the clip link mechanism 90 is obtained by the magnetic force generated between the electromagnet 84 and the permanent magnet 40, the traveling load of the clip link mechanism 90 can be reduced. Since the simultaneous biaxial stretching device 10a obtains an auxiliary driving force in a section where the clip interval H is constant, the traveling load of the clip link mechanism 90 is obtained even in a section where the clip interval H is not constant due to the obtained auxiliary driving force. Can be reduced. Thereby, the stretching conditions of the sheet-shaped member S can be freely set.

また、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、メインステム３０（クリップリンク）の端部に設置される磁性体は、永久磁石４０である。したがって、メインステム３０と電磁石８４との間に、より大きな反発力を発生させることができる。 Further, in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment, the magnetic material installed at the end of the main stem 30 (clip link) is a permanent magnet 40. Therefore, a larger repulsive force can be generated between the main stem 30 and the electromagnet 84.

また、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、制御部８９ａは、光電センサ８０（第１の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、永久磁石４０（磁性体）が電磁石８４から反発されるように制御して、近接センサ８２（第２の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４を消磁状態に制御する。したがって、永久磁石４０を電磁石８４に吸引する場合には、電磁石８４を励磁する必要がないため、電磁石８４の消費電力を低減することができる。 Further, in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment, the control unit 89a determines the excited state of the electromagnet 84 when the photoelectric sensor 80 (first detection unit) detects the passage of the main stem 30. The permanent magnet 40 (magnetic material) is controlled to be repelled from the electromagnet 84, and when the proximity sensor 82 (second detection unit) detects the passage of the main stem 30, the electromagnet 84 is controlled to be in a demagnetized state. .. Therefore, when the permanent magnet 40 is attracted to the electromagnet 84, it is not necessary to excite the electromagnet 84, so that the power consumption of the electromagnet 84 can be reduced.

また、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、第１の検出部および第２の検出部は、光電センサ８０または近接センサ８２で構成される。したがって、同時２軸延伸装置１０ａのメインステム３０の位置検出等のために従来から使用されていたセンサを、そのまま流用することができる。 Further, in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment, the first detection unit and the second detection unit are composed of a photoelectric sensor 80 or a proximity sensor 82. Therefore, the sensor conventionally used for detecting the position of the main stem 30 of the simultaneous biaxial stretching device 10a can be used as it is.

（第１の実施形態の変形例）
次に、図１２と図１３を用いて、第１の実施形態の変形例を説明する。図１２は、第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置が備えるセンサの設置位置を説明する図である。図１３は、第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置が備える電磁石の励磁状態を制御するタイミングチャートの一例を示す図である。 (Variation example of the first embodiment)
Next, a modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 12 and 13. FIG. 12 is a diagram illustrating an installation position of a sensor included in the simultaneous biaxial stretching device of the modified example of the first embodiment. FIG. 13 is a diagram showing an example of a timing chart for controlling the excitation state of the electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the modified example of the first embodiment.

第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置１０ａは、制御部８９ａが、電磁石８４に流す電流ｉの方向を、時刻とともに逆転させることによって、励磁方向を切り替える。即ち、図９（ａ）の状態と図９（ｃ）の状態とを交互に生成する。これにより、メインステム３０は、電磁石８４を消磁した場合に電磁石８４の鉄心８６が永久磁石４０を吸引する吸引力と比較して、より大きい吸引力を得る。なお、励磁方向を切り替えるために、電磁石８４に電力を供給する電源には、交流電源を用いる。 In the simultaneous biaxial stretching device 10a of the modification of the first embodiment, the control unit 89a switches the excitation direction by reversing the direction of the current i flowing through the electromagnet 84 with time. That is, the state of FIG. 9A and the state of FIG. 9C are alternately generated. As a result, the main stem 30 obtains a larger attractive force than the attractive force that the iron core 86 of the electromagnet 84 attracts the permanent magnet 40 when the electromagnet 84 is demagnetized. An AC power source is used as the power source for supplying electric power to the electromagnet 84 in order to switch the excitation direction.

図１２に示すように、第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、光電センサ８０（８０ａ，８０ｂ）は、電磁石８４の中心位置から、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に距離Ｄ３だけ離れた位置に設置される。また、近接センサ８２は、電磁石８４の中心位置から、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に距離Ｄ４だけ離れた位置に設置される。なお、距離Ｄ３は、本開示における第１の距離の一例である。また、距離Ｄ４は、本開示における第２の距離の一例である。なお、光電センサ８０がメインステム３０ａの通過を検出した際に、メインステム３０ａの下流側に隣接するメインステム３０ｂは、電磁石８４の中心位置から、距離ΔＤ２だけ、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に位置しているものとする。なお、距離Ｄ３，Ｄ４，ΔＤ２は、同時２軸延伸装置１０ａの仕様、即ちメインステム３０の長さ、クリップ間隔Ｈ、永久磁石４０と電磁石８４の性能とサイズ等に基づいて決められる。 As shown in FIG. 12, in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the modified example of the first embodiment, the photoelectric sensor 80 (80a, 80b) is upstream from the center position of the electromagnet 84 in the moving direction of the clip link mechanism 90. It is installed at a position separated by a distance D3 on the side. Further, the proximity sensor 82 is installed at a position separated by a distance D4 from the center position of the electromagnet 84 on the downstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90. The distance D3 is an example of the first distance in the present disclosure. Further, the distance D4 is an example of the second distance in the present disclosure. When the photoelectric sensor 80 detects the passage of the main stem 30a, the main stem 30b adjacent to the downstream side of the main stem 30a is located in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance ΔD2 from the center position of the electromagnet 84. It shall be located on the upstream side. The distances D3, D4, and ΔD2 are determined based on the specifications of the simultaneous biaxial stretching device 10a, that is, the length of the main stem 30, the clip interval H, the performance and size of the permanent magnet 40 and the electromagnet 84, and the like.

クリップリンク機構９０が移動して、光電センサ８０がメインステム３０ａを検出すると、制御部８９ａは、電磁石８４の励磁方向を逆転させる。これにより、メインステム３０ｂが備える永久磁石４０は、電磁石８４から反発される向きの力を受ける。 When the clip link mechanism 90 moves and the photoelectric sensor 80 detects the main stem 30a, the control unit 89a reverses the exciting direction of the electromagnet 84. As a result, the permanent magnet 40 included in the main stem 30b receives a force in the direction repelled by the electromagnet 84.

そして、クリップリンク機構９０がさらに移動して、近接センサ８２がメインステム３０ｂを検出すると、制御部８９ａは、電磁石８４の励磁方向を逆転させる。これにより、メインステム３０ａが備える永久磁石４０は、電磁石８４に吸引される向きの力を受ける。 Then, when the clip link mechanism 90 further moves and the proximity sensor 82 detects the main stem 30b, the control unit 89a reverses the exciting direction of the electromagnet 84. As a result, the permanent magnet 40 included in the main stem 30a receives a force in the direction attracted by the electromagnet 84.

前記した処理の流れをタイミングチャートで表すと、図１３のようになる。即ち、同時２軸延伸装置１０ａは、光電センサ８０がメインステム３０ａを検出した時刻ｔ５，ｔ７，ｔ９において、電磁石８４に電流ｉを流して励磁する。このとき、電磁石８４の近傍にあるメインステム３０ｂが備える永久磁石４０は、電磁石８４から反発力を受けて、Ｙ軸正方向に向かって反発される（第１の状態）。そして、同時２軸延伸装置１０ａは、近接センサ８２がメインステム３０ｂを検出した時刻ｔ６，ｔ８において、電磁石８４に流していた電流ｉの向きを逆転させる。このとき、電磁石８４に接近しているメインステム３０ａが備える永久磁石４０は、電磁石８４から吸引力を受けて、Ｙ軸正方向に向かって吸引される（第２の状態）。したがって、メインステム３０ａは、Ｙ軸正方向に向かう力を受ける。以後、同時２軸延伸装置１０ａは、同じ処理を繰り返す。これによって、クリップリンク機構９０は、Ｙ軸正方向に向かう補助駆動力を得る。 The timing chart of the above-mentioned processing flow is as shown in FIG. That is, the simultaneous biaxial stretching device 10a excites the electromagnet 84 by passing a current i at the times t5, t7, and t9 when the photoelectric sensor 80 detects the main stem 30a. At this time, the permanent magnet 40 included in the main stem 30b in the vicinity of the electromagnet 84 receives a repulsive force from the electromagnet 84 and is repelled in the positive direction of the Y axis (first state). Then, the simultaneous biaxial stretching device 10a reverses the direction of the current i flowing through the electromagnet 84 at the time t6 and t8 when the proximity sensor 82 detects the main stem 30b. At this time, the permanent magnet 40 included in the main stem 30a that is close to the electromagnet 84 receives an attractive force from the electromagnet 84 and is attracted in the positive direction of the Y-axis (second state). Therefore, the main stem 30a receives a force in the positive direction of the Y axis. After that, the simultaneous biaxial stretching device 10a repeats the same process. As a result, the clip link mechanism 90 obtains an auxiliary driving force in the positive direction of the Y axis.

以上説明したように、第１の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、制御部８９ａは、光電センサ８０（第１の検出部）がメインステム３０（クリップリンク）の通過を検出した場合と、近接センサ８２（第２の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合とで、電磁石８４の励磁方向を逆転させる。したがって、メインステム３０は、電磁石８４を消磁した場合に電磁石８４の鉄心８６が永久磁石４０を吸引する吸引力と比較して、より大きい吸引力を得ることができる。これにより、クリップリンク機構９０は、例えば第１の実施形態に対して、より大きい補助駆動力を得ることができる。 As described above, in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the modification of the first embodiment, the control unit 89a detects the passage of the photoelectric sensor 80 (first detection unit) through the main stem 30 (clip link). When the proximity sensor 82 (second detection unit) detects the passage of the main stem 30, the excitation direction of the electromagnet 84 is reversed. Therefore, the main stem 30 can obtain a larger attractive force than the attractive force that the iron core 86 of the electromagnet 84 attracts the permanent magnet 40 when the electromagnet 84 is demagnetized. Thereby, the clip link mechanism 90 can obtain a larger auxiliary driving force than, for example, the first embodiment.

（第２の実施形態）
次に、図１４を用いて、第２の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｂについて説明する。図１４は、第２の実施形態の同時２軸延伸装置が備える第１の検出部と第２の検出部と電磁石の配置状態を示す概要図である。 (Second embodiment)
Next, the simultaneous biaxial stretching device 10b of the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 14 is a schematic view showing an arrangement state of a first detection unit, a second detection unit, and an electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the second embodiment.

図１４に示すように、同時２軸延伸装置１０ｂは、隣接するメインステム３０のクリップ間隔Ｈが等しい区間、即ち、シート状部材Ｓの縦延伸を行わない区間に、メインステム３０の通過を検出する光電センサ８０と近接センサ８２、および複数の電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）が、それぞれ設置される。また、同時２軸延伸装置１０ｂは、光電センサ８０と近接センサ８２の出力に基づいて、電磁石８４の励磁状態を制御する制御部８９ｂを備える。 As shown in FIG. 14, the simultaneous biaxial stretching device 10b detects the passage of the main stem 30 in a section where the clip intervals H of the adjacent main stems 30 are equal, that is, in a section where the sheet-shaped member S is not vertically stretched. A photoelectric sensor 80, a proximity sensor 82, and a plurality of electromagnets 84 (84a, 84b, 84c, 84d) are installed. Further, the simultaneous biaxial stretching device 10b includes a control unit 89b that controls the excitation state of the electromagnet 84 based on the outputs of the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82.

光電センサ８０および近接センサ８２の作用は、第１の実施形態で説明した通りである。そして、制御部８９ｂは、光電センサ８０または近接センサ８２がメインステム３０の通過を検出した際に、複数の電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）の励磁状態を同時に制御する。 The operation of the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82 is as described in the first embodiment. Then, when the photoelectric sensor 80 or the proximity sensor 82 detects the passage of the main stem 30, the control unit 89b simultaneously controls the excitation states of the plurality of electromagnets 84 (84a, 84b, 84c, 84d).

より具体的には、制御部８９ｂは、光電センサ８０（第１の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）の励磁状態を、永久磁石４０が電磁石８４から反発される状態（第１の状態）に制御する。また、制御部８９ｂは、近接センサ８２（第２の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）の励磁状態を、消磁状態、即ち永久磁石４０が電磁石８４（鉄心８６）に吸引される状態（第２の状態）に制御する。 More specifically, the control unit 89b permanently changes the excited state of the electromagnet 84 (84a, 84b, 84c, 84d) when the photoelectric sensor 80 (first detection unit) detects the passage of the main stem 30. The magnet 40 is controlled to be repelled from the electromagnet 84 (first state). Further, when the proximity sensor 82 (second detection unit) detects the passage of the main stem 30, the control unit 89b degausses the excited state of the electromagnets 84 (84a, 84b, 84c, 84d), that is, permanently. The magnet 40 is controlled to be attracted to the electromagnet 84 (iron core 86) (second state).

このように、第２の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｂの制御部８９ｂは、複数の電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）を同じタイミングで等しい励磁状態に制御する。したがって、クリップリンク機構９０は、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａに対して、より大きい補助駆動力を得る。 As described above, the control unit 89b of the simultaneous biaxial stretching device 10b of the second embodiment controls the plurality of electromagnets 84 (84a, 84b, 84c, 84d) to the same excitation state at the same timing. Therefore, the clip link mechanism 90 obtains a larger auxiliary driving force with respect to the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment.

以上説明したように、第２の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置１０ｂにおいて、制御部８９ｂは、一つの光電センサ８０（第１の検出部）が検出したメインステム３０（クリップリンク）の通過タイミングで、隣接するクリップ間隔Ｈが同一である区間に設置された複数の電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）の励磁状態を、同時に、永久磁石４０（磁性体）が電磁石８４から反発される状態（第１の状態）に制御する。また、制御部８９ｂは、一つの近接センサ８２（第２の検出部）が検出したメインステム３０の通過タイミングで、隣接するクリップ間隔Ｈが同一である区間に設置された複数の電磁石８４（８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ）の励磁状態を、同時に、永久磁石４０が電磁石８４に吸引される状態（第２の状態）に制御する。したがって、同時２軸延伸装置１０ｂは、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａに対して、より大きい補助駆動力を得ることができる。 As described above, in the simultaneous biaxial stretching device 10b of the modified example of the second embodiment, the control unit 89b is the main stem 30 (clip link) detected by one photoelectric sensor 80 (first detection unit). At the same time, the permanent magnet 40 (magnetic material) is excited from the electromagnets 84 (84a, 84b, 84c, 84d) installed in the section where the adjacent clip intervals H are the same. Control to the repulsive state (first state). Further, the control unit 89b has a plurality of electromagnets 84 (84a) installed in a section where the adjacent clip intervals H are the same at the passage timing of the main stem 30 detected by one proximity sensor 82 (second detection unit). , 84b, 84c, 84d), and at the same time, the permanent magnet 40 is controlled to be attracted to the electromagnet 84 (second state). Therefore, the simultaneous biaxial stretching device 10b can obtain a larger auxiliary driving force than the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment.

（第３の実施形態）
次に、図１５を用いて、第３の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｃについて説明する。図１５は、第３の実施形態の同時２軸延伸装置が備える第１の検出部と第２の検出部と電磁石の配置状態を示す概要図である。 (Third embodiment)
Next, the simultaneous biaxial stretching device 10c of the third embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a schematic view showing an arrangement state of a first detection unit, a second detection unit, and an electromagnet included in the simultaneous biaxial stretching device of the third embodiment.

図１５に示すように、同時２軸延伸装置１０ｃは、隣接するメインステム３０のクリップ間隔Ｈが異なる区間、即ち、シート状部材Ｓの縦延伸を行う区間に、メインステム３０の通過を検出する１組の光電センサ８０Ａ（投光部８０ａ－１，受光部８０ｂ－１）と１個の近接センサ８２（８２ａ）、および１個の電磁石８４（８４ａ）の組が複数組設置される。 As shown in FIG. 15, the simultaneous biaxial stretching device 10c detects the passage of the main stem 30 in the sections where the clip intervals H of the adjacent main stems 30 are different, that is, in the sections where the sheet-shaped member S is vertically stretched. A plurality of sets of one set of photoelectric sensors 80A (light emitting unit 80a-1, light receiving unit 80b-1), one proximity sensor 82 (82a), and one electromagnet 84 (84a) are installed.

より具体的には、図１５に示す同時２軸延伸装置１０ｃは、光電センサ８０と近接センサ８２と電磁石８４の組を４組備えている。 More specifically, the simultaneous biaxial stretching device 10c shown in FIG. 15 includes four sets of a photoelectric sensor 80, a proximity sensor 82, and an electromagnet 84.

即ち、同時２軸延伸装置１０ｃは、光電センサ８０Ａと近接センサ８２ａと電磁石８４ａの組を備える。また、同時２軸延伸装置１０ｃは、光電センサ８０Ｂ（投光部８０ａ－２，受光部８０ｂ－２）と近接センサ８２ｂと電磁石８４ｂの組を備える。また、同時２軸延伸装置１０ｃは、光電センサ８０Ｃ（投光部８０ａ－３，受光部８０ｂ－３）と近接センサ８２ｃと電磁石８４ｃの組を備える。そして、同時２軸延伸装置１０ｃは、光電センサ８０Ｄ（投光部８０ａ－４，受光部８０ｂ－４）と近接センサ８２ｄと電磁石８４ｄの組を備える。 That is, the simultaneous biaxial stretching device 10c includes a set of a photoelectric sensor 80A, a proximity sensor 82a, and an electromagnet 84a. Further, the simultaneous biaxial stretching device 10c includes a set of a photoelectric sensor 80B (light emitting unit 80a-2, light receiving unit 80b-2), a proximity sensor 82b, and an electromagnet 84b. Further, the simultaneous biaxial stretching device 10c includes a set of a photoelectric sensor 80C (light emitting unit 80a-3, light receiving unit 80b-3), a proximity sensor 82c, and an electromagnet 84c. The simultaneous biaxial stretching device 10c includes a set of a photoelectric sensor 80D (light emitting unit 80a-4, light receiving unit 80b-4), a proximity sensor 82d, and an electromagnet 84d.

光電センサ８０と近接センサ８２と電磁石８４の組は、予め決められた位置関係で設置されている。即ち、光電センサ８０Ａ（投光部８０ａ－１，受光部８０ｂ－１）は、電磁石８４ａから、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に距離Ｄ１ａ離れた位置に設置される。また近接センサ８２ａは、電磁石８４ａから、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に距離Ｄ２ａ離れた位置に設置される。 The pair of the photoelectric sensor 80, the proximity sensor 82, and the electromagnet 84 is installed in a predetermined positional relationship. That is, the photoelectric sensor 80A (light emitting unit 80a-1, light receiving unit 80b-1) is installed at a position separated from the electromagnet 84a on the upstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D1a. Further, the proximity sensor 82a is installed at a position separated from the electromagnet 84a on the downstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D2a.

また、光電センサ８０Ｂ（投光部８０ａ－２，受光部８０ｂ－２）は、電磁石８４ｂから、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に距離Ｄ１ｂ離れた位置に設置される。また近接センサ８２ｂは、電磁石８４ｂから、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に距離Ｄ２ｂ離れた位置に設置される。 Further, the photoelectric sensor 80B (light emitting unit 80a-2, light receiving unit 80b-2) is installed at a position separated from the electromagnet 84b on the upstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D1b. Further, the proximity sensor 82b is installed at a position separated from the electromagnet 84b on the downstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D2b.

そして、光電センサ８０Ｃ（投光部８０ａ－３，受光部８０ｂ－３）は、電磁石８４ｃから、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に距離Ｄ１ｃ離れた位置に設置される。また近接センサ８２ｃは、電磁石８４ｃから、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に距離Ｄ２ｃ離れた位置に設置される。 The photoelectric sensor 80C (light emitting unit 80a-3, light receiving unit 80b-3) is installed at a position separated from the electromagnet 84c on the upstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D1c. Further, the proximity sensor 82c is installed at a position separated from the electromagnet 84c on the downstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D2c.

さらに、光電センサ８０Ｄ（投光部８０ａ－４，受光部８０ｂ－４）は、電磁石８４ｄから、クリップリンク機構９０の移動方向の上流側に距離Ｄ１ｄ離れた位置に設置される。また近接センサ８２ｄは、電磁石８４ｄから、クリップリンク機構９０の移動方向の下流側に距離Ｄ２ｄ離れた位置に設置される。 Further, the photoelectric sensor 80D (light emitting unit 80a-4, light receiving unit 80b-4) is installed at a position separated from the electromagnet 84d on the upstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D1d. Further, the proximity sensor 82d is installed at a position separated from the electromagnet 84d on the downstream side in the moving direction of the clip link mechanism 90 by a distance D2d.

なお、図１５において、クリップリンク機構９０は、移動方向の下流側ほど、クリップ間隔が広くなっている。即ち、図１５において、クリップ間隔Ｈ１＜クリップ間隔Ｈ２＜クリップ間隔Ｈ３＜クリップ間隔Ｈ４＜クリップ間隔Ｈ５になっている。なお、各クリップ間隔は、基準レール１００とピッチ設定レール１２０との間隔に応じた値に設定される。 In FIG. 15, the clip link mechanism 90 has a wider clip interval toward the downstream side in the moving direction. That is, in FIG. 15, the clip interval H1 <clip interval H2 <clip interval H3 <clip interval H4 <clip interval H5. The clip spacing is set to a value corresponding to the spacing between the reference rail 100 and the pitch setting rail 120.

また、同時２軸延伸装置１０ｃは、光電センサ８０と近接センサ８２の出力に基づいて、電磁石８４の励磁状態を制御する制御部８９ｃ（非図示）を備える。 Further, the simultaneous biaxial stretching device 10c includes a control unit 89c (not shown) that controls the excitation state of the electromagnet 84 based on the outputs of the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82.

光電センサ８０および近接センサ８２の作用は、第１の実施形態で説明した通りである。そして、制御部８９ｃは、光電センサ８０または近接センサ８２がメインステム３０の通過を検出した際に、当該光電センサ８０または近接センサ８２と関連付けられた電磁石８４、即ち、光電センサ８０および近接センサ８２と組をなす電磁石８４の励磁状態を制御する。 The operation of the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82 is as described in the first embodiment. Then, when the photoelectric sensor 80 or the proximity sensor 82 detects the passage of the main stem 30, the control unit 89c receives the electromagnet 84 associated with the photoelectric sensor 80 or the proximity sensor 82, that is, the photoelectric sensor 80 and the proximity sensor 82. Controls the excitation state of the electromagnet 84 that forms a pair with.

より具体的には、制御部８９ｃは、光電センサ８０Ａ（第１の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４ａの励磁状態を、永久磁石４０と電磁石８４ａとの間に反発力が働く状態（第１の状態）に制御する。また、制御部８９ｃは、近接センサ８２ａ（第２の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を消磁状態、即ち永久磁石４０と電磁石８４ａ（鉄心８６）との間に吸引力が働く状態（第２の状態）に制御する。 More specifically, when the photoelectric sensor 80A (first detection unit) detects the passage of the main stem 30, the control unit 89c sets the excited state of the electromagnet 84a between the permanent magnet 40 and the electromagnet 84a. It is controlled to the state where the repulsive force works (first state). Further, when the proximity sensor 82a (second detection unit) detects the passage of the main stem 30, the control unit 89c degausses the excited state of the electromagnet 84, that is, the permanent magnet 40 and the electromagnet 84a (iron core 86). It is controlled to the state where the suction force works during the period (second state).

このように、第３の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｃの制御部８９ｃは、光電センサ８０Ａ，８０Ｂ，８０Ｃ，８０Ｄおよび近接センサ８２ａ，８２ｂ，８２ｃ，８２ｄと、それぞれ関連付けられた電磁石８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄの励磁状態をそれぞれ制御する。したがって、異なるクリップ間隔Ｈの区間にそれぞれ設置された光電センサと近接センサと電磁石の組によって、クリップリンク機構９０に対して補助駆動力を与えることができる。 As described above, the control unit 89c of the simultaneous biaxial stretching device 10c according to the third embodiment is associated with the photoelectric sensors 80A, 80B, 80C, 80D and the proximity sensors 82a, 82b, 82c, 82d, respectively. The excitation states of 84b, 84c, and 84d are controlled, respectively. Therefore, the auxiliary driving force can be applied to the clip link mechanism 90 by the pair of the photoelectric sensor, the proximity sensor, and the electromagnet installed in the sections having different clip intervals H.

以上説明したように、第３の実施形態の変形例の同時２軸延伸装置１０ｃにおいて、制御部８９ｃは、複数の光電センサ８０Ａ，８０Ｂ，８０Ｃ，８０Ｄ（第１の検出部）がそれぞれ検出したメインステム３０（クリップリンク）の通過タイミングで、各光電センサ８０Ａ，８０Ｂ，８０Ｃ，８０Ｄとそれぞれ関連付けられた、隣接するメインステム３０のクリップ間隔Ｈが異なる区間に設置された複数の電磁石８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄの励磁状態を、永久磁石４０が電磁石８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄから反発される状態（第１の状態）に制御する。また、制御部８９ｃは、複数の近接センサ８２ａ，８２ｂ，８２ｃ，８２ｄ（第２の検出部）がそれぞれ検出したメインステム３０の通過タイミングで、各近接センサ８２ａ，８２ｂ，８２ｃ，８２ｄとそれぞれ関連付けられた、隣接するメインステム３０のクリップ間隔Ｈが異なる区間に設置された複数の電磁石８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄの励磁状態を、消磁状態、即ち永久磁石４０と電磁石８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ（鉄心８６）との間に吸引力が働く状態（第２の状態）に制御する。したがって、クリップ間隔Ｈが異なる区間において、クリップリンク機構９０に対して補助駆動力を与えることができる。 As described above, in the simultaneous biaxial stretching device 10c of the modified example of the third embodiment, the control unit 89c is detected by a plurality of photoelectric sensors 80A, 80B, 80C, 80D (first detection unit), respectively. A plurality of electromagnets 84a, 84b installed in sections where the clip intervals H of adjacent main stems 30 associated with the photoelectric sensors 80A, 80B, 80C, 80D are different at the passing timing of the main stem 30 (clip link). The excited state of 84c, 84d is controlled to a state in which the permanent magnet 40 is repelled from the electromagnets 84a, 84b, 84c, 84d (first state). Further, the control unit 89c is associated with each proximity sensor 82a, 82b, 82c, 82d at the passing timing of the main stem 30 detected by the plurality of proximity sensors 82a, 82b, 82c, 82d (second detection unit), respectively. The excited state of the plurality of electromagnets 84a, 84b, 84c, 84d installed in the sections where the clip intervals H of the adjacent main stems 30 are different is degaussed, that is, the permanent magnet 40 and the electromagnets 84a, 84b, 84c, 84d. It is controlled to a state (second state) in which a suction force acts between the (iron core 86) and the (iron core 86). Therefore, an auxiliary driving force can be applied to the clip link mechanism 90 in the sections where the clip intervals H are different.

（第４の実施形態）
次に、第４の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｄ（非図示）について説明する。第４の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａは、第１の実施形態の同時２軸延伸装置１０ａにおいて、各メインステム３０の端部に設置された永久磁石４０を、一時磁石４１（非図示）としたものである。なお、一時磁石４１とは、磁場の中にあるときのみ磁気を帯びる物質である。具体的には、鉄、ニッケル等の磁石に引きつけられる物質が一時磁石４１である。 (Fourth Embodiment)
Next, the simultaneous biaxial stretching device 10d (not shown) of the fourth embodiment will be described. The simultaneous biaxial stretching device 10a of the fourth embodiment uses the permanent magnet 40 installed at the end of each main stem 30 in the simultaneous biaxial stretching device 10a of the first embodiment as a temporary magnet 41 (not shown). ). The temporary magnet 41 is a substance that is magnetized only when it is in a magnetic field. Specifically, the substance attracted to the magnet such as iron and nickel is the temporary magnet 41.

同時２軸延伸装置１０ｄは、同時２軸延伸装置１０ａ（図５参照）において、永久磁石４０を一時磁石４１に置き換えた構成を有する。そして、制御部８９ａの機能は、同時２軸延伸装置１０ａと同じである。 The simultaneous biaxial stretching device 10d has a configuration in which the permanent magnet 40 is replaced with a temporary magnet 41 in the simultaneous biaxial stretching device 10a (see FIG. 5). The function of the control unit 89a is the same as that of the simultaneous biaxial stretching device 10a.

具体的には、制御部８９ａは、光電センサ８０（第１の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、消磁状態（第１の状態）に制御する。また、制御部８９ａは、近接センサ８２（第２の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、一時磁石４１が電磁石８４に吸引される状態（第２の状態）に制御する。即ち、本実施形態の場合、制御部８９ａは、一時磁石４１と電磁石８４との間に力が働かない第１の状態と、一時磁石４１と電磁石８４との間に吸引力が働く、第１の状態とは異なる第２の状態とを交互に切り替える。 Specifically, the control unit 89a controls the excited state of the electromagnet 84 to the degaussed state (first state) when the photoelectric sensor 80 (first detection unit) detects the passage of the main stem 30. .. Further, in the control unit 89a, when the proximity sensor 82 (second detection unit) detects the passage of the main stem 30, the excitation state of the electromagnet 84 is attracted to the temporary magnet 41 by the electromagnet 84 (second detection unit). State). That is, in the case of the present embodiment, the control unit 89a has a first state in which no force acts between the temporary magnet 41 and the electromagnet 84, and a first state in which an attractive force acts between the temporary magnet 41 and the electromagnet 84. The second state different from the state of is switched alternately.

なお、第１の状態、即ち電磁石８４が消磁された状態にあるとき、一時磁石４１と電磁石８４との間には力が働かないため、クリップリンク機構９０は補助駆動力を得ない。しかし、第２の状態に切り替わったタイミングで、一時磁石４１には電磁石８４に吸引される吸引力が働くため、クリップリンク機構９０は、図５のＹ軸正方向に向かって移動する補助駆動力を得る。 In the first state, that is, when the electromagnet 84 is demagnetized, no force acts between the temporary magnet 41 and the electromagnet 84, so that the clip link mechanism 90 does not obtain an auxiliary driving force. However, at the timing of switching to the second state, the temporary magnet 41 is attracted by the electromagnet 84, so that the clip link mechanism 90 has an auxiliary driving force that moves in the positive direction of the Y axis in FIG. To get.

以上説明したように、第４の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｄ（非図示）において、メインステム３０（クリップリンク）の端部に設置される磁性体は、一時磁石４１である。したがって、一時磁石４１と電磁石８４との間に吸引力を発生させることができるため、この吸引力によって、クリップリンク機構９０は補助駆動力を得ることができる。 As described above, in the simultaneous biaxial stretching device 10d (not shown) of the fourth embodiment, the magnetic material installed at the end of the main stem 30 (clip link) is a temporary magnet 41. Therefore, since an attractive force can be generated between the temporary magnet 41 and the electromagnet 84, the clip link mechanism 90 can obtain an auxiliary driving force by this attractive force.

また、第４の実施形態の同時２軸延伸装置１０ｄ（非図示）において、制御部８９ａは、光電センサ８０（第１の検出部）がメインステム３０（クリップリンク）の通過を検出した場合に、一時磁石４１（磁性体）と電磁石８４との間に力が働かない第１の状態に制御する。そして、近接センサ８２（第２の検出部）がメインステム３０の通過を検出した場合に、電磁石８４の励磁状態を、一時磁石４１が電磁石８４に吸引される第２の状態に制御する。したがって、クリップリンク機構９０を移動させる補助駆動力が得られるため、クリップリンク機構９０の走行負荷を低減することができる。 Further, in the simultaneous biaxial stretching device 10d (not shown) of the fourth embodiment, the control unit 89a detects the passage of the main stem 30 (clip link) by the photoelectric sensor 80 (first detection unit). It is controlled to the first state where no force acts between the temporary magnet 41 (magnetic material) and the electromagnet 84. Then, when the proximity sensor 82 (second detection unit) detects the passage of the main stem 30, the excitation state of the electromagnet 84 is controlled to the second state in which the temporary magnet 41 is attracted to the electromagnet 84. Therefore, since the auxiliary driving force for moving the clip link mechanism 90 is obtained, the traveling load of the clip link mechanism 90 can be reduced.

１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ…同時２軸延伸装置、１０Ｌ…左側無端ループ、１０Ｒ…右側無端ループ、１１，１２…駆動用スプロケット、２０…クリップ、２８…駆動ローラ、３０，３０ａ，３０ｂ…メインステム（クリップリンク）、３１…長孔、３２ａ…第１の軸部材、３２ｂ…第２の軸部材、３２ｃ…第３の軸部材、３３…スライダ、３４ａ…第１のリンク部材、３４ｂ…第２のリンク部材、３５ａ…第３の軸部材、３５ｂ…第４の軸部材、３６ａ，３６ｂ…案内ローラ、３７ａ，３７ｂ…自重受ローラ、４０…永久磁石（磁性体）、４１…一時磁石（磁性体）、８０，８０Ａ，８０Ｂ，８０Ｃ，８０Ｄ…光電センサ（第１の検出部，第２の検出部）、８０ａ，８０ａ－１，８０ａ－２，８０ａ－３，８０ａ－４…投光部、８０ｂ，８０ｂ－１，８０ｂ－２，８０ｂ－３，８０ｂ－４…受光部、８１，８１ａ，８１ｂ，８３，８５…ブラケット、８２，８２ａ，８２ｂ，８２ｃ，８２ｄ…近接センサ（第１の検出部，第２の検出部）、８４，８４ａ，８４ｂ，８４ｃ，８４ｄ…電磁石、８６…鉄心、８７…コイル、８８…直流電源、８９ａ，８９ｂ，８９ｃ…制御部、９０…クリップリンク機構、１００…基準レール、１１０…基台、１２０…ピッチ設定レール、Ｄ１，Ｄ１ａ，Ｄ１ｂ，Ｄ１ｃ，Ｄ１ｄ，Ｄ３…距離（第１の距離）、Ｄ２，Ｄ２ａ，Ｄ２ｂ，Ｄ２ｃ，Ｄ２ｄ，Ｄ４…距離（第２の距離）、ΔＤ１，ΔＤ２…距離、Ｈ，Ｈ１，Ｈ２，Ｈ３，Ｈ４，Ｈ５…クリップ間隔、Ｓ…シート状部材（延伸対象物） 10a, 10b, 10c, 10d ... Simultaneous biaxial stretching device, 10L ... Left endless loop, 10R ... Right endless loop, 11,12 ... Drive sprocket, 20 ... Clip, 28 ... Drive roller, 30, 30a, 30b ... Main Stem (clip link), 31 ... long hole, 32a ... first shaft member, 32b ... second shaft member, 32c ... third shaft member, 33 ... slider, 34a ... first link member, 34b ... first 2 link member, 35a ... 3rd shaft member, 35b ... 4th shaft member, 36a, 36b ... guide roller, 37a, 37b ... self-weight receiving roller, 40 ... permanent magnet (magnetic material), 41 ... temporary magnet ( Magnetic material), 80, 80A, 80B, 80C, 80D ... Photoelectric sensor (first detection unit, second detection unit), 80a, 80a-1, 80a-2, 80a-3, 80a-4 ... Projection Unit, 80b, 80b-1, 80b-2, 80b-3, 80b-4 ... Light receiving part, 81, 81a, 81b, 83, 85 ... Bracket, 82, 82a, 82b, 82c, 82d ... Proximity sensor (1st Detection unit, second detection unit), 84, 84a, 84b, 84c, 84d ... Electromagnet, 86 ... Iron core, 87 ... Coil, 88 ... DC power supply, 89a, 89b, 89c ... Control unit, 90 ... Clip link mechanism , 100 ... reference rail, 110 ... base, 120 ... pitch setting rail, D1, D1a, D1b, D1c, D1d, D3 ... distance (first distance), D2, D2a, D2b, D2c, D2d, D4 ... distance (Second distance), ΔD1, ΔD2 ... Distance, H, H1, H2, H3, H4, H5 ... Clip spacing, S ... Sheet-like member (stretching object)

Claims (9)

延伸対象物の幅方向両端をクリップで把持する、連接した一対の把持機構を、一対の無端ループで形成された移動経路にガイドされたローラによって移動させながら、対向及び隣接する前記クリップの間隔を変更して、前記延伸対象物を、前記幅方向及び前記移動経路方向に延伸させるクリップリンクを備える同時２軸延伸装置において、
前記クリップリンクの端部に設置された磁性体と、
前記クリップリンクが移動する際に、前記クリップリンクの端部と対向する位置に設置された電磁石と、
前記クリップリンクが、前記電磁石から第１の距離の位置を通過したことを検出する第１の検出部と、
前記クリップリンクが、前記電磁石から第２の距離の位置を通過したことを検出する第２の検出部と、
前記第１の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体が、前記電磁石から反発される、または前記磁性体と前記電磁石との間に力が働かない第１の状態に制御して、前記第２の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体が、前記電磁石に吸引される第２の状態に制御する制御部と、を備える、
同時２軸延伸装置。 While moving a pair of connected gripping mechanisms that grip both ends of the object to be stretched in the width direction by a roller guided by a movement path formed by a pair of endless loops, the distance between the opposing and adjacent clips is set. In a simultaneous biaxial stretching device provided with a clip link for stretching the stretched object in the width direction and the movement path direction.
With the magnetic material installed at the end of the clip link,
When the clip link moves, an electromagnet installed at a position facing the end of the clip link and
A first detection unit that detects that the clip link has passed a position at a first distance from the electromagnet, and a first detection unit.
A second detection unit that detects that the clip link has passed a position at a second distance from the electromagnet, and a second detection unit.
When the first detection unit detects the passage of the clip link, the excited state of the electromagnet is such that the magnetic material installed in the clip link in the vicinity of the electromagnet is repelled by the electromagnet, or the electromagnet is said to be repelled. When the second detection unit detects the passage of the clip link by controlling the first state in which no force acts between the magnetic material and the electromagnet, the excited state of the electromagnet is set to the excited state of the electromagnet. A control unit for controlling a second state in which the magnetic material installed in a nearby clip link is attracted to the electromagnet is provided.
Simultaneous biaxial stretching device. 前記制御部は、一つの前記第１の検出部が検出した前記クリップリンクの通過タイミングで、隣接するクリップの間隔が同一である区間に設置された複数の前記電磁石の励磁状態を、同時に、前記第１の状態に制御して、
一つの前記第２の検出部が検出した前記クリップリンクの通過タイミングで、隣接するクリップの間隔が同一である区間に設置された複数の前記電磁石の励磁状態を、同時に、前記第２の状態に制御する、
請求項１に記載の同時２軸延伸装置。 At the same time, the control unit controls the excitation state of the plurality of electromagnets installed in the sections where the intervals between adjacent clips are the same at the passage timing of the clip link detected by the first detection unit. Controlling to the first state,
At the passing timing of the clip link detected by one of the second detection units, the excitation states of the plurality of electromagnets installed in the sections where the intervals of adjacent clips are the same are simultaneously changed to the second state. Control,
The simultaneous biaxial stretching device according to claim 1. 前記制御部は、複数の前記第１の検出部がそれぞれ検出した前記クリップリンクの通過タイミングで、隣接するクリップの間隔が異なる区間に設置された複数の前記電磁石のうち、前記第１の検出部と対応する電磁石の励磁状態を、前記第１の状態に制御して、
複数の前記第２の検出部がそれぞれ検出した前記クリップリンクの通過タイミングで、隣接するクリップの間隔が異なる区間に設置された複数の前記電磁石のうち、前記第２の検出部と対応する電磁石の励磁状態を、前記第２の状態に制御する、
請求項１に記載の同時２軸延伸装置。 The control unit is the first detection unit among the plurality of electromagnets installed in sections where the intervals between adjacent clips are different at the passage timing of the clip link detected by the plurality of first detection units. By controlling the excitation state of the electromagnet corresponding to the above to the first state,
Of the plurality of electromagnets installed in sections where the intervals between adjacent clips are different at the timing of passing the clip link detected by each of the plurality of second detection units, the electromagnet corresponding to the second detection unit The excitation state is controlled to the second state.
The simultaneous biaxial stretching device according to claim 1. 前記磁性体は、永久磁石である、
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の同時２軸延伸装置。 The magnetic material is a permanent magnet.
The simultaneous biaxial stretching device according to any one of claims 1 to 3. 前記制御部は、前記第１の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体が、前記電磁石に吸引されるように制御して、前記第２の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石を消磁状態に制御する、
請求項４に記載の同時２軸延伸装置。 When the first detection unit detects the passage of the clip link, the control unit attracts the excited state of the electromagnet to the electromagnet by the magnetic material installed in the clip link in the vicinity of the electromagnet. When the second detection unit detects the passage of the clip link, the electromagnet is controlled to be in a demagnetized state.
The simultaneous biaxial stretching device according to claim 4. 前記制御部は、前記第１の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合と、前記第２の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合とで、前記電磁石の励磁方向を逆転させる、
請求項４に記載の同時２軸延伸装置。 The control unit reverses the excitation direction of the electromagnet depending on whether the first detection unit detects the passage of the clip link or the second detection unit detects the passage of the clip link. ,
The simultaneous biaxial stretching device according to claim 4. 前記磁性体は、一時磁石である、
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の同時２軸延伸装置。 The magnetic material is a temporary magnet.
The simultaneous biaxial stretching device according to any one of claims 1 to 3. 前記制御部は、前記第１の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体と前記電磁石との間に力が働かない第１の状態に制御して、前記第２の検出部が前記クリップリンクの通過を検出した場合に、前記電磁石の励磁状態を、前記電磁石の近傍のクリップリンクに設置された前記磁性体が前記電磁石に吸引される第２の状態に制御する、
請求項７に記載の同時２軸延伸装置。 When the first detection unit detects the passage of the clip link, the control unit sets the excited state of the electromagnet between the magnetic body installed in the clip link in the vicinity of the electromagnet and the electromagnet. When the second detection unit detects the passage of the clip link by controlling the first state in which no force acts on the electromagnet, the excited state of the electromagnet is installed in the clip link in the vicinity of the electromagnet. Controlling the second state in which the magnetic material is attracted to the electromagnet,
The simultaneous biaxial stretching device according to claim 7. 前記第１の検出部および前記第２の検出部は、光電センサまたは近接センサである、
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の同時２軸延伸装置。 The first detection unit and the second detection unit are photoelectric sensors or proximity sensors.
The simultaneous biaxial stretching device according to any one of claims 1 to 8.
JP2020152534A 2020-09-11 2020-09-11 Simultaneous biaxial stretching device Pending JP2022046901A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020152534A JP2022046901A (en) 2020-09-11 2020-09-11 Simultaneous biaxial stretching device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020152534A JP2022046901A (en) 2020-09-11 2020-09-11 Simultaneous biaxial stretching device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022046901A true JP2022046901A (en) 2022-03-24

Family

ID=80780060

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020152534A Pending JP2022046901A (en) 2020-09-11 2020-09-11 Simultaneous biaxial stretching device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2022046901A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960002519A (en) Electronic alignment and injection device
US9701487B2 (en) Apparatus for transporting containers having a magnetic drive
KR100699271B1 (en) Transporting appratus
CN106576400B (en) Induction heating device for metal strip
JP2008517571A (en) Sliding door with transport system and / or drive system with magnet rows
JP7214314B2 (en) Linear transfer device
ATE442694T1 (en) DRIVE UNIT
WO2016186141A1 (en) Clip-type stretching apparatus
TW201300303A (en) Apparatus for transferring substrates
JP2022046901A (en) Simultaneous biaxial stretching device
KR100653814B1 (en) Sheet handling apparatus
KR20170140750A (en) Magnetic substance holding device for holding magnetic substance having thin plate shape and transferring device for transferring non-magnetic substance having thin plate shape with the same
DE502005001875D1 (en) Gripping and clamping device with magnetic drive for moving a finger
JPH06227649A (en) Changeover device for sorting conveyor
JP3821101B2 (en) Linear drive device, control method thereof, and XY table
US20030132143A1 (en) Sortation system magnetic diverter
KR20180126040A (en) Motor structure
KR102179894B1 (en) Magnetic conveyor system
TW487674B (en) Handrail drive for an escalator or a moving sidewalk, escalator or moving sidewalk equipped with the handrail drive, and handrail
JP2014165993A (en) Movement mechanism
KR102552246B1 (en) Conveying system using linear motor and Operating method thereof
JPH0436915Y2 (en)
JP4455140B2 (en) Article sorting conveyor
JP6121955B2 (en) Equipment for post-printing processing
US20230361663A1 (en) Permanent magnet arrangement of a shuttle