JP2021529330A - 表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスク - Google Patents
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Abstract
Description
前記表示基板の表示領域は、
第1表示サブ領域と、
均等に分布する複数のサブ画素が設置された第2表示サブ領域と、を備え、
前記第1表示サブ領域内の画素分布密度が前記第2表示サブ領域内の画素分布密度より大きい。
同一前記第3画素ユニットにおいて、前記第1サブ画素及び前記第3サブ画素は、同一行に隣接して設置され、前記第2サブ画素は、前記第1サブ画素と前記第3サブ画素が位置する行に隣接する行にあるようにしてもよい。
行方向に沿って隣接する第1画素ユニットと第2画素ユニットについて、前記第1画素ユニットにおける第2サブ画素と前記第2画素ユニットにおける第2サブ画素が直接隣接しないようにしてもよい。
列方向に沿って隣接する第1画素ユニットと第2画素ユニットを1つの画素群とし、前記画素群では、前記第1画素ユニットにおける前記第2サブ画素と前記第2画素ユニットにおける前記第2サブ画素が同一列にあるようにしてもよい。
前記第1表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第3サブ画素の間の間隔が、前記第2表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第3サブ画素の間の間隔以下であるようにしてもよい。
前記第2表示サブ領域内の1つの前記第1サブ画素の発光面積が前記第1表示サブ領域内の1つの前記第1サブ画素の発光面積にほぼ等しく、
前記第2表示サブ領域内の1つの前記第3サブ画素の発光面積が前記第1表示サブ領域内の1つの前記第3サブ画素の発光面積にほぼ等しいようにしてもよい。
前記第2表示サブ領域内の前記第3サブ画素と前記第1表示サブ領域内の前記第3サブ画素の形状がほぼ同じであるようにしてもよい。
前記第2表示サブ領域内の前記第3サブ画素の行方向の分布密度が、前記第1表示サブ領域内の前記第3サブ画素の行方向の分布密度の1/2であり、
前記第2表示サブ領域内の前記第2サブ画素の行方向の分布密度が、前記第1表示サブ領域内の前記第2サブ画素の行方向の分布密度の1/4であるようにしてもよい。
原画像データを受信するステップと、
前記第1表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、
前記第2表示サブ領域内の画素について、前記第1表示サブ領域の画素分布密度と前記第2表示サブ領域の画素分布密度との比に基づいて、原画像データにおいて1つの前記画素に対応する画素の数Nを決定し、原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素のうちの1つの画素又は複数の画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、を含む上記表示基板の表示方法をさらに提供する。
前記第2表示領域内の各前記画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたn*n個の画素それぞれに対応するようにしてもよい。
第1表示サブ領域A1内の列方向に沿って隣接する2つの第3サブ画素3の間の間隔が、第2表示サブ領域A2内の列方向に沿って隣接する2つの第3サブ画素3の間の間隔に等しく、
第1表示サブ領域A1内には、列方向に沿って隣接する2つの第2サブ画素2を1つの第2サブ画素群200とし、第1表示サブ領域A1内の列方向に沿って隣接する2つの第2サブ画素群200の間の間隔が、第2表示サブ領域A2内の列方向に沿って隣接する2つの第2サブ画素2の間の間隔に等しいようにしてもよい。
原画像データを受信するステップ901(S901)と、
第1表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示し、第2表示サブ領域内の画素について、第1表示サブ領域の画素分布密度と第2表示サブ領域の画素分布密度との比に基づいて、原画像データにおいて1つの画素に対応する画素の数Nを決定し、原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素のうちの1つの画素又は複数の画素のグレースケール値に基づいて表示するステップ902(S902)と、を含む。
第2表示領域内の各画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたn*n個の画素それぞれに対応するようにしてもよい。
Claims (49)
- 表示基板であって、
前記表示基板の表示領域は、
第1表示サブ領域と、
均等に分布する複数のサブ画素が設置された第2表示サブ領域と、を備え、
前記第1表示サブ領域内の画素分布密度が前記第2表示サブ領域内の画素分布密度より大きい表示基板。 - 前記第2表示サブ領域の少なくとも一部の辺が前記表示領域の少なくとも一部の辺と重なり、且つ、前記第2表示サブ領域の残りの部分が前記第1表示サブ領域で囲まれている請求項1に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域と前記第2表示サブ領域は、行方向に配列され、又は前記第1表示サブ領域と前記第2表示サブ領域は、列方向に沿って配列される請求項2に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域は、前記第2表示サブ領域を囲んで設置される請求項1に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域は、円形状、水滴形状、矩形状及び台形状のうちの1種である請求項1に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域と前記第2表示サブ領域は、連続した表示領域を形成し、且つ前記表示領域の形状が略矩形状である請求項1に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域は、前記表示領域の隅部に位置する請求項6に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域の面積が前記第1表示サブ領域の面積より小さい請求項1に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内には、マトリクス状に配列された複数の第3画素ユニットを含み、前記第3画素ユニットは、第1サブ画素、第2サブ画素及び第3サブ画素を含み、
同一前記第3画素ユニットにおいて、前記第1サブ画素及び前記第3サブ画素は、同一行に隣接して設置され、前記第2サブ画素は、前記第1サブ画素と前記第3サブ画素が位置する行に隣接する行にある請求項1ないし請求項8のいずれか1項に記載の表示基板。 - 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素、前記第2サブ画素及び前記第3サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素の中心が均等に分布する請求項9に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素、前記第2サブ画素及び前記第3サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列される請求項9に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素、前記第2サブ画素及び前記第3サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、隣接する行において食い違い状に配列され、且つ同一行における隣接する2つの前記サブ画素の中心は、それぞれ隣接する行における最も近い同じ前記サブ画素の中心とは、間隔が等しい請求項11に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素、前記第2サブ画素及び前記第3サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、隣接する列において食い違い状に配列され、且つ同一列における隣接する2つの前記サブ画素の中心それぞれは、隣接する列における最も近い同じ前記サブ画素の中心との間隔が等しい請求項11に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内には、同一列にある前記第3画素ユニットのサブ画素の配列方式が同じであるか、又は反対している請求項9に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の行方向に沿って隣接する2つの第3画素ユニットについて、一方の第3画素ユニットにおける第1サブ画素、第3サブ画素、及び他方の第3画素ユニットにおける第2サブ画素は、同一行にある請求項14に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の同一前記第3画素ユニットにおいて、前記第1サブ画素の中心と前記第3サブ画素の中心との接続線における前記第2サブ画素の中心の正投影が、前記第1サブ画素の中心と前記第3サブ画素の中心との間にある請求項9に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の行方向に沿って隣接する第3画素ユニットについて、同じ色のサブ画素が隣接しない請求項16に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内には、1つの前記第1サブ画素、1つの前記第2サブ画素及び1つの前記第3サブ画素の発光面積がほぼ同じである請求項9ないし請求項17のいずれか1項に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内には、1つの前記第1サブ画素、1つの前記第2サブ画素及び1つの前記第3サブ画素の形状がほぼ一致する請求項9ないし請求項17のいずれか1項に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域は、隣接して設置された複数の第1画素ユニット及び第2画素ユニットを含み、前記第1画素ユニットは、第1サブ画素と第2サブ画素を含み、前記第2画素ユニットは、第3サブ画素と第2サブ画素を含む請求項9ないし請求項19のいずれか1項に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域内には、前記第1画素ユニットと前記第2画素ユニットが列方向に交互して配列され、前記第1画素ユニットと前記第2画素ユニットが行方向に交互して配列される請求項20に記載の表示基板。
- 前記第1画素ユニットにおいて、第2サブ画素と第1サブ画素が同一行に配列され、前記第2画素ユニットにおいて、第2サブ画素と第3サブ画素が同一行に配列され、
行方向に沿って隣接する第1画素ユニットと第2画素ユニットについて、前記第1画素ユニットにおける第2サブ画素と前記第2画素ユニットにおける第2サブ画素が直接隣接しない請求項21に記載の表示基板。 - 前記第1表示サブ領域内には、1つの前記第1サブ画素の発光面積、1つの前記第2サブ画素の発光面積及び1つの前記第3サブ画素の発光面積がほぼ同じである請求項22に記載の表示基板。
- 同一列にある各前記第1画素ユニット及び各前記第2画素ユニットについて、各前記第1画素ユニットにおける第2サブ画素と各前記第2画素ユニットにおける第2サブ画素は、同一列にある請求項23に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域内には、前記第1サブ画素の形状が矩形状である請求項22に記載の表示基板。
- 前記第1画素ユニットにおいて、前記第2サブ画素と前記第1サブ画素が、同一行に配列され、前記第2画素ユニットにおいて、前記第2サブ画素と前記第3サブ画素が、行をずらして配列され且つ列をずらして配列され、且つ、行方向に沿って隣接する前記第1画素ユニット及び前記第2画素ユニットにおいて、2つの前記第2サブ画素が、隣接せず、
列方向に沿って隣接する第1画素ユニットと第2画素ユニットを1つの画素群とし、前記画素群では、前記第1画素ユニットにおける前記第2サブ画素と前記第2画素ユニットにおける前記第2サブ画素が同一列にある請求項21に記載の表示基板。 - 前記画素群では、同一前記画素群には、2つの前記第2サブ画素は、列方向に沿って隣接して設置され、且つ2つの前記第2サブ画素は、行方向に対して対称的に設置される請求項26に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域内には、列方向に沿って隣接する2つの前記第2サブ画素を1つの第2サブ画素群とし、前記第1表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第2サブ画素群の間の間隔が、前記第2表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第2サブ画素の間の間隔にほぼ等しい請求項26に記載の表示基板。
- 同一前記画素群には、前記第1サブ画素と前記第3サブ画素の形状が一致し、且つ列方向に沿って隣接する2つの前記第2サブ画素の組み合わせの形状が前記第1サブ画素の形状と一致する請求項26ないし請求項28のいずれか1項に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域内には、前記第1サブ画素と前記第3サブ画素の形状がいずれも六角形であり、前記第2サブ画素の形状が五角形である請求項29に記載の表示基板。
- 前記第1表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第1サブ画素の間の間隔が、前記第2表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第1サブ画素の間の間隔以下であり、
前記第1表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第3サブ画素の間の間隔が、前記第2表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する2つの前記第3サブ画素の間の間隔以下である請求項20ないし請求項28のいずれか1項に記載の表示基板。 - 前記第2表示サブ領域内の1つの前記第2サブ画素の発光面積が前記第1表示サブ領域内の1つの前記第2サブ画素の発光面積以上であり、
前記第2表示サブ領域内の1つの前記第1サブ画素の発光面積が前記第1表示サブ領域内の1つの前記第1サブ画素の発光面積にほぼ等しく、
前記第2表示サブ領域内の1つの前記第3サブ画素の発光面積が前記第1表示サブ領域内の1つの前記第3サブ画素の発光面積にほぼ等しい請求項20ないし請求項28のいずれか1項に記載の表示基板。 - 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素と前記第1表示サブ領域内の前記第1サブ画素の形状がほぼ同じであり、
前記第2表示サブ領域内の前記第3サブ画素と前記第1表示サブ領域内の前記第3サブ画素の形状がほぼ同じである請求項20ないし請求項28のいずれか1項に記載の表示基板。 - 前記第1表示サブ領域内には、1つの前記第2サブ画素の発光面積が1つの前記第1サブ画素の発光面積以下であり、1つの前記第2サブ画素の発光面積が1つの前記第3サブ画素の発光面積以下である請求項20に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内のサブ画素は、前記第1表示サブ領域内のサブ画素の一部とは、同一行にある請求項20ないし請求項34のいずれか1項に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内のサブ画素は、前記第1表示サブ領域内のサブ画素の一部とは、同一列にある請求項20ないし請求項34のいずれか1項に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第2サブ画素と前記第1表示サブ領域内の前記第2サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにある請求項35又は請求項36に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素と前記第1表示サブ領域内の前記第1サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにある請求項35又は請求項36に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第3サブ画素と前記第1表示サブ領域内の前記第3サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにある請求項35又は請求項36に記載の表示基板。
- 前記第2表示サブ領域内の前記第1サブ画素の行方向の分布密度が、前記第1表示サブ領域内の第1サブ画素の行方向の分布密度の1/2であり、
前記第2表示サブ領域内の前記第3サブ画素の行方向の分布密度が、前記第1表示サブ領域内の前記第3サブ画素の行方向の分布密度の1/2であり、
前記第2表示サブ領域内の前記第2サブ画素の行方向の分布密度が、前記第1表示サブ領域内の前記第2サブ画素の行方向の分布密度の1/4である請求項35又は請求項36に記載の表示基板。 - 表示装置であって、
請求項1ないし請求項40のいずれか1項に記載の表示基板を備える表示装置。 - 請求項20ないし請求項40のいずれか1項に記載の表示基板を製造するように構成される高精度メタルマスクであって、
前記第1サブ画素、第2サブ画素及び第3サブ画素のうちの1種のサブ画素の形状及び位置に対応する複数の開口領域を含む高精度メタルマスク。 - 請求項1ないし請求項40のいずれか1項に記載の表示基板の表示方法であって、
原画像データを受信するステップと、
前記第1表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、
前記第2表示サブ領域内の画素について、前記第1表示サブ領域の画素分布密度と前記第2表示サブ領域の画素分布密度との比に基づいて、原画像データにおいて1つの前記画素に対応する画素の数Nを決定し、原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素のうちの1つの画素又は複数の画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、を含む表示方法。 - 前記第2表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素のうちの複数の画素の平均グレースケール値に基づいて表示する請求項43に記載の表示方法。
- 前記第2表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素のうち、輝度が最も高い画素のグレースケール値に基づいて表示する請求項43に記載の表示方法。
- 前記第2表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素のうち、輝度の値が中央値である画素のグレースケール値に基づいて表示する請求項43に記載の表示方法。
- 前記第2表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するN個の画素及び前記第2表示サブ領域内の該画素と前記原画像データのN個の画素との相対位置関係に基づいて表示する請求項43に記載の表示方法。
- 前記第1表示サブ領域の画素分布密度と前記第2表示サブ領域の画素分布密度との比がnであり、nは1より大きい整数である場合、
前記第2表示領域内の各前記画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたn*n個の画素それぞれに対応する請求項43に記載の表示方法。 - 前記第2表示領域内の各前記画素は、それぞれ前記原画像データにおいて前記画素に対応するn*n個の画素のうち同じ位置にある1つの画素を参照画素とし、前記第2表示領域内の各前記画素は、それぞれ、それに対応する参照画素のグレースケール値に基づいて表示する請求項48に記載の表示方法。
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