JP2021529330A - 表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスク - Google Patents

表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスク Download PDF

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Abstract

本開示で開示されている表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスクにおいて、表示基板の表示領域は、第１表示サブ領域と第２表示サブ領域を備える。第２表示サブ領域内には、均等に分布する複数のサブ画素が設置され、第１表示サブ領域内の画素分布密度が第２表示サブ領域内の画素分布密度より大きい。したがって、カメラ、センサ、マイクなどの素子を第２表示サブ領域に設置することができる。

Description

本願は、２０１８年６月２９日に中国特許庁に提出した、出願番号が２０１８１０７１４６６８．０、発明の名称が「表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスク」の中国特許出願の優先権を主張し、その全内容が引用により本願に組み込まれる。
本開示は、表示技術分野に関し、特に表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスクに関する。
表示技術の発展に伴い、全画面は、大きな画面占有率、極狭額縁を有するため、一般的な表示画面に比べて、視聴者の視覚効果を大幅に向上させるので、広く注目されている。現在、全画面を用いた携帯電話などの表示装置では、自分撮り、ビデオ通話及び指紋認識の機能を実現するために、表示装置の正面にフロントカメラ、マイク、指紋認識領域又は物理ボタンなどが設置されるのが一般的である。しかしながら、これら欠かせない機能性素子を設置することが画面占有率向上の制約因素の１つとなる。
本開示の実施例による表示基板であって、
前記表示基板の表示領域は、
第１表示サブ領域と、
均等に分布する複数のサブ画素が設置された第２表示サブ領域と、を備え、
前記第１表示サブ領域内の画素分布密度が前記第２表示サブ領域内の画素分布密度より大きい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域の少なくとも一部の辺が前記表示領域の少なくとも一部の辺と重なり、且つ、前記第２表示サブ領域の残りの部分が前記第１表示サブ領域で囲まれているようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域と前記第２表示サブ領域は、行方向に配列され、又は前記第１表示サブ領域と前記第２表示サブ領域は、列方向に沿って配列されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域は、前記第２表示サブ領域を囲んで設置されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域は、円形状、水滴形状、矩形状及び台形状のうちの１種であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域と前記第２表示サブ領域は、連続した表示領域を形成し、且つ前記表示領域の形状が略矩形状であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域は、前記表示領域の隅部に位置するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域の面積が前記第１表示サブ領域の面積より小さいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内には、マトリクス状に配列された複数の第３画素ユニットを含み、前記第３画素ユニットは、第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素を含み、
同一前記第３画素ユニットにおいて、前記第１サブ画素及び前記第３サブ画素は、同一行に隣接して設置され、前記第２サブ画素は、前記第１サブ画素と前記第３サブ画素が位置する行に隣接する行にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素の中心が均等に分布するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、隣接する行において食い違い状に配列され、且つ同一行における隣接する２つの前記サブ画素の中心は、それぞれ隣接する行における最も近い同じ前記サブ画素の中心とは、間隔が等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、隣接する列において食い違い状に配列され、且つ同一列における隣接する２つの前記サブ画素の中心それぞれは、隣接する列における最も近い同じ前記サブ画素の中心との間隔が等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内には、同一列にある前記第３画素ユニットのサブ画素の配列方式が同じであるか、又は反対しているようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の行方向に沿って隣接する２つの第３画素ユニットについて、一方の第３画素ユニットにおける第１サブ画素、第３サブ画素、及び他方の第３画素ユニットにおける第２サブ画素は、同一行にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の同一前記第３画素ユニットにおいて、前記第１サブ画素の中心と前記第３サブ画素の中心との接続線における前記第２サブ画素の中心の正投影が、前記第１サブ画素の中心と前記第３サブ画素の中心との間にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の行方向に沿って隣接する第３画素ユニットについて、同じ色のサブ画素が隣接しないようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内には、１つの前記第１サブ画素、１つの前記第２サブ画素及び１つの前記第３サブ画素の発光面積がほぼ同じであるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内には、１つの前記第１サブ画素、１つの前記第２サブ画素及び１つの前記第３サブ画素の形状がほぼ一致するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域は、隣接して設置された複数の第１画素ユニット及び第２画素ユニットを含み、前記第１画素ユニットは、第１サブ画素と第２サブ画素を含み、前記第２画素ユニットは、第３サブ画素と第２サブ画素を含むようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内には、前記第１画素ユニットと前記第２画素ユニットが列方向に交互して配列され、前記第１画素ユニットと前記第２画素ユニットが行方向に交互して配列されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１画素ユニットにおいて、第２サブ画素と第１サブ画素が同一行に配列され、前記第２画素ユニットにおいて、第２サブ画素と第３サブ画素が同一行に配列され、
行方向に沿って隣接する第１画素ユニットと第２画素ユニットについて、前記第１画素ユニットにおける第２サブ画素と前記第２画素ユニットにおける第２サブ画素が直接隣接しないようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内には、１つの前記第１サブ画素の発光面積、１つの前記第２サブ画素の発光面積及び１つの前記第３サブ画素の発光面積がほぼ同じであるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、同一列にある各前記第１画素ユニット及び各前記第２画素ユニットについて、各前記第１画素ユニットにおける第２サブ画素と各前記第２画素ユニットにおける第２サブ画素は、同一列にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内には、前記第１サブ画素の形状が矩形状であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１画素ユニットにおいて、前記第２サブ画素と前記第１サブ画素が、同一行に配列され、前記第２画素ユニットにおいて、前記第２サブ画素と前記第３サブ画素が、行をずらして配列され且つ列をずらして配列され、且つ、行方向に沿って隣接する前記第１画素ユニット及び前記第２画素ユニットにおいて、２つの前記第２サブ画素が、隣接せず、
列方向に沿って隣接する第１画素ユニットと第２画素ユニットを１つの画素群とし、前記画素群では、前記第１画素ユニットにおける前記第２サブ画素と前記第２画素ユニットにおける前記第２サブ画素が同一列にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記画素群では、同一前記画素群には、２つの前記第２サブ画素は、列方向に沿って隣接して設置され、且つ２つの前記第２サブ画素は、行方向に対して対称的に設置されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内には、列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素を１つの第２サブ画素群とし、前記第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素群の間の間隔が、前記第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素の間の間隔にほぼ等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、同一前記画素群には、前記第１サブ画素と前記第３サブ画素の形状が一致し、且つ列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素の組み合わせの形状が前記第１サブ画素の形状と一致するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内には、前記第１サブ画素と前記第３サブ画素の形状がいずれも六角形であり、前記第２サブ画素の形状が五角形であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第１サブ画素の間の間隔が、前記第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第１サブ画素の間の間隔以下であり、
前記第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第３サブ画素の間の間隔が、前記第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第３サブ画素の間の間隔以下であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の１つの前記第２サブ画素の発光面積が前記第１表示サブ領域内の１つの前記第２サブ画素の発光面積以上であり、
前記第２表示サブ領域内の１つの前記第１サブ画素の発光面積が前記第１表示サブ領域内の１つの前記第１サブ画素の発光面積にほぼ等しく、
前記第２表示サブ領域内の１つの前記第３サブ画素の発光面積が前記第１表示サブ領域内の１つの前記第３サブ画素の発光面積にほぼ等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第１サブ画素の形状がほぼ同じであり、
前記第２表示サブ領域内の前記第３サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第３サブ画素の形状がほぼ同じであるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域内には、１つの前記第２サブ画素の発光面積が１つの前記第１サブ画素の発光面積以下であり、１つの前記第２サブ画素の発光面積が１つの前記第３サブ画素の発光面積以下であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内のサブ画素は、前記第１表示サブ領域内のサブ画素の一部とは、同一行にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内のサブ画素は、前記第１表示サブ領域内のサブ画素の一部とは、同一列にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第２サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第２サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第１サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第３サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第３サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも１つにあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素の行方向の分布密度が、前記第１表示サブ領域内の第１サブ画素の行方向の分布密度の１／２であり、
前記第２表示サブ領域内の前記第３サブ画素の行方向の分布密度が、前記第１表示サブ領域内の前記第３サブ画素の行方向の分布密度の１／２であり、
前記第２表示サブ領域内の前記第２サブ画素の行方向の分布密度が、前記第１表示サブ領域内の前記第２サブ画素の行方向の分布密度の１／４であるようにしてもよい。
それに対応して、本開示の実施例は、上記表示基板を備える表示装置をさらに提供する。
それに対応して、本開示の実施例は、上記表示基板を製造するように構成される高精度メタルマスクであって、前記第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素のうちの1種のサブ画素の形状及び位置に対応する複数の開口領域を含む高精度メタルマスクをさらに提供する。
それに対応して、本開示の実施例は、
原画像データを受信するステップと、
前記第１表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、
前記第２表示サブ領域内の画素について、前記第１表示サブ領域の画素分布密度と前記第２表示サブ領域の画素分布密度との比に基づいて、原画像データにおいて１つの前記画素に対応する画素の数Ｎを決定し、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの１つの画素又は複数の画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、を含む上記表示基板の表示方法をさらに提供する。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの複数の画素の平均グレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうち、輝度が最も高い画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうち、輝度の値が中央値である画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素及び前記第２表示サブ領域内の該画素と前記原画像データのＮ個の画素との相対位置関係に基づいて表示するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第１表示サブ領域の画素分布密度と前記第２表示サブ領域の画素分布密度との比がｎであり、ｎは１より大きい整数である場合、
前記第２表示領域内の各前記画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたｎ＊ｎ個の画素それぞれに対応するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例では、前記第２表示領域内の各前記画素は、それぞれ前記原画像データにおいて前記画素に対応するｎ＊ｎ個の画素のうち同じ位置にある１つの画素を参照画素とし、前記第２表示領域内の各前記画素は、それぞれ、それに対応する参照画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
本開示の実施例による表示基板の構造模式図１である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図２である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図３である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図４である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図５である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図６である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図７である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図８である。 本開示の実施例による表示基板の構造模式図９である。 本開示の実施例による表示基板における第１表示サブ領域及び第２表示サブ領域の局所構造模式図１である。 本開示の実施例による表示基板における第１表示サブ領域及び第２表示サブ領域の局所構造模式図２である。 本開示の実施例による表示基板における第１表示サブ領域及び第２表示サブ領域の部分構造模式図３である。 本開示の実施例による表示基板における第１表示サブ領域及び第２表示サブ領域の局所構造模式図４である。 本開示の実施例による表示基板における第１表示サブ領域及び第２表示サブ領域の局所構造模式図５である。 本開示の実施例による表示基板における第１表示サブ領域及び第２表示サブ領域の局所構造模式図６である。 本開示の実施例による高精度メタルマスクの構造模式図である。 本開示の実施例による表示方法の模式的フローチャートである。 本開示の実施例による表示方法において、原画像画素データにおいて第２表示領域内の各サブ画素に対応する画素の模式図である。 本開示の実施例による表示方法において、原画像画素データにおいて第２表示領域内の各サブ画素に対応する参照画素の模式図１である。 本開示の実施例による表示方法において、原画像画素データにおいて第２表示領域内の各サブ画素に対応する参照画素の模式図２である。 本開示の実施例による表示方法において、原画像画素データにおいて第２表示領域内の各サブ画素に対応する参照画素の模式図３である。 本開示の実施例による表示方法において、原画像画素データにおいて第２表示領域内の各サブ画素に対応する参照画素の模式図４である。
本開示の実施例は、表示基板、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスクを提供する。本開示の目的、技術案及び利点をより明瞭にするために、以下、図面を参照しながら本開示をさらに詳細に説明するが、明らかなように、説明する実施例は、本開示の実施例の一部に過ぎず、すべての実施例ではない。本開示における実施例に基づいて、当業者が創造的な努力を必要とせずに想到しうるほかのすべての実施例は、本開示の特許範囲に属する。
図面における各部材の形状及びサイズが実際な割合ではなく、本開示の内容を模式的に説明するためのものに過ぎない。
本開示の実施例による表示基板では、図１ａ〜図１ｉに示すように、表示基板の表示領域は、第１表示サブ領域Ａ１と第２表示サブ領域Ａ２を備え、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、均等に分布する複数のサブ画素が設置されている。第１表示サブ領域Ａ１内の画素分布密度が第２表示サブ領域Ａ２内の画素分布密度より大きい。
本開示の実施例による表示基板では、表示領域は、画素分布密度が大きな（即ち解像度が高い）第１表示サブ領域と画素分布密度が小さな（即ち解像度が低い）第２表示サブ領域として設置されている。第２表示サブ領域内の画素分布密度が小さいため、カメラ、センサ、マイクなどの素子を第２表示サブ領域に設置することができ、つまり、局所の画素分布密度を低下させることで画面の光透過率を向上させる方式によって、表示基板の画面占有率を向上させる。且つ、第２表示サブ領域内のサブ画素が均等に分布するため、第２表示サブ領域内の輝度の分布均一性が確保できる。
なお、画素分布密度とは、単位面積に均等に設置された画素の個数をいう。単位面積に設置された画素の個数が多いと、画素分布密度が大きくなり、解像度が高くなる。逆には、単位面積に設置された画素の個数が少ないと、画素分布密度が小さくなり、解像度が低くなる。
さらに、本開示の実施例では、画素分布密度の計算式は、具体的には、
Figure 2021529330
（式中、ρは、画素分布密度を表し、ｘは、行方向における表示画素の数を表し、ｙは、列方向における表示画素の数を表し、Ｓは、画面面積を表す。）である。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域は、１つ又は複数であってもよい。且つ、第１表示サブ領域は、連続した領域であってもよく、第１表示サブ領域は、連続していない領域であってもよく、実際の適用場面に応じて設計すればよく、ここで限定しない。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、図１ａ〜図１ｇに示すように、第２表示サブ領域Ａ２の少なくとも一部の辺が表示領域の少なくとも一部の辺と重なり、且つ、第２表示サブ領域Ａ２の残りの部分が第１表示サブ領域Ａ１で囲まれている。このようにして、第２表示サブ領域Ａ２を表示領域の縁部に設置することができる。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、図１ｈ及び図１ｉに示すように、第１表示サブ領域Ａ１は、第２表示サブ領域Ａ２を囲んで設置される。このようにして、第２表示サブ領域Ａ２を表示領域の内部に設置することができる。
さらに、特定の実施形態では、第２表示サブ領域Ａ２の形状を規則的な形状に設置してもよく、例えば、図１ａ〜図１ｃに示すように、第２表示サブ領域Ａ２を矩形状に設置してもよい。該矩形状の頂角が直角であってもよく、アーチ状の角であってもよい。図１ｄに示すように、第２表示サブ領域Ａ２を台形状に設置してもよい。該台形状の頂角が一般的な夾角であってもよく、アーチ状の角であってもよい。図１ｈ及び図１ｉに示すように、第２表示サブ領域Ａ２を円形状に設置してもよい。言うまでもないが、第２表示サブ領域Ａ２の形状を非規則的な形状に設置してもよい。例えば、図１ｅに示すように、第２表示サブ領域Ａ２を水滴形状に設置してもよい。勿論、実際に適用する場合、第２表示サブ領域の形状を第２表示サブ領域に設置された素子の形状に応じて設計してもよく、ここで限定しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図１ａ〜図１ｉに示すように、第１表示サブ領域Ａ１と第２表示サブ領域Ａ２は、連続した表示領域を形成し、且つ表示領域の形状が略矩形状であるようにしてもよい。このようにして、第１表示サブ領域Ａ１と第２表示サブ領域Ａ２を補完的な図形に形成することにより、連続した表示領域が形成される。さらに、表示領域の頂角がすべて直角である場合、表示領域が矩形状となる。或いは、表示領域の頂角がアーチ状の角である場合、表示領域の形状が略矩形状となる。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、第１表示サブ領域と第２表示サブ領域との相対位置関係及び形状について限定がなく、表示基板の画面設計に応じて設置してもよい。携帯電話を例に挙げると、図１ａに示すように、第２表示サブ領域Ａ２が第１表示サブ領域Ａ１の左上隅に設置されてもよい。図１ｂに示すように、第２表示サブ領域Ａ２が第１表示サブ領域Ａ１の右上隅に設置される。図１ｃ〜図１ｅに示すように、第２表示サブ領域Ａ２が第１表示サブ領域Ａ１の中央よりも上側に設置される。図１ｆに示すように、第１表示サブ領域Ａ１と第２表示サブ領域Ａ２が行方向に沿って配列されてもよい。ここで、第２表示サブ領域Ａ２が第１表示サブ領域Ａ１の上側又は下側に位置するようにしてもよい。このようにして、第２表示サブ領域Ａ２が位置する領域には、センサ、例えば、顔認識を行うセンサ（例えば、赤外線センサなど）が設置されてもよい。図１ｇに示すように、第１表示サブ領域Ａ１と第２表示サブ領域Ａ２が列方向に沿って配列される。ここで、第２表示サブ領域Ａ２が第１表示サブ領域Ａ１の左側又は右側に位置するようにしてもよい。このようにして、第２表示サブ領域Ａ２が位置する領域には、センサ、例えば、顔認識を行うセンサ（例えば、赤外線センサなど）が設置されてもよい。図１ｈに示すように、第２表示サブ領域Ａ２が第１表示サブ領域Ａ１の中央に設置される。図１ｉに示すように、第２表示サブ領域Ａ２が表示領域の隅部（例えば、左上隅）に設置される。勿論、実際に適用する場合、第２表示サブ領域Ａ２の位置は、具体的には、実際の適用場面に応じて設計してもよく、ここで限定しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域の画素分布密度が、一般に、第１表示サブ領域の画素分布密度の１／２〜１／８に設定される。特定の実施形態では、第２表示サブ領域内の画素分布密度が第２表示サブ領域に設定されるべき素子及び表示のニーズに応じて决定され、ここで限定しない。例えば、第２表示サブ領域にカメラが設置される場合を例に挙げると、画素分布密度が大きすぎると、良好な表示効果を確保できるが、撮像の明瞭さに悪影響を及ぼし、画素分布密度が小さすぎると、高い撮像の明瞭さを確保できるが、表示を損なう。
特定の実施形態では、従来の表示基板により達成可能な解像度でも、一般には、第２表示サブ領域の画素分布密度が第１表示サブ領域の画素分布密度の１／４以上である。例えば、第２表示サブ領域の画素分布密度が第１表示サブ領域の画素分布密度の約１／２、１／３又は１／４である。勿論、表示基板の解像度をより高くすることができると、第２表示サブ領域の画素分布密度と第１表示サブ領域の画素分布密度との比を小さく設定することができる。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、図１ａ〜図１ｉに示すように、第２表示サブ領域Ａ２の面積を第１表示サブ領域Ａ１の面積より小さくすることができる。勿論、実際に適用する場合、第２表示サブ領域の面積は、第２表示サブ領域に設置された素子に応じて設計してもよく、ここで限定しない。
一般に、表示領域には、画素ユニットが設置され、画素ユニットには、複数のサブ画素が設置され、本開示の実施例における画素とは、１つの画素点を独立して表示可能なサブ画素の組み合わせであってもよく、例えば、１つの画素とは、１つの画素ユニットであってもよい。本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２は、複数の第１サブ画素１、複数の第２サブ画素２及び複数の第３サブ画素３を含み、同じ色のサブ画素の中心が均等に分布するようにしてもよい。即ち、第１サブ画素１の中心が均等に分布し、第２サブ画素２が均等に分布し、第３サブ画素２が均等に分布する。表示の均一性が確保される。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、行方向において同じ色のサブ画素は、等間隔で配列され、列方向において同じ色のサブ画素は、等間隔で配列されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図５、図７に示すように、隣接する行にある同じ色のサブ画素は、食い違い状に配列され、且つ同一行にある隣接する２つの同じ色のサブ画素の中心は、隣接する行においてそれに隣接する同じ色のサブ画素の中心とは、間隔が等しいようにしてもよい。図４を例に挙げると、第２表示サブ領域Ａ２内には、２行目の１番目の第１サブ画素１は、１行目の１番目の第１サブ画素１と２番目の第１サブ画素１との中心の接続線にある。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図５、図７に示すように、隣接する列にある同じ色のサブ画素は、食い違い状に配列され、且つ同一列にある隣接する２つの同じ色のサブ画素の中心は、隣接する列においてそれに隣接する同じ色のサブ画素の中心とは、間隔が等しいようにしてもよい。図４を例に挙げると、第２表示サブ領域Ａ２内には、１列目の１番目の第１サブ画素１は、２列目の１番目の第１サブ画素１と２番目の第１サブ画素１との中心の接続線にある。
なお、プロセス条件による制限又はほかの因素、例えば、配線又はビアの設置のため、偏差が生じることがあり、したがって、各サブ画素の位置及び相対位置関係が上記条件を大体満足できれば、本開示の特許範囲に属する。
本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、第１サブ画素１、第２サブ画素２及び第３サブ画素３が設置され、第１サブ画素１は、第２表示サブ領域Ａ２に均等に分布し、第２サブ画素２は、第２表示サブ領域Ａ２に均等に分布し、第３サブ画素３は、第２表示サブ領域Ａ２に均等に分布するようにしてもよい。
本開示の実施例による表示基板において、図３〜図７に示すように、行方向において、第１サブ画素１、第２サブ画素２及び第３サブ画素３は、均等に分布するようにしてもよい。
本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、マトリクス状に配列された複数の第３画素ユニット３０を含み、第３画素ユニット３０は、第１サブ画素１、第２サブ画素２及び第３サブ画素３を含み、同一第３画素ユニット３０において、第１サブ画素１及び第３サブ画素３は、同一行に隣接して設置され、第２サブ画素２は、第１サブ画素１と第３サブ画素３が位置する行に隣接する行にあるようにしてもよい。このようにして、第２表示サブ領域Ａ２内には、第３画素ユニット３０における３個のサブ画素は、三角形状に配列される。１行目の第３画素ユニット３０を例に挙げると、該第３画素ユニット３０における第１サブ画素１及び第３サブ画素３は、サブ画素行のうちの１行目にあり、第２サブ画素２は、サブ画素行のうちの２行目にある。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、サブ画素の中心が均等に分布するようにしてもよい。例えば、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１の中心が均等に分布する。第２表示サブ領域Ａ２内の第２サブ画素２の中心が均等に分布する。第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３の中心が均等に分布する。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、サブ画素は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列されるようにしてもよい。例えば、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列される。第２表示サブ領域Ａ２内の第２サブ画素２は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列される。第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列される。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、サブ画素は、隣接する行において食い違い状に配列され、且つ同一行における隣接する２つの前記サブ画素の中心は、それぞれ隣接する行における最も近い同じ前記サブ画素の中心とは、間隔が等しいようにしてもよい。例えば、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１は、隣接する行において食い違い状に配列され、且つ同一行における隣接する２つの第１サブ画素１の中心は、それぞれ隣接する行における最も近い同じ第１サブ画素１の中心とは、間隔が等しい。残りは同様であるため、ここで詳しく説明しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、サブ画素は、隣接する列において食い違い状に配列され、且つ同一列における隣接する２つのサブ画素の中心は、それぞれ隣接する列における最も近い同じサブ画素の中心とは、間隔が等しいようにしてもよい。例えば、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１は、隣接する列において食い違い状に配列され、且つ同一列における隣接する２つの第１サブ画素１の中心は、それぞれ隣接する列における最も近い同じ第１サブ画素１の中心とは、間隔が等しい。残りは同様であるため、ここで詳しく説明しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２、図３及び図５〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、同一列にある第３画素ユニット３０のサブ画素の配列方式が同じであるようにしてもよい。それによって、列方向において、各列にある第３画素ユニット３０の配列方式が同じであり、表示の均一性が確保される。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、同一列にある隣接する２つの第３画素ユニット３０のサブ画素の配列方式が反対しているようにしてもよい。同一列にある１行目の第３画素ユニット３０及び２行目の第３画素ユニット３０を例に挙げると、１行目の第３画素ユニット３０は、第３サブ画素３、第１サブ画素１及び第２サブ画素２の順で三角形を構成する。２行目の第３画素ユニット３０は、第１サブ画素１、第３サブ画素３及び第２サブ画素２の順で三角形を構成する。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、第３画素ユニット３０において、第２サブ画素２と第１サブ画素１の中心の間の間隔が、第２サブ画素２と第３サブ画素３の中心の間の間隔に等しいようにしてもよい。即ち、第３画素ユニット３０において、第２サブ画素２の中心、第１サブ画素１の中心及び第３サブ画素３の中心は、二等辺三角形を構成する。それによって、第３画素ユニット３０の画素の発光中心が二等辺三角形の中心にある。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の行方向に沿って隣接する２つの第３画素ユニット３０について、一方の第３画素ユニット３０における第１サブ画素１、第３サブ画素３及び他方の第３画素ユニット３０における第２サブ画素２は、同一行にあるようにしてもよい。このようにして、表示する際に、第２表示サブ領域Ａ２内の画素の数が第３画素ユニット３０の数に等しい。即ち、第２表示サブ領域Ａ２内の画素の物理的解像度がその表示解像度である。且つ、第２表示サブ領域Ａ２内には、第３画素ユニット３０において、３個のサブ画素は、三角形状に配列され、且つ行方向に沿って隣接する２つの第３画素ユニット３０のうち、一方は、逆三角形であり、他方は、通常の三角形であり、それによって、第２表示サブ領域Ａ２内には、一部の行にあるサブ画素の数が多いが、別の一部の行にあるサブ画素の数が少ないことを回避し、表示のムラを防止する。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図３〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２における各サブ画素は、均等に配列され、チェッカーボード状に配列されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の同一第３画素ユニット３０において、第１サブ画素１の中心と第３サブ画素３の中心の間の接続線における第２サブ画素２の中心の正投影が、第１サブ画素１の中心と第３サブ画素３の中心との間にあるようにしてもよい。例えば、第１サブ画素１の中心と第３サブ画素３の中心との間の接続線Ｌ１における第２サブ画素２の中心の正投影が、接続線Ｌ１と直線Ｌ２との交差点にある。このようにして、第３画素ユニット３０における第２サブ画素２の中心と第１サブ画素１の中心との間の間隔が、第２サブ画素２の中心と第３サブ画素３の中心との間の間隔に等しくなり、それによりこの３個のサブ画素が二等辺三角形状に配列され、第２表示サブ領域Ａ２に縦方向の明縞や暗縞が生じることを回避する。
特定の実施形態では、第２サブ画素の中心と第１サブ画素の中心との間の間隔及び第２サブ画素の中心と第３サブ画素の中心との間の間隔が完全に同じではない可能性があり、実際のプロセスでは、プロセス条件による制限又はほかの因素、例えば、配線又はビアの設置のため、偏差が生じることがあり、したがって、各サブ画素の形状、位置及び相対位置関係が上記条件を大体満足できれば、本開示の特許範囲に属する。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図５、図７に示すように、行方向に沿って隣接する第３画素ユニット３０において、同じ色のサブ画素が隣接しないようにしてもよい。即ち、行方向に沿って隣接する２つの第３画素ユニット３０において、一方の第３画素ユニット３０における第１サブ画素１と他方の第３画素ユニット３０における第１サブ画素１は、隣接しない。このようにして、第２表示サブ領域Ａ２内には、隣接する２列のサブ画素の色が同様であることによる色偏りの現象を回避する。勿論、図６に示すように、行方向に沿って隣接する第３画素ユニット３０において、同じ色のサブ画素は隣接してもよい。即ち、行方向に沿って隣接する２つの第３画素ユニット３０において、一方の第３画素ユニット３０における第３サブ画素３と他方の第３画素ユニット３０における第３サブ画素３は、隣接する。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、１つの第１サブ画素１、１つの第２サブ画素２及び１つの第３サブ画素３の発光面積がほぼ同じであるようにしてもよい。このようにして、発光を均一にすることができる。勿論、特定の実施形態では、異なるサブ画素の発光効率が異なるため、第２表示サブ領域Ａ２内には、第１サブ画素１、第２サブ画素２及び第３サブ画素３の発光面積が異なってもよく、ここで限定しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内には、１つの第１サブ画素１、１つの第２サブ画素２及び１つの第３サブ画素３の形状がほぼ一致するようにしてもよい。このようにして、プロセスの難しさが低下できる。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１は、隣接して設置された複数の第１画素ユニット１０及び第２画素ユニット２０を含み、第１画素ユニット１０は、第１サブ画素１と第２サブ画素２を含み、第２画素ユニット２０は、第３サブ画素３と第２サブ画素２を含むようにしてもよい。表示する際に、第１表示サブ領域Ａ１内の画素の数が第１画素ユニット１０の数と第２画素ユニット２０の数との和に等しい。即ち、第１表示サブ領域Ａ１内の画素配列がＰｅｎｔｉｌｅ配列であり、表示する際に、画素ユニットは、隣接する画素ユニットにおけるサブ画素を利用して、物理的解像度よりも高い解像度を実現できる。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示パネルにおいて、２つの画素ユニットが隣接するとは、該２つの画素ユニットの間にほかの画素ユニットが存在しないことをいう。２つのサブ画素が隣接して設置されるとは、該２つのサブ画素の間にほかのサブ画素が存在しないことをいう。
なお、本開示の実施例による表示パネルにおいて、表示サブ領域の縁部の空間が制限されるので、第１表示サブ領域内のサブ画素の配置及び第２表示サブ領域内のサブ画素の配置は、主に表示サブ領域の内部のことを意味し、表示サブ領域の縁部では、一部のサブ画素の配置がほかの領域と異なる可能性があり、ここで限定しない。
特定の実施形態では、第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素は、一般に、それぞれ赤色サブ画素、緑色サブ画素及び青色サブ画素のうちの1種である。本開示の実施例による表示基板において、第２サブ画素は、緑色サブ画素であり、第１サブ画素は、赤色又は青色サブ画素であり、第３サブ画素は、青色又は赤色サブ画素であるようにしてもよい。
なお、本開示の実施例による表示パネルでは、サブ画素の中心とは、サブ画素の発光領域の中心である。有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）表示パネルを例に挙げると、サブ画素は、一般に、陽極層、発光層及び陰極層から構成される積層構造を含み、表示する際に、該積層構造に対応する発光領域が該サブ画素の発光領域となる。このようにして、発光領域の占める面積を発光面積とすることができる。勿論、発光面積は、例えば、画素画定層により限定された開口領域の占める面積としてもよく、ここで限定しない。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第１画素ユニット１０及び第２画素ユニット２０は、任意のＰｅｎｔｉｌｅ配列方式で配置されてもよく、ここで限定しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第１画素ユニット１０と第２画素ユニット２０が列方向に交互して配列され、第１画素ユニット１０と第２画素ユニット２０が行方向に交互して配列されるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２及び図３に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第１画素ユニット１０において、第２サブ画素２と第１サブ画素１が同一行に配列され、第２画素ユニット２０において、第２サブ画素２と第３サブ画素３が同一行に配列されるようにしてもよい。且つ、行方向に沿って隣接する第１画素ユニット１０及び第２画素ユニット２０について、第１画素ユニット１０における第２サブ画素２と第２画素ユニット２０における第２サブ画素２は、隣接しない。例えば、行方向に沿って隣接する第１画素ユニット１０及び第２画素ユニット２０について、第１画素ユニット１０における第２サブ画素２と第２画素ユニット２０における第２サブ画素との間には第３サブ画素３が挟まれている。勿論、上記実施形態は、ほかの実施形態を取ってもよく、ここで詳しく説明しない。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２及び図３に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、１つの第１サブ画素１の発光面積、１つの第２サブ画素２の発光面積及び１つの第３サブ画素３の発光面積がほぼ同じであるようにしてもよい。
さらに、本開示の実施例による表示基板において、図２及び図３に示すように、同一列における各第１画素ユニット１０及び各第２画素ユニット２０について、各第１画素ユニット１０における第２サブ画素２と各第２画素ユニット２０における第２サブ画素２は、同一列にある。例えば、１列目を例に挙げると、各第１画素ユニット１０における第２サブ画素２と各第２画素ユニット２０における第２サブ画素２は、同一列にある。
さらに、本開示の実施例による表示基板において、図２及び図３に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、１つの第１サブ画素１の形状、１つの第２サブ画素２の形状及び１つの第３サブ画素３の形状がほぼ同じであってもよい。第１表示サブ領域Ａ１内には、第１サブ画素１の形状は、矩形状であるようにしてもよい。第１表示サブ領域Ａ１内には、第２サブ画素２の形状は、矩形状であるようにしてもよい。第１表示サブ領域Ａ１内には、第３サブ画素３の形状は、矩形状であるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第１画素ユニット１０において、第２サブ画素２と第１サブ画素１が同一行に配列され、第２画素ユニット２０において、第２サブ画素２と第３サブ画素３が行をずらして配列され且つ列をずらして配列されるようにしてもよい。且つ、行方向に沿って隣接する第１画素ユニット１０及び第２画素ユニット２０において、２つの第２サブ画素２は、隣接しない。列方向に沿って隣接する第１画素ユニット１０及び第２画素ユニット２０は、１つの画素群１００であり、同一画素群１００内には、第１画素ユニット１０における第２サブ画素２と第２画素ユニット２０における第２サブ画素２は、同一列にある。即ち、隣接する２行の画素ユニットは、列方向において半分の列だけずらしている。
さらに、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、同一画素群１００には、２つの第２サブ画素２は、列方向に沿って隣接して設置され、且つ２つの第２サブ画素２は、行方向に対して対称的となり、即ち、同一画素群１００における２つの第２サブ画素２は、ミラーリングして設置される。さらに、第１表示サブ領域Ａ１内には、第２サブ画素２が緑色サブ画素である場合、２つの第２サブ画素２の発光面積が１つの第１サブ画素１の発光面積より小さく、且つ２つの第２サブ画素２の発光面積が１つの第３サブ画素３の面積より小さく、それは、緑色サブ画素の発光効率がほかの色のサブ画素の発光効率より高いからである。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素２を１つの第２サブ画素群２００とし、第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素群２００の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素２の間の間隔に等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、同一画素群１００には、第１サブ画素１と第３サブ画素３の形状が一致し、且つ列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素２の組み合わせの形状が第１サブ画素１の形状と一致するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第１サブ画素１と第３サブ画素３の形状がいずれも六角形であり、第２サブ画素２の形状が五角形であるようにしてもよい。このようにして、列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素２を組み合わせた後の形状が１つの六角形となるようにしてもよい。
具体的には、本開示の実施例による表示基板において、第１表示サブ領域内には、第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素の形状について限定がなく、規則的な形状としてもよいし、非規則的な形状としてもよい。特定の実施形態では、一般に、プロセスの実現しやすさから、規則的な形状が好適である。
具体的には、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内には、第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素の形状について限定がなく、規則的な形状としてもよいし、非規則的な形状としてもよい。特定の実施形態では、一般に、プロセスの実現しやすさから、規則的な形状が好適である。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素の間の間隔が、第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素の間の間隔以下であるようにしてもよい。第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素の間の間隔が、第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素の間の間隔以下である。例えば、図２、図３及び図５〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素１の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素１の間の間隔にほぼ等しい。第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素３の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素３の間の間隔にほぼ等しい。図４に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素１の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素１の間の間隔より小さい。第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素３の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素３の間の間隔より小さい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の１つの第２サブ画素の発光面積が、第１表示サブ領域内の１つの第２サブ画素の発光面積以上であり、第２表示サブ領域内の１つの第１サブ画素の発光面積が、第１表示サブ領域内の１つの第１サブ画素の発光面積にほぼ等しく、第２表示サブ領域内の１つの第３サブ画素の発光面積が、第１表示サブ領域内の１つの第３サブ画素の発光面積にほぼ等しいようにしてもよい。例えば、図２及び図３に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の１つの第２サブ画素２の発光面積が、第１表示サブ領域Ａ１内の１つの第２サブ画素２の発光面積にほぼ等しく、第２表示サブ領域Ａ２内の１つの第１サブ画素１の発光面積が、第１表示サブ領域Ａ１内の１つの第１サブ画素１の発光面積にほぼ等しく、第２表示サブ領域Ａ２内の１つの第３サブ画素３の発光面積が、第１表示サブ領域Ａ１内の１つの第３サブ画素３の発光面積にほぼ等しい。図４〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の１つの第２サブ画素２の発光面積が、第１表示サブ領域Ａ１内の１つの第２サブ画素２の発光面積より大きく、第２表示サブ領域Ａ２内の１つの第１サブ画素１の発光面積が、第１表示サブ領域Ａ１内の１つの第１サブ画素１の発光面積にほぼ等しく、第２表示サブ領域Ａ２内の１つの第３サブ画素３の発光面積が、第１表示サブ領域Ａ１内の１つの第３サブ画素３の発光面積にほぼ等しい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１の形状がほぼ同じであり、第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３と第１表示サブ領域Ａ１内の第３サブ画素３の形状がほぼ同じであるようにしてもよい。このようにして、プロセスの難しさが低下できる。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、１つの第１サブ画素１の発光面積が、１つの第３サブ画素３の発光面積にほぼ等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第１表示サブ領域内には、１つの第２サブ画素の発光面積が、１つの第１サブ画素の発光面積以下であり、１つの第２サブ画素の発光面積が、１つの第３サブ画素の発光面積以下であるようにしてもよい。例えば、図２及び図３に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、１つの第２サブ画素２の発光面積が、１つの第１サブ画素１の発光面積にほぼ等しく、１つの第２サブ画素２の発光面積が、１つの第３サブ画素３の発光面積にほぼ等しい。図４〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、１つの第２サブ画素２の発光面積が、１つの第１サブ画素１の発光面積より小さく、１つの第２サブ画素２の発光面積が、１つの第３サブ画素３の発光面積より小さい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図２及び図３に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内のサブ画素は、第１表示サブ領域Ａ１内のサブ画素の一部とは、同一行にあるようにしてもよい。即ち、第２表示サブ領域Ａ２内のサブ画素が、行方向において第１表示サブ領域Ａ１内のサブ画素とは行をずらして設置されるのではなく、それに対応することに相当し、それにより、第２表示サブ領域Ａ２内のサブ画素と第１表示サブ領域Ａ１内のサブ画素が、行方向において一致性を保持することを確保し、表示基板の配線に有利である。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内のサブ画素は、第１表示サブ領域Ａ１内のサブ画素の一部とは、同一列にあるようにしてもよい。即ち、第２表示サブ領域Ａ２内のサブ画素が、列方向において第１表示サブ領域Ａ１内のサブ画素とは列をずらして設置されるのではなく、それに対応することに相当し、それにより、第２表示サブ領域Ａ２内のサブ画素と第１表示サブ領域Ａ１内のサブ画素が列方向において一致性を保持することを確保し、表示基板の配線に有利である。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第１サブ画素と第１表示サブ領域内の第１サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにあるようにしてもよい。例えば、図６及び図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１は、同一列にある。それによって、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１が列方向において一致性を保持することを確保する。図２及び図３に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１は、同一行にある。それによって、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１が行方向において一致性を保持することを確保する。勿論、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１は、同一行にあり、及び第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１と第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１は、同一列にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第２サブ画素と第１表示サブ領域内の第２サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにあるようにしてもよい。例えば、図２及び図３に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第２サブ画素２と第１表示サブ領域Ａ１内の第２サブ画素２は、同一行にある。図４〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第２サブ画素２と第１表示サブ領域Ａ１内の第２サブ画素２は、同一列にある。それによって、第２表示サブ領域Ａ２内の第２サブ画素２と第１表示サブ領域Ａ１内の第２サブ画素２が列方向において一致性を保持することを確保する。且つ、該表示基板では、第２サブ画素２が画素ユニットの発光画素の中心であるため、第２表示サブ領域内の発光画素の中心と第１表示サブ領域内の発光画素の中心とが行方向において一致性を保持することを確保できる。勿論、第２表示サブ領域内の第２サブ画素と第１表示サブ領域内の第２サブ画素は、同一列にあり、及び第２表示サブ領域内の第２サブ画素と第１表示サブ領域内の第２サブ画素は、同一行にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、第２表示サブ領域内の第３サブ画素と第１表示サブ領域内の第３サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも１つにあるようにしてもよい。例えば、図６及び図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３と第１表示サブ領域Ａ１内の第３サブ画素３は、同一列にある。それによって、第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３と第１表示サブ領域Ａ１内の第３サブ画素３が列方向において一致性を保持することを確保できる。図２及び図３に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３と第１表示サブ領域Ａ１内の第３サブ画素３は、同一行にある。それによって、第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３と第１表示サブ領域Ａ１内の第３サブ画素３が行方向において一致性を保持することを確保できる。勿論、第２表示サブ領域内の第３サブ画素と第１表示サブ領域内の第３サブ画素は、同一列にあり、及び第２表示サブ領域内の第３サブ画素と第１表示サブ領域内の第３サブ画素は、同一行にあるようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図５〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素１の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第１サブ画素１の間の間隔に等しく、
第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素３の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第３サブ画素３の間の間隔に等しく、
第１表示サブ領域Ａ１内には、列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素２を１つの第２サブ画素群２００とし、第１表示サブ領域Ａ１内の列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素群２００の間の間隔が、第２表示サブ領域Ａ２内の列方向に沿って隣接する２つの第２サブ画素２の間の間隔に等しいようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第２表示サブ領域Ａ２内の第１サブ画素１の行方向の分布密度が、第１表示サブ領域Ａ１内の第１サブ画素１の行方向の分布密度の約１／２であるようにしてもよく、勿論、ほかの比、例えば、１／３、１／４などとしてもよく、ここで限定しない。
第２表示サブ領域Ａ２内の第３サブ画素３の行方向の分布密度が、第１表示サブ領域Ａ１内の第３サブ画素３の行方向の分布密度の約１／２であり、勿論、ほかの比、例えば、１／３、１／４などとしてもよく、ここで限定しない。
第２表示サブ領域Ａ２内の第２サブ画素２の行方向の分布密度が、第１表示サブ領域Ａ１内の第２サブ画素２の行方向の分布密度の約１／４であり、勿論、ほかの比、例えば、１／６、１／９などとしてもよく、ここで限定しない。
なお、ここでの行方向とは、１行のサブ画素を単位として説明するものである。また、本開示の実施例による密度の比は、すべて大体の比の範囲にあり、特定の実施形態では、密度の比は、整数ではない可能性がある。
オプションとして、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第２サブ画素２の発光面積が、第１サブ画素１の発光面積より小さく、第２サブ画素２の発光面積が、第３サブ画素３の発光面積より小さいようにしてもよい。それは、第１表示サブ領域Ａ１内には、第１サブ画素１の数が第３サブ画素３の数が同じである一方、第２サブ画素２の数が第１サブ画素１の１倍であるためであり、したがって、第２サブ画素２の発光面積を小さくすることができる。
なお、形状が一致するとは、サブ画素の発光領域の形状が類似することを意味し、面積が同じであってもよく、異なってもよい。サブ画素の発光面積は、サブ画素の発光効率に応じて設定してもよく、ここで限定しない。
なお、本開示の実施例による表示パネルにおいて、サブ画素の形状とは、サブ画素の発光領域の形状をいう。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示基板において、図４〜図７に示すように、第１表示サブ領域Ａ１内には、第２サブ画素２が緑色サブ画素である場合、２つの第２サブ画素２の発光面積が１つの第１サブ画素１の発光面積より小さく、且つ２つの第２サブ画素２の発光面積が１つの第３サブ画素３の面積より小さく、それは、緑色サブ画素の発光効率がほかの色のサブ画素の発光効率より高いからである。
同じ発明構想に基づいて、本開示の実施例は、本開示の実施例による上記いずれか1つの表示基板を備える表示装置をさらに提供する。該表示装置は、携帯電話、タブレット、テレビ、ディスプレイ、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム、ナビゲーターなど、表示機能を有する任意の製品又は部材であってもよい。該表示装置の実施については、上記表示基板の実施例を参照すればよく、ここで重複説明を省略する。
同じ発明構想に基づいて、本開示の実施例は、本開示の実施例による上記いずれか１つの表示基板を製造するように構成される高精度メタルマスクであって、第１サブ画素、第２サブ画素又は第３サブ画素の形状及び位置に対応する複数の開口領域を含む高精度メタルマスクをさらに提供する。
特定の実施形態では、サブ画素は、一般に、陽極層、発光層及び陰極層を含み、発光層は、一般に、上記高精度メタルマスクを用いて蒸着するものである。図７に示した表示基板を例に挙げると、第１サブ画素を形成するように配置される高精度メタルマスクでは、図８に示すように、開口領域０１は、表示基板の第１サブ画素１の発光層の形状及び位置に対応する。且つ、プロセス制限のため、開口領域０１の面積は、一般に、対応する発光層の面積より大きい。第２サブ画素を形成するように配置される高精度メタルマスク及び第３サブ画素を形成するように配置される高精度メタルマスクの原理は、第１サブ画素と類似したため、ここで詳しく説明しない。
同じ発明構想に基づいて、本開示の実施例は、上記いずれか１つの表示パネルの表示方法をさらに提供し、図９に示すように、該表示方法は、
原画像データを受信するステップ９０１（Ｓ９０１）と、
第１表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示し、第２表示サブ領域内の画素について、第１表示サブ領域の画素分布密度と第２表示サブ領域の画素分布密度との比に基づいて、原画像データにおいて１つの画素に対応する画素の数Ｎを決定し、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの１つの画素又は複数の画素のグレースケール値に基づいて表示するステップ９０２（Ｓ９０２）と、を含む。
特定の実施形態では、前述画素分布密度の式に従って、第１表示サブ領域の画素分布密度と第２表示サブ領域の画素分布密度との比がｎである場合、第２表示サブ領域内の１つの画素は、原画像データにおいて４個の画素に対応し、即ち、Ｎ＝ｎ＊ｎである。
オプションとして、本開示の実施例による表示方法において、第２表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの複数の画素の平均グレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。例えば、Ｎ＝４であり、即ち、第２表示サブ領域内の各画素は、原画像データにおいてそれぞれ４個の画素に対応する。この場合、第２表示サブ領域内の各々の画素に対しては、原画像データにおいてそれに対応する４個の画素のうちのｋ個の画素の平均グレースケール値に基づいて表示することができ、ｋ＝２、３又は４である。ｋ＝４を例に挙げると、第２表示サブ領域内の画素が第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素を含むとすれば、表示する際に、第１サブ画素に対応するグレースケール値Ｘ１＝（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／４であり、ここで、ｘ１〜ｘ４は、それぞれ、原画像データにおいて第２表示サブ領域内の画素に対応する４個の画素における各第１サブ画素のグレースケール値を表し、同様に、表示する際に、第２サブ画素に対応するグレースケール値Ｙ１＝（ｙ１＋ｙ２＋ｙ３＋ｙ４）／４であり、ここで、ｙ１〜ｙ４は、それぞれ原画像データにおいて第２表示サブ領域内の画素に対応する４個の画素における各第２サブ画素のグレースケール値を表し、表示する際に、第３サブ画素に対応するグレースケール値Ｚ１＝（ｚ１＋ｚ２＋ｚ３＋ｚ４）／４であり、ここで、ｚ１〜ｚ４は、それぞれ原画像データにおいて第２表示サブ領域内の画素に対応する４個の画素における各第３サブ画素のグレースケール値を表す。
オプションとして、本開示の実施例による表示パネルにおいて、第２表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうち、輝度が最も高い画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示パネルにおいて、第２表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうち、輝度の値が中央値である画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
オプションとして、本開示の実施例による表示パネルにおいて、第２表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素、及び第２表示サブ領域内の該画素と原画像データのＮ個の画素との相対位置関係に基づいて表示するようにしてもよい。
同様に、Ｎ＝４、即ち、原画像データにおいて第２表示サブ領域内の各画素の各々は４個の画素に対応する場合を例に挙げると、第２表示サブ領域内の画素は、第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素を含むとすれば、表示する際に、第１サブ画素に対応するグレースケール値Ｘ１＝（ｋ１＊ｘ１＋ｋ２＊ｘ２＋ｋ３＊ｘ３＋ｋ４＊ｘ４）／４であり、ここで、ｘ１〜ｘ４は、それぞれ原画像データにおいて第２表示サブ領域内の画素に対応する４個の画素における各第１サブ画素のグレースケール値を表し、同様に、表示する際に、第２サブ画素に対応するグレースケール値Ｙ１＝（ｋ１＊ｙ１＋ｋ２＊ｙ２＋ｋ３＊ｙ３＋ｋ４＊ｙ４）／４であり、ここで、ｙ１〜ｙ４は、それぞれ原画像データにおいて第２表示サブ領域内の画素に対応する４個の画素における各第２サブ画素のグレースケール値を表し、表示する際に、第３サブ画素に対応するグレースケール値Ｚ１＝（ｋ１＊ｚ１＋ｋ２＊ｚ２＋ｋ３＊ｚ３＋ｋ４＊ｚ４）／４であり、ここで、ｚ１〜ｚ４は、それぞれ原画像データにおいて第２表示サブ領域内の画素に対応する４個の画素における各第３サブ画素のグレースケール値を表す。ここで、ｋ１〜ｋ４は、重み係数であり、第２表示領域内の該画素の位置及び原画像データにおいて対応する４個の画素のうちの各画素の間隔によって決まり、間隔が大きいほど、重み係数は、小さくなる。
オプションとして、本開示の実施例による表示パネルにおいて、第２表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの１つの画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。表示原理は、人間視覚システムの定量に準じ、明滅することがなく、集積回路（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ、ＩＣ）を改めて設計する必要がないため、コストが低い。
オプションとして、本開示の実施例による表示方法において、第１表示サブ領域の画素分布密度と第２表示サブ領域の画素分布密度との比がｎであり、ｎは１より大きい整数である場合、
第２表示領域内の各画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたｎ＊ｎ個の画素それぞれに対応するようにしてもよい。
特定の実施形態では、一般には、ｎ＝２であり、即ち、第１表示サブ領域の画素分布密度は、第２表示サブ領域の画素分布密度の２倍である。勿論、実際の用途に応じて、ｎは、ほかの値としてもよく、ここで限定しない。
具体的には、ｎ＝２を例に挙げると、図１０に示すように、第２表示領域内の各画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列された２行×２列個の画素それぞれに対応し、図１０には、１つの破線枠内の４個の画素は、第２表示領域内の１つの画素に対応する画素である。
オプションとして、本開示の実施例による表示方法において、第２表示領域内の各画素は、それぞれ原画像データにおいて該画素に対応するｎ＊ｎ個の画素のうち同じ位置にある１つの画素を参照画素とし、第２表示領域内の各画素は、それぞれ、それに対応する参照画素のグレースケール値に基づいて表示するようにしてもよい。
同様に、ｎ＝２を例に挙げると、図１１ａに示すように、第２表示領域内の各画素は、それぞれ原画像データにおいて該画素に対応する２＊２個の画素のうち１行目であって１列目にある画素を参照画素とする。或いは、図１１ｂに示すように、第２表示領域内の各画素は、それぞれ、原画像データにおいて該画素に対応する２＊２個の画素のうち１行目２列目にある画素を参照画素とする。或いは、図１１ｃに示すように、第２表示領域内の各画素は、それぞれ原画像データにおいて該画素に対応する２＊２個の画素のうち２行目１列目にある画素を参照画素とする。図１１ｄに示すように、第２表示領域内の各画素は、それぞれ原画像データにおいて該画素に対応する２＊２個の画素のうち２行目２列目にある画素を参照画素とする。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示方法において、第２表示領域内の各画素は、それぞれ、それに対応する参照画素のグレースケール値に基づいて表示し、具体的には、第１サブ画素は、それに対応する参照画素のうちの第１サブ画素のグレースケール値に基づいて表示し、第２サブ画素は、それに対応する参照画素のうちの第２サブ画素のグレースケール値に基づいて表示し、第３サブ画素は、それに対応する参照画素のうちの第３サブ画素のグレースケール値に基づいて表示する。
特定の実施形態では、第１表示サブ領域の画素分布密度と第２表示サブ領域の画素分布密度との比が整数ではない可能性があり、例えば、第１表示サブ領域の画素分布密度と第２表示サブ領域の画素分布密度との比がｍであり、ここで、ｍ＝ｎ＋ｓであり、ｎは、１以上の整数であり、ｓは、０〜１の小数である。このため、第２表示領域内の各画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたｎ＊ｎ個の画素それぞれに対応し、或いは、第２表示領域内の各画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたｎ＊（ｎ＋１）個の画素それぞれに対応し、或いは、第２表示領域内の各画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列された（ｎ＋１）＊（ｎ＋１）個の画素それぞれに対応する。実施原理は、具体的には、上記ｍ＝ｎの場合と同様であるため、ここで詳しく説明しない。
本開示の実施例による表示方法において、第１表示サブ領域内の画素について、原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示し、その実施は、具体的には、関連技術を参照すればよく、ここで詳しく説明しない。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示方法において、原画像データに基づいて各画素のグレースケール値を取得するアルゴリズムは、ＩＣ、外部中央処理装置（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ、ＣＰＵ）又はマイクロプロセッサなどに集積させることができ、勿論、単独して設置された、各画素に接続された駆動器であってもよく、ここで限定しない。
特定の実施形態では、本開示の実施例による表示方法において、表示基板上の画素を原画像データにおいてそれに対応する画素に基づいて表示する際に、表示効果を最適化させるために、一般に、ＳＰＲなどの画像処理モジュールにより処理する必要があり、Ｄｅｍｕｒａアルゴリズムで処理した後に画面に表示させて画像を形成する。
本開示の実施例による表示基板では、その表示方法、表示装置及び高精度メタルマスクでは、表示領域は、画素分布密度が大きな（即ち解像度が高い）第１表示サブ領域と画素分布密度が小さな（即ち解像度が低い）第２表示サブ領域として設置されている。第２表示サブ領域内の画素分布密度が小さいため、カメラ、センサ、マイクなどの素子を第２表示サブ領域に設置することができ、つまり、局所の画素分布密度を低下させることで画面の光透過率を向上させる方式によって、表示基板の画面占有率を向上させる。且つ、第２表示サブ領域内のサブ画素の分布が均一であるため、第２表示サブ領域内の輝度の分布の均一性が確保できる。
勿論、当業者であれば、本開示の精神及び範囲から逸脱することなく本開示について様々な変化及び変形をすることができる。このため、本開示のこのような修正及び変形が本開示の特許請求の範囲及びその等同技術の範囲に属すると、本開示は、これら変化及び変形を含むことを意図する。

Claims (49)

  1. 表示基板であって、
    前記表示基板の表示領域は、
    第１表示サブ領域と、
    均等に分布する複数のサブ画素が設置された第２表示サブ領域と、を備え、
    前記第１表示サブ領域内の画素分布密度が前記第２表示サブ領域内の画素分布密度より大きい表示基板。
  2. 前記第２表示サブ領域の少なくとも一部の辺が前記表示領域の少なくとも一部の辺と重なり、且つ、前記第２表示サブ領域の残りの部分が前記第１表示サブ領域で囲まれている請求項１に記載の表示基板。
  3. 前記第１表示サブ領域と前記第２表示サブ領域は、行方向に配列され、又は前記第１表示サブ領域と前記第２表示サブ領域は、列方向に沿って配列される請求項２に記載の表示基板。
  4. 前記第１表示サブ領域は、前記第２表示サブ領域を囲んで設置される請求項１に記載の表示基板。
  5. 前記第２表示サブ領域は、円形状、水滴形状、矩形状及び台形状のうちの１種である請求項１に記載の表示基板。
  6. 前記第１表示サブ領域と前記第２表示サブ領域は、連続した表示領域を形成し、且つ前記表示領域の形状が略矩形状である請求項１に記載の表示基板。
  7. 前記第２表示サブ領域は、前記表示領域の隅部に位置する請求項６に記載の表示基板。
  8. 前記第２表示サブ領域の面積が前記第１表示サブ領域の面積より小さい請求項１に記載の表示基板。
  9. 前記第２表示サブ領域内には、マトリクス状に配列された複数の第３画素ユニットを含み、前記第３画素ユニットは、第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素を含み、
    同一前記第３画素ユニットにおいて、前記第１サブ画素及び前記第３サブ画素は、同一行に隣接して設置され、前記第２サブ画素は、前記第１サブ画素と前記第３サブ画素が位置する行に隣接する行にある請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の表示基板。
  10. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素の中心が均等に分布する請求項９に記載の表示基板。
  11. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、行方向に等間隔で配列され且つ列方向に等間隔で配列される請求項９に記載の表示基板。
  12. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、隣接する行において食い違い状に配列され、且つ同一行における隣接する２つの前記サブ画素の中心は、それぞれ隣接する行における最も近い同じ前記サブ画素の中心とは、間隔が等しい請求項１１に記載の表示基板。
  13. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素のうちの同じ色のサブ画素について、前記サブ画素は、隣接する列において食い違い状に配列され、且つ同一列における隣接する２つの前記サブ画素の中心それぞれは、隣接する列における最も近い同じ前記サブ画素の中心との間隔が等しい請求項１１に記載の表示基板。
  14. 前記第２表示サブ領域内には、同一列にある前記第３画素ユニットのサブ画素の配列方式が同じであるか、又は反対している請求項９に記載の表示基板。
  15. 前記第２表示サブ領域内の行方向に沿って隣接する２つの第３画素ユニットについて、一方の第３画素ユニットにおける第１サブ画素、第３サブ画素、及び他方の第３画素ユニットにおける第２サブ画素は、同一行にある請求項１４に記載の表示基板。
  16. 前記第２表示サブ領域内の同一前記第３画素ユニットにおいて、前記第１サブ画素の中心と前記第３サブ画素の中心との接続線における前記第２サブ画素の中心の正投影が、前記第１サブ画素の中心と前記第３サブ画素の中心との間にある請求項９に記載の表示基板。
  17. 前記第２表示サブ領域内の行方向に沿って隣接する第３画素ユニットについて、同じ色のサブ画素が隣接しない請求項１６に記載の表示基板。
  18. 前記第２表示サブ領域内には、１つの前記第１サブ画素、１つの前記第２サブ画素及び１つの前記第３サブ画素の発光面積がほぼ同じである請求項９ないし請求項１７のいずれか１項に記載の表示基板。
  19. 前記第２表示サブ領域内には、１つの前記第１サブ画素、１つの前記第２サブ画素及び１つの前記第３サブ画素の形状がほぼ一致する請求項９ないし請求項１７のいずれか１項に記載の表示基板。
  20. 前記第１表示サブ領域は、隣接して設置された複数の第１画素ユニット及び第２画素ユニットを含み、前記第１画素ユニットは、第１サブ画素と第２サブ画素を含み、前記第２画素ユニットは、第３サブ画素と第２サブ画素を含む請求項９ないし請求項１９のいずれか１項に記載の表示基板。
  21. 前記第１表示サブ領域内には、前記第１画素ユニットと前記第２画素ユニットが列方向に交互して配列され、前記第１画素ユニットと前記第２画素ユニットが行方向に交互して配列される請求項２０に記載の表示基板。
  22. 前記第１画素ユニットにおいて、第２サブ画素と第１サブ画素が同一行に配列され、前記第２画素ユニットにおいて、第２サブ画素と第３サブ画素が同一行に配列され、
    行方向に沿って隣接する第１画素ユニットと第２画素ユニットについて、前記第１画素ユニットにおける第２サブ画素と前記第２画素ユニットにおける第２サブ画素が直接隣接しない請求項２１に記載の表示基板。
  23. 前記第１表示サブ領域内には、１つの前記第１サブ画素の発光面積、１つの前記第２サブ画素の発光面積及び１つの前記第３サブ画素の発光面積がほぼ同じである請求項２２に記載の表示基板。
  24. 同一列にある各前記第１画素ユニット及び各前記第２画素ユニットについて、各前記第１画素ユニットにおける第２サブ画素と各前記第２画素ユニットにおける第２サブ画素は、同一列にある請求項２３に記載の表示基板。
  25. 前記第１表示サブ領域内には、前記第１サブ画素の形状が矩形状である請求項２２に記載の表示基板。
  26. 前記第１画素ユニットにおいて、前記第２サブ画素と前記第１サブ画素が、同一行に配列され、前記第２画素ユニットにおいて、前記第２サブ画素と前記第３サブ画素が、行をずらして配列され且つ列をずらして配列され、且つ、行方向に沿って隣接する前記第１画素ユニット及び前記第２画素ユニットにおいて、２つの前記第２サブ画素が、隣接せず、
    列方向に沿って隣接する第１画素ユニットと第２画素ユニットを１つの画素群とし、前記画素群では、前記第１画素ユニットにおける前記第２サブ画素と前記第２画素ユニットにおける前記第２サブ画素が同一列にある請求項２１に記載の表示基板。
  27. 前記画素群では、同一前記画素群には、２つの前記第２サブ画素は、列方向に沿って隣接して設置され、且つ２つの前記第２サブ画素は、行方向に対して対称的に設置される請求項２６に記載の表示基板。
  28. 前記第１表示サブ領域内には、列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素を１つの第２サブ画素群とし、前記第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素群の間の間隔が、前記第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素の間の間隔にほぼ等しい請求項２６に記載の表示基板。
  29. 同一前記画素群には、前記第１サブ画素と前記第３サブ画素の形状が一致し、且つ列方向に沿って隣接する２つの前記第２サブ画素の組み合わせの形状が前記第１サブ画素の形状と一致する請求項２６ないし請求項２８のいずれか１項に記載の表示基板。
  30. 前記第１表示サブ領域内には、前記第１サブ画素と前記第３サブ画素の形状がいずれも六角形であり、前記第２サブ画素の形状が五角形である請求項２９に記載の表示基板。
  31. 前記第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第１サブ画素の間の間隔が、前記第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第１サブ画素の間の間隔以下であり、
    前記第１表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第３サブ画素の間の間隔が、前記第２表示サブ領域内の列方向に沿って隣接する２つの前記第３サブ画素の間の間隔以下である請求項２０ないし請求項２８のいずれか１項に記載の表示基板。
  32. 前記第２表示サブ領域内の１つの前記第２サブ画素の発光面積が前記第１表示サブ領域内の１つの前記第２サブ画素の発光面積以上であり、
    前記第２表示サブ領域内の１つの前記第１サブ画素の発光面積が前記第１表示サブ領域内の１つの前記第１サブ画素の発光面積にほぼ等しく、
    前記第２表示サブ領域内の１つの前記第３サブ画素の発光面積が前記第１表示サブ領域内の１つの前記第３サブ画素の発光面積にほぼ等しい請求項２０ないし請求項２８のいずれか１項に記載の表示基板。
  33. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第１サブ画素の形状がほぼ同じであり、
    前記第２表示サブ領域内の前記第３サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第３サブ画素の形状がほぼ同じである請求項２０ないし請求項２８のいずれか１項に記載の表示基板。
  34. 前記第１表示サブ領域内には、１つの前記第２サブ画素の発光面積が１つの前記第１サブ画素の発光面積以下であり、１つの前記第２サブ画素の発光面積が１つの前記第３サブ画素の発光面積以下である請求項２０に記載の表示基板。
  35. 前記第２表示サブ領域内のサブ画素は、前記第１表示サブ領域内のサブ画素の一部とは、同一行にある請求項２０ないし請求項３４のいずれか１項に記載の表示基板。
  36. 前記第２表示サブ領域内のサブ画素は、前記第１表示サブ領域内のサブ画素の一部とは、同一列にある請求項２０ないし請求項３４のいずれか１項に記載の表示基板。
  37. 前記第２表示サブ領域内の前記第２サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第２サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにある請求項３５又は請求項３６に記載の表示基板。
  38. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第１サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも1つにある請求項３５又は請求項３６に記載の表示基板。
  39. 前記第２表示サブ領域内の前記第３サブ画素と前記第１表示サブ領域内の前記第３サブ画素は、同一列及び同一行のうちの少なくとも１つにある請求項３５又は請求項３６に記載の表示基板。
  40. 前記第２表示サブ領域内の前記第１サブ画素の行方向の分布密度が、前記第１表示サブ領域内の第１サブ画素の行方向の分布密度の１／２であり、
    前記第２表示サブ領域内の前記第３サブ画素の行方向の分布密度が、前記第１表示サブ領域内の前記第３サブ画素の行方向の分布密度の１／２であり、
    前記第２表示サブ領域内の前記第２サブ画素の行方向の分布密度が、前記第１表示サブ領域内の前記第２サブ画素の行方向の分布密度の１／４である請求項３５又は請求項３６に記載の表示基板。
  41. 表示装置であって、
    請求項１ないし請求項４０のいずれか１項に記載の表示基板を備える表示装置。
  42. 請求項２０ないし請求項４０のいずれか１項に記載の表示基板を製造するように構成される高精度メタルマスクであって、
    前記第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素のうちの1種のサブ画素の形状及び位置に対応する複数の開口領域を含む高精度メタルマスク。
  43. 請求項１ないし請求項４０のいずれか１項に記載の表示基板の表示方法であって、
    原画像データを受信するステップと、
    前記第１表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいてそれに対応する画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、
    前記第２表示サブ領域内の画素について、前記第１表示サブ領域の画素分布密度と前記第２表示サブ領域の画素分布密度との比に基づいて、原画像データにおいて１つの前記画素に対応する画素の数Ｎを決定し、原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの１つの画素又は複数の画素のグレースケール値に基づいて表示するステップと、を含む表示方法。
  44. 前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうちの複数の画素の平均グレースケール値に基づいて表示する請求項４３に記載の表示方法。
  45. 前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうち、輝度が最も高い画素のグレースケール値に基づいて表示する請求項４３に記載の表示方法。
  46. 前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素のうち、輝度の値が中央値である画素のグレースケール値に基づいて表示する請求項４３に記載の表示方法。
  47. 前記第２表示サブ領域内の画素について、前記原画像データにおいて該画素の位置に対応するＮ個の画素及び前記第２表示サブ領域内の該画素と前記原画像データのＮ個の画素との相対位置関係に基づいて表示する請求項４３に記載の表示方法。
  48. 前記第１表示サブ領域の画素分布密度と前記第２表示サブ領域の画素分布密度との比がｎであり、ｎは１より大きい整数である場合、
    前記第２表示領域内の各前記画素は、原画像データにおいてマトリクス状に配列されたｎ＊ｎ個の画素それぞれに対応する請求項４３に記載の表示方法。
  49. 前記第２表示領域内の各前記画素は、それぞれ前記原画像データにおいて前記画素に対応するｎ＊ｎ個の画素のうち同じ位置にある１つの画素を参照画素とし、前記第２表示領域内の各前記画素は、それぞれ、それに対応する参照画素のグレースケール値に基づいて表示する請求項４８に記載の表示方法。
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