JP2021521429A - 液体サンプルセグメントを維持しつつ、液体サンプルを収集し、距離に渡って搬送するためのシステム - Google Patents

Abstract

搬送ラインを介して、リモートサンプリングシステムから分析システムへ搬送される、サンプルの液体サンプルセグメントを維持するための、システムおよび方法を説明する。限定されないが、実施の形態のシステムは、ガス圧を介して、リモートサンプリングシステムから、液体サンプルを搬送するように構成された、サンプル搬送ラインと、サンプル搬送ラインと流体的に接続され、サンプル流体を保持するように構成された、サンプルループと、ガス圧源およびサンプル搬送ラインと流体的に接続される、背圧チェンバーとを、備える。背圧チェンバーは、サンプル搬送ラインを介した搬送の間、液体サンプルに対して、背圧を供給するように構成される。【選択図】図１

Description

関連出願の相互参照

本願は、「ＳＹＳＴＥＭ ＦＯＲ ＣＯＬＬＥＣＴＩＮＧ ＬＩＱＵＩＤ ＳＡＭＰＬＥＳ ＡＮＤ ＴＲＡＮＳＰＯＴＩＮＧ ＯＶＥＲ ＤＩＳＴＡＮＣＥＳ ＷＨＩＬＥ ＭＡＩＮＴＡＩＮＩＮＧ Ａ ＬＩＱＵＩＤ ＳＡＭＰＬＥ ＳＥＧＭＥＮＴ」と題して２０１８年４月１０日に出願された米国特許仮出願第６２／６５５，４９８号、および、「ＳＹＳＴＥＭ ＦＯＲ ＣＯＬＬＥＣＴＩＮＧ ＬＩＱＵＩＤ ＳＡＭＰＬＥＳ ＡＮＤ ＴＲＡＮＳＰＯＴＩＮＧ ＯＶＥＲ ＤＩＳＴＡＮＣＥＳ ＷＨＩＬＥ ＭＡＩＮＴＡＩＮＩＮＧ Ａ ＬＩＱＵＩＤ ＳＡＭＰＬＥ ＳＥＧＭＥＮＴ」と題して２０１８年７月３日に出願された米国特許仮出願第６２／６９３，５５５号の、３５ Ｕ．Ｓ．Ｃ．§１１９（ｅ）の利益を主張するものである。米国特許仮出願第６２／６５５，４９８号および米国特許仮出願第６２／６９３，５５５号は、参照により全体において本明細書に組み込まれる。

多くの実験環境において、一度に、多くの化学または生物サンプルを分析する必要が、しばしばある。プロセスの簡素化のために、サンプルの操作は、機械化される。そのような機械化されたサンプリングは、自動サンプリングと言及され、自動化されたサンプリング装置、またはオートサンプラーを用いて、実施される。

原料の構成部分を識別するために、分光分析は、放射強度の測定を、波長の関数として読み替える。誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma：ICP）分光分析は、液体サンプルの、微量元素の濃度およびアイソトープ比の決定のために一般的に使用される分析技術である。たとえば、半導体産業においては、サンプルにおける金属濃度を決定するために、ＩＣＰ分光分析を使用することができる。ＩＣＰ分光分析は、おおよそ７０００Ｋの温度に達する、電磁気的に生成された部分的にイオン化されたアルゴンプラズマを、採用する。サンプルをプラズマへと導入したとき、高温により、サンプル原子がイオン化され又は光を出射する。各化学元素が、質量特性又は発光スペクトルを、作り出すので、出射される質量又は光のスペクトルを測定することにより、オリジナルサンプルの元素組成を決定することができる。分析されるサンプルは、しばしば、サンプル混合物として提供される。

液体サンプルを、ＩＣＰ分光測定法測定器（たとえば、ＩＣＰ質量分析法（ICP/ICP-MS）、ＩＣＰ発光分光分析法（ICP-AES）など）、または他のサンプル検出器又は分析のための分析機器へと、導入するために、サンプル導入システムは採用される。たとえば、サンプル導入システムは、コンテナから、液体サンプルの一定分量を引き出し、その後、当該一定分量を、ＩＣＰ分光測定法測定器によるプラズマ内でのイオン化に適切な多分散エアロゾルへと、変換する噴霧器へ、当該一定分量を搬送する。そして、より大きなエアロゾル粒子を除去するために、当該エアロゾルは、スプレーチェンバー内に蓄積される。スプレーチェンバーを出る際、エアロゾルは、分析のためのＩＣＰ−ＭＳ又はＩＣＰ−ＡＥＳ装置のプラズマトーチアセンブリによるプラズマへと、導入される。

添付の図面を参照して、詳細な説明をおこなう。添付図面に含まれる大きさは、単なる例示として提供されるものであり、ここでの開示に限定されるものではない。

長い距離を渡って搬送されたサンプルを分析するために構成された、本開示の例となる実施の形態に係るシステムを例示する、部分的な線図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、リモートサンプリングシステム内で使用されるリモートサンプリング装置を例示する、環境図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、リモートサンプリングシステム内で使用されるリモートサンプリング装置を例示する、環境図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、分析システム内で使用される分析装置を例示する、環境図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、分析システム内で使用される分析装置を例示する、環境図である。 長い距離を渡って搬送されたサンプルを分析するために構成されたシステム内における、本開示の例となる実施の形態に係る分析システムを例示する、部分的な線図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、図４に示された分析システム内で利用することができる検出装置を例示する、部分的な線図である。 本開示の例となる実施の形態に係るリモートサンプリングシステムから受け取られるサンプルを分析するための、複数の分析装置を有する分析システムを例示する、環境図である。 サンプル受取りラインと、本開示の例となる実施の形態に係る検出装置間で、サンプル受取りラインが、連続する液体セグメントを包含するときを決定する、ように構成された検出装置とを含む、システムの概略図である。 本開示の例となる実施の形態に係るリモートサンプリングシステムにより取得される、サンプルの複数のセグメントを含むサンプル搬送ラインの部分断面図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、リモートサンプリング装置からサンプルループへの、リモートサンプルの印加された背圧による、加圧搬送の概略図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、リモートサンプリング装置からサンプルループへのリモートサンプルの搬送を促進するための、任意の緩衝液導入システムの概略図である。 搬送構造における、図８Ｃの緩衝液導入システムの概略図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、ガスセグメント、緩衝液セグメント、およびサンプルセグメントを有する、搬送ラインの概略図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、リモートサンプリング装置からサンプルループへのリモートサンプルの搬送を促進するための、緩衝液導入システムの概略図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、ガスセグメント、緩衝液セグメント、およびサンプルセグメントを有する、搬送ラインの概略図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、サンプル受取りラインへ供給され、二つの検出部により記録された、複数の液体サンプルセグメントを例示するタイムラインである。 本開示の例となる実施の形態に係る、検出部間において、サンプル受取りラインが、連続する液体セグメントを含むときを決定する、方法を示すフロー図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、化学検出制限に基づいてプロセス操作をモニタリングおよび制御する、制御システムのプロセスフロー図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、複数のリモートサンプリングシステムと結合した処理設備の模式図である。 本開示の例となる実施の形態に係る、マニュアルサンプリングを示すデータ点と自動システムにより得られたデータ点とを含む、時間経過に伴う、薬液槽の金属汚染を例示するチャートである。

概要
概して図１〜１３を参照して、リモートサンプリングシステムから、長い距離を経て、分析システムへと、略連続する液体サンプルを供給するための、システムおよび方法を説明する。サンプルにおける微量元素の濃度又は量の決定は、サンプルの純度の表示、または、試薬、反応成分等としての使用のためのサンプルの受容性を、提供することができる。たとえば、ある製品または製造プロセス（たとえば、鉱業、冶金、半導体製造、製薬処理など）において、不純物の許容度又はある化学物質の存在は、とても厳しい、たとえばｐｐｂ（parts per billion）の割合のオーダである。したがって、十分なサンプルがサンプル分析システムに存在することを確実にすることにより、サンプルにおける微量元素濃度又は量の正確な決定を、促進することができる。たとえばリモートサンプリングシステムと分析システムとの間における搬送ラインを通して、離れた場所から受けたられるサンプルに対して、当該ラインの通過は、搬送ライン内にブローホール、または搬送ライン内に不連続な液体サンプルセグメントを形成するなどの、サンプルの脱ガス又は分離を引起し、これにより、分析システムによる分析に対して不適切な、液体サンプルセグメントが生じ得る。たとえば、ブローホール又は不連続な液体サンプルセグメントにより、ガスが、サンプルと共に、分析システムへと導入され、これが、分析システムによる不正確な濃度決定につながる。さらに、幾つかのサンプルは、液体搬送ライン内における脱ガス又は分離の影響を受けやすい。たとえば、ガス圧を介して搬送ラインを通って押圧されたとき、高蒸気圧又は低表面張力を有し、限定されないが、水酸化アンモニウム、イソプロピルアルコール、有機サンプル、界面活性剤、またはその組合せを含む、サンプルは、分離し、脱ガスされる。

したがって、本開示は、少なくとも部分的に、リモートサンプリングシステムから、長い距離を経て、分析システムへと、略連続する液体サンプルを供給するための、システムおよび方法に、向けられている。例となるシステムは、搬送ラインへ背圧を導入するための、背圧チェンバーを採用する。当該搬送ラインを通して、背圧を超えるガス圧を介して、リモートサンプリングシステムから、サンプルが搬送される。リモートサンプリングシステムは、ガスフロー制御装置を含んでもよい。当該ガスフロー制御装置は、搬送ラインを通してサンプルを移動させるために、供給されるガスの一定な圧力を制御する。他の例の実施の形態において、ガスフロー制御装置は、ガスの一定な流量を制御してもよい。あるサンプルに対して、一定のガス流量は、たとえば液体サンプルなどのサンプルを、一定流量で移動させるために、必要である。他のあるサンプルに対して、一定のガス圧が、一定流量でサンプルを移動させるために、必要である。他の例の実施の形態において、背圧と流量制御との組合せを、採用してもよい。意図されない脱ガス又はサンプルセグメント内のブローホールの他の不注意な導入なしに、搬送ライン内での略連続な液体サンプルセグメントを維持する一方で、例となるシステムは、高蒸気圧又は低表面張力を有し、限定されないが、水酸化アンモニウム、イソプロピルアルコール、有機サンプル、界面活性剤、またはその組合せを含む、サンプルを、搬送ラインを介して分析システムへと、搬送することができる。ここで説明されるようなシステムおよび方法を、必ずしも限定されないが、医薬用途（たとえば、複数の薬剤反応炉に接続された集中質量分光分析装置（central mass spectrometer analysis device）により）、１以上の廃水流の廃棄物モニタリング、半導体製造設備などを含む、様々な用途に対して使用することができる。たとえば、異物が検出されたとき、異物のために廃水流をモニタリングし、タンクへ迂回させる。

限定されないが、本開示の実施の形態のシステムは、ガス圧を介して、リモートサンプリングシスから、液体サンプルを搬送するように構成されたサンプル搬送ラインと、サンプル搬送ラインおよび緩衝液ループと流体的に接続され、サンプル流体を保持するように構成された、サンプルループと、ガス圧源およびサンプル搬送ラインと流体的に接続され、サンプル搬送ラインを通した搬送の間、液体サンプルに対して背圧を供給するように構成された、背圧チェンバーとを、備える。

本開示の他の実施の形態によれば、液体サンプルセグメントを維持する方法を、提供する。当該方法は、リモートサンプリングシステムで液体サンプルを受取ること、１以上の調整技術を用いて、配送および／または分析のために、液体サンプルを準備すること、サンプル搬送ラインを介して液体サンプルを搬送すること、を備える。サンプル搬送ラインを介して液体サンプルを搬送することは、サンプル搬送ラインに流体的に接続され、大量の液体サンプルを保持するように構成された、サンプルループを生成すること、バッファループから緩衝液を、およびサンプルループから大量の液体サンプルを押圧するために、ガス圧源のガス圧を使用すること、サンプル搬送ラインを通した搬送の間、液体サンプルに対して背圧を供給すること、をさらに含む。当該背圧は、ガス圧源およびサンプル搬送ラインと流体的に接続された背圧チェンバーにより、生成される。

本開示の他の実施の形態によれば、限定されないが、実施の形態のシステムは、リモートサンプリングシステムから、液体サンプルを搬送するように構成されたサンプル搬送ラインと、当該リモートサンプリングシステムと通信するコントローラと、コンピュータ実行可能な命令を含むメモリとを、備える。コンピュータ実行可能な命令を含むメモリは、リモートサンプリングシステムで、液体サンプルを受取ること、１以上の調整技術を用いて、分配および／または分析のため、液体サンプルを準備すること、および、サンプル搬送ラインを介して、液体サンプルを搬送すること、ができる。サンプル搬送ラインを介して液体サンプルを搬送することは、サンプル搬送ラインに流体的に接続され、大量の液体サンプルを保持するように構成された、サンプルループを作り出すこと、バッファループから緩衝液およびサンプルループから大量の液体サンプルを押出すために、ガス圧源のガス圧を用いること、および、サンプル搬送ラインを通した搬送の間、液体サンプルに対して背圧を供することを、さらに備える。背圧は、ガス圧源およびサンプル搬送ラインに流体的に接続された背圧チェンバーにより、生成される。

実施例
図１を参照して、システム１００は、長い距離を経て搬送されたサンプルを分析するように構成されている。例となる実施の形態において、１つ以上のサンプルを、複数の分析システムにより分析されてもよく、この場合、当該複数の分析システムは、異なる分析技術を含み得る。システム１００は、第一の位置において、分析システム１０２を含む。システム１００は、第一の位置から離れた第二の位置において、１つ以上のリモートサンプリングシステム１０４をも、含む。たとえば、１以上のリモートサンプリングシステム１０４は、分析システム１０２により分析される、たとえば薬品貯蔵タンク、薬品処理タンク（たとえば、薬液槽）、または、薬品搬送ライン又はパイプなどの、化学薬品源の近くに配置される（たとえば、第二の位置）。ここで、生産設備に対する分析ハブのように、分析システム１０２は、リモートサンプリングシステム１０４から離れた位置に、配置される（たとえば、第一の位置）。システム１００は、第三の位置および第四の位置等において、１以上のリモートサンプリングシステム１０４を、含んでいてもよい。ここで、第三の位置および／または第四の位置は、第一の位置から離れている。実施において、リモートサンプリングシステム１０４の、第三の位置、第四の位置、および他の位置は、他のリモートサンプリングシステム１０４の他の位置から、各々、離れていてもよい。たとえば、一つのリモートサンプリングシステム１０４を、水路（たとえば、脱イオン水搬送ライン）に配置することができ、他方、１以上の他のリモートサンプリングシステム１０４を、薬品貯蔵タンク、薬品処理タンク（たとえば、薬液槽）、または、薬品搬送ライン又はパイプなどに、配置することができる。幾つかの実施の形態において、システム１００は、第一の位置において（たとえば、分析システム１０２に近接して）、１以上のリモートサンプリングシステム１０４を含んでいてもよい。たとえば、第一の位置におけるサンプリングシステム１０４は、分析システム１０２と接続された、オートサンプラを備えていてもよい。１以上のサンプリングシステム１０４は、第一の位置、第二の位置、第三の位置、および第四の位置等から、サンプルを受取るように操作され、さらに、システム１００は、分析のために、分析装置１０２へサンプルを分配するように、操作される。

リモートサンプリングシステム１０４は、分配（たとえば、分析システム１０２へ）および／または分析のために、サンプル１５０を受取り、当該サンプル１５０を準備するように、構成されている。実施の形態において、リモートサンプリングシステム１０４は、分析システム１０２から様々な距離で、配置される（たとえば、１ｍ、５ｍ、１０ｍ、３０ｍ、５０ｍ、１００ｍ、３００ｍ、１０００ｍなど）。実施において、リモートサンプリングシステム１０４は、リモートサンプリング装置１０６およびサンプル準備装置１０８を、備える。サンプル準備装置１０８は、フロースルー弁などのような、バルブ１４８をさらに含んでいてもよい。実施において、リモートサンプリング装置１０６は、サンプル流路または源（たとえば、廃水、洗浄水、薬品、産業薬品などの、液体、または、液体と接触する空気サンプルおよび／または空気さプル内の異物などの、気体など）から、サンプル１５０を収集するように構成された、装置を含む。サンプル源からサンプルを取得し、さらに分析システム１０２へサンプルを分配するのに適切な、ポンプ、バルブ、チューブ、センサなどの、構成要素を、リモートサンプリング装置１０６は、有する。たとえば、特定のサンプル濃度、添加サンプル（spiked samples）、検量線（calibration curves）などを提供するために、希釈剤１１４、内部標準１１６、キャリア１５４などを用いて、リモートサンプリング装置１０６からの収集されたサンプル１５０を準備するように構成された装置を、サンプル準備装置１０８は、有し、さらに、洗浄溶液を用いて洗浄される（図３Ｂ参照）。

幾つかの実施の形態において、分配および／または分析のため、必ずしも限定されないが、希釈、プリ濃度（pre-concentration）、１以上の校正用標準液の付加などを含む、１以上の準備技術を用いて、サンプル１５０は準備される（たとえば、準備サンプル１５２）。たとえば、分析システム１０２へ分配される前に、（サンプル１５０が、分配中に、分離することを防止するため）粘性サンプル１５０が、（たとえば、サンプル準備装置１０８により）遠隔的に希釈される。ここで説明されるように、リモートサンプリングシステム１０４から搬送されたサンプルは、単にサンプル１５０と称される。加えて、サンプル１５０は、準備サンプル１５２と称されることもある。幾つかの実施の形態において、所望の割合で、システム１００を通してサンプル１５０を移動させるために、サンプル希釈は、ダイナミックに調整（たとえば、自動的に調整される）されてもよい。たとえば、サンプル１５０が、システム１００を通って、かなりゆっくり移動するとき（たとえば、第二の位置から第一の位置への搬送時間により測定されるように）、特定のサンプル又はあるタイプのサンプルに付加された希釈剤１１４を、増加する。他の例において、分析システム１０２へ配送前に、１リットル（１Ｌ）の海水を、リモート的に、事前に濃縮する。更なる例において、考えられる気中浮遊汚染物質を事前濃縮するために、空気サンプルからの物質について、静電集中（electrostatic concentration）が使用される。幾つかの実施の形態において、システム１００により、インラインダイリューションおよび／またはキャリブレーションが、自動的に実施される。たとえば、分析システム１０２をキャリブレーションするために、サンプル準備装置１０８は、分析システム１０２へ配送されるサンプルに、１つ以上の内部標準を付加することができる。

本開示の実施の形態において、分析システム１０２は、サンプル１５０を収集するように構成された、サンプル収集部１１０を備える。１以上のリモートサンプリングシステム１０４からサンプル１５０を受取るために、サンプル収集部１１０は、ポンプ、バルブ、チューブ、ポート、センサなどの、構成要素を含む。加えて、分析システム１０２は、当該分析システム１０２に対してローカルな、サンプル１５０を収集するように構成された、サンプリング装置１６０を備えてもよい（たとえば、ローカルオートサンプラー）。

（たとえば、流体サンプルにおいて）微量元素濃度、同位体比などを決定するために、分析システム１０２は、サンプルを分析するように構成された、少なくとも１つの分析装置１１２を、さらに備えていてもよい。たとえば、分析装置１１２は、限定されないが、ＩＣＰ質量分析法（ICP/ICP-MS）（たとえば、微量金属決定のために）、ＩＣＰ発光分光分析法（ICP-AES）、ＩＣＰＯＥＳ（たとえば、微量金属決定のために）、イオン・クロマトグラフ（たとえば、アニオンおよびカチオン決定のために）、液体クロマトグラフ（ＬＣ）（たとえば、有機不純物決定のために）、ＦＴＩＲ赤外（たとえば、化学成分および構造情報決定のために）、粒子計数器（たとえば、非溶解粒子の検出のために）、湿度分析計（たとえば、サンプルにおける水分検出のために）、ガスクロマトグラフ（ＧＣ）（たとえば、揮発性成分の検出のために）などを含む、ＩＣＰ分光分析装置を備える。実施の形態において、分析システム１０２は、複数の分析装置１１２（すなわち、１以上の分析装置）を含んでいてもよい。システム１００および／または分析システム１０２は、複数のサンプリングループを、さらに含んでいてもよい。各サンプリングループは、複数の分析装置１１２へ、サンプルの一部を導入する。例となる実施の形態において、単一のサンプルが、複数の分析装置１１２へ、素早く、連続的に導入されるように、システム１００および／または分析システム１０２は、多位置バルブとともに構成されてもよい。実施の形態において、複数の分析装置１１２により実施される分析以外の、追加又は異なるサンプル分析のために、システム１００は、リモートサンプリングシステム１０４から離れて配置された、１以上の追加の分析装置１１２を含むことができる一方で、複数の分析装置１１２は、リモートサンプリング装置１０４と同じ位置に配置されてもよい。代替えとして、または追加的に、複数の分析装置１１２を、リモートサンプリングシステム１０４以外の異なる場所に、配置させてもよい。

システム１００および／または分析システム１０２は、経時的な位置での被分析物濃度をレポートするように、構成されてもよい（下記でさらに図１３を参照して示されるように）。幾つかの実施の形態において、分析装置１１２は、サンプル１５０内の１以上の微量金属を検出するように構成されてもよい。他の実施の形態において、分析装置１１２は、イオン・クロマトグラフィのために構成されてもよい。たとえば、イオンおよび／またはカチオンは、サンプル１５０内で収集され、さらにクロマトグラフィ分析装置１１２へ配送される。他の例として、分析システム１０２に接続された１以上のリモートサンプリングシステム１０４により取得されたサンプルの分析を介して、１以上の化学的な流れが、連続的にモニターされてもよい。これにより、汚染限界を、各化学的な流れに対して、設定できる。特定の流れに対して、汚染限界を超える不純物の検出があると、システム１００は、警報を提供する。

システム１００の再現性は、例となる実施を通して、テストされる。実施において、分析システム１０２は、リモートサンプリングシステム１０４から百メートル（１００ｍ）の位置に、配置される。２０の個別のサンプルの各々において存在する各化学種の信号強度を決定するために、リモートサンプリングシステム１０４は、２０の個別のサンプルを取得し、分析システム１０２へそれらを搬送する。各個別のサンプルは、次の化学種を含む：リチウム（Ｌｉ）、ベリリウム（Ｂｅ）、ボロン（Ｂ）、ナトリウム（Ｎａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、アンチモン（Ｓｂ）、バリウム（Ｂａ）、セリウム（Ｃｅ）、ハフニウム（Ｈｉ）、タングステン（Ｗ）、および鉛（Ｐｂ）。分析システム１０２による分析時に、全ての化学種に対する、２０全ての個別のサンプルにわたる相対標準偏差（ＲＳＤ）が決定されてもよい。例となるＲＳＤは、３パーセント（３％）未満である。したがって、分析システム１０２とリモートサンプリングシステム１０４との間が１００メートルである、例となるシステム１００は、サンプル取得、１００メートル離れた分析システム１０２へのサンプルの搬送、および分析システム１０２によるサンプルの分析について、信頼できる再現性を有することが、見出される。

図２Ａおよび２Ｂを参照して、リモートサンプリングシステム１０４又はリモートサンプリング装置１０６は、少なくとも一つのサンプル搬送ライン１４４と選択的に接続されるように構成され、これにより、サンプル搬送ライン１４４へ、連続的な液体サンプルセグメント１５０を供給するために、リモートサンプリングシステム１０４は、サンプル搬送ライン１４４と流体接続するように、操作可能である。たとえば、フロースルーバルブ１４８を用いて、リモートサンプリングシステム１０４をサンプル搬送ライン１４４に接続して、リモートサンプリングシステム１０４は、サンプル１５０を収集するように、およびサンプル搬送ライン１４４へサンプル１５０を供給するように、構成される。サンプル搬送ライン１４４へのサンプル１５０の供給は、「ピッチ」と称される。サンプル搬送ライン１４４は、ガス供給部１４６（図１に示されるように）に接続され、さらに第二の位置（および、可能性として、第三の位置、第四の位置など）から第一の位置へ、ガスを搬送するように構成される。図２Ａおよび２Ｂは、多位置バルブ１４８に対する、例となる負荷および噴射構成を、図示している。サンプル１５０は、最初、ループ内に押し出され、そして、その後、噴射モードにおいて、サンプル搬送ライン１４４からのガスにより、押出される。こういうふうにして、リモートサンプリングシステム１０４により供給された液体サンプルセグメントは、ガス流れ内で収集され、ガス圧力サンプル搬送を用いて、分析システム１０２の位置へと搬送される。

幾つかの実施の形態において、サンプル搬送ライン１４４内のガスは、限定されないが、窒素ガス、アルゴンガスなどを含む、不活性ガスを含んでもよい。幾つかの実施の形態において、サンプル搬送ライン１４４は、非分割又は最小限に分割された、８／１０ミリメートル（０．８ｍｍ）の内径を有する、チューブを含んでいてもよい。しかしながら、８／１０ミリメートルの内径は、単なる例であり、本開示に限定されない。他の実施の形態において、サンプル搬送ライン１４４は、８／１０ミリメートルより大きな内径を含んでいてもよく、および／または、８／１０ミリメートルよりも小さな内径を含んでいてもよい。幾つかの実施の形態において、サンプル搬送ライン１４４内の圧力は、少なくとも約四（４）ｂａｒから十（１０）ｂａｒまでの範囲である。しかしながら、当該範囲は、単なる例示であり、本開示限定されるものではない。他の実施の形態において、サンプル搬送ライン１４４内の圧力は、１０ｂａｒよりも大きくてもよく、および／または、４ｂａｒよりも小さくてもよい。さらに、ある実施の形態において、略上方向に（たとえば、垂直に）サンプル１５０が分配されるように、サンプル搬送ライン１４４内の圧力を調整してもよい。当該垂直の方向づけは、分析システム１０２よりも低い位置で収集されたサンプルの搬送を、促進することができる（たとえば、サンプル源およびリモートサンプリングシステムが、分析システム１０２に対して「下方向に」配置されている場合）。

幾つかの例では、サンプル搬送ライン１４４は、第一の液体槽（または、薬液槽）に流体的に接続されたリモートサンプリングシステム１０４に接続され、および、第二の液体槽（または、薬液槽）に流体的に接続された分析システム１０２に接続される。本開示の実施の形態において、システム１００は、第一の位置および／または１以上のリモート位置（たとえば、第二の位置、第三の位置、第四の位置など）での、オーバフローを防止または最小化するために、１つ以上のリークセンサ（たとえば、トラフに搭載される）を、含んでいてもよい。シリンジポンプ又は真空ポンプなどのポンプを、サンプリング装置１０６内へサンプルを投入するために、使用してもよい。バルブ１４８を、リモートサンプリングシステム１０４でサンプル１５０を選択するために使用されてもよく、そして、サンプル１５０は、サンプル搬送ライン１４４へ供給される。このことにより、サンプル１５０が、第一の位置における分析システム１０２へ送られる。分析システム１０２の排水管をくみ上げるため、およびサンプル搬送ライン１４４からサンプル１５０を引き抜くため、ダイアフラムポンプなどの他のポンプを、使用してもよい。

システム１００は、サンプル搬送ライン１４４内のガス及びサンプルが周囲環境に露出しないような、閉鎖されたサンプリングシステムとして、実施される。たとえば、筐体および／またはシースが、システム１００の１以上の構成要素を、取り囲む。幾つかの実施の形態において、リモートサンプリングシステム１０４の１以上のサンプルラインが、サンプル配送間において、掃除される。さらに、サンプル１５０間において、サンプル搬送ライン１４４は、掃除される（たとえば、クリーニング溶液を用いて）。

図３Ａおよび３Ｂを参照して、サンプル収集システム１１０に対する例となる国政が、図示されている。示されているように、サンプル搬送ライン１４４は、第一の位置で、サンプル受取りライン１６２（たとえば、サンプルループ１６４）と選択的に接続されるように、構成されており、これにより、連続的な液体サンプルセグメントを受取るために、サンプル搬送ライン１４４と流体的に接続されるように、サンプルループ１６４は動作し得る。サンプルループ１６４への連続的な液体サンプルセグメントの配送を、「キャッチ」と称する。サンプルループ１６４は、分析装置１１２と選択的に接続されるようにも構成されており、これにより、分析装置１１２へ連続的な液体サンプルセグメントを供給するために、サンプルループ１６４は、分析装置１１２と流体的に接続され得る（たとえば、システム１００が、分析システム１０２による分析のため、十分な液体サンプルセグメントを入手できるかを決定するとき）。幾つかの実施の形態において、少なくとも二つのフローパス構成間（たとえば、図３Ａに示されるような、バルブ１４８の第一のフローパス構成；図３Ｂで示されるようなバルブ１４８の第二のフローパス構成など）で切替可能なマルチポートバルブ１４８のような、バルブは、サンプル１５０とサンプルループ１６４との間に、配置される。実施の形態において、噴霧器１５６は、たとえば、サンプルにおける有機分子、プロテインなどを分析するための、高分解能飛行時間（ＨＲ−ＴｏＦ）質量分析装置などの、例となる分解装置１１２と接続して、使用される。図３Ｂに示されるように、サンプル収集システム１１０と接続して、１以上のマルチポートバルブ１４８が配設されてもよい。

図４を参照して、本開示の例となる実施の形態において、分析システム１０２は、分析システム１０２による分析のため、サンプルループ１６４が十分な量の連続液な液体サンプルセグメントを含んでいることを決定するように構成された、１以上の検出部を備えている。一つの例において、十分な量の連続的な液体サンプルは、分析装置１１２へ送るのに十分な液体サンプルを含む。十分な量の連続的な液体サンプルの他の例は、第一の検出部１２６と第二の検出部１２８との間のサンプル受取りライン１６２内（図７でさらに示されているように）の、連続的な液体サンプルを含む。幾つかの構成要素又は全ての構成要素を含むシステム１００は、たとえばコントローラ１１８を介して、コンピュータ制御下で動作する。たとえば、コントローラ１１８は、ソフトウェア、ファームウェア、ハードウェア（たとえば、固定された論理回路）、手作業処理、またはこれらの組合せを用いて、ここで記述されるシステムの、構成要素および機能を制御する、プロセッサ１２０を含む。ここで使用される、「コントローラ」、「機能性」、「サービス」、および「ロジック」の用語は、ソフトウェア、ファームウェア、ハードウェア、または、ソフトウェア、ファームウェア、またはシステムの制御に関連したハードウェアの組合せを、一般的に表す。ソフトウェア実施のケースにおいて、モジュール、機能性、またはロジックは、プロセッサ（たとえば、中央処理装置（ＣＰＵ）または複数のＣＰＵ）上で実行されるときの特定のタスクを実施する、プログラムコードを表す。プログラムコードは、コンピュータにより読取可能な１以上のメモリ装置（たとえば、内部メモリ、および／または１以上の有形の媒体）内などに、保存される。ここで記載される、構成、機能、アプローチ、および技術は、様々なプロセッサを有する、様々な商業コンピューティングプラットフォーム上で、実施される。

たとえば、サンプル１５０の、収集、配送、および／または分析を制御するために、分析システム１０２、リモートサンプリングシステム１０４、バルブ１４８、ポンプ、および／または検出部（たとえば、第一の検出部１２６、第二の検出部１２８、サンプル検出部１３０）などの、１以上のシステムの構成要素が、コントローラ１１８に接続される。たとえば、第一の検出部１２６および第二の検出部１２８により、成功となる「キャッチ」が示されたるとき（たとえば、両方のセンサが液体を検出するとき）、サンプルループ１６４を分析システム１０２に接続するようにバルブ１４８を切り替えるように、そしてサンプルループ１６４から分析システム１０２へサンプル１５０を向けるように、コントローラ１１８は構成される。さらに、コントローラ１１８は、「不成功となるキャッチ」（たとえば、分析システム１０２による完全な分析のために十分なサンプル１５０で、サンプルループ１６４が満たされていないとき）を決定する機能を実施する。幾つかの実施の形態において、たとえば、第一の検出部１２６又は第二の検出部１２８などのセンサから受信される信号の信号強度の変化に基づいて、「不成功となるキャッチ」が決定される。他の実施の形態において、第一の検出部１２６が、サンプル受取りライン１６２内のサンプル１５０を示し、さらに、第二の検出部１２８が、サンプル受取りライン１６２内のサンプル１５０を示さなかった、所定の時間が経過したときに、「不成功なるキャッチ」が決定されてもよい。

幾つかの実施の形態において、コントローラ１１８は、第二の位置などのリモート位置で、インディケータと通信可能に接続されており、さらに、第一の位置で、十分けないサンプル１５０を受け取るときに、コントローラ１１８は、第二の位置で、兆候（indication)（たとえば、アラート）を提供する。兆候は、追加のサンプルの収集および配送を開始するために（たとえば、自動的に）、使用される。幾つかの実施の形態において、インディケータは、オペレーターに対して、アラートを提供する（たとえば、１以上のインディケータライトを介して、ディスプレイ上の読み出された情報を介して、これらの組合せなど）。さらに、兆候は、１以上の所定の条件（たとえば、複数のサンプルを逃したときのみ）に基づいて、時限調整され、および／または開始される。幾つかの実施の形態において、インディケータは、リモートサンプリングサイトで測定される条件に基づいて、作動してもよい。たとえば、サンプル１５０がリモートサンプリングシステム１０４へ供給されたときを決定するために、第二の位置における検出部１３０を使用してもよく、さらに、サンプル１５０が収集されないとき、インディケータは作動する。

幾つかの実施の形態において、コントローラ１１８は、異なるリモート位置からのサンプルの収集に対して、および／またはサンプル１５０の異なる種類に対して、異なるタイミングを提供することができる。たとえば、リモートサンプリングシステム１０４が、サンプル搬送ライン１４４へとサンプル１５０を配送する準備ができたとき、コントローラ１１８はアラートを受け、さらに、コントローラ１１８は、サンプル搬送ライン１４４内へのサンプル１５０の搬送を開始する。サンプル１５０に関連した識別情報を受信するため（および、可能性として、ログ／記録するため）、および／または、サンプル１５０がシステム１００内に配送される順序を制御するため、コントローラ１１８は、１以上のリモートサンプリングシステム１０２と、通信可能に接続されてもよい。たとえば、コントローラ１１８は、複数のサンプル１５０を、リモートよりキュー（queue）し、さらに１以上のサンプル搬送ライン１４４を通したサンプルの配送を調整する。このようにして、複数の同時フローパスに沿って（たとえば、複数のサンプル搬送ライン１４４を通した）、サンプル１５０の配送が調整され、１以上の追加サンプル１５０が受け取られる一方で、１以上のサンプル１５０が搬送される等する。

図４に示されているように、コントローラ１１８は、プロセッサ１２０、メモリ１２２、および通信インターフェース１２４を、備える。プロセッサ１２０は、コントローラ１１８のプロセシング機能を提供し、如何なる数のプロセッサ、マイクロコントローラ、または他のプロセシングシステム、およびコントローラ１１８によりアクセスされ又は生成されたデータおよび他の情報を格納する常駐（resident）又は外部メモリを、備える。プロセッサ１２０は、ここで説明される技術を実施する、１以上のソフトウェアプログラムを、実行することができる。プロセッサ１２０は、それが形成される部材、またはそこで採用されるプロセシング機構には、限定されない。したがって、プロセッサ１２０は、半導体および／またはトランジスタ（たとえば、電子集積回路（ＩＣ）部品を用いる）などを介して、実装される。

メモリ１２２は、ここで説明される機能を実行するに、たとえばソフトウェアプログラムおよび／またはコードセグメントなどのコントローラ１１８の動作に関連した様々なデータ、またはプロセッサ１２０および可能性としてコントローラ１１８の他の部品を指示する他のデータを、格納する格納機能を提供する、有形のコンピュータ読取り可能な記憶媒体の一例である。よって、メモリ１２２は、システム１００（その部品を含む）を動作させるための指示プログラムなどの、データ等を格納することができる。単一のメモリについて説明されているが、幅広い様々なメモリのタイプおよび組合せ（たとえば、有形の一時的でないメモリ）を採用することができる、ということに留意すべきである。メモリ１２２は、プロセッサ１２０と一体とすることができ、スタンドアロンメモリを含むことができ、または両方の組合わせであってもよい。

限定されないが、メモリ１２２は、たとえば、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、リードオンリメモリ（ＲＯＭ）、フラッシュメモリ（たとえば、セキュアデジタル（ＳＤ）メモリカード、ミニＳＤメモリカード、および／またはマイクロＳＤメモリカード）、磁気メモリ、光学メモリ、ユニバーサルシリアルバス（ＵＳＢ）メモリ装置、ハードディスクメモリ、外部メモリ等の、取り外し可能および取り外し不可能なメモリ部品を、含む。実施において、システム１００および／またはメモリ１２２は、取り外し可能な集積回路カード（ＩＣＣ）メモリ、たとえば、加入者識別モジュール（ＳＩＭ）カード、ユニバーサル加入者識別モジュール（ＵＳＩＭ）、ユニバーサル集積回路カード（ＵＩＣＣ）などにより提供されるメモリ１２２を、含むことができる。

通信インターフェース１２４は、システムの構成要素と通信するように、動作可能に構成されている。たとえば、通信インターフェース１２４は、システム１００内の格納部に対するデータを転送する、システム１００内の格納部からデータを読み出すように、構成される。システム１００の構成要素とプロセッサ１２０との間のデータ転送を促進するために（たとえば、コントローラ１１８と通信可能に接続された装置から受信されるインプットを、プロセッサ１２０へ通信するために）、通信インターフェース１２４は、通信可能にプロセッサ１２０に接続されてもよい。通信インターフェース１２４が、コントローラ１１８の構成要素として説明されているが、通信インターフェース１２４の１つ以上の構成要素が、有線および／または無線通信を介して、システム１００と通信可能に接続された外部要素として、実装されてもよい、ということに留意すべきである。システム１００は、限定されないが、表示装置、マウス、タッチパッド、キーボードなどを含む、１以上のインプット／アウトプット（Ｉ／Ｏ）デバイスを（たとえば、通信インターフェース１２４を介して）、備えていてもよく、および／または１以上のインプット／アウトプット（Ｉ／Ｏ）デバイスと接続されていてもよい。

通信インターフェース１２４および／またはプロセッサ１２０は、限定されないが、たとえば、３Ｇセルネットワーク、４Ｇセルネットワーク、または移動通信のためのグローバルシステム（ＧＳＭ）ネットワークなどの広域携帯電話ネットワーク；たとえば、Ｗｉ−Ｆｉネットワーク（たとえば、ＩＥＥＥ ８０２．１１ネットワーク標準により作動される無線ローカルエリアネットワーク（ＷＬＡＮ））などの無線コンピュータ通信ネットワーク；インターネット；インターネット；広域ネットワーク（ＷＡＮ）；ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）；パーソナルエリアネットワーク（ＰＡＮ）（たとえば、ＩＥＥＥ ８０２．１５ネットワーク標準を用いて作動される無線パーソナルエリアネットワーク（ＷＰＡＮ））；公衆電話ネットワーク；エクストラネット；イントラネットなどを含む、異なる様々なネットワークと通信するように構成される。しかしながら、当該リストは、単なる一例として提供されるものであり、本開示を限定するものではない。さらに、通信インターフェース１２４は、単一ネットワークまたは異なるアクセスポイントに渡る複数のネットワークと、通信するように構成されてもよい。

図５を参照して、実施例において、サンプル検出部１３０は、たとえば図４の第一の検出部１２６および／または第二の検出部１２８は、光分析部１３２、光学センサ１３４、伝導度センサ１３６、金属センサ１３８、導電センサ１４０、および／または圧力センサ１４２を、含む。第一の検出部１２６および／または第二の検出部１２８は、他のセンサを含むことも考えられる。たとえば、第一の検出部１２６は、サンプルループ１６４にサンプル１５０が入ったときを検出する光分析部１３２を含んでいてもよく、さらに、サンプルループ１６４が満たされたときを検出する他の光分析部１３２を含んでいてもよい。これ例は、「成功となるキャッチ」と称される。光分析部１３２は、単なる例として提供されるものであり、本開示を限定する主旨のものではない、ということに留意すべきである。限定されないが、他の例の検出部は、光学センサ、伝導度センサ、金属センサ、導電センサ、圧力センサなどを、含む。

図６を参照して、例となるシステム６００は、分析システム１０２と流体的に接続されたリモートサンプリングシステム１０４を、備える。ここで、分析システム１０２は、リモートサンプリングシステム１０４から受取るサンプルの分析のための３つの分析装置（ＩＣＰＭＳ６０２、イオンクロマトグラフ（ＩＣ）カラム６０４、フーリエ変換赤外分光分析（ＦＴＩＲ）６０６として示されている）と接続された、多位置バルブ６１０を備える。図６は、分析システム１０２が３つの分析装置を備える実施の形態を、示している一方で、分析システム１０２は、より少ない（たとえば、３つ未満）又はより多くの（たとえば、３つより多い）分析装置１１２を、備えてもよい。

図７を参照して、例となるシステムは、連続的な液体サンプルセグメントが、サンプル受取りライン１６２に含まれるとき、および／または、分析のため（たとえば、分析システム１０２による）、サンプルループ１６４が、十分な量の連続的な液体サンプルセグメントを含むとき、を決定することができる。例となる実施の形態において、第一の検出部１２６は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置での液体（たとえば、液体サンプルセグメント）の存在、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置に液体がないなどを表す、２以上の状態を決定するように構成される。たとえば、第一の状態（たとえば、ハイ状態のような第一の論理レベルにより表される）は、（たとえば、第一の検出部１２６に隣接する）サンプル受取りライン１６２内の第一の位置での液体サンプルセグメントの存在を表すために、使用され、および、第二の状態（たとえば、ロー状態のような第二の論理レベルにより表される）は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置に液体サンプルセグメントがない（たとえば、サンプル受取りライン１６２内のボイド又はガス）ことを表すために、使用される。

幾つかの実施の形態において、第一の検出部１２６は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置での液体の存在を検出するために使用される（たとえば、液体が存在するときの、第一の位置に近接するサンプル受取りライン１６２内における圧力の増加を検出することにより）、圧力センサ１４２を備える。第一の検出部１２６は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置における液体の不存在を検出する（たとえば、第一の位置に近接するサンプル受取りライン１６２内における圧力の減少を検出することにより）ためにも、使用される。しかしながら、圧力センサは、例として提供されるものであり、本開示を限定する意図はない。他の実施の形態において、第一の検出部１２６は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置での液体の存在を検出する（たとえば、液体が存在するときの、第一の位置に近接するサンプル受取りライン１６２を通過する光の減少を検出することにより）ために使用される、光学センサ１３４を備えていてもよい。第一の検出部１２６は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置における液体の不存在を検出する（たとえば、第一の位置に近接するサンプル受取りライン１６２を通過する光の増加を検出することにより）ためにも、使用される。これらの例において、第一の検出部１２６は、ハイ状態として、第一の位置での液体サンプルの存在を通知し、ロー状態として、第一の位置での液体サンプルの不存在を、通知する。

幾つかの実施の形態において、システム１００は、第二の検出部１２８、第三の検出部などの、１以上の追加の検出部を備えてもよい。たとえば、第二の検出部１２８は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での液体（たとえば、液体サンプルセグメント）の存在、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での液体の不存在などを表すことができる、２以上の状態を決定するように構成されてもよい。たとえば、第一の状態（たとえば、ハイ状態のような第一の論理レベルにより表される）は、（たとえば、第二の検出部１２８に隣接する）サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での液体サンプルセグメントの存在を表すために、使用され、および、第二の状態（たとえば、ロー状態のような第二の論理レベルにより表される）は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置に液体サンプルセグメントがないことを表すために、使用される。

幾つかの実施の形態において、第二の検出部１２８は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での液体の存在を検出するために使用される（たとえば、液体が存在するときの、第二の位置に近接するサンプル受取りライン１６２内における圧力の増加を検出することにより）、圧力センサ１４２を備える。第二の検出部１２８は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置における液体の不存在を検出する（たとえば、第二の位置に近接するサンプル受取りライン１６２内における圧力の減少を検出することにより）ためにも、使用される。しかしながら、圧力センサは、例として提供されるものであり、本開示を限定する意図はない。他の実施の形態において、第二の検出部１２８は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での液体の存在を検出する（たとえば、液体が存在するときの、第二の位置に近接するサンプル受取りライン１６２を通過する光の減少を検出することにより）ために使用される、光学センサ１３４を備えていてもよい。第二の検出部１２８は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置における液体の不存在を検出する（たとえば、第二の位置に近接するサンプル受取りライン１６２を通過する光の増加を検出することにより）ためにも、使用される。これらの例において、第二の検出部１２８は、ハイ状態として、第二の位置での液体サンプルの存在を通知し、ロー状態として、第二の位置での液体サンプルの不存在を、通知する。

コントローラ１１８（図４に示される）は、１以上検出部１２６，１２８と通信可能に接続され、さらに、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置、サンプル受取りライン１６２内の他の位置等での液体の検知を行う（register）。たとえば、コントローラ１１８は、第一の検出部１２６を用いた検出動作を開始、さらに、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置の液体が、コントローラ１１８により検知される（たとえば、第一の検出部１２６により決定されるように、ローからハイへの状態の変化を、コントローラ１１８が検知するとき）。その後、第一の検出部１２６はモニタされ（たとえば、連続的に、少なくとも実質連続的に）、そして、コントローラ１１８は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置での液体の不存在を、続いて検知する（たとえば、第一の検出部１２６により決定されるように、ハイからローへの状態の変化を、コントローラ１１８が検知するとき）。

同様に、コントローラ１１８は、第二の検出部１２８を用いた検出動作を開始、さらに、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置の液体が、コントローラ１１８により検知される（たとえば、第二の検出部１２８により決定されるように、ローからハイへの状態の変化を、コントローラ１１８が検知するとき）。その後、第二の検出部１２８はモニタされ（たとえば、連続的に、少なくとも実質連続的に）、そして、コントローラ１１８は、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での液体の不存在を、続いて検知する（たとえば、第二の検出部１２８により決定されるように、ハイからローへの状態の変化を、コントローラ１１８が検知するとき）。

コントローラ１１８および／または１以上の検出部１２６，１２８は、システム１００に対してあるイベント（たとえば、サンプル受取りライン１６２内の複数の位置での、特定の時間における、液体の存在又は不存在）のタイミングを提供するタイマーの動作を含み、または影響を与える。例として、コントローラ１１８は、時間をモニタする。当該時間に、（たとえば、液体を、排出または保持ループへ方向付けるのとは異なり）液体サンプルを分析システム１０２に方向づけすることができるかどうかに関する決定を行うために、複数の検出部により、状態の変化が検知される。他の例として、コントローラ１１８は、検出部１２６，１２８を介してコントローラ１１８により検知された状態の変化に基づいて、サンプル受取りライン１６２および／またはサンプルループ１６４内で、液体が費やした時間を、モニタする。

図８Ａを参照して、サンプル搬送ライン１４４は、複数のサンプルセグメントを含む。一般的に、関連する分析装置に近接して（たとえば、分析装置の隣のオートサンプラー）、サンプルが取得されたとき、サンプルは、実質的なサンプル量を必要とせず、サンプル源と分析装置との間の全距離にわたって延びる。しかしながら、長い距離のサンプルの搬送に対して、リモートサンプリングシステム１０４と分析システム１０２との間の全搬送ライン１４４（図２Ａおよび２Ｂに示されるように）を満たすことは（たとえば、サンプル長さは、数百メートルに達する）、たとえば、未使用のサンプル部分の廃棄物に関する環境問題、サンプルの粘性等のために、禁止され又は望まれない。したがって、実施の形態において、リモートサンプリングシステム１０４は、サンプルにより、全搬送ライン１４４を満たさなくてもよく、むしろ、分析システム１０２による分析のために、搬送ライン１４４の総体積の部分を示す液体サンプルセグメントが、搬送ライン１４４を介して、送られる。たとえば、搬送ライン１４４は、数百メートルの長さに達し得る一方で、分析システム１０２への搬送の間である所定の時間において、サンプルは、搬送ライン１４４の約１ｍ以下を占める。ラインを介した液体サンプルセグメントの送信が、リモートサンプリングシステム１０４から送られるサンプルの量を減らすことができる一方で、分析システム１０２への搬送の間、サンプル搬送ライン１４４内において、サンプルに、バブル又はギャップ／ボイドが生じ得る。搬送の間のチューブ間における穴の変化のような、サンプルの長距離搬送に関連した環境、サンプル間のラインの清浄のために使用される、クリーニング液体の残存との作用、ライン内の残存流体との反応、および搬送ラインのスパンに沿った圧力差などのため、上記バブル又はギャップ／ボイドは形成される。

実施の形態の例において、液体サンプル８００は、リモートサンプリングシステム１０４から、搬送ライン１４４を介して、分析システム１０２が配置される第一の位置へと、送信される。リモートサンプリングシステム１０４により得られるサンプルの総体積は、図８Ａにおいて、Ｖ_ＴＯＴとして、表されている。示されているように、リモートサンプリングシステム１０４からの搬送の間に、搬送ライン１４４において、ギャップ又はボイド８０２が形成され得る。ギャップ又はボイド８０２が、分析システム１０２による分析のための、十分な量又は体積のサンプルを含まない多くのサンプルセグメント８０４を分割する。分析システム１０２による分析に十分な体積（Ｖ_{ＳＡＭＰＬＥ}として示される）を有する、より大きなサンプルセグメント８０６の前および／または後に、上記サンプルセグメント８０４が位置する。実施の形態において、リモートサンプリングシステム１０４により収集されたサンプルの量（たとえば、Ｖ_ＴＯＴ）は、分析装置１１２による分析に対して、十分な量のサンプル１５０を提供するように、調整される。たとえば、「捕獲される」サンプル１５０の量に対する、「投入される」サンプル１５０の量の体積比（たとえば、Ｖ_ＴＯＴ／Ｖ_{ＳＡＭＰＬＥ}）は、少なくとも約１と１／４（１．２５）である。しかしながら、当該比の値は、単なる一例として提供されるものであり、本開示を限定する主旨ではない。幾つかの実施の形態において、当該比の値は、１と１／４よりも大きく、さらに他の実施の形態において、当該比の値は、１と１／４よりも小さい。例となる実施の形態において、２と１／２ミリリットル（２．５ｍＬ）のサンプル１５０（たとえば、濃縮された、硫酸または硝酸）が投入され、１ミリリットル（１ｍＬ）のサンプル１５０が捕獲される。他の例の実施の形態において、１と１／２ミリリットル（１．５ｍＬ）のサンプル１５０が投入され、１ミリリットル（１ｍＬ）のサンプル１５０が捕獲される。本開示の実施の形態において、「投入される」サンプル１５０の量は、第一の位置と第二の位置のとの距離、第一の位置と第二の位置間のサンプル搬送ラインのチュービングの量、サンプル搬送ライン１４４内の圧力などを考慮して、調整される。一般的に、搬送の間にサンプル搬送ライン１４４内に形成される、ギャップ／ボイド８０２およびサンプルセグメント８０４を考慮して、比Ｖ_ＴＯＴ／Ｖ_{ＳＡＭＰＬＥ}は、１よりも大きい。

幾つかの実施の形態において、システム１００は、サンプル搬送ライン１４４に供給されるガス圧の制御を通して、適正な、連続的した液体サンプルセグメントの搬送を、促進する。たとえば、低表面張力を有する、またはサンプルの表面張力を人工的に低くする界面活性剤を有する、サンプルに対して、搬送ライン１４４を通したサンプルの押出しのために、ガス圧の急激な適用を行った場合、当該サンプルに、複数のガスバブルが生じ得り、分析システム１０２による分析に適する連続した液体サンプルセグメント８０６の代わりに、ギャップ／ボイド８０２が生成され、結果として、より小さいサンプルセグメント８０４が生成され得る。ガス圧の急激な適用は、オフ構成からフルオン構成（たとえば、搬送ライン１４４を通してサンプル１５０を搬送するための所定の搬送圧力）への、ガス供給部１４６からのガス流の制御による。実施において、経時的な圧力の周期的な又は徐々の増加により、搬送ライン１４４を介した搬送に対して、ガス供給部１４６からサンプルへ提供されるガスの圧力を調整するために、フロー制御部は、ガス供給に接続される。たとえば、フロー制御部は、期間に渡る圧力の連続的又は周期的な増加により、第一の状態（たとえば、オフ状態、ベース圧力、ゼロ圧力など）から、第二の状態に至るまで（たとえば、所定の搬送圧力、最大搬送圧力など）、ガス供給部１４６からのガス流を制御することができる。実施において、圧力を増加する当該期間は、第一の状態から第二の状態までで、約１分である。限定されないが、圧力の増加は、圧力の直線的増加、圧力の非直線的な増加、圧力の周期的な又はステップ状の増加、またはこれらの組合せを、含む。実施において、フロー制御部は、リモートサンプリングシステム１０４から搬送されるサンプルのサンプル識別に応じて、圧力増加を制御することができる。たとえば、コンピュータが特定のサンプル識別に関連した圧力増加計画（ｒｅｇｉｍｅｎｓ）を有する事前のテーブルにアクセスできる場合、適切な当該圧力増加計画を制御するコンピュータ制御下において、フロー制御部は動作する。所定のサンプル識別に対して、コンピュータは、リモートサンプリングシステム１０４から転送されるサンプルのサンプル識別を識別することができ、サンプルを搬送するため、フロー制御部が、ガス供給部１４６からのガス流における圧力増加を制御するための、対応する圧力増加計画を読み込むことができる。実施において、フロー制御部は、上記の背圧システム２００、図３Ｃで示された追加のバッファ液体導入システム３００、またはこれらの組合せと組合せで、使用される。

図８Ｂを参照して、例となる実施の形態において、システム１００内の背圧の導入を介して（たとえば、搬送ライン１４４を通したサンプル１５０の搬送の間）、システム１００は、適切な連続の液体サンプルセグメントの搬送を、促進することができる。たとえば、サンプルが、高蒸気圧を有する、低表面直力を有する、または、搬送ライン内でサンプルが自然にセグメント化し又は脱ガスする傾向を引起す他の特徴を有する、液体を含む場合、リモートサンプリングシステム１０４からのサンプルの搬送の間、搬送ライン１４４へ背圧を導入するように構成された、背圧システム２００を、システム１００は備える。背圧チェンバー２０２ａ，２０２ｂ内で加圧されたバスを受取るために、ガス圧源２０４と流体的に接続された、二つの背圧チェンバー２０２ａ，２０２ｂを有する、背圧システム２００が示されている。二つの背圧チェンバーが示されているが、システム１００は、二つの背圧チェンバーに限定されず、１つの背圧チェンバーであっても、または３以上の背圧チェンバーであってもよい。搬送ライン１４４を介したサンプル１５０の搬送に対して背圧を提供するために、ガス圧源２０４は、アルゴンに限定されないが、アルゴンを含む、不活性ガスの源を含み得る。

背圧チェンバー２０２ａ，２０２ｂにより受取られる、ガス圧源２０４からのガスの出力圧力を制御するため、ガス圧源２０４は、圧力制御部２０６に接続される。一般的に、搬送ライン１４４へ背圧を供給するために、圧力制御部２０６は、ガス圧源２０４からのガスの出力圧力を制御する。背圧は、連続する液体サンプルセグメント８０６を維持しつつ、搬送ライン１４４を介したサンプルの通過を許すための、リモートサンプリングシステム１０４により供給される搬送圧力より小さい。たとえば、圧力制御部２０６は、ガス圧源２０４から背圧チェンバー２０２ａ，２０２ｂへ、１バー（ｂａｒ）圧力のガスを供給することができる。これに対して、サンプルループ１６４に向けて、搬送ライン１４４を介してサンプル１５０を搬送するために、リモートサンプリングシステム１０４は、たとえば供給圧力が２バー等、１バーの背圧を超える圧力で、サンプル１５０を供給することができる。実施において、サンプルの流れを維持するために、リモートサンプリングシステム１０４は、流量（ｆｌｏｗ ｒａｔｅ）又は圧力差、または流量と圧力差との両方の組合せを制御する、制御部を備えていてもよい。これは、システム１００に導入されるサンプルの種類に基づく。たとえば、上記制御部は、搬送のために、背圧システムよりも高い、一定の圧力を供給するガス制御部を、制御する。他の実施の形態において、搬送ライン１４４を通したリモートサンプリングシステム１０４から、所望のマスフロー率のサンプルを押出すように、上記制御部は、マスフロー制御部を制御する。ガス供給の圧力が、マスフロー制御部により制御又は変化される場合において、搬送ライン１４４を通して流体を押すために、ガス供給（たとえば、ガス供給部１４６）の制御により、マスフロー制御部は、搬送ライン１４４内の流体の一定の流れを提供する。たとえば、現在の流量を維持するため、または搬送の間の搬送ライン１４４の状況の変化、背圧の変化等に基づいて、他のフロー設定へ変更するために、マスフロー制御部は、搬送ライン１４４へ供給されるガスの圧力を変えることができる。

図８Ｃを参照して、他の選択的なバッファ液体導入システム３００について、説明する。分析システム１０２へ送られるサンプルとリモートサンプリングシステム１０４との間の搬送ライン１４４内に位置するバッファ液体へ、ガス圧を印加することを通して、図１〜８Ｂのシステム１００は、適切な連続する液体サンプルセグメントの搬送を促進する。たとえば、低表面張力を有する、またはサンプルの表面張力を人工的に低くする界面活性剤を有する、サンプルに対して、搬送ライン１４４を通したサンプルの押出しのために、ガス圧の急激な適用をサンプルに対して行った場合、当該サンプルに、複数のガスバブルが生じ得り、分析システム１０２による分析に適する連続した液体サンプルセグメント８０６の代わりに、ギャップ又はボイド８０２が生成され、結果として、より小さいサンプルセグメント８０４が生成され得る。実施の形態において、リモートサンプリングシステム１０４は、搬送ライン１４４へサンプル１５０を導入し、続いて、搬送ライン１４４へバッファ液（たとえば、ＤＩ水）を導入する。ガス供給部１４６からの最初のガスの存在、バッファ液を有するループを保持するバルブと、サンプルを有するループを保持するバルブとの間のボイドスペース等などを介して、ギャップ又はボイド８０２又はブローホールが、サンプル１５０とバッファ液との間に、存在する。その後、バッファ液を押出すために、リモートサンプリングシステム１０４は、ガス供給部１４６からのガス流を導入することができ、このことは、転じて、搬送ライン１４４を介してサンプル１５０（たとえば、連続する液体サンプルセグメント８０６）を押出すために、サンプル１５０とバッファ液との間のギャップ又はボイド８０２又はブローホールを、押出す。

図８Ｃを再度参照して、バッファ液導入システムは（たとえば、１以上のリモートサンプリングシステム１０４において）、ガス供給部１４６からのガスとサンプル１５０との間の搬送ラインへ、バッファ液を導入してもよい。サンプルループ３０２にサンプル１５０を投入し、バッファループ３０４にバッファ液を投入するために、バッファ液導入システム３００は、図８Ｃの投入構成内にある。搬送ライン１４４へ導入される流体を操作するバッファ液導入システム３００を介した液体流路を制御するため、バッファ液導入システム３００は、１以上のバルブ（回転バルブ、選択バルブ、多ポートバルブなど）を含むバルブシステム３０６を含んでもよい。たとえば、バルブシステム３０６は、バッファ液導入システム３００を通る液体の流れを検出する複数の構成間で切替可能な、バルブ３０８，３１０，３１２，３１４を含む。投入構成において、サンプル１５０は、バルブ３１４を介して、バルブ３１２へ方向付けられ、その後、バルブ３１２が、サンプル１５０を、廃棄物となる余剰の流れと共に、バルブ３０８へ及びサンプルループ３０２内へ、方向付ける。当該投入構成は、バッファループ３０４内へのバッファ液体の投入も、含むことができる。たとえば、バッファ液体（たとえば、ＤＩ水）は、バルブ３１０へ及びバッファループ３０４内へ、方向付けられてもよい。実施において、サンプルループ３０２へサンプルを投入すること、およびバッファループ３０４へバッファ液体を投入することは、実質、同時に行ってもよい。これとは別に、バルブ３１０が投入構成にあるときはいつでも、バッファループ３０４を満たすために、常に又は時折、バッファ液体をバルブ３１０へ提供してもよい。たとえば、ガス供給部１４６からバルブ３１４へガスを供給するなど、投入構成の間、ガスを搬送ライン１４４へ供給される。投入構成において、バルブ３１４は、バルブ３１０と流体的に接続され、当該バルブ３１０は、バルブ３０８と流体的に接続される。

図８Ｄを参照して、分析のために分析システム１０２へサンプルを搬送するために、バッファ液体導入システム３００は、バッファループ３０４及びサンプルループ３０２内に保持されている液体を、搬送ライン１４４へ押出す、搬送構成にある。たとえば、搬送構成において、バルブ３０８へ向けて、バッファループ３０４外へ、当該バッファループ３０４内に保持されているバッファ液体を押出すために、ガス供給部１４６からのガスを、バルブ３１０へ方向付けする。バッファ液体は、バルブ３１０とバルブ３０８との間の流通を提供する液体ライン３１６内に存するガスを、押す。液体ライン３１６内に存するガスは、転じて、搬送ライン１４４内へサンプルを押出すために、サンプルループ３０２内に保持されているサンプルを、押す。たとえば、図８Ｅを参照して、搬送ライン１４４の例が示されている。ここで、ガス供給部１４６からのガス圧により、ガス３１８は、他のセクションのガス３２２（たとえば、投入構成と搬送構成との間の液体ライン３１６内に存するガス）に対して、バッファ液体３２０を押し、転じて、分析システム１０２へ搬送するために、このことが、サンプルセグメント３２４を押す。実施において、たとえば、ガス３１８がサンプルセグメント３２４内にバブルを導入することを防止することにより、分析システム１０２による分析に適した連続的な液体サンプルセグメント（たとえば、連続的な液体サンプルセグメント８０６）を維持するため、バッファ液体３２０は、ガス３１８とサンプルセグメント３２４との間に、バリアを提供する。たとえば、ガス３１８が直接サンプルセグメント３２４を押すこととは異なり、バッファ液体３２０がガス３１８からの初期圧力の力を受取る一方で、制御された態様でサンプルセグメント３２４を押すために、バッファ液体３２０がガス３２２を圧縮する。搬送に続いて、リンス工程は、リンス液体（たとえば、ＤＩ水）を、バルブ３１２へ導入することができる。バルブ３１２は、バルブ３１０、バッファループ３０４、バルブ３０８、およびサンプルループ３０２へ、リンス液体を導入するために、構成を切替える。これとは別に、別途のリンス工程なしに、バッファ液体が、搬送の間に、液体ラインを清浄してもよい。たとえば、分析システム１０２へのサンプルの搬送の間に、システム１００の液体ラインを清浄する、十分な体積のバッファ液体を提供するために、バッファループ３０４の体積は、選択されてもよい。

図８Ｆを参照して、例となる実施において、ガス供給部１４６からのガス圧に対してバッファを提供するために、搬送ライン１４４へ、複数のバッファ液体を導入する。第二のバッファループ３２８を有するバルブ３２６は、バルブ３１０とバルブ３０８との間に挿入されてもよい。液体ライン３３０は、バルブ３１０とバルブ３２６とを接続し、液体ライン３３２は、バルブ３０８とバルブ３２６とを接続する。サンプルと複数のバッファ液体の一つとの間、または各バッファ液体の間に、ガススペーシングを提供するために、投入構成と搬送構成との間に、ガスが、液体ライン３３０，３３２に存する。バッファループ３０４及び第二のバッファループ３２８を満たすため、バッファ液体源からバルブ３１０とバルブ３２６との各々への流通を提供するため、液体ライン３３４は、バルブ３１０とバルブ３２６とを接続する。これとは別に、分析システムへサンプルを搬送する間、搬送ライン１４４内に異なるバッファ液体を提供するために、バルブ３２６へ、異なるバッファ液体を導入してもよい。

図８Ｇを参照して、例となる実施の形態において、搬送ライン１４４が示されている。ここで、ガス供給部１４６からのガス圧により、ガス３３６は、他のセクションのガス３４０（たとえば、投入構成と搬送構成との間に、液体ライン３３０内に存するガス）に対して、第一のバッファ液体３３８（たとえば、バッファループ３０４内に保持される）を押し、このことが、第二のバッファ液体３４２（たとえば、第二のバッファループ３２８内に保持される）を押し、このことが、更なるセクションのガス３４４（たとえば、投入構成と搬送構成との間に、液体ライン３３２内に存するガス）を押し、転じて、分析システム１０２への転送のために、このことが、サンプルセグメント３４６を押す。実施において、たとえば、ガス３３６がサンプルセグメント３４６内にバブルを導入することを防止することにより、分析システム１０２による分析に適した連続的な液体サンプルセグメント（たとえば、連続的な液体サンプルセグメント８０６）を維持するため、バッファ液体３３８，３４２は、ガス３３６とサンプルセグメント３４６との間に、バリアを提供する。たとえば、ガス３３６が直接サンプルセグメント３４６を押すこととは異なり、バッファ液体３３８がガス３３６からの初期圧力の力を受取る一方で、制御された態様でサンプルセグメント３４６を押すために、バッファ液体３３８，３４２がガス３４０，３４４を圧縮する。実施において、バッファ液体導入システム３００は、上述の背圧システム２００、上述のフロー制御部、またはこれらの組合せと、組合せえて使用されてもよい。

実施において、システム１００は、分析システム１０２へ各サンプルを搬送する、複数のリモートサンプリングシステム１０４のそれを、選択することができる（たとえば、「ピッチ」）。これにより、検出部１２６は、分析システム１０２へ送るために十分なサンプルが存在するか（たとえば、サンプルループ１６４内のＶ_{ＳＡＭＰＬＥ}）どうか（たとえば、「キャッチ」）、またはボイドまたはギャップがライン内に存在するか（たとえば、検出部１２６間に）どうかの、決定を促進し、これにより、特定の時間に、サンプルを分析システム１０２へ送るべきでない。仮に、バブル又はギャップが存在するなら（たとえば、サンプルループ１６４内において）、特に、もし、サンプルが希釈され、または分析装置１１２への導入前に分析システム１０２でさらに希釈されるなら、分析装置１１２は、「ブランク」溶液を分析することができるので、当該存在が、サンプルの分析の正確性を損なう。

幾つかの実施の形態において、システム１００は、連続的な液体サンプルセグメント（たとえば、サンプルセグメント８０６）が、サンプル受取りライン１６２および／またはサンプルループ１６４内に含まれる時を決定するように、構成することができ、これにより、システム１００は、分析装置１１２へ、ギャップ又はボイド８０２またはより小さいサンプルセグメント８０４を搬送することを、防止することができる。たとえば、システム１００は、サンプル受取りライン１６２に沿って、第一の位置の位置に、第一の検出部１２６を含むことができ、サンプル受取りライン１６２に沿って（たとえば、第一の位置からの下流で）第二の位置に、第二の検出部１２６を含むことができる。システム１００は、第一の検出部１２６および第二の検出部１２８の間に、サンプルループ１６４を含んでもよい。実施の形態において、たとえば、少なくとも二つの流路構成（たとえば、図３Ａに示したバルブ１４８の第一の流路構成；図３Ｂに示したバルブ１４８の第二の流路構成など）間で切替可能な多ポートバルブのような、バルブは、第一の検出部１２６とサンプルループ１６４との間、および第二の検出部１２８とサンプルループ１６４との間に、配置される。本開示の実施の形態において、第一の位置での第一の検出部１２６を介したハイからローへの状態の変化を検知されない一方で、システム１００は、第一の位置および第二の位置の両方で、同時に、液体を検知することにより、サンプル受取りライン１６２および／またはサンプルループ１６４内に、連続的な液体サンプルセグメントが含まれることを、決定することができる。つまり、第二の検出部１２６が液体サンプルの存在を検知するまで、第一の検出部１２６により検出される状態の変化なしに、第一の検出部１２６から第二の検出部１２６へ、連続的に、液体サンプルを転送してもよい。

図９を参照して、サンプル受取りラインへ供給され、二つの例となる検出部により検知される、複数の液体サンプルセグメントを例示するタイムラインが、記述されている。図９のタイムラインは、図７で説明さるようなシステム１００、または本明細書で説明されるシステム及び方法と共に、使用される。サンプル受取りラインが、検出部間に、連続する液体セグメントを含むときを決定するために、２以上の検出部が使用される、例となる実施の形態において、サンプル受取りライン内に、液体セグメントが受け取られる。たとえば、図７を参照して、サンプル受取りライン１６２は、液体サンプルセグメントを、受取ってもよい。その後、サンプル受取りライン内の第一の位置で、液体セグメントの存在および／または不存在を検出するように構成される、第一の検出部を用いた検出動作を開始することにより、サンプル受取りライン内の第一の位置で、液体セグメントを検知する。たとえば、図７を参照して、第一の検出部１２６は、ローからハイへの状態の変化として、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置での、液体サンプルセグメントを検出する。図９を参照して、第一の位置において、時刻ｔ_１，ｔ_５で、液体サンプルセグメントが検出される。その後、第一の位置での液体セグメントの検知に続いて、第一の検出部がモニタされてもよい。たとえば、図７を参照して、コントローラ１１８により、第一の検出部１２６がモニタされ、第一の検出部１２６は、ハイからローへの状態の変化として、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置における、液体サンプルセグメントの不存在を検出する。図９を参照して、第一の位置が、時刻ｔ_１，ｔ_５で始まって、モニタされ（たとえば、連続的に、少なくとも実質連続的に）、第一の位置で、時刻ｔ_３，ｔ_６において、液体サンプルセグメントの不存在が、検出される。

同様に、サンプル受取りライン内の第二の位置で、液体セグメントの存在および／または不存在を検出する、第二の検出部を用いた検出動作を開始することにより、サンプル受取りライン内の第二の位置で、液体セグメントを検知する。たとえば、図７を参照して、第二の検出部１２６は、ローからハイへの状態の変化として、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置での、液体サンプルセグメントを検出する。図９を参照して、第二の位置において、時刻ｔ_２，ｔ_７で、液体サンプルセグメントが検出される。その後、第二の位置での液体セグメントの検知に続いて、第二の検出部がモニタされてもよい。たとえば、図７を参照して、コントローラ１１８により、第二の検出部１２６がモニタされ、第二の検出部１２６は、ハイからローへの状態の変化として、サンプル受取りライン１６２内の第二の位置における、液体サンプルセグメントの不存在を検出する。図９を参照して、第二の位置が、時刻ｔ_２，ｔ_７で始まって、モニタされ（たとえば、連続的に、少なくとも実質連続的に）、第二の位置で、時刻ｔ_４，ｔ_８において、液体サンプルセグメントの不存在が、検出される。

第一の位置および第二の位置の両方で、同時に、液体が検知されるとき、第一の検出と第二の検出部との間のサンプル受取りライン内において、連続する液体セグメントが検知される。たとえば、図７を参照して、ハイ状態が、第一の検出部１２６および第二の検出部１２６の各々での、液体サンプルセグメントの存在を表すとき、コントローラ１１８は、サンプル受取りライン１６２内において、連続する液体サンプルセグメントを検知する（たとえば、第一の検出部１２６と第二の検出部１２６との間の存在として）。図９を参照して、第二の位置で、液体サンプルセグメントが検出されたとき、時刻ｔ_２で、連続する液体サンプルセグメントが検知される。

幾つかの実施の形態において、連続する液体セグメントがサンプル受取りライン内で検知されるとき、さらにサンプル受取りラインから分析設備への連続する液体セグメントの搬送を開始するときを、決定するために、論理積演算を利用することができる。たとえば、図７を参照して、コントローラ１１８は、第一の検出部１２６および第二の検出部１２６の各々でのハイ状態時に論理積演算を用い、バルブ１４８を用いて、サンプルループ１６４と分析装置１１２との選択的接続を開始する。これにより、分析装置１１２へ連続する液体サンプルセグメントを供給するために、サンプルループ１６４と分析装置１１２とが、流体的に接続される。幾つかの実施の形態において、第一の検出部１２６および第二の検出部１２６で、ローからハイへの状態変化が検知されたとき、コントローラ１１８は、分析装置１１２へ連続する液体サンプルセグメントを供給するために、バルブ１４８を切替えるかどうかのみを、決定する。幾つかの実施の形態において、サンプルループ１６４と分析装置との選択的接続を開始する前に、ある期間（たとえば、図９で示したｔ_Δ）の間、第二の検出部１２６でのハイ状態をモニタすることを、システム１００は要求してもよい。たとえば、コントローラ１１８および／またはプロセッサ１２０のタイマー又はタイマー機能は、第二の検出部１２６がハイ状態を維持した期間を、確認する。これにより、ひとたび、第二の検出部１２６が期間ｔ_Δ（たとえば、閾値期間）の間ハイ状態を維持しとき、および第一の検出部ハイ状態である場合、コントローラ１１８は、十分な液体サンプルセグメント（たとえば、図８Ａにおけるセグメント８０６）が捕らえられたことを決定し、分析装置１１２へ連続する液体サンプルセグメントを供給するために、バルブ１４８を切替える。ｔ_Δの期間は、ある期間に対応する。当該ある期間を超えて、第二の検出部がボイド又はバブルを測定することは可能性として低く、当該ある期間は、サンプルの流量または他の搬送条件に依存して、変化する。

幾つかの実施の形態において、コントローラ１１８は、ハイ状態および／またはロー状態で、第一の検出部１２６のタイミングをモニタする。たとえば、リモートサンプリングシステム１０４から搬送されるサンプルのフロー特徴が知られている場合の実施の形態において、第二の検出部１２６でのハイ状態の確認と共に又は確認なしに、コントローラ１１８に、分析装置１１２へサンプルを送らせるために、サンプル受取りライン１６２および／またはサンプルループ１６４内に、十分な液体サンプルが存在するかを概算するための、ハイ状態で費やされる時間の長さを決定するために、第一の検出部１２６がモニタされる。たとえば、サンプルの所定の流量に対して、第一の検出部１２６がハイ状態であった時間の長さをモニタリングすることにより、サンプルの体積を概算する。しかしながら、ポンプの機能性における振動、搬送されるサンプルの種類、サンプルの粘性、搬送の期間、搬送距離、大気温度条件、搬送ライン１４４の温度条件等のために、サンプルの流量は、すぐに明らかでない、よって、第二の検出部１２６の機能性は、有益である。

本開示の実施の形態において、ここで説明されたシステムおよび技術は、バブルの存在なしで、第一の検出部１２６と第二の検出部１２６との間のサンプル受取りライン（たとえば、サンプルループ）の一部が満たされることを、決定するために使用される。たとえば、図９を参照して説明されたように、時刻ｔ_１と時刻ｔ_５との間での、第一の位置における液体サンプルの不存在は、サンプル受取りライン１６２内におけるバブルの存在に、対応し得る。システム１００が、サンプル受取りライン１６２内にバブルが存在しないという条件に達したとき、サンプルループ１６４内の液体が分析装置１１２へ移動することができるように（分析または分析の前のサンプル条件のため）、コントローラ１１８は、バルブ１４８を切替える。

図１０を参照して、連続する液体サンプルセグメント内にギャップ又はボイドなくして、分析システムによる分析のために、サンプル受取りラインが連続する液体サンプルセグメント内に十分な量のサンプルを含むときを決定するために、２つの検出部が使用される、例となる実施の形態において、例となる工程８１０が説明される。示されているように、サンプル受取りラインにおいて、液体セグメントを受取る（ブロック８１２）。たとえば、サンプル受取りライン１６２は、リモートサンプリングシステム１０４により取得され、搬送ライン１４４を介して搬送される、サンプルを受取る。工程８１０は、第一の位置を通過すとき、液体セグメントの存在および／または不存在を検出するように構成された第一の検出部により、サンプル受取りライン内の第一の位置で、液体セグメントを検知することも、含む（ブロック８１４）。たとえば、第一の検出部１２６は、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置で、液体サンプルセグメントの存在を、測定する。図９を参照して、第一の位置において、時刻ｔ_１，ｔ_５で、液体サンプルセグメントが検出される。

次に、第一の位置での液体セグメントを検知したのち、第一の検出部は、モニタされる（ブロック８１６）。たとえば、サンプル受取りライン１６２内の第一の位置に、液体セグメントが存在しないか否か（たとえば、サンプル液体の検出を示す、ハイ状態から、サンプル液体が検出されない、ロー状態へと、第一の検出部１２６が移行したか否か）を決定するために、コントローラ１１８により、第一の検出部１２６はモニタされる。図９を参照して、第一の位置が、時刻ｔ_１，ｔ_５始まって、モニタされる（たとえば、連続的に、少なくとも実質連続的に）。その後、第二の位置での液体セグメントの存在および／または不存在を検出するように構成された、第二の検出部による検出動作を実行することにより、第一の位置からの下流である、サンプル受取りライン内の第二の位置で、液体セグメントを検知する前に、サンプル受取りライン内の第一の位置での液体セグメントの不存在を検知しないとき、連続する液体サンプルセグメントを、サンプル受取りライン内で検知する（ブロック８１８）。たとえば、図９を参照して、時刻ｔ_２，ｔ_７で、第二の検出部１２６が、サンプル液体の存在を検出する一方で、時刻ｔ_１，ｔ_５で、第一の検出部１２６は、サンプル液体の存在を検出する。第二の検出部がサンプルセグメントを検出する前の中間時間で、第一の検出部１２６が不存在を検出することなしに、第一の検出部の時刻ｔ_１と時刻ｔ_３との間の液体サンプルセグメントのみが、第二の検出部により検知される（時刻ｔ_２で始まって）。サンプルループ１６４内に含まれるサンプルを、分析装置１１２へ送るために、当該時刻に、コントローラ１１８は、バルブ１４８を切替える指示を行う。第一の検出部１２６が、ｔ_５で、液体サンプルの存在を検知する一方で、第二の検出部１２６が、ｔ_７で、液体サンプルの存在を続いて検知する前に、第一の検出部１２６が、ｔ_６で、液体サンプルの不存在をも検知する。したがって、システム１００は、ギャップ又はボイド（たとえば、ギャップ／ボイド８０２）が、サンプルループ１６４内に存在することを認識し、分析のためにバルブ１４８の切替えを行わず、代わりに、不十分なサンプルセグメント（たとえば、液体セグメント８０４）を、排出へと移動させる。ここで説明されるように、第一の検出部１２６が、その間に、ハイ状態を維持したのち、ひとたび、第二の検出部１２６が、ある期間（たとえば、ｔ_Δ）の間、ハイ状態を維持すると、バルブ１４８を切替えさせるために、タイマー（たとえば、コントローラ１１８により実装される）が使用される。

図１１を参照して、システム１００の制御フローチャートの例が、例示される。二つのリモートサンプリングシステム１０４ａ，１０４ｂおよび関連する搬送ライン１４４ａ，１４４ｂを介して、サンプル位置９００およびサンプル位置９０２などの二つのリモートサンプル位置と、分析システム１０２は、流体的に接続される。示された実施の形態において、分析システム１０２は、リモートサンプリングシステム１０４ａ，１０４ｂの各々に、９０４ａ，９０４ｂと各々示されるように、命令を送信する。リモートサンプリングシステム１０４およびリモートサンプリングシステム１０４ｂは、各サンプリング位置（リモートサンプリングシステム１０４ａに対するサンプリング位置９００、リモートサンプリングシステム１０４ｂに対するサンプリング位置９０２）で取得されたサンプルを、搬送ライン１４４ａ，１４４ｂの各々を介して、分析システム１０２へ、各々搬送する。その後、分析システム１０２は、サンプルに含まれる、様々な化学種の量を決定するために、サンプルを処理する。その後、分析システム１０２は、当該化学種の量が元素選択限界（element-specific limit）（たとえば、サンプルにおける特定の汚染物に対する限界）を超えているか否かを、決定する。実施の形態において、システム１００は、各サンプリング位置に対して、および各サンプリング位置独立での特定の化学種に対して、汚染物限界を個々に設定することができる。たとえば、特定の金属汚染物に対する耐性は、処理の間に減少する。なので、下流の化学サンプルは、上流で取られる化学サンプルに対するよりも、特定の化学種に対して、より低い限界を有する。

図１１に示すように、分析システム１０２は、リモートサンプリングシステム１０４ａにより、サンプリング位置９００で取得されるサンプルに対して、如何なる化学種も、如何なる元素限定限界を超えることがない、ということを決定する。その後、元素選択限界未満でのプロセスアプリケーションの動作により、サンプリング位置９００でのプロセスアプリケーションの継続を許可するため、分析システム１０２は、ＣＩＭ Ｈｏｓｔ（ホスト）９０６に、９０８ａで示される指示を送信する。分析システム１０２は、リモートサンプリングシステム１０４ｂにより、サンプリング位置９０２で取得されるサンプル内に存在する、少なくとも一つの化学種が、元素選択限界（たとえば、サンプル内の汚染物に対する限界）を超えることを、決定する。その後、元素選択限界より大きい状態でのプロセスアプリケーションの動作により、サンプリング位置９０２でのプロセスアプリケーションへ向けられたアラートを送信するため、分析システム１０２は、ＣＩＭ Ｈｏｓｔ９０６に、９０８ｂで示される指示を送信する。その後、サンプリング位置９０２でリモートサンプリングシステム１０４ｂにより得られたサンプルの分析に基づいた動作を停止するために、ＣＩＭ Ｈｏｓｔ９０６は、停止処理命令９１０を介して、サンプリング位置９０２での処理を命令する。実施の形態において、ＣＩＭ Ｈｏｓｔ９０６とシステム１００の構成要素との通信は、ＳＥＣＳ／ＧＥＭプロトコルにより、促進されることができる。実施の形態において、元素が、特定のサンプル位置に対するサンプルで、元素選択限界を超えると決定されるとき、システム１００は、コンテクスト特定アクション（context-specific action）を備える。限定されないが、当該コンテクスト特定アクションは、アラートを無視し、処理動作を継続すること、処理動作を停止すること、システム校正を行い、その後オーバリミットサンプルを再実行すること、などを含む。たとえば、第一のアラートに基づいて、分析システム１０２は、校正（または、他の校正）を実施し、その後、サンプルを再実施するが、後続のアラート（たとえば、第二のアラート）により、動作を停止するため、ＣＩＭ Ｈｏｓｔ９０６は、問題となっているサンプリング位置での処理を命令する。

図１２を参照して、複数のサンプリング位置からサンプルを取得するため、図１〜１１を参照して説明されたシステム１００は、複数のサンプリングシステム１０４を備えることができる。図１２で示した実施の形態において、システム１００は、薬液槽、バルク薬品、環境廃液、および他の液体サンプルを利用する、処理設備の５つの異なる位置に配置される、５つのリモートサンプリングシステム１０４（１０４Ａ，１０４Ｂ，１０４Ｃ，１０４Ｄ，１０４Ｅとして示される）を備える。５つのリモートサンプリングシステム１０４の各々から離れて配置されている分析システム１０２へ搬送するために、リモートサンプリングシステム１０４は、異なる位置で、サンプルを取得する。第一のリモートサンプリングシステム１０４Ａは、脱イオン水パイプライン１０００の近くに配置されており、分析システム１０２から、約四十メートル（４０ｍ）の距離（ｄ５として示されている）だけ、離れている。第二のリモートサンプリングシステム１０４Ｂは、分配弁ポイント１００２の近くに配置されており、分析システム１０２から、約八十メートル（８０ｍ）の距離（ｄ４として示されている）だけ、離れている。第三のリモートサンプリングシステム１０４Ｃは、薬液供給タンク１００４の近くに配置されており、分析システム１０２から、約八十メートル（８０ｍ）の距離（ｄ３として示されている）だけ、離れている。薬液供給タンク１００４は、薬液貯蔵タンク１００８から離れて配置されており、さらに薬液貯蔵タンク１００８から薬液が供給される。第四のリモートサンプリングシステム１０４Ｄは、薬液供給タンク１００６の近くに配置されており、分析システム１０２から、約八十メートル（８０ｍ）の距離（ｄ２として示されている）だけ、離れている。薬液供給タンク１００６は、薬液貯蔵タンク１００８から離れて配置されており、さらに薬液貯蔵タンク１００８から薬液が供給される。第五のリモートサンプリングシステム１０４Ｅは、薬液貯蔵タンク１００８の近くに配置されており、分析システム１０２から、約三百メートル（３００ｍ）の距離（ｄ１として示されている）だけ、離れている。５つのリモートサンプリングシステム１０４が図示されているが、たとえば、他の処理ストリーム、薬液槽、バルク薬液貯蔵、環境廃液、および他の液体サンプルなどの、処理設備全体で、超微量不純物をモニタするために、システム１００は、５より多いリモートサンプリングシステム１０４または５より少ないリモートサンプリングシステム１０４を、利用してもよい。実施において、リモートサンプリングシステム１０４から分析システムへのサンプルの搬送は、約１．２メートル／秒（１．２ｍ／ｓ）の割合で提供され、処理設備全体の超微量不純物の略リアルタイム分析（たとえば、ＩＣＰＭＳ分析）を提供する。

図１３を参照して、経時的な、半導体製造プロセスに対する薬液槽（ＳＣ−１ バス）の金属汚染物を示すチャートが、示されている。チャートは、時間内の３点で取られたマニュアルサンプルから測定された、金属汚染物に対するデータ点を示す部分１１００を含む。マニュアルサンプリング方法のそれを超えるサンプリング周波数で（たとえば、少なくとも１６〜１７倍より多い頻度で）、システム１００から（たとえば、リモートサンプリングシステム１０４から）取られたサンプルから測定された、金属汚染物に対するデータ点に重ね合わせて、部分１１００からのマニュアルサンプルから測定された金属汚染物に対するデータ点を示す、部分１１０２をも、チャートは含む。部分１１０２に示すように、半導体製造プロセスにおいて、汚染物が、経時的に、徐々に増加している。特定の半導体プロセス（たとえば、部分１１００からのマニュアルサンプリング技術）における薬液を交換するときを決定する、ライフタイムまたはライフカウント方法は、時間に渡る金属汚染物の特殊性を説明することが、しばしばできない。したがって、浴槽内の金属汚染物を認識することなく、薬液は、しばしば交換される。薬液槽が実際に追加のウェハ処理を提供できるが、とにかく薬液槽が取り換えられる（たとえば、処理アップタイムのロスとなる）場合、このことは、過剰交換となり、または、薬液槽が実際に受け入れられない金属汚染物を有するが、しばらく後まで、交換されない（たとえば、当該処理により処理されたウェハを、可能性として台無しにする）場合、このことは、交換不足となり得る。部分１１０２から分かるように、金属汚染物は、より高い周波数で、システム１００により自動的に追跡される。薬液槽に対して汚染限界が到達されたときを、ＣＩＭ Ｈｏｓｔ ９０６に報知するために、汚染限界１１０４が設定される。汚染限界１１０４に達していないとき、処理の継続を行う一方で、したがって、汚染限界１１０４に到達したとき、システム１００は、自動的に、処理動作を停止させ（たとえば、交換不足を避ける）、これにより、実現可能な処理アップタイムを提供する（たとえば、過剰交換を避ける）。

結び
実施において、様々な分析装置は、ここで説明された、構成、技術、アプローチなどを利用することができる。よって、ここでシステムを説明しているが、様々な分析機器は、説明された、技術、アプローチ、構成などを利用してもよい。これらの装置は、限定された機能性（たとえば、薄型装置）または強い機能性（たとえば、厚型装置）により、構成されてもよい。よって、装置の機能性は、たとえば、処理力、メモリ（たとえば、データ格納能力）、分析能力などの、装置のソフトウェア又はハードウェアリソースに関連する。

一般的に、ここで説明された各機能は、ハードウェア（たとえば、集積回路などの固定された論理回路）、ソフトウェア、ファームウェア、手作業処理、またはこれらの組合せを用いて、実装される。よって、上記の開示で説明されたブロックは、一般的に、ハードウェア（たとえば、集積回路などの固定された論理回路）、ソフトウェア、ファームウェア、手作業処理、またはこれらの組合せを、表す。ハードウェア構成の例では、上記開示で説明された各ブロックは、他の機能と共に、集積回路として実装される。当該集積回路は、所定のブロック、システム、または回路の機能の全て、または、ブロック、システム、または回路の機能の部分を、含む。さらに、ブロック、システム、または回路の要素は、複数の集積回路に渡って、実装されてもよい。必ずしも限定されないが、当該集積回路は、モノリシック集積回路、フリップチップ集積回路、マルチチップ集積回路、および／または混合信号集積回路を含む、様々な集積回路を備えていてもよい。ソフトウェア実装の例において、上記開示で説明された様々なブロックは、プロセッサ上で実行されるときの特定のタスクを実施する、実行可能なインストラクション（たとえば、プラグラムコード）を、表す。これらの実行可能なインストラクションは、１つ以上の有形のコンピュータ読込可能な媒体内に、格納される。幾つかの例において、システム、ブロック、または回路の全体は、ソフトウェアまたはファームウェア同等を用いて、実装される。他の例において、他の部分は、ハードウェアで実装される一方、所定のシステム、ブロック、または回路の一部は、ソフトウェアまたはファームウェアで実装されてもよい。

主題は、構成的特徴および／または処理動作に対して、特定の用語を用いて説明されてきたが、添付された特許請求の範囲で規定された主題は、特定の特徴又は上記で説明された動作に、必ずしも限定されない、ということを理解されるべきである。むしろ、特定の特徴又は上記で説明された動作は、特許請求の範囲を実施する例となる形態として、開示されている。

Claims (20)

1. ガス圧を介して、リモートサンプリングシステムから、液体サンプルを搬送するように構成された、サンプル搬送ラインと、
   前記サンプル搬送ラインと流体的に接続され、大量の液体サンプルを保持するように構成された、サンプルループと、
   ガス圧源および前記サンプル搬送ラインと流体的に接続され、前記サンプル搬送ラインを介した搬送の間、前記液体サンプルに対して背圧を供給するように構成された、背圧チェンバーとを、備える、
   システム。
2. 前記サンプル搬送ラインからの前記液体サンプルを、収集および分析するように構成された、分析システムを、さらに備え、
   前記分析システムは、ＩＣＰ質量分析法（ICP/ICP-MS）、ＩＣＰ発光分光分析法（ICP-AES）、液体クロマトグラフ（ＬＣ）、イオン・クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ（ＧＣ）、湿度分析計、粒子計数器、およびＦＴＩＲ赤外の、１つ以上を含む、
   請求項１に記載のシステム。
3. 前記分析システムは、前記リモートサンプリングシステムから離れて、配置される、
   請求項２に記載のシステム。
4. 前記サンプルルームが、
   前記分析システムによる分析に対して適切な液体サンプルセグメントを含むことを、決定するように構成された、１以上の検出部を、さらに備える、
   請求項２に記載のシステム。
5. 前記１以上の検出部は、
   光学センサ、伝導度センサ、圧力センサ、金属センサ、または導電センサを、含む、
   請求項４に記載のシステム。
6. コントローラを、さらに備えており、
   前記コントローラは、
   前記サンプル搬送ラインを介して前記液体サンプルを移動するため、前記ガス圧を制御し、
   前記サンプル搬送ライン内で、前記液体サンプルの一定の流量を維持し、
   前記サンプル搬送ラインにおける１以上の位置で、前記適切な液体サンプルセグメントの存在および／または不存在を検出する前記１以上の検出部と通信し、
   少なくとも部分的に、前記適切な液体サンプルセグメントの前記存在および／または不存在を検出することに基づいて、前記液体サンプルを、前記分析システムへ向けることを許す、ように動作可能である、
   請求項４に記載のシステム。
7. 前記コントローラは、さらに、
   少なくとも部分的に、前記液体サンプルのサンプル識別に基づいて、前記ガス圧および／または前記背圧を制御する、ように動作可能である、
   請求項６に記載のシステム。
8. リモートサンプリングシステムで、液体サンプルを受取ること、
   １以上の準備技術を用いて、配送および／または分析のために、前記液体サンプルを準備すること、
   サンプル搬送ラインを介して、前記液体サンプルを搬送することを、含み、
   前記液体サンプルを搬送することは、
   前記サンプル搬送ラインと流体的に接続され、大量の液体サンプルを保持するように構成された、サンプルループを生成すること、
   前記大量の液体サンプルを前記サンプルルームから押すため、ガス圧源のガス圧を用いること、
   前記サンプル搬送ラインを介した搬送の間、前記液体サンプルに対して、背圧を供給すること、を備え、
   前記背圧は、
   前記ガス圧源および前記サンプル搬送ラインと流体的に接続された、背圧チェンバーにより生成される、
   方法。
9. 分析システムで、前記液体サンプルを受取ること、
   前記分析システムを用いて、前記液体サンプルを分析することを、さらに備え、
   前記分析システムは、ＩＣＰ質量分析法（ICP/ICP-MS）、ＩＣＰ発光分光分析法（ICP-AES）、液体クロマトグラフ（ＬＣ）、イオン・クロマトグラフ、ガスクロマトグラフ（ＧＣ）、湿度分析計、粒子計数器、およびＦＴＩＲ赤外の、１つ以上を含む、
   請求項８に記載の方法。
10. 少なくとも部分的に、前記液体サンプルのサンプル識別に基づいて、前記ガス圧および／または前記背圧を制御することを、さらに備える、
    請求項８に記載の方法。
11. 前記サンプル搬送ラインを介して前記液体サンプルを移動するために、前記ガス圧を制御すること、
    前記サンプル搬送ライン内の前記液体サンプルの一定の流量を、維持すること、
    前記サンプル搬送ラインにおける１以上の位置で、適切な液体サンプルセグメントの存在および／または不存在を検出するために、１以上の検出部を用いること、
    少なくとも部分的に、前記適切な液体サンプルセグメントの存在および／または不存在を検出することに基づいて、前記液体サンプルを、前記分析システムへ向けることを許すことを、さらに備える、
    請求項８に記載の方法。
12. 前記１以上の検出部は、
    光学センサ、伝導度センサ、圧力センサ、金属センサ、または導電センサを、含む、
    請求項１１に記載の方法。
13. 前記サンプル搬送ライン内の第一の位置で、液体サンプルセグメントの存在または不存在を検出するように構成された第一の検出部を用いて、検出動作を開始すること、
    前記第一の位置での前記液体サンプルセグメントの存在が検出されたとき、前記第一の位置で、前記液体サンプルセグメントを検知すること、
    検出状態の変化のため、前記第一の検出部を、継続的にモニタすること、
    前記サンプル搬送ラインにおける、前記第一の位置より下流である第二の位置で、前記液体サンプルセグメントの存在または不存在を検出するように構成された第二の検出部を用いて、第二の検出動作を開始すること、
    前記第二の位置での前記液体サンプルセグメントの存在が検出されたとき、前記第二の位置で、前記液体サンプルセグメントを検知すること、
    前記第二の位置で前記液体サンプルセグメントを検知する前に、前記第一の位置での前記液体サンプルセグメントの不存在が検知されないとき、連続的な液体サンプルセグメントを検知すること、
    前記連続的な液体サンプルセグメントを、前記適切な液体サンプルセグメントと、比較すること、
    少なくとも部分的に前記比較に基づいて、前記液体サンプルを、前記分析システムへ向けられることを、許すことを、さらに備える、
    請求項１１に記載の方法。
14. 連続する搬送動作間に、前記サンプルラインを清浄する、リンス処理を用いることを、さらに備える、
    請求項８に記載の方法。
15. リモートサンプリングシステムから、液体サンプルを搬送するように構成された、サンプル搬送ラインと、
    前記リモートサンプリングシステムと通信する、コントローラと、
    コンピュータにより実行される命令を含む、メモリとを、備えており、
    前記命令により、
    前記リモートサンプリングシステムで、前記液体サンプルを受取り、
    １以上の準備技術を用いて、配送および／または分析のため、前記液体サンプルを準備し、
    前記サンプル搬送ラインを介して、前記液体サンプルを搬送する、ように動作可能であり、
    前記液体サンプルを搬送することは、
    前記サンプル搬送ラインに流体的に接続され、多量の液体サンプルを保持するように構成されたサンプルルームを、生成すること、
    前記サンプルループから前記多量の液体サンプルを押すため、ガス圧源のガス圧を用いること、
    前記サンプル搬送ラインを介した搬送の間、前記液体サンプルに対して、背圧を供給することを、含み、
    前記背圧は、
    前記ガス圧源および前記サンプル搬送ラインと、流体的に接続された、背圧チェンバーにより生成される、
    システム。
16. 前記コンピュータにより実行される命令により、さらに、
    少なくとも部分的に、前記液体サンプルのサンプル識別に基づいて、前記ガス圧および／または前記背圧を制御する、ように動作可能である、
    請求項１５に記載のシステム。
17. 前記コンピュータにより実行される命令により、さらに、
    前記サンプル搬送ラインを介して前記液体サンプルを動かすために、前記ガス圧および／または前記背圧を制御し、
    前記サンプル搬送ライン内で、前記液体サンプルの一定の流量を維持し、
    １以上の検出部を用いて、前記サンプル搬送ラインにおける１以上の位置での、適切な液体サンプルセグメントの存在および／または不存在を検出し、
    少なくとも部分的に、前記適切な液体サンプルセグメントの存在または不存在を検出することに基づいて、前記液体サンプルを、分析システムへ向けることを許す、ように動作可能である、
    請求項１６に記載のシステム。
18. 前記コンピュータにより実行される命令により、さらに、
    前記サンプル搬送ライン内の第一の位置で、液体サンプルセグメントの存在または不存在を検出するように構成された第一の検出部を用いて、検出動作を開始し、
    前記第一の位置での前記液体サンプルセグメントの存在が検出されたとき、前記第一の位置で、前記液体サンプルセグメントを検知し、
    検出状態の変化のため、前記第一の検出部を、継続的にモニタし、
    前記サンプル搬送ラインにおける、前記第一の位置より下流である第二の位置で、前記液体サンプルセグメントの存在または不存在を検出するように構成された第二の検出部を用いて、第二の検出動作を開始し、
    前記第二の位置での前記液体サンプルセグメントの存在が検出されたとき、前記第二の位置で、前記液体サンプルセグメントを検知し、
    前記第二の位置で前記液体サンプルセグメントを検知する前に、前記第一の位置での前記液体サンプルセグメントの不存在が検知されないとき、連続的な液体サンプルセグメントを検知し、
    前記連続的な液体サンプルセグメントを、前記適切な液体サンプルセグメントと、比較し、
    少なくとも部分的に前記比較に基づいて、前記液体サンプルを、前記分析システムへ向けられることを許す、ように動作可能である、
    請求項１７に記載のシステム。
19. 前記分析システムは、前記リモートサンプリングシステムから、離れて配置される、
    請求項１５に記載のシステム。
20. 前記コンピュータにより実行される命令により、さらに、
    前記液体サンプル内の汚染物質の量を決定する、液体サンプルを処理し、
    もし、前記液体サンプル内の前記汚染物質の前記量が、予め決定された限界を超えるなら、前記リモートサンプリングシステムからの前記液体サンプルの搬送を停止するために、アラートを送信する、ように動作可能である、
    請求項１５に記載のシステム。

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