JP2021190703A - 半導体製作用キャビティのインジェクター - Google Patents

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Abstract

【課題】半導体製作用キャビティのインジェクターを提供する。【解決手段】半導体製作用キャビティのインジェクターは第一柱状体および第二柱状体を備える。第一柱状体は第一光透過部、第一外周面、第一端面、第一流路、第二流路および第三流路を有する。第二流路は第一外周面に形成され、第一流路に繋がって第一光透過部に位置付けられる。第三流路は第一端面に形成され、第一光透過部に位置付けられる。第二柱状体は第一柱状体に連結され、第一流路に位置付けられ、第二光透過部、第二外周面、第四流路および第五流路を有する。第四流路は第三流路に繋がり、第二光透過部に位置付けられる。第五流路は第四流路に繋がる。上述した構造の特徴により、第一光透過部および第二光透過部を介して第二流路、第三流路および第四流路の状況を観察すればインジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断することができる。【選択図】図1

Description

本発明は、インジェクターに関し、詳しくは半導体製作用キャビティのインジェクターに関するものである。
半導体製作の精密さが高くなれば高くなるほど、製作条件が厳しくなる。半導体製作用キャビティに異なる種類の気体を吹き込んで反応を進行させて半導体構造を製作する方法が、半導体構造の製作過程に応用されている。そのため純度の高い気体の需要量が高い。気体の純度が高ければ製作工程に影響を与える不純物を減少させ、製作工程全体をコントロールできる程度が高くなるため、精密な半導体構造の製造工程を安定状態に維持することができる。
純度の高い気体が求められるほか、半導体製作用キャビティ内の気体の純度のニーズを満足させるために、気体を吹き込む経路の環境を制御し、不純物の混入を防止することが必要である。気体を吹き込む経路の環境を制御する際、半導体製作用キャビティ内のインジェクター(injector)の清潔を保持することが重要である。詳しく言えば、異なる種類の気体がインジェクターによって整流され、半導体製作用キャビティに流れ込めば、半導体製作用キャビティ内の気体の流れを均質にコントロールすることができる。そのためにインジェクターを配置することが必要である。しかし、気体に化学反応が起こった後、インジェクター内部の流路に腐食現象や不純物の沈積が発生することが原因でインジェクターを汚染するという問題があり、解決が求められている。
また、インジェクターを加工した後、欠陥が存在すると、製作工程においてインジェクターを汚染する可能性がある。例えば、気体がインジェクターの欠陥部位を流れることが原因で製作工程においてインジェクターを汚染することがある。
本発明は流路の状況を観察し、インジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断することによってインジェクターの汚染を減少させる半導体製作用キャビティのインジェクターを提供することを主な目的とする。
上述した課題を解決するための、半導体製作用キャビティのインジェクターは、第一柱状体および第二柱状体を備える。第一柱状体は第一光透過部、第一外周面、第一端面、第一流路、一つ以上の第二流路および一つ以上の第三流路を有する。一つ以上の第二流路は第一外周面に形成され、第一光透過部に位置付けられる。一つ以上の第三流路は第一端面に形成され、第一光透過部に位置付けられる。第二柱状体は第一柱状体に連結され、第一流路に位置付けられ、第二光透過部、第二外周面、一つ以上の第四流路および第五流路を有する。第四流路は第三流路に繋がり、第二光透過部に位置付けられる。第五流路は第四流路に繋がる。
上述した構造の特徴により、第一光透過部および第二光透過部を介して第二流路、第三流路および第四流路の状況を観察し、インジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断すれば、インジェクターの汚染を減少させることができる。
第一柱状体および第二柱状体は一体成型であるため、第一流路内の気体および第五流路内の気体を相互に汚染することを低減することができる。
第一柱状体は第一外周面に突出したフランジを有する。フランジは溝を形成する。上述した構造の特徴により、インジェクターおよび閉鎖部材を配置する際の利便性を向上させることができる。
第一柱状体は第一端面に第三光透過部を有する。第三流路は第三光透過部に位置付けられる。上述した構造の特徴により、第三光透過部を介して第三流路を観察することができる。
上述した課題を解決するため、もう一つの半導体製作用キャビティのインジェクターは第一柱状体を備える。第一柱状体は第一光透過部、第一外周面、第一端面、第一流路および一つ以上の第二流路を有する。一つ以上の第二流路は第一外周面または第一端面に形成され、第一流路に繋がって第一光透過部に位置付けられる。
上述した構造の特徴により、第一光透過部を介して第二流路の状況を観察し、インジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断すれば、インジェクターの汚染を減少させることができる。
本発明の第1実施形態によるインジェクターを示す斜視図である。 本発明の第1実施形態によるインジェクターを示す側面図である。 本発明の第1実施形態によるインジェクターを示す断面図である。 本発明の第1実施形態によるインジェクターにおいて第一光透過部および第二光透過部の構造が図2と異なる状態を示す側面図である。 本発明の第2実施形態によるインジェクターの第三光透過部を横から見た斜視図である。 本発明の第2実施形態によるインジェクターの第三光透過部を横から見た斜視図である。 本発明の第3実施形態によるインジェクターを示す斜視図である。 本発明の第3実施形態によるインジェクターを示す断面図である。 本発明の第3実施形態によるインジェクターを示す斜視図である。 本発明の第3実施形態によるインジェクターを示す断面図である。
以下、本発明による半導体製作用キャビティのインジェクターを図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1から図4に示すように、本発明の第1実施形態による半導体製作用キャビティのインジェクター10は第一柱状体11および第二柱状体12を備える。
第一柱状体11および第二柱状体12のいずれか一つは透光性のある材料、例えば、イットリウム・アルミニウム・ガーネット(Yttrium Aluminum Garnet,YAG)から製作され、透光効果を生じる。本実施形態は透光性のある材料で製作された第一柱状体11および第二柱状体12を使用する例を挙げる。
本実施形態において、光の進行経路が1mm(1mm path length)である場合、透光材料は波長200μmに対する光透過率(Internal Transmission)が50%から60%であり、波長5000μmに対する光透過率(Internal Transmission)が90%以上であり、波長7500μmに対する光透過率(Internal Transmission)が3%から8%である。
本実施形態は透光材料で製作したインジェクター10の表面を何も研磨処理しない方式だけでなく、観察の便をはかるためにインジェクター10の一部分の表面を研磨処理する方式を採用することもできる。
第一柱状体11は第一光透過部111、第一外周面112、第一端面113および第一流路114を有する。第一光透過部111は第一柱状体11の任意の部位に形成される、即ち第一柱状体11において光を透過させる部位になる。第一柱状体11のそれ以外の部位は透光性があるか否かに特に限定されない。
図2および図4は異なる長さの第一光透過部111を示す。上述した処理方式により、第一光透過部111の表面を研磨処理し、光を容易に透過させれば、観察の便をはかることができる。
第一柱状体11はさらに一つ以上の第二流路115を有する。一つ以上の第二流路115は第一外周面112に形成され、第一流路114に繋がる。気体は第一流路114から流入し、第二流路115から流出し、半導体製作用キャビティに流れ込む。
第一柱状体11はさらに一つ以上の第三流路116を有する。一つ以上の第三流路116は第一端面113に形成され、第二流路115とともに第一光透過部111に位置付けられる。上述した構造の特徴により、第二流路115および第三流路116の内部の状況を観察することができる。
第二柱状体12は第二光透過部121、第二外周面122、一つ以上の第四流路123および第五流路124を有する。
第二柱状体12は第一柱状体11に連結され、第一流路114に位置付けられる。
第四流路123は第二光透過部121に位置付けられ、第三流路116に繋がる。第五流路124は第四流路123に繋がる。上述した構造の特徴により、第五流路124内の気体は第四流路123に流れ込んで第三流路116へ進み、続いて第三流路116から流出することができる。
本実施形態において、第一柱状体11および第二柱状体12は一体成型され、第一柱状体11と第二柱状体12との間に継ぎ目がないため、第一流路114内の気体および第五流路124内の気体が相互に汚染することを低減することができる。
上述した構造の特徴により、本実施形態によるインジェクター10は第一光透過部111および第二光透過部121を介して第二流路115、第三流路116および第四流路123の状況を観察することができる。詳しく言えば、第二流路115、第三流路116および第四流路123の中に加工欠陥、腐食または不純物の沈積が発見された場合、インジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断し、その結果インジェクターの汚染を減少させることができる。
第一柱状体11は第一外周面112に突出したフランジ117を有する。フランジ117には溝117aを形成する。上述した構造の特徴により、インジェクターおよび閉鎖部材を配置する際の利便性を向上させることができる。
(第2実施形態)
図5および図6に示したのは本発明の第2実施形態による半導体製作用キャビティのインジェクター10である。第1実施形態との違いは次のとおりである。第2実施形態において、第一柱状体11はさらに第一端面113に第三光透過部113aを有する。第三流路116は第三光透過部113aに位置付けられる。上述した構造の特徴により、第三光透過部113aを介して第三流路116を観察することができる。
第三光透過部113aは第一柱状体11において光を透過させる部位になる。第一柱状体11のそれ以外の部位は透光性があるか否かに特に限定されない。上述した構造の特徴により、本実施形態によるインジェクター10は第三光透過部113aを介して第三流路116の状況を観察することができる。詳しく言えば、第三流路116の中に加工欠陥、腐食または不純物の沈積が発見された場合、インジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断し、その結果インジェクターの汚染を減少させることができる。
図5および図6に示すように、第三光透過部113aは大きさが異なる。
(第3実施形態)
図7から図10に示すように、本発明の第3実施形態による半導体製作用キャビティのインジェクター20は第1実施形態の構造を簡素化し、第一柱状体21を備える。
第一柱状体21は透光材料から製作される。本実施形態は透光材料で製作したインジェクター20の表面を何も研磨処理しない方式だけでなく、観察の便をはかるためにインジェクター20の一部分の表面を研磨処理する方式を採用することもできる。
第一柱状体21は第一光透過部211、第一外周面212、第一端面213および第一流路214を有する。
第一光透過部211は第一柱状体21の任意の部位に形成される、即ち第一柱状体21において光を透過させる部位になる。第一柱状体21のそれ以外の部位は透光性があるか否かに特に限定されない。
図7および図9は配置位置の異なる第一光透過部211を示す。上述した処理方式により、第一光透過部211の表面を研磨処理し、光を容易に透過させれば観察の便をはかることができる。
第一柱状体21はさらに第一外周面212(図7参照)または第一端面213(図9参照)に一つ以上の第二流路215を有する。第二流路215は第一流路214に繋がる。気体は第一流路214から流入し、第二流路215から流出し、半導体製作用キャビティに流れ込む。
上述した構造の特徴により、本実施形態によるインジェクター20は第一光透過部211を介して第二流路215の状況を観察することができる。詳しく言えば、第二流路215の中に加工欠陥、腐食または不純物の沈積が発見された場合、インジェクターの適用性またはインジェクター交換のタイミングを判断し、その結果インジェクターの汚染を減少させることができる。
10、20 インジェクター
11、21 第一柱状体
111、211 第一光透過部
112,212 第一外周面
113、213 第一端面
113a 第三光透過部
114、214 第一流路
115、215 第二流路
116 第三流路
117 フランジ
117a 溝
12 第二柱状体
121 第二光透過部
122 第二外周面
123 第四流路
124 第五流路

Claims (7)

  1. 第一柱状体および第二柱状体を備え、
    前記第一柱状体は第一光透過部、第一外周面、第一端面、第一流路、一つ以上の第二流路および一つ以上の第三流路を有し、
    一つ以上の前記第二流路は前記第一外周面に形成され、前記第一光透過部に位置付けられ、
    一つ以上の前記第三流路は前記第一端面に形成され、前記第一光透過部に位置付けられ、
    前記第二柱状体は前記第一柱状体に連結され、前記第一流路に位置付けられ、第二光透過部、第二外周面、一つ以上の第四流路および第五流路を有し、
    前記第四流路は前記第三流路に繋がって前記第二光透過部に位置付けられ、
    前記第五流路は第四流路に繋がることを特徴とする、
    半導体製作用キャビティのインジェクター。
  2. 前記第一柱状体または前記第二柱状体は透光材料から製作され、光の進行経路が1mm(1mm path length)である場合、前記透光材料の波長200μmに対する光透過率(Internal Transmission)が50%から60%であり、波長5000μmに対する光透過率(Internal Transmission)が90%以上であり、波長7500μmに対する光透過率(Internal Transmission)が3%から8%であることを特徴とする請求項1に記載の半導体製作用キャビティのインジェクター。
  3. 前記第一柱状体および前記第二柱状体は一体成型であることを特徴とする請求項1に記載の半導体製作用キャビティのインジェクター。
  4. 前記第一柱状体は前記第一外周面に突出したフランジを有し、前記フランジには溝を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体製作用キャビティのインジェクター。
  5. 前記第一柱状体はさらに前記第一端面に第三光透過部を有し、前記第三流路は前記第三光透過部に位置付けられることを特徴とする請求項1に記載の半導体製作用キャビティのインジェクター。
  6. 第一柱状体を備え、
    前記第一柱状体は第一光透過部、第一外周面、第一端面、第一流路および一つ以上の第二流路を有し、
    一つ以上の前記第二流路は前記第一外周面または前記第一端面に形成され、前記第一流路に繋がって前記第一光透過部に位置付けられることを特徴とする、
    半導体製作用キャビティのインジェクター。
  7. 前記第一柱状体は透光材料から製作され、光の進行経路が1mm(1mm path length)である場合、前記透光材料の波長200μmに対する光透過率(Internal Transmission)が50%から60%であり、波長5000μmに対する光透過率(Internal Transmission)が90%以上であり、波長7500μmに対する光透過率(Internal Transmission)が3%から8%であることを特徴とする請求項6に記載の半導体製作用キャビティのインジェクター。
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