JP2021181209A - 積層造形物の製造方法及び積層造形システム - Google Patents
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Abstract
【課題】平滑な外面を有する高品質な積層造形物を製造することが可能な積層造形物の製造方法及び積層造形システムを提供する。【解決手段】溶加材Mを溶融及び凝固させた溶着ビードBを積層させて積層造形物Wを造形する積層造形物の製造方法であって、成形部材45をベースプレート51上に配置させる配置工程と、成形部材45に接触させながら成形部材45に沿って溶着ビードBをベースプレート51上に積層させて積層造形物Wを造形する造形工程と、を含み、成形部材45として、酸化ジルコニウムを基材とするセラミックス製の部材を用いる。【選択図】図2B
Description
本発明は、積層造形物の製造方法及び積層造形システムに関する。
近年、生産手段として3Dプリンタを用いた造形のニーズが高まっており、金属材料を用いた造形の実用化に向けて研究開発が進められている。金属材料を造形する3Dプリンタは、レーザや電子ビーム、更にはアーク等の熱源を用いて、金属粉体や金属ワイヤを溶融させ、溶融金属を積層させることで造形物を作製する。
このような造形技術として、特許文献1には、モールド材に沿ってビードを形成することにより、造形物を造形するビードの形状を整えながら積層させて造形することが開示されている。
ところで、ビードを積層させて造形物を造形する積層造形では、精密な形状の造形が困難である。このため、造形物の造形後に、精度が必要な箇所を機械加工によって形成することとなり、手間を要する。
特許文献1に記載の造形技術によれば、モールド材に沿って形成した面の精度をある程度高めることができる。しかし、単に、モールド材に沿ってビードを形成するだけでは、モールド材にビードが貼り付いたり、モールド材が熱によって損傷したりするため、成形面を平滑に形成するには限度があった。
本発明の目的は、平滑な外面を有する積層造形物を製造することが可能な積層造形物の製造方法及び積層造形システムを提供することにある。
本発明は下記構成からなる。
(1) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
成形部材を母材上に配置させる配置工程と、
前記成形部材に接触させながら前記成形部材に沿って前記溶着ビードを前記母材上に積層させて積層造形物を造形する造形工程と、
を含み、
前記成形部材として、酸化ジルコニウムを基材とするセラミックス製の部材を用いる、
積層造形物の製造方法。
(2) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形装置と、前記積層造形物の外面の少なくとも一部を成形する成形装置と、を備えた積層造形システムであって、
前記積層造形装置は、
前記溶着ビードを形成するトーチと、
前記トーチを移動させて溶着ビードを積層させる移動機構と、
を有し、
前記成形装置は、
酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製の成形部材と、
前記成形部材を移動させて前記溶着ビードの積層方向に沿う位置に配置させ、積層される前記溶着ビードに前記成形部材を接触させる移動機構と、
を有する、
積層造形システム。
(1) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
成形部材を母材上に配置させる配置工程と、
前記成形部材に接触させながら前記成形部材に沿って前記溶着ビードを前記母材上に積層させて積層造形物を造形する造形工程と、
を含み、
前記成形部材として、酸化ジルコニウムを基材とするセラミックス製の部材を用いる、
積層造形物の製造方法。
(2) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形装置と、前記積層造形物の外面の少なくとも一部を成形する成形装置と、を備えた積層造形システムであって、
前記積層造形装置は、
前記溶着ビードを形成するトーチと、
前記トーチを移動させて溶着ビードを積層させる移動機構と、
を有し、
前記成形装置は、
酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製の成形部材と、
前記成形部材を移動させて前記溶着ビードの積層方向に沿う位置に配置させ、積層される前記溶着ビードに前記成形部材を接触させる移動機構と、
を有する、
積層造形システム。
そこで、本発明は、平滑な外面を有する高品質な積層造形物を製造することが可能な積層造形物の製造方法及び積層造形システムを提供することを目的とする。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る製造システムの模式的な概略構成図である。
図1に示すように、本構成の積層造形システム100は、積層造形装置11と、成形装置12と、積層造形装置11及び成形装置12を統括制御するコントローラ13と、電源装置15と、を備える。
図1は、本発明の実施形態に係る製造システムの模式的な概略構成図である。
図1に示すように、本構成の積層造形システム100は、積層造形装置11と、成形装置12と、積層造形装置11及び成形装置12を統括制御するコントローラ13と、電源装置15と、を備える。
積層造形装置11は、先端軸にトーチ17を有する溶接ロボット19と、トーチ17に溶加材(溶接ワイヤ)Mを供給する溶加材供給部21とを有する。トーチ17は、溶加材Mを先端から突出した状態に保持する。
溶接ロボット19は、多関節ロボットであり、ロボットアームの先端軸に取り付けたトーチ17には、溶加材Mが連続供給可能に支持される。トーチ17の位置や姿勢は、ロボットアームの自由度の範囲で3次元的に任意に設定可能となっている。
トーチ17は、不図示のシールドノズルを有し、シールドノズルからシールドガスが供給される。アーク溶接法としては、被覆アーク溶接や炭酸ガスアーク溶接等の消耗電極式、TIG溶接やプラズマアーク溶接等の非消耗電極式のいずれであってもよく、作製する積層造形物に応じて適宜選定される。
例えば、消耗電極式の場合、シールドノズルの内部にはコンタクトチップが配置され、溶融電流が給電される溶加材Mがコンタクトチップに保持される。トーチ17は、溶加材Mを保持しつつ、シールドガス雰囲気で溶加材Mの先端からアークを発生する。溶加材Mは、ロボットアーム等に取り付けた不図示の繰り出し機構により、溶加材供給部21からトーチ17に送給される。そして、トーチ17を移動しつつ、連続送給される溶加材Mを溶融及び凝固させると、ベースプレート51上に溶加材Mの溶融凝固体である線状の溶着ビードBが形成され、この溶着ビードBからなる積層造形物Wが造形される。
なお、溶加材Mを溶融させる熱源としては、上記したアークに限らない。例えば、アークとレーザとを併用した加熱方式、プラズマを用いる加熱方式、電子ビームやレーザを用いる加熱方式等、他の方式による熱源を採用してもよい。電子ビームやレーザにより加熱する場合、加熱量を更に細かく制御でき、溶着ビードの状態をより適正に維持して、積層造形物Wの更なる品質向上に寄与できる。
溶加材Mは、あらゆる市販の溶接ワイヤを用いることができる。例えば、軟鋼,高張力鋼及び低温用鋼用のマグ溶接及びミグ溶接ソリッドワイヤ(JIS Z 3312)、軟鋼,高張力鋼及び低温用鋼用アーク溶接フラックス入りワイヤ(JIS Z 3313)等で規定されるワイヤを用いることができる。
成形装置12は、成形ロボット41を備えている。成形ロボット41は、溶接ロボット19と同様に、多関節ロボットであり、先端アーム43の先端部に、成形部材45を備える。成形ロボット41は、コントローラ13により、成形部材45が任意の姿勢を取り得るように、3次元的に移動可能となっている。
成形ロボット41は、積層造形装置11の溶接ロボット19によってベースプレート51に溶着ビードBを積層する際に、成形部材45をベースプレート51上に配置させる。
この成形装置12の成形ロボット41に保持された成形部材45は、酸化ジルコニウム(ジルコニア:ZrO2)を基材とするセラミックス(ジルコニアセラミックス)製の板材である。ジルコニアセラミックスは、機械的強度、破壊靭性、耐摩耗性及び絶縁性に優れたセラミックスである。具体的には、この成形部材45は、酸化ジルコニウム(ZrO2)を主成分としたセラミックスの板材であり、全成分のうちの不可避不純物などの残部を除いた各成分の比率は、酸化ジルコニウムが95重量%、酸化カルシウムが4.2重量%とされている。
コントローラ13は、CAD/CAM部31と、軌道演算部33と、記憶部35と、これらが接続される制御部37と、を有する。
CAD/CAM部31は、作製しようとする積層造形物Wの形状データを作成した後、複数の層に分割して各層の形状を表す層形状データを生成する。軌道演算部33は、生成された層形状データに基づいてトーチ17の移動軌跡を求める。また、軌道演算部33は、形状データに基づいて成形部材45を配置すべき位置情報を求める。記憶部35は、積層造形物Wの形状データ、生成された層形状データ、トーチ17の移動軌跡及び成形部材45の位置情報等のデータを記憶する。
制御部37は、記憶部35に記憶された層形状データやトーチ17の移動軌跡に基づく駆動プログラムを実行して、溶接ロボット19を駆動する。つまり、溶接ロボット19は、コントローラ13からの指令により、軌道演算部33で生成したトーチ17の移動軌跡に基づき、溶加材Mをアークで溶融させながらトーチ17を移動させ、ベースプレート51上に溶着ビードBを形成する。また、制御部37は、記憶部35に記憶された位置情報に基づく駆動プログラムを実行して、成形ロボット41を駆動する。これにより、成形ロボット41の先端アーム43に設けられた成形部材45がベースプレート51における位置情報に基づいた位置に配置される。
なお、ベースプレート51は、鋼板等の金属板からなり、基本的には積層造形物Wの底面(最下層の面)より大きいものが使用される。なお、ベースプレート51は、板状に限らず、ブロック体や棒状等、他の形状のベースであってもよい。
次に、上記の積層造形システム100による積層造形物の製造方法について説明する。
図2A〜図2Dは、積層造形物の製造工程を示す製造途中の積層造形物の概略側面図である。
図2A〜図2Dは、積層造形物の製造工程を示す製造途中の積層造形物の概略側面図である。
(配置工程)
図2Aに示すように、成形装置12の成形部材45を、成形ロボット41の駆動により移動させ、ベースプレート51上に立設させた状態に配置させる。
図2Aに示すように、成形装置12の成形部材45を、成形ロボット41の駆動により移動させ、ベースプレート51上に立設させた状態に配置させる。
(造形工程)
図2Bに示すように、積層造形装置11のトーチ17を溶接ロボット19の駆動により移動させながら溶加材Mを溶融させる。そして、溶融した溶加材Mからなる溶着ビードBをベースプレート51上に供給し、ベースプレート51上に溶着ビードBを積層させる。
図2Bに示すように、積層造形装置11のトーチ17を溶接ロボット19の駆動により移動させながら溶加材Mを溶融させる。そして、溶融した溶加材Mからなる溶着ビードBをベースプレート51上に供給し、ベースプレート51上に溶着ビードBを積層させる。
このとき、溶着ビードBを、ベースプレート51上に立設させた成形部材45に接触させながら、この成形部材45に沿って積層させる。そして、図2Cに示すように、溶着ビードBの積層を複数列にわたって行う。その後、溶着ビードBを目標数の列にわたって積層したら、図2Dに示すように、成形装置12の成形ロボット4を駆動させ、成形部材45をベースプレート51上から退避させる。なお、成形部材45は、一列目の溶着ビードBの積層後にベースプレート51上から退避させてもよい。
上記の工程を行うことにより、ベースプレート51上に、溶着ビードBを積層させた積層造形物Wが造形される。
以上、説明したように、本実施形態に係る積層造形物の製造方法及び積層造形システムによれば、溶着ビードBを積層させて積層造形物Wを造形する際に溶着ビードBを成形部材45に接触させながら成形部材45に沿って積層させる。これにより、積層造形物Wは、成形部材45に接触させた面が成形部材45に沿って平滑に形成される。
ここで、成形部材45は、酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製であることから、溶着ビードBの貼り付きや溶着ビードBの熱による損傷を抑えることができる。これにより、溶着ビードBを積層してなる積層造形物Wの外面を平滑に成形することができ、さらに、積層させた溶着ビードB間の凹凸の発生も抑えることができる。したがって、平滑な外面を有する高品質な積層造形物Wを製造することができる。
本実施形態に係るジルコニアを基材とするセラミック製の成形部材を用いて溶着ビードBを積層した積層造形物WAと、成形部材を用いずに溶着ビードBを積層した積層造形物WBのそれぞれの表面粗さの測定及び表面状態の観察を行った。溶着ビードBは、同一の溶接条件(溶接速度及び溶接電流)によって形成して積層させた。なお、表面粗さとしては、表面の凹凸最大差Rz及び算術平均粗さRaを求めた。算術平均粗さRaは、凹凸を平均にならした値であり、具体的には、積層造形物の表面における凸部(山)の面積の和と凹部(谷)の面積の和とが同一となる中心線を求め、この中心線で凹部(谷)を折り返した図形の面積を長さ(積層造形物の高さ方向の寸法)で割った値である。
図3は、溶着ビードを積層させた積層造形物の表面粗さを示すグラフであって、(A)は成形部材を用いて造形した積層造形物の表面の凹凸状態を示すグラフ、(B)は成形部材を用いずに造形した積層造形物の表面の凹凸状態を示すグラフである。図4は、溶着ビードを積層させた積層造形物の画像であって、(A)は成形部材を用いて造形した積層造形物の画像、(B)は成形部材を用いずに造形した積層造形物の画像である。
成形部材を用いて造形した積層造形物WAでは、図3の(A)に示すように、表面の位置が高さ方向に沿って均等となった。そして、この積層造形物WAでは、表面の凹凸の最大差Rzが0.100mm、算術平均粗さRaが0.016mmであり、しかも、高さ方向にわたる傾きも抑えられていた。また、図4の(A)に示すように、積層造形物WAの表面状態は、その外観も平滑であり、各溶着ビードBの継ぎ目も目立たないことが確認された。
成形部材を用いずに造形した積層造形物WBでは、図3の(B)に示すように、表面の位置が高さ方向に沿って変動した。そして、この積層造形物WBでは、表面の凹凸の最大差Rzが0.671mm、算術平均粗さRaが0.120mmであり、しかも、高さ方向にわたって傾きが生じていることが確認された。また、図4の(B)に示すように、積層造形物WBの表面状態は、各溶着ビードBの継ぎ目が目立つ状態であった。
このように、ジルコニアを基材とするセラミック製の成形部材を用いて造形した積層造形物WAは、成形部材を用いずに造形した積層造形物WBに比べ、表面の凹凸及び表面粗さを大幅に小さくすることが可能であることがわかった。
次に、他の板状の部材を当て板として用い、この当て板に接触させながら溶着ビードBを積層した積層造形物WC,WDを造形し、それぞれの外観を観察した。積層造形物WCでは、表面に離型剤を塗布した砂型からなる板材を当て板として用い、積層造形物WDでは、アルミナ及びシリカを主に含有するセラミック製の板材を当て板として用いた。
図5は、表面に離型剤を塗布した砂型からなる板材を当て板として用いて造形した積層造形物の画像である。図6は、アルミナ及びシリカを主に含有するセラミック製の板材を当て板として用いて造形した積層造形物の画像である。
図5は、表面に離型剤を塗布した砂型からなる板材を当て板として用いて造形した積層造形物の画像である。図6は、アルミナ及びシリカを主に含有するセラミック製の板材を当て板として用いて造形した積層造形物の画像である。
図5に示すように、表面に離型剤を塗布した砂型からなる板材を当て板として用いて造形した積層造形物WCでは、溶着ビードBの形成時にスパッタが多発し、当て板が損傷してしまい、当て板に沿って溶着ビードBを積層させることが困難であった。このため、造形された積層造形物WCの形が崩れてしまい、表面を平滑に形成することができなかった。
図6に示すように、アルミナ(Al2O3)及びシリカ(SiO2)を主に含有するセラミック製の板材を当て板として用いて造形した積層造形物WDでは、溶着ビードBを積層させることは可能であったが、溶着ビードBの積層途中に当て板の一部が溶融し、表面を平滑に形成することができなかった。
上記の実施形態では、平滑面を有する板材からなる成形部材45を用いる場合を例示したが、成形部材45としては、板材に限らず、例えば、曲面を有するブロック材などの板材以外の部材でもよい。
このように、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。
以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
(1) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
成形部材を母材上に配置させる配置工程と、
前記成形部材に接触させながら前記成形部材に沿って前記溶着ビードを前記母材上に積層させて積層造形物を造形する造形工程と、
を含み、
前記成形部材として、酸化ジルコニウムを基材とするセラミックス製の部材を用いる、
積層造形物の製造方法。
(1) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
成形部材を母材上に配置させる配置工程と、
前記成形部材に接触させながら前記成形部材に沿って前記溶着ビードを前記母材上に積層させて積層造形物を造形する造形工程と、
を含み、
前記成形部材として、酸化ジルコニウムを基材とするセラミックス製の部材を用いる、
積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する際に溶着ビードを成形部材に接触させながら成形部材に沿って積層させる。これにより、積層造形物は、成形部材に接触させた面が成形部材に沿って平滑に形成される。
ここで、成形部材は、酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製であることから、溶着ビードの貼り付きや溶着ビードの熱による損傷を抑えることができる。これにより、溶着ビードを積層してなる積層造形物の外面を平滑に成形することができ、さらに、積層させた溶着ビード間の凹凸の発生も抑えることができる。したがって、高品質な積層造形物を製造することができる。
ここで、成形部材は、酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製であることから、溶着ビードの貼り付きや溶着ビードの熱による損傷を抑えることができる。これにより、溶着ビードを積層してなる積層造形物の外面を平滑に成形することができ、さらに、積層させた溶着ビード間の凹凸の発生も抑えることができる。したがって、高品質な積層造形物を製造することができる。
(2) 前記積層造形物の外面となる少なくとも一部に前記成形部材を接触させて前記積層造形物を造形する、(1)に記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、造形した積層造形物における成形部材と接触した外面を平滑に形成することができる。これにより、平滑な外面を有する積層造形物を製造することができる。
(3) 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形装置と、前記積層造形物の外面の少なくとも一部を成形する成形装置と、を備えた積層造形システムであって、
前記積層造形装置は、
前記溶着ビードを形成するトーチと、
前記トーチを移動させて溶着ビードを積層させる移動機構と、
を有し、
前記成形装置は、
酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製の成形部材と、
前記成形部材を移動させて前記溶着ビードの積層方向に沿う位置に配置させ、積層される前記溶着ビードに前記成形部材を接触させる移動機構と、
を有する、
積層造形システム。
前記積層造形装置は、
前記溶着ビードを形成するトーチと、
前記トーチを移動させて溶着ビードを積層させる移動機構と、
を有し、
前記成形装置は、
酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製の成形部材と、
前記成形部材を移動させて前記溶着ビードの積層方向に沿う位置に配置させ、積層される前記溶着ビードに前記成形部材を接触させる移動機構と、
を有する、
積層造形システム。
この積層造形システムによれば、溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する際に溶着ビードを成形部材に接触させながら成形部材に沿って積層させることができる。これにより、積層造形物の成形部材に接触させた面を成形部材に沿って平滑に形成することができる。また、成形部材は、酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製であることから、溶着ビードの貼り付きや溶着ビードの熱による損傷を抑えることができる。これにより、溶着ビードを積層してなる積層造形物の外面を平滑に成形することができ、さらに、積層させた溶着ビード間の凹凸の発生も抑えることができる。したがって、高品質な積層造形物を製造することができる。
11 積層造形装置
12 成形装置
17 トーチ
19 溶接ロボット(移動機構)
41 成形ロボット(移動機構)
45 成形部材
51 ベースプレート(母材)
100 積層造形システム
B 溶着ビード
M 溶加材
W 積層造形物
12 成形装置
17 トーチ
19 溶接ロボット(移動機構)
41 成形ロボット(移動機構)
45 成形部材
51 ベースプレート(母材)
100 積層造形システム
B 溶着ビード
M 溶加材
W 積層造形物
Claims (3)
- 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
成形部材を母材上に配置させる配置工程と、
前記成形部材に接触させながら前記成形部材に沿って前記溶着ビードを前記母材上に積層させて積層造形物を造形する造形工程と、
を含み、
前記成形部材として、酸化ジルコニウムを基材とするセラミックス製の部材を用いる、
積層造形物の製造方法。 - 前記積層造形物の外面となる少なくとも一部に前記成形部材を接触させて前記積層造形物を造形する、
請求項1に記載の積層造形物の製造方法。 - 溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形装置と、前記積層造形物の外面の少なくとも一部を成形する成形装置と、を備えた積層造形システムであって、
前記積層造形装置は、
前記溶着ビードを形成するトーチと、
前記トーチを移動させて溶着ビードを積層させる移動機構と、
を有し、
前記成形装置は、
酸化ジルコニウムを基材とするセラミック製の成形部材と、
前記成形部材を移動させて前記溶着ビードの積層方向に沿う位置に配置させ、積層される前記溶着ビードに前記成形部材を接触させる移動機構と、
を有する、
積層造形システム。
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