JP2021169185A - 積層体、積層体の製造方法、光学積層体およびフレキシブルディスプレイ - Google Patents

Abstract

【課題】低コストかつシンプルな構成でも高度なガスバリア性を有し、かつ高い殺菌性能および高い光線透過率を有する積層体の提供。【解決手段】基材１の少なくとも片面に、ケイ素、金属元素および酸素を含むＡ層２を有し、分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下である積層体。【選択図】図１

Description

本発明は、高いガスバリア性が必要とされる食品、医薬・医療品の包装材料や、太陽電池、電子ペーパー、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの電子部品を保護するための積層体に関する。

有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子や医薬品などは、水蒸気に接触することによって機能低下（発光特性の低下や材料の分解）を起こすため、それを抑制するために、封止用フィルム（封止用粘着シート）で封止することが提案されている（特許文献１〜３）。

上記特許文献には、基材として防湿性を有するプラスチックフィルム、銅箔、アルミニウム箔、酸化ケイ素膜などの無機膜が積層されたプラスチックフィルムが記載されている。

特開２０１３−５４９８５号公報 特開２０１５−１２２１７０号公報 特開２０１６−１８６０４２号公報

しかしながら、上記特許文献のプラスチックフィルムでは、紫外領域での光線透過率が低く、医薬・医療用包装材料などに用いられた際、紫外線を用いた殺菌・除菌効果が乏しくなる、という問題があった。

また、防湿層として酸化ケイ素などからなる無機膜がよく知られているが、酸化ケイ素からなる無機膜は、水蒸気透過率を十分に小さくするには厚みを大きくする必要があり、厚みを大きくするとクラックが発生しやすくなったり、高コストになるという問題があった。上記観点から、上述した特許文献は、いずれも、殺菌性、低い水蒸気透過率、クラック発生の少なさ、および低コストを同時に満足するものではない。

本発明の課題は、かかる従来技術の背景に鑑み、低コストかつシンプルな構成でも高度なガスバリア性を有し、かつ高い殺菌性能および高い光線透過率を有する積層体を提供することである。

本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用する。すなわち、以下である。

（１）基材の少なくとも片面に、ケイ素、金属元素および酸素を含むＡ層を有し、分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下である積層体。

本発明によれば、低コストかつシンプルな構成でも高度なガスバリア性を有し、かつ高い殺菌性能を有する積層体を提供することができる。

本発明の積層体の一例を示した断面図である。 本発明の積層体の一例を示した断面図である。 本発明の積層体を製造するための巻き取り式電子線蒸着装置を模式的に示す概略図である。 本発明の積層体を製造するための材料配置を上部から模式的に表す図である。 本発明の積層体を製造するための材料配置を横から模式的に表す図である。 巻き取り式スパッタリング装置を模式的に示す概略図である。 本発明の光学積層体の一例を示した断面図である。 本発明の光学積層体の一例を示した断面図である。

以下に本発明の詳細を説明する。

本発明の積層体の好ましい一態様は、基材の少なくとも片面に、ケイ素、金属元素および酸素を含むＡ層を有し、分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下の積層体である。

このような態様とすることにより、低コストかつシンプルな構成でも高度なガスバリア性を有し、かつ高い殺菌性能および高い光線透過率を有する積層体を提供することができる。なお、本発明において、金属元素はケイ素以外の金属元素であることとする。

Ａ層に含まれる金属元素は、ガスバリア性、光学特性の観点からマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、およびガリウムからなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、マグネシウム、およびカルシウムより選ばれる少なくとも１種であることがより好ましく、成膜性の観点から、マグネシウムであることがさらに好ましい。

Ａ層に含まれるケイ素および金属元素の形態は、酸化物、窒化物、酸化窒化物、炭化物などに限定されないが、非晶質膜を形成することやガスバリア性の観点から、酸化物、窒化物、酸化窒化物および炭化物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物として含有されていることが好ましく、酸化物、窒化物、および酸化窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物として含有されていることがより好ましい。その中でも、酸化マグネシウムおよび酸化ケイ素を含むことがさらに好ましい。Ａ層にケイ素、金属元素および酸素を含んでいれば、その他の無機化合物が含まれていても構わない。

Ａ層が酸素を含むとは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）で評価を行った場合に、ＳｉＯ_２膜の換算厚みで、Ａ層最表面からＡ層の厚みが１／２となる位置までアルゴンイオンエッチングを行った箇所において、酸素原子の含有比率が１０．０ａｔｍ％以上であることを言う。透明性や緻密性などの観点より、酸素原子の含有比率は２０．０ａｔｍ％以上であることが好ましく、４０．０ａｔｍ％以上であることがより好ましい。Ａ層最表面はＡ層が基材と最も近接する面と反対面のことを指す。

本発明において、分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下であることが好ましい。波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下であることにより、紫外領域における透過率が良好となる。積層体で封止された内部の物質の殺菌・除菌効果を高める観点より、分光吸収率が１５％以下であることが好ましく、分光吸収率が１０％以下であることがより好ましく、８％以下であることがさらに好ましい。

本発明において、分光光度計により測定される分光透過率が、波長３００ｎｍにおいて６０％以上、波長５５０ｎｍにおいて８５％以上、波長７８０ｎｍにおいて８０％以上であることが好ましい。上記を満たすことで、紫外線の透過率が良好となり積層体で封止された内部の物質の殺菌・除菌効果が良好となる。

本発明の積層体をフレキシブルディスプレイなどの有機素子に使用した際に光取り出し効率を向上させる観点から、分光透過率は波長３００ｎｍで７０％以上、波長５５０ｎｍで８８％以上、波長７８０ｎｍで８５％以上であることが好ましく、分光透過率は波長３００ｎｍで８０％以上、波長５５０ｎｍで９０％以上、波長７８０ｎｍで９０％以上であることがさらに好ましい。特に、可視光領域における透過率として波長５５０ｎｍおよび波長７８０ｎｍの分光透過率が良好であることが好ましい。

本発明のＡ層は、陽電子ビーム法（薄膜対応陽電子消滅寿命測定法）（「陽電子計測の科学」（日本アイソトープ協会）Ｉ章１節，Ｖ章２節参照）により測定される平均寿命が０．９３５ｎｓ以下であることが好ましい。陽電子ビーム法は、陽電子消滅寿命測定法の一つであり、陽電子が試料に入射してから消滅するまでの時間（数百ｐｓ〜数十ｎｓオーダー）を測定し、その消滅寿命から約０．１〜１０ｎｍの空孔の大きさ、数濃度、さらには大きさの分布に関する情報を非破壊的に評価する手法である。陽電子線源として放射性同位体（^２２Ｎａ）の代わりに陽電子ビームを用いる点が、通常の陽電子消滅法と大きく異なり、シリコンや石英基板上に製膜された数百ｎｍ厚程度の薄膜の測定を可能とした手法である。得られた測定値から非線形最小二乗プログラムＰＯＳＩＴＲＯＮＦＩＴにより、平均細孔半径や細孔の数濃度を求めることが出来る。サブｎｍオーダーの細孔や基本骨格に対応するものは、第３成分および第４成分の平均寿命を解析することで得られる。

ここで、第３成分とは、陽電子ビーム法による平均寿命の測定条件として３成分に対する解析を選択することにより得られた平均寿命をいい、第４成分とは、陽電子ビーム法による平均寿命の測定条件として４成分に対する解析を選択することにより得られた平均寿命をいう。ＰＯＳＩＴＲＯＮＦＩＴにより解析をする際には、逆ラプラス変換法に基づく分布解析プログラムＣＯＮＴＩＮを用いて算出した細孔半径分布曲線で得られたピーク数から、ＰＯＳＩＴＲＯＮＦＩＴの成分数を決定する。ＰＯＳＩＴＲＯＮＦＩＴから算出した平均細孔半径とＣＯＮＴＩＮの細孔半径分布曲線のピーク位置が一致していることで、解析が妥当であることを判断する。本発明でいう平均寿命は、第３成分の平均寿命のことを指す。

平均寿命が０．９３５ｎｓ以下であることにより、Ａ層が緻密であり、高いガスバリア性を発現することができる。ガスバリア性の観点から、陽電子ビーム法により測定される平均寿命は０．９１２ｎｓ以下であることが好ましく、０．８６３ｎｓ以下がより好ましい。また、平均寿命の下限は特に限定されないが、０．５４２ｎｓ以上であることが好ましい。平均寿命が０．５４２ｎｓ以上であることにより屈曲性を十分なものとすることができる。

本発明で規定する、Ａ層の陽電子ビーム法により測定される平均寿命が０．９３５ｎｓ以下とするためには、例えば算術平均粗さＲａが３．０ｎｍ以下の基材上に、複合酸化物膜を適した組成比率で緻密に形成することにより達成される。ここでいう緻密に形成するとは、それぞれの酸化物が原子レベルで混ざり合い緻密なネットワークを形成している状態をいう。

本発明のＡ層は、Ｘ線光電子分光により測定される酸素原子（Ｏ１ｓ）のピークの半値幅が３．２５ｅＶ以下であることが好ましい。半値幅は、ピークの最大値をＦ_ｍａｘとした場合、ピークの強度がＦ_ｍａｘ／２の時のピーク幅のことを言う。Ｏ１ｓのピークの半値幅が狭い方が均一な結合のネットワーク構造が形成されることから、緻密な膜となりやすい。結合の均一性、バリア性の観点より、３．００ｅＶ以下がより好ましく、２．７５ｅＶ以下が更に好ましい。また、下限は特に限定されないが、１．６５ｅＶ以上であることが好ましい。

本発明におけるＡ層の屈折率が２．０以下の積層体であることが好ましい。屈折率は波長５５０ｎｍにおける屈折率のことを言う。Ａ層の屈折率が２．０以下であることにより、紫外可視領域における反射や吸収が小さくなり透過性を高めることができる。同様の観点より、Ａ層の屈折率は１．９０以下であることが好ましく、１．８０以下であることがより好ましい。

本発明のＡ層は、酸化マグネシウムおよび酸化ケイ素を含み、Ｘ線光電子分光に（ＸＰＳ）より測定される、マグネシウム（Ｍｇ）原子濃度が５〜５０（ａｔｍ％）、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が２〜３０（ａｔｍ％）、酸素（Ｏ）原子濃度が４５〜７０（ａｔｍ％）の積層体であることが好ましい。なお、〜は、以上、以下を表す。

Ａ層の組成比率はＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定することができる。アルゴンイオンエッチングにより、Ａ層の厚みが１／２となる位置までＡ層を除去して各元素の含有比率を測定する。

Ａ層は結晶層になりクラックが入りやすくなることを抑制する観点からマグネシウム原子濃度が５０ａｔｍ％以下、および／またはケイ素原子濃度が２ａｔｍ％以上であることが好ましい。Ａ層中のシリケート結合の割合を十分なものとし、緻密性を向上させてガスバリア性を発現する観点からマグネシウム原子濃度が５ａｔｍ％以上、および／またはケイ素原子濃度が３０ａｔｍ％以下であることが好ましい。シリケート結合とは、ケイ素（Ｓｉ）と金属（Ｍ）の酸素（Ｏ）を介した結合であり、Ｓｉ−Ｏ−Ｍと記載することができる。マグネシウムやケイ素が酸化不足となり光線透過率が低下することを抑制する観点から、酸素原子濃度が４５ａｔｍ％以上であることが好ましい。また、酸素が過剰に取り込まれ空隙や欠陥が増加することを抑制し、ガスバリア性を発現する観点から、酸素原子濃度が７０ａｔｍ％以下であることが好ましい。

上記観点から、本発明のＡ層の組成について、マグネシウム原子濃度が８〜３５（ａｔｍ％）、ケイ素原子濃度が６〜２５（ａｔｍ％）、酸素原子濃度が５０〜６５（ａｔｍ％）であることがより好ましく、マグネシウム原子濃度が１５〜３０（ａｔｍ％）、ケイ素原子濃度が８〜２０（ａｔｍ％）、酸素原子濃度が５０〜６５（ａｔｍ％）であることがさらに好ましい。

本発明のＡ層の組成について、マグネシウム（Ｍｇ）原子とケイ素（Ｓｉ）原子の原子濃度（ａｔｍ％）比率Ｍｇ／（Ｍｇ＋Ｓｉ）が、０．４５〜０．８０であることが好ましい。原子濃度（ａｔｍ％）比率が、Ｍｇ／（Ｍｇ＋Ｓｉ）≧０．４５であることにより、Ａ層中のシリケート結合の割合を十分なものとし、緻密性を向上させてガスバリア性を発現することができる。原子濃度（ａｔｍ％）比率がＭｇ／（Ｍｇ＋Ｓｉ）≦０．８０であることにより、Ａ層中に結晶部が存在することを抑制し、クラックが入りやすくなることを抑えることができる。同様の観点より、原子濃度（ａｔｍ％）比率Ｍｇ／（Ｍｇ＋Ｓｉ）は０．５０〜０．７８がより好ましく、０．５５〜０．７６がさらに好ましい。

本発明におけるＡ層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）およびＸ線反射率法（ＸＲＲ法）による評価で得ることができる。Ａ層の厚みは５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。厚みが５ｎｍよりも薄いと層として形成されない領域が発生し、十分なガスバリア性が確保できない場合がある。また、Ａ層の厚みは５００ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下がより好ましい。Ａ層の厚みが５００ｎｍよりも厚いとクラックが入りやすくなったり耐屈曲性や延伸性が低下したりする場合がある。

本発明の積層体は、水蒸気透過度が５．０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満であることが好ましい。高いガスバリア性が要求される有機素子やフレキシブルディスプレイ用途に使用される観点から、本発明の積層体の水蒸気透過度は１．０×１０^−２ｇ／ｍ^２／ｄａｙ未満であることがより好ましい。また水蒸気透過度の下限は特に限定されないが、膜が必要以上に緻密になるとクラックが生じやすくなることから、本発明の積層体の水蒸気透過度は１．０×１０^−４ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上であることが好ましい。

［Ａ層の製造方法］
Ａ層の形成方法については、特に限定はなく、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、原子層堆積法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。製造コスト、環境負荷、ガスバリア性等の観点から、真空蒸着法を用いることが好ましい。

巻き取り式蒸着装置（図３）によるＡ層の形成方法の一例を示す。電子線（ＥＢ）蒸着法により、基材１の表面にＡ層として、材料ＢとＣの化合物薄膜を設ける。まず、蒸着材料として、２〜５ｍｍ程度の大きさの顆粒状の材料Ｂと材料Ｃを図４，５のように交互に配置する。交互に配置する際の面積比率は、Ａ層の狙い膜組成やＥＢ照射方法等に応じて配置する。その際の配置する材料毎の幅は、１０〜１００ｍｍであることが好ましい。１００ｍｍより大きいと材料ＢとＣの幅方向における組成比や膜質のバラつきが大きくなりやすい。１０ｍｍ未満であると材料を配置する際の作業性が低下する可能性がある。幅方向の組成比や膜質のバラつき、作業性などの観点より２０〜８０ｍｍであることがより好ましい。また、蒸着材料は顆粒に限らず、角形やタブレット型などの成形体などの形状のものを用いてもよい。また、材料Ｂと材料Ｃを予め焼結した複合材料を用いてもよい。蒸着材料が吸湿していると材料中の水分がＡ層中に取り込まれ、所望の膜組成や物性が得られなくなる可能性があることから、材料を使用前に加熱による脱水処理を行うことが好ましい。巻き取り室４の中で、巻き出しロール５に前記基材１のＡ層を設ける側の面がハースライナー１０に対向するようにセットし、巻き出し、ガイドロール６，７，８を介して、メインドラム９に通す。次に、真空ポンプにより、蒸着装置６０内を減圧し、５．０×１０^−３Ｐａ以下を得る。到達真空度は５．０×１０^−３Ｐａ以下が好ましい。到達真空度が５．０×１０^−３Ｐａより大きいと残留ガスがＡ層中に取り込まれ、所望の膜組成や物性が得られなくなる可能性がある。メインドラム９の温度は一例として、−１５℃に設定する。基材の熱負けを防ぐ観点から、２０℃以下が好ましく、より好ましくは０℃以下である。次に、加熱源として一台の電子銃（以下、ＥＢ銃）１２を用い、材料Ｂ、Ｃ表面を均一に加熱する。ＥＢ銃は加速電圧１０ｋＶでＥＢ蒸着により前記基材１の表面上にＡ層を形成する。Ａ層の厚みは、ＥＢ銃の加速電流、フィルム搬送速度により調整する。その後、ガイドロール１４，１５，１６を介して巻き取りロール１７に巻き取る。

［基材］
本発明に用いられる基材は、柔軟性を確保する観点からフィルム形態を有することが好ましい。

本発明に用いられる基材の素材は、ポリエステル、アクリル、ポリカーボネート、セルロースエステル、オレフィン、環状オレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが挙げられる。本発明の態様を満足するためには、ＵＶ吸収性の小さい基材を用いることが好ましい。具体的には、本発明に用いられる基材の分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下であることが好ましい。同様の観点より、波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１０％以下であることがより好ましい。そのような観点から、基材はオレフィン、環状オレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレンが好ましい。ガスバリア性、ディスプレイ用途に用いられる観点より、環状オレフィンがより好ましい。

環状オレフィン樹脂フィルムは、環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）あるいは環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を主成分とする樹脂フィルムである。ここで、主成分とするとは
樹脂フィルムを構成する樹脂成分のうち、ＣＯＰあるいはＣＯＣの構成比率が５０質量％以上であることを意味するものであり、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくは９５質量％以上である。

基材のＡ層を形成する側の表面には、密着性や平滑性を良くするためにコロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理、イオンボンバード処理、溶剤処理、有機物もしくは無機物またはそれらの混合物で構成されるアンカーコート層の形成処理、等の前処理が施されていてもよい。また、Ａ層を形成する側の反対側には、基材の巻き取り時の滑り性の向上や基材の耐擦傷性を目的として、有機物や無機物あるいはこれらの混合物のコーティング層が積層されていてもよい。

本発明に使用する基材の厚みは特に限定されないが、柔軟性を確保する観点から５００μｍ以下が好ましく、引張りや衝撃に対する強度を確保する観点から５μｍ以上が好ましい。さらに、フィルムの加工やハンドリングの容易性から基材の厚みは１０μｍ以上、１５０μｍ以下がより好ましい。

［アンカーコート層］
本発明の積層体は、アンカーコート層を有していてもよい。前記アンカーコート層は、一方の面が前記基材と接し、他方の面が前記Ａ層と接していることが好ましい。さらにアンカーコート層は、芳香族環構造を有するポリウレタン化合物を架橋して得られる構造を含んでいることがより好ましい。基材上に突起や傷などの欠点が存在する場合、前記欠点を起点に基材上に積層するＡ層にもピンホールやクラックが発生してガスバリア性や耐屈曲性が損なわれる場合があるため、アンカーコート層を設けることが好ましい。また、基材とＡ層との熱寸法安定性差が大きい場合もガスバリア性や屈曲性が低下する場合があるため、アンカーコート層を設けてもよい。

アンカーコート層の厚みは、２００ｎｍ以上、４，０００ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以上、２，０００ｎｍ以下がより好ましく、５００ｎｍ以上、１，０００ｎｍ以下がさらに好ましい。アンカーコート層の厚みが２００ｎｍより薄くなると、基材上に存在する突起や傷などの欠点の悪影響を抑制できない場合がある。アンカーコート層の厚みが４，０００ｎｍより厚くなると、アンカーコート層の平滑性が低下して前記アンカーコート層上に積層するＡ層表面の凹凸形状も大きくなり、積層される蒸着膜が緻密になりにくく、ガスバリア性の向上効果が得られにくくなる場合がある。ここでアンカーコート層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察画像から測定することが可能である。

アンカーコート層の算術平均粗さＲａは、１０ｎｍ以下であることが好ましい。Ｒａを１０ｎｍ以下にすると、アンカーコート層上に均質なＡ層を形成しやすくなり、ガスバリア性の繰り返し再現性が向上するため好ましい。アンカーコート層の表面のＲａが１０ｎｍより大きくなると、アンカーコート層上のＡ層表面の凹凸形状も大きくなり、蒸着膜が緻密になりにくく、ガスバリア性の向上効果が得られにくくなる場合があり、また、凹凸が多い部分で応力集中によるクラックが発生し易いため、ガスバリア性の繰り返し再現性が低下する原因となる場合がある。従って、本発明においては、アンカーコート層のＲａを１０ｎｍ以下にすることが好ましく、より好ましくは５ｎｍ以下である。本発明におけるアンカーコート層のＲａは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などを用いて測定することができる。

本発明の積層体にアンカーコート層を適用する場合の塗布手段としては、例えばリバースコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、スピンコート法などにより塗布することが好ましい。

［光学積層体］
本発明の光学積層体は、積層体と、λ／４位相差フィルムと、直線偏光子層とを備える、光学積層体であることが好ましい。

λ／４位相差フィルムは、λ／４板として機能する、すなわち、入射光に対して進相軸と遅相軸との間にπ／２（＝λ／４）の位相差を与えるフィルムである。λ／４位相差フィルムの５５０ｎｍの波長での面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１００ｎｍ〜１８０ｎｍであることができ、好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであることが好ましい。

λ／４位相差フィルムの厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。つまり、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。厚みは、１μｍ〜８０μｍであることが好ましく、１０μｍ〜６０μｍであることがより好ましく、３０μｍ〜５０μｍであることがさらに好ましい。

λ／４位相差フィルムの材料としては、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、環状オレフィンポリマー、液晶化合物の配向固化層などを例示することができる。中でもポリカーボネート系樹脂フィルム、コスト的に安価で均一なフィルムが入手可能であるため好ましく用いられる。製膜方法としては、溶剤キャスト法やフィルムの残留応力を小さくできる精密押出法などを用いることができるが、均一性の点で溶剤キャスト法が好ましく用いられる。延伸方法は、特に制限なく、均一な光学特性が得られるロール間縦一軸、テンター横一軸延伸など適用できる。

λ／４位相差フィルムは、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆波長分散性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。

λ／４位相差フィルムが逆波長分散性を示す場合には、視野角補償が向上するという効果がある。この場合、λ／４位相差フィルムの波長λでの面内位相差をＲｅ（λ）と表記したときに、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１およびＲｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＞１を満たすことができる。

本発明の直線偏光子層は、直線偏光機能を有するフィルムである。このような直線偏光子層としては例えば、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムである。吸収異方性を有する色素としては例えば、ヨウ素などの二色性色素であり、基材としては例えばポリビニルアルコール系樹脂である。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムの製法の１例は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、およびホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。

直線偏光子層の厚さは５〜４０μｍが好ましく、５〜３０μｍとすることがより好ましい。また、直線偏光子層を保護する観点からの一方面又は両面は、トリアセチルセルロース等の保護フィルムを有していることが好ましい。

円偏光を得るための構成として、λ／４位相差フィルムの進相軸と、直線偏光子層の透過軸とが４５°で交差するように、λ／４位相差フィルムおよび直線偏光子層を配置することが好ましい。

図７のような光学積層体において、ガスバリア性を備える積層体に加えて、λ／４位相差フィルムおよび直線偏光子層によって直線偏光を円偏光に変換する機能を付与することができる。

本発明の光学積層体は、積層体と、λ／２位相差フィルムを備える、光学積層体である。λ／２位相差フィルムは、λ／２板として機能する、すなわち、入射光に対して進相軸と遅相軸との間にπ（＝λ/２）の位相差を与えるフィルムである。λ／２位相差フィルムの波長５５０ｎｍでの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。

λ／２位相差フィルムの厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。つまり、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、１μｍ〜８０μｍであることが好ましく、１０μｍ〜６０μｍであることがより好ましく、３０〜５０μｍであることがさらに好ましい。

λ／２位相差フィルムの材料や製法は、λ／４位相差フィルムと同様とすることができる。

図８のような光学積層体では、λ／２位相差フィルムを所定角度で設けることにより、光学積層体に逆波長分散性を付与することができる。

［封止樹脂層］
本発明における封止樹脂層は、少なくとも封止樹脂を含む層である。かかる封止樹脂としては、ゴム系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、（メタ）アクリル系ポリマー、ポリエステル系ポリマーおよびシリコーン系ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。

上記封止樹脂の中でも、水蒸気透過率を小さくするという観点から、ゴム系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマーおよびスチレン系熱可塑性エラストマーからなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。

ゴム系ポリマーは、天然ゴム又は合成ゴム等のゴム弾性を有するものである。例えば、天然ゴム、ブタジエン単独重合体（ブタジエンゴム）、クロロプレン単独重合体（クロロプレンゴム）、イソプレン単独重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体（ニトリルゴム）、エチレン−プロピレン−非共役ジエン三元共重合体、イソブチレン系重合体、またはこれらを変性したものが挙げられる。ゴム系ポリマーの中でも、イソブチレン系重合体が好ましい。

イソブチレン系重合体は、主鎖および／または側鎖に、イソブチレン由来の繰り返し単位を有する重合体をいう。イソブチレン由来の繰り返し単位の含有比率は、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が特に好ましい。上限の含有比率は９９質量％程度である。

イソブチレン系重合体としては、イソブチレン単独重合体（ポリイソブチレン）、イソブチレン−イソプレン共重合体（ブチルゴム）、イソブチレン−ｎブテン共重合体、イソブチレン−ブタジエン共重合体、およびこれらの重合体を臭素化または塩素化して得られるハロゲン化重合体などが挙げられる。これらの中でも、イソブチレン−イソプレン共重合体（ブチルゴム）が好ましい。

ゴム系ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は、５万〜３００万の範囲が好ましく、１０万〜２００万の範囲がより好ましく、１５万〜１５０万の範囲が特に好ましい。ゴム系ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）が上記範囲内であることで、水蒸気透過率の小さい封止フィルムが得られる。

ゴム系ポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）は、テトラヒドロフランを溶媒として用いてゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。

ポリオレフィン系ポリマーは、主鎖および／または側鎖に、オレフィン系モノマー由来の繰り返し単位を有する重合体であり、オレフィン系モノマー単独重合体や共重合体、あるいはこれらを変性したものが挙げられる。

かかるオレフィン系モノマーとしては、プロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン等の炭素数３〜２０のα−オレフィン、あるいはシクロブテン、テトラシクロドデセン、ノルボルネン等の炭素数４〜２０の環状オレフィンが挙げられる。

スチレン系熱可塑性エラストマーは、スチレン由来の繰り返し単位を有する重合体もしくは該重合体を変性したものである。例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体および該共重合体の水素添加物であるスチレン−エチレン−ブテン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体および該共重合体の水素添加物であるスチレン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体（スチレンブタジエンゴム）、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−イソブチレンジブロック共重合体、スチレン−イソブチレン−スチレントリブロック共重合体等が挙げられる。

（メタ）アクリル系ポリマーは、主鎖および／または側鎖に、（メタ）アクリル系モノマー由来の繰り返し単位を有する重合体である。例えば、（メタ）アクリル系モノマーの単独重合体もしくは共重合体、またはこれらを変性したものが挙げられる。ここで、「（メタ）アクリル」は、アクリルまたはメタクリルを意味する。

（メタ）アクリル系ポリマーにおける（メタ）アクリル系モノマー由来の繰り返し単位の含有比率は、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、７０以上が特に好ましい。上限の含有比率は９９質量％程度である。

（メタ）アクリル系モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等のアルキル基の炭素数が１〜２０の（メタ）アクリル酸エステル、あるいは（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ヒドロキシメチル等の反応性官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーが挙げられる。

ポリエステル系ポリマーは、多価カルボン酸とポリオールとの重縮合により得られる重合体またはこれを変性したものである。かかる多価カルボン酸としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリット酸等が挙げられる。ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の脂肪族アルコールや、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリエーテルポリオールが挙げられる。

シリコーン系ポリマーは、主鎖および／または側鎖に、（ポリ）シロキサン構造を有する重合体またはこれを変性したものである。かかるシリコーン系ポリマーとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。

封止樹脂層は、上述した封止樹脂を単独もしくは複数種組み合わせて用いることができる。封止樹脂層における封止樹脂の含有量は、封止樹脂層の固形分総量１００質量％に対して、２５〜９０質量％の範囲が好ましく、３０〜８０質量％の範囲がより好ましく、４０〜７０質量％の範囲が特に好ましい。

封止樹脂層は、さらに粘着付与樹脂を含有することが好ましい。かかる粘着付与樹脂としては、例えば、脂環族系石油樹脂、脂環族系水添石油樹脂、芳香族系石油樹脂、およびロジン系樹脂が挙げられる。これらの粘着付与樹脂の中でも脂環族系石油樹脂が好ましく、さらに脂環族系水添石油樹脂の中でも、水素添加テルペン系樹脂、水素添加エステル系樹脂、Ｃ５系石油樹脂の水素添加樹脂、Ｃ９系石油樹脂の水素添加樹脂が好ましい。

封止樹脂層における粘着付与樹脂の含有量は、封止樹脂層の固形分総量１００質量％に対して、５〜６０質量％の範囲が好ましく、１０〜５０質量％の範囲がより好ましく、１５〜４０質量％の範囲が特に好ましい。

封止樹脂と粘着付与樹脂との質量比（封止樹脂／粘着付与樹脂）は、２０／８０〜９５／５であることが好ましく、３０／７０〜９０／１０であることがより好ましい。

封止樹脂層は、架橋構造が形成されていてもよい。架橋構造が形成されることで、封止樹脂層は、十分な凝集力を有するものとなり、接着性により優れ、かつ、水蒸気透過率がより低いものとなる。

封止樹脂層中に架橋構造を形成する際は、接着剤等における公知の架橋構造形成方法を利用することができる。例えば、水酸基やカルボキシル基を有する封止樹脂を用いる場合、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を用いることで、架橋構造を形成することができる。

封止樹脂層は、さらに、エポキシ樹脂を含有することが好ましい。かかるエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、リン含有エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、ビスフェノールのジグリシジルエーテル化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のグリシジルエーテル化物、アルコール類のジグリシジルエーテル化物等が挙げられる。

上記エポキシ樹脂の中でも、耐熱性を向上させるという観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、芳香族グリシジルアミン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン構造を有するエポキシ樹脂が好ましく用いられる。

封止樹脂層におけるエポキシ樹脂の含有量は、封止樹脂層の固形分総量１００質量％に対して、０．１〜２０質量％の範囲が好ましく、１〜１５質量％の範囲がより好ましく、２〜１０質量％の範囲が特に好ましい。

封止樹脂層は、さらに、無機充填材を含有することが好ましい。かかる無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。これらの中でも、耐透湿性向上の観点から、タルクが特に好ましく用いられる。

また、封止樹脂層は、さらに、吸湿性金属酸化物を含有することができる。ここで、「吸湿性金属酸化物」とは、水分を吸収する能力をもち、吸湿した水分と化学反応して水酸化物になる金属酸化物を意味する。具体的には、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化アルミニウム、酸化バリウム等から選ばれる１種か、或いは、２種以上の混合物若しくは固溶物である。上記吸湿性金属酸化物の中でも、吸湿性が高い点、コスト、原料の安定性の点から、酸化カルシウム、酸化マグネシウムが好ましい。また、封止樹脂層層は、さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、充填剤、難燃剤、および防錆剤等を含有することができる。

封止樹脂層の厚みは、５〜１５０μｍの範囲が好ましく、１０〜１００μｍの範囲がより好ましく、２０〜８０μｍの範囲が特に好ましい。また、封止樹脂層は、水蒸気透過率が、４０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましく、３０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。

封止樹脂層は、積層体のＡ層上に塗布して形成してもよいし、一旦離型フィルムに封止樹脂層を塗布した後、封止樹脂層の面と積層体のＡ層の面とを貼合してもよい。

［その他の層］
本発明の積層体の最表面の上、つまりＡ層の上には、ガスバリア性が低下しない範囲で耐擦傷性や耐薬品性、印刷性等の向上を目的としたオーバーコート層を形成してもよいし、素子等に貼合するための有機高分子化合物からなる封止樹脂層やフィルムをラミネートした積層構成としてもよい。また、光学特性を向上させるための低屈折率層を形成してもよい。なお、ここでいう最表面とは、基材上にＡ層が積層された後の、Ａ層の表面をいう。

［積層体の用途］
本発明の積層体は高いＵＶ透過性およびガスバリア性を有するため、殺菌性の求められる医薬品の包装材料などに好適に用いることが出来る。また、高い光線透過率とガスバリア性を両立する観点から、有機ＥＬ素子や有機光電管素子などの有機素子にも好適に用いることが出来る。加えて、後述するフレキシブルディスプレイにも好適に用いることが出来る。

［フレキシブルディスプレイ］
本発明のフレキシブルディスプレイの好ましい一態様は、上記積層体もしくは光学積層体を用いたフレキシブルディスプレイである。本態様とすることで、フレキシブルディスプレイの耐久性が高く、また外観品位、色特性に優れるものとすることができる。

以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。

［評価方法］
（１）各層の厚み
断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（（株）日立製作所製 ＦＢ−２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８〜１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製 Ｈ−９０００ＵＨＲＩＩ）により、加速電圧３００ｋＶとして、２０万倍で観察用サンプルの断面を観察し、積層体のＡ層の厚みを測定した。

（２）Ａ層の組成
積層体のＡ層の組成分析は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により行った。Ａ層表面から、Ａ層の厚みが１／２となる位置までアルゴンイオンエッチングによりＳｉＯ_２換算厚みでエッチングを行った箇所にて、各元素の含有比率を測定した。分析で使用するピークは、マグネシウムは２ｓ、ケイ素は２ｐ、カルシウムは２ｐ_３／２、亜鉛は２ｐ_３／２、アルミニウムは２ｐ、酸素は１ｓとした。

ＸＰＳの測定条件は下記の通りとした。
・装置 ：ＰＨＩ５０００ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ（アルバックファイ社製）
・励起Ｘ線 ：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ ＡｌＫα
・分析範囲 ：φ１００μｍ
・光電子脱出角度 ：４５°
・Ａｒイオンエッチング ：２．０ｋＶ、ラスターサイズ ２×２
酸素原子（Ｏ１ｓ）ピークの半値幅は、測定装置付帯の解析ソフトＭｕｌｔｉｐａｋにより算出される値とした。

（３）水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）
積層体の水蒸気透過度は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨ、測定面積５０ｃｍ^２の条件で、英国、テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置（機種名：“ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ”（登録商標））を使用して測定した。サンプル数は水準当たり２サンプル行った。２サンプルの測定を行い得たデータを平均し、有効数字２桁とし、当該水準における平均値を求め、その値を水蒸気透過度（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）とした。

（４）陽電子寿命および細孔半径分布
陽電子寿命および細孔半径分布は、陽電子ビーム法（薄膜対応陽電子消滅寿命測定法）により測定を行った。測定するサンプルを１５ｍｍ×１５ｍｍ角のＳｉウェハに貼り付けて室温で真空脱気した後、測定を行った。測定条件は下記のとおりである。
・装置 ：フジ・インバック製小型陽電子ビーム発生装置ＰＡＬＳ２００Ａ
・陽電子線源 ：^２２Ｎａベースの陽電子ビーム
・γ線検出器 ：ＢａＦ_２製シンチレータ＋光電子増倍管
・装置定数 ：２５５〜２７８ｐｓ，２４．５５ｐｓ／ｃｈ
・ビーム強度 ：１ｋｅＶ
・測定深さ ：０〜１００ｎｍ付近（推定）
・測定温度 ：室温
・測定雰囲気 ：真空
・測定カウント数 ：約５，０００，０００カウント
測定結果について、非線形最小二乗プログラムＰＯＳＩＴＲＯＮＦＩＴにより、３成分あるいは４成分解析を行った。

（５）分光特性（分光透過率／分光吸収率）
分光光度計Ｖ−６７０（日本分光（株）製）および絶対反射率測定ユニットＡＲＳＮ−
７３３を用いて、波長３００〜８００ｎｍの範囲の分光透過率、分光反射率を下記条件で測定した。分光吸収率は得られたデータから、１００−（透過率＋反射率）（％）の数式により算出した。

得られたデータのうち、波長３００ｎｍ、３５０ｎｍ、４００ｎｍにおける分光吸収率および波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの平均分光吸収率を評価した。また、波長４００ｎｍ、５５０ｎｍ、７８０ｎｍにおける分光透過率および波長４００ｎｍ〜７８０ｎｍの平均分光透過率を評価した。

・入射角度 ：５°（サンプル平面に対する垂直方向を０°とする）
・測定波長 ：３００ｎｍ〜８００ｎｍ
・バンド幅 ：５．０ｎｍ
・データ取り込み間隔 ：０．５ｎｍ
・走査速度 ：１，０００ｎｍ／ｍｉｎ。

（実施例１）
図３に示す構造の巻き取り式蒸着装置を使用し、電子線（ＥＢ）蒸着法により、基材上に、Ａ層としてＭｇＯ＋ＳｉＯ_２層を厚み２００ｎｍ狙いで設けた。基材としては、厚み５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ”（登録商標）ＺＦ１４−０５０：３００ｎｍにおける分光吸収率０．２％）を用いた。

具体的な操作は以下の通りである。まず、蒸着材料として、２〜５ｍｍ程度の大きさの顆粒状の酸化マグネシウムＭｇＯ（純度９９．９％）と二酸化ケイ素ＳｉＯ_２（純度９９．９９％）を事前にそれぞれ１００℃、８時間加熱を行った。続いて、それぞれの材料を図４，５のようにカーボン製ハースライナー１０にセットした。材料の面積比率は、ＭｇＯ：ＳｉＯ_２＝１：１となるようにした。巻き取り室４の中で、巻き出しロール５に前記基材１のＡ層を設ける側の面がハースライナー１０に対向するようにセットし、巻き出し、ガイドロール６，７，８を介して、メインドラム９に通した。このとき、メインドラムは温度−１０℃に制御した。次に、真空ポンプにより蒸着装置６０内を減圧し、５．０×１０^−３Ｐａ以下を得た。次に、加熱源として電子銃（以下、ＥＢ銃）１２を用い、原子濃度（ａｔｍ％）の比がＭｇ：Ｓｉ＝２：１程度の膜組成比となるようにＭｇＯとＳｉＯ_２の加熱比率を制御した。ＥＢ銃は加速電圧１０ｋＶとし、形成するＡ層の厚みが２００ｎｍ程度となるように、加速電流とフィルム搬送速度を調整し、前記基材１の表面上にＡ層を形成した。その後、ガイドロール１４，１５，１６を介して巻き取りロール１７に巻き取った。

続いて、得られた積層体から試験片を切り出し、各種評価を実施した。結果を表１〜３に示す。

（実施例２）
基材として、厚み２３μｍの環状オレフィン樹脂フィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（実施例３）
Ａ層であるＭｇＯ＋ＳｉＯ_２層の形成において、原子濃度（ａｔｍ％）の比がＭｇ：Ｓｉ＝３：２程度の膜組成比となるようにＭｇＯとＳｉＯ_２の加熱比率を制御した以外は、実施例１と同様にして、積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（実施例４）
Ａ層であるＭｇＯ＋ＳｉＯ_２層の形成において、原子濃度（ａｔｍ％）の比がＭｇ：Ｓｉ＝３：１程度の膜組成比となるようにＭｇＯとＳｉＯ_２の加熱比率を制御した以外は、実施例１と同様にして、積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（実施例５）
蒸着材料として、２〜５ｍｍ程度の大きさの顆粒状の酸化カルシウムＣａＯ（純度９９．９％）と２〜５ｍｍ程度の大きさの顆粒状の酸化ケイ素ＳｉＯ_２（純度９９．９％）を用い、Ａ層であるＣａＯ＋ＳｉＯ_２層の形成において、原子濃度（ａｔｍ％）の比がＣａ：Ｓｉ＝３：２程度の膜組成比となるようにＣａＯとＳｉＯ_２の加熱比率を制御した以外は、実施例１と同様にして、積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（実施例６）
Ａ層であるＭｇＯ＋ＳｉＯ_２層の形成において、原子濃度（ａｔｍ％）の比がＭｇ：Ｓｉ＝６：１程度の膜組成比となるようにＭｇＯとＳｉＯ_２の加熱比率を制御した以外は、実施例１と同様にして、積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（実施例７）
Ａ層であるＭｇＯ＋ＳｉＯ_２層の形成において、原子濃度（ａｔｍ％）の比がＭｇ：Ｓｉ＝１：１程度の膜組成比となるようにＭｇＯとＳｉＯ_２の加熱比率を制御した以外は、実施例１と同様にして、積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（比較例１）
基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製“ルミラー”（登録商標）Ｐ６０：３００ｎｍにおける分光吸収率９２．０％）を用いた以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（比較例２）
蒸着材料として、２〜５ｍｍ程度の大きさの顆粒状の二酸化ケイ素ＳｉＯ_２（純度９９．９９％）を用い、仕切りの無いカーボン製ハースライナーにセットし、ＥＢ銃は加速電圧１０ｋＶとし、形成するＡ層の厚みが２００ｎｍ程度となるように、加速電流とフィルム搬送速度を調整してＡ層を形成した以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。結果を表１〜３に示す。

（比較例３）
図６に示す巻き取り式スパッタリング装置を使用し、スパッタリング法により、基材上に、Ａ層として酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの複合酸化物層（ＺｎＯ＋ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３層）を厚み１５０ｎｍ狙いで設けた。基材としては、厚み５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）の“ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ”（登録商標）ＺＦ１４−０５０：３００ｎｍにおける分光吸収率０．２％）を用いた。具体的な操作は以下の通りである。

まず、スパッタ電極２６に酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの組成質量比が７７／２０／３で焼結されたスパッタリングターゲットを設置した巻き取り式スパッタリング装置７０の巻き取り室２０の中で、巻き出しロール２１に環状オレフィン樹脂フィルムのＡ層を設ける側の面がスパッタリング電極２６に対向するようにセットし、巻き出し、巻き出し側ガイドロール２２，２３，２４を介して、メインドラム２５に通した。このとき、メインドラムは温度２５℃に制御した。次に、真空ポンプにより巻き取り式スパッタリング装置７０内を減圧し、１．０×１０^−３Ｐａ以下を得た。続いて、減圧度２×１０^−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力２，０００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、Ａ層を形成した。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、巻き取り側ガイドロール２７，２８，２９を介して巻き取りロール３０に巻き取った。続いて、得られた積層体から試験片を切り出し、各種評価を実施した。結果を表１〜３に示す。

実施例１〜４は、Ａ層は酸化マグネシウムと二酸化ケイ素の緻密な複合酸化物膜を形成し、膜組成や基材厚みが異なる場合でも、水蒸気透過度が１．０×１０^−２（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）未満と良好であるうえ、波長３００ｎｍにおける分光吸収率が８％以下と良好である。また、実施例５は、Ａ層は酸化カルシウムと二酸化ケイ素の複合酸化物膜を形成し、水蒸気透過度が１．５×１０^−２（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）と良好であるうえ、波長３００ｎｍにおける分光吸収率が８％以下と良好である。実施例６，７は、波長３００ｎｍにおける分光吸収率が８％以下と良好であるが、ＸＰＳにおけるＯ１ｓピークの半値幅が２．８７ｅＶ以上と大きいことから、Ａ層中の結合が不均一ありガスバリア性は７．６×１０^−２（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）以上である。

比較例１は、基材として、紫外領域に吸収を持つポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用いていることから、波長３００ｎｍにおける分光吸収率が９３．８％と非常に大きい結果、波長３００ｎｍにおける分光透過率が０％となる。また水蒸気透過度も環状オレフィン樹脂を用いた場合に比べて劣る。比較例２はＳｉＯ_２層の単一材料であり、分光特性は良好であるが、水蒸気透過度は実施例１〜７に劣る。比較例３はＡ層にＺｎＯ＋ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３層を用いており、水蒸気透過度は非常に良好である一方で、波長３００ｎｍにおける分光吸収率は１８．２％であり、その結果、波長３００ｎｍにおける分光透過率が低下している。

本発明の積層体は高いＵＶ透過性およびガスバリア性を有するため、殺菌性の求められる医療・医薬品の包装材料などに好適に用いることが出来る。また、高い光線透過率とガスバリア性を両立する観点から、有機ＥＬ素子や有機光電管素子などの有機素子にも好適に用いることが出来るが、用途はこれらに限定されるものではない。

１ 基材
２ Ａ層
３ アンカーコート層
４，２０ 巻き取り室
５，２１ 巻き出しロール
６，７，８，２２，２３，２４ 巻き出し側ガイドロール
９，２５ メインドラム
１０ ハースライナー
１１ 蒸着材料
１２ 電子銃
１３ 電子線
１４，１５，１６，２７，２８，２９ 巻き取り側ガイドロール
１７，３０ 巻き取りロール
１８ 蒸着材料Ｂ
１９ 蒸着材料Ｃ
２６ スパッタリング電極
３１ 封止樹脂層
３２ λ／４位相差フィルム
３３ 直線偏光子層
３４ λ／２位相差フィルム
５０ 積層体
６０ 巻き取り式電子線（ＥＢ）蒸着装置
７０ 巻き取り式スパッタリング装置
８０ 光学積層体

Claims (15)

1. 基材の少なくとも片面に、ケイ素、金属元素および酸素を含むＡ層を有し、分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下である積層体。
2. 分光光度計により測定される分光透過率が、波長３００ｎｍにおいて６０％以上、波長５５０ｎｍにおいて８５％以上、波長７８０ｎｍにおいて８０％以上である請求項１に記載の積層体。
3. 前記Ａ層は、陽電子ビーム法により測定される平均寿命が０．９３５ｎｓ以下である、請求項１または２に記載の積層体。
4. 前記Ａ層は、Ｘ線光電子分光により測定される酸素原子（Ｏ１ｓ）のピークの半値幅が３．２５ｅＶ以下である請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 前記Ａ層の屈折率が２．０以下である請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
6. 前記Ａ層の金属元素がマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、およびガリウムからなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
7. 前記Ａ層が、酸化マグネシウムおよび酸化ケイ素を含み、Ｘ線光電子分光により測定されるマグネシウム（Ｍｇ）原子濃度が５〜５０（ａｔｍ％）、ケイ素（Ｓｉ）原子濃度が２〜３０（ａｔｍ％）、酸素（Ｏ）原子濃度が４５〜７０（ａｔｍ％）である、請求項１〜６のいずれかに記載の積層体。
8. 前記Ａ層は、マグネシウム（Ｍｇ）原子とケイ素（Ｓｉ）原子の原子濃度（ａｔｍ％）の比率Ｍｇ／（Ｍｇ＋Ｓｉ）が、０．４５〜０．８０である、請求項１〜７のいずれかに記載の積層体。
9. 前記基材の分光光度計により測定される波長３００ｎｍにおける分光吸収率が１５％以下である、請求項１〜７のいずれかに記載の積層体。
10. 前記基材が環状オレフィン系の樹脂フィルムである、請求項１〜９のいずれかに記載の積層体。
11. 前記Ａ層の形成方法が真空蒸着法である、請求項１〜１０のいずれかに記載の積層体の製造方法。
12. 請求項１〜１０のいずれかに記載の積層体と、λ／４位相差フィルムと、直線偏光子層とを備える、光学積層体。
13. λ／２位相差フィルムを備える請求項１２に記載の光学積層体。
14. 封止樹脂層を備える請求項１２または１３に記載の光学積層体。
15. 請求項１〜１０のいずれかに記載の積層体、もしくは請求項１２〜１４のいずれかに記載の光学積層体を用いたフレキシブルディスプレイ。

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