JP2021096249A - 計時器構成要素を製作する方法およびこの方法から得られる構成要素 - Google Patents
計時器構成要素を製作する方法およびこの方法から得られる構成要素 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021096249A JP2021096249A JP2020205533A JP2020205533A JP2021096249A JP 2021096249 A JP2021096249 A JP 2021096249A JP 2020205533 A JP2020205533 A JP 2020205533A JP 2020205533 A JP2020205533 A JP 2020205533A JP 2021096249 A JP2021096249 A JP 2021096249A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin layer
- conductive layer
- layer
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
- B81C99/0085—Manufacture of substrate-free structures using moulds and master templates, e.g. for hot-embossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- B81C99/0075—Manufacture of substrate-free structures
- B81C99/009—Manufacturing the stamps or the moulds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/02—Pretreatment of the material to be coated, e.g. for coating on selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/26—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/003—3D structures, e.g. superposed patterned layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
- C25D5/022—Electroplating of selected surface areas using masking means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
- G03F7/405—Treatment with inorganic or organometallic reagents after imagewise removal
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B1/00—Driving mechanisms
- G04B1/10—Driving mechanisms with mainspring
- G04B1/14—Mainsprings; Bridles therefor
- G04B1/145—Composition and manufacture of the springs
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B15/00—Escapements
- G04B15/14—Component parts or constructional details, e.g. construction of the lever or the escape wheel
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B19/00—Indicating the time by visual means
- G04B19/06—Dials
- G04B19/12—Selection of materials for dials or graduations markings
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0002—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe
- G04D3/0017—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of gearworks
- G04D3/002—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of gearworks for gear wheels or gears
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0002—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe
- G04D3/0028—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the escape mechanism
- G04D3/003—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the escape mechanism for levers
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0002—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe
- G04D3/0028—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the escape mechanism
- G04D3/0033—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the escape mechanism for lever wheels
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0002—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe
- G04D3/0043—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the time-indicating mechanisms
- G04D3/0051—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for mechanical working other than with a lathe for components of the time-indicating mechanisms for time markers
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0069—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0174—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate for making multi-layered devices, film deposition or growing
- B81C2201/0181—Physical Vapour Deposition [PVD], i.e. evaporation, sputtering, ion plating or plasma assisted deposition, ion cluster beam technology
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/03—Processes for manufacturing substrate-free structures
- B81C2201/032—LIGA process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/03—Processes for manufacturing substrate-free structures
- B81C2201/034—Moulding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
Description
−犠牲金属層、およびその後の電気めっきステップ用の接着層を作成するステップと、
−感光性ポリイミド層を広げるステップと、
−形成すべき構造物の一方の水平面の輪郭に対応するマスクを通して感光性ポリイミド層にUV放射を照射するステップと、
−ポリイミド鋳型を得るように、非照射部分を溶解することにより感光性ポリイミド層を現像するステップと、
−電気めっきによりポリイミド鋳型の最上部までポリイミド鋳型にニッケルを満たし、実質的に平坦な上面を得るステップと、
−真空蒸着により上面全体の全面にわたってクロムの薄層を堆積させるステップと、
−クロム層の上に新しい感光性樹脂層を堆積させるステップと、
−得るべき構造物の次の水平面の輪郭に対応する新しいマスクを通して新しい感光性樹脂層を照射するステップと、
−新しい鋳型を得るように、感光性ポリイミド層を現像するステップと、
−ガルバーニ電気成長により新しい鋳型の最上部まで新しい鋳型にニッケルを満たすステップと、
−犠牲層および基板から多平面構造物およびポリイミド鋳型を分離するステップと、
−ポリイミド鋳型から多平面構造物を分離するステップと
を含む。
a)基板を提供し、基板の上に第1の導電層を堆積させ、第1の感光性樹脂層を適用するステップと、
b)スタンプを使用して、第1の感光性樹脂層をホットスタンピングし、基板まで下方にスタンプを押しつけて、前記第1の感光性樹脂層を形成し、計時器構成要素の第1の層を画定するステップと、
c)計時器構成要素の第1の水平面を画定するマスクを通して第1の形づくられた感光性樹脂層を照射し、第1の感光性樹脂層の非照射領域を溶解して、第1の導電層を所定の場所に現すステップと、
e)ステップc)から得られる構造物を覆う第2の感光性樹脂層を適用し、次いで、計時器構成要素の第2の水平面を画定するマスクを通して第2の樹脂層を照射し、第1の水平面および第2の水平面を備える鋳型を形成するために、第2の感光性樹脂層の非照射領域を溶解するステップと、
f)鋳型内で第1の導電層から電鋳することにより金属層を堆積させて、計時器構成要素を形成するステップであって、金属層は、実質的に第2の感光性樹脂層の上面に到達するステップと、
g)基板、第1の導電層、および樹脂を連続的に取り除いて、計時器構成要素を外すステップと
を備える、計時器構成要素を製作するための方法に関する。
−ステップb)を真空下で行う。
−ステップb)の間、第1の感光性樹脂層を70℃〜150℃の間まで加熱する。
−スタンプは浮き彫り印刷を有し、印刷の少なくとも一部分は、ステップb)で基板の表面に直接押しつけられるように配列される。
−前記スタンプ印刷は、計時器構成要素の前記少なくとも第1の水平面を画定する。
−方法は、ステップc)の後に任意選択のステップd)を含み、ステップd)は、第1の感光性樹脂層の照射領域上に第2の導電層を局所的に堆積させるステップからなる。
−ステンシルマスクを通して第2の導電層を堆積させる。
−第2の導電層は、露光表面すべて(側壁を含む)の全面にわたって全体的に堆積させることで適用され、次いで、トランスファ・プレス・ステップにより堆積したレジストを用いて保護されていた第1の感光性樹脂層の上面からを除き、完全に取り除かれる。
−導電性樹脂またはインクを印刷することにより第2の導電層を堆積させる。
−前記第1の導電層および前記第2の導電層は、Au、Ti、Pt、Ag、Cr、もしくはPdのタイプ、またはこれらの材料の少なくとも2つの積層からなる。
−基板はケイ素から作られる。
−第1の導電層は、50nm〜500nmの間で構成される厚さを有する。
−第2の導電層は、50nm〜500nmの間で構成される厚さを有する。
2 第1の導電層
3 第1の感光性樹脂層
3a 照射領域、光重合領域、光重合樹脂、光重合感光性樹脂
3b 非照射領域、非光重合領域
4 マスク
4” マスク
5 第2の導電層
6 第2の感光性樹脂層
6b 非照射領域
7 金属層
8 スタンプ
Claims (15)
- 少なくとも1つの計時器構成要素を製作するための方法であって、
a)基板(1)を提供し、前記基板(1)の上に第1の導電層(2)を堆積させ、第1の感光性樹脂層(3)を適用するステップと、
b)前記第1の感光性樹脂層を形づくり、前記計時器構成要素の第1の水平面を画定するために、スタンプを使用して、前記基板まで下方に前記スタンプ(8)を押しつけて、前記第1の感光性樹脂層(3)をホットスタンピングするステップと、
c)前記計時器構成要素の少なくとも第1の水平面を画定するマスク(4)を通して前記第1の形づくられた感光性樹脂層(3)を照射し、前記第1の感光性樹脂層(3)の非照射領域(3b)を溶解して、前記第1の導電層(2)を所定の場所に現すステップと、
d)ステップc)から得られる構造物を覆う第2の感光性樹脂層(6)を適用し、次いで、前記計時器構成要素の第2の水平面を画定するマスク(4”)を通して前記第2の感光性樹脂層(6)を照射し、第1の水平面および第2の水平面を備える鋳型を形成するために、前記第2の感光性樹脂層(6)の非照射領域(6b)を溶解するステップと、
e)前記鋳型内で前記第1の導電層(2)から電鋳することにより金属層(7)を堆積させて、前記計時器構成要素を形成するステップであって、前記金属層(7)は実質的に前記第2の感光性樹脂層(6)の上面に到達するステップと、
f)前記基板、前記第1の導電層、および前記樹脂を連続的に取り除いて、前記計時器構成要素を外すステップと
を備える方法。 - 少なくとも1つの計時器構成要素を製作するための方法であって、
a’)基板(1)を提供し、前記基板(1)の上に第1の導電層(2)を堆積させ、第1の感光性樹脂層(3)を適用するステップと、
b’)前記計時器構成要素の少なくとも第1の水平面を画定するマスク(4)を通して前記第1の感光性樹脂層(3)を照射し、前記第1の感光性樹脂層(3)の非照射領域(3b)を溶解して、前記第1の導電層(2)を所定の場所に現すステップと、
c’)前記ステップc)から得られる構造物を覆う第2の感光性樹脂層(6)を適用するステップと、
d’)スタンプを使用して前記第2の感光性樹脂層(6)をホットスタンピングして、前記第2の感光性樹脂層(6)を形づくり、前記計時器構成要素の第2の水平面を画定するステップと、
e’)前記計時器構成要素の第2の水平面を画定するマスク(4”)を通して前記第2の形づくられた感光性樹脂層(6)を照射し、前記第2の感光性樹脂層(6)の非照射領域(6b)を溶解して、第1の水平面および第2の水平面を備える鋳型を形成するステップと、
f’)前記鋳型内で前記第1の導電層(2)から電鋳することにより金属層(7)を堆積させて、前記計時器構成要素を形成するステップであって、前記金属層(7)は、実質的に前記第2の感光性樹脂層(6)の上面に到達するステップと、
g’)前記基板、前記第1の導電層、および前記樹脂を連続的に取り除いて、前記計時器構成要素を外すステップと
を備える方法。 - 前記ステップb)および前記ステップd’)を真空下で行うことを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記ステップb)または前記ステップd’)の間、前記第1の感光性樹脂層を70℃〜150℃の間まで加熱することを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記スタンプは刻印印刷を有し、前記印刷の少なくとも一部分は、前記ステップb)で前記基板の表面に直接押しつけられるように配列されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スタンプ印刷は、前記計時器構成要素の前記少なくとも第1の水平面を画定することを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記ステップc)または前記ステップb’)の後に、前記第1の感光性樹脂層(3)の照射領域(3a)上に第2の導電層(5)を局所的に堆積させるステップからなる、任意選択のステップd)を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- ステンシルマスク(4’)を通して前記第2の導電層(5)を堆積させることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記ステップd)で、前記第2の導電層(5)は、前記露光表面すべて(側壁を含む)の全面にわたって全体的に堆積させることで適用され、次いで、スタンピング・ストレイフ(strafe)・プレス・ステップにより堆積したレジストを用いて保護された、前記第1の感光性樹脂層の上面からを除き全部取り除かれることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記ステップd)で、インクまたは導電性樹脂を印刷することにより第2の導電層(5)を堆積させることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記第1の導電層(2)および前記第2の導電層(5)は、Au、Ti、Pt、Ag、Cr、またはPdのタイプからなることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板(1)はケイ素から作られること特徴とする、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第1の導電層(2)は、50nm〜500nmの間で構成される厚さを有することを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の導電層(5)は、50nm〜500nmの間で構成される厚さを有することを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 計時器構成要素であって、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法から得られる計時器構成要素。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP19217376.3 | 2019-12-18 | ||
EP19217376.3A EP3839626B1 (fr) | 2019-12-18 | 2019-12-18 | Procede de fabrication d'un composant horloger |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021096249A true JP2021096249A (ja) | 2021-06-24 |
JP7112472B2 JP7112472B2 (ja) | 2022-08-03 |
Family
ID=68944553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020205533A Active JP7112472B2 (ja) | 2019-12-18 | 2020-12-11 | 計時器構成要素を製作する方法およびこの方法から得られる構成要素 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210191338A1 (ja) |
EP (1) | EP3839626B1 (ja) |
JP (1) | JP7112472B2 (ja) |
KR (1) | KR102520739B1 (ja) |
CN (1) | CN113009780A (ja) |
TW (1) | TWI833053B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3839625A1 (fr) * | 2019-12-18 | 2021-06-23 | Nivarox-FAR S.A. | Procede de fabrication d'un composant horloger et composant obtenu selon ce procede |
EP3839624B1 (fr) * | 2019-12-18 | 2023-09-13 | Nivarox-FAR S.A. | Procede de fabrication d'un composant horloger |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006161138A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Seiko Instruments Inc | 電鋳型とその製造方法 |
JP2016176090A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | 電鋳型、電鋳母型及び電鋳母型の製造方法 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4844138A (ja) * | 1971-06-15 | 1973-06-25 | ||
CN1112361A (zh) * | 1993-06-08 | 1995-11-22 | 精工爱普生株式会社 | 凹凸图案复制用的模片与凹凸图案的复制方法 |
DE69842001D1 (de) * | 1997-04-04 | 2010-12-30 | Univ Southern California | Galvanisches verfahren zur herstellung einer mehrlagenstruktur |
US6245849B1 (en) | 1999-06-02 | 2001-06-12 | Sandia Corporation | Fabrication of ceramic microstructures from polymer compositions containing ceramic nanoparticles |
US20020045028A1 (en) * | 2000-10-10 | 2002-04-18 | Takayuki Teshima | Microstructure array, mold for forming a microstructure array, and method of fabricating the same |
WO2004065660A1 (ja) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Toppan Printing Co., Ltd. | 金属フォトエッチング製品及びその製造方法 |
JP4383182B2 (ja) * | 2003-07-11 | 2009-12-16 | 株式会社クラレ | 樹脂成形品用のスタンパの製造方法及び樹脂成形品用の製造方法 |
JP2006299371A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Ricoh Elemex Corp | 微細金属構造体の製造方法、および微細金属構造体 |
FR2903679B1 (fr) * | 2006-07-17 | 2014-07-04 | Centre Nat Rech Scient | Fabrication de dispositifs microfluidiques polymeriques par impression photo-assistee. |
JP5030618B2 (ja) | 2007-02-27 | 2012-09-19 | セイコーインスツル株式会社 | 電鋳型とその製造方法 |
JP4825785B2 (ja) * | 2007-12-20 | 2011-11-30 | 三菱製紙株式会社 | 段差付きスクリーン印刷用マスクの作製方法 |
CH704572B1 (fr) * | 2007-12-31 | 2012-09-14 | Nivarox Sa | Procédé de fabrication d'une microstructure métallique et microstructure obtenue selon ce procédé. |
EP2105807B1 (fr) * | 2008-03-28 | 2015-12-02 | Montres Breguet SA | Spiral à élévation de courbe monobloc et son procédé de fabrication |
EP2157476A1 (fr) | 2008-08-20 | 2010-02-24 | Nivarox-FAR S.A. | Procédé de fabrication de pièces métalliques multi-niveaux par la technique LIGA-UV |
JP5470791B2 (ja) * | 2008-09-29 | 2014-04-16 | オムロン株式会社 | 電気鋳造方法 |
EP2182096A1 (fr) * | 2008-10-28 | 2010-05-05 | Nivarox-FAR S.A. | Procédé LIGA hétérogène |
CN102712110B (zh) * | 2009-09-03 | 2015-07-22 | Lg电子株式会社 | 制造用于形成应用于家用电器外部的微图案膜的主模的方法,以及使用主模的膜的制造设备和方法 |
EP2405300A1 (fr) * | 2010-07-09 | 2012-01-11 | Mimotec S.A. | Méthode de fabrication de pièces métalliques multi niveaux par un procédé du type LIGA et pièces obtenues par la méthode |
SG187703A1 (en) * | 2010-08-06 | 2013-03-28 | Soken Kagaku Kk | Resin mold for nanoimprinting and manufacturing method thereof |
EP2823357B1 (en) * | 2012-03-09 | 2016-03-02 | Danmarks Tekniske Universitet | A method for manufacturing a tool part for an injection molding process, a hot embossing process, a nano-imprint process, or an extrusion process |
CH706621A1 (fr) * | 2012-06-05 | 2013-12-13 | Mimotec Sa | Procédé de fabrication de pièces micromécaniques difficilement reproductibles, et pièces micromécaniques fabriquées selon ce procédé. |
EP3035125B1 (fr) * | 2014-12-19 | 2018-01-10 | Rolex Sa | Procédé de fabrication d'un composant horloger multi-niveaux |
EP3202708B1 (fr) * | 2016-02-03 | 2023-05-03 | Rolex Sa | Procédé de fabrication d'un composant horloger hybride |
HK1220859A2 (zh) * | 2016-02-29 | 2017-05-12 | Master Dynamic Ltd | 製作工藝 |
EP3266905B1 (en) | 2016-07-04 | 2020-05-13 | Richemont International S.A. | Method for manufacturing a timepiece component |
AU2017382163B2 (en) * | 2016-12-22 | 2022-06-09 | Illumina Cambridge Limited | Imprinting apparatus |
KR102436152B1 (ko) * | 2017-10-27 | 2022-08-25 | 주식회사 엘지화학 | 임프린팅용 몰드 및 임프린팅용 몰드의 제조 방법 |
EP3536826B1 (fr) | 2018-03-09 | 2021-04-28 | The Swatch Group Research and Development Ltd | Procede de fabrication d'un decor metallique sur un cadran et cadran obtenu selon ce procede |
EP3839625A1 (fr) * | 2019-12-18 | 2021-06-23 | Nivarox-FAR S.A. | Procede de fabrication d'un composant horloger et composant obtenu selon ce procede |
EP3839624B1 (fr) * | 2019-12-18 | 2023-09-13 | Nivarox-FAR S.A. | Procede de fabrication d'un composant horloger |
-
2019
- 2019-12-18 EP EP19217376.3A patent/EP3839626B1/fr active Active
-
2020
- 2020-12-07 TW TW109143033A patent/TWI833053B/zh active
- 2020-12-11 KR KR1020200173699A patent/KR102520739B1/ko active IP Right Grant
- 2020-12-11 JP JP2020205533A patent/JP7112472B2/ja active Active
- 2020-12-14 US US17/121,095 patent/US20210191338A1/en active Pending
- 2020-12-18 CN CN202011500852.9A patent/CN113009780A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006161138A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Seiko Instruments Inc | 電鋳型とその製造方法 |
JP2016176090A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-10-06 | セイコーインスツル株式会社 | 電鋳型、電鋳母型及び電鋳母型の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113009780A (zh) | 2021-06-22 |
TWI833053B (zh) | 2024-02-21 |
TW202142375A (zh) | 2021-11-16 |
EP3839626A1 (fr) | 2021-06-23 |
US20210191338A1 (en) | 2021-06-24 |
JP7112472B2 (ja) | 2022-08-03 |
KR20210079201A (ko) | 2021-06-29 |
KR102520739B1 (ko) | 2023-04-11 |
EP3839626B1 (fr) | 2023-10-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5873894B2 (ja) | Liga技術における単層又は複数層の金属構造の製造方法及びそれにより得られる構造 | |
JP6010580B2 (ja) | 隣接する層が完全には重なり合わない多層金属構造のliga−uvによる製造方法及びそれにより得られる構造 | |
JP4840756B2 (ja) | 電鋳型とその製造方法及び電鋳部品の製造方法 | |
TWI474127B (zh) | 異質liga(光刻電鑄模造)方法 | |
TWI756888B (zh) | 製造鐘錶組件之方法 | |
RU2481422C2 (ru) | Способ изготовления биметаллической микроструктуры | |
JP5678043B2 (ja) | 金属小型構造体を製造する方法 | |
JP2021096249A (ja) | 計時器構成要素を製作する方法およびこの方法から得られる構成要素 | |
TWI762059B (zh) | 製造鐘錶元件的方法及依此方法生產的元件 | |
JP6992210B2 (ja) | 計時器構成要素を製造する方法およびこの方法で得られる構成要素 | |
JP4164592B2 (ja) | スタンパの製造方法 | |
TW200949462A (en) | Method for manufacturing mold core |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201211 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220401 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220705 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7112472 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |