JP2021088748A - ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 - Google Patents
ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021088748A JP2021088748A JP2019220058A JP2019220058A JP2021088748A JP 2021088748 A JP2021088748 A JP 2021088748A JP 2019220058 A JP2019220058 A JP 2019220058A JP 2019220058 A JP2019220058 A JP 2019220058A JP 2021088748 A JP2021088748 A JP 2021088748A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- nitrogen
- heat treatment
- carburizing
- furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
Description
熱処理炉10は、炉内10aに被処理材であるワーク100を収容可能となっている。ワーク100は、例えば炉内10aに設置された架台11上に上下方向(第一の方向)および水平方向に並んで複数が配置される。ワーク100は低炭素鋼等の金属である。炉内10aには炉内10aの温度を保つように不図示の断熱材が設けられている。さらに熱処理炉10には、炉内10aの雰囲気ガスを炉外に排出する不図示の排出口が設けられており、浸炭中には、炉内10aは常圧(略大気圧:101〔kPa〕程度)に維持されるようになっている。
加熱装置12は、炉内10aを加熱するヒータ12aを有している。ヒータ12aは、水平方向に間隔をあけて一対が炉内10aの上部に配置されている。ヒータ12aとしては例えばラジアントチューブヒーター等が用いられるが、これに限定されるものではない。
ガス供給装置20は、浸炭ガスが流通する浸炭ガス系統21と、キャリアガスが流通するキャリアガス系統22と、アンモニアガスが流通するアンモニアガス系統23と、これらの系統21、22、23を流通する各ガスを炉内10aに供給する供給系統24とを有している。さらにガス供給装置20は、浸炭ガス系統21に接続された炭化水素供給源25と、キャリアガス系統22に接続された窒素供給源26およびガス混合器27と、アンモニアガス系統23に接続されたアンモニア供給源28とを有している。ここで本実施形態では真空浸炭と同様にダイレクトな浸炭を常圧下で行うため、「エンリッチガス」ではなく「浸炭ガス」との用語を用いている。
炭化水素供給源25は、浸炭ガスとして、鎖式不飽和炭化水素を含む炭化水含有ガスを発生する。炭化水含有ガス中の鎖式不飽和炭化水素としてはアセチレンが例示される。アセチレン以外にも、プロピン(CH3C≡CH)や1−ブチン(CH3CH2C≡CH)等の三重結合を有するその他の鎖式不飽和炭化水素を使用するようにしてもよいし、例えばエチレン(H2C=CH2)やブタジエン(CH2=CH−CH=CH2)等の二重結合を有するその他の鎖式不飽和炭化水素を使用するようにしてもよい。複数種類の鎖式不飽和炭化水素を混合してもよい。但し、分子量が増すと安定性が減少して煤が発生しやすくなる点、三重結合を有する方が反応性に富む点、および入手の容易さ等を考慮すると、鎖式不飽和炭化水素としてアセチレンを使用することが好ましい。炭化水素含有ガスには、鎖式不飽和炭化水素以外の不純物が含まれていてもよいが、この不純物は少ない方が好ましい。したがって例えば鎖式不飽和炭化水素がアセチレンである場合、炭化水素供給源25ではアセトンやジメチルホルムアミド(DMF)等の溶剤を使用して炭化水素含有ガスを生成するものではないことが好ましい。
図1に示すように浸炭ガス系統21は、炭化水素供給源25に接続された供給配管21aと、供給配管21aに設けられた開閉弁21bおよび流量計21cとを有している。供給配管21aには炭化水素供給源25に接続されて炭化水素供給源25からの浸炭ガスが流通する。開閉弁21bは電磁弁であって、供給配管21aの途中に設けられている。開閉弁21bによって流路の開閉とともに浸炭ガスの流量の調整が行なわれる。流量計21cは開閉弁21bの下流側で供給配管21aに設けられて供給配管21aを流通する浸炭ガスの流量を計測する。なお開閉弁21bは流路の開閉のみを行い、開閉弁21bとは別に浸炭ガスの流量を調整する流量調整弁(不図示)を設け、流量計21cの数値を確認しながら手動で浸炭ガスの流量調整を行ってもよい。
供給系統24は、浸炭ガス系統21における供給配管21aに接続された接続部40と、接続部40から二俣に分岐する第一分岐部41と第二分岐部42とを有している。接続部40には、第一分岐部41および第二分岐部42が接続部40から分岐する手前(上流側)でミキサー50が設けられている。ミキサー50は、上流から流れてきた各種ガスを混合する機能を有する。第一分岐部41の先端には第一ガス供給ノズル43が、第二分岐部42の先端には第二ガス供給ノズル44が設けられている。第一ガス供給ノズル43は熱処理炉10の上部に設けられている。本実施形態では炉内10aの幅方向(図1の紙面に向かって左右方向)の中央から一方側に寄った位置に第一ガス供給ノズルが設けられている。第一ガス供給ノズル43は熱処理炉10の炉内10aに開口する第一供給口43aを有している。第二ガス供給ノズル44は熱処理炉10の下部に設けられている。本実施形態では炉内10aの幅方向の中央の位置に第二ガス供給ノズル44が設けられている。この第二ガス供給ノズル44は熱処理炉10aの炉内10aに開口する第二供給口(第二撹拌部)44aを有している。第一供給口43aからは、浸炭ガス系統21からの浸炭ガスが上下方向(第一の方向)に下方に向けて噴出(または流出)させられる。また第二噴出口44aからは、浸炭ガス系統21からの浸炭ガスが上方に向けて噴出(または流出)させられる。
窒素供給源26は、窒素(不活性ガス)を含有する窒素含有ガスを生成する。窒素供給源26は、本実施形態ではPSA方式の窒素ガス発生装置であるガス分離装置26aを有している。ガス分離装置26aは圧力スイング吸着法(Pressure Swing Adsorption;PSA)により空気中から窒素を分離して窒素含有ガスを生成する。このため、窒素含有ガスは窒素に加えて窒素以外の不純物として酸素を含んでいる。
ガス混合器27は、炭化水素供給源25および窒素供給源26に接続されて炭化水素供給源25からの炭化水素含有ガス(鎖式不飽和炭化水素)と、窒素供給源26からの窒素含有ガスとを混合することでキャリアガスを生成する。キャリアガスは、炉内10aの雰囲気のベースガスとなる。キャリアガス中の鎖式不飽和炭化水素の体積は、例えばキャリアガス中の窒素含有ガスの体積に比べて十分小さく、例えばキャリアガス中の鎖式不飽和炭化水素の体積は、キャリアガス全体の体積に対して0.1%以上3.0%以下であるとよい。
C2H2+2H2O→2CO+3H2 ・・・(1)
C2H2+O2→2CO+H2 ・・・(2)
キャリアガス系統22は、第一端がガス混合器27に接続されて第二端が供給系統24の接続部40にミキサー50の上流側で接続された供給配管22aと、供給配管22aに設けられた開閉弁22bおよび流量計22cとを有している。供給配管22aにはガス混合器27で生成されたキャリアガスが流通する。キャリアガスは供給系統24の接続部40から第一分岐部41および第二分岐部42を通じて炉内10aに供給される。開閉弁22bは電磁弁であって、供給配管22aの途中に設けられている。開閉弁22bによって流路の開閉とともにキャリアガスの流量の調整が行なわれる。流量計22cは開閉弁22bの下流側で供給配管22aに設けられて供給配管22aを流通するキャリアガスの流量を計測する。なお開閉弁22bは流路の開閉のみを行い、開閉弁22bとは別にキャリアガスの流量を調整する流量調整弁(不図示)を設け、流量計22cの数値を確認しながら手動でキャリアガスの流量調整を行ってもよい。
アンモニア供給源28は、アンモニアを収容した容器(不図示)を有し、アンモニアを炉内10aに供給可能とする。
アンモニアガス系統23は、第一端がアンモニア供給源28に接続されて第二端が供給系統24の接続部40にミキサー50の上流側で接続された供給配管23aと、供給配管23aに設けられた開閉弁23bおよび流量計23cとを有している。供給配管23aにはアンモニア供給源28からのアンモニアガスが流通する。アンモニアガスは供給系統24の接続部40から第一分岐部41および第二分岐部42を通じて炉内10aに供給される。開閉弁23bは電磁弁であって、供給配管23aの途中に設けられている。開閉弁23bによってアンモニアガスの流量の調整が行われる。流量計23cは開閉弁23bの下流側で供給配管23aに設けられて供給配管23aを流通するアンモニアガスの流量を計測する。なお、開閉弁23bは流路の開閉のみを行い、開閉弁23bとは別にアンモニアガスの流量を調整する流量調整弁(不図示)を設け、流量計23cの数値を確認しながら手動でアンモニアガスの流量調整を行ってもよい。
図2に示すように第一撹拌部16は、炉内10の天井面10x(図1参照)に設けられ、炉内10aの雰囲気ガスを撹拌する例えば遠心ファン等を有する。第一撹拌部16は、本実施形態では炉内10aの上部であって炉内10aにおける水平方向の中央部に配置されている。第一撹拌部16は、炉心側(炉内10aにおける水平方向の中央側)から炉内10aのガスを吸引し、その炉内10aのガスが炉内10aの内周壁の面方向に沿って下方へ流れるように、炉内10aのガスを炉内10aの天井面において、水平方向となる面方向に放射状に拡散させる。なお、第一撹拌部16の設置位置は特に限定されるものではなく、例えば炉内10aの床面10y(図1参照)に設けられ、床面10yの面方向に放射状にガスを拡散させてもよい。第一撹拌部16が床面10yに設けられる場合、第一供給口43aからはガスが上方に向けて噴出(または流出)させられ、第二供給口44aからはガスが下方に向けて噴出(または流出)させられる。
(制御装置)
制御装置30は、プロセッサ等を有するコンピュータである。制御装置30は、浸炭ガス系統21、キャリアガス系統22、アンモニアガス系統23、および供給系統24に設けられた各開閉弁21b、22b、23b、41a、42aの制御を行うことで所定のタイミングで炉内10aへ各種ガスを供給するとともに、炉内10aへ供給する各種ガスの流量を調整する。さらに制御装置30は酸素濃度計14の信号出力に基づき、ガス混合器27においてキャリアガスに混合する鎖式不飽和炭化水素の量を調整する。また制御装置30は、水素濃度計15の信号出力に基づき、浸炭ガス系統21の開閉弁21bを制御して炉内10aへの浸炭ガスの供給量を調整する。測定した炉内10aの温度、酸素濃度、および水素濃度は、必要に応じて外部の機器に出力され記録される。
(ガス浸炭方法)
以上説明した本実施形態のガス浸炭装置1およびガス浸炭方法によれば、まずキャリアガスが第一供給口43aから上下方向の下方に向けて炉内10aのワーク100へ向かって供給されるとともに、第一撹拌部16によって、炉内10aの天井面10xの面方向に沿って、放射状(図2における幅方向外側)に向かって案内される(矢印P参照)。天井面10xに沿って拡散するキャリアガスは、その後、炉内10aの側壁(内壁)にぶつかり、側壁に沿って下方へ流通する(矢印Q参照)。本実施形態では、この側壁に沿って形成される環状の下降流を「内壁流Q」と定義する。炉内10aの側壁に沿って下側へ流通するキャリアガスは、炉内10aの床面10yにぶつかって、床面10yの面方向の中央側(図2における幅方向中央側)に向かって案内される(矢印R参照)。これと同時に、本実施形態では、炉内10aの床面10yの中央近傍において、第二供給口44aからキャリアガスが上方に向けて炉内10aのワーク100に向かって供給されるので、炉内10aにおいて、床面10yの中央近傍から、新たなキャリアガスによる上昇流が形成される(矢印U参照)。この上昇流は、幅方向外側の内壁流Qの間(内部)に形成される逆方向の流れであり、本実施形態では、これを「中央流U」と定義する。この結果、内壁流Qを経て、床面10yの周縁付近から中央に向かって移動するキャリアガス(矢印R参照)も、この上昇流である中央流Uにつられるようにして、上方へ押し戻される(矢印T参照)。この結果、炉内10a全体としては、キャリアガスを対流させることができる。なお、ここでは特に図示しないが、炉内10aの床面10yの中央に、第二撹拌部が第二供給口44aに加えて上昇気流を形成する軸流ファンを有することで、第二供給口44aからキャリアガスを、強制的に上昇させることも好ましい。ここで上記の通り周壁側を下降流(矢印Q)、中央側を上昇流(矢印U)としたが、周壁側を上昇流、中央側を下降流としても良い。また、図2の状態を右回りに90度回転させて、水平方向を基準とし、上下方向の中央において、左から右に向かって中央流、右から左に向かって周辺流を形成するように、対流させることができる。
10 熱処理炉
12 加熱装置
16 第一撹拌部
20 ガス供給装置
21 浸炭ガス系統
22 キャリアガス系統
23 アンモニアガス系統
24 供給系統
25 炭化水素供給源
26 窒素供給源
27 ガス混合器
30 制御装置
43a 第一供給口
44a 第二供給口(第二撹拌部)
100 ワーク
Claims (18)
- 常圧下の熱処理炉内にワークを配置する工程と
前記熱処理炉内にキャリアガスを供給する工程と、
前記ワークが配置された前記熱処理炉内を加熱する工程と、
加熱後の前記熱処理炉内に浸炭ガスを供給して前記ワークに対して浸炭を行う工程と、
を含み、
前記浸炭を行う工程では、
前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスにより、
前記熱処理炉内の内壁近傍に沿って第一の方向の一方に流れる内壁流を形成すると共に、前記熱処理炉内の中央近傍において、前記第一の方向の他方に流れる中央流を形成するガス浸炭方法。 - 前記浸炭を行う工程では、前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスを、前記熱処理炉内における天井面または床面において、前記第一の方向としての上下方向に交差する面方向放射状に拡散させることで、前記内壁流を形成する請求項1に記載のガス浸炭方法。
- 前記熱処理炉内には、
前記内壁流に対して前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスを供給する第一供給口、及び、前記中央流に対して前記少なくとも一方のガスを供給する第二供給口が形成されており、
前記浸炭を行う工程では、前記第一供給口から供給されるガスの体積流量が、前記第二供給口から供給されるガスの体積流量よりも大きい請求項1または2に記載のガス浸炭方法。 - 前記キャリアガスとして、窒素および酸素を含む窒素含有ガス、または、前記窒素含有ガスと鎖式不飽和炭化水素とを混合した混合ガスを使用する請求項1〜3のいずれか一項に記載のガス浸炭方法。
- 前記窒素含有ガス全体に対する前記窒素ガス中の前記窒素の体積パーセントを、99.00%以上99.99%以下とする請求項4に記載のガス浸炭方法。
- 前記窒素含有ガス全体に対する前記窒素含有ガス中の前記酸素の体積パーセントを、0.010%以上1.00%以下とする請求項4に記載のガス浸炭方法。
- 前記窒素含有ガスを、圧力スイング吸着法により空気から分離することで生成する請求項5または6に記載のガス浸炭方法。
- 前記熱処理炉内に前記ワークを配置した後であって、前記キャリアガスを供給する前に、前記熱処理炉内のガスをパージする工程をさらに含む請求項1〜7のいずれか一項に記載のガス浸炭方法。
- 前記熱処理炉内を前記常圧より大きい圧力下で、前記ワークに対して浸炭を行う請求項1〜8のいずれか一項に記載のガス浸炭方法。
- 常圧下でワークを収容する熱処理炉と、
前記熱処理炉内を加熱する加熱装置と、
キャリアガスおよび浸炭ガスを前記熱処理炉内に供給するガス供給装置と、
前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスにより、前記熱処理炉内の内壁近傍に沿って第一の方向の一方に流れる内壁流を形成する第一撹拌部と、
前記少なくとも一方のガスにより、前記熱処理炉内の中央近傍において、前記第一の方向の他方に流れる中央流を形成する第二撹拌部と、
を備えるガス浸炭装置。 - 前記第一撹拌部は、前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスを、前記熱処理炉内における天井面または床面において、前記第一の方向としての上下方向に交差する面方向放射状に拡散させるファンを有する請求項10に記載のガス浸炭装置。
- 前記ガス供給装置は、
前記熱処理炉に設けられ、前記熱処理炉内の前記内壁流に対して前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスを供給する第一供給口をさらに有する請求項10または11に記載のガス浸炭装置。 - 前記第二撹拌部は、前記ガス供給装置に設けられ、前記熱処理炉内の前記中央流に対して前記キャリアガスおよび前記浸炭ガスの少なくとも一方のガスを供給する第二供給口を有する請求項10〜12のいずれか一項に記載のガス浸炭装置。
- 前記ガス供給装置は、前記キャリアガスとして、窒素および酸素を含む窒素含有ガスを、前記熱処理炉内に供給可能とする窒素供給源を有する請求項10〜13のいずれか一項に記載のガス浸炭装置。
- 前記ガス供給装置は、
鎖式不飽和炭化水素を供給する炭化水素供給源と、
窒素および酸素を含む窒素含有ガスを供給する窒素供給源と、
前記鎖式不飽和炭化水素と前記窒素含有ガスとを混合することで生成した混合ガスを前記キャリアガスとして、前記熱処理炉内に供給可能とするガス混合器と、
を有する請求項10〜13のいずれか一項に記載のガス浸炭装置。 - 前記窒素供給源は、前記窒素含有ガスとして、前記窒素含有ガス全体に対する前記窒素含有ガス中の前記窒素の体積パーセントが99.00%以上99.99%以下のガスを、前記熱処理炉内に供給可能とする請求項14または15に記載のガス浸炭装置。
- 前記窒素供給源は、前記窒素含有ガスとして、前記窒素含有ガス全体に対する前記窒素含有ガス中の前記酸素の体積パーセントが0.010%以上1.00%以下のガスを、前記熱処理炉内に供給可能とする請求項14または15に記載のガス浸炭装置。
- 前記窒素供給源は、圧力スイング吸着法により空気から前記窒素含有ガスを分離して、前記窒素含有ガスを前記熱処理炉内に供給可能とするガス分離装置を有する請求項16または17に記載のガス浸炭装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019220058A JP7189115B2 (ja) | 2019-12-05 | 2019-12-05 | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019220058A JP7189115B2 (ja) | 2019-12-05 | 2019-12-05 | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021088748A true JP2021088748A (ja) | 2021-06-10 |
JP7189115B2 JP7189115B2 (ja) | 2022-12-13 |
Family
ID=76219451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019220058A Active JP7189115B2 (ja) | 2019-12-05 | 2019-12-05 | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7189115B2 (ja) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51141739A (en) * | 1975-05-31 | 1976-12-06 | Shimadzu Corp | Method of controlling carbon concentration in gas carburizing furnace |
JPS60161164U (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-26 | マツダ株式会社 | ガス浸炭炉 |
JP2002097517A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-04-02 | Etud & Constr Mecaniques Sa | ガスを用いた硬化用セル |
WO2003104516A1 (ja) * | 2002-06-11 | 2003-12-18 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガス浸炭方法 |
JP2004107706A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Dowa Mining Co Ltd | 熱処理炉の送風方法及び熱処理炉 |
CN1624189A (zh) * | 2004-12-13 | 2005-06-08 | 中原工学院 | 一种全过程变压控制的渗碳方法 |
JP2005326108A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Dowa Mining Co Ltd | 熱処理装置 |
WO2006082891A1 (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Dowa Thermotech Co., Ltd. | 雰囲気熱処理装置及びその運転方法 |
CN101565809A (zh) * | 2009-06-09 | 2009-10-28 | 石家庄金刚内燃机零部件集团有限公司 | 井式气体渗碳炉及工装工艺的改进 |
JP2011214056A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Koyo Thermo System Kk | 浸炭処理装置 |
JP2017166035A (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 株式会社日本テクノ | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 |
-
2019
- 2019-12-05 JP JP2019220058A patent/JP7189115B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51141739A (en) * | 1975-05-31 | 1976-12-06 | Shimadzu Corp | Method of controlling carbon concentration in gas carburizing furnace |
JPS60161164U (ja) * | 1984-04-05 | 1985-10-26 | マツダ株式会社 | ガス浸炭炉 |
JP2002097517A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-04-02 | Etud & Constr Mecaniques Sa | ガスを用いた硬化用セル |
WO2003104516A1 (ja) * | 2002-06-11 | 2003-12-18 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガス浸炭方法 |
JP2004107706A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Dowa Mining Co Ltd | 熱処理炉の送風方法及び熱処理炉 |
JP2005326108A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Dowa Mining Co Ltd | 熱処理装置 |
CN1624189A (zh) * | 2004-12-13 | 2005-06-08 | 中原工学院 | 一种全过程变压控制的渗碳方法 |
WO2006082891A1 (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Dowa Thermotech Co., Ltd. | 雰囲気熱処理装置及びその運転方法 |
CN101565809A (zh) * | 2009-06-09 | 2009-10-28 | 石家庄金刚内燃机零部件集团有限公司 | 井式气体渗碳炉及工装工艺的改进 |
JP2011214056A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Koyo Thermo System Kk | 浸炭処理装置 |
JP2017166035A (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 株式会社日本テクノ | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7189115B2 (ja) | 2022-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4764016B2 (ja) | 熱反応炉のシールパージ方法 | |
JP5747261B2 (ja) | 工業炉における金属材料/金属ワークピースの熱処理用のプロセスガスを調製する方法および装置 | |
CA1108398A (en) | Jet recirculation method for vacuum carburizing | |
TWI645043B (zh) | 氣體注入裝置及倂入同一氣體注入裝置之基板處理室 | |
JPH01127618A (ja) | 金属熱処理方法 | |
JP2021088748A (ja) | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 | |
KR910004557B1 (ko) | 가스침탄방법 및 장치 | |
JP2009179816A (ja) | 浸炭処理装置 | |
JP4956417B2 (ja) | 雰囲気熱処理装置及びその運転方法 | |
JPWO2010134436A1 (ja) | 連続焼鈍炉 | |
US9540721B2 (en) | Method of carburizing | |
JP5339319B2 (ja) | 加熱処理装置及び加熱処理方法 | |
JP6543208B2 (ja) | ガス浸炭方法およびガス浸炭装置 | |
JPH10226870A (ja) | 熱処理炉の雰囲気制御方法及び装置 | |
CN114959649A (zh) | 一种基片处理设备和方法 | |
JP2009138207A (ja) | 炭素濃度制御された鋼表面を有する鋼材の製造方法及び製造装置 | |
CN114743900A (zh) | 汽化***以及半导体工艺设备 | |
JPH04107256A (ja) | 浸炭炉 | |
JP2017197822A (ja) | 表面硬化処理方法および表面硬化処理装置 | |
EP0382987A1 (en) | Gas supplying apparatus | |
JPH0257675A (ja) | プラズマ浸炭窒化炉におけるガスの送入方法 | |
JP5615212B2 (ja) | 浸炭処理装置 | |
JPS6345358A (ja) | 連続ガス浸炭方法 | |
JP4046616B2 (ja) | 連続式ガス浸炭炉 | |
KR20230040891A (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220927 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20220927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221025 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20221122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221201 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7189115 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |