JP2021054693A

JP2021054693A - Optical glass, optical element including optical glass, optical system, interchangeable lens, optical device, and method for producing optical glass

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Publication number: JP2021054693A
Application number: JP2019182097A
Authority: JP
Inventors: 徳晃井口; Noriaki Iguchi
Original assignee: Hikari Glass Co Ltd
Current assignee: Hikari Glass Co Ltd
Priority date: 2019-10-02
Filing date: 2019-10-02
Publication date: 2021-04-08
Anticipated expiration: 2039-10-02
Also published as: JP7433830B2; JP2024056789A

Abstract

To provide an optical glass having a high refractive index (nd), a small Abbe number (νd), a small ΔPg, F value and has excellent devitrification resistance.SOLUTION: An optical glass contains, in mass%, 17-35% SiO2 component, 0-13% B2O3 component, 0-10% ZrO2 component, 34-52% Nb2O5 component, 0-10% Na2O component, more than 0-10% MgO component, more than 0-10% Li2O component, 0-3% WO3 component. In terms of mass%, the ratio (SiO2/MgO) of SiO2 to MgO is 5-27.5.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学ガラス、これを用いた光学素子、光学系、交換レンズ、光学装置、及び光学ガラスの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical glass, an optical element using the optical glass, an optical system, an interchangeable lens, an optical device, and a method for manufacturing the optical glass.

カメラ等の光学装置に用いられる光学素子に使用可能な光学ガラスとして、例えば、特許文献１には、ＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｎｂ_２Ｏ_５系の光学ガラスが開示されている。 As an optical glass that can be used for an optical element used in an optical device such as a camera, for example, Patent Document 1 _{discloses a SiO 2-} B ₂ O _3- Nb ₂ O ₅ system optical glass.

特開２００７−１６９１５７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-169157

本発明の第一の態様は、質量％で、ＳｉＯ_２成分：１７〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３成分：０〜１３％、ＺｒＯ_２成分：０〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分：３４〜５２％、Ｎａ_２Ｏ成分：０〜１０％、ＭｇＯ成分：０超〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ成分：０超〜１０％、ＷＯ_３成分：０〜３％、であり、質量％基準で、ＭｇＯに対するＳｉＯ_２の比（ＳｉＯ_２／ＭｇＯ）が、５〜２７．５である、光学ガラスである。 The first aspect of the present invention is mass%, SiO ₂ component: 17 to 35%, B ₂ O ₃ component: 0 to 13%, ZrO ₂ component: 0 to 10%, Nb ₂ O ₅ component: 34 to. 52%, Na ₂ O component: 0 to 10%, Mg _{O component: more than 0 to 10%, Li 2} O component: more than 0 to 10%, WO ₃ component: 0 to 3%, based on mass%. the ratio of SiO ₂ to MgO _(SiO 2 / MgO) is a 5 to 27.5, an optical glass.

本発明の第二の態様は、上述した光学ガラスを用いた光学素子である。 The second aspect of the present invention is an optical element using the above-mentioned optical glass.

本発明の第三の態様は、上述した光学素子を含む光学系である。 A third aspect of the present invention is an optical system including the above-mentioned optical element.

本発明の第四の態様は、上述した光学系を備える交換レンズである。 A fourth aspect of the present invention is an interchangeable lens including the above-mentioned optical system.

本発明の第五の態様は、上述した光学系を備える光学装置である。 A fifth aspect of the present invention is an optical device including the above-mentioned optical system.

本発明の第六の態様は、上述した光学ガラスの原料を１３４０〜１４００℃で加熱する工程を少なくとも含み、かつ、光学ガラスの原料５０ｇを１３４０〜１４００℃の温度で加熱したときの原料５０ｇが融解するまでの時間が、１５分未満である、光学ガラスの製造方法である。 A sixth aspect of the present invention includes at least the step of heating the above-mentioned optical glass raw material at 1340 to 1400 ° C., and 50 g of the raw material when 50 g of the optical glass raw material is heated at a temperature of 1340 to 1400 ° C. A method for producing optical glass, in which the time required for melting is less than 15 minutes.

図１は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an image pickup apparatus including an optical element using optical glass according to the present embodiment. 図２は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の他の例の正面図である。FIG. 2 is a front view of another example of an image pickup apparatus including an optical element using optical glass according to the present embodiment. 図３は、図２の撮像装置の背面図である。FIG. 3 is a rear view of the image pickup apparatus of FIG. 図４は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える多光子顕微鏡の構成の例を示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram showing an example of the configuration of a multiphoton microscope including an optical element using the optical glass according to the present embodiment. 図５は、本実施例の光学ガラスの部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）とアッベ数（ν_ｄ）の関係を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the partial dispersion ratio (P _{g, F} ) and the Abbe number (ν _{d) of the optical glass of this embodiment.}

以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」という。）について説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。 Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described. The following embodiments are examples for explaining the present invention, and are not intended to limit the present invention to the following contents. The present invention can be appropriately modified and implemented within the scope of the gist thereof.

本明細書中において、特に断りがない場合は、各成分の含有量は全て酸化物換算組成のガラス全重量に対する質量％であるものとする。なお、ここでいう酸化物換算組成とは、本実施形態のガラス構成成分の原料として使用される酸化物、複合塩等が溶融時に全て分解されて酸化物に変化すると仮定し、当該酸化物の総質量を１００質量％として、ガラス中に含有される各成分を表記した組成である。 Unless otherwise specified in the present specification, the content of each component shall be the mass% of the total weight of the glass in the oxide conversion composition. The oxide-equivalent composition referred to here is based on the assumption that all the oxides, composite salts, etc. used as raw materials for the glass constituents of the present embodiment are decomposed at the time of melting and changed into oxides. It is a composition in which each component contained in a glass is described, assuming that the total mass is 100% by mass.

本実施形態に係る光学ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２成分：１７〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３成分：０〜１３％、ＺｒＯ_２成分：０〜１０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分：３４〜５２％、Ｎａ_２Ｏ成分：０〜１０％、ＭｇＯ成分：０超〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ成分：０超〜１０％、ＷＯ_３成分：０〜３％、であり、質量％基準で、ＭｇＯに対するＳｉＯ_２の比（ＳｉＯ_２／ＭｇＯ）が、５〜２７．５である。 The optical glass according to the present embodiment has SiO ₂ component: 17 to 35%, B ₂ O ₃ component: 0 to 13%, ZrO ₂ component: 0 to 10%, Nb ₂ O ₅ component: 34 to, in mass%. 52%, Na ₂ O component: 0 to 10%, Mg _{O component: more than 0 to 10%, Li 2} O component: more than 0 to 10%, WO ₃ component: 0 to 3%, based on mass%. the ratio of SiO ₂ to MgO _(SiO 2 / MgO) is a 5-27.5.

光学装置等の光学系について設計の自由度を高めるべく、高分散でありながら異常分散性を示す値であるΔＰ_ｇ，Ｆが小さい光学ガラスが求められているところ、従来の光学ガラスは、例えば、高分散になるほど（アッベ数（ν_ｄ）が小さくなるほど）、ΔＰ_ｇ，Ｆが大きくなる傾向にあり、小さなΔＰ_ｇ，Ｆと高分散の両立が難しいという問題がある。この点、本実施形態に係る光学ガラスは、高分散でありながら小さなΔＰ_ｇ，Ｆの値を有し、かかる問題を解消することができる。また、本実施形態に係る光学ガラスは、耐失透性にも優れる。 In order to increase the degree of freedom in designing an optical system such as an optical device, an optical glass having _{a high dispersion and a small value of ΔPg and F indicating anomalous dispersibility is required.} The higher the dispersion (the _{smaller the Abbe number (ν d} )), the _{larger the ΔP g and F} tend to be, and there is a problem that it is difficult to achieve both _{the small ΔP g and F and the high dispersion.} In this respect, the optical glass according to the present embodiment has a small _{value of ΔP g and F} while having a high dispersion, and such a problem can be solved. Further, the optical glass according to the present embodiment is also excellent in devitrification resistance.

また、本実施形態に係る光学ガラスは、溶融時に発生する揮発減量が少ない組成とすることもできる。これにより、生産時に溶解炉への揮発成分の付着が少ないため、優れた生産性を実現できる。また、ガラス転移温度が低いため、プレス成型性やモールド成型性に優れ、低比重な光学ガラスとすることもできる。 Further, the optical glass according to the present embodiment may have a composition in which the amount of volatilization and weight loss generated at the time of melting is small. As a result, excellent productivity can be realized because the adhesion of volatile components to the melting furnace during production is small. Further, since the glass transition temperature is low, it is possible to obtain an optical glass having excellent press moldability and mold moldability and having a low specific gravity.

以下、本実施形態に係る光学ガラスの成分を説明する。 Hereinafter, the components of the optical glass according to the present embodiment will be described.

ＳｉＯ_２は、ガラス骨格を形成し、ΔＰ_ｇ，Ｆを低下させる成分である。この含有量が少なすぎると、ガラスの耐失透性が不十分となる。また、この含有量が多すぎると、ガラスを高屈折率とすることが困難となり、また、ガラス自体の粘性が増大して成型が困難となる。かかる観点から、ＳｉＯ_２の含有量は、１７〜３５％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは１８％であり、より好ましくは１９％である。また、この含有量の上限は、好ましくは３４％であり、より好ましくは３３％である。 SiO ₂ is a component that forms a glass skeleton _{and lowers ΔP g and F.} If this content is too low, the devitrification resistance of the glass will be insufficient. Further, if this content is too large, it becomes difficult to make the glass have a high refractive index, and the viscosity of the glass itself increases, which makes molding difficult. From this point of view, _{the content of SiO 2} is 17 to 35%. The lower limit of this content is preferably 18%, more preferably 19%. The upper limit of this content is preferably 34%, more preferably 33%.

Ｂ_２Ｏ_３は、ガラス骨格を形成し、ΔＰ_ｇ，Ｆを低下させる成分である。この含有量が多すぎると、ガラスを高屈折率とすることが困難となり、粘性が低下することによって耐失透性も悪化する。かかる観点から、Ｂ_２Ｏ_３の含有量は、０〜１３％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは５％である。また、この含有量の上限は、好ましくは１２％であり、より好ましくは１０％であり、更に好ましくは９％である。 B ₂ O ₃ is a component that forms a glass skeleton _{and lowers ΔP g and F.} If this content is too large, it becomes difficult to make the glass have a high refractive index, and the viscosity decreases, so that the devitrification resistance also deteriorates. From this point of view, _{the content of B 2} O ₃ is 0 to 13%. The lower limit of this content is preferably more than 0%, more preferably 3%, and even more preferably 5%. The upper limit of this content is preferably 12%, more preferably 10%, and even more preferably 9%.

ＺｒＯ_２は、ガラスの屈折率を高め、高分散とする成分であるとともに、ΔＰ_ｇ，Ｆを低下させる効果を有する。この含有量が多すぎると、ガラス原料の溶融性や耐失透性が低下する。かかる観点から、ＺｒＯ_２の含有量は、０〜１０％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは２％であり、更に好ましくは３％である。また、この含有量の上限は、好ましくは９％であり、より好ましくは８．５％であり、更に好ましくは８％である。 ZrO ₂ is a component that increases the refractive index of glass and makes it highly dispersed, and has the effect of lowering _{ΔP g and F.} If this content is too large, the meltability and devitrification resistance of the glass raw material will decrease. From this point of view, _{the content of ZrO 2} is 0 to 10%. The lower limit of this content is preferably more than 0%, more preferably 2%, and even more preferably 3%. The upper limit of this content is preferably 9%, more preferably 8.5%, and even more preferably 8%.

Ｎｂ_２Ｏ_５は、屈折率を高め、ガラスを高分散化させる成分である。この含有量が少なすぎると、高屈折率、高分散とすることが困難となる。また、この含有量が多すぎると、耐失透性が低下する。かかる観点から、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有量は、３４〜５２％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは３５％であり、より好ましくは３６％であり、更に好ましくは３７％である。また、この含有量の上限は、好ましくは５１％であり、より好ましくは５０％であり、更に好ましくは４９％である。 Nb ₂ O ₅ is a component that increases the refractive index and makes the glass highly dispersed. If this content is too small, it becomes difficult to obtain a high refractive index and a high dispersion. Further, if this content is too large, the devitrification resistance is lowered. From this point of view, _{the content of Nb 2} O ₅ is 34 to 52%. The lower limit of this content is preferably 35%, more preferably 36%, and even more preferably 37%. The upper limit of this content is preferably 51%, more preferably 50%, and even more preferably 49%.

Ｎａ_２Ｏは、原料の溶融性を高め、ΔＰ_ｇ，Ｆを低下させる成分である。この含有量が多すぎると、高屈折率とすることが困難となり、耐失透性も低下する。かかる観点から、Ｎａ_２Ｏの含有量は、０〜１０％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは４％であり、より好ましくは４．５％であり、更に好ましくは５．５％である。また、この含有量の上限は、好ましくは８％であり、より好ましくは７％であり、更に好ましくは６．５％である。 Na ₂ O is a component that increases the meltability of the raw material _{and lowers ΔP g and F.} If this content is too large, it becomes difficult to obtain a high refractive index, and the devitrification resistance also decreases. From this point of view, _{the content of Na 2} O is 0 to 10%. The lower limit of this content is preferably 4%, more preferably 4.5%, and even more preferably 5.5%. The upper limit of this content is preferably 8%, more preferably 7%, and even more preferably 6.5%.

ＭｇＯは、ΔＰ_ｇ，Ｆを増大させずにガラスの耐失透性を高める効果を有する成分である。ＭｇＯを含まない場合、ガラスの耐失透性が低下し、高屈折率とすることが困難となる。また、この含有量が多すぎると、ガラスを高分散とすることが困難となる。かかる観点から、ＭｇＯの含有量は、０超〜１０％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは１．５％であり、より好ましくは２．５％である。また、この含有量の上限は、好ましくは６％であり、より好ましくは４％である。 MgO is a component having an effect of increasing the devitrification resistance of glass without increasing _{ΔP g and F.} When MgO is not contained, the devitrification resistance of the glass is lowered, and it becomes difficult to obtain a high refractive index. Further, if this content is too large, it becomes difficult to make the glass highly dispersed. From this point of view, the content of MgO is more than 0 to 10%. The lower limit of this content is preferably 1.5%, more preferably 2.5%. The upper limit of this content is preferably 6%, more preferably 4%.

Ｌｉ_２Ｏは、ガラスの屈折率を高め、ガラス原料の溶融性を向上させる成分である。この含有量が多すぎると、耐失透性が低下する。かかる観点から、Ｌｉ_２Ｏの含有量は、０超〜１０％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有量の上限は、好ましくは８％であり、より好ましくは７％であり、更に好ましくは６％である。 Li ₂ O is a component that increases the refractive index of glass and improves the meltability of the glass raw material. If this content is too high, the devitrification resistance will decrease. From this point of view, _{the content of Li 2} O is more than 0 to 10%. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 8%, more preferably 7%, and even more preferably 6%.

ＷＯ_３は、ガラスの屈折率を高め、高分散化させるとともに、耐失透性を一層向上させる成分である。かかる観点から、ＷＯ_３の含有量は、０〜３％である。そして、この含有量の下限は、好ましくは０％超であり、より好ましくは０．５％である。また、この含有量の上限は、好ましくは２．５％である。 WO ₃ is a component that increases the refractive index of glass, makes it highly dispersed, and further improves devitrification resistance. From this point of view, _{the content of WO 3} is 0 to 3%. The lower limit of this content is preferably more than 0%, more preferably 0.5%. The upper limit of this content is preferably 2.5%.

そして、ガラス原料の溶融性と耐失透性を向上させ、高分散とする観点から、ＭｇＯに対するＳｉＯ_２の質量比（ＳｉＯ_２／ＭｇＯ）は、５〜２７．５である。そして、この比の下限は、好ましくは６であり、より好ましくは６．５であり、更に好ましくは７である。また、この比の上限は、好ましくは２７であり、より好ましくは２６であり、更に好ましくは２５である。 Then, to improve the meltability and devitrification resistance of a glass material, from the viewpoint of a high dispersion, the weight ratio of SiO ₂ to MgO _(SiO 2 / MgO) is from 5 to 27.5. The lower limit of this ratio is preferably 6, more preferably 6.5, and even more preferably 7. The upper limit of this ratio is preferably 27, more preferably 26, and even more preferably 25.

また、本実施形態に係る光学ガラスは、任意成分として、Ｌａ_２Ｏ_３成分、Ｔａ_２Ｏ_５成分、ＺｎＯ成分、ＢａＯ成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｋ_２Ｏ成分、ＴｉＯ_２成分、及びＳｂ_２Ｏ_３成分からなる群より選ばれる１種以上を更に含有することが好ましい。 Further, the optical glass according to the present embodiment has, as optional components, La ₂ O ₃ component, Ta ₂ O ₅ component, Zn O component, Ba O component, Al ₂ O ₃ component, K ₂ O component, TiO ₂ component, and Sb. preferably further contains at least one member selected from the group consisting of ₂ O ₃ component.

さらに、上述した各成分について、より好ましい組み合わせとしては、Ｔａ_２Ｏ_５成分：０〜６％、ＺｎＯ成分：０〜８％、ＢａＯ成分：０〜３％、Ａｌ_２Ｏ_３成分：０〜２％、Ｋ_２Ｏ成分：０〜７％、ＴｉＯ_２成分：０〜１０％、Ｓｂ_２Ｏ_３成分：０〜１％である。 Further, for each of the above-mentioned components, more preferable combinations include Ta ₂ O ₅ component: 0 to 6%, Zn O component: 0 to 8%, BaO component: 0 to 3%, and Al ₂ O ₃ component: 0 to 2. %, K ₂ O component: 0 to 7%, TiO ₂ component: 0 to 10%, Sb ₂ O ₃ component: 0 to 1%.

Ｌａ_２Ｏ_３は、ガラスの恒数調整に有効な成分であり、耐失透性を向上させる成分である。かかる観点から、好ましい態様として、Ｌａ_２Ｏ_３の含有量は０〜３％としてもよい。そして、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．５％である。また、この含有量の上限は、より好ましくは１％である。 La ₂ O ₃ is an effective component for adjusting the constant number of glass and is a component for improving devitrification resistance. From this point of view, as a preferred embodiment, _{the content of La 2} O ₃ may be 0 to 3%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, still more preferably 0.5%. The upper limit of this content is more preferably 1%.

Ｔａ_２Ｏ_５は、ガラスの屈折率を高め、高分散化し、ΔＰ_ｇ，Ｆを低下させる成分である。耐失透性を一層向上させる観点と、原料コストの観点から、Ｔａ_２Ｏ_５の含有量は、好ましくは０〜６％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは３％であり、更に好ましくは１．５％であり、より更に好ましくは１％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．５％である。 Ta ₂ O ₅ is a component that increases the refractive index of glass, disperses it highly _{, and lowers ΔP g and F.} _{The content of Ta 2} O ₅ is preferably 0 to 6% from the viewpoint of further improving the devitrification resistance and the cost of raw materials. The upper limit of this content is more preferably 3%, further preferably 1.5%, and even more preferably 1%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, still more preferably 0.5%.

その一方で、本実施形態に係る光学ガラスは、Ｔａ_２Ｏ_５等の高価な成分の含有率を高くしなくても、高屈折率、高分散であり、小さなΔＰ_ｇ，Ｆを実現できる。かかる観点から、本実施形態に係る光学ガラスについてコストを一層軽減したい場合等には、Ｔａ_２Ｏ_５は実質的に含有しないことが好ましい。 On the other hand, the optical glass according to the present embodiment has a high refractive index and high dispersion without increasing the content of expensive components such as _{Ta 2} O ₅ , and can realize _{small ΔP g, F.} From this point of view, when it is desired to further reduce the cost of the optical glass according to the present embodiment, _{it is preferable that Ta 2} O ₅ is substantially not contained.

なお、本明細書中において「実質的に含有しない」とは、当該成分が、不純物として不可避的に含有される濃度を越えて、ガラス組成物の特性に影響する構成成分として含有されないことを意味する。例えば、１００ｐｐｍ程度の含有量であれば、実質的に含有しないとみなす。 In addition, in this specification, "substantially not contained" means that the component is not contained as a component affecting the characteristics of the glass composition in excess of the concentration unavoidably contained as an impurity. To do. For example, if the content is about 100 ppm, it is considered that the content is substantially not contained.

ＺｎＯは、ガラスの屈折率を高め、耐失透性を一層向上させる成分である。かかる観点から、ＺｎＯの含有量は、好ましくは０〜８％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは７％であり、更に好ましくは６％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．３％であり、より更に好ましくは０．４％である。 ZnO is a component that increases the refractive index of glass and further improves devitrification resistance. From this point of view, the ZnO content is preferably 0 to 8%. The upper limit of this content is more preferably 7%, still more preferably 6%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, further preferably 0.3%, and even more preferably 0.4%.

ＢａＯは、ガラスの屈折率を高める成分であるが、その含有量が多すぎるとΔＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させる。かかる観点から、ＢａＯの含有量は、好ましくは０〜３％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは１％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．５％である。 BaO is a component that increases the refractive index of glass, but if its content is too large, ΔP _{g and F} are greatly increased. From this point of view, the content of BaO is preferably 0 to 3%. The upper limit of this content is more preferably 1%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, still more preferably 0.5%.

Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラスを高分散化し、化学的耐久性を向上させる成分であるが、その含有量が多すぎるとΔＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させる。かかる観点から、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは０〜２％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは１．５％であり、更に好ましくは１％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．５％である。 Al ₂ O ₃ is a component that highly disperses glass and improves chemical durability, but if the content is too large, ΔP _{g and F} are greatly increased. From this point of view, _{the content of Al 2} O ₃ is preferably 0 to 2%. The upper limit of this content is more preferably 1.5%, still more preferably 1%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, still more preferably 0.5%.

Ｋ_２Ｏは、ガラスの屈折率を高め、ガラス原料の溶融性を向上させる成分であるが、その含有量が多すぎるとΔＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させる。かかる観点から、Ｋ_２Ｏの含有量は、好ましくは０〜７％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは６％であり、更に好ましくは５％であり、より更に好ましくは４．５％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．５％であり、より更に好ましくは１％である。 K ₂ O is a component that increases the refractive index of glass and improves the meltability of the glass raw material, but if the content is too large, ΔP _{g and F} are greatly increased. Content from such a point of view, _{K 2} O is preferably 0 to 7%. The upper limit of this content is more preferably 6%, further preferably 5%, and even more preferably 4.5%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, further preferably 0.5%, and even more preferably 1%.

ＴｉＯ_２は、ガラスの屈折率を高め、高分散化させる成分であるが、その含有量が多すぎるとΔＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させ、透過率も悪化させる成分である。かかる観点から、ＴｉＯ_２の含有量は、好ましくは０〜１０％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは９％であり、更に好ましくは８％であり、より更に好ましくは７％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．５％であり、より更に好ましくは３％である。 TiO ₂ is a component that increases the refractive index of glass and makes it highly dispersed, but if its content is too large, ΔP _{g and F} are greatly increased, and the transmittance is also deteriorated. From this point of view, _{the content of TiO 2} is preferably 0 to 10%. The upper limit of this content is more preferably 9%, further preferably 8%, and even more preferably 7%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, further preferably 0.5%, and even more preferably 3%.

Ｓｂ_２Ｏ_３は、ガラスを清澄する脱泡剤として機能する成分であるが、その含有量が多すぎると透過率を低下させる。かかる観点から、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有量は、好ましくは０〜１％である。そして、この含有量の上限は、より好ましくは０．５％である。また、この含有量の下限は、より好ましくは０％超であり、更に好ましくは０．０３％である。 Sb ₂ O ₃ is a component that functions as a defoaming agent that clarifies glass, but if the content is too large, the transmittance is lowered. From this point of view, _{the content of Sb 2} O ₃ is preferably 0 to 1%. The upper limit of this content is more preferably 0.5%. The lower limit of this content is more preferably more than 0%, still more preferably 0.03%.

またさらに、本実施形態に係る光学ガラスは、上述した成分に加え、以下の条件を満たすよう更なる任意成分を添加してもよい。 Furthermore, in the optical glass according to the present embodiment, in addition to the above-mentioned components, an additional optional component may be added so as to satisfy the following conditions.

ガラス原料の溶融性と耐失透性を一層向上させ、高分散とする観点から、ＭｇＯに対するＢ_２Ｏ_３の質量比（Ｂ_２Ｏ_３／ＭｇＯ）は、好ましくは０〜５である。そして、この比の上限は、より好ましくは４．５であり、更に好ましくは４であり、より更に好ましくは３．５である。また、この比の下限は、より好ましくは０超であり、更に好ましくは１．０であり、より更に好ましくは１．５である。 The meltability and devitrification resistance of the glass raw material is further improved, in view of the high dispersion, the weight ratio of _B 2 _{O 3} with respect to _{_{MgO (B 2 O 3 / MgO}} ) is preferably 0-5. The upper limit of this ratio is more preferably 4.5, even more preferably 4, and even more preferably 3.5. Further, the lower limit of this ratio is more preferably more than 0, further preferably 1.0, and even more preferably 1.5.

ガラス原料の溶融性と耐失透性を一層向上させ、高分散とする観点から、ＭｇＯに対するＳｉＯ_２とＢ_２Ｏ_３との和の質量比（（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）／ＭｇＯ）は、好ましくは８〜３９である。そして、この比の上限は、より好ましくは３０であり、更に好ましくは２５であり、より更に好ましくは２０である。また、この比の下限は、より好ましくは９であり、更に好ましくは１０であり、より更に好ましくは１１である。 From the viewpoint of further improving the meltability and devitrification resistance of the glass raw material and achieving high dispersion, the mass ratio of the sum of _{SiO 2} and B ₂ O ₃ _{to MgO ((SiO 2} + B ₂ O ₃ ) / MgO) is , Preferably 8 to 39. The upper limit of this ratio is more preferably 30, still more preferably 25, and even more preferably 20. The lower limit of this ratio is more preferably 9, still more preferably 10, and even more preferably 11.

耐失透性を一層向上させ、高分散とする観点から、ＭｇＯに対するＬｉ_２Ｏの質量比（Ｌｉ_２Ｏ／ＭｇＯ）は、好ましくは０．１〜３．７である。そして、この比の上限は、より好ましくは３であり、更に好ましくは２．５であり、より更に好ましくは２．２である。また、この比の下限は、より好ましくは０．２であり、更に好ましくは０．４であり、より更に好ましくは０．８である。 Devitrification resistance further improves, from the viewpoint of a high dispersion, the weight ratio of Li ₂ O with respect to MgO _(Li 2 O / MgO) is preferably 0.1 to 3.7. The upper limit of this ratio is more preferably 3, still more preferably 2.5, and even more preferably 2.2. The lower limit of this ratio is more preferably 0.2, still more preferably 0.4, and even more preferably 0.8.

耐失透性を向上させ、ΔＰ_ｇ，Ｆを小さくする観点から、ＭｇＯとＢａＯとＳｒＯとＣａＯとの和に対するＭｇＯの質量比（ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＣａＯ））は、好ましくは０．３５〜１．０である。そして、この比の下限は、より好ましくは０．４であり、更に好ましくは０．５であり、より更に好ましくは０．８である。 From the viewpoint of improving the devitrification resistance _{and reducing ΔP g and F} , the mass ratio of MgO to the sum of MgO, BaO, SrO and CaO (MgO / (MgO + BaO + SrO + CaO)) is preferably 0.35 to 1. It is 0. The lower limit of this ratio is more preferably 0.4, still more preferably 0.5, and even more preferably 0.8.

耐失透性を向上させる観点から、ＭｇＯに対するＮｂ_２Ｏ_５とＴｉＯ_２との和の質量比（（Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）／ＭｇＯ）は、好ましくは５〜６０である。そして、この比の上限は、より好ましくは４０であり、更に好ましくは３５であり、より更に好ましくは３０である。また、この比の下限は、より好ましくは６であり、更に好ましくは８であり、より更に好ましくは９である。 From the viewpoint of improving the devitrification resistance, the mass ratio of the sum of _{Nb 2} O ₅ and TiO ₂ _{to MgO ((Nb 2} O ₅ + TiO ₂ ) / MgO) is preferably 5 to 60. The upper limit of this ratio is more preferably 40, even more preferably 35, and even more preferably 30. The lower limit of this ratio is more preferably 6, still more preferably 8, and even more preferably 9.

耐失透性を向上させ、ΔＰ_ｇ，Ｆを小さくする観点から、Ｌａ_２Ｏ_３とＧｄ_２Ｏ_３とＹ_２Ｏ_３とＬｕ_２Ｏ_３との和（Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３＋Ｙ_２Ｏ_３＋Ｌｕ_２Ｏ_３）は、好ましくは０〜３％である。そして、この和の上限は、より好ましくは３％未満であり、更に好ましくは２％であり、より更に好ましくは１％である。 From the viewpoint of improving devitrification resistance _{and reducing ΔP g and F} , the sum of _{La 2} O ₃ and Gd ₂ O ₃ and Y ₂ O ₃ and Lu ₂ O ₃ _{(La 2} O ₃ + Gd ₂ O ₃ + Y). ₂ O ₃ + Lu ₂ O ₃ ) is preferably 0 to 3%. The upper limit of this sum is more preferably less than 3%, further preferably 2%, and even more preferably 1%.

ΔＰ_ｇ，Ｆを小さくし、高分散化する観点から、ＣａＯとＳｒＯとＢａＯとの和から、ＭｇＯを引いた値（（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）−ＭｇＯ）は、好ましくは１％以下であり、より好ましくは１％未満であり、更に好ましくは０．６％以下であり、より更に好ましくは０．３％以下である。なお、この値（（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）−ＭｇＯ）が負の値となる場合も、上述した「１％以下」等に該当する。 From the viewpoint of reducing ΔP _{g and F} and increasing the dispersion, the value obtained by subtracting MgO from the sum of CaO, SrO and BaO ((CaO + SrO + BaO) -MgO) is preferably 1% or less, more preferably. It is less than 1%, more preferably 0.6% or less, and even more preferably 0.3% or less. In addition, even when this value ((CaO + SrO + BaO) -MgO) is a negative value, it corresponds to the above-mentioned "1% or less" or the like.

なお、本実施形態に係る光学ガラスは、その他必要に応じて清澄、着色、消色、光学恒数の調整等の目的で、上述した成分以外のもので、公知の清澄剤や着色剤、脱泡剤、フッ素化合物、リン酸等の成分をガラス組成に適量添加することができる。また、上述した成分に限らず、本実施形態の効果が得られる範囲でその他の成分を添加することもできる。 The optical glass according to the present embodiment contains other components other than those described above for the purpose of clarification, coloring, decolorization, adjustment of optical constant, etc., as necessary, and is known as a clarifying agent, a coloring agent, or a defoaming agent. An appropriate amount of components such as a foaming agent, a fluorine compound, and phosphoric acid can be added to the glass composition. Further, not limited to the above-mentioned components, other components may be added as long as the effects of the present embodiment can be obtained.

上述した各成分については、不純物の含有量が少ない高純度品を原料として使用することが好ましい。例えば、ＳｉＯ_２原料、Ｂ_２Ｏ_３原料のうち１又は２以上について高純度品を使用することが好ましい。高純度品とは、当該成分を９９．８５質量％以上含むものである。高純度品の使用によって、不純物量が少なくなる結果、例えば、波長４００ｎｍ以下の光の内部透過率をより高くできる傾向がある。 For each of the above-mentioned components, it is preferable to use a high-purity product having a low content of impurities as a raw material. For example, it is preferable to use a high-purity product for one or more of _{the SiO 2} raw material and the B ₂ O _{3 raw material.} A high-purity product contains 99.85% by mass or more of the component. As a result of reducing the amount of impurities by using a high-purity product, for example, the internal transmittance of light having a wavelength of 400 nm or less tends to be higher.

次に、本実施形態に係る光学ガラスの物性等について説明する。 Next, the physical characteristics of the optical glass according to the present embodiment will be described.

本実施形態に係る光学ガラスのｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）については、好適例として、１．７１を下限、１．９０を上限とした、１．７１〜１．９０の範囲であるものが挙げられる。屈折率の上限は、より好ましくは１．８９であり、更に好ましくは１．８８である。また、屈折率の下限は、より好ましくは１．７２であり、更に好ましくは１．７３である。 A refractive index at the d-line of the optical glass according to the present embodiment will _{(n d),} as a preferred embodiment, the lower limit of 1.71, was 1.90 and the upper limit is in the range of 1.71 to 1.90 Can be mentioned. The upper limit of the refractive index is more preferably 1.89, still more preferably 1.88. The lower limit of the refractive index is more preferably 1.72, and even more preferably 1.73.

また、本実施形態に係る光学ガラスのアッベ数（ν_ｄ）については、好適例として、２４を下限、３４を上限とした、２４〜３４の範囲であるものが挙げられる。アッベ数の上限は、より好ましくは３３．５であり、更に好ましくは３３である。また、アッベ数の下限は、より好ましくは２４．５であり、更に好ましくは２５である。 _{Further, as a preferable example, the Abbe number (ν d} ) of the optical glass according to the present embodiment is in the range of 24 to 34 with 24 as the lower limit and 34 as the upper limit. The upper limit of the Abbe number is more preferably 33.5 and even more preferably 33. The lower limit of the Abbe number is more preferably 24.5 and even more preferably 25.

さらに、本実施形態に係る光学ガラスの異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）は、好ましくは０．０１００以下であり、より好ましくは０．００９０以下であり、更に好ましくは０．００８０以下であり、より更に好ましくは０以下である。 _{Further, the value (ΔP g, F} ) indicating the abnormal dispersibility of the optical glass according to the present embodiment is preferably 0.0100 or less, more preferably 0.0090 or less, still more preferably 0.0080 or less. It is even more preferably 0 or less.

さらに、本実施形態に係る光学ガラスとしては、屈折率（ｎ_ｄ）が、１．７１〜１．９０であり、アッベ数（ν_ｄ）が、２４〜３４であり、異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）が、０．０１００以下である、という各物性を併せ持つことが好ましい。 Further, as the optical glass according to the present embodiment, the refractive index _{(n d)} is 1.71 to 1.90, Abbe's number ([nu _d) is a 24 to 34, a value indicating an anomalous dispersion It is preferable to have each physical property that (ΔP _{g, F) is 0.0100 or less.}

またさらに、本実施形態に係る光学ガラスの部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）は、好ましくは０．６１３以下であり、より好ましくは０．６１０以下であり、更に好ましくは０．５９０以下である。 Furthermore, the partial dispersion ratio (P _{g, F} ) of the optical glass according to the present embodiment is preferably 0.613 or less, more preferably 0.610 or less, still more preferably 0.590 or less. ..

なお、屈折率、アッベ数、異常分散性を示す値、及び部分分散比は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定することができる。 The refractive index, Abbe number, values indicating anomalous dispersibility, and partial dispersion ratio can be measured according to the methods described in Examples described later.

上述したように、本実施形態に係る光学ガラスは、高屈折率（屈折率（ｎ_ｄ）が大きいこと）、高分散（アッベ数（ν_ｄ）が小さいこと）でありながら、異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）を小さくすることができる。またさらに、部分分散比を小さくすることができる。このような光学ガラスを用いると、例えば、光学レンズ等の光学素子を薄型化することができ、色収差や他の収差が良好に補正された光学系を設計することができる。 As described above, the optical glass according to the present embodiment, (that refractive index (n _d) of large) high refractive index, while a high dispersion (Abbe number ([nu _d) is small), the anomalous dispersion The indicated values (ΔP _{g, F} ) can be reduced. Furthermore, the partial dispersion ratio can be reduced. By using such an optical glass, for example, an optical element such as an optical lens can be made thinner, and an optical system in which chromatic aberration and other aberrations are satisfactorily corrected can be designed.

本実施形態に係る光学ガラスの比重（Ｓ_ｇ）は、好ましくは３．７５以下であり、より好ましくは３．５以下であり、更に好ましくは３．４以下であり、より更に好ましくは３．３５以下である。本実施形態に係る光学ガラスはこのような低比重とすることもできるため、軽量な光学素子等の材料として好適に使用できる。 _{The specific gravity (S g} ) of the optical glass according to the present embodiment is preferably 3.75 or less, more preferably 3.5 or less, still more preferably 3.4 or less, and even more preferably 3. It is 35 or less. Since the optical glass according to the present embodiment can have such a low specific gravity, it can be suitably used as a material for a lightweight optical element or the like.

本実施形態に係る光学ガラスのガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は、好ましくは５６０℃以下であり、より好ましくは５５５℃以下である。本実施形態に係る光学ガラスは低いガラス転移温度とできるため、リヒートプレス時の成型性を一層向上させることができる。また、モールド成型性も向上させることができる。ガラス転移温度は、後述する実施例に記載の方法に準拠して測定することができる。 _{The glass transition temperature (T g} ) of the optical glass according to the present embodiment is preferably 560 ° C. or lower, more preferably 555 ° C. or lower. Since the optical glass according to the present embodiment can have a low glass transition temperature, the moldability at the time of reheat pressing can be further improved. In addition, moldability can be improved. The glass transition temperature can be measured according to the method described in Examples described later.

そして、光学ガラスの原料（ガラス原料）５０ｍｇを７００℃から昇温速度２０℃／分で１３００℃まで加熱したときの１０００〜１３００℃の間の揮発減量は、好ましくは０．５１ｍｇ以下であり、より好ましくは０．４６ｍｇ以下であり、更に好ましくは０．４０ｍｇ以下である。また、光学ガラスの原料（ガラス原料）５０ｍｇを７００℃から昇温速度２０℃／分で１３００℃まで加熱したときの１２００〜１３００℃の間の揮発減量は、好ましくは０．４３ｍｇ以下であり、より好ましくは０．３８ｍｇ以下であり、更に好ましくは０．３２ｍｇ以下である。このような少量の揮発減量であるガラス原料であれば、ガラス溶融時における溶解炉への揮発成分の付着が抑制されるため、溶融ガラスへの揮発の落下に伴う泡や異物の混入を防止することができ、高品質のガラスを歩留まり良く製造することができる。 The volatilization loss between 1000 and 1300 ° C. when 50 mg of the raw material for optical glass (glass raw material) is heated from 700 ° C. to 1300 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min is preferably 0.51 mg or less. It is more preferably 0.46 mg or less, still more preferably 0.40 mg or less. Further, the volatile weight loss between 1200 and 1300 ° C. when 50 mg of the raw material of optical glass (glass raw material) is heated from 700 ° C. to 1300 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min is preferably 0.43 mg or less. It is more preferably 0.38 mg or less, still more preferably 0.32 mg or less. With a glass raw material having such a small amount of volatilization loss, adhesion of volatile components to the melting furnace at the time of glass melting is suppressed, so that bubbles and foreign substances are prevented from being mixed due to the falling volatilization of the molten glass. It is possible to produce high quality glass with good yield.

本実施形態に係る光学ガラスの製造方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。また、製造条件は、適宜好適な条件を選択することができる。例えば、上述した各原料に対応する酸化物、水酸化物、リン酸化合物（リン酸塩、正リン酸等）、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、及びフッ化物等を目標組成となるように調合し、好ましくは１１００〜１５００℃、より好ましくは１３４０〜１４００℃にて溶融し、攪拌することで均一化し、泡切れを行った後、金型に流し成型する製造方法等を採用できる。このようにして得られた光学ガラスは、必要に応じてリヒートプレス等を行って所望の形状に加工し、研磨等を施すことで、所望の光学素子とすることができる。 The method for producing the optical glass according to the present embodiment is not particularly limited, and a known method can be adopted. Further, as the production conditions, suitable conditions can be appropriately selected. For example, oxides, hydroxides, phosphoric acid compounds (phosphates, orthophosphoric acid, etc.), carbonates, sulfates, nitrates, fluorides, etc. corresponding to the above-mentioned raw materials are prepared so as to have a target composition. Then, a manufacturing method can be adopted in which the mixture is preferably melted at 1100 to 1500 ° C., more preferably 1340 to 1400 ° C., homogenized by stirring, foam is cut off, and then cast into a mold. The optical glass thus obtained can be made into a desired optical element by performing reheat pressing or the like as necessary to process it into a desired shape and polishing or the like.

そして、光学ガラスの原料（ガラス原料）５０ｇを１３４０〜１４００℃の温度で加熱したときの、当該原料が融解するまでの時間（融解時間）は、１５分未満であることが好ましい。１３４０〜１４００℃の温度範囲において短時間でガラス原料が融解しない場合、残存するガラス原料がガラス中へ混入する原因となる。また、残存するガラス原料を融解しようとして、更に高温での加熱や長時間の加熱保持を行うと、ガラスの生産効率の低下や透過率悪化の原因となる。かかる観点から、光学ガラスの原料（ガラス原料）の融解時間は１５分未満であれば、残存するガラス原料がガラス中へ混入することや、ガラスの生産効率の低下や透過率の低下を効果的に抑制することができる。 When 50 g of a raw material for optical glass (glass raw material) is heated at a temperature of 1340 to 1400 ° C., the time until the raw material melts (melting time) is preferably less than 15 minutes. If the glass raw material does not melt in a short time in the temperature range of 1340 to 1400 ° C., it causes the remaining glass raw material to be mixed into the glass. Further, if the remaining glass raw material is heated at a higher temperature or held for a long time in an attempt to melt the glass raw material, the production efficiency of the glass is lowered and the transmittance is deteriorated. From this point of view, if the melting time of the raw material of optical glass (glass raw material) is less than 15 minutes, it is effective that the remaining glass raw material is mixed into the glass, the production efficiency of the glass is lowered, and the transmittance is lowered. Can be suppressed.

そして、同様の観点から、本実施形態に係る光学ガラスの製造方法は、光学ガラスの原料を１３４０〜１４００℃で加熱する工程を少なくとも含み、かつ、光学ガラスの原料５０ｇを１３４０〜１４００℃の温度で加熱したときの原料５０ｇが融解するまでの時間が、１５分未満であるが好ましい。このような融解時間の原料を用いて、１３４０〜１４００℃で加熱することで、加熱工程の際に残存するガラス原料がガラス中に混入することもなく、高品質な光学ガラスを歩留まり良く製造することができる。 From the same viewpoint, the method for producing optical glass according to the present embodiment includes at least a step of heating the raw material of the optical glass at 1340 to 1400 ° C., and 50 g of the raw material of the optical glass is heated to a temperature of 1340 to 1400 ° C. It is preferable that the time until 50 g of the raw material melts when heated in is less than 15 minutes. By heating at 1340 to 1400 ° C. using a raw material having such a melting time, high-quality optical glass can be produced with good yield without the glass raw material remaining in the heating process being mixed into the glass. be able to.

本実施形態に係る光学ガラスは、カメラや顕微鏡等の光学装置の備えるレンズ等の光学素子として好適である。このような光学素子には、ミラー、レンズ、プリズム、フィルタ等が含まれる。これら光学素子を含む光学系としては、例えば、対物レンズ、集光レンズ、結像レンズ、カメラ用交換レンズ等が挙げられる。そして、これらは、レンズ交換式カメラ、レンズ非交換式カメラ等の撮像装置、多光子顕微鏡等の顕微鏡に用いることができる。なお、光学装置としては、上述した撮像装置や顕微鏡に限られず、ビデオカメラ、テレコンバーター、望遠鏡、双眼鏡、単眼鏡、レーザ距離計、プロジェクタ等も含まれる。以下にこれらの一例を説明する。 The optical glass according to this embodiment is suitable as an optical element such as a lens provided in an optical device such as a camera or a microscope. Such optical elements include mirrors, lenses, prisms, filters and the like. Examples of the optical system including these optical elements include an objective lens, a condenser lens, an imaging lens, an interchangeable lens for a camera, and the like. Then, these can be used for an imaging device such as an interchangeable lens camera and a non-interchangeable lens camera, and a microscope such as a multiphoton microscope. The optical device is not limited to the above-mentioned imaging device and microscope, but also includes a video camera, a teleconverter, a telescope, binoculars, a monocular, a laser range finder, a projector, and the like. An example of these will be described below.

＜撮像装置＞
図１は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の斜視図である。 <Imaging device>
FIG. 1 is a perspective view of an image pickup apparatus including an optical element using optical glass according to the present embodiment.

撮像装置１はいわゆるデジタル一眼レフカメラ（レンズ交換式カメラ）であり、撮影レンズ１０３（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。カメラボディ１０１のレンズマウント（不図示）にレンズ鏡筒１０２が着脱自在に取り付けられる。そして、当該レンズ鏡筒１０２のレンズ１０３を通した光がカメラボディ１０１の背面側に配置されたマルチチップモジュール１０６のセンサチップ（固体撮像素子）１０４上に結像される。このセンサチップ１０４は、いわゆるＣＭＯＳイメージセンサー等のベアチップであり、マルチチップモジュール１０６は、例えばセンサチップ１０４がガラス基板１０５上にベアチップ実装されたＣＯＧ（ＣｈｉｐＯｎＧｌａｓｓ）タイプのモジュールである。 The image pickup apparatus 1 is a so-called digital single-lens reflex camera (interchangeable lens camera), and the photographing lens 103 (optical system) includes an optical element using the optical glass according to the present embodiment as a base material. The lens barrel 102 is detachably attached to the lens mount (not shown) of the camera body 101. Then, the light passing through the lens 103 of the lens barrel 102 is imaged on the sensor chip (solid-state image sensor) 104 of the multi-chip module 106 arranged on the back side of the camera body 101. The sensor chip 104 is a bare chip such as a so-called CMOS image sensor, and the multi-chip module 106 is, for example, a COG (Chip On Glass) type module in which the sensor chip 104 is bare-chip mounted on a glass substrate 105.

図２は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える撮像装置の他の例の正面図であり、図３は、図２の撮像装置の背面図である。 FIG. 2 is a front view of another example of an image pickup apparatus including an optical element using optical glass according to the present embodiment, and FIG. 3 is a rear view of the image pickup apparatus of FIG.

この撮像装置ＣＡＭはいわゆるデジタルスチルカメラ（レンズ非交換式カメラ）であり、撮影レンズＷＬ（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。 This imaging device CAM is a so-called digital still camera (non-interchangeable lens camera), and the photographing lens WL (optical system) is provided with an optical element using the optical glass according to the present embodiment as a base material.

撮像装置ＣＡＭは、不図示の電源ボタンを押すと、撮影レンズＷＬのシャッタ（不図示）が開放されて、撮影レンズＷＬで被写体（物体）からの光が集光され、像面に配置された撮像素子に結像される。撮像素子に結像された被写体像は、撮像装置ＣＡＭの背後に配置された液晶モニタＬＭに表示される。撮影者は、液晶モニタＬＭを見ながら被写体像の構図を決めた後、レリーズボタンＢ１を押し下げて被写体像を撮像素子で撮像し、メモリ（不図示）に記録保存する。 When the power button (not shown) is pressed in the image sensor CAM, the shutter (not shown) of the photographing lens WL is released, the light from the subject (object) is collected by the photographing lens WL, and the light is arranged on the image plane. An image is formed on the image sensor. The subject image formed on the image pickup device is displayed on the liquid crystal monitor LM arranged behind the image pickup apparatus CAM. After deciding the composition of the subject image while looking at the liquid crystal monitor LM, the photographer presses the release button B1 to capture the subject image with the image sensor, and records and saves the subject image in a memory (not shown).

撮像装置ＣＡＭには、被写体が暗い場合に補助光を発光する補助光発光部ＥＦ、撮像装置ＣＡＭの種々の条件設定等に使用するファンクションボタンＢ２等が配置されている。 The image pickup device CAM is provided with an auxiliary light emitting unit EF that emits auxiliary light when the subject is dark, a function button B2 used for setting various conditions of the image pickup device CAM, and the like.

このようなデジタルカメラ等に用いられる光学系には、より高い解像度、軽量化、小型化が求められる。これらを実現するには光学系に高屈折率なガラスを用いることが有効である。特に、高屈折率でありながらより低い比重（Ｓ_ｇ）を有し、プレス成型性やモールド成型性に優れたガラスの需要は多い。かかる観点から、本実施形態に係る光学ガラスは、かかる光学機器の部材として好適である。なお、本実施形態において適用可能な光学機器としては、上述した撮像装置に限らず、例えばプロジェクタ等も挙げられる。光学素子についても、レンズに限らず、例えばプリズム等も挙げられる。 The optical system used in such a digital camera or the like is required to have higher resolution, lighter weight, and smaller size. In order to realize these, it is effective to use glass having a high refractive index for the optical system. In particular, there is a great demand for glass having a high refractive index but a lower specific gravity (S _g ) and excellent press moldability and mold moldability. From this point of view, the optical glass according to the present embodiment is suitable as a member of such an optical device. The optical device applicable to this embodiment is not limited to the above-mentioned imaging device, and examples thereof include a projector and the like. The optical element is not limited to a lens, and examples thereof include a prism and the like.

＜多光子顕微鏡＞
図４は、本実施形態に係る光学ガラスを用いた光学素子を備える多光子顕微鏡２の構成の例を示すブロック図である。 <Multiphoton microscope>
FIG. 4 is a block diagram showing an example of the configuration of a multiphoton microscope 2 including an optical element using the optical glass according to the present embodiment.

多光子顕微鏡２は、対物レンズ２０６、集光レンズ２０８、結像レンズ２１０を備える。対物レンズ２０６、集光レンズ２０８、結像レンズ２１０のうち少なくとも１つは、本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。以下、多光子顕微鏡２の光学系を中心に説明する。 The multiphoton microscope 2 includes an objective lens 206, a condenser lens 208, and an imaging lens 210. At least one of the objective lens 206, the condenser lens 208, and the imaging lens 210 is provided with an optical element using the optical glass according to the present embodiment as a base material. Hereinafter, the optical system of the multiphoton microscope 2 will be mainly described.

パルスレーザ装置２０１は、例えば、近赤外波長（約１０００ｎｍ）であって、パルス幅がフェムト秒単位の（例えば、１００フェムト秒の）超短パルス光を射出する。パルスレーザ装置２０１から射出された直後の超短パルス光は、一般に所定の方向に偏光された直線偏光となっている。 The pulse laser apparatus 201 emits ultrashort pulsed light having a near infrared wavelength (about 1000 nm) and a pulse width in femtosecond units (for example, 100 femtoseconds). The ultrashort pulsed light immediately after being emitted from the pulsed laser device 201 is generally linearly polarized light polarized in a predetermined direction.

パルス分割装置２０２は、超短パルス光を分割し、超短パルス光の繰り返し周波数を高くして射出する。 The pulse dividing device 202 divides the ultrashort pulsed light and emits the ultrashort pulsed light at a high repetition frequency.

ビーム調整部２０３は、パルス分割装置２０２から入射される超短パルス光のビーム径を、対物レンズ２０６の瞳径に合わせて調整する機能、試料Ｓから発せられる多光子励起光の波長と超短パルス光の波長との軸上の色収差（ピント差）を補正するために超短パルス光の集光及び発散角度を調整する機能、超短パルス光のパルス幅が光学系を通過する間に群速度分散により広がってしまうのを補正するために、逆の群速度分散を超短パルス光に与えるプリチャープ機能（群速度分散補償機能）等を有する。 The beam adjusting unit 203 has a function of adjusting the beam diameter of the ultrashort pulsed light incident from the pulse dividing device 202 according to the pupil diameter of the objective lens 206, and the wavelength and the ultrashort of the multiphoton excitation light emitted from the sample S. A function to adjust the focusing and divergence angle of ultrashort pulsed light to correct axial chromatic aberration (focus difference) with the wavelength of pulsed light, and a group while the pulse width of ultrashort pulsed light passes through the optical system. It has a pre-churp function (group velocity dispersion compensation function) that gives the ultrashort pulsed light the opposite group velocity dispersion in order to correct the spread due to the velocity dispersion.

パルスレーザ装置２０１から射出された超短パルス光は、パルス分割装置２０２によりその繰り返し周波数が大きくされ、ビーム調整部２０３により上述した調整が行われる。そして、ビーム調整部２０３から射出された超短パルス光は、ダイクロイックミラー２０４によりダイクロイックミラー２０５の方向に反射され、ダイクロイックミラー２０５を通過し、対物レンズ２０６により集光されて試料Ｓに照射される。このとき、走査手段（不図示）を用いることにより、超短パルス光を試料Ｓの観察面上に走査させてもよい。 The repetition frequency of the ultrashort pulsed light emitted from the pulse laser device 201 is increased by the pulse dividing device 202, and the above-described adjustment is performed by the beam adjusting unit 203. Then, the ultrashort pulsed light emitted from the beam adjusting unit 203 is reflected by the dichroic mirror 204 in the direction of the dichroic mirror 205, passes through the dichroic mirror 205, is collected by the objective lens 206, and is irradiated to the sample S. .. At this time, by using a scanning means (not shown), the ultrashort pulsed light may be scanned on the observation surface of the sample S.

例えば、試料Ｓを蛍光観察する場合には、試料Ｓの超短パルス光の被照射領域及びその近傍では、試料Ｓが染色されている蛍光色素が多光子励起され、赤外波長である超短パルス光より波長が短い蛍光（以下、「観察光」という。）が発せられる。 For example, when observing the sample S by fluorescence, the fluorescent dye in which the sample S is stained is multiphoton excited in the irradiated region of the ultra-short pulse light of the sample S and its vicinity, and the ultra-short wavelength is an infrared wavelength. Fluorescence (hereinafter referred to as "observation light") having a shorter wavelength than pulsed light is emitted.

試料Ｓから対物レンズ２０６の方向に発せられた観察光は、対物レンズ２０６によりコリメートされ、その波長に応じて、ダイクロイックミラー２０５により反射されたり、あるいは、ダイクロイックミラー２０５を透過したりする。 The observation light emitted from the sample S in the direction of the objective lens 206 is collimated by the objective lens 206 and reflected by the dichroic mirror 205 or transmitted through the dichroic mirror 205 depending on the wavelength thereof.

ダイクロイックミラー２０５により反射された観察光は、蛍光検出部２０７に入射する。蛍光検出部２０７は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ（ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒｔｕｂｅ：光電子増倍管）等により構成され、ダイクロイックミラー２０５により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２０７は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。 The observation light reflected by the dichroic mirror 205 is incident on the fluorescence detection unit 207. The fluorescence detection unit 207 is composed of, for example, a barrier filter, a PMT (photomultiplier tube), etc., receives the observation light reflected by the dichroic mirror 205, and outputs an electric signal according to the amount of the light. .. Further, the fluorescence detection unit 207 detects the observation light over the observation surface of the sample S as the ultrashort pulse light is scanned on the observation surface of the sample S.

一方、ダイクロイックミラー２０５を透過した観察光は、走査手段（不図示）によりデスキャンされ、ダイクロイックミラー２０４を透過し、集光レンズ２０８により集光され、対物レンズ２０６の焦点位置とほぼ共役な位置に設けられているピンホール２０９を通過し、結像レンズ２１０を透過して、蛍光検出部２１１に入射する。 On the other hand, the observation light transmitted through the dichroic mirror 205 is descanned by scanning means (not shown), transmitted through the dichroic mirror 204, collected by the condenser lens 208, and placed at a position substantially conjugate with the focal position of the objective lens 206. It passes through the provided pinhole 209, passes through the imaging lens 210, and is incident on the fluorescence detection unit 211.

蛍光検出部２１１は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、結像レンズ２１０により蛍光検出部２１１の受光面において結像した観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２１１は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。 The fluorescence detection unit 211 is composed of, for example, a barrier filter, a PMT, or the like, receives the observation light imaged on the light receiving surface of the fluorescence detection unit 211 by the imaging lens 210, and outputs an electric signal according to the amount of the light. Further, the fluorescence detection unit 211 detects the observation light over the observation surface of the sample S as the ultrashort pulse light is scanned on the observation surface of the sample S.

なお、ダイクロイックミラー２０５を光路から外すことにより、試料Ｓから対物レンズ２０６の方向に発せられた全ての観察光を蛍光検出部２１１で検出するようにしてもよい。 By removing the dichroic mirror 205 from the optical path, the fluorescence detection unit 211 may detect all the observation light emitted from the sample S in the direction of the objective lens 206.

また、試料Ｓから対物レンズ２０６と逆の方向に発せられた観察光は、ダイクロイックミラー２１２により反射され、蛍光検出部２１３に入射する。蛍光検出部２１３は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、ダイクロイックミラー２１２により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２１３は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。 Further, the observation light emitted from the sample S in the direction opposite to that of the objective lens 206 is reflected by the dichroic mirror 212 and incident on the fluorescence detection unit 213. The fluorescence detection unit 213 is composed of, for example, a barrier filter, a PMT, or the like, receives the observation light reflected by the dichroic mirror 212, and outputs an electric signal according to the amount of the light. Further, the fluorescence detection unit 213 detects the observation light over the observation surface of the sample S as the ultrashort pulse light is scanned on the observation surface of the sample S.

蛍光検出部２０７、２１１、２１３からそれぞれ出力された電気信号は、例えば、コンピュータ（不図示）に入力され、そのコンピュータは、入力された電気信号に基づいて、観察画像を生成し、生成した観察画像を表示したり、観察画像のデータを記憶したりすることができる。 The electric signals output from the fluorescence detection units 207, 211, and 213 are input to, for example, a computer (not shown), and the computer generates an observation image based on the input electric signals, and the generated observation. Images can be displayed and observation image data can be stored.

本発明の実施例及び比較例について説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されない。 Examples and comparative examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the following examples.

各表に、各実施例及び各比較例に係る光学ガラスについて、各成分の酸化物基準の質量％基準による化学組成、屈折率（ｎ_ｄ）、アッベ数（ν_ｄ）、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）、比重（Ｓ_ｇ）、部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）、異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）、作製したガラスの耐失透性の観察状況、及び作製したガラスの揮発減量について実施結果とともに示したものである。 In each table, for the optical glass according to each Example and each Comparative Example, the chemical composition, the refractive index ( _nd ), the Abbe number (ν _d ), and the glass transition temperature (T) based on the mass% of the oxide standard of each component. _g ), specific gravity (S _g ), partial dispersion ratio (P _{g, F} ), value indicating anomalous dispersibility (ΔP _{g, F} ), observation status of devitrification resistance of the prepared glass, and volatilization of the prepared glass. The weight loss is shown together with the implementation results.

＜光学ガラスの作製＞
各実施例及び各比較例に係る光学ガラスは、以下の手順で作製した。まず、各表に記載の化学組成（質量％）となるよう、酸化物、炭酸塩、及び硝酸塩等のガラス原料を合計の重量が１００ｇとなるよう秤量した。次に、秤量した原料を混合して内容量１００ｍＬ程度の白金坩堝に投入し、１３４０〜１４００℃の温度で７０分程度溶融させて攪拌均質化した。清澄を行った後、金型等に鋳込んで徐冷し、成型することで各サンプルを得た。 <Making optical glass>
The optical glass according to each Example and each Comparative Example was produced by the following procedure. First, glass raw materials such as oxides, carbonates, and nitrates were weighed so as to have a total weight of 100 g so as to have the chemical composition (mass%) shown in each table. Next, the weighed raw materials were mixed and put into a platinum crucible having an internal volume of about 100 mL, melted at a temperature of 1340 to 1400 ° C. for about 70 minutes, and stirred and homogenized. After clarification, each sample was obtained by casting in a mold or the like, slowly cooling, and molding.

＜光学ガラスの測定＞
・屈折率（ｎ_ｄ）とアッベ数（ν_ｄ）
各サンプルの屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）は、屈折率測定器（株式会社島津デバイス製造製：ＫＰＲ−２０００）を用いて測定及び算出した。アッベ数（ν_ｄ）は下記式（１）に基づき算出した。屈折率の値は、小数点以下第６位までとした。

ν_ｄ＝（ｎ_ｄ−１）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ）・・・・（１）
ｎ_ｄ：波長５８７．５６２ｎｍの光に対するガラスの屈折率
ｎ_Ｆ：波長４８６．１３３ｎｍの光に対するガラスの屈折率
ｎ_Ｃ：波長６５６．２７３ｎｍの光に対するガラスの屈折率
<Measurement of optical glass>
-Refractive index ( _nd ) and Abbe number (ν _d )
The refractive index ( _nd ) and Abbe number (ν _d ) of each sample were measured and calculated using a refractive index measuring device (manufactured by Shimadzu Device Manufacturing Co., Ltd .: KPR-2000). The Abbe number (ν _d ) was calculated based on the following equation (1). The value of the refractive index was up to the sixth decimal place.

ν _d = (n _d -1) / (n _F −n _C ) ... (1)
n _d: refractive index n _F of the glass with respect to light having a wavelength of 587.562 nm: refractive index of the glass with respect to light having a wavelength of 486.133nm n _C: refractive index of the glass with respect to light having a wavelength of 656.273nm

・ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）
各サンプルのガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は、昇温速度４℃／分で測定した示差熱分析（ＤＴＡ）曲線から求めた。 -Glass transition temperature (T _g )
The glass transition temperature (T _g ) of each sample was determined from a differential thermal analysis (DTA) curve measured at a heating rate of 4 ° C./min.

・比重（Ｓ_ｇ）
各サンプルの比重（Ｓ_ｇ）は、４℃における同体積の純水に対する質量比をアルキメデス法によって測定した。・ Specific gravity (S _g )
The specific gravity (S _g ) of each sample was measured by the Archimedes method at a mass ratio to the same volume of pure water at 4 ° C.

・揮発減量
各サンプルの揮発減量として、７００℃から昇温速度２０℃／分で１３００℃まで昇温したときの、熱重量測定（ＴＧ）の１０００〜１３００℃の間の重量変化量と、１２００〜１３００℃の間の重量変化量を求めた。なお、サンプル重量は５０ｍｇとし、開口部直径５ｍｍ、高さ５ｍｍの円筒形の蓋の無い白金セルを用いて測定した。なお、測定後の白金セルからのガラスの溢れが無いこと、及び白金セル内のガラスに失透が無いことを目視で確認した。 -Volatilization loss As the volatilization loss of each sample, the amount of weight change between 1000 and 1300 ° C. in thermogravimetric analysis (TG) when the temperature is raised from 700 ° C. to 1300 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min and 1200 The amount of change in weight between 1300 ° C. was determined. The sample weight was 50 mg, and the measurement was performed using a cylindrical platinum cell having an opening diameter of 5 mm and a height of 5 mm without a lid. It was visually confirmed that the glass did not overflow from the platinum cell after the measurement and that the glass in the platinum cell did not devitrify.

・ガラス原料の融解時間
ガラス原料の融解時間は、ガラス原料５０ｇをよく混合した上で白金坩堝に入れ、１３４０〜１４００℃の温度で加熱保持したときの、ガラス原料が融解するまでの時間を意味する。本実施例においては、白金坩堝中に目視でガラス原料の溶け残りが確認できなくなったことにより、ガラス原料が融解したと判断した。 -Melting time of glass raw material The melting time of glass raw material means the time until the glass raw material melts when 50 g of glass raw material is mixed well, placed in a platinum crucible, and heated and held at a temperature of 1340 to 1400 ° C. To do. In this example, it was determined that the glass raw material had melted because the undissolved residue of the glass raw material could not be visually confirmed in the platinum crucible.

・耐失透性
各サンプルの耐失透性は、作製したガラスを研磨加工し、失透の有無を目視で確認した。各表の「失透有り」とは、サンプル中に失透部分が観察されたことを意味し、「失透無し」とは、サンプル中に失透部分が観察されなかったことを意味する。 -Devitrification resistance For the devitrification resistance of each sample, the prepared glass was polished and the presence or absence of devitrification was visually confirmed. “With devitrification” in each table means that a devitrified portion was observed in the sample, and “without devitrification” means that no devitrified portion was observed in the sample.

・部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）
各サンプルの部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）は下記式（２）に基づき算出した。なお、部分分散比の値は、小数点以下第４位までとした。

Ｐ_ｇ，Ｆ＝（ｎ_ｇ−ｎ_Ｆ）／（ｎ_Ｆ−ｎ_Ｃ）・・・・（２）
ｎ_Ｆ：波長４８６．１３３ｎｍの光に対するガラスの屈折率
ｎ_Ｃ：波長６５６．２７３ｎｍの光に対するガラスの屈折率
ｎ_ｇ：波長４３５．８３５ｎｍの光に対するガラスの屈折率
-Partial dispersion ratio (P _{g, F} )
The partial dispersion ratio (P _{g, F} ) of each sample was calculated based on the following formula (2). The value of the partial dispersion ratio was set to the fourth decimal place.

P _{g, F} = ( _ng −n _F ) / (n _F −n _C ) ... (2)
n _F: refractive index of the glass with respect to light having a wavelength of 486.133nm n _C: refractive index n _g of the glass with respect to light having a wavelength of 656.273 nm: refractive index of the glass with respect to light having a wavelength of 435.835nm

・異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）
各サンプルの異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）を以下に示す方法に準拠して求めた。・ Values indicating anomalous dispersibility (ΔP _{g, F} )
_{The values (ΔP g, F} ) indicating the anomalous dispersibility of each sample were determined according to the method shown below.

（１）基準線の作成
まず、正常部分分散ガラスとして、以下に示すアッベ数（ν_ｄ）と部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）を有する２つのガラス「Ｆ２」、「Ｋ７」を基準材として選んだ。そして、各ガラスについて、横軸にアッベ数をとり、縦軸に部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）をとり、２つの基準材に対応する２点を結ぶ直線を基準線とした。

光学ガラスＦ２の特性：ν_ｄ＝３６．３３、Ｐ_ｇ，Ｆ＝０．５８３４
光学ガラスＫ７の特性：ν_ｄ＝６０．４７、Ｐ_ｇ，Ｆ＝０．５４２９ (1) Creation of reference line First, as normal partially dispersed glass, two glasses "F2" and "K7" having the _{Abbe number (ν d} ) and partial dispersion ratio (P _{g, F) shown below are used as reference materials.} I chose. Then, for each glass, the horizontal axis is the Abbe number, the vertical axis is the partial dispersion ratio (P _{g, F} ), and the straight line connecting the two points corresponding to the two reference materials is used as the reference line.

Characteristics of optical glass F2: ν _d = 36.33, P _{g, F} = 0.5834
Characteristics of optical glass K7: ν _d = 60.47, P _{g, F} = 0.5429

（２）ΔＰ_ｇ，Ｆの算出
次に、図５に示すように、横軸をアッベ数（ν_ｄ）、縦軸を部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）としたグラフ上に各実施例の光学ガラスに対応する値をプロットし、上述した硝種のアッベ数（ν_ｄ）に対応する基準線（実線）上の点と、その縦軸の値（Ｐ_ｇ，Ｆ）との差分を、異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）として算出した。なお、部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）が基準線の上側にある場合、ΔＰ_ｇ，Ｆは正の値を有し、部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）が基準線の下側にある場合、ΔＰ_ｇ，Ｆは負の値を有する。 (2) _{Calculation of ΔP g, F} Next, as shown in FIG. 5, the horizontal axis is the Abbe number (ν _d ), and the vertical axis is the partial dispersion ratio (P _{g, F} ). The value corresponding to the optical glass is plotted, and the difference between the point on the reference line (solid line) corresponding to _{the Abbe number (ν d} _{) of the above-mentioned glass type and the value (P g, F) on the vertical axis thereof is abnormal.} It was calculated as a value indicating dispersibility (ΔP _{g, F).} When the partial dispersion ratio (P _{g, F} ) is above the reference line, ΔP _{g, F} has a positive value, and the partial dispersion ratio (P _{g, F} ) is below the reference line. , ΔP _{g, F} have negative values.

比較例１〜４は、作製したガラス中に失透が確認されたため、光学恒数の測定と揮発減量の測定は実施しなかった。 In Comparative Examples 1 to 4, devitrification was confirmed in the produced glass, so the optical constant and the volatilization loss were not measured.

以上、本実施例の光学ガラスは、高い屈折率（ｎ_ｄ）、小さいアッベ数（ν_ｄ）、小さいΔＰ_ｇ，Ｆ値を有し、耐失透性に優れることが確認された。また、本実施例の光学ガラスは、揮発減量が少ないため、生産効率に優れることが確認された。またさらに、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が低く、比重も小さいことが確認された。そして、ガラス作製時におけるガラス原料の融解時間も短く、このことは生産効率の向上に寄与する。 As described above, it was confirmed that the optical glass of this example has a high refractive index ( _nd ), a small Abbe number (ν _d ), a small ΔP _{g, and an F} value, and is excellent in devitrification resistance. Further, it was confirmed that the optical glass of this example has excellent production efficiency because the amount of volatile weight loss is small. Furthermore, it was confirmed that the glass transition temperature (T _g ) was low and the specific gravity was also small. The melting time of the glass raw material during glass production is also short, which contributes to the improvement of production efficiency.

１…撮像装置、１０１…カメラボディ、１０２…レンズ鏡筒、１０３…レンズ、１０４…センサチップ、１０５…ガラス基板、１０６…マルチチップモジュール、２…多光子顕微鏡、２０１…パルスレーザ装置、２０２…パルス分割装置、２０３…ビーム調整部、２０４，２０５，２１２…ダイクロイックミラー、２０６…対物レンズ、２０７，２１１，２１３…蛍光検出部、２０８…集光レンズ、２０９…ピンホール、２１０…結像レンズ、Ｓ…試料、ＣＡＭ…撮像装置、ＷＬ…撮影レンズ、ＥＦ…補助光発光部、ＬＭ…液晶モニタ、Ｂ１…レリーズボタン、Ｂ２…ファンクションボタン 1 ... Imaging device, 101 ... Camera body, 102 ... Lens barrel, 103 ... Lens, 104 ... Sensor chip, 105 ... Glass substrate, 106 ... Multi-chip module, 2 ... Multiphoton microscope, 201 ... Pulse laser device, 202 ... Pulse divider, 203 ... beam adjustment unit, 204,205,212 ... dichroic mirror, 206 ... objective lens, 207,211,213 ... fluorescence detection unit, 208 ... condenser lens, 209 ... pinhole, 210 ... imaging lens , S ... sample, CAM ... image pickup device, WL ... photographing lens, EF ... auxiliary light emitting unit, LM ... liquid crystal monitor, B1 ... release button, B2 ... function button

Claims

質量％で、
ＳｉＯ_２成分：１７〜３５％、
Ｂ_２Ｏ_３成分：０〜１３％、
ＺｒＯ_２成分：０〜１０％、
Ｎｂ_２Ｏ_５成分：３４〜５２％、
Ｎａ_２Ｏ成分：０〜１０％、
ＭｇＯ成分：０超〜１０％、
Ｌｉ_２Ｏ成分：０超〜１０％、
ＷＯ_３成分：０〜３％、
であり、
質量％基準で、
ＭｇＯに対するＳｉＯ_２の比（ＳｉＯ_２／ＭｇＯ）が、５〜２７．５である、
光学ガラス。 By mass%
SiO ₂ component: 17-35%,
B ₂ O ₃ component: 0 to 13%,
ZrO ₂ component: 0-10%,
Nb ₂ O ₅ component: 34-52%,
Na ₂ O component: 0-10%,
MgO component: over 0-10%,
Li ₂ O component: more than 0 to 10%,
WO ₃ component: 0-3%,
And
On a mass% basis,
The ratio of SiO ₂ to MgO _(SiO 2 / MgO) is a 5 to 27.5,
Optical glass.

質量％で、
Ｔａ_２Ｏ_５成分：０〜６％、
ＺｎＯ成分：０〜８％、
ＢａＯ成分：０〜３％、
Ａｌ_２Ｏ_３成分：０〜２％、
Ｋ_２Ｏ成分：０〜７％、
ＴｉＯ_２成分：０〜１０％、
Ｓｂ_２Ｏ_３成分：０〜１％、
である、
請求項１に記載の光学ガラス。 By mass%
Ta ₂ O ₅ component: 0-6%,
ZnO component: 0-8%,
BaO component: 0-3%,
Al ₂ O ₃ component: 0-2%,
K ₂ O ingredients: 0-7%,
TiO ₂ component: 0-10%,
Sb ₂ O ₃ component: 0 to 1%,
Is,
The optical glass according to claim 1.

Ｔａ_２Ｏ_５成分を実質的に含有しない、
請求項１又は２に記載の光学ガラス。 Substantially free of Ta ₂ O _{5 component,}
The optical glass according to claim 1 or 2.

ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が、１．７１〜１．９０である、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学ガラス。 the refractive index at the d-line _{(n d)} is a 1.71 to 1.90,
The optical glass according to any one of claims 1 to 3.

アッベ数（ν_ｄ）が、２４〜３４である、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学ガラス。 The Abbe number (ν _d ) is 24-34,
The optical glass according to any one of claims 1 to 4.

異常分散性を示す値（ΔＰ_ｇ，Ｆ）が、０．０１００以下である、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学ガラス。 The value (ΔP _{g, F} ) indicating the anomalous dispersibility is 0.0100 or less.
The optical glass according to any one of claims 1 to 5.

部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）が、０．６１３以下である、
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学ガラス。 The partial dispersion ratio (P _{g, F} ) is 0.613 or less.
The optical glass according to any one of claims 1 to 6.

比重（Ｓ_ｇ）が、３．７５以下である、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学ガラス。 Specific gravity (S _g ) is 3.75 or less,
The optical glass according to any one of claims 1 to 7.

ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が、５６０℃以下である、
請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学ガラス。 The glass transition temperature (T _g ) is 560 ° C. or lower.
The optical glass according to any one of claims 1 to 8.

前記光学ガラスの原料５０ｇを１３４０〜１４００℃の温度で加熱したときの前記原料が融解するまでの時間が、１５分未満である、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学ガラス。 When 50 g of the raw material of the optical glass is heated at a temperature of 1340 to 1400 ° C., the time until the raw material melts is less than 15 minutes.
The optical glass according to any one of claims 1 to 9.

前記光学ガラスの原料５０ｍｇを７００℃から昇温速度２０℃／分で１３００℃まで加熱したときの１０００〜１３００℃の間の揮発減量が、０．５１ｍｇ以下である、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学ガラス。 When 50 mg of the raw material of the optical glass is heated from 700 ° C. to 1300 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min, the volatilization loss between 1000 and 1300 ° C. is 0.51 mg or less.
The optical glass according to any one of claims 1 to 10.

前記光学ガラスの原料５０ｍｇを７００℃から昇温速度２０℃／分で１３００℃まで加熱したときの１２００〜１３００℃の間の揮発減量が、０．４３ｍｇ以下である、
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学ガラス。 When 50 mg of the raw material of the optical glass is heated from 700 ° C. to 1300 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min, the volatilization loss between 1200 and 1300 ° C. is 0.43 mg or less.
The optical glass according to any one of claims 1 to 11.

質量％基準で、
ＭｇＯに対するＢ_２Ｏ_３の比（Ｂ_２Ｏ_３／ＭｇＯ）が、０〜５である、
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の光学ガラス。 On a mass% basis,
The ratio of _B 2 _{O 3} with respect to _{_{MgO (B 2 O 3 / MgO}} ) is from 0 to 5,
The optical glass according to any one of claims 1 to 12.

質量％基準で、
ＭｇＯに対するＳｉＯ_２とＢ_２Ｏ_３との和の比（（ＳｉＯ_２＋Ｂ_２Ｏ_３）／ＭｇＯ）が、８〜３９である、
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の光学ガラス。 On a mass% basis,
The ratio of the sum of SiO ₂ and B ₂ O ₃ _{to MgO ((SiO 2} + B ₂ O ₃ ) / MgO) is 8 to 39.
The optical glass according to any one of claims 1 to 13.

質量％基準で、
ＭｇＯに対するＬｉ_２Ｏの比（Ｌｉ_２Ｏ／ＭｇＯ）が、０．１〜３．７である、
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の光学ガラス。 On a mass% basis,
The ratio of Li ₂ O with respect to MgO _(Li 2 O / MgO) is a 0.1 to 3.7,
The optical glass according to any one of claims 1 to 14.

質量％基準で、
ＭｇＯとＢａＯとＳｒＯとＣａＯとの和に対するＭｇＯの比（ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＣａＯ））が、０．３５〜１．０である、
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の光学ガラス。 On a mass% basis,
The ratio of MgO to the sum of MgO, BaO, SrO and CaO (MgO / (MgO + BaO + SrO + CaO)) is 0.35 to 1.0.
The optical glass according to any one of claims 1 to 15.

質量％基準で、
ＭｇＯに対するＮｂ_２Ｏ_５とＴｉＯ_２との和の比（（Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）／ＭｇＯ）が、５〜６０である、
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の光学ガラス。 On a mass% basis,
The ratio of the sum of Nb ₂ O ₅ and TiO ₂ _{to MgO ((Nb 2} O ₅ + TiO ₂ ) / MgO) is 5 to 60.
The optical glass according to any one of claims 1 to 16.

質量％で、
Ｌａ_２Ｏ_３とＧｄ_２Ｏ_３とＹ_２Ｏ_３とＬｕ_２Ｏ_３との和（Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｇｄ_２Ｏ_３＋Ｙ_２Ｏ_３＋Ｌｕ_２Ｏ_３）が、０〜３％である、
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の光学ガラス。 By mass%
The sum of La ₂ O ₃ and Gd ₂ O ₃ and Y ₂ O ₃ and Lu ₂ O ₃ _{(La 2} O ₃ + Gd ₂ O ₃ + Y ₂ O ₃ + Lu ₂ O ₃ ) is 0 to 3%.
The optical glass according to any one of claims 1 to 17.

質量％で、
ＣａＯとＳｒＯとＢａＯとの和から、ＭｇＯを引いた値（（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）−ＭｇＯ）が、１％以下である、
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の光学ガラス。 By mass%
The value obtained by subtracting MgO from the sum of CaO, SrO and BaO ((CaO + SrO + BaO) -MgO) is 1% or less.
The optical glass according to any one of claims 1 to 18.

請求項１〜１９のいずれか一項に記載の光学ガラスを用いた光学素子。 An optical element using the optical glass according to any one of claims 1 to 19.

請求項２０に記載の光学素子を含む光学系。 An optical system including the optical element according to claim 20.

請求項２１に記載の光学系を備える交換レンズ。 An interchangeable lens comprising the optical system according to claim 21.

請求項２１に記載の光学系を備える光学装置。 An optical device comprising the optical system according to claim 21.

前記光学ガラスの原料を１３４０〜１４００℃で加熱する工程を少なくとも含み、かつ、
前記光学ガラスの原料５０ｇを１３４０〜１４００℃の温度で加熱したときの前記原料５０ｇが融解するまでの時間が、１５分未満である、
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の光学ガラスの製造方法。 At least a step of heating the raw material of the optical glass at 1340 to 1400 ° C. is included, and
When 50 g of the raw material of the optical glass is heated at a temperature of 1340 to 1400 ° C., the time until the raw material 50 g melts is less than 15 minutes.
The method for producing an optical glass according to any one of claims 1 to 19.