JP2024092708A - Optical glass, optical elements, interchangeable lenses for cameras, objective lenses for microscopes, cemented lenses, optical systems, and optical devices - Google Patents

Abstract

【課題】高い屈折率、低い部分分散比を有する光学ガラスを提供する。【解決手段】質量％で、ＳｉＯ２含有率：１５％以上３０％以下、Ｎａ２Ｏ含有率：０％よりも大きく１０％以下、Ｋ２Ｏ含有率：０％よりも大きく１５％以下、Ｎｂ２Ｏ５含有率：３５％以上６５％以下、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率（ΣＲＯ：Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）：０％よりも大きく２０％以下であり、Ｂ２Ｏ３を実質的に含有しない、光学ガラス。【選択図】図１[Problem] To provide an optical glass having a high refractive index and a low partial dispersion ratio. [Solution] The optical glass has, in mass %, a SiO2 content of 15% or more and 30% or less, a Na2O content of more than 0% and 10% or less, a K2O content of more than 0% and 15% or less, a Nb2O5 content of 35% or more and 65% or less, a total content of MgO, CaO, SrO and BaO (ΣRO: R = Mg, Ca, Sr, Ba): more than 0% and 20% or less, and is substantially free of B2O3. [Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、光学ガラス、光学素子、カメラ用交換レンズ、顕微鏡用対物レンズ、接合レンズ、光学系、及び光学装置に関する。 The present invention relates to optical glass, optical elements, interchangeable lenses for cameras, objective lenses for microscopes, cemented lenses, optical systems, and optical devices.

様々な用途のため、高い屈折率、低い部分分散比を有する光学ガラスが求められている。 For various applications, optical glass with a high refractive index and low partial dispersion ratio is required.

特開２０１１－１２１８３３号公報JP 2011-121833 A

本発明の一つの態様は、質量％で、ＳｉＯ_２含有率：１５％以上３０％以下、Ｎａ_２Ｏ含有率：０％よりも大きく１０％以下、Ｋ_２Ｏ含有率：０％よりも大きく１５％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：３５％以上６５％以下、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率（ΣＲＯ：式中、Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）：０％よりも大きく２０％以下であり、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しない、光学ガラス。 One aspect of the present invention is an optical glass having, in mass%, a _SiO2 content of 15% or more and 30% or less, a _Na2O content of more than 0% and 10% or less, a _K2O content of more than 0% and 15% or less, _{a Nb2O5} content of 35% or more and 65% or less, a total content of MgO, CaO, SrO and BaO (ΣRO: _in the formula, R = Mg, Ca, Sr, Ba): more than 0% and 20% or less, and substantially no _B2O3 .

本発明の他の態様は、上述の光学ガラスを用いた光学素子である。 Another aspect of the present invention is an optical element using the optical glass described above.

本発明の他の態様は、上述の光学素子を含む、光学系である。 Another aspect of the present invention is an optical system including the optical element described above.

本発明の他の態様は、上述の光学系を含む、顕微鏡用対物レンズである。 Another aspect of the present invention is a microscope objective lens that includes the optical system described above.

本発明の他の態様は、上述の光学系を含む、カメラ用交換レンズである。 Another aspect of the present invention is an interchangeable lens for a camera that includes the optical system described above.

本発明の他の態様は、上述の光学系を含む、光学装置である。 Another aspect of the present invention is an optical device including the optical system described above.

本発明に係る他の態様は、第一のレンズ要素と第二のレンズ要素とを有し、第一のレンズ要素と第二のレンズ要素の少なくとも１つは、上述の光学ガラスである、接合レンズである。 Another aspect of the present invention is a cemented lens having a first lens element and a second lens element, at least one of which is the optical glass described above.

本発明に係る他の態様は、上述の接合レンズを含む、光学系である。 Another aspect of the present invention is an optical system that includes the above-mentioned cemented lens.

本発明に係る他の態様は、上述の接合レンズを含む光学系を含む、顕微鏡用対物レンズである。 Another aspect of the present invention is a microscope objective lens that includes an optical system that includes the cemented lens described above.

本発明に係る他の態様は、上述の接合レンズを含む光学系を含む、カメラ用交換レンズである。 Another aspect of the present invention is an interchangeable lens for a camera, which includes an optical system including the cemented lens described above.

本発明に係る他の態様は、上述の接合レンズを含む光学系を含む、光学装置である。 Another aspect of the present invention is an optical device that includes an optical system that includes the cemented lens described above.

本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example in which the optical device according to the present embodiment is used as an imaging device. 本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした他の例を示す概略図であり、撮像装置の正面図である。FIG. 13 is a schematic diagram showing another example in which the optical device according to the present embodiment is used as an imaging device, and is a front view of the imaging device. 本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした他の例を示す概略図であり、撮像装置の背面図である。FIG. 13 is a schematic diagram showing another example in which the optical device according to the present embodiment is used as an imaging device, and is a rear view of the imaging device. 本実施形態に係る多光子顕微鏡の構成の一例の示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an example of the configuration of a multiphoton microscope according to an embodiment of the present invention. 本実施形態に係る接合レンズの一例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a cemented lens according to the present embodiment. 本実施形態に係る光学ガラスの各実施例のｎ_ｄとν_ｄをプロットしたグラフである。2 is a graph plotting n _d and v _d for each example of the optical glass according to the present embodiment. 本実施形態に係る光学ガラスの各実施例のＰ_ｇ，Ｆとν_ｄをプロットしたグラフである。1 is a graph plotting Pg _{, F} and _vd for each example of the optical glass according to the present embodiment.

以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」という。）について説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜に変形して実施できる。 The following describes an embodiment of the present invention (hereinafter, referred to as "the present embodiment"). The following embodiment is an example for explaining the present invention, and is not intended to limit the present invention to the following content. The present invention can be practiced with appropriate modifications within the scope of its gist.

なお、Ｑ含有率が「０～Ｎ％」という表現は、Ｑ成分を含まない場合及び、Ｑ成分が０％を超えてＮ％以下である場合を含む表現である。 Note that the expression "0-N%" Q content includes cases where the Q component is not included and cases where the Q component is greater than 0% and equal to or less than N%.

また、「Ｑ成分を含まない」という表現は、このＱ成分を実質的に含まないことを意味し、この構成成分の含有率が不純物レベル程度以下であることを指す。不純物レベル程度以下とは、例えば、０．０１％未満であることを意味する。 The expression "does not contain Q component" means that the Q component is substantially not contained, and indicates that the content of this component is at or below the impurity level. At or below the impurity level means, for example, less than 0.01%.

また、「耐失透安定性」という表現は、ガラスの失透に対する耐性のことを意味する。ここで「失透」とは、ガラスをガラス転移温度以上に昇温した際、あるいは融液状態から液相温度以下に降温した際に生じる結晶化又は分相等により、ガラスの透明性が失われる現象のことを意味する。 The expression "devitrification resistance" refers to the resistance of glass to devitrification. Here, "devitrification" refers to the phenomenon in which glass loses transparency due to crystallization or phase separation that occurs when glass is heated to above its glass transition temperature, or when it is cooled from a molten state to below its liquidus temperature.

以下、本実施形態に係る光学ガラスの組成、物性、及びそれらの用途について説明する。 The composition, physical properties, and applications of the optical glass according to this embodiment are described below.

＜光学ガラスの組成＞
本実施形態に係る光学ガラスは、質量％で、ＳｉＯ_２含有率：１５％以上３０％以下、Ｎａ_２Ｏ含有率：０％よりも大きく１０％以下、Ｋ_２Ｏ含有率：０％よりも大きく１５％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：３５％以上６５％以下、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率（ΣＲＯ：式中、Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）：０％よりも大きく２０％以下であり、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しない、光学ガラスである。 <Composition of optical glass>
The optical glass according to this embodiment has, in mass %, a _SiO2 content of 15% or more and 30% or less, a _Na2O content of more than 0% and 10% or less, a _K2O content of more than 0% and 15% or less, _{a Nb2O5} content of 35% or more and 65% or less, a total content of MgO, CaO, SrO and BaO (ΣRO: in the formula, R = Mg, Ca, Sr, Ba): more than 0% and 20% or less, and is optical glass _that does not substantially contain _B2O3 .

ＳｉＯ_２は、ガラス骨格を形成し、化学的耐久性を向上させる成分であるが、その含有率が高すぎると、ガラスを高屈折率とすることが難しくなってしまう。かかる観点から、ＳｉＯ_２の含有率は、１５％以上３０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは１７％であり、より好ましくは１９％であり、更に好ましくは２０％である。また、この含有率の上限は、好ましく２９．５％であり、より好ましくは２９．０％であり、更に好ましくは２８．５％である。 _SiO2 is a component that forms the glass skeleton and improves chemical durability, but if its content is too high, it becomes difficult to make the glass have a high refractive index. From this viewpoint, the _SiO2 content is 15% or more and 30% or less. The lower limit of this content is preferably 17%, more preferably 19%, and even more preferably 20%. The upper limit of this content is preferably 29.5%, more preferably 29.0%, and even more preferably 28.5%.

Ｎａ_２Ｏは、原料の熔融性を高め、Ｐ_ｇ，Ｆを低下させる成分である。この含有率が高すぎると、高屈折率とすることが困難となり、耐失透安定性も低下してしまう。かかる観点から、Ｎａ_２Ｏの含有率は、０％より大きく１０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有率の上限は、好ましくは９％であり、より好ましくは８％であり、更に好ましくは７％である。 Na ₂ O is a component that increases the melting property of the raw material and decreases Pg _,F . If the content is too high, it becomes difficult to achieve a high refractive index, and the stability against devitrification also decreases. From this viewpoint, the content of Na ₂ O is greater than 0% and less than or equal to 10%. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 9%, more preferably 8%, and even more preferably 7%.

Ｋ_２Ｏは、ガラスの屈折率を高め、ガラス原料の熔融性を向上させる成分であるが、その含有率が高すぎるとＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させてしまう。かかる観点から、Ｋ_２Ｏの含有率は、０％より大きく１５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは１％であり、より好ましくは２％であり、更に好ましく３％である。また、この含有率の上限は、好ましくは１４％であり、好ましくは１３％であり、更に好ましくは１２％である。 K ₂ O is a component that increases the refractive index of glass and improves the melting property of glass raw materials, but if its content is too high, it significantly increases Pg _,F . From this viewpoint, the content of K ₂ O is greater than 0% and less than or equal to 15%. The lower limit of this content is preferably 1%, more preferably 2%, and even more preferably 3%. The upper limit of this content is preferably 14%, preferably 13%, and even more preferably 12%.

Ｎｂ_２Ｏ_５は、屈折率を高め、ガラスを高分散化させる成分であるが、この含有率が低すぎると、高屈折率、高分散とすることが困難となってしまう。また、この含有率が高すぎると、耐失透安定性が低下してしまう。かかる観点から、Ｎｂ_２Ｏ_５の含有率は、３５％以上６５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは３７％であり、より好ましくは３９％であり、更に好ましくは４０％である。また、この含有率の上限は、好ましくは６４％であり、より好ましくは６３％であり、更に好ましくは６２％である。 Nb ₂ O ₅ is a component that increases the refractive index and makes the glass highly dispersible, but if the content is too low, it becomes difficult to achieve a high refractive index and high dispersion. If the content is too high, the stability against devitrification decreases. From this viewpoint, the content of Nb ₂ O ₅ is 35% or more and 65% or less. The lower limit of this content is preferably 37%, more preferably 39%, and even more preferably 40%. The upper limit of this content is preferably 64%, more preferably 63%, and even more preferably 62%.

Ｂ_２Ｏ_３は、ガラス骨格を形成する成分であるが、高温熔解下では揮発してしまう。かかる観点から、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないことが好ましい。 B ₂ O ₃ is a component that forms the glass network, but volatilizes when melted at high temperatures, so it is preferable that the glass does not substantially contain B ₂ O ₃ .

本実施形態に係る光学ガラスは、任意成分として、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｌｉ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、ＷＯ_３、及びＳｂ_２Ｏ_３からなる群より選ばれる１種以上を更に含有することが好ましい。 The optical glass according to this embodiment preferably further contains, as an optional component, one or more selected from the group consisting of MgO, _CaO , SrO, BaO, _Li2O , _Al2O3 , _TiO2 , ZnO, _ZrO2 , _WO3 , and _{Sb2O3 .}

ＭｇＯは、Ｐ_ｇ，Ｆを増大させずにガラスの耐失透安定性を高める成分である。ＭｇＯを含まない場合、ガラスの耐失透安定性が低下し、高屈折率とすることが困難になってしまう。また、この含有率が高すぎると、ガラスを高分散とすることが困難になってしまう。かかる観点から、ＭｇＯの含有率は、０％以上１０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有率の上限は、好ましくは９％であり、より好ましくは８％であり、更に好ましくは７％である。 MgO is a component that enhances the devitrification resistance stability of the glass without increasing Pg _,F . If MgO is not contained, the devitrification resistance stability of the glass decreases, and it becomes difficult to achieve a high refractive index. Moreover, if the content is too high, it becomes difficult to achieve high dispersion of the glass. From this viewpoint, the content of MgO is 0% or more and 10% or less. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 9%, more preferably 8%, and even more preferably 7%.

ＣａＯは、ガラスの恒数調整に有効な成分である。かかる観点から、ＣａＯの含有率は、０％以上１０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有率の上限は、好ましくは９％であり、より好ましくは８％であり、更に好ましくは７％である。 CaO is an effective component for adjusting the constants of glass. From this perspective, the CaO content is 0% or more and 10% or less. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 9%, more preferably 8%, and even more preferably 7%.

ＳｒＯは、ガラスの恒数調整に有効な成分である。かかる観点から、ＳｒＯの含有率は、０％以上５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有率の上限は、好ましくは４．５％であり、より好ましくは４．０％であり、更に好ましくは３．５％である。 SrO is an effective component for adjusting the constants of glass. From this perspective, the SrO content is 0% or more and 5% or less. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 4.5%, more preferably 4.0%, and even more preferably 3.5%.

ＢａＯは、ガラスの屈折率を高める成分であるが、その含有率が高すぎるとＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させてしまう。かかる観点から、ＢａＯの含有率は、０％以上１５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは１％であり、より好ましくは２％であり、更に好ましくは３％である。また、この含有率の上限は、好ましくは１４％であり、より好ましくは１３％であり、更に好ましくは１２％である。 BaO is a component that increases the refractive index of glass, but if its content is too high, it will significantly increase Pg _,F . From this perspective, the BaO content is 0% or more and 15% or less. The lower limit of this content is preferably 1%, more preferably 2%, and even more preferably 3%. The upper limit of this content is preferably 14%, more preferably 13%, and even more preferably 12%.

耐失透安定性の観点から、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率（ΣＲＯ：式中、Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）は、０％より大きく２０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは１％であり、より好ましくは２％であり、更に好ましくは３％である。また、この含有率の上限は、好ましくは１９％であり、より好ましくは１８％であり、更に好ましくは１７％である。 From the viewpoint of resistance to devitrification, the total content of MgO, CaO, SrO and BaO (ΣRO: where R = Mg, Ca, Sr, Ba) is greater than 0% and less than or equal to 20%. The lower limit of this content is preferably 1%, more preferably 2%, and even more preferably 3%. The upper limit of this content is preferably 19%, more preferably 18%, and even more preferably 17%.

Ｌｉ_２Ｏは、ガラスの屈折率を高め、ガラス原料の熔融性を向上させる成分であるが、その含有率が高すぎると、耐失透安定性が低下してしまう。かかる観点から、Ｌｉ_２Ｏの含有率は、０％以上１０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有率の上限は、好ましくは９％であり、より好ましくは８％であり、更に好ましくは７％である。 Li ₂ O is a component that increases the refractive index of glass and improves the melting property of glass raw materials, but if its content is too high, the devitrification resistance stability decreases. From this viewpoint, the content of Li ₂ O is 0% or more and 10% or less. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 9%, more preferably 8%, and even more preferably 7%.

Ａｌ_２Ｏ_３は、ガラスを高分散化し、化学的耐久性を向上させる成分であるが、その含有率が高すぎるとＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させてしまう。かかる観点から、Ａｌ_２Ｏ_３の含有率は、０％以上５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．２％であり、より好ましくは０．４％であり、更に好ましくは０．６％である。また、この含有率の上限は、好ましくは４％であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは２％である。 Al ₂ O ₃ is a component that disperses glass and improves chemical durability, but if its content is too high, it will significantly increase Pg _,F . From this perspective, the content of Al ₂ O ₃ is 0% or more and 5% or less. The lower limit of this content is preferably 0.2%, more preferably 0.4%, and even more preferably 0.6%. The upper limit of this content is preferably 4%, more preferably 3%, and even more preferably 2%.

ＴｉＯ_２は、ガラスの屈折率を高め、高分散化させる成分であるが、その含有率が高すぎるとＰ_ｇ，Ｆを大きく増加させ、透過率も悪化させてしまう。かかる観点から、ＴｉＯ_２の含有率は、０％以上５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．２％であり、より好ましくは０．４％であり、更に好ましくは０．６％である。また、この含有率の上限は、好ましくは４％であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは２％である。 _TiO2 is a component that increases the refractive index of glass and makes it highly dispersed, but if its content is too high, it significantly increases Pg _,F and also deteriorates the transmittance. From this viewpoint, the content of _TiO2 is 0% or more and 5% or less. The lower limit of this content is preferably 0.2%, more preferably 0.4%, and even more preferably 0.6%. The upper limit of this content is preferably 4%, more preferably 3%, and even more preferably 2%.

ＺｎＯは、ガラスの屈折率を高め、耐失透安定性を一層向上させる成分である。かかる観点から、ＺｎＯの含有率は、０％以上１０％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．５％であり、より好ましくは１．０％であり、更に好ましくは１．５％である。また、この含有率の上限は、好ましくは９％であり、より好ましくは８％であり、更に好ましくは７％である。 ZnO is a component that increases the refractive index of the glass and further improves the stability against devitrification. From this perspective, the ZnO content is 0% or more and 10% or less. The lower limit of this content is preferably 0.5%, more preferably 1.0%, and even more preferably 1.5%. The upper limit of this content is preferably 9%, more preferably 8%, and even more preferably 7%.

ＺｒＯ_２は、ガラスの屈折率を高め、高分散とする成分であるとともに、Ｐ_ｇ，Ｆを低下させる効果を有する。この含有率が高すぎると、ガラス原料の熔融性や耐失透安定性を低下させてしまう。かかる観点から、ＺｒＯ_２の含有率は、０％以上５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．２％であり、より好ましくは０．４％であり、更に好ましくは０．６％である。また、この含有率の上限は、好ましくは４％であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは２％である。 _ZrO2 is a component that increases the refractive index of glass and makes it highly dispersed, and also has the effect of lowering Pg _,F . If the content is too high, the melting property and devitrification resistance stability of the glass raw material are reduced. From this viewpoint, the content of _ZrO2 is 0% or more and 5% or less. The lower limit of this content is preferably 0.2%, more preferably 0.4%, and even more preferably 0.6%. The upper limit of this content is preferably 4%, more preferably 3%, and even more preferably 2%.

ＷＯ_３は、ガラスの屈折率を高め、高分散化させるとともに、耐失透安定性を一層向上させる成分である。かかる観点から、ＷＯ_３の含有率は、０％以上５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．２％であり、より好ましくは０．４％であり、更に好ましくは０．６％である。また、この含有率の上限は、好ましくは４％であり、より好ましくは３％であり、更に好ましくは２％である。 _WO3 is a component that increases the refractive index of the glass, highly disperses the glass, and further improves the stability against devitrification. From this viewpoint, the content of _WO3 is 0% or more and 5% or less. The lower limit of this content is preferably 0.2%, more preferably 0.4%, and even more preferably 0.6%. The upper limit of this content is preferably 4%, more preferably 3%, and even more preferably 2%.

Ｓｂ_２Ｏ_３は、ガラスを清澄する脱泡剤として機能する成分であるが、その含有率が高すぎると透過率を低下させてしまう。かかる観点から、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有率は、０％以上１％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは０．０１％であり、より好ましくは０．０２％であり、更に好ましくは０．０３％である。また、この含有率の上限は、好ましくは０．８０％であり、より好ましくは０．６０％であり、更に好ましくは０．４０％である。 Sb ₂ O ₃ is a component that functions as a defoaming agent to clarify glass, but if its content is too high, it reduces the transmittance. From this viewpoint, the content of Sb ₂ O ₃ is 0% or more and 1% or less. The lower limit of this content is preferably 0.01%, more preferably 0.02%, and even more preferably 0.03%. The upper limit of this content is preferably 0.80%, more preferably 0.60%, and even more preferably 0.40%.

ガラスの熔融性を調整する観点から、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ：式中、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）は、５％以上１５％以下である。そして、この含有率の下限は、好ましくは６％であり、より好ましくは７％であり、更に好ましくは８％である。また、この含有率の上限は、好ましくは１４％であり、より好ましくは１３％であり、更に好ましくは１２％である。 From the viewpoint of adjusting the meltability of the glass, the total content of _Li2O , _Na2O and _K2O ( _ΣA2O : where A = Li, Na, K) is 5% or more and 15% or less. The lower limit of this content is preferably 6%, more preferably 7%, and even more preferably 8%. The upper limit of this content is preferably 14%, more preferably 13%, and even more preferably 12%.

熔融性の調整及び耐失透安定性の観点から、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ：式中、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）に対するＳｉＯ_２及びＮｂ_２Ｏ_５の総含有率（ＳｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）の比（ＳｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）／ΣＡ_２Ｏは、５．８以上９．４以下である。そして、この比の上限は、好ましくは９．３であり、より好ましくは９．２であり、更に好ましくは９．１である。また、この比の下限は、好ましくは５．９であり、より好ましくは６．０であり、更に好ましくは６．１である。 From the viewpoint of adjusting the melting property and the devitrification resistance stability, the ratio (SiO ₂ +Nb ₂ O ₅ )/ΣA 2 O of the total content (SiO ₂ +Nb ₂ O ₅ ) of SiO ₂ and Nb ₂ O ₅ to the total content (ΣA ₂ O: in the formula, A = Li, Na, _K ) of Li ₂ O, Na ₂ O, and K ₂ O is 5.8 or more and 9.4 or less. The upper limit of this ratio is preferably 9.3, more preferably 9.2, and even more preferably 9.1. The lower limit of this ratio is preferably 5.9, more preferably 6.0, and even more preferably 6.1.

耐失透安定性の観点から、ＳｉＯ_２の含有率に対するＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＷＯ_３の総含有率（ＴｉＯ_２＋ＺｎＯ＋ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３）の比（ＴｉＯ_２＋ＺｎＯ＋ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３）／ＳｉＯ_２は、１．５以上２．９以下である。そして、この比の上限は、好ましくは２．８であり、より好ましくは２．７であり、更に好ましくは２．６である。また、この比の下限は、好ましくは１．６であり、より好ましくは１．７であり、更に好ましくは１．８である。 From the viewpoint of devitrification resistance stability, the ratio ( _TiO2 +ZnO+ _ZrO2 + _Nb2O5 + _WO3 )/ _SiO2 of the total content of _TiO2 , ZnO, _ZrO2 , _{Nb2O5 and WO3} to the content of _SiO2 is 1.5 or _more and _2.9 or less. The upper limit of this ratio is preferably 2.8, more preferably _2.7 , and even more preferably 2.6. The lower _limit of this _{ratio is} preferably 1.6, more preferably 1.7, and even more preferably 1.8.

熔融性の調整及び耐失透安定性の観点から、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ：式中、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）に対するＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率（ΣＲＯ：式中、Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）の比ΣＲＯ／ΣＡ_２Ｏは、０．３０以上１．７６以下である。そして、この比の上限は、好ましくは１．７５であり、より好ましくは１．７４であり、更に好ましくは１．７３である。また、この比の下限は、好ましくは０．３１であり、より好ましくは０．３２であり、更に好ましくは０．３３である。 From the viewpoint of adjusting the melting property and the devitrification resistance stability, the ratio _ΣRO /ΣA ₂ O of the total content of MgO, CaO, SrO and _BaO (ΣRO: where R = Mg, Ca, Sr, Ba) to the total content of Li 2 O, Na _{2 O and K 2 O (ΣA 2 O} : where A = Li, Na, K) is 0.30 or more and 1.76 or less. The upper limit of this ratio is preferably 1.75, more preferably 1.74, and even more preferably 1.73. The lower limit of this ratio is preferably 0.31, more preferably 0.32, and even more preferably 0.33.

その他必要に応じて清澄、着色、消色、光学恒数の調整等の目的で、上述した成分以外のもので、公知の清澄剤や着色剤、脱泡剤、フッ素化合物、リン酸等の成分をガラス組成に適量添加することができる。また、上述した成分に限らず、本実施形態の効果が得られる範囲でその他の成分を添加することもできる。 Other than the above-mentioned components, known clarifiers, colorants, defoamers, fluorine compounds, phosphoric acid, and other components can be added to the glass composition in appropriate amounts for the purpose of clarifying, coloring, decoloring, adjusting optical constants, etc. as necessary. In addition to the above-mentioned components, other components can also be added within the range in which the effects of this embodiment can be obtained.

上述した各成分は、不純物の含有率が低い高純度品を原料として使用することが好ましい。例えば、ＳｉＯ_２原料、Ｎｂ_２Ｏ_５原料のうち１又は２以上について高純度品を使用することが好ましい。高純度品とは、当該成分を９９．８５質量％以上含むものである。高純度品の使用によって、不純物量が少なくなる結果、例えば、波長４００ｎｍ以下の光の内部透過率をより高くできる傾向がある。 It is preferable to use high purity products with low impurity content as raw materials for each of the above-mentioned components. For example, it is preferable to use high purity products for one or more of the _SiO2 raw material and _{Nb2O5 raw} material. A high purity product is one that contains 99.85 mass% or more of the component. By using a high purity product, the amount of impurities is reduced, and as a result, for example, the internal transmittance of light with a wavelength of 400 nm or less tends to be increased.

＜光学ガラスの物性＞
レンズの薄型化の観点からは、本実施形態に係る光学ガラスは、高い屈折率を有している（屈折率（ｎ_ｄ）が大きい）ことが望ましい。しかしながら、一般的に、屈折率（ｎ_ｄ）が高いほど透過率が低下する傾向にある。かかる観点から、本実施形態に係る光学ガラスにおけるｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）は、１．７５以上１．９５以下である。そして、屈折率（ｎ_ｄ）の下限は、好ましくは１．７６であり、より好ましくは１．７７であり、更に好ましくは１．７８である。また、屈折率（ｎ_ｄ）の上限は、好ましくは１．９３であり、より好ましくは１．９１であり、更に好ましくは１．９０である。 <Physical properties of optical glass>
From the viewpoint of making the lens thinner, it is desirable that the optical glass according to this embodiment has a high refractive index (a large refractive index (n _d )). However, in general, the higher the refractive index (n _d ), the lower the transmittance tends to be. From this viewpoint, the refractive index (n _d ) for the d line in the optical glass according to this embodiment is 1.75 or more and 1.95 or less. The lower limit of the refractive index (n _d ) is preferably 1.76, more preferably 1.77, and even more preferably 1.78. The upper limit of the refractive index (n _d ) is preferably 1.93, more preferably 1.91, and even more preferably 1.90.

光学レンズ等の収差補正の観点からは、本実施形態に係る光学ガラスは、小さなアッベ数（ν_ｄ）を有することが望ましい。かかる観点から、本実施形態に係る光学ガラスにおけるアッベ数（ν_ｄ）は、１５以上３５以下である。そして、アッベ数（ν_ｄ）の下限は、好ましくは１７であり、より好ましくは１９であり、更に好ましくは２１である。アッベ数（ν_ｄ）の上限は、好ましくは３３であり、より好ましくは３１であり、更に好ましくは２９．７である。 From the viewpoint of correcting aberrations of optical lenses and the like, it is desirable for the optical glass according to this embodiment to have a small Abbe number (ν _d ). From this viewpoint, the Abbe number (ν _d ) of the optical glass according to this embodiment is 15 or greater and 35 or less. The lower limit of the Abbe number (ν _d ) is preferably 17, more preferably 19, and even more preferably 21. The upper limit of the Abbe number (ν _d ) is preferably 33, more preferably 31, and even more preferably 29.7.

レンズの収差補正の観点からは、本実施形態に係る光学ガラスは、小さな部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）を有することが望ましいため、部分分散比の値は０．６３以下とすることが好ましい。かかる観点から、本実施形態に係る光学ガラスの部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）は、０．５８～０．６３である。そして、部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）の下限は、好ましくは０．５８５であり、より好ましくは０．５９０であり、更に好ましくは０．５９５である。また、部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）の上限は、好ましくは０．６２８であり、より好ましくは０．６２６であり、更に好ましくは０．６２４である。 From the viewpoint of lens aberration correction, it is desirable for the optical glass according to this embodiment to have a small partial dispersion ratio (P _g , _F ), and therefore the value of the partial dispersion ratio is preferably 0.63 or less. From this viewpoint, the partial dispersion ratio (P _g , _F ) of the optical glass according to this embodiment is 0.58 to 0.63. The lower limit of the partial dispersion ratio (P _g , _F ) is preferably 0.585, more preferably 0.590, and even more preferably 0.595. The upper limit of the partial dispersion ratio (P _g , _F ) is preferably 0.628, more preferably 0.626, and even more preferably 0.624.

本実施形態に係る光学ガラスは、屈折率（ｎ_ｄ）が、１．７５以上１．９５以下であり、アッベ数（ν_ｄ）が、１５以上３５以下であり、部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）が、０．５８以上０．６３以下である、という各物性を併せ持つことが好ましい。 The optical glass according to this embodiment preferably has the following physical properties: a refractive index (n _d ) of 1.75 or more and 1.95 or less, an Abbe number (ν _d ) of 15 or more and 35 or less, and a partial dispersion ratio (P _g , _F ) of 0.58 or more and 0.63 or less.

上述したように、本実施形態に係る光学ガラスは、高屈折率（屈折率（ｎ_ｄ）が大きいこと）、高分散（アッベ数（ν_ｄ）が小さいこと）でありながら、部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）を小さくすることができる。このような光学ガラスを用いると、例えば、光学レンズ等の光学素子を薄型化することができ、色収差や他の収差が良好に補正された光学系を設計することができる。 As described above, the optical glass according to this embodiment has a high refractive index (large refractive index (n _d )) and high dispersion (small Abbe number (ν _d )), while being able to reduce the partial dispersion ratio (P _g , _F ). By using such optical glass, for example, optical elements such as optical lenses can be made thinner, and an optical system can be designed in which chromatic aberration and other aberrations are well corrected.

本実施形態に係る光学ガラスは、加熱軟化工程時における成型性の確保等の観点から、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は、５５５～６５５℃である。そして、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）の下限は、好ましくは５６０℃であり、より好ましくは５６５℃であり、更に好ましくは５７０℃である。また、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）の上限は、好ましくは６５０℃であり、より好ましくは６４５℃であり、更に好ましくは６４０℃である。加熱軟化工程とは、光学ガラスを加熱して成形する（いわゆるリヒートプレス）際に、光学ガラスを加熱する工程のことを指す。 From the viewpoint of ensuring moldability during the heat-softening step, the optical glass according to this embodiment has a glass transition temperature (T _g ) of 555 to 655° C. The lower limit of the glass transition temperature (T _g ) is preferably 560° C., more preferably 565° C., and even more preferably 570° C. The upper limit of the glass transition temperature (T _g ) is preferably 650° C., more preferably 645° C., and even more preferably 640° C. The heat-softening step refers to a step of heating the optical glass when the optical glass is heated and shaped (so-called reheat press).

本実施形態に係る光学ガラスは、加熱熔融工程における重量減少率を小さくすることが望ましい。重量減少率（△Ｍ）とは、以下の式（２）：
△Ｍ＝（Ｍ_{Ｔl＋１００}－Ｍ_Ｔl）／Ｍ_Ａ×１００・・・（２）
で表され、式中、Ｍ_Ａは光学ガラスの重量、Ｍ_{Ｔｌ＋１００}は、液相温度＋１００℃における光学ガラスの重量減少量、Ｍ_Ｔｌは、液相温度における光学ガラスの重量減少量を表す。例えば、仕込の試料重量（Ｍ_Ａ）が３０ｍｇである場合、液相温度＋１００℃における試料重量が２５ｍｇであれば重量減少量Ｍ_{Ｔl＋１００}は５ｍｇであり、液相温度における試料重量が２７ｍｇであれば重量減少量Ｍ_Ｔlは３ｍｇであるので、重量減少率△Ｍは、（５ｍｇ－３ｍｇ）／３０ｍｇ×１００＝６．６７％となる。また、重量減少率△Ｍの上限は、好ましくは０．１％、より好ましくは０．０９％、さらに好ましくは、０．０８％である。なお、加熱熔融工程とは、原料調合を行い、一度熔解させてガラスフリットと呼ばれる粒状のガラスを生成した後、板状あるいはゴブ状のガラスを得るために、ガラスフリットを再熔解させる工程のことを指す。加熱熔融工程で熔解されたガラスフリットの融液は、板状あるいはゴブ状に成形された状態で冷却されて光学ガラスとなる。 It is desirable for the optical glass according to this embodiment to have a small weight loss rate during the heating and melting process. The weight loss rate (ΔM) is expressed by the following formula (2):
△M = (M _{Tl + 100} - M _Tl ) / M _A × 100 ... (2)
In the formula, M _A is the weight of the optical glass, M _Tl+100 is the weight loss of the optical glass at the liquidus temperature +100°C, and M _Tl is the weight loss of the optical glass at the liquidus temperature. For example, if the sample weight (M _A ) is 30 mg, and the sample weight at the liquidus temperature +100°C is 25 mg, the weight loss amount M _Tl+100 is 5 mg, and if the sample weight at the liquidus temperature is 27 mg, the weight loss amount M _Tl is 3 mg, so the weight loss rate ΔM is (5 mg-3 mg)/30 mg×100=6.67%. The upper limit of the weight loss rate ΔM is preferably 0.1%, more preferably 0.09%, and even more preferably 0.08%. The heat melting process refers to a process in which raw materials are mixed, melted once to produce granular glass called glass frit, and then the glass frit is melted again to obtain plate- or gob-shaped glass. The molten glass frit melted in the heat melting process is cooled in a plate- or gob-shaped state to become optical glass.

本実施形態に係る光学ガラスは、加熱熔融工程における重量減少率を小さくすることで、製造条件変動による光学性能の安定性を高めることができ、また製造過程における設備のダメージを少なくすることができる。 The optical glass according to this embodiment reduces the weight loss rate during the heating and melting process, thereby improving the stability of optical performance despite fluctuations in manufacturing conditions and reducing damage to equipment during the manufacturing process.

本実施形態に係る光学ガラスの製造方法は、特に限定されず、公知の方法を採用することができる。また、製造条件は、適宜好適な条件を選択することができる。例えば、上述した各原料に対応する酸化物、水酸化物、リン酸化合物（リン酸塩、正リン酸等）、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、及びフッ化物等を目標組成となるように調合し、好ましくは１１００～１５００℃、より好ましくは１３４０～１４００℃にて熔融し、攪拌することで均一化し、泡切れを行った後、金型に流し成型する製造方法等を採用できる。このようにして得られた光学ガラスは、必要に応じてリヒートプレス等を行って所望の形状に加工し、研磨等を施すことで、所望の光学素子とすることができる。 The method for producing the optical glass according to this embodiment is not particularly limited, and known methods can be used. In addition, suitable manufacturing conditions can be selected as appropriate. For example, oxides, hydroxides, phosphate compounds (phosphates, orthophosphates, etc.), carbonates, sulfates, nitrates, and fluorides corresponding to the above-mentioned raw materials are mixed to obtain the target composition, melted at preferably 1100 to 1500°C, more preferably 1340 to 1400°C, homogenized by stirring, and then poured into a mold for molding. The optical glass obtained in this manner can be processed into the desired shape by reheat pressing, etc. as necessary, and polished to form the desired optical element.

＜光学ガラスの用途＞
本実施形態に係る光学ガラスは、例えば、光学機器が備える光学素子として好適に用いることができる。このような光学素子には、ミラー、レンズ、プリズム、フィルタ等が含まれる。また上記光学素子が用いられる光学系としては、例えば、対物レンズ、集光レンズ、結像レンズ、カメラ用交換レンズ等が挙げられる。そして、これらの光学系は、レンズ交換式カメラ、レンズ非交換式カメラ等の撮像装置、蛍光顕微鏡や多光子顕微鏡等の顕微鏡装置の各種光学装置に好適に使用できる。かかる光学装置は、上述した撮像装置や顕微鏡に限られず、望遠鏡、双眼鏡、レーザー距離計、プロジェクタ等も含まれるが、これらに限られない。以下に、これらの一例を説明する。 <Applications of optical glass>
The optical glass according to the present embodiment can be suitably used as, for example, an optical element provided in an optical instrument. Such optical elements include mirrors, lenses, prisms, filters, and the like. Examples of optical systems in which the optical elements are used include objective lenses, condenser lenses, imaging lenses, and interchangeable lenses for cameras. These optical systems can be suitably used in various optical devices, such as imaging devices, such as interchangeable lens cameras and non-interchangeable lens cameras, and microscope devices, such as fluorescent microscopes and multiphoton microscopes. Such optical devices are not limited to the imaging devices and microscopes described above, but also include, but are not limited to, telescopes, binoculars, laser range finders, projectors, and the like. Examples of these devices are described below.

撮像装置
図１は、本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした一例を示す斜視図である。撮像装置１はいわゆるデジタル一眼レフカメラ（レンズ交換式カメラ）であり、撮影レンズ１０３（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。カメラボディ１０１のレンズマウント（不図示）にレンズ鏡筒１０２が着脱自在に取り付けられる。そして、該レンズ鏡筒１０２のレンズ１０３を通した光が、カメラボディ１０１の背面側に配置されたマルチチップモジュール１０６のセンサチップ（固体撮像素子）１０４上に結像される。このセンサチップ１０４は、いわゆるＣＭＯＳイメージセンサー等のベアチップであり、マルチチップモジュール１０６は、例えばセンサチップ１０４がガラス基板１０５上にベアチップ実装されたＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）タイプのモジュールである。 Imaging device Fig. 1 is a perspective view showing an example of an imaging device using the optical device according to the present embodiment. The imaging device 1 is a so-called digital single-lens reflex camera (lens-interchangeable camera), and a photographing lens 103 (optical system) is provided with an optical element using the optical glass according to the present embodiment as a base material. A lens barrel 102 is detachably attached to a lens mount (not shown) of a camera body 101. Then, light passing through a lens 103 of the lens barrel 102 is imaged on a sensor chip (solid-state imaging element) 104 of a multi-chip module 106 arranged on the rear side of the camera body 101. The sensor chip 104 is a bare chip such as a so-called CMOS image sensor, and the multi-chip module 106 is, for example, a COG (Chip On Glass) type module in which the sensor chip 104 is bare-chip mounted on a glass substrate 105.

図２及び図３は、本実施形態に係る光学装置を撮像装置とした他の例を示す概略図である。図２は、撮像装置ＣＡＭの正面図を示し、図３は、撮像装置ＣＡＭの背面図を示す。撮像装置ＣＡＭはいわゆるデジタルスチルカメラ（レンズ非交換式カメラ）であり、撮影レンズＷＬ（光学系）は本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。 Figures 2 and 3 are schematic diagrams showing another example in which the optical device according to this embodiment is used as an imaging device. Figure 2 shows a front view of the imaging device CAM, and Figure 3 shows a rear view of the imaging device CAM. The imaging device CAM is a so-called digital still camera (a camera with non-interchangeable lenses), and the photographing lens WL (optical system) is equipped with an optical element whose base material is the optical glass according to this embodiment.

撮像装置ＣＡＭは、電源ボタン（不図示）を押すと、撮影レンズＷＬのシャッタ（不図示）が開放されて、撮影レンズＷＬで被写体（物体）からの光が集光され、像面に配置された撮像素子に結像される。撮像素子に結像された被写体像は、撮像装置ＣＡＭの背後に配置された液晶モニターＭに表示される。撮影者は、液晶モニターＭを見ながら被写体像の構図を決めた後、レリーズボタンＢ１を押し下げて被写体像を撮像素子で撮像し、メモリー（不図示）に記録保存する。 When the power button (not shown) of the imaging device CAM is pressed, the shutter (not shown) of the taking lens WL is opened, and light from the subject (object) is collected by the taking lens WL and focused on the imaging element arranged on the image plane. The subject image focused on the imaging element is displayed on the LCD monitor M arranged behind the imaging device CAM. After the photographer decides on the composition of the subject image while looking at the LCD monitor M, he or she presses the release button B1 to capture the subject image with the imaging element, which is then recorded and saved in memory (not shown).

撮像装置ＣＡＭには、被写体が暗い場合に補助光を発光する補助光発光部ＥＦ、撮像装置ＣＡＭの種々の条件設定等に使用するファンクションボタンＢ２等が配置されている。 The imaging device CAM is equipped with an auxiliary light emitting unit EF that emits auxiliary light when the subject is dark, a function button B2 that is used to set various conditions for the imaging device CAM, etc.

このようなデジタルカメラ等に用いられる光学系には、より高い解像度、低い色収差、小型化が求められる。これらを実現するには光学系に分散特性が互いに異なるガラスを用いることが有効である。特に、低分散でありながらより高い部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）を有するガラスの需要は高い。このような観点から、本実施形態に係る光学ガラスは、かかる光学機器の部材として好適である。なお、本実施形態において適用可能な光学機器としては、上述した撮像装置に限らず、例えばプロジェクタ等も挙げられる。光学素子についても、レンズに限らず、例えばプリズム等も挙げられる。 Optical systems used in such digital cameras and the like are required to have higher resolution, lower chromatic aberration, and smaller size. To achieve these, it is effective to use glasses with different dispersion characteristics in the optical system. In particular, there is a high demand for glasses that have low dispersion and a higher partial dispersion ratio (P _g , _F ). From this perspective, the optical glass according to this embodiment is suitable as a component of such optical equipment. Note that optical equipment applicable to this embodiment is not limited to the above-mentioned imaging device, but also includes, for example, a projector. Optical elements are also not limited to lenses, but also include, for example, a prism.

顕微鏡
図４は、本実施形態に係る多光子顕微鏡２の構成の例を示すブロック図である。多光子顕微鏡２は、対物レンズ２０６、集光レンズ２０８、結像レンズ２１０を備える。対物レンズ２０６、集光レンズ２０８、結像レンズ２１０のうち少なくとも１つは、本実施形態に係る光学ガラスを母材とする光学素子を備えたものである。以下、多光子顕微鏡２の光学系を中心に説明する。 Microscope Fig. 4 is a block diagram showing an example of the configuration of a multiphoton microscope 2 according to this embodiment. The multiphoton microscope 2 includes an objective lens 206, a condenser lens 208, and an imaging lens 210. At least one of the objective lens 206, the condenser lens 208, and the imaging lens 210 includes an optical element having the optical glass according to this embodiment as a base material. The following description will focus on the optical system of the multiphoton microscope 2.

パルスレーザ装置２０１は、例えば、近赤外波長（約１０００ｎｍ）であって、パルス幅がフェムト秒単位の（例えば、１００フェムト秒の）超短パルス光を射出する。パルスレーザ装置２０１から射出された直後の超短パルス光は、一般に所定の方向に偏光された直線偏光となっている。 The pulsed laser device 201 emits ultrashort pulsed light, for example, with a near-infrared wavelength (approximately 1000 nm) and a pulse width in femtosecond units (e.g., 100 femtoseconds). The ultrashort pulsed light immediately after being emitted from the pulsed laser device 201 is generally linearly polarized in a predetermined direction.

パルス分割装置２０２は、超短パルス光を分割し、超短パルス光の繰り返し周波数を高くして射出する。 The pulse splitting device 202 splits the ultrashort pulse light and emits the ultrashort pulse light with a higher repetition frequency.

ビーム調整部２０３は、パルス分割装置２０２から入射される超短パルス光のビーム径を、対物レンズ２０６の瞳径に合わせて調整する機能、試料Ｓから発せられる光の波長と超短パルス光の波長との軸上の色収差（ピント差）を補正するために超短パルス光の集光及び発散角度を調整する機能、超短パルス光のパルス幅が光学系を通過する間に群速度分散により広がってしまうのを補正するために、逆の群速度分散を超短パルス光に与えるプリチャープ機能（群速度分散補償機能）等を有する。 The beam adjustment unit 203 has a function of adjusting the beam diameter of the ultrashort pulse light incident from the pulse splitter 202 to match the pupil diameter of the objective lens 206, a function of adjusting the focusing and divergence angles of the ultrashort pulse light to correct the axial chromatic aberration (focus difference) between the wavelength of the light emitted from the sample S and the wavelength of the ultrashort pulse light, and a pre-chirp function (group velocity dispersion compensation function) of giving the ultrashort pulse light an inverse group velocity dispersion to correct the pulse width of the ultrashort pulse light being widened by group velocity dispersion while passing through the optical system.

パルスレーザ装置２０１から射出された超短パルス光は、パルス分割装置２０２によりその繰り返し周波数が大きくされ、ビーム調整部２０３により上記した調整が行われる。そして、ビーム調整部２０３から射出された超短パルス光は、ダイクロイックミラー２０４によりダイクロイックミラーの方向に反射され、ダイクロイックミラー２０５を通過し、対物レンズ２０６により集光されて試料Ｓに照射される。このとき、走査手段（不図示）を用いることにより、超短パルス光を試料Ｓの観察面上に走査させてもよい。 The repetition frequency of the ultrashort pulsed light emitted from the pulsed laser device 201 is increased by the pulse division device 202, and the above-mentioned adjustment is performed by the beam adjustment unit 203. The ultrashort pulsed light emitted from the beam adjustment unit 203 is then reflected in the direction of the dichroic mirror by the dichroic mirror 204, passes through the dichroic mirror 205, and is focused by the objective lens 206 to be irradiated onto the sample S. At this time, the ultrashort pulsed light may be scanned over the observation surface of the sample S by using a scanning means (not shown).

例えば、試料Ｓを蛍光観察する場合、試料Ｓの超短パルス光の被照射領域及びその近傍では、試料Ｓが染色されている蛍光色素が多光子励起され、赤外波長である超短パルス光より波長が短い蛍光（以下、「観察光」という。）が発せられる。 For example, when observing the fluorescence of sample S, the fluorescent dye with which sample S is stained undergoes multiphoton excitation in the area of sample S irradiated with the ultrashort pulsed light and in its vicinity, emitting fluorescence (hereinafter referred to as "observation light") with a wavelength shorter than that of the ultrashort pulsed light, which is an infrared wavelength.

試料Ｓから対物レンズ２０６の方向に発せられた観察光は、対物レンズ２０６によりコリメートされ、その波長に応じて、ダイクロイックミラー２０５により反射されたり、あるいは、ダイクロイックミラー２０５を透過する。 The observation light emitted from the sample S in the direction of the objective lens 206 is collimated by the objective lens 206 and, depending on its wavelength, is reflected by or transmitted through the dichroic mirror 205.

ダイクロイックミラー２０５により反射された観察光は、蛍光検出部２０７に入射する。蛍光検出部２０７は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ（ｐｈｏｔｏ ｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ ｔｕｂｅ：光電子増倍管）等により構成され、ダイクロイックミラー２０５により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２０７は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。 The observation light reflected by the dichroic mirror 205 enters the fluorescence detection unit 207. The fluorescence detection unit 207 is composed of, for example, a barrier filter, a PMT (photomultiplier tube), etc., receives the observation light reflected by the dichroic mirror 205, and outputs an electrical signal according to the amount of light. In addition, the fluorescence detection unit 207 detects the observation light across the observation surface of the sample S as the ultrashort pulse light scans the observation surface of the sample S.

なお、ダイクロイックミラー２０５を光路から外すことにより、試料Ｓから対物レンズ２０６の方向に発せられた全ての観察光を蛍光検出部２１１で検出するようにしてもよい。その場合、観察光は、走査手段（不図示）によりデスキャンされ、ダイクロイックミラー２０４を透過し、集光レンズ２０８により集光され、対物レンズ２０６の焦点位置とほぼ共役な位置に設けられているピンホール２０９を通過し、結像レンズ２１０を透過して、蛍光検出部２１１に入射する。 The dichroic mirror 205 may be removed from the optical path so that all observation light emitted from the sample S in the direction of the objective lens 206 is detected by the fluorescence detection unit 211. In this case, the observation light is descanned by a scanning means (not shown), passes through the dichroic mirror 204, is focused by the focusing lens 208, passes through a pinhole 209 located at a position approximately conjugate to the focal position of the objective lens 206, passes through the imaging lens 210, and enters the fluorescence detection unit 211.

蛍光検出部２１１は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、結像レンズ２１０により蛍光検出部２１１の受光面において結像した観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２１１は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。 The fluorescence detection unit 211 is composed of, for example, a barrier filter, a PMT, etc., receives the observation light imaged on the light receiving surface of the fluorescence detection unit 211 by the imaging lens 210, and outputs an electrical signal according to the amount of light. In addition, the fluorescence detection unit 211 detects the observation light across the observation surface of the sample S as the ultrashort pulse light scans the observation surface of the sample S.

また、試料Ｓから対物レンズ２０６と逆の方向に発せられた観察光は、ダイクロイックミラー２１２により反射され、蛍光検出部２１３に入射する。蛍光検出部１１３は、例えば、バリアフィルタ、ＰＭＴ等により構成され、ダイクロイックミラー２１２により反射された観察光を受光し、その光量に応じた電気信号を出力する。また、蛍光検出部２１３は、超短パルス光が試料Ｓの観察面において走査されるのに合わせて、試料Ｓの観察面にわたる観察光を検出する。 In addition, the observation light emitted from the sample S in the opposite direction to the objective lens 206 is reflected by the dichroic mirror 212 and enters the fluorescence detection unit 213. The fluorescence detection unit 113 is composed of, for example, a barrier filter, a PMT, etc., receives the observation light reflected by the dichroic mirror 212, and outputs an electrical signal according to the amount of light. In addition, the fluorescence detection unit 213 detects the observation light across the observation surface of the sample S as the ultrashort pulse light scans the observation surface of the sample S.

蛍光検出部２０７、２１１、２１３からそれぞれ出力された電気信号は、例えば、コンピュータ（不図示）に入力され、そのコンピュータは、入力された電気信号に基づいて、観察画像を生成し、生成した観察画像を表示したり、観察画像のデータを記憶したりすることができる。 The electrical signals output from the fluorescence detection units 207, 211, and 213 are input, for example, to a computer (not shown), which can generate an observation image based on the input electrical signals, display the generated observation image, and store data of the observation image.

接合レンズ
図５は、本実施形態に係る接合レンズの一例を示す概略図である。接合レンズ３は、第一のレンズ要素３０１と第二のレンズ要素３０２とを有する複合レンズである。第一のレンズ要素と第二のレンズ要素の少なくとも１つは、本実施形態に係る光学ガラスを用いる。第一のレンズ要素と第二のレンズ要素は、接合部材３０３を介して接合されている。接合部材３０３としては、公知の接着剤等を用いることができる。なお、「レンズ要素」とは、単レンズ又は接合レンズを構成する各々のレンズのことを意味する。 Cemented Lens Fig. 5 is a schematic diagram showing an example of a cemented lens according to this embodiment. The cemented lens 3 is a compound lens having a first lens element 301 and a second lens element 302. At least one of the first lens element and the second lens element uses the optical glass according to this embodiment. The first lens element and the second lens element are cemented together via a cementing member 303. A known adhesive or the like can be used as the cementing member 303. Note that the term "lens element" refers to each lens constituting a single lens or a cemented lens.

本実施形態に係る接合レンズは、色収差補正の観点で有用であり、上述した光学素子や光学系や光学装置等に好適に使用できる。そして、接合レンズを含む光学系は、カメラ用交換レンズや光学装置等にとりわけ好適に使用できる。なお、上述の態様では２つのレンズ要素を用いた接合レンズについて説明したが、これに限られず、３つ以上のレンズ要素を用いた接合レンズとしてもよい。３つ以上のレンズ要素を用いた接合レンズとする場合、３つ以上のレンズ要素のうち少なくとも１つが本実施形態に係る光学ガラスを用いて形成されていればよい。 The cemented lens according to this embodiment is useful from the viewpoint of chromatic aberration correction, and can be suitably used in the optical elements, optical systems, optical devices, and the like described above. An optical system including a cemented lens can be particularly suitably used in interchangeable lenses for cameras, optical devices, and the like. Note that, in the above embodiment, a cemented lens using two lens elements has been described, but this is not limiting, and a cemented lens using three or more lens elements may also be used. When a cemented lens using three or more lens elements is used, it is sufficient that at least one of the three or more lens elements is formed using the optical glass according to this embodiment.

本実施形態に係る光学ガラスの実施例及び比較例について説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。 Examples and comparative examples of the optical glass according to this embodiment will be described. Note that the present invention is not limited to these.

各実施例及び各比較例に係る光学ガラスの各サンプルは、以下の手順で作製した。まず、表１～表６に記載の化学組成（重量％）となるように酸化物、炭酸塩、及び硝酸塩等のガラス原料を、合計の重量が１００ｇとなるよう秤量した。次に、秤量した原料を混合して坩堝に投入し１２００～１４００℃の温度で熔融させて攪拌均質化した。清澄を行った後、金型等に鋳込んで徐冷し、成型することで各サンプルを得た。 Each sample of optical glass according to each example and comparative example was produced by the following procedure. First, glass raw materials such as oxides, carbonates, and nitrates were weighed out to a total weight of 100 g so as to obtain the chemical composition (weight %) shown in Tables 1 to 6. Next, the weighed raw materials were mixed and placed in a crucible, melted at a temperature of 1200 to 1400°C, and stirred to homogenize. After clarification, the mixture was poured into a mold or the like, slowly cooled, and molded to obtain each sample.

図６は、本実施形態に係る光学ガラスの各実施例のｎ_ｄとν_ｄをプロットしたグラフであり、図７は、本実施形態に係る光学ガラスの各実施例のＰ_ｇ，Ｆとν_ｄをプロットしたグラフである。 FIG. 6 is a graph plotting n _d vs. v _d for each example of the optical glass according to this embodiment, and FIG. 7 is a graph plotting P _g,F vs. v _d for each example of the optical glass according to this embodiment.

屈折率（ｎ_ｄ）とアッベ数（ν_ｄ）
本実施形態に係る光学ガラスの各サンプルの屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）は、屈折率測定器（株式会社島津デバイス製造製：ＫＰＲ－３０００）を用いて測定及び算出した。また、屈折率は、Ｖブロックで測定した。ｎ_ｄは、５８７．５６２ｎｍの光に対するガラスの屈折率を示す。ν_ｄは、以下の式（３）より求めた。ｎ_Ｃ、ｎ_Ｆ、はそれぞれ波長６５６．２７３ｎｍ、４８６．１３３ｎｍの光に対するガラスの屈折率を示す。屈折率の値は、小数点以下第５位までとした。
ν_ｄ＝（ｎ_ｄ－１）／（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）・・・（３） Refractive index (n _d ) and Abbe number (v _d )
The refractive index (n _d ) and Abbe number (ν _d ) of each sample of the optical glass according to this embodiment were measured and calculated using a refractive index measuring instrument (KPR-3000, manufactured by Shimadzu Device Manufacturing Co., Ltd.). The refractive index was measured using a V-block. n _d indicates the refractive index of the glass for light with a wavelength of 587.562 nm. ν _d was calculated from the following formula (3). n _C and n _F indicate the refractive index of the glass for light with wavelengths of 656.273 nm and 486.133 nm, respectively. The refractive index values were rounded to five decimal places.
v _d =(n _d -1)/(n _F -n _C ) (3)

部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）
本実施形態に係る光学ガラスの各サンプルの部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）は、主分散（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）に対する部分分散（ｎ_ｇ－ｎ_Ｆ）の比を示し、以下の式（４）より求めた。ｎ_ｇは、波長４３５．８３５ｎｍの光に対するガラスの屈折率を示す。部分分散比（Ｐ_ｇ，_Ｆ）の値は、小数点以下第４位までとした。
Ｐ_ｇ，_Ｆ＝（ｎ_ｇ－ｎ_Ｆ）／（ｎ_Ｆ－ｎ_Ｃ）・・・（４） Partial dispersion ratio ( _Pg , _F )
The partial dispersion ratio (P _g , _F ) of each sample of the optical glass according to this embodiment represents the ratio of the partial dispersion (n _g -n _F ) to the primary dispersion (n _F -n _C ), and was calculated by the following formula (4). _{n g} represents the refractive index of the glass for light with a wavelength of 435.835 nm. The value of the partial dispersion ratio (P _g , _F ) was rounded to four decimal places.
_Pg , _F = ( _ng - _nF ) / ( _nF - _nC ) ... (4)

ガラスの転移温度（Ｔ_ｇ）
本実施例１～１７の各サンプルのガラス転移温度（Ｔ_ｇ）は、ＪＯＧＩＳ－０８：２０１９に従い直径５ｍｍ長さ４０ｍｍの円柱状に加工したサンプルについて２０gｆの力を加えながら硝子熱膨張測定用電気炉で４℃／分の速度で昇温し試料寸法の変化を測定し、線膨張率の変化からガラス転移温度（Ｔ_ｇ）を求めた。 Glass Transition Temperature ( _Tg )
The glass transition temperature (T _g ) of each of the samples in the present Examples 1 to 17 was determined in accordance with JOGIS-08:2019 by processing a cylindrical sample with a diameter of 5 mm and a length of 40 mm into a glass thermal expansion measurement electric furnace, applying a force of 20 gf while heating the sample at a rate of 4°C/min, measuring the change in sample dimension, and determining the glass transition temperature (T _g ) from the change in linear expansion coefficient.

液相温度（Ｔｌ）
各サンプルの液相温度（Ｔｌ）は、ガラス約０．１ｇを穴の空いた白金板に乗せ、１０℃刻みの温度勾配がついた試験炉内で１８分間保持した後、炉から出して急冷し、倍率１００倍の顕微鏡で失透の有無を観察した。なお液相温度の値は、高温側から見て失透が生じない最低温度とした。 Liquidus temperature (Tl)
The liquidus temperature (Tl) of each sample was measured by placing about 0.1 g of glass on a platinum plate with holes, holding it in a test furnace with a temperature gradient of 10°C increments for 18 minutes, removing it from the furnace and quenching it, and observing the presence or absence of devitrification under a microscope with a magnification of 100. The liquidus temperature was the lowest temperature at which devitrification did not occur when viewed from the high temperature side.

重量減少率
実施例１５～１７、比較例１～３の各サンプルについて、以下の手順で重量減少率を算出した。 Weight Loss Rate For each sample of Examples 15 to 17 and Comparative Examples 1 to 3, the weight loss rate was calculated by the following procedure.

酸化物換算において１００gとなるガラス原料を調合し、１３４０℃の温度で１２０分間熔解し鋳型にキャスト後、徐冷したガラスを準備し、同じガラス片から熱重量（ＴＧ）測定用試料と、液相温度測定用試料を採取した。熱重量（ＴＧ）測定用試料はガラスを乳鉢を用いて粉砕したものとし、試料重量は３０ｍｇ（＝Ｍ_Ａ）とした。また、液相温度測定用試料は乳鉢等で粒状に粉砕し１粒の重さが約０．１gになるよう調整したものを用いた。 Glass raw materials equivalent to 100 g in oxide equivalent were prepared, melted at 1340°C for 120 minutes, cast into a mold, and slowly cooled to prepare glass. A sample for thermogravimetry (TG) measurement and a sample for liquidus temperature measurement were taken from the same glass piece. The sample for thermogravimetry (TG) measurement was prepared by crushing glass in a mortar, and the sample weight was 30 mg (= M _A ). The sample for liquidus temperature measurement was prepared by crushing glass into granules in a mortar or the like, and adjusting the weight of each grain to about 0.1 g.

本実施形態に係る光学ガラスの各サンプルの熱重量（ＴＧ）は、示差熱・熱重量同時測定装置（ブルカー・エイエックスエス株式会社製：ＴＧ―ＤＴＡ２０００ＳＡ）を用いた。測定する温度域は液相＋１００℃を十分に超える温度域を測定範囲とし毎分２０℃の昇温速度とした。試料の液相温度については前述の方法で測定した。本実施例１５～１７と比較例１～３の熱重量（ＴＧ）測定温度域は２０℃から１３５０℃とした。また、測定装置のリファレンス側には白金製のセルを用いた。また、光学ガラスの各サンプルの重量は２０℃／分の速度で昇温しながら連続的に重量が記録される。そのデータから該当温度部分を抜粋した重量と加熱前の試料重量との差を重量減少量とした。 The thermogravimetry (TG) of each sample of the optical glass according to this embodiment was performed using a differential thermal and thermogravimetry simultaneous measurement device (TG-DTA2000SA manufactured by Bruker AXS Co., Ltd.). The temperature range to be measured was a temperature range well above liquid phase + 100°C, and the heating rate was 20°C per minute. The liquid phase temperature of the sample was measured by the method described above. The thermogravimetry (TG) measurement temperature range for Examples 15 to 17 and Comparative Examples 1 to 3 was 20°C to 1350°C. A platinum cell was used on the reference side of the measurement device. The weight of each sample of the optical glass was continuously recorded while heating at a rate of 20°C/min. The weight loss was determined by the difference between the weight of the sample before heating and the weight of the corresponding temperature portion extracted from the data.

各光学ガラスの液相温度における重量減少量をＭ_Ｔｌ、各光学ガラスの液相温度＋１００℃における重量減少量をＭ_{Ｔｌ＋１００}、光学ガラスの重量をＭ_Ａ、重量減少率（％）を△Ｍとして以下の式（２）に代入して算出した。
△Ｍ＝（Ｍ_{Ｔｌ＋１００}－Ｍ_Ｔl）／Ｍ_Ａ×１００・・・（２）
Ｍ_Ａ：光学ガラスの重量
Ｍ_{Ｔｌ＋１００}：液相温度＋１００℃における光学ガラスの重量減少量
Ｍ_Ｔｌ：液相温度における光学ガラスの重量減少量 The weight loss of each optical glass at its liquidus temperature was M _Tl , the weight loss of each optical glass at its liquidus temperature + 100°C was M _Tl+100 , the weight of the optical glass was M _A , and the weight loss rate (%) was ΔM were substituted into the following formula (2) for calculation.
ΔM = (M _{Tl + 100} - M _Tl ) / M _A × 100 ... (2)
M _A : Weight of optical glass M _{Tl + 100} : Weight loss of optical glass at liquidus temperature + 100°C M _Tl : Weight loss of optical glass at liquidus temperature

実施例、及び比較例の光学ガラスについて、各成分の酸化物基準の質量％による組成、及び各物性の評価結果を表１～６に示す。 For the optical glasses of the examples and comparative examples, the compositions of each component in terms of mass % based on the oxide, and the evaluation results of each physical property are shown in Tables 1 to 6.

特に断りがない限り、各成分の含有率は質量％基準である。式中の「ΣＡ_２Ｏ」は、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの総含有率；（Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）を示す。また、式中の「ΣＲＯ」は、ＭｇＯとＣａＯとＳｒＯとＢａＯの総含有率；（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）を示す。 Unless otherwise specified, the content of each component is based on mass%. In the formula, "ΣA ₂ O" indicates the total content of Li ₂ O, Na ₂ O, and K ₂ O; (A = Li, Na, K). In addition, "ΣRO" in the formula indicates the total content of MgO, CaO, SrO, and BaO; (R = Mg, Ca, Sr, Ba).

表１～６に見られるとおり、本実施形態に係る光学ガラスは、高い屈折率（ｎ_ｄ）、小さいアッベ数（ν_ｄ）、小さいＰ_ｇ，Ｆ値を有することが確認された。また、実施例１５～１７では、重量減少率が小さいことが確認された。 As seen in Tables 1 to 6, it was confirmed that the optical glass according to this embodiment has a high refractive index (n _d ), a small Abbe number (ν _d ), and a small P _g,F value. It was also confirmed that in Examples 15 to 17, the weight loss rate was small.

１・・・撮像装置、１０１・・・カメラボディ、１０２・・・レンズ鏡筒、１０３・・・レンズ、１０４・・・センサチップ、１０５・・・ガラス基板、１０６・・・マルチチップモジュール、ＣＡＭ・・・撮像装置（レンズ非交換式カメラ）、ＷＬ・・・撮影レンズ、Ｍ・・・液晶モニター、ＥＦ・・・補助光発光部、Ｂ１・・・レリーズボタン、Ｂ２・・・ファンクションボタン、２・・・多光子顕微鏡、２０１・・・パルスレーザ装置、２０２・・・パルス分割装置、２０３・・・ビーム調整部、２０４，２０５，２１２・・・ダイクロイックミラー、２０６・・・対物レンズ、２０７，２１１，２１３・・・蛍光検出部、２０８・・・集光レンズ、２０９・・・ピンホール、２１０・・・結像レンズ、Ｓ・・・試料、３・・・接合レンズ、３０１・・・第一のレンズ要素、３０２・・・第二のレンズ要素、３０３・・・接合部材 1: Imaging device, 101: Camera body, 102: Lens barrel, 103: Lens, 104: Sensor chip, 105: Glass substrate, 106: Multichip module, CAM: Imaging device (lens-non-interchangeable camera), WL: Shooting lens, M: Liquid crystal monitor, EF: Auxiliary light emitter, B1: Release button, B2: Function button, 2: Multiphoton microscope, 201: Pulse laser device, 202: Pulse splitter, 203: Beam adjustment unit, 204, 205, 212: Dichroic mirror, 206: Objective lens, 207, 211, 213: Fluorescence detection unit, 208: Condenser lens, 209: Pinhole, 210: Imaging lens, S: Sample, 3: Cemented lens, 301: First lens element, 302: Second lens element, 303: Cemented member

Claims (22)

質量％で、
ＳｉＯ_２含有率：１５％以上３０％以下、
Ｎａ_２Ｏ含有率：０％よりも大きく１０％以下、
Ｋ_２Ｏ含有率：０％よりも大きく１５％以下、
Ｎｂ_２Ｏ_５含有率：３５％以上６５％以下、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率（ΣＲＯ：Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）：０％よりも大きく２０％以下であり、
Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しない、光学ガラス。 In mass percent,
_SiO2 content: 15% or more and 30% or less,
Na ₂ O content: greater than 0% and less than 10%;
K ₂ O content: greater than 0% and less than or equal to 15%;
_Nb2O5 content: ₃₅ % or more and 65% or less,
The total content of MgO, CaO, SrO and BaO (ΣRO: R = Mg, Ca, Sr, Ba): greater than 0% and less than 20%,
_An optical glass substantially free of _B2O3 . 質量％で、
ＭｇＯ含有率：０％以上１０％以下、
ＣａＯ含有率：０％以上１０以下、
ＳｒＯ含有率：０％以上５％以下、
ＢａＯ含有率：０％以上１５％以下、である、請求項１に記載の光学ガラス。 In mass percent,
MgO content: 0% or more and 10% or less,
CaO content: 0% or more and 10% or less,
SrO content: 0% or more and 5% or less,
2. The optical glass according to claim 1, wherein the BaO content is from 0% to 15%. 質量％で、
Ｌｉ_２Ｏ含有率：０％以上１０％以下、である、請求項１または２に記載の光学ガラス。 In mass percent,
3. The optical glass according to claim 1, wherein the Li ₂ O content is from 0% to 10%. 質量％で、
Ａｌ_２Ｏ_３含有率：０％以上５％以下、
ＴｉＯ_２含有率：０％以上５％以下、
ＺｎＯ含有率：０％以上１０％以下、
ＺｒＯ_２含有率：０％以上５％以下、
ＷＯ_３含有率：０％以上５％以下、である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学ガラス。 In mass percent,
_Al2O3 content: 0% or more _and 5% or less,
_TiO2 content: 0% or more and 5% or less,
ZnO content: 0% or more and 10% or less,
_ZrO2 content: 0% or more and 5% or less,
The optical glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the _WO3 content is 0% or more and 5% or less. 質量％で、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ：Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）：５％以上１５％以下、である、請求項１～４のいずれか一項に記載の光学ガラス。 In mass percent,
5. The optical glass according to claim 1, wherein the total content of Li ₂ O, Na ₂ O and K ₂ O (ΣA ₂ O: A=Li, Na, K) is 5% or more and 15% or less. 質量％で、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ：Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）に対するＳｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５の総含有率の比（ＳｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）／ΣＡ_２Ｏ（式中、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）：５．８以上９．４以下である、請求項１～５のいずれか一項に記載の光学ガラス。 In mass percent,
The optical glass according to any one of claims 1 to 5, wherein the ratio of the total content of SiO ₂ +Nb ₂ O ₅ to the total content of Li ₂ O, Na ₂ O and K ₂ O (ΣA ₂ O: A = Li, Na, K), (SiO ₂ +Nb ₂ O ₅ )/ΣA ₂ O (wherein A = Li, Na, K), is 5.8 or more and 9.4 or less. 質量％で、
ＳｉＯ_２の含有率に対するＴｉＯ_２、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＷＯ_３の総含有率に対する比（ＴｉＯ_２＋ＺｎＯ＋ＺｒＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＷＯ_３）／ＳｉＯ_２：１．５以上２．９以下である、請求項１～６のいずれか一項に記載の光学ガラス。 In mass percent,
The optical glass according to any one of _claims 1 to 6, wherein the ratio of the content of _SiO2 to the total content of _TiO2 , ZnO, _ZrO2 , _Nb2O5 and _WO3 ( _TiO2 + ZnO + _ZrO2 + _Nb2O5 + _WO3 )/ _SiO2 is 1.5 or more and _2.9 or less. 質量％で、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの総含有率（ΣＡ_２Ｏ：Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）に対するＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの総含有率の比ΣＲＯ（式中、Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａを示す）／ΣＡ_２Ｏ（式中、Ａ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋを示す）０．３０以上１．７６以下である、請求項１～７のいずれか一項に記載の光学ガラス。 In mass percent,
The optical glass according to _any one _of claims 1 _to 7, wherein the ratio ΣRO (wherein R = Mg, Ca, Sr, Ba)/ΣA ₂ O (wherein A = Li, Na, K) of the total content of MgO, CaO, SrO, and BaO to the total content of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O (ΣA ₂ O: A = Li, Na, K) is 0.30 or more and 1.76 or less. ｄ線に対する屈折率（ｎ_ｄ）が、１．７５以上１．９５以下である、請求項１～８のいずれか一項に記載の光学ガラス。 9. The optical glass according to claim 1, which has a refractive index (n _d ) for d line of 1.75 or more and 1.95 or less. アッベ数（ν_ｄ）が、１５以上３５以下である、請求項１～９のいずれか一項に記載の光学ガラス。 10. The optical glass according to claim 1, having an Abbe number (ν _d ) of 15 or greater and 35 or less. 部分分散比（Ｐ_ｇ，Ｆ）が、０．５８以上０．６３以下である、請求項１～１０のいずれか一項に記載の光学ガラス。 11. The optical glass according to claim 1, wherein the partial dispersion ratio (P _g,F ) is 0.58 or greater and 0.63 or less. 下記式（１）：
（Ｍ_{Ｔｌ＋１００}－Ｍ_Ｔｌ）／Ｍ_Ａ×１００≦０．１・・・（１）
（式中、Ｍ_Ａは前記光学ガラスの重量、Ｍ_{Ｔｌ＋１００}は、液相温度＋１００℃における前記光学ガラスの重量減少量、Ｍ_Ｔｌは、液相温度における前記光学ガラスの重量減少量）を満たす、請求項１～１１のいずれか一項に記載の光学ガラス。 The following formula (1):
(M _{Tl + 100} - _{M Tl} ) / M _A × 100 ≦ 0.1 ... (1)
(wherein M _A is the weight of the optical glass, M _Tl+100 is the amount of weight loss of the optical glass at the liquidus temperature + 100°C, and M _Tl is the amount of weight loss of the optical glass at the liquidus temperature). 請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学ガラスを用いた光学素子。 An optical element using the optical glass according to any one of claims 1 to 12. 請求項１３に記載の光学素子を含む、光学系。 An optical system including the optical element according to claim 13. 請求項１４に記載の光学系を含む、顕微鏡用対物レンズ。 An objective lens for a microscope, comprising the optical system according to claim 14. 請求項１４に記載の光学系を含む、カメラ用交換レンズ。 An interchangeable lens for a camera, comprising the optical system according to claim 14. 請求項１４に記載の光学系を含む、光学装置。 An optical device including the optical system according to claim 14. 第一のレンズ要素と第二のレンズ要素とを有し、
前記第一のレンズ要素と前記第二のレンズ要素の少なくとも１つは、請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学ガラスである、接合レンズ。 A first lens element and a second lens element,
A cemented lens, wherein at least one of the first lens element and the second lens element is the optical glass according to any one of claims 1 to 12. 請求項１８に記載の接合レンズを含む、光学系。 An optical system including the cemented lens according to claim 18. 請求項１９に記載の光学系を含む、顕微鏡用対物レンズ。 An objective lens for a microscope, comprising the optical system according to claim 19. 請求項１９に記載の光学系を含む、カメラ用交換レンズ。 An interchangeable lens for a camera, comprising the optical system according to claim 19. 請求項１９に記載の光学系を含む、光学装置。 An optical device including the optical system according to claim 19.

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