JP2021012223A - 表示パネル用基板の製造方法、感放射線性組成物及び赤外線透過膜 - Google Patents

Abstract

【課題】赤外線透過膜を有する表示パネルの製膜工程において、赤外線透過膜が劣化せず、十分な赤外線透過性を有する表示パネル用基板の製造方法を提供することである。【解決手段】上記課題を解決するためになされた発明は、所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部に設けられた赤外線通信用の開口窓とを備える表示パネル用基板の製造方法であって、前記開口窓を覆うように赤外線透過膜が形成されており、前記赤外線透過膜を形成する工程は、重合性基を有する化合物と光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つとを含む感放射線性組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程と前記塗膜の前記開口窓に対応する領域を露光する工程とを有する表示パネル用基板の製造方法によって達成される。【選択図】図１

Description

本発明は、赤表示パネル用基板の製造方法、感放射線性組成物及び赤外線透過膜に関する。

近年、光電変換素子は、様々な用途で光センサとして開発されており、特に赤外線を用いた光センサへの利用が検討されている。赤外線は可視光に比べて波長が長いため散乱しにくい利点があることから、距離計測、３次元計測、顔認証などの用途に適用されている。このような近赤外線を利用した光センサでは、近赤外線の感度をより向上させるために、可視光を遮光し赤外光を透過する赤外線透過フィルターが適用されている（例えば、特許文献１）。

赤外線透過フィルターは、可視光を遮蔽するカーボンブラックなどを含む樹脂組成物をガラス基材等に塗布し可視光遮光層を形成することで作成されるが、赤外領域の透過率も低下してしまう問題があった（例えば、特許文献２）。

さらに、ガラス基材等に可視光遮光層を設けた赤外線透過フィルターは、加工性が乏しく、光センサ若しくは光センサを用いた表示デバイスの設計上の自由度を低下させる問題があった（例えば、特許文献３）。
可視光領域の透過率が低く、赤外光領域の透過率が高い赤外線透過膜を適用される部材、工程ごとに自由に成形することができれば、表示素子等の製造工程や使用材料削減の観点から望ましい。

ここで、携帯電話機などの表示パネルには、最表面には前面板（カバーガラス）を設けた構造を採用することが一般的である（例えば、特許文献４参照）。このカバーガラスには周辺部の配線などを隠すための遮光性の高い材料からなる額縁部（べゼル）が形成される。携帯電話機などでは、他の携帯電話機や顔認証などを行うために赤外線通信するための赤外線通信部を備えており、べゼルの一部分に、赤外線通信部を行うための開口窓が設けられている。
通常、赤外線通信部を行うための開口窓は白色であり、黒色べゼルに白い開口部があることにより意匠性の観点から好ましくない場合がある。
赤外線通信部の開口窓に設けられる赤外線透過膜であって、赤外線透過性を維持しつつ、周辺のべゼルの色目と同調が可能であり、赤外線透過膜形成用の感放射線性組成物としての十分な一般的な特性を有する感放射線性組成物が開発されていなかった。
また、赤外線透過膜を有した表示パネル用基板の製造において、感放射線性組成物により赤外線透過膜を形成する場合があるが、製膜工程において、赤外線透過膜が劣化し、十分な赤外線透過性を発現できなくなる問題があった。

特開２０１５−６８９４５号公報 韓国公開特許第２０１４−０１４７５３１号公報 特開２０１２−１０３３４０号公報 特開２００９−６９３２１号公報

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、赤外線通信部の開口窓に設けられる赤外線透過膜であって、赤外線透過性を維持しつつ、周辺のべゼルの色目と同調が可能であり、感放射線性組成物としての十分な一般的な特性を有する感放射線性組成物を提供することである。
また、赤外線透過膜を有する表示パネルの製膜工程において、赤外線透過膜が劣化せず、十分な赤外線透過性を有する表示パネル用基板の製造方法を提供することである。
また、本発明の感放射線性組成物は、ベゼル形成用の赤外線透過膜としても適用できる。ベゼルは、表示素子などの表示装置部分を保護する部材であり、より薄く細くしたほうが筐体の小型・軽量化につながる。スマートフォンにおいても、狭ベゼル化が進んでおり、非表示領域が減ることにより外観に優れた印象を与える効果が大きい。しかし、多くのスマートフォンは、上辺のベゼル付近に通話用スピーカーや近接センサーや照度センサーを配置するため、狭ベゼル化によりこれらのセンサーへの影響が大きくなる。
本発明の感放射線性組成物から形成された赤外線透過膜は、狭ベゼル化による近赤外光センサーへの影響を小さくすることが可能である。

上記課題を解決するためになされた発明は、下記に示す表示パネル用基板の製造方法によって達成される。
所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部に設けられた赤外線通信用の開口窓と、を備える表示パネル用基板の製造方法であって、前記開口窓を覆うように赤外線透過膜が形成されており、前記赤外線透過膜を形成する工程は、重合性基を有する化合物と、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つとを含む感放射線性組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程と、前記塗膜の、前記開口窓に対応する領域を露光する工程と、を有する表示パネル用基板の製造方法。

さらに、前記感放射線性組成物が、２種以上の着色剤を含む表示パネル用基板の製造方法によって達成され、さらに上記重合性基が、エポキシ基、脂環エポキシ基、（メタ）アクリロイル基及びビニル基からなる群より選ばれる少なくとも１種である感放射線性組成物である表示パネル用基板の製造方法によって達成される。
上記透明樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシロキサン系樹脂から選ばれる少なくとも一種である表示パネル用基板の製造方法によって達成される。
上記光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つが、非イオン性の化合物によって達成される。
上記感放射線性組成物の粘度範囲が、２３℃で１５から１００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲である感放射線性組成物によって達成される。
さらに、表示パネルにおいて、表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部に設けられた赤外線通信用の開口窓と、前記開口窓を覆うように赤外線透過膜が形成されており、
前記赤外線透過膜が、重合性基を有する化合物と、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つとを含む感放射線性組成物から形成されることを特徴とする赤外線透過膜によって達成される。

本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、赤外線通信部の開口窓に設けられる赤外線透過膜であって、赤外線透過性を維持しつつ、周辺のべゼルの色目と同調が可能であり、感放射線性組成物としての十分な一般的な特性を有する感放射線性組成物を提供することである。
また、赤外線透過膜を有する表示パネルの製膜工程において、赤外線透過膜が劣化せず、十分な赤外線透過性を有する表示パネル用基板の製造方法を提供することである。

図１は、本発明の一実施形態に係る表示パネルの構造を示す図である（平面図）。 図２は、本発明の一実施形態に係る表示パネルの構造を示す図である（断面図 図１のＡ−Ａ‘）。 図３は、本発明の一実施形態に係る近赤外線透過膜の透過率を示す図である。

以下に本発明を詳細に説明する。
＜感放射線性組成物＞
本発明の一実施形態に係る感放射線性組成物は、２種以上の着色材、重合性基を有する化合物と、透明樹脂、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つとを含む感放射線性組成物である。以下に詳細に説明する。
＜透明樹脂＞
透明樹脂は、本発明の赤外線透過膜の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性および溶剤安定性を確保し、また、表示素子等に適用されて１００℃以上の加熱製造工程に対して耐性を示すように、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１０℃〜３８０℃、より好ましくは１１０℃〜３７０℃、さらに好ましくは１２０℃〜３６０℃である樹脂が挙げられる。

また、上述の樹脂としては、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５）が、好ましくは７５％〜９５％であり、より好ましくは７８％〜９５％であり、さらに好ましくは８０％〜９５％である樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲であれば、得られる赤外線透過膜としても近赤外線領域に良好な透明性を示す。

上述のような樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂を挙げることができる。

以下、本発明の実施形態の感放射線性組成物に好ましいものとして挙げられた樹脂について、特に好ましいものをより詳しく説明する。

（１）環状オレフィン系樹脂
上述の環状オレフィン系樹脂としては、下記式（Ｘ₀）で表される単量体および下記式（Ｙ₀）で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも１つの単量体から得られる樹脂、または必要に応じてさらにその樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。

上記式（Ｘ₀）中、Ｒ^ｘ１〜Ｒ^ｘ４は、それぞれ独立に下記（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）より選ばれる原子または基を表し、ｋ^ｘ、ｍ^ｘおよびｐ^ｘは、それぞれ独立に０または正の整数を表す。
（ｉ）水素原子
（ｉｉ）ハロゲン原子
（ｉｉｉ）トリアルキルシリル基
（ｉｖ'）酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖ）置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基
（ｖｉ）極性基（但し（ｉｖ）を除く）
（ｖｉｉ）Ｒ^ｘ１とＲ^ｘ２またはＲ^ｘ３とＲ^ｘ４とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないＲ^ｘ１〜Ｒ^ｘ４は、それぞれ独立に上述の（ｉ）〜（ｖｉ）より選ばれる原子または基を表す。
（ｖｉｉｉ）Ｒ^ｘ１とＲ^ｘ２またはＲ^ｘ３とＲ^ｘ４とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、その結合に関与しないＲ^ｘ１〜Ｒ^ｘ４は、それぞれ独立に上述の（ｉ）〜（ｖｉ）より選ばれる原子または基を表すか、Ｒ^ｘ２とＲ^ｘ３とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、その結合に関与しないＲ^ｘ１〜Ｒ^ｘ４は、それぞれ独立に前記（ｉ）〜（ｖｉ）より選ばれる原子または基を表す。

上記式（Ｙ₀）中、Ｒ^ｙ１およびＲ^ｙ２は、それぞれ独立に上述の（ｉ）〜（ｖｉ）より選ばれる原子または基を表すか、下記（ｉｘ）を表し、ｋ^ｙおよびｐ^yは、それぞれ独立に０または正の整数を表す。
（ｉｘ）Ｒ^y1とＲ^y2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す。

（２）エポキシ系樹脂
上述のエポキシ系樹脂は、環状エーテル基を有する樹脂であり、環状エーテル基としては、オキシラニル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、及びオキセタニル基が好ましい。これらの環状エーテル基は、水素原子の一部又は全部がアルキル基等の置換基で置換されたものであってもよい。

複数のオキシラニル基を有する化合物としては、例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル等のビスフェノールのポリグリシジルエーテル類；１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールの脂肪族ポリグリシジルエーテル類；分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物；ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；環状脂肪族エポキシ樹脂；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等を挙げることができる。

複数のオキシラニル基を有する化合物の市販品としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（ジャパンエポキシレジン社製）；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン社製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等）として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（ジャパンエポキシレジン社製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（日本化薬社製）；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（日本化薬社製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン社製）；ポリフェノール型エポキシ樹脂として、ＥＰ１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（ジャパンエポキシレジン社製）；環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、エピクロン２００、同４００（ＤＩＣ社製）、エピコート８７１、同８７２（ジャパンエポキシレジン社製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（セラニーズコーティング社製）；脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学社製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂社製）等を挙げることができる。

複数の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができる。

複数のオキセタニル基を有する化合物としては、例えば市販品としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸＴ−１９１、ＯＸ−ＳＱ−Ｈ、ＰＮＯＸ−１００９、ＲＳＯＸ（東亜合成社製）、エタナコールＯＸＢＰ、エタナコールＯＸＴＰ（宇部興産社製）等を挙げることができる。

上述の芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式（１）で表される構造単位および下記式（２）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの構造単位を有することが好ましい。

上記式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、ａ〜ｄは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。

上記式（２）中、Ｒ^１〜Ｒ^４およびａ〜ｄは、それぞれ独立に上記式（１）中のＲ^１〜Ｒ^４およびａ〜ｄと同義であり、Ｙは単結合、−ＳＯ_２−または＞Ｃ＝Ｏを示し、Ｒ^７およびＲ^８は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜１２の１価の有機基またはニトロ基を示し、ｇおよびｈは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、ｍは０または１を示す。但し、ｍが０の時、Ｒ^７はシアノ基ではない。

また、上述の芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式（３）で表される構造単位および下記式（４）で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの構造単位を有することが好ましい。

上記式（３）中、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の１価の有機基を示し、Ｚは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、＞Ｃ＝Ｏ、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−または炭素数１〜１２の２価の有機基を示し、ｅおよびｆは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、ｎは０または１を示す。

上記式（４）中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈは、それぞれ独立に上記式（２）中のＲ^７、Ｒ^８、Ｙ、ｍ、ｇおよびｈと同義であり、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆは、それぞれ独立に上記式（３）中のＲ^５、Ｒ^６、Ｚ、ｎ、ｅおよびｆと同義である。

（３）ポリイミド系樹脂
上述のポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開２００６−１９９９４５号公報や特開２００８−１６３１０７号公報に記載されている方法で合成することができる。

（４）フルオレンポリカーボネート系樹脂
上述のフルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開２００８−１６３１９４号公報に記載されている方法で合成することができる。

（５）フルオレンポリエステル系樹脂
上述のフルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開２０１０−２８５５０５号公報や特開２０１１−１９７４５０号公報に記載されている方法で合成することができる。

（６）フッ素化芳香族ポリマー系樹脂
上述のフッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、少なくとも１つのフッ素を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも１つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであればよく、例えば、特開２００８−１８１１２１号公報に記載されている方法で合成することができる。

（７）シロキサン系樹脂
上述のシロキサン系樹脂としては、加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であることが好ましい。本発明における加水分解性シラン化合物とは、通常、無触媒、過剰の水の共存下、室温（約２５℃）〜約１００℃の温度範囲内で加熱することにより、加水分解してシラノール基を生成することができ、さらに加熱すること等によって縮合し、加水分解縮合物であるシロキサン化合物を形成することができる「加水分解性の官能基」を有する化合物を指す。また、その場合の「非加水分解性の基」とは、上述のような加水分解条件下で、加水分解または縮合を起こさず、安定に存在する基を指す。加水分解性シラン化合物の加水分解反応においては、一部の加水分解性基が未加水分解の状態で残っていてもよい。また、加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物は、一部の加水分解性基が未加水分解の状態で残っていてもよく、加水分解されたシラン化合物の一部のシラノール基が未縮合の状態で残っていてもよい。

加水分解性シラン化合物としては、１個の非加水分解性基と３個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物、２個の非加水分解性基と２個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物、３個の非加水分解性基と１個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物、またはそれらの混合物を挙げることができる。

このような加水分解性シラン化合物の具体例としては、１個の非加水分解性基と３個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物として、ヒドロトリメトキシシラン、ヒドロトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、へキシルトリメトキシシラン、へキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、トリルトリメトキシシラン、トリルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、２−トリメトキシシリルエチルコハク酸無水物、２−トリエトキシシリルエチルコハク酸無水物等；
２個の非加水分解性基と２個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物として、ジヒドロジメトキシシラン、ジヒドロジエトキシシラン、ヒドロメチルジメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン等；
３個の非加水分解性基と１個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物として、トリヒドロメトキシシラン、トリヒドロエトキシシラン、ジメチルフェニルメトキシシラン、ジメチルフェニルエトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリブチルエトキシシラン等をそれぞれ挙げることができる。

これらの加水分解性シラン化合物のうち、１個の非加水分解性基と３個の加水分解性基とで置換されたシラン化合物（ｎ＝１）が、加水分解反応性および縮合反応性の観点で特に好ましい。この好ましい加水分解性シラン化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシランが挙げられる。このような加水分解性シラン化合物は、１種単独で使用しても、または２種以上を組み合わせて使用してもよい。

また、加水分解縮合によってシロキサン化合物を得る際、上記加水分解性シラン化合物以外の加水分解性シラン化合物を併用することもできる。このような加水分解性シラン化合物の例としては、４個の加水分解性基で置換されたシラン化合物；テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジロキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン等が挙げられる。

シラン化合物以外の、加水分解性および縮合反応性を有する化合物、加水分解性チタン化合物、加水分解性アルミニウム化合物、加水分解性亜鉛化合物等も併用することができる。

加水分解性シラン化合物を加水分解・縮合させる条件は、加水分解性シラン化合物の少なくとも一部を加水分解して、加水分解性基をシラノール基に変換し、縮合反応を起こさせるものである限り、特に限定されるものではないが、一例として以下のように実施することができる。

上記式（１）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合に用いられる水は、逆浸透膜処理、イオン交換処理、蒸留等の方法により精製された水を使用することが好ましい。このような精製水を用いることによって、副反応を抑制し、加水分解の反応性を向上させることができる。水の使用量は、上記式（１）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解性基（−ＯＲ^１）の合計量１モルに対して、好ましくは０．１モル〜３モル、より好ましくは０．３モル〜２モル、さらに好ましくは０．５モル〜１．５モルの量である。このような量の水を用いることによって、加水分解・縮合の反応速度を最適化することができる。

上記式（１）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合に使用することができる溶剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、炭素数１〜１５の直鎖、分岐鎖あるいは環状のアルキルアルコール、炭素数３〜２０のケトン類、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピオン酸エステル類が挙げられる。これらの溶剤の中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートまたは３−メトキシプロピオン酸メチルが、特に好ましい。

加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合反応は、好ましくは酸触媒（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、シュウ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、無水マレイン酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、酸性イオン交換樹脂、各種ルイス酸）、塩基触媒（例えば、アンモニア、１級アミン類、２級アミン類、３級アミン類、ピリジン、４級アンモニウムヒドロキシド等の含窒素化合物；塩基性イオン交換樹脂；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩；酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のカルボン酸塩；各種ルイス塩基）、または、金属アルコキシド（例えば、ジルコニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド）等の触媒の存在下で行われる。例えば、アルミニウムアルコキシドとしては、テトラ−ｉ−プロポキシアルミニウムを用いることができる。触媒の使用量としては、加水分解・縮合反応の促進の観点から、加水分解性シラン化合物のモノマー１モルに対して、好ましくは１０^−６モル〜０．２モルであり、より好ましくは０．００００１モル〜０．１モルである。

加水分解性シラン化合物の加水分解・縮合における反応温度および反応時間は、適宜に設定される。例えば、下記の条件が採用できる。反応温度は、好ましくは４０℃〜２００℃、より好ましくは５０℃〜１５０℃である。反応時間は、好ましくは３０分〜２４時間、より好ましくは１時間〜１２時間である。このような反応温度および反応時間とすることによって、加水分解・縮合反応を最も効率的に行うことができる。この加水分解・縮合においては、反応系内に加水分解性シラン化合物、溶剤、水および触媒を一度に添加して反応を一段階で行ってもよく、あるいは、加水分解性シラン化合物、溶剤、水および触媒のいずれか１つ、あるいは任意に選択した混合物を、数回に分けて反応系内に添加することによって、加水分解および縮合反応を多段階で行ってもよい。尚、加水分解・縮合反応の後には、脱水剤を加え、次いでエバポレーションにかけることによって、水および生成したアルコールを反応系から除去することができる。溶剤や水を完全には除去せず、または、任意の溶剤を添加することにより、加水分解縮合によって得られたシロキサン化合物は溶液として取り扱うことができる。

加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物、すなわちシロキサン化合物の分子量は、移動相にテトラヒドロフランを使用したＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）を用い、ポリスチレン換算の数平均分子量あるいは重量平均分子量として測定することができる。そして、加水分解縮合物の重量平均分子量は、５００〜２００００の範囲内の値とするのが好ましく、６００〜１００００の範囲内の値とするのがより好ましく、６００〜５０００の範囲内の値とするのがさらに好ましい。

（７）市販品
本発明の実施形態の波長変換フィルムの構成に好ましいとして挙げられた樹脂は購入により入手することも可能である。

本発明の実施形態の波長変換フィルムの構成に好ましい樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス株式会社製ＴＯＰＡＳ等を挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、例えば、住友化学株式会社製スミカエクセルＰＥＳ等を挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、例えば、三菱ガス化学株式会社製ネオプリムＬ等を挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品として、例えば、帝人株式会社製ピュアエース等を挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品として、例えば、三菱ガス化学株式会社製ユピゼータＥＰ−５０００等を挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品として、例えば、大阪ガスケミカル株式会社製ＯＫＰ４ＨＴ等を挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品として、例えば、株式会社日本触媒製アクリビュア等を挙げることができる。シルセスキオキサン系ＵＶ硬化樹脂の市販品として、例えば、新日鐵化学株式会社製シルプラス等を挙げることができる。

＜分子量＞
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。
（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ−ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。

（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。

尚、ポリイミドの場合、下記方法（ｃ）による対数粘度の測定を行った。
（ｃ）ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。８０℃で１２時間真空乾燥して得られたポリイミド０．１ｇをＮ−メチル−２−ピロリドン２０ｍＬに溶解し、キャノン−フェンスケ粘度計を使用して３０℃における対数粘度（μ）を下記式により求めた。

μ＝｛ｌｎ（ｔ_Ｓ／ｔ_０）｝／Ｃ
ｔ_０：溶媒の流下時間
ｔ_ｓ：希薄高分子溶液の流下時間
Ｃ：０．５ｇ／ｄＬ
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。

次に、以下に示す３種の色素について説明する。本発明における色素とは、可視光の吸収または放出により、色を与える物質であり、無機化合物、有機化合物のいずれも含む概念であり、染料や顔料のいずれも含むものである。
本発明の感放射線性組成物においては、波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素Ａとし，波長５８１ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素Ｂとし，波長７０１ｎｍ以上８００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素Ｃとし、このような色素Ａ，色素Ｂ，色素Ｃの少なくとも２種以上を含有する感放射線性組成物である。このような色素を含むことで、可視領域の遮蔽を連続的に達成することが可能となる。感放射線性組成物においては、上記３種の色素以外の複数の色素を含んでもよい。
波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素Ａについて、以下に説明する。

色素Ａとしては、波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素が好ましく、特にこのような色素として、青色染料、青色顔料が挙げられる。
青色染料としては、キサンテン染料、トリアリールメタン染料、シアニン染料、フタロシアニン染料、アントラキノン染料、テトラアザポルフィリン染料、インジゴ染料等が挙げられる。このような青色染料のうち、特に耐熱性の観点からシアニン染料が特に好ましい。

このようなシアニン染料は、２個の複素環の間に奇数個のメチン基で共役二重結合させた構造を分子内に有する化合物のみを色素として含む染料である。シアニン染料の具体例としては、下記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で示される化合物を挙げることができる。本発明におけるシアニン染料としては、４００ｎｍから５８０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物が好ましい。

式（Ｃ１）中、Ｚ^１は炭素数１から１２のアルキル基、フェニル基を示し、Ｚ^２は炭素数１から１２のアルキル基、フェニル基、ナフチル基を示し、フェニル基、ナフチル基の一つ以上の水素原子が、ハロゲン、炭素数１から１２のアルキル基で置換されてもよい。
式（Ｃ２）中、Ｚ^３及びＺ^４はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１から１２のアルキル基、フェニル基を示す。ｎは１から１２の整数である。Ｘは対アニオンを示す。

Ｘの対アニオンとしては、ハロゲン化物イオン、ＣｌＯ^４−、ＯＨ⁻、有機カルボン酸アニオン、有機スルホン酸アニオン、ルイス酸アニオン、有機金属錯体アニオン、色素由来アニオン、有機スルホニルイミド酸アニオン、有機スルホニルメチド酸アニオン等が挙げられる。ハロゲン化物イオンとしては、Ｃｌ⁻、Ｂｒ⁻、Ｉ⁻等が挙げられる。

有機カルボン酸アニオンとしては、安息香酸イオン、アルカン酸イオン、トリハロアルカン酸イオン、ニコチン酸イオン等が挙げられる。

有機スルホン酸アニオンとしては、ベンゼンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、アルカンスルホン酸イオン等が挙げられる。

ルイス酸アニオンとしては、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン
酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素アニオン等が挙げられる。
このような式（Ｃ１）、式（Ｃ２）の具体例としては、例えば、下記式で示される（Ｃ１−１），（Ｃ２−１）の化合物である。（Ｃ１−１）化合物の極大吸収（λｍａｘ）は４６６ｎｍ，（Ｃ２−１）の化合物の極大吸収（λｍａｘ（は５４９ｎｍである。

また、青色顔料としては、特開２０１７−０９０７８０号公報の［００７２］、特開２０１６−０７０３０号公報の［００４９］記載の顔料を用いることができ、好ましくは「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、１６、７９である。
本発明の組成物において、色素Ａの含有量は、樹脂１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは１〜５質量部である。このような範囲で色素Ａを使用することで、可視光領域の透過率が低く、近赤外光領域の透過率が高い赤外線透過膜を形成することができる。
次いで、波長５８１ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素Ｂについて説明する。

色素Ｂとしては、黄色及び緑色染料、黄色及び緑色色素顔料が挙げられる。黄色及び緑色染料としては、例えば、スクアリリウム染料、トリアリールメタン染料、シアニン染料、フタロシアニン染料等が挙げられる。このうち、特に耐熱性の観点からトリアリールメタン染料が特に好ましい。

トリアリールメタン染料としては、下記式（Ｃ３）で示される化合物である。

式（Ｃ３）中、Ｚ^５は独立して、水素原子、炭素数１から１２のアルキル基、フェニル基を示し、環Ｔは、置換基を有してもよい炭素数３から１０の芳香族基もしくは複素環基を示す。Ｘは対アニオンを示し、具体的には、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、水酸化物イオン、有機カルボン酸アニオン、有機スルホン酸アニオン、ルイス酸アニオン、有機金属錯体アニオン、色素由来アニオン、有機スルホニルイミド酸アニオン、有機スルホニルメチド酸アニオンを示す。
このような式（Ｃ３）の具体例としては、例えば、下記式で示される（Ｃ３−１）の化合物である。（Ｃ３−１）の化合物の極大吸収（λｍａｘ）、は６０４ｎｍである。

また、黄色及び緑色顔料について、黄色顔料としては、特開２０１７−１１６７６７号公報の［００４０］段落、特開２０１６−１９１０４７号公報の［００１３］段落、特開２０１６−０３８５８４号公報の［００４２］段落、特開２０１５−０４５７３６号公報の［００２７］段落、特開２０１４−２１５４１６号公報の［００２５］段落に記載の顔料を用いることができ、これらのうち特に好ましくは「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２９、１３８、１３９、１５０、１８５、２３１である。
緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８、５９、６２、６３等が挙げられ、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８、５９である。
本発明の組成物において、色素Ｂの含有量は、樹脂１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは１〜５質量部である。このような範囲で色素Ｂを使用することで、可視光領域の透過率が低く、近赤外光領域の透過率が高い赤外線透過膜を形成することができる。
次いで、波長７０１ｎｍ以上８００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する色素Ｃについて説明する。色素Ｃは、特に赤色染料及び赤色顔料が好まし用いられる。赤色染料としては、例えば、スクアリリウム染料、フタロシアニン染料等が挙げられる。

スクアリリウム染料としては、下記式（Ｃ４）で示される化合物である。

式（Ｃ４）中、Ｘは独立して、１以上の水素原子が炭素数１から１２のアルキル基またはアルコキシル基で置換されてもよいメチレン基、若しくは炭素数２から１２のアルキレン基を示す、Ｚ^６，Ｚ^７，Ｚ^８はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１から１２のアルキル基、フェニル基を示す。
Ｚ^９は、炭素数１から１２のアルキル基、炭素数１から１２のフッ素化アルキル基を示す。
このような式（Ｃ４）の具体例としては、例えば、下記式で示される（Ｃ４−１）の化合物である。（Ｃ４−１）の化合物の極大吸収（λｍａｘ）、は７１２ｎｍである。

フタロシアニン染料としては、下記式（Ｃ５）で示される化合物を挙げることができる。

式（Ｃ５）中、Ｚ^１０は独立して、水素原子、炭素数１から１２のアルキル基、フェニル基を示し、Ｍは無金属、金属、金属酸化物を示す。金属としては、Ｚｎ，Ｍｇ，Ｓｉ，Ｓｎ，Ｒｈ，Ｐｔ，Ｐｄ、Ｍｏ、Ｍｎ，Ｐｂ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ等が挙げられ、金属酸化物としては、ＶＯ、ＴｉＯ等があげられる。

このような式（Ｃ５）の具体例としては、例えば、下記式で示される（Ｃ５−１）の化合物である。（Ｃ５−１）の化合物の極大吸収（λｍａｘ）、は７３８ｎｍである。

また、赤色顔料としては、特開２０１７−０６８１５９の［００２０］段落、国際特許公開公報ＷＯ２０１７／０３０１５５の［００２０］段落、特開２０１６−１７７１９０号公報の［００１８］段落、特開２０１６−１６４６２３号公報の［００２７］段落、特開２０１６−１４７９７７号公報の［００１６］段落、特開２０１６−０１１４１９号公報の［０００９］段落、国際特許公開公報ＷＯ２０１５／１８２２７８号公報の［００１９］段落記載の顔料そ使用できる。特に、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１６６、１７７、２４２、２５４、２６４、２６９である。
本発明の組成物において、色素Ｃの含有量は、樹脂１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは１〜５質量部である。このような範囲で色素Ｃを使用することで、可視光領域の透過率が低く、近赤外光領域の透過率が高い赤外線透過膜を形成することができる。
前記色素Ａと色素Ｂの吸収極大波長の差が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、かつ前記色素Ｂと色素Ｃの吸収極大波長の差が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがこのましい。このような範囲で色素Ａ、色素Ｂ、色素Ｃを使用することで、可視領域を連続的に高いレベルで遮光でき、近赤外領域の透過率を向上させることができる。

本発明の1分子中に2以上の重合性基を有する化合物は、重合性基としてカチオン反応性基を有する化合物である。カチオン反応性基としては、エポキシ基、脂環エポキシ基である。なお、エポキシ基は炭素数２以上の環状エーテル基を示し、オキシラニル基、オキセタニル基のいずれも含む基である。
本発明の1分子中に2以上の重合性基を有する化合物の重合性基は、エポキシ基、脂環エポキシ基、ビニル基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

カチオン反応性化合物としては、例えば、メチロール化アミノ基を有する化合物、アルキルエーテル化アミノ基を有する化合物、メチロール基含有芳香族化合物、アルキルエーテル化芳香族化合物等の活性メチレンを有する化合物；オキサゾリン化合物；オキシラン環含有化合物（エポキシ化合物）、オキセタン環含有化合物、環状チオエーテル化合物等の環状エーテル化合物；イソシアネート基含有化合物（ブロック化されたものを含む。）；アルデヒド基含有フェノール化合物；ビニルエーテル化合物；ジプロペニルエーテル化合物；が挙げられる。これらの中でも、蓋材との接着性に優れるパターン化した樹脂層を形成できる点から、好ましくは環状エーテル化合物、さらに好ましくはオキシラン環含有化合物及びオキセタン環含有化合物である。

オキシラン環含有化合物としては、分子内にオキシラン環（オキシラニル基ともいう）が含有されていればよく、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、テトラフェノール型エポキシ樹脂、フェノール−キシリレン型エポキシ樹脂、ナフトール−キシリレン型エポキシ樹脂、フェノール−ナフトール型エポキシ樹脂、フェノール−ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂が挙げられる。

オキシラン環含有化合物の具体例としては、例えば、レゾルシノールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレン／ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレン／ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、（３'，４'−エポキシシクロヘキサン）メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート（商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、ダイセル（株）製）が挙げられる。

オキセタン環含有化合物としては、分子内にオキセタン環（オキセタニル基ともいう）が含有されていればよく、具体例としては、例えば、１，４−ビス｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝ベンゼン（商品名「ＯＸＴ−１２１」、東亜合成（株）製）、３−エチル−３−｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（商品名「ＯＸＴ−２２１」、東亜合成（株）製）、４，４'−ビス［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル（宇部興産（株）製、商品名「ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ ＯＸＢＰ」）、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕エーテル、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕プロパン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕スルホン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ケトン、ビス〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル−フェニル〕ヘキサフルオロプロパン、トリ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、テトラ〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼン、オキセタンオリゴマー（商品名「Ｏｌｉｇｏ−ＯＸＴ」、東亞合成（株）製）、式（ｂ３−ａ）〜（ｂ３−ｆ）で表される化合物が挙げられる。

前記組成物中に含まれるカチオン反応性化合物の含有割合は、前記組成物に含まれる透明樹脂１００質量部に対して、通常、１〜６０質量部、好ましくは５〜５０質量部、より好ましくは１０〜４０質量部である。

カチオン反応性化合物の含有量は、透明樹脂１００質量部に対して、通常、２０〜２５０質量部、好ましくは５０〜２００質量部、より好ましくは８０〜１５０質量部である。
本発明における酸発生剤、または塩基発生剤感光剤としては、［Ｂ］発生剤（光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つ）は、イオン重合（カチオン重合又はアニオン重合）の開始剤として機能する。当該感放射線性組成物においては酸または塩基発生剤が含有されていることにより、放射線（可視光線、紫外線、遠紫外線等）の照射によってカチオン重合を促進し、硬化性に優れた赤外線透過膜を形成することができる。

光酸発生剤としては、イオン性の化合物と非イオン性の化合物とがあるが、非イオン性の化合物が好ましい。非イオン性の発生剤を用いることで、得られる硬化膜の光透過性を高めることなどができる。

光酸発生剤とは、光又はその他の放射線の照射によって酸を発生する化合物をいう。放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。光酸発生剤を用いることで、当該感放射線性組成物においては、放射線の照射により、カチオン重合が生じる。光酸発生剤としては、オキシムスルホネート化合物、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、オニウム塩等を挙げることができる。これらの中では、オキシムスルホネート化合物、スルホンイミド化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物及びカルボン酸エステル化合物が非イオン性の化合物である。一方、オニウム塩がイオン性の化合物である。
（オキシムスルホネート化合物）
上記オキシムスルホネート化合物としては、下記式（４）で表されるオキシムスルホネート基を含有する化合物が好ましい。

式（４）中、Ｒ^Ｂ１は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、これらの基の水素原子の一部又は全部が置換基で置換されていてもよい。Ｒ^Ｂ１のアルキル基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Ｒ^Ｂ１のアルキル基は、炭素数１〜１０のアルコキシ基又は脂環式基（７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基等の有橋式脂環式基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等）で置換されていてもよい。Ｒ^Ｂ１のアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基及びナフチル基がさらに好ましい。Ｒ^Ｂ１のアリール基は、炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されてもよい。

上記式（４）で表されるオキシムスルホネート基を含有する上記化合物は、下記式（５）で表されるオキシムスルホネート化合物であることがさらに好ましい。

式（５）において、Ｒ^Ｂ１は、式（４）におけるＲ^Ｂ１の説明と同義である。Ｘは、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子である。ｍは０〜３の整数である。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。Ｘとしてのアルキル基は、炭素数１〜４の直鎖状若しくは分岐状アルキル基が好ましい。

Ｘとしてのアルコキシ基としては、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。Ｘとしてのハロゲン原子は、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。ｍは０又は１が好ましい。特に、式（５）において、ｍが１、Ｘがメチル基であり、Ｘの置換位置がオルトである化合物が好ましい。

オキシムスルホネート化合物の具体例としては、例えば、下記式（５−ｉ）〜（５−ｖ）でそれぞれ表される化合物（５−ｉ）、化合物（５−ｉｉ）、化合物（５−ｉｉｉ）、化合物（５−ｉｖ）及び化合物（５−ｖ）等が挙げられる。

これらは単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、他の［Ｂ］発生剤と組み合わせて使用することもできる。上記化合物（５−ｉ）［（５−プロピルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、化合物（５−ｉｉ）［（５Ｈ−オクチルスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、化合物（５−ｉｉｉ）［（カンファースルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］、化合物（５−ｉｖ）［（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル］及び化合物（５−ｖ）［（５−オクチルスルフォニルオキシイミノ）−（４−メトキシフェニル）アセトニトリル］は、市販品として入手出来る。
（スルホンイミド化合物）
スルホンイミド化合物としては、例えばＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−フルオロフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−１，８−ナフタレンジカルボイミド、Ｎ−（カンファスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（フェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンタフルオロエチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプタフルオロプロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノナフルオロブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（エチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（プロピルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ブチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ペンチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘキシルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ヘプチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（オクチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド、Ｎ−（ノニルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド等を挙げることができる。
（ハロゲン含有化合物）
ハロゲン含有化合物としては、例えばハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有ヘテロ環状化合物等が挙げられる。
（ジアゾメタン化合物）
ジアゾメタン化合物としては、例えばビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロへキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トリスルホニル）ジアゾメタン、ビス（２，４−キシリルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−クロロフェニススルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、フェニルスルホニル（ベンゾイル）ジアゾメタン等を挙げることができる。
（スルホン化合物）
スルホン化合物としては、例えばβ−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物、ジアリールジスルホン化合物等を挙げることができる。
（スルホン酸エステル化合物）
スルホン酸エステル化合物としては、例えばアルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。
（カルボン酸エステル化合物）
カルボン酸エステル化合物としては、例えばカルボン酸ｏ−ニトロベンジルエステル等を挙げることができる。
（オニウム塩）
オニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、テトラヒドロチオフェニウム塩等を挙げることができる。

ジフェニルヨードニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホン酸等を挙げることができる。

トリフェニルスルホニウム塩としては、例えばトリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホン酸、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムブチルトリス（２、６−ジフルオロフェニル）ボレート等を挙げることができる。

スルホニウム塩としては、例えばアルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩等を挙げることができる。

アルキルスルホニウム塩としては、例えば４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等を挙げることができる。

ベンジルスルホニウム塩としては、例えばベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等を挙げることができる。

ジベンジルスルホニウム塩としては、例えばジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等を挙げることができる。

置換ベンジルスルホニウム塩としては、例えばｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等を挙げることができる。

ベンゾチアゾニウム塩としては、例えば３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等を挙げることができる。

テトラヒドロチオフェニウム塩としては、例えば４，７−ジ−ｎ−ブトキシーナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４，７−ジ−ｎ−ブトキシーナフチルテトラヒドロチオフェニウム−１０−カンファースルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−１，１，２，２−テトラフルオロ−２−（ノルボルナン−２−イル）エタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム−２−（６−ｔ−ブトキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート等を挙げることができる。

これらの光酸発生剤の中でも、非イオン性の光酸発生剤が好ましく、オキシムスルホネート化合物及びスルホンイミド化合物がより好ましい。
（光塩基発生剤）
光塩基発生剤とは、光又はその他の放射線の照射によって塩基を発生する化合物をいう。光塩基発生剤を用いることで、当該感放射線性樹脂組成物においては、放射線の照射により、通常［Ａ］化合物のアニオン重合が生じる。光塩基発生剤としては、４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタン、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、Ｎ−（２−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、１−（アントラキノン−２−イル）エチルイミダゾールカルボキシレート等の複素環基含有光塩基発生剤；
２−ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、［［（２，６−ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２−ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン−１，６−ジアミン、トリフェニルメタノール、ｏ−カルバモイルヒドロキシルアミド、ｏ−カルバモイルオキシム、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）等を挙げることができる。

光塩基発生剤の中では、非イオン性の光塩基発生剤が好ましく、パターン解像性をより向上させることができるなどの観点から、複素環基含有光塩基発生剤がより好ましい。
酸発生剤または塩基発生剤の含有量の下限としては、樹脂１００質量部に対して、１質量部が好ましく、３質量部がより好ましい。一方、この上限としては、２０質量部が好ましく、１０質量部がより好ましい。酸発生剤または塩基発生剤の含有割合を上記範囲とすることで、良好な多重露光部安定性、硬化性等を発揮することができる。
本発明は、上記化合物以外に下記に示す任意成分を使用することができる。
任意成分としては、例えば、色調補正色素、レベリング剤、帯電防止剤、熱安定剤、光安定剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤、増粘剤、透明ナノ粒子等が挙げられる。

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、リン系化合物、硫黄系化合物、アミン系化合物等が挙げられる。これらの中でも、赤外光透過性の観点からヒンダードフェノール系化合物が好ましい。ヒンダードフェノール系化合物は、フェノール性水酸基に対して２位及び６位の両方に置換基を有する化合物である。置換基としては、メチル基またはｔ−ブチル基が好ましい。ヒンダードフェノール系化合物は、モノフェノール類、ビスフェノール類、ポリフェノール類のいずれであってもよい。

光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系化合物を使用できる。ヒンダードアミン系化合物としては、２，２’，６，６’−テトラアルキルピぺリジン誘導体が好ましい。窒素原子上の置換基としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、２位及び６位の置換基がアルキル基またはフェニル基が好ましい。

また、屈折率を調整したり、赤外線透過膜の硬度を上げたりする目的で、赤外波長域で透明な無機酸化物材料のナノ粒子を含んでもよい。このような材料としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＧｅＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５等が挙げられる。

下地基材との密着性を向上させるためシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤は、他の構成部材との密着性を高める効果を有する。

シランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−（メタクリロプロピル）トリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファン、ビニルトリメトキシシラン等が挙げられる。上記任意成分はいずれも１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
感放射線性組成物に用いる溶媒としては、色素、透明樹脂または透明樹脂の原料成分、必要に応じて配合される各成分を、安定に分散できる分散媒または溶解できる溶媒であれば、特に限定されない。なお、本明細書において「溶媒」の用語は、分散媒及び溶媒の両方を含む概念で用いられる。溶媒としては、例えば、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族、またはｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、テトラフルオロプロピルアルコール、ペンタフルオロプロピルアルコール等のフッ素系溶剤、テトラヒドロフラン、水等が挙げられる。これらの溶媒は１種を単独で、または２種以上を混合して使用できる。

溶媒の量は、透明樹脂または透明樹脂１００質量部に対して、１０〜５，０００質量部が好ましく、３０〜２，０００質量部がより好ましい。

感放射線性組成物には、界面活性剤も含有できる。界面活性剤を含有させることにより、外観、特に、微小な泡によるボイド、異物等の付着による凹み、乾燥工程でのはじきを改善できる。界面活性剤は、特に限定されず、カチオン系、アニオン系、ノニオン系等の公知のものを任意に使用できる。
本発明の感放射線性組成物の粘度範囲は、固形分濃度が５から１５％の範囲で、粘度が２５℃で１５から１００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲であることが好ましく、粘度が２５℃で２０から５０ｍＰａ・ｓｅｃの範囲であることがさらに好ましい。この範囲にあることで、基材への塗布性と組成物溶液の保存安定性を高いレベルで両立できる点において好ましい。赤外線透過膜をベゼルとして用いる場合は、５０ｍＰａ・ｓｅｃ以上の高粘度である場合が好適に用いられる。

本発明の赤外線透過膜は、当該感放射線性組成物から形成される。当該赤外線透過膜は表示素子用のベゼルとして好適に用いることができる。ベゼルは、ディスプレイなど表示素子の枠や額縁部を保護する部材である。本発明の赤外線透過膜形成用樹脂組成物は、表示素子のカバーガラスの枠部に直接塗布膜を形成し、赤外線透過膜をベゼルとしてすることができる。また、ベゼル上に形成されている穴部の穴埋め材料としても使用できる。

当該赤外線透過膜は、パターニングされていない平膜であってもよい。このような赤外線透過膜は、当該感放射線性組成物を用い基板上に塗膜を形成する工程、塗膜の全面に放射線を照射する工程、及び塗膜を加熱する工程を経て得ることができる。これらの各工程は、後述の工程（１）、工程（２）及び工程（３）を参照に行うことができる。
赤外線透過膜の形成方法について、本発明は、以下の（１）から（３）の工程を含む赤外線透過膜の形成方法である。
（１） 感放射線性組成物により、基材の上に塗膜を形成する工程、
（２） （１）で得られた塗膜を加熱又は露光する工程
（３） （２）で得られた膜を加熱する工程
を備える。
［工程（１）］
工程（１）では、当該感放射線性組成物の溶液を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶媒を除去することで塗膜を形成する。工程（１）で使用する基板としては、例えばガラス基板、シリコンウエハー、プラスチック基板、及びこれらの表面に各種金属が形成された基板が挙げられる。プラスチック基板としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックを主成分とする基板などが挙げられる。

当該感放射線性組成物の塗布方法としては、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でも、スピンコート法、バー塗布法、スリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、当該感放射線性組成物の含有成分の種類、含有量等によっても異なるが、例えば６０℃以上１００℃以下で３０秒間以上１０分間以下程度とすることができる。上記塗膜の膜厚は、プレベーク後の下限として、１μｍが好ましい。また、この上限としては、３０μｍが好ましく、２０μｍがより好ましく、１０μｍがさらに好ましい。
［（２）工程］
工程（２）では、工程（１）で形成した塗膜に所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射する。このときの放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。

紫外線としては、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等が挙げられる。遠紫外線としては、例えばＫｒＦエキシマレーザー等が挙げられる。Ｘ線としては、例えばシンクロトロン放射線等が挙げられる。荷電粒子線としては、例えば電子線等を挙げることができる。これらの放射線のうち、紫外線が好ましく、紫外線の中でもｇ線及び／又はｉ線を含む放射線が特に好ましい。露光量としては、例えば１００Ｊ／ｍ^２以上１０，０００Ｊ／ｍ^２以下が好ましい。
［工程（３）］
工程（３）では、工程（２）で放射線を照射した塗膜に対してホットプレート、オーブン等の加熱装置を用いて、この塗膜を加熱・焼成処理（ポストベーク処理）することによって塗膜の硬化を行う工程である。焼成温度の下限としては、１２０℃が好ましい。一方、この上限としては、２００℃が好ましく、１８０℃がより好ましく、１５０℃がさらに好ましい。焼成時間としては、加熱機器の種類により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には５分以上４０分以下、オーブン中で加熱処理を行う場合には３０分以上８０分以下とすることができる。特に好ましくは、ホットプレート上で加熱処理を行う場合には３０分以下、オーブン中で加熱処理を行う場合には６０分以下である。

また、必要に応じて加熱前に現像を行って、放射線の照射部分を除去し、所望のパターンを形成することができる。現像処理に用いられる現像液としては、アルカリ水溶液（アルカリ現像液）を用いることができる。アルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノナン等が挙げられる。
また、現像液としては、上記アルカリ水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、又は当該感放射線性組成物を溶解する各種有機溶媒を少量含むものを使用することができる。また、現像液として、有機溶媒を用いてもよい。さらに、現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の方法を利用することができる。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。尚、記載中の「部」は、特に断りのない限り「質量部」を意味する。また、各物性値の測定方法は以下のとおりである。

＜樹脂合成例１＞
下記式（ａ）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^２，５．１^７，１０］ドデカ−３−エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。

このようにして得られた開環重合体溶液１０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ_６Ｈ_５）_３］_３を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ^２、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。

得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下、「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。

＜樹脂合成例２＞
撹拌機付の容器内に、プロピレングリコールモノメチルエーテル８０質量部を仕込み、続いて、加水分解性シラン化合物を合計で１００質量部（メチルトリメトキシシラン４５モル％、ジメトキシジメチルシラン３０モル％、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２５モル％）を仕込み、溶液温度が６０℃になるまで加熱した。溶液温度が６０℃に到達後、ギ酸０．５質量部、イオン交換水２５質量部を仕込み、７５℃になるまで加熱し、３時間保持した。４５℃に冷却後、脱水剤としてオルト蟻酸メチル２８質量部を加え、１時間攪拌した。さらに溶液温度を４０℃にし、温度を保ちながらエバポレーションして濃縮することで、イオン交換水及び加水分解縮合で発生したメタノールを除去した。その後、固形分濃度が３５質量％になるようプロピレングリコールモノメチルエーテルを追加して希釈し、シロキサン化合物を含む溶液を得た。得られたシロキサン化合物（以下、「樹脂Ｂ」ともいう。）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１８１０であり、分子量分布分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６であった。

＜樹脂合成例３＞
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部及び３−メトキシプロピオン酸メチル２００質量部を仕込んだ。引き続き、メタクリル酸グリシジル３０質量部、スチレン７０質量部を仕込んで窒素置換した後、ゆるやかに撹拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持することによって共重合体を含む重合体溶液を得た（以下、「樹脂Ｃ」ともいう。）。得られた樹脂Ｇは、数平均分子量が３５００であった。

［実施例１］
容器に、合成例１で得られた樹脂Ａ１００質量部を酢酸エチルに溶解させ、樹脂濃度が８質量％の樹脂溶液を得た。次いで、得られた樹脂溶液に色素Ａ（Ｃ１−１）２．２質量部、色素Ａ（Ｃ２−１）１．１質量部、色素Ｂ（Ｃ３−１）２．１質量部、色素Ｃ（Ｃ４−１）１．４質量部、色素Ｃ（Ｃ５−１）１．５質量部、さらにテトラヒドロフラン加えて溶解させた。固形分濃度８．８質量％で、粘度２６ｍＰａ・ｓｅｃ（２３℃）の感放射線性組成物（Ｓ−１）を得た。

［実施例２］〜［実施例７］、［比較例１］〜［比較例３］、
表１に示す樹脂、色素を採用したこと以外は、実施例１と同様にして、感放射線性組成物を調整した。なお、実施例５のＣＳ−１は１００質量部用いた。

実施例１から実施例１０，比較例１から比較例３使用した色素、１分子中に２以上の重合性基を有する化合物、感光剤は以下に示す化合物である。

色素Ａとして、以下の化合物を使用した。

色素Ｂとして、以下の化合物を使用した。

色素Ｃとして、以下の化合物を使用した。

ＣＴ−１：光酸発生剤
みどり化学社の「ＮＡＩ−１０５」（下記式で表されるＮ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−１，８−ナフタレンジカルボイミド）
ＣＴ−２：光酸発生剤
ＢＡＳＦ社の「ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＰＡＧ１２１」（５−ｐ−トルエンスルフォニルオキシイミノ−５Ｈ−チオフェン−２−イリデン）−（２−メチルフェニル）アセトニトリル）
ＣＴ−３：光塩基発生剤
和光純薬工業社の「ＷＰＢＧ−１４０」（１−（アントラキノン−２−イル）エチルイミダゾールカルボキシレート）
ＣＳ−１：重合性化合物として、東亜合成社の「アロンオキセタン ＯＸＴ−１９１」（下記式で表わされる化合物）

ＣＳ−２：重合性化合物として、Ｃ−２：ジャパンエポキシレジン社の「ＥＰ１０３２Ｈ６０」（下記式で表わされる化合物）

＜赤外線透過膜の透過率の評価＞
感放射線性組成物（Ｓ−１）を平滑なガラス板上に塗布し、２３℃で８時間乾燥した後、塗膜をさらに減圧下５０℃で３時間乾燥して、厚さ１０μｍの赤外線透過膜を得た。なお、1分子中に2以上の重合性基を有する化合物と感光剤を含む組成物の場合は、乾燥後、露光機（キヤノン社の「ＭＰＡ−６００ＦＡ」：超高圧水銀ランプを使用）を用い、マスクを介さず塗膜の全面露光を行い、硬化性膜とした。得られた膜の可視領域（４００−７００ｎｍ）の平均透過率、近赤外領域（８００−１１００ｎｍ）の平均透過率について測定した。なお、平均透過率とは、可視領域の場合、４００から７００ｎｍの範囲で２ｎｍおきの１５１点透過率を測定し、その透過率の平均値を求めた値である。近赤外領域の場合、８００から１１００ｎｍの範囲で２ｎｍおきの１５１点の透過率を測定し、それらの透過率の平均値を求めた値である。結果を表１にします。
可視領域の平均透過率が５％以下であり、かつ、近赤外領域の透過率が９０％以上である場合、赤外線透過膜の透過率は良好といえる。
図１に、感放射線性組成物（Ｓ−１）で得られた赤外線透過膜の透過スペクトルを示す。
表１に実施例で使用した色素Ａと色素Ｂの吸収極大波長の差及び色素Ｂと色素Ｃの吸収極大波長の差を示す。２以上の色素Ａを使用している場合、短波長側の色素Ａの吸収極大と色素Ｂの吸収極大の差を示し、２以上の色素Ｃを使用している場合、長波長側の色素Ｃの吸収極大と色素Ｂの吸収極大の差を示した。色素Ａと色素Ｂの吸収極大波長の差が４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲であり、かつ色素Ｂと色素Ｃの吸収極大波長の差が８０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である場合、可視透過率が低く、近赤外透過率を高めることができる。

表中、「−」は組成物中に含まれないことを示す。

１００ 前面板（カバーガラス）
１１０ 額縁部（べゼル）
１２０ 赤外線透過膜
１３０ 赤外線通信用の開口窓

Claims (14)

1. 所定の形状の表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部に設けられた赤外線通信用の開口窓と、を備える表示パネル用基板の製造方法であって、
   前記開口窓を覆うように赤外線透過膜が形成されており、
   前記赤外線透過膜を形成する工程は、
   重合性基を有する化合物と、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つとを含む感放射線性組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程と、
   前記塗膜の、前記開口窓に対応する領域を露光する工程と、
   を有する表示パネル用基板の製造方法。
2. さらに、前記感放射線性組成物が２種以上の着色材を含む請求項１記載の表示パネル用基板の製造方法。
3. 上記重合性基が、エポキシ基、脂環エポキシ基、ビニル基及びアルコキシシリル基からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項１または請求項２のいずれか一項に記載の表示パネル用基板の製造方法。
4. 上記光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つが、非イオン性の化合物である請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の一項に記載の表示パネル用基板の製造方法。
5. 上記感放射線性組成物がさらに透明樹脂を含み、前記透明樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシロキサン系樹脂から選ばれる少なくとも一種である請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の表示パネル用基板の製造方法。
6. 上記感放射線性組成物の粘度範囲が、２５℃で１５から１０００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲である請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の表示パネル用基板の製造方法。
7. 請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の表示パネル用基板の製造方法に用いられる感放射線性組成物。
8. 上記請求項７に記載の感放射線性組成物から形成された赤外線透過膜。
9. 請求項８記載の赤外線透過膜を有する表示パネル用基板。
10. 表示パネルにおいて、表示領域を区画する額縁部と、前記額縁部に設けられた赤外線通信用の開口窓と、前記開口窓を覆うように赤外線透過膜が形成されており、
    前記赤外線透過膜が、重合性基を有する化合物と、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つとを含む感放射線性組成物から形成されることを特徴とする赤外線透過膜
11. 上記赤外線透過膜を形成するために用いられる請求項１０記載の感放射線性組成物。
12. さらに、光酸発生剤及び光塩基発生剤から選ばれる少なくとも一つが非イオン性化合物である請求項１１記載の感放射線性組成物。
13. 上記感放射線性組成物が、さらに透明樹脂を含み、前記透明樹脂が、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシロキサン系樹脂から選ばれる少なくとも一種である請求項１２に記載の感放射線性組成物。
14. 上記感放射線性組成物の粘度範囲が、２５℃で１５から１０００ｍＰａ・ｓｅｃの範囲である請求項１３に記載の感放射線性組成物。