JP2020508491A - 基板および透明導電層を含む電気デバイスおよびその形成プロセス - Google Patents

Abstract

スタック内のいずれかの層がパターン化される前に、層のスタックを基板に隣接して形成することができる。一実施形態では、基板とスタックとの組み合わせは、一週間または一ヶ月を超えるような長期間にわたって製造および保管することができ、あるいはさらなる製造が行われる前に遠隔地に出荷することができる。最終製品が顧客に出荷される日に近づくまで不可逆的なパターン化を遅らせることによって、特定のサイズの在庫が多すぎることや、製造開始後にキャンセルされたカスタム注文の窓を廃棄しなければならない可能性を大幅に減らすことができる。さらに、スタックの層間の粒子を回避することができる。プロセスフローは柔軟性があり、穴、開口部、または高抵抗領域の形成における多くのパターン化操作は、様々な順序で実行することができる。

Description

本開示は電気デバイスに関し、より具体的には、基板および透明導電層を含む電気デバイスならびにその形成プロセスに関する。

電気デバイスは、エレクトロクロミックデバイスの電極に結合された透明導電層と、透明導電層に電気的に接続されたバスバーとを含むことができる。エレクトロクロミックデバイスを形成するとき、下部透明導電層が基板上に堆積され、バスバーが互いに電気的に短絡しないように、または許容できないほど高い漏れ電流を有するようにパターン化される。パターン形成は、エレクトロクロミックデバイス用の層および上部透明導電層を堆積する前に行われる。

エレクトロクロミックデバイスを含む電子デバイスの製造におけるさらなる改良が望まれている。

実施形態は例として示されており、添付の図面に限定されない。

基板および層のスタックを含む加工物の一部の断面図を含む図である。 加工物から形成することができる様々なエレクトロクロミックデバイスに対応する様々な領域を示す図１の加工物の上面図を含む図である。 層のスタックを貫通する穴を形成した後の図２の加工物の一部の上面図を含む図である。 切断線４−４に沿った図３の加工物の一部の断面図を含む。 切断線５−５に沿った図３の加工物の一部の断面図を含む図である。 一実施形態により高抵抗領域を形成した後の図３の加工物の一部の上面図の説明図を含む図である。 切断線７−７に沿った図６の加工物の一部の断面図を含む図である。 切断線８−８に沿った図６の加工物の一部の断面図を含む図である。 切断レーンおよび開口部を形成した後の図６の加工物の上面図を含む図である。 切断線１０−１０に沿った図９の加工物の一部の断面図を含む図である。 バスバーを形成した後の図９の加工物の上面図を含む図である。 切断線１２−１２に沿った図１１の加工物の一部の断面図を含む図である。 切断線１３−１３に沿った図１１の加工物の一部の断面図を含む図である。 図１１の加工物を含む断熱ガラスユニットの断面図を含む図である。 代替の実施形態により高抵抗領域を形成した後の図１の加工物の上面図の説明図を含む図である。 代替の実施形態により高抵抗領域を形成した後の図１の加工物の上面図の説明図を含む図である。 別の代替の実施形態により高抵抗領域を形成した後の図１の加工物の上面図の説明図を含む図である。 さらなる代替の実施形態により高抵抗領域を形成した後の図１の加工物の上面図の説明図を含む図である。 基板間に配置された層のスタックの断面図の図を含む図である。 高抵抗領域がバスバーから離間している加工物の上面図を含む図である。 蛇行パターンを有する高抵抗領域を含む加工物の上面図を含む図である。

当業者は、図中の要素が単純さおよび明瞭さのために示されており、必ずしも縮尺通りに描かれていないことを理解するであろう。例えば、図中の要素のいくつかの寸法は、本発明の実施形態の理解の改善を助けるために他の要素に対して誇張されている場合がある。

図面と組み合わせた以下の説明は、本明細書に開示される教示を理解するのを助けるために提供される。以下の説明は、教示の具体的な実装および実施形態に焦点を合わせるであろう。この焦点は、教示を説明するのを助けるために提供されており、教示の範囲または適用性に対する限定として解釈されるべきではない。

本明細書で使用されるとき、用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、またはそれらの任意の他の変形は、非排他的包含を含むことを意図している。例えば、特徴のリストを含むプロセス、方法、物品、または装置は、必ずしもそれらの特徴だけに限定されず、明示的に列挙されていない、またはそのようなプロセス、方法、物品、または装置に固有でない他の特徴を含み得る。さらに、明示的にそうではないことが述べられていない限り、「または（ｏｒ）」は、包含的な「または」を指し、排他的な「または」を意味しない。例えば、条件ＡまたはＢは、以下のいずれかによって満たされる。Ａは真（または存在）かつＢは偽（または存在しない）、Ａは偽（または存在しない）かつＢは真（または存在）、ならびにＡとＢの両方は真（または存在）である。

バスバー、穴、開口部などを含むパターン化された特徴は、幅、深さまたは厚さ、および長さを有することができ、長さは幅および深さまたは厚さより大きい。本明細書では、直径は円の幅、短軸は楕円の幅である。

「ａ」または「ａｎ」の使用は、本明細書に記載の要素および構成要素を説明するために採用されている。これは単に便宜上および本発明の範囲の一般的な意味を与えるために行われている。この説明は、そうでないことが明らかでない限り、１つまたは少なくとも１つを含むように読まれるべきであり、単数形もまた複数形を含み、またはその逆も同様である。

用語「約」、「およそ」、または「実質的に」の使用は、パラメータの値が述べられた値または位置に近いことを意味することを意図している。ただし、多少の違いにより、値または位置が正確に記載されているとおりでなくてもよい。したがって、値の最大１０パーセント（１０％）の違いは、説明したとおりの理想的な目標との合理的な違いである。

他に定義されない限り、本明細書中で使用される全ての技術的および科学的用語は、本発明が属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。材料、方法、および実施例は例示的なものにすぎず、限定的であることを意図しない。本明細書に記載されていない範囲で、特定の材料および処理行為に関する多くの詳細は従来通りであり、ガラス、蒸着、およびエレクトロクロミック分野の教科書および他の出典に見出すことができる。

スタック内のいずれかの層がパターン化される前に、層のスタックを基板に隣接して形成することができる。基板とスタックとの組み合わせは、一週間または一ヶ月を超えるような長期間にわたって製造および保管することができ、あるいはさらなる製造が行われる前に遠隔地に出荷することができる。最終製品が顧客に出荷される日に近づくまで不可逆的なパターン化を遅らせることによって、特定のサイズの在庫が多すぎることや、製造開始後にキャンセルされたカスタム注文の窓を廃棄しなければならない可能性を大幅に減らすことができる。さらに、後続の層を形成する前にスタック内の下層をパターン化する必要がないので、スタックの層間に粒子を導入する可能性を実質的に低減することができる。

上述のプロセスフローは柔軟性があり、穴、開口部、または高抵抗領域の形成などの多くのパターン化操作は、様々な順序で実行することができる。さらに、高抵抗領域が形成されるときに埋め込み層である下部導電性透明層をパターン化するための多くの異なる技術が開示されている。したがって、当業者は、必要性に最も適するかまたは特定の用途に望ましい特定の技術を選択する能力を有する。

図面に示され以下に記載される実施形態は、本明細書に記載されるような概念を実施するための特定の用途を理解するのに役立つ。実施形態は例示的であり、添付の特許請求の範囲を限定することを意図しない。

Ａ．スタック形成
図１は、透明基板１００に隣接する層のスタックを形成した後の部分的に製造された電気デバイスの断面図の説明図を含み、層は透明導電層および透明導電層間に配置されたエレクトロクロミックデバイス層を含む。特定の実施形態では、層のスタック内の層は基板上に堆積される。一実施形態では、基板１００は、ガラス基板、サファイア基板、酸窒化アルミニウム基板、またはスピネル基板を含むことができる。別の実施形態では、基板は、ポリアクリル系化合物、ポリアルケン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエチレン、ポリイミド、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリウレタン、ポリビニルアセテート、別の適切な透明ポリマー、または前述のコポリマーなどの透明ポリマーを含むことができる。基材は可撓性であってもなくてもよい。特定の実施形態では、基板１００はフロートガラスまたはホウケイ酸ガラスとすることができ、０．５ｍｍから４ｍｍの範囲の厚さを有することができる。別の特定の実施形態では、基板１００は、５０ミクロン〜３００ミクロンの範囲の厚さを有する鉱物ガラスである超薄ガラスを含むことができる。特定の実施形態では、基板１００は、形成されている多くの異なるエレクトロクロミックデバイスに使用することができ、マザーボードと呼ぶことができる。

層のスタック１２０内の層の組成および厚さは、それらの形成を説明する前に説明される。透明導電層１２２および１３０は、導電性金属酸化物または導電性ポリマーを含むことができる。例としては、酸化スズまたは酸化亜鉛を含むことができ、これらはいずれも、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎなどの３価の元素でドープすることができ、またはポリアニリン、ポリピロール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）などのスルホン化ポリマーを含むことができる。透明導電層１２２および１３０は、同じまたは異なる組成を有することができる。

エレクトロクロミックデバイスは、透明導電層１２２と１３０との間に配置された層１２４、１２６、および１２８を含む。層１２４および１２８は電極層であり、層の一方はエレクトロクロミック層であり、層の他方はイオン貯蔵層（対向電極層とも呼ばれる）である。エレクトロクロミック層は、ＷＯ_３、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＴｉＯ_２、ＣｕＯ、Ｉｒ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｃｏ_２Ｏ_３、Ｍｎ_２Ｏ_３、またはそれらの任意の組み合わせなどの無機金属酸化物電気化学的活物質を含むことができ、５０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲の厚さを有することができる。イオン貯蔵層は、エレクトロクロミック層に関して列挙した材料のいずれかを含むことができ、さらに酸化ニッケル（ＮｉＯ、Ｎｉ_２Ｏ_３、またはその２つの組み合わせ）、およびＬｉ、Ｎａ、Ｈ、または他のイオンを含むことができ、８０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の厚さを有することができる。イオン導電層１２６（電解質層と呼ばれることもある）は、電極層１２４と１２８との間に配置され、２０ミクロン〜６０ミクロンの範囲の厚さを有する。イオン導電層１２６は、イオンがそこを通って移動することを可能にし、著しい数の電子がそれを通過することを阻止する。イオン導電層１２６は、リチウム、アルミニウム、ジルコニウム、リン、ホウ素を含む、または含まないケイ酸塩、リチウムを含む、または含まないホウ酸塩、リチウムを含む、または含まない酸化タンタル、リチウムを含む、または含まないランタニド系材料、他のリチウム系セラミック材料などを含むことができる。イオン導電層１２６は任意選択であり、存在する場合、堆積、またはスタック１２０内の他の層を堆積した後、イオン導電層１２６を形成するために、電極層１２４および１２８などの２つの異なる層の部分を反応させることにより、形成されてもよい。本明細書を読んだ後、当業者は、層１２２、１２４、１２６、１２８、および１３０のための他の組成および厚さが、本明細書中に記載される概念の範囲から逸脱することなく使用され得ることを理解する。

層１２２、１２４、１２６、１２８、および１３０は、介在するパターン化ステップや、全ての層が形成される前に、真空を破壊する、すなわち中間層を空気にさらすことなしに、基板１００上に形成することができる。一実施形態では、層１２２、１２４、１２６、１２８、および１３０を連続的に堆積することができる。層１２２、１２４、１２６、１２８、および１３０は、物理蒸着または化学蒸着を使用して形成することができる。特定の実施形態では、層１２２、１２４、１２６、１２８、および１３０はスパッタ堆積される。

Ｂ．保管、出荷、または処理の続行
パターン化作業を延期することは、製造における柔軟性を提供するために有利である。製造が行われている間に、注文が出される可能性があり、他の注文がキャンセルされる可能性があり、またはデザインが変更される可能性がある。製造開始時に基板１００から形成される製品の混合は、製造プロセスフローの後半で基板１００から形成される製品の混合とは異なる場合がある。可能な限りパターン化を延期することで、製品の生産を注文により近く合わせることができるため、キャンセルされたカスタム注文の在庫および無駄を減らすことができる。

真空の破壊、すなわち中間層を空気にさらすことは、粒子または汚染物質が層間に導入されることを可能にし得る。粒子は、表示欠陥またはホットスポットの形成を引き起こす可能性がある。ホットスポットは、粒子によって引き起こされる透明導電層１２２と１３０との間の電気的短絡になり得る。粒子の近くの局所電場が低すぎるので、ホットスポットによりエレクトロクロミックデバイスは局所的に色を変えることができない。したがって、ホットスポットも一種の表示欠陥となり得る。粒子を除去するために洗浄操作を使用することができるが、いくらかの粒子が依然として残る可能性がある。さらに、洗浄に関連した余分な取り扱い、または前述のパターン化は、粒子を生成する可能性がある。層を順次形成することにより、取扱いが減少するので、粒子は層間に実質的に形成されにくくなる。

スタック１２０内のいずれかまたは全ての層を、実質的に全ての基板１００上に堆積することができる。一実施形態では、スタック１２０内の層の端部と基板１００の端部との間に小さな横方向間隙（図１の左右）が残ってもよい。そのようなギャップは、ハンドラまたは装置の一部がスタック１２０内の層に接触することなく基板１００に接触することを可能にし、これは、取り扱い装置がスタック１２０により近い基板の縁または主面に沿って、基板１００に接触する必要がある粒子問題を減らすのに役立ち得る。

プロセスフローのこの時点で、基板１００およびスタック１２０は保管または出荷することができ、あるいは製造を続けることができる。スタック１２０内に層を形成するために使用される製造装置は、連続生産ラインとして操作されるのにより適していてもよい。基板１００およびスタック１２０は、潜在的に他の基板およびスタックと共に、製造運転中に処理され、次いで基板およびスタックが必要とされるまで保管されてもよい。基板およびスタックは不活性環境に貯蔵されてもよく、そのような不活性環境は、Ｎ_２、Ａｒ、他の希ガス、清浄な乾燥空気、室温で層のいずれとも有意に反応しない他の適切なガス、またはそれらの任意の組み合わせを含んでもよい。

基板１００およびスタック１２０は、生産が継続される他の施設に出荷されてもよい。基板１００上にスタック１２０を形成するために使用される装置は、残りの製造に使用される装置と比較して、より複雑な装置を含み、そのような装置を操作および保守するためのより熟練した技術要員を有し得る。追加または代替として、層のスタック１２０を形成するときのクリーンルーム仕様は、残りの処理を行うときのクリーンルーム仕様よりも高くてもよい。したがって、商業レベルの生産は、１つの施設でより技術的に要求の厳しい操作を行い、別の施設でより技術的に要求の厳しくない操作を行うことをより実行しやすい可能性がある。異なる施設は、少なくとも１ｋｍ、少なくとも５０ｋｍ、少なくとも２００ｋｍ、少なくとも５０００ｋｍ、またはさらにそれ以上の差によって分離されてもよい。あるいは、異なる施設が同じ敷地にあってもよい。

基板１００およびスタック１２０が保管されているか出荷されているかに応じて、スタック１２０の形成が完了してから、スタック１２０内の任意の層がパターン化されるか、あるいは別の層または構成要素が基板上に恒久的に形成される間に、１日、１週間、１ヶ月、または半年を越えて経過してもよい。

製造がより連続的なプロセスとして行われるか不連続なプロセスとして行われるか（例えば、保管、出荷、またはその両方による）に関わらず、基板１００から生成されるエレクトロクロミックデバイスの物理的設計を決定することができる。図２は、基板１００から異なるエレクトロクロミックデバイスを得るために行われることになる意図された後続の切断を示す、非限定的な例示的な物理的設計を含む。領域２０１および２０２は三角形のエレクトロクロミックデバイスに対応し、領域２０３および２０４は比較的小さい矩形のエレクトロクロミックデバイスに対応し、領域２１１および２１２は比較的大きい矩形のエレクトロクロミックデバイスに対応する。領域２０１と２０２は実質的に同じサイズを有することができ、領域２１１と２１２もまた実質的に同じサイズを有することができる。領域２０３および２０４のそれぞれは、他の全ての領域と比較して異なるサイズおよび形状を有する。他の実施形態では、異なる物理的レイアウトが使用されてもよい。例えば、レイアウトは、実質的に同じ形状およびサイズを有する全ての領域を作り出すことができる。別の例では、他の形状は、四辺を超える多角形、円、楕円形、および車両の窓用のものなどの複雑な幾何学的形状を含むことができる。

Ｃ．層の選択的除去およびバスバーの形成
処理は、所望の位置でスタック１２０内の１つ以上の層の一部を選択的に除去することで継続することができる。選択的なバスバーの除去および形成に関するいくつかの動作を実行する順序は、提示されているものとは異なる順序で実行されてもよい。したがって、本明細書を読んだ後、当業者は、施設内の特定の用途または装置構成に対するニーズまたは要望を満たすために、どのような順序で動作を実行するかを決定することができる。

１．層１２２内の高抵抗領域
その後形成されるバスバーは両方とも、下部透明導電層１２２と接触してもよい。下部透明導電層１２２は、間隔を空けて配置されたバスバー間に高抵抗領域を形成するようにパターン化することができる。一実施形態では、高抵抗領域は、バスバーが互いに電気的に短絡すること、またはバスバー間に許容できないほど高い漏れ電流を有することを防止するために、バスバーが後に形成される場所に隣接する。本明細書で後述するように、代替実施形態では、高抵抗領域を両方のバスバーから著しく離間させることができる。プロセスのこの時点で、下部透明導電層１２２は埋め込み層であるため、下部透明部分を高抵抗領域にする際には注意が必要である。高抵抗領域は、透明導電層、またはそのような透明導電層と電極層などの隣接層との組み合わせのみを含み得る。高抵抗領域の形成は、様々な方法を用いて達成することができ、そのうちの１つを以下に記載し、他は本明細書において後述する。そのような方法は単なる例示であり、添付の特許請求の範囲に記載されるように、本発明の範囲を限定することを意味しない。

基板１００およびスタック１２０を含む加工物が保管または出荷された場合、加工物は、加工物が保管または出荷された容器またはパッケージから取り出すことができる。必要または所望である場合、さらなる加工を進める前に加工物を洗浄するかまたは他の方法で処理する。

図３〜図５は、スタック１２０をパターン化して基板１００まで延びる穴３００を画定した後の図２に示す加工物の一部の図の説明図を含む。図３は、パターン化後の加工物の上面図を含む。図３において、スタック１２０は、穴３００内を除く全ての位置で見える。上面視において、基板１００は穴３００の底部に沿って見える。図４および図５は、図３のそれぞれ切断線４−４および５−５に沿った断面図を含む。図４および図５に示すように、穴３００から離れたスタック１２０の部分は、穴３００を形成するときのパターン化操作によって実質的に影響を受けない。

一実施形態では、穴３００は、少なくとも２ミクロン、少なくとも５ミクロン、または少なくとも１１ミクロンの平均直径を有することができ、別の実施形態では、穴３００は、最大９００ミクロン、最大２００ミクロン、または最大５０ミクロンの平均直径を有することができる。他の実施形態では、穴３００は円形でなくてもよい。特定の実施形態では、上面視において見られるように、穴３００は楕円形であり得、平均短軸は平均直径に関して前述したような値を有し得る。別の特定の実施形態では、上面視において見られるように、穴３００は多角形であり得、平均幅は平均直径に関して前述したような値を有し得る。穴３００のピッチ（中心間距離）は、実質的に均一でも不均一でもよい。一実施形態では、穴３００は、少なくとも２ミクロン、少なくとも５ミクロン、または少なくとも１１ミクロンの平均ピッチを有することができ、別の実施形態では、穴３００は、最大９００ミクロン、最大２００ミクロン、または最大５０ミクロンの平均ピッチを有することができる。相対的な基準では、一組の穴３００内で、すぐ隣の穴３００は距離によって分離されており、距離の９０％は一組の穴３００の平均直径（幅）の最大３倍または一組の穴の平均直径（幅）の最大２倍である。本明細書を読んだ後、当業者は、穴３００のサイズおよび間隔が前述の値に限定されず、選択される特定のサイズおよび間隔が特定の用途に対する必要性または要望に依存し得ることを理解するであろう。

穴３００は、レーザ、スタンプ、またはリソグラフィプロセスを使用して形成することができる。一実施形態では、レーザは基板１００を通ってスタック１２０に向けられてもよい。したがって、レーザの波長は、基板１００と比較して、レーザのエネルギーがスタック１２０内の１つまたは複数の層によってより実質的に吸収されるように選択される。例えば、基板１００が鉱物ガラスを含み、下部透明導電層１２２がインジウムドープ酸化スズ（「ＩＴＯ」）を含む場合、鉱物ガラスと比較して、ＩＴＯがより強く赤外線を吸収するので、電磁放射の波長は赤外領域であり得る。特定のレーザおよびその対応する波長の選択は、基板１００およびスタック１２０内の特定の材料に依存し得る。

別の実施形態では、レーザビームが基板１００に到達する前にスタック１２０に到達するようにレーザを向けてもよい。レーザの選択は、レーザビームが基板１００を通って向けられる場合に使用される基準と同様であり得る。この特定の方法は、レーザビームが基板１００を通って向けられる方法と比較して、より高いエネルギー密度を必要とし得、且つ比較的正確に画定されていない穴を有してもよい（穴の側壁は垂直ではない）。

別の実施形態では、穴３０３を画定するためにスタンプを使用してスタック１２０をパターン化することができる。スタンプは、機械プレスの一部であり得るか、またはローラ上のもしくはローラに取り付けられたパターンの形態であり得る。

さらに別の実施形態では、マスキング操作を使用することができる。穴３００に対応する開口部を有するパターンを有するマスクをスタック１２０上に配置または形成することができる。マスクの開口部の下にあるスタック１２０の一部を除去して、穴３００を形成することができる。穴３００を画定した後、マスクを除去することができる。

さらなる実施形態では、穴３００は、スタック１２０全体を完全に貫通して基板１００を露出させる必要はない。例えば、穴３００は、下部透明導電層１２２または電極層１２４を貫通していなくてもよい。穴３００を形成するための他の多くの選択肢を使用することができる。本明細書を読んだ後、当業者は特定の用途に対して適切に機能する特定の方法を選択することができるであろう。

図６〜図８は、下部透明導電層１２２の一部から高抵抗領域６００を形成した後の図３〜図５に示した加工物の一部の説明図を含んでいる。変換は、実質的に形成されたバスバー間の漏れ電流が、切り換え状態にないときにデバイスの規定の最大許容電流を下回る、電気的な開部分または高抵抗部分をもたらす可能性がある。したがって、高抵抗領域とは、下部透明導電層１２２などの、除去された、または導電性を維持するそのような導電層の別の部分と比較して抵抗が著しく高くなった、導電層の部分を意味することを意図している。図６は、高抵抗領域６００を形成した後の加工物の上面図を含む。図６において、破線は、高抵抗領域６００がスタック１２０内の他の層によって覆われていることを示している。図７および図８は、図６のそれぞれ切断線７−７および８−８に沿った断面図を含む。図７に関するさらなる詳細は以下に説明する。図８に示すように、高抵抗領域６００を形成するとき、穴３００および高抵抗領域６００から離れたスタック１２０の部分は実質的に影響を受けない。

一実施形態では、高抵抗領域６００は少なくとも２ミクロン、少なくとも５ミクロン、または少なくとも１１ミクロンの幅を有することができ、別の実施形態では、高抵抗領域６００は最大９００ミクロン、最大２００ミクロン、または最大５０ミクロンの幅を有することができる。高抵抗領域６００は、穴３００の平均幅よりも広いまたは狭い幅を有することができる。本明細書を読んだ後、当業者は、高抵抗領域６００の幅が前述の値に限定されず、選択される特定の幅が特定の用途に対する必要性または要望に依存し得ることを理解するであろう。

プロセスのこの時点で下部透明導電層１２２は埋め込み層であるため、高抵抗領域６００を形成する際には注意が必要である。上部透明導電層１３０は高抵抗領域６００の上に無傷のまま残るので、上部透明導電層１３０は高抵抗領域６００の上に形成された後も導電性のままである。

高抵抗領域６００は、下部透明導電層１２２に選択的に影響を及ぼし、上部透明導電層１３０に著しい影響を及ぼさないエネルギー源を使用することによって形成することができる。一実施形態では、電磁放射を使用して下部透明導電層１２２の一部を加熱することができる。下部導電層１２２と上部導電層１３０の組成は異なっていてもよく、その結果、電磁領域は、上部透明導電層１３０と比較して下部導電層１２２によって著しく強く吸収される。したがって、下部導電層１２２および上部導電層１３０の材料および電磁放射の波長を適切に選択することによって、上部透明導電層１３０を著しく損傷することなく高抵抗領域６００を形成することが可能になる。

別の実施形態では、下部透明導電層１２２と上部透明導電層１３０は同じ組成を有することができる。別の実施形態では、下部透明導電層１２２および上部透明導電層１３０は異なる組成を有してもよいが、層１２２および１３０の１つの材料は電磁放射の有意な吸収度を有してもよい。レーザを使用することができ、高抵抗領域６００を形成するために使用されるエネルギー密度が穴３００を形成するために使用されるエネルギー密度よりも小さい。さらに、レーザは、過度の熱が上部導電層１３０に伝達される可能性を減らすためにパルス化されてもよい。図７は、高抵抗領域６００を選択的に形成するためにレーザが使用される図を含む。この特定の実施形態では、下部透明導電層１２２および下部電極層１２４の一部を混合して混合領域７０２を形成することができる。混合領域７０２の抵抗率は、下部透明導電層１２２を構成する材料の抵抗率よりも高い。下部透明導電層１２２の一部は、混合領域７０２を形成することに加えて、領域７０４内など、開口部３００間で除去されてもよい。

さらに別の実施形態（図示せず）では、基板１００と下部透明導電層１２２との間に他の透明層を形成することができ、電磁放射によって他の透明層と下部透明導電層１２２とが混合または反応する。したがって、下部電極層１２４は下部透明導電層１２２と混合する必要はない。さらに他の実施形態では、下部透明導電層１２２のみの一部が高抵抗領域６００に変換される。

さらなる実施形態では、等方性エッチャントを使用して下部透明導電層１２２を選択的にエッチングすることができる。このような実施形態は、透明導電層１２２と透明導電層１３０が異なる組成を有する場合に使用することができる。湿式または乾式等方性エッチャントを穴３００に導入し、スタック１２０内の他のどの層および基板１００よりも著しく速い速度で下部透明導電層１２２をエッチングすることができる。高抵抗領域を形成する際に、穴３００間の下部透明導電層１２２の全部または大部分を除去することができる。当業者は、この実施形態が他の実施形態と比較して同じレベルの寸法制御を有し得ないことを理解するが、等方性エッチングは、必要または望まれるならば依然として使用され得る。

高抵抗領域６００を形成した後、スタック１２０の残りの部分は、図８に示すように、乱されないままである。一実施形態では、上部導電層１３０、上部電極層１２８、およびイオン導電層１２６は、高抵抗領域６００上に無傷のまま残る。したがって、層１２６、１２８、および１３０は、領域７０４上のブリッジに類似しており、高抵抗領域６００の外側の位置で支持されている。層１２６および１２８は領域７０４の上に存在する必要はないが、機能的デバイスを達成する。

図９および図１０は、個々のエレクトロクロミックデバイス、実質的に形成されたバスバー用の開口部９２２および９３０、ならびに実質的に形成されたバスバーに関する適切な電気的接続のための開口部９４２を画定するのに使用される切断レーン９００を形成するために、スタック１２０内の層をパターン化した後の上面および断面図を含む。図１０は図９の切断線９−９に対応する。開口部９４２の理由および位置は、切断レーン９００を説明した後で理解することがより容易であり得る開口部９２２および９３０を説明した後で理解することがより容易であり得る。切断レーン９００および開口部９２２、９３０、および９４２の形成の順序は、提示された順序で実行される必要はない。したがって、切断レーン９００ならびに開口部９２２、９３０、および９４２の操作は、特定の用途、装置の利用可能性もしくは構成、または特定のプロセスフローに対するニーズおよび要望を満たす順序で実行することができる。

２．切断レーン９００
切断レーン９００は、スタック１２０を個々のエレクトロクロミックデバイスに対応する別々の部分に分離する。例えば、図２を参照すると、切断レーン９００は、図２において破線が見られる場所に形成される。特定の実施形態では、図９および図１０に示されているスタックの一部は、図２の領域２０４に対応する。鋸、レーザなどのツールを切断レーン９００内で使用して、切断レーン９００によって画定されたスタック１２０の異なる部分を含む基板１００を切断して、基板１００を個々のエレクトロクロミックデバイスに対応する様々な部品に分離することができる。切断レーン９００の幅は、ツールがスタック１２０に接触することなく、ツールが基板１００を切断することを可能にするのに十分である。図示の実施形態では、切断レーン９００はスタック１２０の全ての層を貫通する。別の実施形態（図示せず）では、切断レーン９００は、透明導電層１２２または１３０のうちの一方を貫通するが、導電層１２２および１３０のうちの他方へは貫通しない。切断レーン９００は、穴３００に関して前述した技術のいずれかを使用して画定することができる。切断レーン９００を画定するために使用される技術は、穴３００を画定するためにスタック１２０をパターン化することと比較して、同じでも異なってもよい。

３．開口部９２２および９３０
開口部９２２および９３０は、バスバーが後に形成される領域に対応する。開口部９２２、９３０は下部透明導電層１２２まで延びている。別の実施形態では、開口部９２２および９３０は下部透明導電層１２２を貫通し、その後に形成されるバスバーは下部透明導電層１２２の側壁に接触することができる。さらなる実施形態では、開口部９２２および９３０は異なる層を貫通してもよい。さらに他の実施形態では、上部透明導電層１３０への接触がその露出された上部露出面に沿って行われるので、開口部９３０は形成されなくてもよい。少なくとも開口部９２２の幅は、下部透明導電層１２２への低い接触抵抗を可能にするのに十分である。一実施形態では、開口部９２２および９３０の幅は実質的に同じであり、開口部９２２および９３０の深さは実質的に同じである。そのような実施形態では、バスバーのその後の形成は、異なる幅または異なる深さを有する開口部９２２および９３０と比較して、互いにより類似する。例えば、開口部９２２および９３０内では、単位距離当たりのバスバー用の材料の分配速度は実質的に同じであり得る。図９を参照すると、開口部９２２および９３０は、図９の左側および右側の近くで切断レーン９００まで完全に延びることができるか、またはそのような切断レーンに到達する前に停止する長さを有する。開口部９２２および９３０は、穴３００に関して前述した技法のうちのいずれかを使用して画定することができるが、基板１００を通過するレーザビームを使用する場合、レーザビームの波長は、パターン化されている層によって吸収され、パターン化されていないスタック１２０の層の部分に著しく悪影響を及ぼすべきではない。透明導電層１２２および１３０が同じ組成を有し、透明導電層１２２が開口部９２２および９３０の底部に沿って残ることになる場合、基板１００を通過するレーザビームは使用されなくてもよい。開口部９２２および９３０を画定するために使用される技術は、穴３００、切断レーン９００、またはその両方を画定することと比較して同じでも異なっていてもよい。

４．開口部９４２
開口部９４２は、高抵抗領域６００と同様の機能を提供する。開口部９４２は、開口部９２２内に続いて形成されるバスバーが、エレクトロクロミックデバイスの制御に使用される上部透明導電層１３０の一部に電気的に接続されるのを防ぐ。したがって、開口部９４２は少なくとも上部透明導電層１３０を貫通する。図示の実施形態では、開口部９４２は、上部透明導電層１３０および上部電極１２８を貫通する。別の実施形態（図示せず）では、開口部９４２は、イオン導電層１２６を貫通してもよく、またはさらに下部電極層１２４を貫通してもよい。図９を参照すると、開口部９４２は、図９の左側および右側の近くで切断レーン９００まで完全に延びることができるか、またはそのような切断レーンに到達する前に停止する長さを有する。開口部９４２は、穴３００に関して前述した技法のうちのいずれかを使用して画定することができるが、基板１００を通過するレーザビームを使用する場合、レーザビームの波長は、パターン化されている層によって吸収され、パターン化されていないスタック１２０の層に著しく悪影響を及ぼすべきではない。透明導電層１２２および１３０が同じ組成を有する場合、基板１００を通過するレーザビームは使用されなくてもよい。開口部９４２を画定するために使用される技術は、穴３００、切断レーン９００、開口部９２２および９３０、またはそれらの任意の組み合わせを画定するのと比較して同じでも異なっていてもよい。

５．バスバー１１２２および１１３０
図１１、１２、および１３は、バスバー１１２２および１１３０を形成した後の加工物の上面図および断面図を含む。図１２は、図１１の切断線１２−１２に沿った穴３００のうちの１つを通る断面図を含み、図１３は、図１１の切断線１３−１３に沿った２つの穴３００間の断面図を含む。図１１を参照すると、バスバー１１２２、１１３０はそれぞれ長さを有する。一実施形態では、バスバー１１２２および１１３０の長さは互いに実質的に平行である。本明細書で使用されるとき、実質的に平行とは、長さが、互いに平行である９°以内であることを意味することを意図する。開口部９４２および高抵抗領域６００はそれぞれ長さを有する。バスバーの長さの一方または両方は、開口部９４２の長さと実質的に平行である。バスバーの長さの一方または両方は、高抵抗領域６００の長さと実質的に平行である。さらに、高抵抗領域６００の長さは、バスバー１１２２および１１３０の一方または両方の長さの少なくとも２％延び、図示の実施形態では、高抵抗領域６００の長さは、バスバー１１２２および１１３０の一方または両方の長さの少なくとも５０％、少なくとも８０％、少なくとも９０％または少なくとも９５％である。高抵抗領域６００の長さがバスバー１１３０の長さの９０％以上である場合、このような長さは、下部透明導電層１２２を介したバスバー１１２２とバスバー１１３０との間の漏れ電流を十分に小さく維持するのに役立つ。

バスバー１１２２は、開口部９２２内に形成され（図９および図１０）、下部透明導電層１２２と接触し、エレクトロクロミックデバイス用の下部透明導電層１２２を制御するために使用される。バスバー１１２２はまた、上部導電層１３０の比較的小さい部分にも接触するが、開口部９４２は、エレクトロクロミックデバイスを制御するために使用される上部透明導電層１３０の部分からバスバー１１２２を電気的に絶縁する。

バスバー１１３０は、開口部９３０内に形成され（図９および図１０に見られる）、上部透明導電層１３０と接触する。図１２に見られるように、穴３００はバスバー１１３０に隣接している。ただし、図１３の断面図は、穴１３０間の平面に沿ったものである。さらに図１３に示すように、上部透明導電層１３０、上部電極層１２８、およびイオン導電層１２６は、高抵抗領域６００の上方で無傷のままである。図１１に示すように、上部透明導電層１３０のそのような部分は、バスバー１１３０がエレクトロクロミックデバイスのために上部電極層１２８上の電圧を制御することを可能にする。バスバー１１３０はまた、下部導電層１２２の比較的小さい部分にも接触するが、高抵抗領域６００は、バスバー１１３０が、エレクトロクロミックデバイスを制御するために使用される下部透明導電層１２２の他の部分に電気的に接続されるのを防止する。

上面視において示す実施形態では、高抵抗領域６００とそのより近いバスバーであるバスバー１１３０との間の距離を比較的小さく保つことができ、その結果、エレクトロクロミックデバイスを通した可視光の透過率が減少する場合、電子デバイスのより多くの領域が変化する可能性がある。上面視においての一実施形態では、高抵抗領域６００とバスバー１１３０との間の距離は、最大で２０ｍｍ、最大で９ｍｍ、または最大で２ｍｍであり、上面視においての別の実施形態では、高抵抗領域６００は、バスバー１１３０から少なくとも０．０１ｍｍ離れていてもよい。

バスバー１１２２および１１３０は、透明導電層１２２および１３０の材料よりも導電性が高い材料を含む。バスバー１１２２および１１３０は、銀、金、銅、アルミニウムなどの導電材料を含むことができる。特定の実施形態では、導電材料はインク内の金属フリットの一部であり得る。インクの形態である場合、インクは開口部９２２および９３０内の加工物上に印刷されてもよい。インクを分配した後、加工物を焼成してインク中の液体を蒸発させ、残りの材料の抵抗を下げ、そして下部透明導電層１２２との接触抵抗を減らすことができる。別の実施形態では、導電材料は粘性流体内に分散させることができる。粘性流体を硬化させて、金属充填エポキシなどの金属充填ポリマーを形成することができる。

６．基板を個々のパネルに切断する
基板１００はパネルに切断され、各パネルは透明導電層１２２および１３０の一部と、電極層１２４および１２８およびイオン導電層１２６の一部を含むエレクトロクロミックデバイスとを含む。図２を参照すると、切断は、領域２０１〜２０４、２１１、および２１２を個々のパネルに分離するために実行され得る。切断は、レーザまたはスクライブホイールもしくは鋸などの機械的デバイスによって行うことができる。

様々な操作が上記のセクション１〜６に説明されている。操作を実行する順序は変更されてもよく、したがって上記のリストは操作を実行するために必要な順序ではない。ただし、構成上または便宜上、一部の操作は他の操作の前に実行される。例えば、開口部９２２および９３０を形成するためにスタック１２０をパターン化することは、バスバー１１２２および１１３０を形成する前に行われる。他の実施形態において、開口部９３０は形成されず、バスバー１１３０は上部透明導電層１３０上に形成されてもよい。別の例として、切断が行われる前に、スタック１２０は、切断レーン９００を画定するようにパターン化される。スタック１２０が事前に除去された基板１００とは対照的に、切断が基板１００およびスタック１２０を通して行われる場合、切断操作はより複雑であるか、または電気的短絡または漏洩経路をもたらす可能性がある。切断操作がセクション１〜６に記載された操作の終わりまで遅れる場合、セクション１〜６を実行するのに使用される装置の全ては、１つまたは少数のサイズの基板に合わせて調整することができ、これによって、基板のサイズが異なることによる、基板の取り扱いに必要な装置の数、または装置のセットアップ数を低減するのに役立つことができる。

必要または望ましい場合には、汚染物質が穴３００のいずれかに入り込み、穴によって露出された材料のいずれかと反応するか、または有害な相互作用を有する可能性を低減するために、穴３００を充填または封止することができる。例えば、空気中の水蒸気はエレクトロクロミックデバイス内のリチウムと反応することがある。穴３００は、透明ポリマー、スパッタされたガラスなどで充填または封止することができる。

Ｃ．後続処理
セクション１〜６の操作を実行した後に製造された加工物は、絶縁ガラスユニット（ＩＧＵ）を形成する際に使用されるなどの他の透明基板に積層することができる。図１４は、基板１００およびスタック１２０を含むＩＧＵ１４００の断面図を含む。スタック１２０ならびにバスバー１１２２および１１３０の個々の層は、ＩＧＵ１４００内の構成要素の理解を簡単にするために、図１４に別に示されていない。図２および図１４を参照すると、基板１００とスタック１２０との組み合わせは、基板１００の領域２０４に対応する。ＩＧＵ１４００は、外側基板１４２０と、スタック１２０と外側基板１４２０との間に配置された太陽光制御フィルム１４１２とをさらに含む。シール１４２２が、基板１００と外側基板１４２０との間およびスタック１２０の周囲に配置されている。シール１４２２は、ポリイソブチレンなどのポリマーを含むことができる。外側基板１４２０は窓ガラス１４３０に結合されている。外側基板１４２０および窓ガラス１４３０のそれぞれは、強化ガラスとすることができ、２ｍｍ〜９ｍｍの範囲の厚さを有することができる。低放射率層１４３２を窓ガラス１４３０の内面に沿って配置することができる。外側基板１４２０および窓ガラス１４３０は、基板１００およびスタック１２０を囲むスペーサバー１４４２によって離間させることができる。スペーサバー１４４２は、シール１４４２を介して外側基板１４２０および窓ガラス１４３０に結合されている。シール１４４２は、ポリイソブチレンなどのポリマーとすることができる。シール１４４２は、シール１４２２と比較して同じまたは異なる組成を有することができる。接着接合部１４５０は、外側基板１４２０と窓ガラス１４３０とを一緒に保持するように設計されており、外側基板１４２０と窓ガラス１４３０の縁の全周に沿って設けられている。ＩＧＵ１４００の内部空間１４６０は、希ガスまたは乾燥空気などの比較的不活性なガスを含み得る。別の実施形態では、内部空間１４６０を真空にすることができる。特定の用途のために必要とされるかまたは望まれる場合、ＩＧＵのための他の設計が使用され得る。

図１４には多くの詳細が示されるが、基板１００およびスタック１２０の使用はＩＧＵに限定されない。例えば、基板１００とスタック１２０との組み合わせを使用して、ムーンルーフ、助手席側の窓の一部などの車両窓を形成することができる。成形または他の操作は、車両の曲率に一致するようにわずかに湾曲したものなど、所望の形状に実行することができる。したがって、実施例は単に例示的なものであり、添付の特許請求の範囲に定義されるような本発明の範囲を限定するものではない。

Ｄ．高抵抗率領域のための代替方法
１．高抵抗領域形成時の圧力
高抵抗領域が形成されている間に、スタック１２０に圧力を加えることができる。圧力は、スタック１２０が圧力の印加によって実質的に損傷を受けないように印加される。したがって、上部透明導電層１２８は、圧力が印加された後も導電性を保ち、無傷のままである。図１５の実施形態では、下部透明導電層１２２（図１５には個別に示されていない）の一部が高抵抗領域を有するスタック１５２０へ変換されるときに、圧力（図の中央付近の矢印で示される）がスタック１２０の一部に加えられる。スタック１５２０は、高抵抗領域６００を形成した後のスタック１２０と同様であり得、スタック内の１つまたは複数の層が高抵抗領域に変換されるのに対して、スタック内の他の層は変換によって大きな影響を受けない。図示の実施形態では、加圧機構１５００は、レーザビーム１５６２の上の領域でスタックに下向きの圧力を加えるローラ１５２２を含む。一実施形態では、加工物は、図の右側付近の矢印で示される方向に移動することができる。別の実施形態では、加工物は静止していてもよく、圧力機構１５２０およびレーザ１５６２を動かしてもよい。必要または所望である場合、フィルム１５４２をローラ１５２２とスタックとの間に配置して、ローラ１５２２によるスタックの損傷または汚染を減らすことができる。フィルムは、供給リール１５４４からローラ１５２２とスタックとの間を通過し、巻き取りリール１５４６によって巻き取ることができる。代替の実施形態では、フィルム１５４２とリール１５４４および１５４６は使用されなくてもよい。

異なる実施形態では、圧力機構１６００は、プレスの一部であるシャフト１６２２に結合されているプレート１６２０を含み得る。シャフト１６２２の上の矢印は加えられた力を示し、レーザの横の矢印は基板に対するレーザの動きを示す。プレート１６２０は、基板のより広い領域にわたって力をより均一に分配するのを助けることができる。したがって、レーザビーム１５６２上のスタックおよび基板１００に圧力を増加させることなく、ローラ１５２２と比較して、比較的高い力を使用することができる。

高抵抗領域を有するスタック１５２０を得るためにスタック１２０内に高抵抗領域を形成するプロセスは、高抵抗領域６００に関して前述した技術を使用することができる。穴３００は、図１５および１６に示すように、実施形態において形成されてもされなくてもよい。したがって、スタック１５２０内の高抵抗領域の形成は、図１５および図１６に示す実施形態に限定されない。

２．高抵抗領域を形成する前のスタック上の材料
図１７は、材料のシートまたはストリップ１７４０がスタック上に配置または形成されている実施形態を示す。したがって、材料１７４０は、下にあるスタックもしくは基板１００の端部、または基板１００の切断部分を超えて延びることができる（切断が前に行われた場合）。材料１７４０は、実質的に全てのスタック１２０の上に配置されてもよく、または高抵抗領域を含むスタック１５２０が形成される場所に局所化されてもよい。図１７に示す実施形態では、レーザビーム１５６２が図の左側から右側へ移動する。別の実施形態では、レーザビーム１５６２は静止していてもよく、加工物を移動させることができる。高抵抗領域を有するスタック１５２０を得るためにスタック１２０内に高抵抗領域を形成するプロセスは、高抵抗領域６００に関して前述した技術を使用することができる。したがって、スタック１５２０内の高抵抗領域の形成は、図１７に示す実施形態に限定されない。

材料１７４０の組成は、スタック１５２０内に高抵抗領域を形成した後に材料１７４０が除去されるか否かに依存し得る。例えば、Ｋａｐｔｏｎ（登録商標）ブランドのテープ（米国デラウェア州ＷｉｌｍｉｎｇｔｏｎのＥ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ＆Ｃｏ．から市販されている）などのポリイミドテープは、琥珀色を有する。色のために、そのようなテープがエレクトロクロミックデバイスの視野内に著しく侵入した場合（例えば、バスバーからテープにより近いところに１ｃｍを超えて延びる）、そのようなテープは除去され得る。他の組成物はポリイミドほどには見えない可能性がある。例えば、ポリ−（メチルメタクリレート）などのアクリル化合物は透明であり、基板１００上に保持され、除去されない可能性がある。あるいは、アクリル化合物または他のポリマー層を除去してもよい。材料１７４０がテープの形態である場合、それは高抵抗領域を形成した後に剥がされてもよい。材料１７４０がコーティングされている場合、残っていてもよく、または溶媒もしくはアッシングによって除去されてもよい。

さらなる実施形態では、材料１７４０は、圧力を加えることに関する前述の実施形態と併せて使用され得る。材料１７４０は、圧力を加えるときにスタックの損傷または汚染を減らすのを助けることができる。

特定の実施形態では、高抵抗領域の形成は、基板１００が個々の片に切断される後まで延期されてもよい。例えば、高抵抗領域を形成すること以外の全ての操作が行われてもよい。領域２０４に対応する基板１００の一部は、対向基板の形態とすることができる材料１７４０に取り付けることができる。対向基板は、基板１００または外側基板１４２０に関して前述したように、任意の材料とすることができる。スタック１５２０内に高抵抗領域を形成した後、対向基板はスタック１５２０に取り付けられたままでよく、対向基板は外側基板１４２０であり得るかまたは完成品に使用され得るか、あるいは対向基板は除去され得る。

３．熱勾配および高抵抗領域
熱勾配は、スタック１５２０を得るために、スタック１２０内に高抵抗領域を形成することと関連して使用されてもよい。図１８は、熱伝導性であり、スタックと接触している温度変更機構１８４２を含む。温度変更機構１８４２は、必要に応じて、それに連結されたライン１８４４および１８４６を含み得る。一実施形態では、温度変更機構１８４２はヒートシンクを含むことができ、ライン１８４４および１８４６はヒートシンクに結合された冷却流体ラインを含むことができる。別の実施形態では、冷却ラインはヒートシンクに結合されていなくてもよく、またはヒートシンクが高抵抗領域と接触している場合には非活性であってもよい。さらなる実施形態では、温度変更機構１８４２は加熱器を含むことができ、線１８４４および１８４６はワイヤを含んでもよく、電流が加熱器を通って流れることを可能にすることができる。別の実施形態では、冷却用または加熱用の流体は、ヒートシンクまたは加熱器なしでスタックの表面に向けられてもよい。例えば、流体は、加熱または冷却された乾燥空気、Ｎ_２、またはＣＯ_２などの超臨界流体を含んでもよく、スタックの表面上を流れてもよい。そのスタックの温度は、高抵抗領域の形成前、形成中、または形成後に温度変更機構１８４２または流体によって修正することができる。他の実施形態では、温度変更機構１８４２にはラインが接続されていなくてもよい。温度変更機構１８４２は、高抵抗領域が形成されているときに、温度を比較的一定に保つのを助けるのに十分な質量を有することができる。特定の実施形態では、温度変更機構１８４２は、高抵抗領域が形成されるときに加工物へまたは加工物から熱エネルギーを伝達するのを助けるためにフィン（図示せず）を有することができる。

４．その他の選択肢
スタック内に高抵抗領域を形成する方法は、本明細書に記載の実施形態に限定されない。本明細書に開示される方法の変形の他の方法によれば、非限定的な例示的実施形態である。

５．高抵抗領域の形成および穴
高抵抗領域を有するスタックを得るためにスタック１２０内に高抵抗領域を形成するプロセスは、高抵抗領域６００に関して前述したいくつかまたは全部の技術を使用することができる。穴３００は、代替の実施形態で説明または例示したように、実施形態では形成されてもされなくてもよい。したがって、スタック内の高抵抗領域の形成は、図１５〜図１８に示す実施形態に限定されない。

６．別の（対向）基板
図１９を参照すると、図９〜１３に示すように、開口部９４２と同様の位置で、下部透明導電層１２２に高抵抗領域６００を形成する前もしくは後、または上部透明導電層１３０に高抵抗領域を形成する前もしくは後に、別の基板１９００が基板１００、スタック１２０、またはその両方に積層されてもよい。他の基板１９００は、対向基板とすることができ、基板１００よりも厚くすることができる。特定の実施形態では、他の基板１９００は、基板１００に関して説明したような組成のいずれかを有することができる。他の基板１９００は、基板１００と比較して同じまたは異なる組成を有してもよい。基板１９００は、熱強化または化学強化されていてもいなくてもよい。特定の実施形態では、基板は、２ｍｍ〜９ｍｍの範囲の厚さを有することができるが、この範囲外の厚さを使用することもできる。

前述の実施形態と同様に、電磁放射は、スタック１２０内の１つまたは複数の層に影響を与えるために他の基板１９００を通って向けることができる。他の基板１９００を介した電磁放射への曝露は、前述の他の操作の代わりに、またはそれと併せて実行することができる。例えば、開口部９２２、９３０が画定されてもよく、下部透明導電層１２２を用いて、高抵抗領域を、上部透明導電層１３０を用いて高抵抗領域（図９〜図１３の開口部９４２の位置に対応する）を形成する前に、バスバー１１２２および１１３０が形成されてもよい。一方または両方の高抵抗領域は、他の基板１９００を通してレーザビームを向けることによって形成することができる。基板１００を通してレーザビームを向けるときに高抵抗領域を形成することに関して前述した考察は、レーザビームを他の基板１９００を通って向けるときに適切であり得る。穴３００は、この実施形態では使用されてもされなくてもよく、積層が形成される前または後に形成されてもよい。

７．高抵抗領域とバスバーとの間の他の間隔
高抵抗領域は、以前に開示されたものと比較して、バスバーからさらに離れて形成することができる。一実施形態では、一部がより広いスペクトルの可視光を通過させることができ、別の部分がその透過率を変えてもよいように、パネルを形成することができる。そのような実施形態は、室内または他の制御された空間内でより良いカラーバランスを維持するために有用であり得る。図２０を参照して、高抵抗領域２０６０は、高抵抗領域６００と比較して、領域２０４に対応するパネルの中央にかなり近く形成することができる。高抵抗領域２０６０は、高抵抗領域６００および１５２０を形成するための前述の技術の多くを使用して形成することができる。図２０に示すように、図の上部に近いスタック１２０の部分２０２２は、互いに電気的に短絡された透明導電層１２２および１３０を有し、したがって、部分２０２２はそのより高い透過率（漂白された）状態のままであり得る。図の底部により近いスタック１２０の部分２０２４は、可視光に対するその透過率を変えることができる。スタック１２０の部分２０２４が低透過状態（着色された）にある場合、青色光はそのような部分を通過することができるが、他の色は部分２０２４を通る透過率がより低い可能性がある。スタック１２０の部分２０２２は、室内または他の制御された空間内の対象物がそれほど青く見えないように、より広いスペクトルの光を提供するのを助けることができる。

他の構成が使用されてもよい。例えば、領域２０４に対応するパネルをフロントガラスに使用することができる。スタック１２０の部分２０２２は可変透過率を有することができ、スタック１２０の部分２０２４は、透明導電層１２２および１３０を互いに電気的に短絡させ、より高い透過率（漂白された）状態を維持させることができる。

高抵抗領域２０６０の位置は用途に依存し得る。一実施形態では、高抵抗領域２０６０は、バスバー１１２２および１１３０のそれぞれから少なくとも３ｃｍ、少なくとも５ｃｍ、または少なくとも１１ｃｍだけ離間することができる。

８．高抵抗領域の他のパターン
高抵抗領域は多くの異なる形状を有することができる。図２１は、高抵抗領域２１６０が蛇行パターンを有する図を含む。高抵抗領域は、のこぎり歯パターン、ジグザグパターン、方形波パターン、または他のパターンなどの他の形状を有することができる。したがって、パターンは特定の用途に合わせて調整することができ、または特定の外観を提供することができる。

Ｅ．利点
実施形態は、エレクトロクロミックデバイス用の従来の設計およびプロセスと比較して利点を提供することができる。スタック内のいずれかの層がパターン化される前に、層のスタックを基板上に堆積することができる。基板とスタックとの組み合わせは、一週間または一ヶ月を超えるような長期間にわたって製造および保管することができ、あるいはさらなる製造が行われる前に遠隔地に出荷することができる。最終製品が顧客に出荷される日に近づくまで不可逆的なパターン化を遅らせることによって、特定のサイズの在庫が多すぎることや、製造開始後にキャンセルされたカスタム注文の窓を廃棄しなければならない可能性を大幅に減らすことができる。さらに、後続の体積層を形成する前にスタック内の下層をパターン化する必要がないので、スタックの層間に粒子を導入する可能性を実質的に低減することができる。

上述のプロセスフローは柔軟性があり、穴、開口部、または高抵抗領域の形成における多くのパターン化操作は、様々な順序で実行することができる。さらに、高抵抗領域が形成されるときに埋め込み層である下部導電性透明層をパターン化するための多くの異なる技術が開示されている。したがって、当業者は、必要性に最も適するかまたは特定の用途に望ましい特定の技術を選択できる。

多くの異なる態様および実施形態が可能である。それらの態様および実施形態のいくつかを以下に説明する。本明細書を読んだ後、それらの態様および実施形態は例示にすぎず、本発明の範囲を限定しないことを当業者は理解するであろう。例示的な実施形態は、以下に列挙されるようなもののうちの任意の１つまたは複数に従うものであり得る。

実施形態１ 第１基板と、第１透明導電層と、第２透明導電層であって、第１透明導電層が、第１基板と第２導電性透明層との間に配置される、第２透明導電層と、第１透明導電層に電気的に接続されている第１バスバーと、第２透明導電層に電気的に接続されている第２バスバーとを含み、第１透明導電層は第１高抵抗領域を含み、第１バスバーと第２バスバーは互いに電気的に接続されず、電気デバイスは、上面視において、第１高抵抗領域が第１および第２バスバーから離間しており、第１バスバーは長さを有し、第１高抵抗領域は第１バスバーの長さの少なくとも２％の長さを有するか、またはそれらの任意の組み合わせを含む特徴を有する、電気デバイス。

実施形態２ 第１バスバーおよび第１高抵抗領域の長さは、互いに実質的に平行である、実施形態１に記載の電気デバイス。

実施形態３ 第１高抵抗領域の長さは、第１バスバーの長さの少なくとも５０％、少なくとも８０％、または少なくとも９５％である、実施形態２に記載の電気デバイス。

実施形態４ 第１基板と、第１透明導電層と、第２透明導電層であって、第１透明導電層が、第１基板と第２透明導電層との間に配置される、第２透明導電層とを含み、第１透明導電層は第１高抵抗領域を含み、第１穴は少なくとも第２透明導電層を貫通し、上面視において、第１穴は第１高抵抗領域に延びている、電気デバイス。

実施形態５ 第１基板と、第１高抵抗領域を含む第１透明導電層と、材料のストリップとを含み、第１高抵抗領域は第１基板と材料のストリップとの間に配置されている、電気デバイス。

実施形態６ 第１透明導電層と第２透明導電層との間に配置された第１電極層であって、第１電極層がエレクトロクロミック層とイオン貯蔵層のうちの一方である、第１電極層と、第１電極層と第２透明導電層との間に配置された第２電極層であって、第２電極層がエレクトロクロミック層とイオン貯蔵層のうちの他方である、第２電極層とを含む、エレクトロクロミックデバイスをさらに含む、実施形態１から５のいずれか一つに記載の電気デバイス。

実施形態７ 第１基板と、第１透明導電層と、エレクトロクロミックデバイスであって、エレクトロクロミック層とイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、エレクトロクロミック層とイオン蓄積層のうちの他方である第２電極層とを含む、エレクトロクロミックデバイスと、第２透明導電層とを含み、
第１透明導電層は、第１基板とエレクトロクロミックデバイスとの間に配置され、かつ第２電極層よりも第１電極層に近く、
エレクトロクロミックデバイスは、第１および第２透明導電層の間に配置され、第２透明導電層は、第１電極層よりも第２電極層に近く、混合領域は、第１透明導電層および第１電極層からの材料の混合物を含み、第２透明導電層は、無傷で混合領域の上または下にある部分を含む、電気デバイス。

実施形態８ 混合領域が、第１高抵抗領域の少なくとも一部である、実施形態７に記載の電気デバイス。

実施形態９ 第１電気デバイスおよび第２電気デバイスを形成するプロセスであって、
第１基板と、第１基板に隣接する層のスタックとを提供することであって、層のスタックが第１透明導電層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層の他方である第２電極層と、第２透明導電層とを含み、第１電極層は、第１透明導電層と第２透明導電層との間に配置され、第２電極層は、第１電極層と第２透明導電層との間に配置される、ことと、第１電気デバイスの第１レイアウトを決定することと、第１レイアウトを決定した後、第１透明導電層の第１部分を第１電気デバイスの第１レイアウト内の第１高抵抗領域に変換することと、第２電気デバイスの第２レイアウトを決定することと、第２レイアウトを決定した後、第１透明導電層の第２部分を第２電気デバイスの第２レイアウト内の第２高抵抗領域に変換することとを含む、プロセス。

実施形態１０ 第１基板を第１電気デバイスおよび第２電気デバイスに切断することをさらに含む、実施形態９に記載のプロセス。

実施形態１１ 第１レイアウトが第２レイアウトとは異なる、実施形態９または１０に記載のプロセス。

実施形態１２ 第１基板および層のスタックを提供することは、第１基板の上に重なる第１透明導電層を形成することと、第１透明導電層の上に重なる第１電極層を形成することと、第１電極層の上に重なる第２電極層を形成することと、第２電極層の上に重なる第２透明導電層を形成することとを含む、実施形態９から１１のいずれか一つに記載のプロセス。

実施形態１３ 第１透明導電層の形成、第１電極層の形成、第２電極層の形成、および第２透明導電層の形成は、第１透明導電層、第１電極層、第２電極層、および第２透明導電層のいずれかをパターン化する前に行われる、実施形態１２に記載のプロセス。

実施形態１４ 第１電気デバイスの第１レイアウトを決定すること、第２電気デバイスの第２レイアウトを決定すること、または第１および第２電気デバイスの第１および第２層を決定することは、第１透明導電層および第１電極層を形成した後に行われる、実施形態１２または１３のいずれか一つに記載のプロセス。

実施形態１５ 第１透明導電層、第１電極層、第２電極層、および第２透明層を形成した後で、第１基板を第１施設から第２施設に搬送することと、第１透明導電層の第１部分を第１高抵抗領域に変換する前に、第１透明導電層の第２部分を第２高抵抗領域に変換すること、または第１透明導電層の第１部分もしくは第２部分のいずれかを変換することとをさらに含む、実施形態１２から１４のいずれか一つに記載のプロセス。

実施形態１６ 電気デバイスを形成するプロセスであって、第１基板と、第１基板に隣接する層のスタックとを提供することであって、層のスタックは、第１透明導電層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層の他方である第２電極層と、第２透明導電層とを含み、第１電極層は、第１透明導電層と第２透明導電層との間に配置され、第２電極層は、第１電極層と第２透明導電層との間に配置される、ことと、スタックに圧力を加えることと、エレクトロクロミックスタックに圧力を加える間に、第１透明導電層の一部を第１高抵抗領域に変換することとを含む、プロセス。

実施形態１７ 圧力を加えることによって、スタックが実質的に損傷を受けないように圧力を加えることが行われる、実施形態１６に記載のプロセス。

実施形態１８ 電気デバイスを形成するプロセスであって、第１基板と、第１基板に隣接する層のスタックとを提供することであって、層のスタックは、第１透明導電層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層の他方である第２電極層と、第２透明導電層とを含み、第１電極層は、第１透明導電層と第２透明導電層との間に配置され、第２電極層は、第１電極層と第２透明導電層との間に配置される、ことと、
スタックの側面に沿って、スタックの少なくとも一部の熱勾配を変化させることと、
スタックの対向側面に沿って、スタックの少なくとも一部の熱勾配を変化させる間またはその後に、第１透明導電層の一部を第１高抵抗領域に変換することとを含む、プロセス。

実施形態１９ 熱勾配を変化させることが、第２透明導電層により近いスタックの側面に沿って冷却流体を向けることを含む、実施形態１８に記載のプロセス。

実施形態２０ 熱勾配を変化させることが、第２透明導電層により近いスタックの側面に沿って熱伝導体を配置することを含む、実施形態１８に記載のプロセス。

実施形態２１ 電気デバイスを形成するプロセスであって、第１基板と、第１基板に隣接する層のスタックとを提供することであって、層のスタックは、第１透明導電層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層の他方である第２電極層と、第２透明導電層とを含み、第１電極層は、第１透明導電層と第２透明導電層との間に配置され、第２電極層は、第１電極層と第２透明導電層との間に配置される、ことと、少なくとも第２透明導電層を貫通する第１穴を画定するように、スタックをパターン化することと、第１穴を画定するようにスタックをパターン化した後、第１透明導電層の一部を第１高抵抗領域に変換することとを含む、プロセス。

実施形態２２ スタックをパターン化することが、第１レーザを使用して実行される、実施形態２１に記載のプロセス。

実施形態２３ 第１透明導電層の一部を変換することが、第１穴の上または下を通過する第２レーザを使用して実行される、実施形態２２に記載のプロセス。

実施形態２４ スタックをパターン化することが第１レーザエネルギー密度で行われ、第１透明導電層の一部を変換することが、第１レーザエネルギー密度よりも小さい第２レーザエネルギー密度で行われる、実施形態２１に記載のプロセス。

実施形態２５ スタックをパターン化することがスタンプを使用して実行される、実施形態２１に記載のプロセス。

実施形態２６ 第１透明導電層の一部を第１高抵抗領域に変換する前に、スタックの上に材料のストリップを配置することをさらに含む、実施形態９から２５のいずれか一つに記載のプロセス。

実施形態２７ 第１透明導電層の一部を変換した後に、スタックから材料のストリップを除去することをさらに含む、実施形態２６に記載のプロセス。

実施形態２８ 第１基板、第２基板、および第１基板と第２基板との間に配置された層のスタックを含む積層を形成することをさらに含む、実施形態９から２７のいずれか一つに記載のプロセス。

実施形態２９ 第１透明導電層の一部を第１高抵抗領域に変換することが、第２基板を通してエネルギーを導入することによって行われる、実施形態２８に記載のプロセス。

実施形態３０ 第２透明導電層の一部を第２透明導電領域内の別の高抵抗領域に変換することをさらに含む、実施形態２８または２９に記載のプロセス。

実施形態３１ 第２透明導電層の一部を別の高抵抗領域に変換することが、第２基板を通してエネルギーを導入することによって行われる、実施形態３０に記載のプロセス。

実施形態３２ 第１穴が第２透明導電層を貫通し、上面視において、第１穴が第１高抵抗領域の上または下にある、実施形態１〜３および５〜３１のいずれか一つに記載の電気デバイスまたはプロセス。

実施形態３３ 第２透明導電層は、第１バスバー開口部と第２バスバー開口部とを画定するパターンを有し、第１透明導電層は、第１および第２バスバー開口部内に露出し、第１バスバーは、第１バスバー開口部内で第１透明導電層と接触し、第２バスバーは、第２バスバー開口部内で第１透明導電層と接触する、実施形態１〜３２のいずれか一つに記載の電気デバイスまたはプロセス。

実施形態３４ 第１バスバーが第１高抵抗領域の側面に沿って第１透明導電層の一部と接触し、第２バスバーが第１高抵抗領域の対向側面に沿って第１透明導電層の第２部分と接触する、実施形態３３に記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態３５ 第２穴が、前記第１穴から間隔を空けて配置され、少なくとも第２透明導電層を貫通し、上面視において、第２穴は第１高抵抗領域の上または下にあり、空隙は、第１穴と第２穴との間の空間から除去された第１透明導電層、第１電極層、またはその両方の特定の部分に対応し、第２透明導電層、第２電極層、またはその両方の一部は、空間内で空隙の上にある、実施形態４、６および２１から３４のいずれか一つに記載の電気デバイスまたはプロセス。

実施形態３６ 第１穴が、最大９００ミクロンまたは最大５０ミクロンの幅を有する、実施形態４、６および２１〜３５のいずれか一つに記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態３７ 電気デバイスが、少なくとも第２透明導電層を貫通する、第１穴を含む一組の穴を含む、実施形態４、６および２１〜３６のいずれか一つに記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態３８ 一組の穴の中で、穴の少なくとも９０％が最大９００ミクロンまたは最大５０ミクロンの幅を有する、実施形態３７に記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態３９ 上面視において、一組の穴が線に沿って配向され、第１高抵抗領域がラインに沿って延びる長さを有する、実施形態３７または３８に記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態４０ 一組の穴の中で、すぐ隣の穴は距離によって分離されており、距離の９０％は一組の穴の平均幅の最大３倍または一組の穴の平均幅の最大２倍である、実施形態３７から３９のいずれか一つに記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態４１ 電気デバイスが無機固体エレクトロクロミックデバイスを含む、実施形態１〜４０のいずれか一つに記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態４２ 第１電極層と第２電極層との間に配置されたイオン導電層をさらに含み、イオン導電層が無機材料を含む、実施形態１〜４１のいずれか一つに記載のプロセスの電気デバイス。

実施形態４３ 第１導電層よりも第２透明導電層に近い第２基板をさらに含み、第１基板は第２導電層よりも第１透明導電層に近い、実施形態１から２７および３２から４２のいずれか一つに記載の方法の電気デバイス。

実施形態４４ 第２基板が第１基板より厚い、実施形態２８から３１および４３のいずれか一つに記載のプロセスの電気デバイス。

一般的な説明または実施例において上述した全ての動作が必要とされるわけではなく、特定の動作の一部が必要とされないことがあり、さらに記載された動作に加えて１つまたは複数のさらなる動作が実行され得ることに留意されたい。なおさらに、動作が列挙される順序は必ずしもそれらが実行される順序ではない。

明確にするために、本明細書で別々の実施形態の文脈で説明されている特定の特徴は、単一の実施形態において組み合わせて提供することもできる。逆に、簡潔にするために単一の実施形態の文脈で説明されている様々な特徴は、別々にまたは任意の副組み合わせで提供することもできる。さらに、範囲で述べられた値への言及は、その範囲内のありとあらゆる値を含む。

利益、他の利点、および問題に対する解決策は、特定の実施形態に関して上記で説明されている。しかしながら、利益、利点、問題の解決策、および任意の利益、利点、解決策が発生またはより顕著になる可能性のある任意の機能は、いずれかまたは全ての特許請求の重要な、必須の、または本質的な特徴として解釈されるべきではない。

本明細書に記載された実施形態の明細書および図面は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供することを意図している。明細書および図面は、本明細書に記載の構造または方法を使用する装置およびシステムの全ての要素および特徴の網羅的かつ包括的な説明として役立つことを意図するものではない。別々の実施形態はまた、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよく、逆に、簡潔にするために単一の実施形態の文脈で説明されている様々な特徴は、別々にまたは任意の副組み合わせで提供することもできる。さらに、範囲で述べられた値への言及は、その範囲内のありとあらゆる値を含む。本明細書を読んだだけで、他の多くの実施形態が当業者には明らかであろう。本開示の範囲から逸脱することなく、構造的置換、論理的置換、または他の変更を行うことができるように、本開示から他の実施形態を使用して導き出すことができる。したがって、本開示は限定的ではなく例示的とみなされるべきである。

Claims (15)

1. 第１基板と、
   第１透明導電層と、
   第２透明導電層であって、前記第１透明導電層が、前記第１基板と前記第２透明導電層との間に配置されている、第２透明導電層と
   を含み、
   前記第１透明導電層が第１高抵抗領域を含み、
   第１穴が少なくとも前記第２透明導電層を貫通し、上面視において、前記第１穴は前記第１高抵抗領域まで延びる、電気デバイス。
2. エレクトロクロミックデバイスであって、
   エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、
   前記エレクトロクロミック層および前記イオン貯蔵層の他方である第２電極層と
   を含む、エレクトロクロミックデバイスをさらに含み、
   前記第１透明導電層は、前記第１基板と前記エレクトロクロミックデバイスとの間に配置され、前記第２電極層よりも前記第１電極層に近く、
   前記エレクトロクロミックデバイスは、前記第１および第２透明導電層の間に配置され、
   前記第２透明導電層は、前記第１電極層よりも前記第２電極層に近く、
   混合領域は、前記第１透明導電層および前記第１電極層からの材料の混合物を含み、
   前記第２透明導電層は、無傷で前記混合領域の上または下にある部分を含む、請求項１に記載の電気デバイス。
3. 前記混合領域は、前記第１高抵抗領域の少なくとも一部である、請求項２に記載の電気デバイス。
4. 第１基板と、
   第１透明導電層と、
   エレクトロクロミックデバイスであって、
   エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、
   前記エレクトロクロミック層および前記イオン貯蔵層の他方である第２電極層とを含む、エレクトロクロミックデバイスと、
   第２透明導電層であって、前記第１透明導電層が前記第１基板と第２導電性透明層との間に配置される、第２透明導電層と、
   前記第１透明導電層に電気的に接続されている第１バスバーと、
   前記第２透明導電層に電気的に接続された第２バスバーと
   をさらに含み、
   （１）第１透明導電層は、前記第１バスバーと前記第２バスバーとが互いに電気的に接続されないように、第１高抵抗領域を含み、前記電気デバイスは、
   上面視において、前記第１高抵抗領域が前記第１バスバーおよび前記第２バスバーから離間しており、
   前記第１バスバーは長さを有し、前記第１高抵抗領域は前記第１バスバーの前記長さの少なくとも２％の長さを有するか、または
   それらの任意の組み合わせを含む特徴を有し、
   （２）前記電気デバイスはさらに材料のストリップを含み、前記第１高抵抗領域は前記第１基板と前記材料のストリップとの間に配置されている、請求項１に記載の電気デバイス。
5. 第２穴は、前記第１穴から間隔を空けて配置され、少なくとも前記第２透明導電層を貫通し、上面視において、前記第１高抵抗領域の上または下にあり、
   空隙は、前記第１穴と前記第２穴との間の空間から除去された前記第１透明導電層、前記第１電極層、またはその両方の特定の部分に対応し、
   前記第２透明導電層、前記第２電極層、またはその両方の一部は、前記空間内でかつ前記空隙の上にある、請求項１から４のいずれか一項に記載の電気デバイス。
6. 前記第１穴は、最大９００ミクロンまたは最大５０ミクロンの幅を有する、請求項５に記載の電気デバイス。
7. 第１基板と、
   第１高抵抗領域を含む第１透明導電層と、
   材料のストリップであって、前記第１高抵抗領域が前記第１基板と前記材料のストリップとの間に配置されている、材料のストリップと
   を含む、電気デバイス。
8. 電気デバイスを形成するプロセスであって、
   第１基板と、前記第１基板に隣接する層のスタックとを提供することであって、前記層のスタックが、
   第１透明導電層と、
   エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、
   前記エレクトロクロミック層および前記イオン貯蔵層の他方である第２電極層とを含む、エレクトロクロミックデバイスと、
   第２透明導電層と
   を含み、
   前記第１電極層は前記第１透明導電層と前記第２透明導電層との間に配置され、前記第２電極層は前記第１電極層と前記第２透明導電層との間に配置される、ことと、
   少なくとも前記第２透明導電層を貫通する第１穴を画定するように前記スタックをパターン化することと、
   前記第１穴を画定するように前記スタックをパターン化した後に、前記第１透明導電層の一部を第１高抵抗領域に変換することと
   を含む、プロセス。
9. 前記第１透明導電層の前記一部を前記第１高抵抗領域に変換することは、
   前記スタックに圧力を加えて、前記第１透明導電層の前記一部を第１高抵抗領域に変換することを含む、請求項８に記載のプロセス。
10. 前記第１透明導電層の前記一部を前記第１高抵抗領域に変換することは、
    スタックの側面に沿って、スタックの少なくとも一部の熱勾配を変化させることと、
    前記スタックの対向側面に沿って、前記スタックの少なくとも一部の前記熱勾配を変化させる間またはその後に、前記第１透明導電層の前記一部を前記第１高抵抗領域に変換することと
    を含む、請求項８に記載のプロセス。
11. 前記第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された前記層のスタックとを含む積層を形成することをさらに含み、前記第１透明導電層の前記一部を前記第１高抵抗領域に変換することが、前記第２基板を通してエネルギーを導入することによって行われる、請求項８に記載のプロセス。
12. 前記第１透明導電層の前記一部を変換することが、前記第１穴の上または下を通過する第１レーザを使用して実行される、請求項８から１１のいずれか一項に記載のプロセス。
13. 前記スタックをパターン化することが、第２レーザを使用して実行される、請求項１２に記載のプロセス。
14. 前記第１透明導電層の前記一部を変換することは、第１レーザエネルギー密度で行われ、前記スタックをパターン化することは、前記第１レーザエネルギー密度より大きい第２レーザエネルギー密度で行われる、請求項１３に記載のプロセス。
15. 第１電気デバイスおよび第２電気デバイスを形成するプロセスであって、
    第１基板と、前記第１基板に隣接する層のスタックとを提供することであって、前記層のスタックが、
    第１透明導電層と、
    エレクトロクロミック層およびイオン貯蔵層のうちの一方である第１電極層と、
    前記エレクトロクロミック層および前記イオン貯蔵層の他方である第２電極層とを含む、エレクトロクロミックデバイスと、
    第２透明導電層と
    を含み、
    前記第１電極層は前記第１透明導電層と前記第２透明導電層との間に配置され、前記第２電極層は前記第１電極層と前記第２透明導電層との間に配置される、ことと、
    前記第１電気デバイスの第１レイアウトを決定することと、
    前記第１レイアウトを決定した後、前記第１透明導電層の第１部分を前記第１電気デバイスの前記第１レイアウト内の第１高抵抗領域に変換することと、
    前記第２電気デバイスの第２レイアウトを決定することと、
    前記第２レイアウトを決定した後に、前記第１透明導電層の第２部分を前記第２電気デバイスの第２レイアウト内の第２高抵抗領域に変換することと
    を含む、プロセス。

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