JP2020174081A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. スキン層が設けられた接触面で基板を洗浄する第１洗浄部材と、
   スキン層が設けられていない接触面で、前記第１洗浄部材によって洗浄された後の前記基板を洗浄する第２洗浄部材と、を備える基板処理装置。
2. 前記第２洗浄部材は、側面にスキン層が設けられている、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記第２洗浄部材は、スキン層が設けられた本体部と、前記接触面とスキン層が設けられたノジュール部と、を有する請求項１に記載の基板処理装置。
4. 気体が溶存した洗浄液を前記第２洗浄部材の内部に供給する洗浄液供給ユニットを備え、
   前記第２洗浄部材の内部に供給された洗浄液は、前記第２洗浄部材の接触面から前記基板上に到達する、請求項２または３に記載の基板処理装置。
5. 前記第１洗浄部材は、スキン層が設けられていない側面を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
6. 前記側面は、スキン層が設けられている第１部位と、スキン層が設けられていない第２部位と、で構成される、請求項５に記載の基板処理装置。
7. 前記第１部位は、前記第２部位よりも前記接触面に近い位置に設けられている、請求項６に記載の基板処理装置。
8. 気体が溶存した洗浄液を前記第２洗浄部材の内部に供給する洗浄液供給ユニットを備え、
   前記第２洗浄部材の内部に供給された洗浄液は、前記第２洗浄部材の表面から前記基板上に到達する、請求項１に記載の基板処理装置。
9. 前記洗浄液供給ユニットは、
   前記第２洗浄部材の内部に連通する供給ラインと、
   前記洗浄液に気体を溶解させる気体溶解部と、
   前記供給ラインにおいて、前記気体溶解部と前記第２洗浄部材との間に設けられたフィルタと、を有する、請求項８に記載の基板処理装置。
10. 前記洗浄液供給ユニットは、
    前記第２洗浄部材の内部に連通する供給ラインと、
    前記供給ラインに接続され、バブルを含む洗浄液を生成するバブル含有洗浄液生成部と、
    前記供給ラインにおいて、前記バブル含有洗浄液生成部と前記第２洗浄部材との間に設けられたフィルタと、を有する、請求項８に記載の基板処理装置。
11. 前記基板に到達する洗浄液は、バブルを含む、請求項８乃至１０のいずれかに記載の基板処理装置。
12. 前記基板に到達する洗浄液は、直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む、請求項１１に記載の基板処理装置。
13. 前記基板に到達する洗浄液は、直径が１００ｎｍ以上のバブルを含まない、請求項１２に記載の基板処理装置。
14. 第１洗浄部材におけるスキン層が設けられた接触面で基板を洗浄する第１洗浄工程と、
    その後、第２洗浄部材におけるスキン層が設けられていない接触面で前記基板を洗浄する第２洗浄工程と、を備える基板洗浄方法。
15. 前記第２洗浄工程では、前記第２洗浄部材の内部に直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む洗浄液を供給し、前記第２洗浄部材の表面から前記基板上に到達させつつ、前記第２洗浄部材による洗浄を行う、請求項１４に記載の基板洗浄方法。
16. 前記第２洗浄部材を初めて用いる前に、前記第２洗浄部材の内部に直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む洗浄液を供給し、前記第２洗浄部材の表面から排出させる工程を備える、請求項１４または１５に記載の基板洗浄方法。
17. ある基板の洗浄を終え、別の基板の洗浄を始める前に、前記第２洗浄部材の内部に直径が１００ｎｍ未満のバブルを含む洗浄液を供給し、前記第２洗浄部材の表面から排出させる工程を備える、請求項１４乃至１６のいずれかに記載の基板洗浄方法。