JP2020166155A - 液晶化合物積層体の製造方法、及び液晶化合物層の検査方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶化合物層積層体を製造するにあたり、廃棄物、必要エネルギーを少なくし、経済的に優れる液晶化合物層積層体の製造方法を提供することである。さらには、対象物に液晶化合物層を転写する前に液晶化合物層の検査を行うことができ、規格品外を大量に作ってしまうというリスクも回避できる製造方法及び検査方法を提供することである。【解決手段】 少なくとも下記（ａ）、（ｂ）の工程を含む、液晶化合物層積層体の製造方法。（ａ）鏡面反射性の表面を持つエンドレスベルトの鏡面反射性の表面に液晶化合物層を設ける工程、（ｂ）鏡面反射性表面上に設けられた液晶化合物層を転写対象物に転写することにより、転写対象物に液晶化合物が積層された液晶化合物層積層体を得る工程。【選択図】なし

Description

本発明は液晶化合物層を有する積層体（液晶化合物層積層体）の製造方法に関する、さらには、転写法により連続的に液晶化合物層を対象物に設けることによる液晶化合物層積層体の製造方法に関する。

近年、画像表示装置は薄型化が求められ、画像表示装置の各部材も薄型化が求められている。液晶表示装置で用いられる偏光板や有機ＥＬ表示装置の反射防止として用いられる円偏光板なども例外ではなく薄型化が求められている。

円偏光板などに用いられる位相差フィルムは、従来はトリアセチルセルロース系樹脂（ＴＡＣ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、アクリルといった樹脂フィルムを延伸して位相差を付与したものや、これら素材を用いたフィルムの表面に液晶化合物を配向させた層を設けたものが用いられてきたが、薄型化には限界があった。そこで、位相差フィルムを積層する方法ではなく離型性のフィルム上に位相差層を設け、この位相差層を偏光子など対象物に転写して、位相差層を積層する方法が行われてきている（特許文献１等）。

これらの位相差層を転写するための離型フィルムとしては、ＴＡＣフィルム、ＣＯＰフィルム、アクリルフィルムなどレタデーションのない透明なフィルムが用いられていた。
このような離型フィルムとしてレタデーションのない透明なフィルムを用いることにより、離型フィルムに位相差層が積層された状態で、片側から偏光を照射して反対側で受光し、位相差層の位相差の状態を検査することができる。これにより、工程上の異常などにより設計通りの位相差層が得られなかった場合には、対象物に転写する前に異常を発見することができ、規格品外の製品を大量に作ってしまうというリスクを回避することができる。

しかし、このような離型性のフィルムを使用する方法は、使用後のフィルムは廃棄されたり、樹脂原料としてリサイクルすることになり、環境への負荷が大きかったり、エネルギーが必要になったり、経済的には必ずしも好ましいものではなかったりするものであった。

特開２０１７−１４６６１６号公報

本発明は、かかる従来技術の課題を背景になされたものである。すなわち、本発明の目的は、液晶化合物層積層体を製造するにあたり、廃棄物、必要エネルギーを少なくし、経済的に優れる液晶化合物層積層体の製造方法を提供することである。さらには、対象物に液晶化合物層を転写する前に液晶化合物層の検査を行うことができ、規格品外を大量に作ってしまうというリスクも回避できる製造方法及び検査方法を提供することである。

本発明者は、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、本発明の完成に至った。
代表的な本発明は以下のとおりである。
項１．
少なくとも下記（ａ）、（ｂ）の工程を含む、液晶化合物層積層体の製造方法。
（ａ）鏡面反射性の表面を持つエンドレスベルトの鏡面反射性の表面に液晶化合物層を設ける工程
（ｂ）鏡面反射性表面上に設けられた液晶化合物層を転写対象物に転写することにより、転写対象物に液晶化合物が積層された液晶化合物層積層体を得る工程
項２．
エンドレスベルトが金属ベルトである項１に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
項３．
液晶化合物層が、位相差層である項１または２に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
項４．
転写対象物が偏光子を含むものである項３に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
項５．
位相差層がλ／４位相差層であることを特徴とする項３または４に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
項６．
位相差層積層体液晶化合物層積層体が円偏光板である項５に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
項７．
エンドレスベルトの表面に設けられた液晶化合物層を検査する方法であって、偏光をエンドレスベルトの液晶化合物層側から照射する工程（イ）、反射した偏光を受光する工程（ロ）を含む、液晶化合物層が設けられたエンドレスベルト上の液晶化合物層の検査方法。

本発明により、液晶化合物層積層体を製造するにあたり、廃棄物、必要エネルギーを少なくし、経済的に優れた方法で、液晶化合物層積層体を製造することができる。さらには、対象物に液晶化合物層を転写する前に液晶化合物層の検査を行うことができ、規格品外を大量に作ってしまうというリスクも回避することができる。

エンドレスベルトを備えた光配向制御層型の転写用設備の一例である。 図（a）はエンドレスベルトを備えたラビング配向制御層型の転写用設備（エンドレスベルト部分のみ）の一例であり、図（ｂ）はラビングロール部分の斜め上から見た図である。 エンドレスベルトを備えた光配向制御層型の転写用設備（エンドレスベルト部分のみ）の他の一例である。 エンドレスベルトを備えた光配向制御層型の転写用設備（エンドレスベルト部分のみ）の他の一例である。 エンドレスベルトを備えた光配向制御層型の二層同時転写用設備（エンドレスベルト部分のみ）の他の一例である。 エンドレスベルトを備えた、光学用粘着剤シートを用いた転写用設備の転写部分の一例である。 エンドレスベルト上の位相差層の検査設備の一例である。

（エンドレスベルト）
本発明に用いられるエンドレスベルトは、一般的にエンドレスベルトを構成できるものであれば特に制限がなく、樹脂やゴム含浸布帛、繊維強化樹脂、繊維強化ゴム、樹脂シート、や樹脂フィルム、金属、これらの積層物などが挙げられるが、中でも、強度、加熱や引っ張りに対する寸法安定性、耐熱性などの面で金属が好ましい。金属としては、鉄、アルミニウム、銅、チタン、これらの合金類などが挙げられる。これらの合金類としては、ステンレス、ジュラルミン、マグナリウム、アルミニウム青銅、真鍮、白銅、洋銅、ステンレスなどが挙げられ、中でもステンレスが好ましい。

エンドレスベルトの少なくとも片面は鏡面反射性の表面を持つことが必要である。なお、以下、鏡面反射性の表面を単に反射性表面と言うことがある。
表面を鏡面にする方法としては、エンドレスベルトが金属の場合（金属ベルト）であれば鏡面磨きをする方法が挙げられる。

また、金属ベルトの表面は、より鏡面性を上げるためや、位相差層との剥離性を上げるためにメッキ加工されていることが好ましい。メッキ加工としては、電解メッキ、無電解メッキ等があり、蒸着やスパッタ、CVDなども好ましい。

メッキとしては、非腐食性のものが好ましく、金、銀、クロム、ニッケル、亜鉛、コバルト、スズ、クロム系のものが挙げられ、中でも、ニッケル、コバルト、クロム系のものが好ましい。ニッケル、コバルト、クロム系のものとしては、単体だけでなく、ニッケル−クロム、ニッケル−コバルト、ニッケル−スズ、ニッケル−スズ−コバルト、ニッケル−リン、ニッケル−ホウ素、ニッケル−タングステン、ニッケル−鉄、ニッケル−亜鉛などが好ましいものとして挙げられる。また、耐摩耗性、濡れ性、潤滑性などの調整のため、ＳｉＣ、ｃＢＮ、ＰＴＦＥなどの微粒子を共析させた複合メッキとすることも好ましい。

金属以外のエンドレスベルトを鏡面反射性の表面とする方法としては、金属箔を積層する方法、表面に蒸着したり、スパッタなどで金属薄膜層を形成する等の方法が挙げられ、それぞれ合った方法で表面を平滑にして鏡面とすることができる。なお、用いられる金属としては、金属ベルトで挙げたものやメッキで挙げたものが好ましい。

反射性表面の粗さＲａは下限が好ましくは１ｎｍであり、より好ましくは１．５ｎｍであり、さらに好ましくは２．０ｎｍである。反射性表面の粗さＲａの上限は好ましくは３０ｎｍであり、より好ましくは２５ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍであり、特に好ましくは１５ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍである。

反射性表面の十点平均面粗さＲｚｊｉｓの下限は好ましくは５ｎｍであり、より好ましくは１０ｎｍであり、さらに好ましくは１３ｎｍである。反射性表面の十点平均面粗さＲｚｊｉｓの上限は好ましくは２００ｎｍであり、より好ましくは１５０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍであり、特に好ましくは１００ｎｍであり、最も好ましくは８０ｎｍである。

反射性表面の最大高さＲｚ（最大山高さＲｐ＋最大谷深さＲｖ）の下限は好ましくは１０ｎｍであり、より好ましくは１５ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍである。反射性表面の最大高さＲｚの上限は好ましくは３００ｎｍであり、より好ましくは２５０ｎｍであり、さらに好ましくは１５０ｎｍであり、特に好ましくは１２０ｎｍであり、最も好ましくは１００ｎｍである。

鏡面反射性の表面は、光沢度の下限が好ましくは２００％であり、より好ましくは３００％であり、さらに好ましくは４００％であり、特に好ましくは４５０％である。最も好ましくは５００％である。光沢度を上記以上にすることで、偏光紫外線により液晶化合物を配向させる時に設定通りの配向状態が得られる。また、液晶化合物層の配向状態を検査する時の正確性を確保することができる。

光沢度は、ＪＩＳ Ｚ８７４１（１９９７）の鏡面光沢度測定方法に基づき、屈折率１．５６７であるガラス表面において６０°の入射角の場合反射率１０％を光沢度１００（％）として測定した値である。

反射性表面が位相差層との剥離性に劣る場合は、離型層を設けてもよい。離型層は鏡面反射性を維持できるよう、透明であることが好ましい。離型層としては、樹脂、金属酸化物等が挙げられる。樹脂としては、アルキッド樹脂、アミノ樹脂、オレフィン樹脂、長鎖アクリレート共重合アクリル樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性アクリル樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。これらの樹脂の離型層は塗布によって設けられることが好ましい。

金属酸化物としては、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化スズ、これらの混合物等が挙げられる。これらは蒸着やスパッタ、ＣＶＤ等のドライプロセスによるもの、琺瑯がけのように粉体にして表面に付着させたあと、加熱溶融させる方法などが挙げられる。

離型層の厚みは各タイプにより異なるが、５ｎｍ〜１ｍｍが好ましく、１０ｎｍ〜０．５ｍｍが好ましい。
離型層は屈折率等方性であることが好ましい。離型層のレタデーションは１００ｎｍ以下が好ましく、さらには５０ｎｍ以下が好ましい。
離型層を設けた場合の離型層表面は、上記の反射性表面の粗さと同様である。

（液晶化合物層）
本発明では、上記の様なエンドレスベルトの反射性表面上に液晶化合物層を設け、これを対象物に転写する。
液晶化合物層を設ける方法は特に限定されるものではないが、液晶化合物を塗布によって設けることが好ましい。

液晶化合物層は位相差層や偏光層、円偏光反射層であることが好ましい。液晶化合物層を優れた偏光特性を持つ偏光層や適正な位相差、円偏光反射層を持つ位相差層にするためには、液晶化合物を配向させる必要がある。配向させる方法としては、液晶化合物を塗布後に偏光紫外線等を照射して直接液晶化合物を配向させる方法、エンドレスベルトの反射性表面に配向制御力を与えその配向制御力で液晶化合物を配向させる方法、液晶化合物層の下層としてエンドレスベルトに配向制御層を設け、配向制御層の配向制御力で液晶化合物を配向させる方法等がある。

液晶化合物を塗布後に偏光紫外線等を照射して直接液晶化合物を配向させる方法では、二重結合を有する液晶化合物を含む塗料をエンドレスベルトの反射性表面に塗布し、必要により溶剤を除去後、偏光紫外線を液晶化合物に照射して液晶化合物を配向させると共に二重結合を反応させて配向を固定する。

（配向制御層）
また、エンドレスベルトの反射性表面に配向制御層を設け、この配向制御層上に液晶化合物層を設ける方法も好ましい。なお、本発明において、液晶化合物層単独ではなく配向制御層と液晶化合物層を合わせた総称としても液晶化合物層と呼ぶことがある。配向制御層としては、液晶化合物層を所望の配向状態にすることができるものであれば、どのような配向制御層でもよいが、樹脂の塗工膜をラビング処理したラビング処理配向制御層や、偏光の光照射により分子を配向させて配向機能を生じさせる光配向制御層が好適な例として挙げられる。

（ラビング処理配向制御層）
ラビング処理により形成される配向制御層に用いられるポリマー材料としては、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリイミドおよびその誘導体、アクリル樹脂、ポリシロキサン誘導体などが好ましく用いられる。

以下、ラビング処理配向制御層の形成方法を説明する。まず、上記のポリマー材料を含むラビング処理配向制御層塗布液をエンドレスベルトの反射性表面上に塗布したのち、加熱乾燥等を行ない、ラビング処理前の配向制御層を得る。配向制御層塗布液は架橋剤を有していても良い。

ラビング処理配向制御層塗布液の溶剤としては、ポリマー材料を溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、セロソルブ、などのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマーブチロラクトン、などのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、などのケトン系溶剤；トルエン又はキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤、；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

ラビング処理配向制御層塗布液の濃度は、ポリマーの種類や製造しようとする配向制御層の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、０．２〜２０質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲が特に好ましい。塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。

加熱乾燥温度は、エンドレスベルトの材質にもよるが、３０℃〜１７０℃の範囲が好ましく、より好ましくは、５０〜１５０℃、さらに好ましくは、７０〜１３０℃である。乾燥温度が低い場合は乾燥時間を長く取る必要が生じ、生産性に劣る場合がある。乾燥温度が高すぎる場合、材質にもよるがエンドレスベルトが熱で伸びたり、熱収縮が大きくなったりし、設計通りの光学機能が達成できなくなったり、平面性が悪くなる場合がある。加熱乾燥時間は例えば０．５〜３０分であればよく、１〜２０分がより好ましく、さらには２〜１０分がより好ましい。

ラビング処理配向制御層の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、さらには０．０５〜５μｍ、特には０．１μｍ〜１μｍであることが好ましい。

次に、ラビング処理を施す。ラビング処理は、一般には塗工後のラビング処理配向制御層の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。一般的には、ナイロン、ポリエステル、アクリルなどの繊維の起毛布のラビングローラーを用い、配向制御層表面をラビング処理する。エンドレスベルト周方向（走行方向）に対して斜めの所定方向に配向する液晶化合物層を設けるためには配向制御層のラビング方向もそれに合った角度にする必要がある。角度の調整は、ラビングローラーとエンドレスベルトとの角度調整、エンドレスベルトの搬送速度とローラーの回転数の調整で合わせることができる。

（光配向制御層）
光配向制御層とは、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む塗工液をエンドレスベルトの反射性表面に塗布し、偏光、好ましくは偏光紫外線を照射することによって配向規制力を付与した配向膜のことをいう。光反応性基とは、光照射により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れ、λ/４位相差層の液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合であると好ましく、Ｃ＝Ｃ結合、Ｃ＝Ｎ結合、Ｎ＝Ｎ結合、Ｃ＝Ｏ結合からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応を起こしうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。さらにいえば、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。主鎖の構造としては、ポリイミド、ポリアミド、（メタ）アクリル、ポリエステル、等が挙げられる。

具体的な配向制御層としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特開２００２−２２９０３９号公報、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特開２０１３−３３２４８号公報、特開２０１５−７７０２号公報、特開２０１５−１２９２１０号公報に記載の配向制御層が挙げられる。

光配向制御層形成用塗工液の溶剤としては、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものであれば制限なく用いることができる。具体例としてはラビング処理配向制御層の形成方法で挙げたものが例示できる。光配向制御層形成用塗工液には、光重合開始剤、重合禁止剤、各種安定剤を添加することも好ましい。また、光反応性基を有するポリマー及びモノマー以外のポリマーや光反応性基を有するモノマーと共重合可能な光反応性基を有しないモノマーを加えても良い。

光配向制御層形成用塗工液の濃度、塗布方法、乾燥条件もラビング処理配向制御層の形成方法で挙げたものが例示できる。厚みもラビング処理配向制御層の好ましい厚みと同様である。

偏光は、配向前の光配向制御層面の方向から照射する。
偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収できる波長領域のものが好ましい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲の紫外線が好ましい。偏光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ−ザ−などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが好ましい。

偏光は、例えば前記光源からの光に偏光子を通過させることにより得られる。前記偏光子の偏光角を調整することにより、偏光の方向を調整することができる。前記偏光子は、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子が挙げられる。偏光は、実質的に平行光であると好ましい。

照射する偏光の角度を調整することにより、光配向制御層の配向規制力の方向を任意に調整することができる。

照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、さらには２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

（液晶化合物層）
液晶化合物層は、液晶化合物が配向されたものであれば特に制限はない。具体的な例としては、液晶化合物と二色性色素を含む偏光膜（偏光子）、棒状やディスコティック液晶化合物を含む位相差層、液晶化合物とキラル剤を含む円偏光反射層などが挙げられる。

（偏光膜）
偏光膜は一方向のみの偏光を通過させる機能を有し、二色性色素を含む。

（二色性色素）
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。

二色性色素は、３００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素は、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素は、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせても良いが、色調を調整（無彩色）にするため、２種以上を組み合わせることが好ましい。特には３種類以上を組み合わせるのが好ましい。特に、３種類以上のアゾ化合物を組み合わせるのが好ましい。

好ましいアゾ化合物としては、特開２００７−１２６６２８号公報、特開２０１０−１６８５７０号、特開２０１３−１０１３２８号、特開２０１３−２１０６２４号に記載の色素が挙げられる。

二色性色素はアクリルなどのポリマーの側鎖に導入された二色性色素ポリマーであることも好ましい。これら二色性色素ポリマーとしては特開２０１６−４０５５号で挙げられるポリマー、特開２０１４−２０６６８２号の［化６］〜［化１２］の化合物が重合されたポリマーが例示できる。

偏光膜中の二色性色素の含有量は、二色性色素の配向を良好にする観点から、偏光膜中、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１．０〜１５質量％がさらに好ましく、２．０〜１０質量％が特に好ましい。

偏光膜には、膜強度や偏光度、膜均質性の向上のため、さらに重合性液晶化合物が含まれていることが好ましい。なお、ここで重合性液晶化合物は膜として重合後の物も含まれる。

（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。
重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性を示す化合物は、サーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、また、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

重合性液晶化合物は、より高い偏光特性が得られるという点でスメクチック液晶化合物が好ましく、高次スメクチック液晶化合物がより好ましい。重合性液晶化合物が形成する液晶相が高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光膜を製造することができる。

具体的な好ましい重合性液晶化合物としては、例えば、特開２００２−３０８８３２号公報、特開２００７−１６２０７号公報、特開２０１５−１６３５９６号公報、特表２００７−５１０９４６号公報、特開２０１３−１１４１３１号公報、ＷＯ２００５／０４５４８５号公報、Ｌｕｂ ｅｔ ａｌ．Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５，３２１−３２８（１９９６）などに記載のものが挙げられる。

偏光膜中の重合性液晶化合物の含有割合は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、偏光膜中７０〜９９．５質量％が好ましく、より好ましくは７５〜９９質量％、さらに好ましくは８０〜９７質量％であり、特に好ましくは８３〜９５質量％である。

偏光膜は偏光膜組成物塗料を塗工して設けることができる。偏光膜組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。

溶剤としては、配向制御層塗布液の溶剤として挙げたものが好ましく用いられる。

重合開始剤は、重合性液晶化合物を重合させるものであれば限定はされないが、光により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。

増感剤は光増感剤が好ましい、例えば、キサントン化合物、アントラセン化合物、フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。

重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール類、チオフェノール類が挙げられる。

重合性非液晶化合物としては、重合性液晶化合物と共重合するものが好ましく、例えば、重合性液晶化合物が（メタ）アクリロイルオキシ基を有する場合は（メタ）クレート類が挙げられる。（メタ）クリレート類は単官能であっても多官能であっても良い。多官能の（メタ）アクリレート類を用いることで、偏光膜の強度を向上させることができる。重合性非液晶化合物を用いる場合は偏光膜中に１〜１５質量％とすることが好ましく、さらには２〜１０質量％、特には３〜７質量％にすることが好ましい。１５質量％を越えると偏光度が低下することがある。

架橋剤としては、重合性液晶化合物、重合性非液晶化合物の官能基と反応しうる化合物が挙げられ、イソシアネート化合物、メラミン、エポキシ樹脂、オキサゾリン化合物などが挙げられる。

偏光膜組成物塗料をエンドレスベルトの反射性表面上または配向制御層上に直接塗工後、必要により乾燥、加熱、硬化することにより、偏光膜が設けられる。

塗工方法としては、塗布する方法としては、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。

塗工後のエンドレスベルトは温風乾燥機、赤外線乾燥機などに導かれ、３０〜１７０℃、より好ましくは５０〜１５０℃、さらに好ましくは７０〜１３０℃で乾燥される。乾燥時間は０．５〜３０分が好ましく、１〜２０分がより好ましく、さらには２〜１０分がより好ましい。

加熱は、偏光膜中の二色性色素および重合性液晶化合物をより強固に配向させるために行うことができる。加熱温度は、重合性液晶化合物が液晶相を形成する温度範囲にすることが好ましい。

偏光膜組成物塗料に重合性液晶化合物が含まれる場合は、硬化するのが好ましい。硬化方法としては、加熱及び光照射が挙げられ、光照射が好ましい。硬化により二色性色素を配向した状態で固定することができる。硬化は、重合性液晶化合物に液晶相を形成させた状態で行うのが好ましく、液晶相を示す温度で光照射して硬化してもよい。光照射における光としては、可視光、紫外光及びレーザー光が挙げられる。取り扱いやすい点で、紫外光が好ましい。

照射強度は重合開始剤や樹脂（モノマー）の種類や量で異なるが、例えば３６５ｎｍ基準で１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、さらには２００〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましい。

偏光膜は、偏光膜組成物塗料を配向制御層上に塗布することで、色素が配向層の配向方向に添って配向し、その結果、所定方向の偏光吸収軸を有することになるが、配向制御層を設けず直接エンドレスベルトに塗工した場合は、偏光光を照射して偏光膜形成用組成物を硬化させることで、偏光膜を配向させることもできる。その後加熱処理することで二色性色素を強固に高分子液晶の配向方向に添って配向させることが好ましい。

偏光膜の厚さは、０．１〜５μｍであり、好ましくは０．３〜３μｍ、より好ましくは０．５〜２μｍである。

（位相差層）
位相差層は液晶表示装置の偏光子と液晶セルの間に光学補償のために設けられるものや、円偏光板のλ／４層、λ／２層等が代表的なものとして挙げられる。液晶化合物としては、生や負のＡプレート、正や負のＣプレート、Ｏプレートなど、目的に合わせて棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物などを使用することができる。

位相差の程度は、液晶表示装置の光学補償として用いられる場合は、液晶セルのタイプ、セルに用いられる液晶化合物の性質により適宜設定される。例えば、ＴＮ方式の場合はディスコティック液晶を用いたＯプレートが好ましく用いられる。ＶＡ方式やＩＰＳ方式の場合、棒状液晶化合物やディスコティック液晶化合物を用いたＣプレートやＡプレートが好ましく用いられる。また、円偏光板のλ／４位相差層、λ／２位相差層の場合は、棒状化合物を用いて、Ａプレートとすることが好ましく用いられる。これらの位相差層は単層だけでなく、組み合わせて複数の層にして用いられても良い。

これらの位相差層に用いられる液晶化合物としては、配向状態を固定できるという面で、二重結合などの重合性基を持つ重合性液晶化合物であることが好ましい。

棒状液晶化合物の例としては、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報、及び特開平１１−５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。
具体的な化合物としては、
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ_２
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−ＮＰｈ−ＯＣＯ−Ｐｈ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｎ−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ_２
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ２−ＯＣＨ_３
ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｏ−Ｐｈ１−ＣＯＯ−Ｐｈ１−Ｐｈ１−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｃ_２Ｈ_５
式中、ｍ、ｎは２〜６の整数であり、
Ｐｈ１、Ｐｈ２は１，４−フェニル基（Ｐｈ２は２位がメチル基であっても良い）であり、
ＮＰｈは２，６−ナフチル基である
が挙げられる。
これらの棒状液晶化合物は、ＢＡＳＦ社製からＬＣ２４２等として市販されており、それらを利用することができる。

これらの棒状液晶化合物は複数種を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。

また、ディスコティック液晶化合物としては、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、アザクラウン系、フェニルアセチレン系マクロサイクル等が挙げられ、特開２００１−１５５８６６号公報に様々なものが記載されており、これらが好適に用いられる。
中でもディスコティック化合物としては、下記一般式（１）で表されるトリフェニレン環を有する化合物が好ましく用いられる。

式中、Ｒ１〜Ｒ６はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、アルキル基、又は−Ｏ−Ｘで示される基（ここで、Ｘは、Ｘはアルキル基、アシル基、アルコキシベンジル基、エポキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基、アクリロイルオキシ変性アルキル基である）である。Ｒ１〜Ｒ６は、下記一般式（２）で表されるアクリロイルオキシ変性アルコキシベンジル基（ここで、ｍは４〜１０）であることが好ましい。

位相差層は位相差層組成物塗料を塗工して設けることができる。位相差層組成物塗料は、溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び、重合性非液晶化合物、架橋剤等を含んでもよい。これらは、配向制御層や偏光膜の部分で説明した物を用いることができる。

位相差層組成物塗料はエンドレスベルトの反射性表面または配向制御層上に塗工後、乾燥、加熱、硬化することにより、位相差層が設けられる。

これらの条件も配向制御層や偏光膜の部分で説明した条件が好ましい条件として用いられる。

位相差層は複数設けられることがあるが、この場合、１つのエンドレスベルト上に複数の位相差層を設けてこれを対象物に転写しても良い。

また、偏光層と位相差層を１つのエンドレスベルトの反射性表面上に設け、これを対象物に転写しても良い。さらに、偏光子と位相差層の間に保護層を設けたり、位相差層の上や位相差層の間に保護層を設ける場合がある。これらの保護層も位相差層や偏光膜と共にエンドレスベルト上に設けて対象物に転写しても良い。

（円偏光反射層）
円偏光反射層は、コレステリック液晶層であることが好ましい。円偏光反射層に用いられる液晶化合物としては、前述の偏光膜や位相差層で用いられる液晶化合物が挙げられる。

円偏光反射層をコレステリック液晶配向させるためには、円偏光反射層用塗料はキラル剤が含有されることが好ましい。キラル剤を含有させることにより、コレステリック液晶相の螺旋構造を誘起し、コレステリック液晶相が得られ易くなる。
キラル剤としては、例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super-twisted nematicdisplay）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載された化合物、イソソルビド、及び、イソマンニド誘導体等が挙げられ、特に制限されるものではない。キラル剤は、重合性基を有していることが好ましい。キラル剤は液晶化合物１００質量部に対して、１〜１０質量部であることが好ましい。

円偏光反射層は、例えば、特開平１−１３３００３号、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特開平８−２７１７３１号、WO2016/194497、特開2018-10086号などに記載されたものがあり、これらを参考とすることができる。

コレステリック液晶層は１層であっても良いが、コレステリック液晶層は反射特性には波長選択性があるため、可視光の広い領域で均一な反射特性とするためは、複数のコレステリック液晶層を設けることが好ましい。この場合、エンドレスベルト上に一層のコレステリック液晶層を設けてこれを対象物に転写することを繰り返すことで、複数のコレステリック液晶層を設けてもよい。また、１つのエンドレスベルト上に複数のコレステリック液晶層を設けてこれを対象物に転写しても良い。

また、円偏光反射層はλ／４位相差層、偏光層と組み合わせて輝度向上のための積層体として用いられることがある。この場合、例えば、λ／４位相差層、円偏光反射層をそれぞれ別のエンドレスベルト上に設けてこれを対象物（偏光板）に順に転写してもよく、１つのエンドレスベルト上にλ／４位相差層、円偏光反射層を設けてこれを対象物に転写してもよい。また、保護層を円偏光反射層と共にエンドレスベルト上に設けて対象物に転写しても良い。

保護層としては透明樹脂の塗工層が挙げられる。透明樹脂としては、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂など特に限定するものではない。これら樹脂に架橋剤を加えて架橋構造としても良い。また、ハードコートのようなアクリルなどの光硬化性の組成物を硬化させたものであっても良い。また、保護層をエンドレスベルト上に設けた後、保護層をラビング処理し、その上に配向制御層を設けることなく液晶化合物層を設けても良い。

（液晶化合物層積層体）
本発明では、エンドレスベルトの反射性表面上に液晶化合物層を設け、エンドレスベルト上に設けられた液晶化合物層を、転写対象物と貼り合わせて転写して、液晶化合物層積層体を作成する。
液晶化合物層積層体としては、フィルムに位相差層（液晶化合物層）が設けられた位相差フィルム、フィルムに偏光膜（液晶化合物層）が設けられた偏光板、偏光板に位相差層（液晶化合物層）が設けられた位相差層積層偏光板（例えば光学補償層付偏光板、円偏光板）、偏光板にλ／２位相差層（液晶化合物層）が設けられた偏光方向変換層付偏光板、フィルムに円偏光反射層（液晶化合物層）が設けられた円偏光反射板、λ／４位相差フィルムに円偏光反射層（液晶化合物層）が設けられた輝度向上フィルム、等が挙げられる。

転写対象物のフィルムは透明樹脂フィルムやガラスフィルムであることが好ましい。透明樹脂フィルムとしては、セルロース系、アクリル系、環状ポリオレフィン系、ポリエステル系などのフィルムが挙げられ、透明樹脂フィルムは位相差がないフィルムであっても、位相差があるフィルムであっても良い。

転写対象物の偏光フィルム（偏光板）は偏光子の両面に保護フィルムを有するものであっても、片面のみに保護フィルムを有するものであっても良く、保護フィルムを有しないものであっても良い。保護フィルムの変わりに保護コート層が設けられているものであっても良い。 また、転写対象となるフィルムが偏光子の場合、偏光子が後に剥離される基材上に設けられている偏光子であっても良い。中でも、片面のみに保護フィルムを有する偏光フィルムの偏光子面に本発明の方法によって位相差層が設けられたものであることが好ましい。

本発明により得られた位相差層積層体が位相差層積層偏光板の場合、位相差層積層偏光板は、液晶表示装置の光学補償層付き偏光板として用いられるものや、円偏光板として用いられるものが好ましい。円偏光板は有機ＥＬ表示装置やマイクロＬＥＤ表示装置等の反射防止用円偏光板であることが好ましい。

光学補償層付き偏光板や円偏光板の場合、位相差層は複数設けられることも多い。例えば、光学補償層付き偏光板の場合は、ＣプレートとＡプレートの組合せ、Ａプレート同士の組合せなどがあり、円偏光板の場合はＡプレートでλ／４位相差層とλ／２位相差層の組合せなどが挙げられる。

偏光方向変換層付偏光板の場合、偏光板は反射型偏光板や吸収型偏光板であることが好ましい。市販されている反射型偏光板は透過軸がフィルム製膜の流れ方向であり、一般的なＰＶＡフィルム延伸フィルムからなる吸収型偏光子は透過軸がフィルム製膜の幅方向であるため、ロールツーロールでの貼り合わせができない。反射型偏光板又は吸収型偏光板のどちらかにλ／２位相差層を設け、反射型偏光板又は吸収型偏光板の間にλ／２位相差層の遅相軸を透過軸と４５度の角度とすることで、ロールツーロールでの張り合わせが可能となる。
偏光方向変換層付偏光板は液晶表示装置の光源側に用いられ、液晶表示装置の輝度を向上させることができる。

輝度向上フィルムは液晶表示装置の光源側に用いられ、液晶表示装置の輝度を向上させることができる。また、有機ＥＬ表示装置等の反射防止用円偏光板と組み合わせて有機ＥＬ表示装置等の輝度向上フィルムや輝度低下が抑制された反射防止用円偏光板として用いられる。

以下に円偏光板を例として詳しく説明する。円偏光板の場合、位相差層としてはλ／４位相差層が用いられる。λ／４位相差層の正面レタデーションは１００〜１８０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは１２０〜１５０ｎｍである。円偏光板としてλ／４位相差層のみを用いる場合、λ／４位相差層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸は３５〜５５度が好ましく、より好ましくは４０度〜５０度、さらに好ましくは４２〜４８度である。ポリビニルアルコールの延伸フィルムの偏光子と組み合わせて用いる場合には、偏光子の吸収軸が長尺偏光子フィルムの長さ方向となることが一般的であるため、エンドレスベルト上にλ／４位相差層を設ける場合はエンドレスベルトの周方向（走行方向）に対して上記範囲となるように液晶化合物を配向させることが好ましい。なお、偏光子の透過軸の角度が上記と異なる場合は偏光子の透過軸の角度を加味して上記関係になるよう液晶化合物を配向させる。

エンドレスベルト上のλ／４位相差層を対象物である偏光板に転写することで円偏光板を作成する。具体的には、偏光板とエンドレスベルト上のλ／４位相差層面を貼り合わせたのち、偏光板とλ／４位相差層の積層体をエンドレスベルトから剥離して円偏光板を作成する。対象物である偏光板は偏光子の両面に保護フィルムが設けられているものでも良いが、片面のみに保護フィルムが設けられているものが好ましい。片面のみに保護フィルムが設けられている偏光板であれば、保護フィルムの反対面（偏光子面）に位相差層を貼り合わせることが好ましい。両面に保護フィルムが設けられているのであれば位相差層は画像セル側を想定している面に貼り合わせることが好ましい。画像セル側を想定している面とは、低反射層、反射防止層、防眩層など一般的に視認側に設けられる表面加工がされていない面である。位相差層が貼り合わされる側の保護フィルムはＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰなどで位相差のない保護フィルムであることが好ましい。また、保護フィルムの代わりに硬化性樹脂などの保護コート層が設けられている偏光板であってもよい。

偏光子としてはＰＶＡ系のフィルムを単独で延伸して作成した偏光子や、ポリエステルやポリプロピレンなどの未延伸基材にＰＶＡを塗工し、基材ごと延伸して作成した偏光子を偏光子保護フィルムに転写したものや、液晶化合物と二色性色素からなる偏光子を偏光子保護フィルムに塗工するか転写したもの等が挙げられ、いずれも好ましく用いられる。

貼り付ける方法としては、接着剤、粘着剤など従来知られているものを用いることができる。接着剤としてはポリビニルアルコール系接着剤、アクリルやエポキシなどの紫外線硬化型接着剤、エポキシやイソシアネート（ウレタン）などの熱硬化型接着剤が好ましく用いられる。粘着剤は、アクリルやウレタン系、ゴム系などの粘着剤が挙げられる。また、アクリル基材レスの光学用透明粘着剤シートを用いることも好ましい。

偏光子の位相差層を設ける側と反対側の偏光子保護フィルムとしてはＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリカーボネート、ポリエステルなど一般に知られているものが使用できる。中でもＴＡＣ、アクリル、ＣＯＰ、ポリエステルが好ましい。ポリエステルはポリエチレンテレフタレートが好ましい。ポリエステルの場合は、面内レタデーション１００ｎｍ以下、特には５０ｎｍ以下のゼロレタデーションフィルムであるか、３０００ｎｍ〜３００００ｎｍの高レタデーションフィルムであることが好ましい。

偏光子の位相差層を設ける側と反対側の偏光子保護フィルムとして、ポリエステルの高レタデーションフィルムを用いる場合、偏光サングラスをかけて画像を見た場合のブラックアウトや着色を防止する目的では、偏光子の透過軸とポリエステルフィルムの遅相軸の角度は３０〜６０度の範囲が好ましく、さらには３５〜５５度の範囲が好ましい。裸眼で角度の浅い斜め方向から観察した場合の虹斑などの低減のためには、偏光子の透過軸とポリエステルフィルムの遅相軸の角度は１０度以下、さらには７度以下にするか、もしくは８０〜１００度、さらには８３〜９７度にすることが好ましい。

偏光子の位相差層を設ける側と反対側の偏光子保護フィルムには、防眩層、反射防止層、低反射層、ハードコート層などが設けられていても良い。

（複合位相差層）
λ／４位相差層単独では可視光領域の広い範囲に渡ってλ／４とならずに着色が生じることがある。そのため、λ／４位相差層がλ／２位相差層と組み合わせて用いられる場合がある。λ／２位相差層の正面レタデーションは２００〜３６０ｎｍが好ましい。さらに好ましくは２４０〜３００ｎｍである。

この場合、λ／４位相差層とλ／２位相差層を合わせてλ／４となるような角度に配置されることが好ましい。具体的には、λ／２位相差層の配向軸（遅相軸）と偏光子の透過軸の角度（θ）は５〜２０度が好ましく、より好ましくは７度〜１７度である。λ／２位相差層の配向軸（遅相軸）とλ／４の配向軸（遅相軸）との角度は、２θ＋４５度±１０度の範囲が好ましく、より好ましくは２θ＋４５度±５度の範囲であり、さらに好ましくは２θ＋４５度±３度の範囲である。

この場合も、ポリビニルアルコールの延伸フィルムの偏光子と組み合わせて用いる場合には、偏光子の吸収軸が長尺偏光子の長さ方向となることが一般的であるため、エンドレスベルト上にλ／２位相差層やλ／４位相差層を設ける場合はエンドレスベルトの周方向または周の垂直方向に対して上記範囲となるように液晶化合物を配向させることが好ましい。なお、偏光子の透過軸の角度が上記と異なる場合は偏光子の透過軸の角度を加味して上記関係になるよう液晶化合物を配向させる。

これらの方法や、位相差層の例としては、特開２００８−１４９５７７号公報、特開２００２−３０３７２２号公報、ＷＯ２００６／１００８３０号公報、特開２０１５−６４４１８号公報等を参考とすることができる。

さらに、斜めから見た場合の着色の変化などを低減するためにλ／４位相差層の上にＣプレート層を設けることも好ましい形態である。Ｃプレート層はλ／４位相差層やλ／２位相差層の特性に合わせ、正または負のＣプレート層が用いられる。

これらの積層方法としては、例えば、λ／４位相差層とλ／２位相差層の組合せであれば、
・エンドレスベルト上にλ／４位相差層とλ／２位相差層をこの順に設け、これを偏光子上に転写する
・エンドレスベルト上にλ／２位相差層を設け、これを偏光子上に転写し、さらに別途エンドレスベルト上にλ／４位相差層を設け、これを偏光子とλ／２位相差層の積層体のλ／２位相差層面に転写する
と、いった方法を採用することができる。

また、Ｃプレートを積層する場合も、偏光子上に設けられたλ／４位相差層の上にエンドレスベルト上に設けられたＣプレート層を転写する方法や、エンドレスベルト上にＣプレート層を設け、さらにこの上にλ／４位相差層かλ／２位相差層とλ／４位相差層を設けてこれを転写する方法などの様々な方法が採用できる。

このようにして得られた円偏光板の厚みは、１２０μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは１００μｍ以下、さらには９０μｍ以下、特には８０μｍ以下が好ましく、最も好ましくは７０μｍ以下である。

位相差層の転写において、位相差層と対象となるフィルムの貼り合わせは、接着剤や粘着剤などを用いて貼り合わせることができる。接着剤としては、イソシアネート系、エポキシ系などの熱硬化型、アクリル系などの紫外線硬化型が挙げられ、紫外線硬化型の接着剤が特に好ましい。また、粘着剤は基材レスの光学用粘着剤シートを用いることが好ましい。

（本発明に用いられる設備）
本発明の方法に用いられる設備の例を、図を基に簡単に説明する。
図１は本発明の方法に用いられる装置の例の概略図である。
エンドレスベルト（１）は２本のエンドレスベルト駆動ロール（２）の間に設けられ、矢印の方向に動いている。また、エンドレスベルトは支持ロール（図示せず）により垂れ下がりを防いでいる。

コーターヘッド（３）により配向制御層組成物塗料がエンドレスベルト上に塗工され、乾燥用オーブン（５）で乾燥後、所定の方向の偏光紫外線が照射され、配向制御層に配向制御力が与えられる。偏光紫外線は配向制御層用の紫外線ランプ（７）の光を偏光フィルター（８）を使って偏光とし、偏光フィルター（８）は、偏光の方向を変えられるよう、回転可能になっている。
引き続き、コーターヘッド（４）により、エンドレスベルトの配向制御層上に液晶化合物を含む位相差層組成物塗料が塗工され、乾燥用オーブン（６）で乾燥される。さらに加熱処理用オーブン（１０）内で液晶化合物を配向させながら位相差層硬化用の紫外線ランプ（９）から紫外が照射され、液晶化合物が配向状態で固定化されることで、エンドレスベルト上に位相差層が設けられる。

一方、片面に保護フィルムを有する偏光板のロール状物（３１）から偏光板が巻き出され、これの偏光子面にコーターヘッド（４０）により紫外線硬化型接着剤が塗布された後、プレスロール（３３）により、エンドレスベルト上の位相差層と偏光板が重ね合わされ、紫外線ランプ（４２）により紫外線が照射され、貼り合わせられる。

偏光板−位相差層−配向制御層の積層体はガイドロール３４を経由してエンドレスベルト（１）から剥離され、円偏光板ロール状物（３２）として巻き取られる。

図２の図（ａ）は本発明に用いられる、ラビングにより配向制御層に配向制御力を付与する装置の一例である。ここでは、配向制御層は乾燥後、ラビングロール（１２）により表面がラビング処理される。
図２の図（ｂ）は、図２の図（ａ）のラビング処理部を斜め上部から見た図である。ラビングロール（１２）は円弧矢印の方向に可動し、ラビング方向が調整できるようになっている。

図３は本発明の方法に用いられる別の装置の例の概略図である。図１ではエンドレスベルトの上のみで配向制御層と位相差層を設けていたが、図３では上で配向制御層を設け、下で位相差層を設けている。

図４は本発明の方法に用いられる別の装置の例の概略図である。エンドレスベルトは３つの駆動ロールにより３角形の形状となっている。

図５は本発明の方法に用いられる別の装置の例の概略図である。第１の位相差層を上側で設け、第２の位相差層を下側で設けることで、エンドレスベルト上に二層の位相差層を設けて転写することができる。

図６は基材レスの光学粘着シートを用いて転写する場合の装置の一例の概略図である。光学粘着剤シートのロール（５１）から光学粘着剤シートが巻き出され、ガイドロール（３７）を通過して軽剥離離型フィルムが剥離される。
一方、偏光板のロール（３５）から片側のみに保護フィルムを有する偏光板が巻き出され、プレスロール（３８）部分で偏光板の偏光子面と光学粘着シートの粘着面が貼り合わされる。さらにプレスロール通過後、重剥離離形フィルムが剥がされ、偏光板の偏光子面に粘着層が設けられる。
さらに粘着層を有する偏光板はプレスロール（３９）部分でエンドレスベルト上の位相差層と貼り合わされた後、位相差層はエンドレスベルトから剥離されて偏光板に転写された後、円偏光板ロール状物（３６）として巻き取られる。

（エンドレスベルト上の位相差層の検査方法）
エンドレスベルト上の位相差層は、その光学特性をエンドレスベルトに積層した状態で検査できる。検査を行うための光は位相差層側から照射される。位相差層を通過した光はエンドレスベルトの鏡面反射性表面で反射され、さらに反射光は再び位相差層を通過する。この反射光の偏光状態を検査することで、位相差層の配向状態を知ることができる。

円偏光板に用いられるλ／４位相差層を例としてさらに詳細を説明する。

検査に用いる光源と位相差層との間には、偏光フィルターを設けることが好ましい。通常、円偏光等に用いられるλ／４層などは、エンドレスベルトの周方向に対して斜め方向に配向させるため、エンドレスベルトの周方向に対して平行または垂直の直線偏光を照射することが好ましい。エンドレスベルトの周方向に対して平行とは−１０〜＋１０度が好ましく、より好ましくは−７〜７度、さらに好ましくは−５〜５度、特に好ましくは−３〜３度、最も好ましくは−２〜２度である。エンドレスベルトの周方向に対して垂直とは８０〜１００度が好ましく、より好ましくは８３〜９７度、さらに好ましくは８５〜９５度、特に好ましくは８７〜９３度、最も好ましくは８８〜９２度である。通常用いられるポリビニルアルコールを延伸した偏光子は流れ方向に垂直な透過軸を有しているため、上記範囲を超えると実際の状態との差が大きくなり、正確な評価ができなくなる場合がある。

受光器と位相差層との間にも、偏光フィルターを設けることが好ましい。例えば、液晶化合物層がλ／４層やλ／４層とλ／２層との組合せであるような直線偏光を円偏光にするものである場合、設計通りの液晶化合物層の配向状態であれば反射光は直線偏光となっている。この直線偏光の振動方向の光を透過させないような角度に偏光フィルターを設置することで、位相差層が設定通りのものである場合には受光器で検出した光は消光状態であるが、光の漏れがある場合には位相差層が設計からずれていることが分かる。

検査に用いる光源と位相差層との間の偏光フィルターと受光器と位相差層との間の偏光フィルターは同一であってもよい。例えば、検査対象である液晶化合物層の幅を覆うような大きな偏光フィルターを用い、この偏光フィルターの検査対象である液晶化合物層とは反対の側に光源と受光器を設置してもよい。

位相差層が液晶ディスプレイに用いられる光学補償層などの場合は、位相差層と投光側偏光フィルターまたは受光側偏光フィルターとの間、もしくは両方の間に、位相差層により変化した偏光状態の反射光が設計通りの状態になった場合に直線偏光に変換させるための位相差板を設けることが好ましい。
この場合も上記と同様に位相差層が設定通りのものである場合には受光器で検出した光は消光状態であるが、光の漏れがある場合には位相差層が設計からずれていることが分かる。

また、設置する偏光フィルターの角度や位相差板の角度・位相差が少し異なる受光器を複数種設置し、位相差層の位相差や配向方向がどの方向にどれだけずれているかを検知することもできる。

以下、実施例を参照して本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に限定されず、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜変更を加えて実施することも可能であり、それらは、いずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
実施例における物性の評価方法は以下の通りである。

（１）表面粗さＲａ、Ｒｚｊｉｓ、Ｒｚ
接触型粗さ計（ミツトヨ社製，ＳＪ-４１０，検出器：１７８−３９６−２，スタイラス：標準スタイラス１２２ＡＣ７３１（２μｍ））を用いて測定される粗さ曲線から求めた。設定は以下の通りに行った。
曲線：R
フィルタ：GAUSS
λc：0.8mm
λs：2.5μm
測定長さ：5mm
測定速度：0.5mm/s
なお、値はＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠して求めた。

（２）鏡面光沢度
ＪＩＳ Ｚ８７４１（１９９７）の鏡面光沢度測定方法に基づき、屈折率１．５６７であるガラス表面において６０°の入射角の場合反射率１０％を光沢度１００（％）として測定した値である。光沢度の測定条件は以下のとおりである。
測定条件：Ｇｓ（６０°）
測定装置：株式会社村上色彩技術研究所製 ディジタル光沢計「（ＧＭ−３Ｄ）」

（光配向制御層組成物塗料）
特開２０１３−３３２４８号公報の実施例１、実施例２、実施例３の記載に基づき、下記式のポリマーのシクロペンタノン５質量％溶液を製造した。

（ラビング配向制御層組成物塗料）
・下記変性ポリビニルアルコール １０質量部
・水 ３７１質量部
・メタノール １１９質量部
・グルタルアルデヒド ０．５質量部

（位相差層用組成物塗料Ａ）
ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製） ９５質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート ５質量部
イルガキュア３７９ ３質量部
界面活性剤 ０．１質量部
メチルエチルケトン ２５０質量部

（位相差層用組成物塗料Ｂ）
液晶性ディスコティック化合物 １８質量部
エチレングリコール変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学工業（株）製） ２．０質量部
セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ０．４質量部
光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製） ０．６質量部
光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．２質量部
メチルエチルケトン ３４．３質量部
なお、上記液晶性ディスコティック化合物は、下記式に示す円盤状液晶性化合物である。

（ＰＶＡ偏光子転写用積層体）
熱可塑性樹脂基材として極限粘度０．６２ｄｌ／ｄのポリエチレンテレフタレートを押出機で溶融・混練後、冷却ロール上にシート状に押出、厚さ１００μｍの未延伸フィルムを作成した。この未延伸フィルムの片面に、重合度２４００、ケン化度９９．９モル％のポリビニルアルコールの水溶液を塗布および乾燥して、ＰＶＡ層を形成した。
得られた積層体を、１２０℃で周速の異なるロール間で長手方向に２倍に延伸して巻き取った。次に、得られた積層体を４％のホウ酸水溶液で３０秒間の処理を行った後、ヨウ素（０．２％）とヨウ化カリウム（１％）の混合水溶液で６０秒間浸漬し染色し、引き続き、ヨウ化カリウム（３％）とホウ酸（３％）の混合水溶液で３０秒間処理した。
さらに、この積層体を７２℃のホウ酸（４％）とヨウ化カリウム（５％）混合水溶液中で長手方向に一軸延伸を行い、引き続き、４％ヨウ化カリウム水溶液で洗浄、エアナイフで水溶液を除去した後に８０℃のオーブンで乾燥し、両端部をスリットして巻き取り、幅５０ｃｍ、長さ１０００ｍのＰＶＡ偏光子転写用積層体を得た。合計の延伸倍率は６．５倍で、偏光子の厚みは５μｍであった。なお、厚みは基材積層偏光子をエポキシ樹脂に包埋して切片を切り出し、光学顕微鏡で観察して読み取った。

（偏光板Ａの作成）
厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製、コスモシャイン（ＴＭ）ＳＲＦ）を幅５０ｃｍ、長さ１０００ｍにスリットし、ＰＶＡ易接着面に紫外線硬化型接着剤を塗布した後、ＰＶＡ偏光子転写用積層体の偏光子面と貼り合わせ、ロール状に巻き取った。

実施例１
図１で示した設備を用い、光配向制御層組成物塗料をコーターヘッド（３）からエンドレスベルトの反射性表面上に供給して塗布し、乾燥オーブン（５）に導いて８０℃で乾燥後、偏光紫外線を照射し、光配向制御層を設けた。偏光方向（電場の振動方向）は偏光フィルター（８）の角度を調節してエンドレスベルトの周方向（走行方向）に対して４５度とした。
引き続き、位相差層用組成物塗料Ａをコーターヘッド（４）から光配向制御層上に供給、塗布し、乾燥オーブン（６）に導き、１１０℃に加熱して溶媒を蒸発させると共に、棒状液晶性化合物（ＬＣ２４２）を配向させた。さらに、紫外線ランプ（９）を備える加熱処理用オーブン（１０）内で１１０℃の環境下で紫外線を照射し、位相差層を固定化した。

偏光板Ａのロールから偏光板Ａを巻きだし、ＰＶＡ偏光子転写用積層体作成時のポリエチレンテレフタレート基材を剥離し（図１では図示せず）、この偏光子面に紫外線硬化型接着剤をコーターヘッド（４０）を用いて塗布後、エンドレスベルト上の位相差層と重ね合わされた状態で紫外線ランプ（４２）を用いて紫外線を照射して貼り合わせ後、円偏光板（ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製、コスモシャイン（ＴＭ）ＳＲＦ）−偏光子−位相差層の積層体）をエンドレスベルトから剥離してロール状に巻き取った。

なお、エンドレスベルトは幅５０ｃｍ周長１５ｍのＳＵＳ３１６製で、鏡面研磨した面に無電解ニッケルメッキを施した。
鏡面反射性表面の特性は以下のとおりである。

また、エンドレスベルト上に設けられた位相差層は、図７に示したように、偏光板（６３、６４）を通して可視光（光源６１）を照射し、反射した光をＣＣＤカメラ（６２）で撮影したところ、反射が効果的に抑制されており、設計通りの位相差（１４０ｎｍ）となっていることが確認された。このときの偏光板（６３、６４）の吸収軸方向は両方ともエンドレスベルトの周方向と平行にした。

実施例２
位相差層用組成物塗料Ａの塗工厚みを変えたこと、及び、偏光紫外線の偏光方向をエンドレスベルトの周方向に対して７５度にして光配向制御層を設けたこと以外は実施例１と同様にして、エンドレスベルト上にλ／２位相差層を設け、これを偏光板Ａの偏光子面に転写し、偏光板Ａとλ／２位相差層との積層体を得、ロール状に巻き取った。

引き続き、偏光紫外線の偏光方向をエンドレスベルトの周方向に対して１５度として光配向制御層を設けたこと以外は実施例１と同様にして、エンドレスベルト上にλ／４位相差層を設け、これを上記の偏光板Ａとλ／２位相差層との積層体のλ／２位相差層上に転写して貼り合わせ、偏光板Ａ（ポリエチレンテレフタレートフィルム−偏光子）−λ／２位相差層−λ／４位相差層の積層体（円偏光板）を得、ロール状に巻き取った。

また、偏光板（６３）の吸収軸方向をエンドレスベルトの周方向と３０度になるようにし、偏光板（６４）の吸収軸方向を偏光板（６３）の吸収軸方向と９０度となるようにした以外は実施例１と同様にして、エンドレスベルト上に設けられたλ／２位相差層を観察したところ、反射が抑制されており、λ／２位相差層は設計通りの位相差（２８０ｎｍ）となっていることが確認された。

さらに、偏光板（６３、６４）の吸収軸方向をエンドレスベルトの周方向と６０度になるようにし、実施例１と同様にしてエンドレスベルト上に設けられたλ／４位相差層を観察したところ、反射が抑制されており、設計通りの位相差（１４０ｎｍ）となっていることが確認された。

実施例３
図１の装置の偏光紫外線照射装置（７）と遮光板（１１）を取り外し、図２に示したように、ラビングロール（１２）を取り付けた装置を用いた。
ラビング配向制御層組成物塗料をコーターヘッド（３）からエンドレスベルトの反射性表面上に供給、塗布し、乾燥オーブン（５）に導き８０℃で乾燥後、ラビングロール（１２）で、ラビング配向制御層表面をラビング処理した。ラビングロールの角度、回転数を調整して、ラビング方向がエンドレスベルトの周方向（走行方向）に対して４５度となるように行った。上記のようにして、エンドレスベルト上に光配向制御層の代わりに、ラビング処理配向制御層を設けたこと以外は実施例１と同様にして円偏光板のロールを得た。

（円偏光板の反射防止効果の評価）
市販の有機ＥＬテレビの円偏光板を剥がし、実施例１、２、３で得られた円偏光板を幅４０ｃｍ、長さ６０ｃｍに切り出し、位相差層がセル側になるように有機ＥＬ表示装置に光学用粘着剤シートを用いて貼り合わせた。円偏光板が貼り合わされていない部分と比較して反射防止効果を評価した。結果を表２に示す。
◎：効果的に反射が抑制されていた。
○：やや着色した反射光が認められたが、使用に問題のないレベルであった。
×：反射の抑制効果はほとんど無かった。

また、位相差層の厚みは数μｍであり、従来の位相差フィルムを用いた円偏光板（位相差層の厚み数十μｍと比較し、薄型化が可能であった。

実施例４
実施例１と同様にして光配向制御層を設け、この上に位相差層組成物塗料Ｂを塗布した。乾燥および紫外線照射時の温度は１２０℃となるようにし、エンドレスベルト上にディスコティック液晶化合物の円盤部分が傾斜配向した厚さ２μｍの位相差層を設けた。実施例１と同様にして、偏光板Ａの偏光子面に転写し、光学補償層が積層された偏光板のロール状物を得た。

（光学補償層が積層された偏光板の評価）
市販のＴＮタイプの液晶表示装置（パソコン用ディスプレイ）から、液晶パネルを取り出し、液晶パネルの視認側偏光板、光源側偏光板を剥がして液晶表示セルを準備した。一方、実施例４で得られた光学補償層が積層された偏光板ロールから、ディスプレイの大きさに切り出した偏光板を準備した。光学粘着剤シートを用いて、液晶表示セルの視認側と光源側に、位相差層をセル側になるようにして偏光板を貼り付けて、液晶パネルとし、元の液晶表示装置に組み込んだ。偏光板の吸収軸方向は元の偏光板の吸収軸方向と同じになるようにした。
画像を表示して観察したところ、斜め方向から見ても元の液晶表示装置とほぼ同等の画像再現性が認められた。なお、元の位相差フィルムが積層された偏光板の厚みが約１５０μｍ（デジタル厚み計で測定）に比べ、実施例４の偏光板の厚みは約８５μｍであり、薄型となっていた。

１ エンドレスベルト
２ エンドレスベルト駆動ロール
３、１３、２３ 配向制御層用コーターヘッド
４、１４、２４ 位相差層用コーターヘッド
５、１５、２５ 配向制御層用乾燥オーブン
６、１６、２６ 位相差層用乾燥オーブン
７、９、１７、１９、２７、２９ 紫外線ランプ
８、１８、２８ 偏光フィルター
１０、２０、３０ 加熱処理用オーブン
１１ 遮光板
１２ ラビングロール
３１、３５ ロール状偏光板（巻き出し）
３２、３６ ロール状位相差層積層偏光板（巻き取り）
３３、３８、３９ プレスロール
３４、３７ ガイドロール
４０ 接着剤用コーターヘッド
４１ バックアップロール
４２ 接着剤硬化用紫外線ランプ
５１ ロール状光学用粘着剤シート（巻き出し）
５２ 光学用粘着剤シートの軽剥離離型フィルム（巻き取り）
５３ 光学用粘着剤シートの重剥離離型フィルム（巻き取り）
６１ 可視光ランプ
６２ 検出器
６３、６４ 偏光フィルター

Claims (7)

1. 少なくとも下記（ａ）、（ｂ）の工程を含む、液晶化合物層積層体の製造方法。
   （ａ）鏡面反射性の表面を持つエンドレスベルトの鏡面反射性の表面に液晶化合物層を設ける工程
   （ｂ）鏡面反射性表面上に設けられた液晶化合物層を転写対象物に転写することにより、転写対象物に液晶化合物が積層された液晶化合物層積層体を得る工程
2. エンドレスベルトが金属ベルトである請求項１に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
3. 液晶化合物層が、位相差層である請求項１または２に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
4. 転写対象物が偏光子を含むものである請求項３に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
5. 位相差層がλ／４位相差層であることを特徴とする請求項３または４に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
6. 液晶化合物層積層体が円偏光板である請求項５に記載の液晶化合物層積層体の製造方法。
7. エンドレスベルトの表面に設けられた液晶化合物層を検査する方法であって、偏光をエンドレスベルトの液晶化合物層側から照射する工程（イ）、反射した偏光を受光する工程（ロ）を含む、液晶化合物層が設けられたエンドレスベルト上の液晶化合物層の検査方法。