JP2020105260A - Polymer and optical film including the same - Google Patents

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Abstract

To provide a novel polymer that has excellent phase difference properties and compatibility, and is suitable for an optical compensation film.SOLUTION: A polymer contains monomer residue units represented by formula (1) of 1 mol%-50 mol%. (R1 is an ester group, or a cyano group, R2-R5 each denote hydrogen or any substituent, and R2-R5 may form a condensed cyclic structure with the adjacent substituents).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、新規な重合体及びそれの製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する光学フィルム、特に液晶表示素子用及び有機ＥＬ用の光学補償フィルムに適した新規な重合体及びそれを用いた光学フィルムに関するものである。 The present invention relates to a novel polymer and a method for producing the same, and further to an optical film using the same, more specifically, an optical film having a high retardation even in a thin film, particularly for a liquid crystal display device and an organic film. The present invention relates to a novel polymer suitable for an optical compensation film for EL and an optical film using the same.

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。 Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including mobile phones, computer monitors, notebook computers, and televisions.

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。 Many optical films are used for liquid crystal displays in order to improve display characteristics. In particular, the retardation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or at an angle. As conventional retardation films, polycarbonate and cyclic polyolefin have been used, and all of these polymers are polymers having positive birefringence. Here, the sign of birefringence is defined as shown below.

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした屈折率楕円体で表すことができる。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。 The optical anisotropy of a polymer film molecularly oriented by stretching or the like is such that when the film is stretched, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the in-plane direction orthogonal to it is ny, and the film is Can be represented by a refractive index ellipsoid in which the refractive index in the thickness direction is nz. The fast axis means an axial direction having a low refractive index in the film plane.

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。 Negative birefringence means that the stretching direction is the fast axis direction, and positive birefringence means that the direction perpendicular to the stretching direction is the fast axis direction.

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。 That is, in uniaxial stretching of a polymer having negative birefringence, the refractive index in the stretching axis direction is small (fast axis: stretching direction), and in uniaxial stretching of a polymer having positive birefringence, an axial direction orthogonal to the stretching axis. Has a small refractive index (fast axis: direction perpendicular to stretching direction).

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。 Many macromolecules have positive birefringence. Acrylic resins and polystyrene are examples of polymers having negative birefringence, but acrylic resins have a small retardation, and their properties as retardation films are not sufficient. Since polystyrene has a large photoelastic coefficient in the low temperature region, it has a problem of retardation stability such as a change of phase difference with slight stress, and a practical problem of low heat resistance, and is not currently used. ..

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）などのディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。 A polymer stretched film exhibiting negative birefringence has a high refractive index in the thickness direction of the film and becomes a retardation film which has not been available in the past. Useful as a retardation film for compensating the viewing angle characteristics of displays such as displays (VA-LCD), in-plane alignment type liquid crystal displays (IPS-LCD), and reflection type liquid crystal displays (reflection type LCD), and viewing angle compensation films of deflection plates. Therefore, there is a strong market demand for a retardation film having negative birefringence.

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。 A method for producing a film has been proposed in which a polymer having a positive birefringence is used to increase the refractive index in the thickness direction of the film. One is a treatment method in which a heat-shrinkable film is adhered to one side or both sides of a polymer film, the laminate is heat-stretched, and a shrinkage force is applied in the film thickness direction of the polymer film (for example, Patent Documents 1 to 3). See). Further, a method of uniaxially stretching in-plane while applying an electric field to a polymer film has been proposed (for example, see Patent Document 4).

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子とマレイミド系共重合体等の透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。 Other than that, a retardation film composed of fine particles having negative optical anisotropy and a transparent polymer such as a maleimide-based copolymer has been proposed (for example, refer to Patent Document 5).

しかし、特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。 However, the methods proposed in Patent Documents 1 to 4 have a problem that productivity is inferior because the manufacturing process becomes very complicated. In addition, control of the uniformity of the phase difference and the like becomes significantly more difficult than control by conventional stretching.

特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。また、ディスプレイの用途拡大に伴い、より耐熱性の高い位相差フィルムが求められている。 The retardation film obtained in Patent Document 5 is a retardation film that exhibits negative birefringence by adding fine particles having negative optical anisotropy, and from the viewpoint of simplification of the production method and economical efficiency, There is a need for a retardation film that does not need to be added. Further, with the expansion of uses of displays, there is a demand for retardation films having higher heat resistance.

また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献６〜１２参照）。 Further, a fumaric acid diester-based copolymer and a retardation film made of the same have been proposed (see, for example, Patent Documents 6 to 12).

特許文献６〜１２で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。 Although the fumaric acid diester-based copolymers and films made thereof proposed in Patent Documents 6 to 12 have a high retardation, under the present circumstances, a film having a higher retardation is required even in a thin film. There is.

さらには、正の複屈折材料と負の複屈折材料の複合化による単膜型位相差フィルム材料が提案されており（例えば、特許文献１３及び１４参照）、より高性能な光学特性を達成するために複合化可能な負の複屈折を示す高分子材料が求められている。 Furthermore, a single film type retardation film material has been proposed by compounding a positive birefringent material and a negative birefringent material (see, for example, Patent Documents 13 and 14), and achieves higher performance optical characteristics. Therefore, a polymer material having a negative birefringence capable of being compounded has been demanded.

特許２８１８９８３号公報Japanese Patent No. 2818983 特開平０５−２９７２２３号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-297223 特開平０５−３２３１２０号公報JP 05-323120 A 特開平０６−８８９０９号公報JP-A-06-88909 特開２００５−１５６８６２号公報JP, 2005-156862, A 特開２００８−１１２１４１号公報JP, 2008-121141, A 特開２０１２−０３２７８４号公報JP 2012-032784 A ＷＯ２０１２／００５１２０号公報WO 2012/005120 特開２００８−１２９４６５号公報JP, 2008-129465, A 特開２００６-１９３６１６号公報JP, 2006-193616, A ＷＯ２０１４／０１３９８２号公報WO2014/013982 ＷＯ２０１４／０８４１７８号公報WO2014/084178 ＷＯ２０１４／１９６５５２号公報WO2014/196552 ＷＯ２０１６／０６０１１５号公報WO2016/060115

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、特定の構造の単量体単位とすることで、負の複屈折性を発現させ、かつ、耐熱性に優れる重合体及びそれを用いて得られる位相差特性及び異種ポリマーとの相溶性に優れた複合化が容易な重合体及びそれからなる光学フィルムを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and its object is to obtain a negative birefringence by using a monomer unit having a specific structure, and a polymer having excellent heat resistance and It is an object of the present invention to provide a polymer having excellent retardation characteristics and compatibility with a different polymer, which is easily obtained by using the polymer, and an optical film made of the polymer.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a specific copolymer can solve the above problems, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、以下の一般式（１）で表される単量体残基単位を含むことを特徴とする重合体及びそれを用いた光学フィルムに関するものである。 That is, the present invention relates to a polymer containing a monomer residue unit represented by the following general formula (1) and an optical film using the same.

（ここで、Ｒ１はエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）（ここで、Ｘ１は、水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示す。）またはシアノ基のいずれかの基を示し、Ｒ２〜Ｒ５は水素もしくは任意の置換基示し、Ｒ２〜Ｒ５は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
以下、本発明の光学補償フィルムに適した重合体について詳細に説明する。 (Wherein, R 1 is an ester group (-C (= O) OX 1 ) ( wherein, X 1 is hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl having 1 to 12 carbon atoms Group, or a group selected from the group consisting of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms) or a cyano group, R 2 to R 5 represent hydrogen or any substituent, and R 2 To R 5 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.)
Hereinafter, the polymer suitable for the optical compensation film of the present invention will be described in detail.

本発明の重合体は、一般式（１）で表される単量体残基単位を含む重合体である。そして、本発明の重合体は、一般式（１）で表される単量体残基単位を含んでなることにより、負の複屈折性及び異種ポリマーとの高い相溶性を発現させるものである。 The polymer of the present invention is a polymer containing a monomer residue unit represented by the general formula (1). The polymer of the present invention contains the monomer residue unit represented by the general formula (1), thereby exhibiting negative birefringence and high compatibility with different polymers. ..

本発明の一般式（１）におけるＲ１はエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）またはシアノ基のいずれかの基を示す。また、Ｒ２〜Ｒ５は水素もしくは任意の置換基を示し、Ｒ２〜Ｒ５は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。 R 1 in the general formula (1) of the present invention represents either an ester group (—C(═O)OX 1 ) or a cyano group. R 2 to R 5 represent hydrogen or any substituent, and R 2 to R 5 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.

Ｒ２〜Ｒ５における任意の置換基としては特に制限はないが、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン、メチル基、エチル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜１４の環状基、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、等のエステル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選択される基が挙げられ、縮合環構造としては、例えば、シクロヘキサン環構造、ベンゼン環構造、フラン環構造等の縮合環構造からなる群から選択される基が挙げられ、縮合環上に任意の置換基を有していてもよい。 The optional substituents for R 2 to R 5 are not particularly limited, but halogen such as fluorine, chlorine, bromine, etc., a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, isopropyl group, isobutyl, etc. A branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as a group, a cyclopentyl group, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms such as a cyclohexyl group, an ester group such as a methyloxycarbonyl group, an ethyloxycarbonyl group, an acetoxy group, and a methoxy group , A group selected from the group consisting of an alkoxy group such as an ethoxy group, and the condensed ring structure is selected from the group consisting of a condensed ring structure such as a cyclohexane ring structure, a benzene ring structure, and a furan ring structure. Groups, which may have an arbitrary substituent on the condensed ring.

Ｘ１は水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示し、アルキル基の炭素に任意の置換基を有していてもよい。炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 X 1 represents a group selected from the group consisting of hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. The carbon may have an arbitrary substituent. Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, and an n-hexyl group, and the like. Examples of the branched alkyl group of 12 include isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group and the like, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include cyclopropyl group and cyclobutyl group. , Cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group and the like.

そして、具体的な一般式（１）で表される単量体残基単位としては、芳香族環上に少なくとも１以上のヒドロキシル基を有する単量体単位であり、例えば、α−シアノ−２−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−３−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル残基単位、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル残基単位、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフタレニル）マロノニトリル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸メチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸エチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸ブチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸イソブチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸２−（メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸シクロペンチル残基単位、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸シクロヘキシル残基単位からなる群から選択される少なくとも１種の残基単位が挙げられる。 The specific monomer residue unit represented by the general formula (1) is a monomer unit having at least one hydroxyl group on the aromatic ring, and for example, α-cyano-2 -Hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-3-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-4-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid residue unit, α- Cyano-3-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid residue unit Acid methyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl residue unit , Α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano- 4-hydroxycinnamic acid sec-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl) residue unit, α-Cyano-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano 2-Methyl-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid ethyl residue Group unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid propyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4 -Butyl hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid sec-butyl residue unit, α-Cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl) residue unit, α-cyano-2 -Methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl residue unit, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclohexyl residue unit Position, α-cyano-3-methyl-4-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxy-ben Zalmalononitrile, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-3-methyl-4 -Ethyl hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid propyl residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α- Butyl cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid sec-Butyl residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl) residue Unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl residue unit, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclohexyl residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxy Naphthalenyl)malononitrile residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)methyl acrylate residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)ethyl acrylate residue unit, α-cyano -1-(4-hydroxynaphthyl)propyl acrylate residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)acrylate isopropyl residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)butyl acrylate Residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)isobutyl acrylate residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)sec-butyl acrylate residue unit, α-cyano-1- Tert-Butyl (4-hydroxynaphthyl)acrylate residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)acrylate 2-(methoxyethyl) residue unit, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl) ) A cyclopentyl acrylate residue unit and at least one residue unit selected from the group consisting of α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)cyclohexyl acrylate residue units.

一般式（１）で表される残基単位のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現することから、４−位にヒドロキシル基を有する残基単位が好ましく、α−シアノ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が好ましく、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位からなる群から選択される少なくとも１種の残基単位がさらに好ましい。これらの残基単位は１種でもよいし２種以上含んでいてもよい。 Among the residue units represented by the general formula (1), a residue unit having a hydroxyl group at the 4-position is preferable because it exhibits higher negative retardation and higher compatibility with different polymers. , Α-cyano-4-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-4-hydroxy Ethyl cinnamate residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid butyl residue Group unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid sec-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl residue Unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl) residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid cyclohexyl residue A unit is preferable, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl residue unit, α -Isocyano-4-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano-4- Sec-Butyl hydroxycinnamic acid residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl) residue unit, α- More preferred is at least one residue unit selected from the group consisting of a cyano-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl residue unit and an α-cyano-4-hydroxycinnamic acid cyclohexyl residue unit. These residue units may be used alone or in combination of two or more.

本発明の一般式（１）で表される単量体残基単位を含む重合体は、良好な光学特性を発現するため、さらに一般式（２）で表される単量体残基単位を含むことが好ましい。 The polymer containing the monomer residue unit represented by the general formula (1) of the present invention exhibits good optical characteristics, and therefore, the monomer residue unit represented by the general formula (2) is further added. It is preferable to include.

（ここで、Ｒ６〜Ｒ１０はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、メルカプト基、アルコキシ基（−ＯＸ２）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ３または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ４）、アミノ基（−ＮＸ５（Ｘ６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ７）（Ｘ８）または−ＮＸ９Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１０）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１１）（ここで、Ｘ２〜Ｘ１１は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示し、アルキル基もしくは環状基の水素が任意のヘテロ原子で置換されていてもよい）からなる群から選択される基を示す。また、Ｒ６〜Ｒ１０は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
Ｒ６〜Ｒ１０におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。 (Here, R 6 to R 10 are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, Cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, mercapto group, alkoxy group (-OX 2 ), ester group (-C(=O)OX 3 or -CO(=O)-X 4 ), amino group (- NX 5 (X 6), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8) or -NX 9 C (= O) X 10) , or an acyl group (-C (= O) X 11 ) (Here, X 2 to X 11 are each independently a group consisting of a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A hydrogen atom of an alkyl group or a cyclic group may be substituted with any hetero atom), and R 6 to R 10 are adjacent substituents. The groups may form a condensed ring structure.)
Examples of the halogen in R 6 to R 10 include fluorine, chlorine and bromine, and examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group, Examples thereof include a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as a pentyl group and a hexyl group, and examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-group. Examples thereof include a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as butyl group, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclopentanyl group, phenyl. Groups, naphthyl groups, anthryl groups, furyl groups, pyranyl groups, pyrrolyl groups, imidazolyl groups, pyridyl groups, indolyl groups, carbazolyl groups, and other cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms, and specific alkoxy groups include For example, a methoxy group, an ethoxy group, and the like, and specific ester groups include, for example, a methyloxycarbonyl group, an ethyloxycarbonyl group, an acetoxy group, and a propoxy group, and specific amide groups include For example, a dimethylamide group, a diethylamide group and the like, specific acyl groups include, for example, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, and the like, specific amino groups include, for example, a dimethylamino group, Examples thereof include a diethylamino group.

Ｘ２〜Ｘ１１における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in X 2 to X 11 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an isobutyl group, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: Examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group and a naphthyl group.

そして、具体的な一般式（２）で表される単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、２−フルオロスチレン残基単位、３−フルオロスチレン残基単位、４−フルオロスチレン残基単位、２−ブロモスチレン残基単位、３−ブロモスチレン残基単位、４−ブロモスチレン残基単位、２−クロロスチレン残基単位、４−クロロスチレン残基単位、２−メチルスチレン残基単位、３−メチルスチレン残基単位、４−メチルスチレン残基単位、２−エチルスチレン残基単位、３−エチルスチレン残基単位、４−エチルスチレン残基単位、２−プロピルスチレン残基単位、３−プロピルスチレン残基単位、４−プロピルスチレン残基単位、２−ブチルスチレン残基単位、３−ブチルスチレン残基単位、４−ブチルスチレン残基単位、２，３−ジメチルスチレン残基単位、２，４−ジメチルスチレン残基単位、２，５−ジメチルスチレン残基単位、３，４−ジメチルスチレン残基単位、２−イソプロピルスチレン残基単位、３−イソプロピルスチレン残基単位、４−イソプロピルスチレン残基単位、２−イソブチルスチレン残基単位、３−イソブチルスチレン残基単位、４−イソブチルスチレン残基単位、２−（２−エチルヘキシル）スチレン残基単位、３−（２−エチルヘキシル）スチレン残基単位、４−（２−エチルヘキシル）スチレン残基単位、４−フェニルスチレン残基単位、４−クロロメチルスチレン残基単位、４−シアノメチルスチレン残基単位、４−トリフルオロメチルスチレン残基単位、２−シアノスチレン残基単位、３−シアノスチレン残基単位、４−シアノスチレン残基単位、２−ニトロスチレン残基単位、３−ニトロスチレン残基単位、４−ニトロスチレン残基単位、２−ヒドロキシスチレン残基単位、３−ヒドロキシスチレン残基単位、４−ヒドロキシスチレン残基単位、２−カルボキシスチレン残基単位、３−カルボキシスチレン残基単位、４−カルボキシスチレン残基単位、２−メルカプトスチレン残基単位、３―メルカプトスチレン残基単位、４−メルカプトスチレン残基単位、２−メトキシスチレン残基単位、３−メトキシスチレン残基単位、４−メトキシスチレン残基単位、２−エトキシスチレン残基単位、３−エトキシスチレン残基単位、４−エトキシスチレン残基単位、２−プロポキシスチレン残基単位、３−プロポキシスチレン残基単位、４―プロポキシスチレン残基単位、２−ブトキシスチレン残基単位、３−ブトキシスチレン残基単位、４−ブトキシスチレン残基単位、２，３−ジメトキシスチレン残基単位、２，４−ジメトキシスチレン残基単位、２，５−ジメトキシスチレン残基単位、３，４−ジメトキシスチレン残基単位、２−イソプロポキシスチレン残基単位、３−イソプロポキシスチレン残基単位、４−イソプロポキシスチレン残基単位、２−フェノキシスチレン残基単位、３−フェノキシスチレン残基単位、４−フェノキシスチレン残基単位、２−アセトキシスチレン残基単位、３−アセトキシスチレン残基単位、４−アセトキシスチレン残基単位、２−ビニルフェニルプロピオネート残基単位、３−ビニルフェニルプロピオネート残基単位、４−ビニルフェニルプロピオネート残基単位、２−ビニルフェニルブチレート残基単位、３−ビニルフェニルブチレート残基単位、４−ビニルフェニルブチレート残基単位、２−ビニルフェニルイソブチレート残基単位、３−ビニルフェニルイソブチレート残基単位、４−ビニルフェニルイソブチレート残基単位、２−ビニルフェニルベンゾエート残基単位、３−ビニルフェニルベンゾエート残基単位、４−ビニルフェニルベンゾエート残基単位、２−ジアミノスチレン残基単位、３−ジアミノスチレン残基単位、４−ジアミノスチレン残基単位、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スチレン残基単位、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スチレン残基単位、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）スチレン残基単位、２−ビニルベンザミド残基単位、３−ビニルベンザミド残基単位、４−ビニルベンザミド残基単位、２−ビニル−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）ベンザミド残基単位、３−ビニル−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）ベンザミド残基単位、４−ビニル−（Ｎ，Ｎ−ジメチル）ベンザミド残基単位、２−ビニルアセトアニリド残基単位、３−ビニルアセトアニリド残基単位、４−ビニルアセトアニリド残基単位、１−ビニルナフタレン残基単位、２−ビニルナフタレン残基単位、１−ビニルアントラセン残基単位、２−ビニルアントラセン残基単位、９−ビニルアントラセン残基単位からなる群から選択される少なくとも１種の残基単位を挙げることができる。このなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、スチレン残基単位、アルキルスチレン類残基単位、アルコキシスチレン類残基単位、及びビニルナフタレン類残基単位からなる群から選択される少なくとも１種の残基単位が好ましく、スチレン残基単位、４−アルキルスチレン類残基単位、４−アルコキシスチレン類残基単位、及びビニルナフタレン類残基単位からなる群から選択される少なくとも１種の残基単位がさらに好ましく、スチレン残基単位、４−メチルスチレン残基単位、４−メトキシスチレン残基単位、１−ビニルナフタレン残基単位及び２−ビニルナフタレン残基単位からなる群から選択される少なくとも１種の残基単位が特に好ましい。 And as a monomer residue unit represented by concrete general formula (2), for example, a styrene residue unit, a 2-fluorostyrene residue unit, a 3-fluorostyrene residue unit, a 4-fluorostyrene Residue unit, 2-bromostyrene residue unit, 3-bromostyrene residue unit, 4-bromostyrene residue unit, 2-chlorostyrene residue unit, 4-chlorostyrene residue unit, 2-methylstyrene residue Unit, 3-methylstyrene residue unit, 4-methylstyrene residue unit, 2-ethylstyrene residue unit, 3-ethylstyrene residue unit, 4-ethylstyrene residue unit, 2-propylstyrene residue unit, 3-propylstyrene residue unit, 4-propylstyrene residue unit, 2-butylstyrene residue unit, 3-butylstyrene residue unit, 4-butylstyrene residue unit, 2,3-dimethylstyrene residue unit, 2,4-dimethylstyrene residue unit, 2,5-dimethylstyrene residue unit, 3,4-dimethylstyrene residue unit, 2-isopropylstyrene residue unit, 3-isopropylstyrene residue unit, 4-isopropylstyrene Residue unit, 2-isobutylstyrene residue unit, 3-isobutylstyrene residue unit, 4-isobutylstyrene residue unit, 2-(2-ethylhexyl)styrene residue unit, 3-(2-ethylhexyl)styrene residue Unit, 4-(2-ethylhexyl)styrene residue unit, 4-phenylstyrene residue unit, 4-chloromethylstyrene residue unit, 4-cyanomethylstyrene residue unit, 4-trifluoromethylstyrene residue unit, 2-cyanostyrene residue unit, 3-cyanostyrene residue unit, 4-cyanostyrene residue unit, 2-nitrostyrene residue unit, 3-nitrostyrene residue unit, 4-nitrostyrene residue unit, 2- Hydroxystyrene residue unit, 3-hydroxystyrene residue unit, 4-hydroxystyrene residue unit, 2-carboxystyrene residue unit, 3-carboxystyrene residue unit, 4-carboxystyrene residue unit, 2-mercaptostyrene Residue unit, 3-mercaptostyrene residue unit, 4-mercaptostyrene residue unit, 2-methoxystyrene residue unit, 3-methoxystyrene residue unit, 4-methoxystyrene residue unit, 2-ethoxystyrene residue Unit, 3-ethoxystyrene residue unit, 4-ethoxystyrene residue unit, 2-propoxystyrene residue unit, 3-propoxystyrene residue unit, 4-propoxystyrene residue unit, 2- Butoxystyrene residue unit, 3-butoxystyrene residue unit, 4-butoxystyrene residue unit, 2,3-dimethoxystyrene residue unit, 2,4-dimethoxystyrene residue unit, 2,5-dimethoxystyrene residue Unit, 3,4-dimethoxystyrene residue unit, 2-isopropoxystyrene residue unit, 3-isopropoxystyrene residue unit, 4-isopropoxystyrene residue unit, 2-phenoxystyrene residue unit, 3-phenoxy Styrene residue unit, 4-phenoxystyrene residue unit, 2-acetoxystyrene residue unit, 3-acetoxystyrene residue unit, 4-acetoxystyrene residue unit, 2-vinylphenylpropionate residue unit, 3-vinyl Phenylpropionate residue unit, 4-vinylphenylpropionate residue unit, 2-vinylphenylbutyrate residue unit, 3-vinylphenylbutyrate residue unit, 4-vinylphenylbutyrate residue unit, 2-vinyl Phenylisobutyrate residue unit, 3-vinylphenylisobutyrate residue unit, 4-vinylphenylisobutyrate residue unit, 2-vinylphenylbenzoate residue unit, 3-vinylphenylbenzoate residue unit, 4- Vinylphenylbenzoate residue unit, 2-diaminostyrene residue unit, 3-diaminostyrene residue unit, 4-diaminostyrene residue unit, 2-(N,N-dimethylamino)styrene residue unit, 3-(N ,N-Dimethylamino)styrene residue unit, 4-(N,N-dimethylamino)styrene residue unit, 2-vinylbenzamide residue unit, 3-vinylbenzamide residue unit, 4-vinylbenzamide residue Group unit, 2-vinyl-(N,N-dimethyl)benzamide residue unit, 3-vinyl-(N,N-dimethyl)benzamide residue unit, 4-vinyl-(N,N-dimethyl)benzamide residue unit , 2-vinylacetanilide residue unit, 3-vinylacetanilide residue unit, 4-vinylacetanilide residue unit, 1-vinylnaphthalene residue unit, 2-vinylnaphthalene residue unit, 1-vinylanthracene residue unit, 2 There may be mentioned at least one residue unit selected from the group consisting of -vinylanthracene residue units and 9-vinylanthracene residue units. Among them, a styrene residue unit, an alkylstyrene residue unit, an alkoxystyrene residue residue unit, and a vinylnaphthalene residue residue unit in order to express higher negative retardation and higher compatibility with a different polymer. At least one residue unit selected from the group consisting of is preferred, and a group consisting of a styrene residue unit, a 4-alkylstyrenes residue unit, a 4-alkoxystyrenes residue unit, and a vinylnaphthalene residues unit. More preferably, at least one residue unit selected from the group consisting of styrene residue unit, 4-methylstyrene residue unit, 4-methoxystyrene residue unit, 1-vinylnaphthalene residue unit and 2-vinylnaphthalene residue. Particularly preferred is at least one residue unit selected from the group consisting of units.

本発明の重合体の製造方法について特に制限はないが、例えば、一般式（３）で表される単量体を含む単量体組成物を重合する製造方法が挙げられる。 The method for producing the polymer of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a method for producing a monomer composition containing a monomer represented by the general formula (3).

（ここで、Ｒ１はエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）（ここで、Ｘ１は、水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示す。）またはシアノ基を示し、Ｒ２〜Ｒ５は水素もしくは任意の置換基示し、Ｒ２〜Ｒ５は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
本発明の一般式（３）における具体的な単量体としては、例えば、α−シアノ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル、α−シアノ−２−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸２−（メトキシエチル）、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロペンチル、α−シアノ−３−メチル−４−ヒドロキシケイ皮酸シクロヘキシル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフタレニル）マロノニトリル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸メチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸エチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸プロピル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸イソプロピル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸ブチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸イソブチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸２−（メトキシエチル）、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸シクロペンチル、α−シアノ−１−（４−ヒドロキシナフチル）アクリル酸シクロヘキシルからなる群から選択される少なくとも１種の単量体が挙げられる。これらの単量体を重合することにより、脱保護等の後反応を行うことなく一般式（１）に示される重合体を得ることができる。 (Wherein, R 1 is an ester group (-C (= O) OX 1 ) ( wherein, X 1 is hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl having 1 to 12 carbon atoms Group, or a group selected from the group consisting of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms) or a cyano group, R 2 to R 5 represent hydrogen or any substituent, and R 2 to R 5 are adjacent to each other. A condensed ring structure may be formed between the substituents.
Specific monomers in the general formula (3) of the present invention include, for example, α-cyano-4-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid, α-cyano-4-. Methyl hydroxycinnamate, α-cyano-4-hydroxycinnamate, propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, α-cyano-4-hydroxycinnamate Butyl cinnamate, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid sec-butyl, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl, α-cyano-4- 2-(Methoxyethyl) hydroxycinnamic acid, cyclopentyl α-cyano-4-hydroxycinnamic acid, cyclohexyl α-cyano-4-hydroxycinnamic acid, α-cyano-2-methyl-4-hydroxy-benzalmalono Nitrile, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid methyl, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid ethyl, α -Propyl cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamate, α-cyano 2-Methyl-4-hydroxycinnamic acid isobutyl, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid sec-butyl, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid tert-butyl, α -Cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl), α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl, α-cyano-2-methyl-4-hydroxycinnamic acid Cyclohexyl, α-cyano-3-methyl-4-hydroxy-benzalmalononitrile, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid, α-cyano-3-methyl-4-hydroxy-benzalmalononitrile , Α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid, methyl α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamate, ethyl α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamate, α- Propyl cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamate, isopropyl α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamate, butyl α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamate, α-cyano- Isobutyl 3-methyl-4-hydroxycinnamate, sec-Butyl α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid, tert-butyl α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid 2-(methoxyethyl), α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclopentyl, α-cyano-3-methyl-4-hydroxycinnamic acid cyclohexyl, α-cyano-1-(4-hydroxynaphtha) Renyl)malononitrile, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)methyl acrylate, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)ethyl acrylate, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)acrylic Propyl acid, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)isopropyl acrylate, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)butyl acrylate, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)isobutyl acrylate , Sec-butyl α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)acrylate, tert-butyl α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)acrylate, α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)acrylic At least one selected from the group consisting of acid 2-(methoxyethyl), α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)cyclopentyl acrylate, and α-cyano-1-(4-hydroxynaphthyl)cyclohexyl acrylate. Examples include monomers. By polymerizing these monomers, the polymer represented by the general formula (1) can be obtained without carrying out a post reaction such as deprotection.

該重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、α−メチルスチレン残基単位等のα−置換スチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位；フマル酸ジｎ−ブチル残基単位、フマル酸ビス（２−エチルヘキシル）残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる１種又は２種以上を挙げることができる。 The polymer may contain other monomer residue units as long as it does not exceed the scope of the present invention, and examples of the other monomer residue units include, for example, α-methylstyrene residue units. Α-substituted styrene residue units such as; (meth)acrylic acid residue units; methyl (meth)acrylate residue units, ethyl (meth)acrylate residue units, butyl (meth)acrylate residue units, etc. (Meth)acrylic acid ester residue unit; acrylonitrile residue unit; methacrylonitrile residue unit; olefin residue unit such as ethylene residue unit and propylene residue unit; di-n-butyl fumarate residue unit, Examples thereof include one or more selected from fumaric acid diester residue units such as bis(2-ethylhexyl) fumarate residue units.

本発明の重合体の組成は、光学補償フィルムとしたときの位相差特性及び異種ポリマーとの相溶性に優れることから、一般式（１）で表される単量体残基単位１モル％以上５０モル％以下である。さらに、光学補償フィルムとしたときの位相差特性がより優れたものとなることから、一般式（１）で表される単量体残基単位５モル％以上５０モル％以下及び一般式（２）で表される単量体残基単位５モル％以上９５モル％以下が好ましく、一般式（１）で表される単量体残基単位１０モル％以上５０モル％以下及び一般式（２）で表される単量体残基単位１０モル％以上８０モル％以下がさらに好ましく、一般式（１）で表される単量体残基単位１５モル％以上５０モル％以下及び一般式（２）で表される単量体残基単位１５モル％以上５０モル％以下が特に好ましい。 The composition of the polymer of the present invention is excellent in retardation properties and compatibility with different polymers when used as an optical compensation film, and therefore, the monomer residue unit represented by the general formula (1) is 1 mol% or more. It is 50 mol% or less. Furthermore, since the retardation property when used as an optical compensation film is more excellent, the monomer residue unit represented by the general formula (1) is 5 mol% or more and 50 mol% or less and the general formula (2). 5 mol% or more and 95 mol% or less is preferable, and 10 mol% or more and 50 mol% or less of the monomer residue unit represented by General Formula (1) and the general formula (2 10 mol% or more and 80 mol% or less of the monomer residue unit represented by the formula (1) is more preferable, and 15 mol% or more and 50 mol% or less of the monomer residue unit represented by the general formula (1) and the general formula ( The monomer residue unit represented by 2) is particularly preferably 15 mol% or more and 50 mol% or less.

ここで、重合体の組成は、一般的なプロトンＮＭＲによるスペクトル分析、ＣＨＮ分析により計測することができる。 Here, the composition of the polymer can be measured by general proton NMR spectrum analysis and CHN analysis.

本発明の重合体は、フィルムとした際の耐熱性がより優れたものとなることから、ガラス転移温度が１３０℃以上であることが好ましく、１５０℃以上であることがさらに好ましく、１８０℃以上であることが特に好ましい。 Since the polymer of the present invention has more excellent heat resistance when formed into a film, it has a glass transition temperature of preferably 130° C. or higher, more preferably 150° C. or higher, and 180° C. or higher. Is particularly preferable.

ここで、重合体のガラス転移温度は、一般的な示差走査熱量計により計測することができる。 Here, the glass transition temperature of the polymer can be measured by a general differential scanning calorimeter.

本発明の重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が５０００〜５０００００であることが好ましく、１００００〜４０００００であることがさらに好ましく、２００００〜３０００００であることが特に好ましい。 Since the polymer of the present invention has excellent mechanical properties, strength when formed into a film, and toughness, it can be converted into standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The number average molecular weight is preferably 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 400,000, and particularly preferably 20,000 to 300,000.

本発明の重合体の具体的な製造方法としては、該共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法でもよく、例えば、一般式（３）で表される単量体のラジカル重合を行うことにより製造することができる。 The method for producing the polymer of the present invention may be any method as long as the copolymer can be obtained. For example, it is produced by radical polymerization of the monomer represented by the general formula (3). can do.

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。 As the radical polymerization, any of known polymerization methods such as a bulk polymerization method, a solution polymerization method, a suspension polymerization method, a precipitation polymerization method and an emulsion polymerization method can be adopted.

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤などが挙げられる。 Examples of the polymerization initiator for radical polymerization include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide. , Organic peroxides such as t-butylperoxyacetate and t-butylperoxybenzoate; 2,2′-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis(2-butyronitrile), 2 , 2'-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2'-azobisisobutyrate, 1,1'-azobis(cyclohexane-1-carbonitrile), and other azo initiators.

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水などが挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。 The solvent usable in the solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method is not particularly limited, and examples thereof include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene; methanol, ethanol, propanol, butanol, etc. Alcohol-based solvent; cyclohexane; dioxane; tetrahydrofuran; acetone; methyl ethyl ketone; dimethylformamide; isopropyl acetate; water and the like, and mixed solvents thereof.

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０℃以上１５０℃以下の範囲で行うことが好ましい。 The polymerization temperature for radical polymerization can be appropriately set depending on the decomposition temperature of the polymerization initiator, and is generally preferably in the range of 30°C to 150°C.

本発明の重合体は、光学フィルムとして用いることができる。 The polymer of the present invention can be used as an optical film.

本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、ヘーズが２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical film, the haze is preferably 2% or less, more preferably 1% or less, since the image quality characteristics are improved.

本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical film, the total light transmittance is preferably 85% or more because the image quality characteristics are improved.

本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、位相差特性に優れるものとなることから、光学補償フィルム（位相差フィルム）とすることが好ましい。 When the polymer of the present invention is used as an optical film, it is preferable to use an optical compensation film (retardation film) because it has excellent retardation characteristics.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムとしては、該重合体のみを用いることもできるだけでなく、異種ポリマーとの相溶性に優れることから他の樹脂と混合した組成物とすることに好適である。このとき、混合する他の樹脂としては、負の複屈折性を有する重合体であっても、正の複屈折性を有する重合体であっても良く、エーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂を用いて位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られる限り特に制限はなく、例えば、セルロース系樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリウレタン等が挙げられ、より位相差特性に優れる光学補償フィルムが得られることから、セルロース系樹脂が好ましい。 As the optical compensation film using the polymer of the present invention, not only it is possible to use only the polymer, but it is preferable to use it as a composition mixed with another resin because of its excellent compatibility with different polymers. is there. At this time, the other resin to be mixed may be a polymer having negative birefringence or a polymer having positive birefringence, and may be an ether group, an ester group, a carbonyl group, or a carbonate. There is no particular limitation as long as an optical compensation film having excellent retardation properties can be obtained by using a resin having at least one or more substituents selected from the group, for example, cellulose resin, polycarbonate, polyester, polyimide, polyamide, polyurethane, etc. The cellulose-based resin is preferable because an optical compensation film having more excellent retardation characteristics can be obtained.

本発明において、エーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂としてセルロース系樹脂が用いられる場合、光学補償フィルムとした際に位相差特性および透明性により優れるものとなることから、下記一般式（４）で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。 In the present invention, when a cellulosic resin is used as the resin having at least one substituent selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group, and a carbonate group, when it is used as an optical compensation film, retardation characteristics and transparency are obtained. The cellulose-based resin represented by the following general formula (4) is preferable because it is more excellent.

（式中、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１２）（ここで、Ｘ１２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示す。）からなる群から選択される基を示す。）
ここで、一般式（４）で示されるセルロース系樹脂は、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。 (In the formula, R 11 to R 13 are each independently hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, or an acyl group. group (-C (= O) X 12 ) ( wherein, X 12 represents a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group of 3 to 14 carbon atoms Represents a group selected from the group consisting of.) represents a group selected from the group consisting of).
Here, the cellulosic resin represented by the general formula (4) is a polymer in which β-glucose units are linearly polymerized, and some or all of hydroxyl groups at the 2-position, 3-position and 6-position of the glucose unit. Is a polymer in which

Ｒ１１〜Ｒ１３における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 11 to R 13 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an isobutyl group, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: Examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group and a naphthyl group.

Ｒ１１〜Ｒ１３における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in R 11 to R 13 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group and the like. Examples of the branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include an isopropyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an isobutyl group, and examples of the cyclic group having 3 to 14 carbon atoms include: Examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group and a naphthyl group.

本発明の一般式（４）におけるＲ１０〜Ｒ１２としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、イソブチリル基、ｔｅｒｔ−ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、メチル基、エチル基、プロピル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基が好ましい。 Examples of R 10 to R 12 in the general formula (4) of the present invention include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, isopropyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, isobutyl group. , Cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclohexyl group, phenyl group, naphthyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, isobutyryl group, tert-butyryl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group , Naphthoyl group and the like. Further, among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group are preferable because they have more excellent solubility and compatibility.

本発明のセルロース系樹脂におけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースの水酸基が置換されている割合（１００％の置換は置換度３）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、置換度は、好ましくは１．５〜３．０であり、さらに好ましくは１．８〜２．８である。 In the cellulose-based resin of the present invention, the degree of substitution of the hydroxyl group of cellulose through the oxygen atom is the proportion of the hydroxyl group of cellulose at each of the 2-position, 3-position and 6-position (100% substitution). Means the degree of substitution 3), and the degree of substitution is preferably 1.5 to 3.0, and more preferably 1.8 to 2.8, from the viewpoint of solubility, compatibility, and stretch processability. ..

具体的な本発明のセルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。 Specific examples of the cellulose resin of the present invention include, for example, methyl cellulose, ethyl cellulose, triacetyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, etc. Ethyl cellulose, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate are preferable because a compensation film can be obtained.

本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、５，０００〜２００，０００であることがさらに好ましい。 The cellulosic resin of the present invention has excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation. Therefore, standard polystyrene obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). The number average molecular weight (Mn) in terms of conversion is preferably 1,000 to 1,000,000, and more preferably 5,000 to 200,000.

本発明の樹脂組成物は、一般式（１）で示される残基単位を含んでなる重合体とエーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂とをブレンドすることによって得られるものであり、光学補償フィルムとして用いるとき、該光学補償フィルムが目的の位相差特性を発現することを特徴とするものである。すなわち、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂が負の複屈折を示し、かつ、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂と、エーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂が優れた相溶性を示すことから、これらをブレンドして得られる本発明に係る樹脂組成物を用いるとき、実用的な透明性を有し、かつ位相差特性に優れる光学補償フィルムを得ることができるものである。 The resin composition of the present invention is a resin having a residue unit represented by the general formula (1) and a resin having at least one substituent selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group and a carbonate group. It is obtained by blending with, and when used as an optical compensation film, the optical compensation film exhibits a desired retardation characteristic. That is, a resin having a residue unit represented by the general formula (1) exhibits negative birefringence, and a resin having a residue unit represented by the general formula (1), an ether group, an ester group, a carbonyl group Since a resin having at least one or more substituents selected from carbonate groups exhibits excellent compatibility, when using the resin composition according to the present invention obtained by blending these, practical transparency is obtained. It is possible to obtain an optical compensation film having the above and having excellent retardation characteristics.

本発明の樹脂組成物における一般式（１）で示される残基単位を含んでなる重合体とエーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂の組成の割合は、位相差フィルムとする際の位相差の制御に好適なため、一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂１〜９０重量％およびエーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂１０重量％以上９９重量％以下であることが好ましい。さらに好ましくは一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂１０重量％以上８５重量％以下およびエーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂１５重量％以上９０重量％以下であり、特に好ましくは一般式（１）で示される残基単位を有する樹脂２０重量％以上８０重量％以下およびエーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂２０重量％以上８０重量％以下である。 A polymer having a residue unit represented by the general formula (1) in the resin composition of the present invention and a resin having at least one substituent selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group and a carbonate group. The composition ratio is suitable for controlling the retardation when the retardation film is used, and therefore the resin having a residue unit represented by the general formula (1) is 1 to 90% by weight and an ether group, an ester group, a carbonyl group, The resin having at least one substituent selected from carbonate groups is preferably 10% by weight or more and 99% by weight or less. More preferably, the resin having a residue unit represented by the general formula (1) is 10% by weight or more and 85% by weight or less and a resin having at least one substituent selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group and a carbonate group. 15 wt% or more and 90 wt% or less, particularly preferably 20 wt% or more and 80 wt% or less of a resin having a residue unit represented by the general formula (1) and selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group and a carbonate group. 20% by weight or more and 80% by weight or less of the resin having at least one or more substituents.

ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは加熱により樹脂を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。 As the blending method, a method such as melt blending or solution blending can be used. The melt blending method is a method of producing by melting a resin by heating and kneading. The solution blending method is a method in which a resin is dissolved in a solvent and blended. Examples of the solvent used for solution blending include chlorine-based solvents such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and cyclohexanone; ethyl acetate, Ester solvents such as butyl acetate; alcohol solvents such as methanol, ethanol and propanol; ether solvents such as dioxane and tetrahydrofuran; dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like can be used. It is also possible to dissolve each resin and additive in a solvent and then blend them, or it is also possible to dissolve the powder and pellets of each resin in a solvent after kneading.

本発明の樹脂組成物は延伸して光学補償フィルムとすることができ、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｚ≦ｎｙまたはｎｙ≦ｎｚ≦ｎｘである光学補償フィルムとすることができる。 The resin composition of the present invention can be stretched to give an optical compensation film, in which the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, the refractive index in the in-plane direction orthogonal thereto is ny, and the thickness direction of the film is When the refractive index of is nz, the respective relations are nx≦nz≦ny or ny≦nz≦nx.

本発明の樹脂組成物を延伸して光学補償フィルムとして用いる場合、薄膜化が可能となるため、下記式（Ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）と膜厚との比（Ｒｅ／膜厚）が絶対値で２以上（ｎｍ／μｍ）であることが好ましく、３以上であることがさらに好ましく、４以上であることが特に好ましい。 When the resin composition of the present invention is stretched to be used as an optical compensation film, it can be thinned, and therefore the ratio of the in-plane retardation (Re) and the film thickness (Re/film) represented by the following formula (A): The thickness is preferably 2 or more (nm/μm) in absolute value, more preferably 3 or more, and particularly preferably 4 or more.

Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （Ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の樹脂組成物を延伸して光学補償フィルムとして用いる場合、色相変化を抑制できることから、λ＝４５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ（４５０）とλ＝５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ（５５０）の比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．００未満であることが好ましく、０．９８未満であることがより好ましく、０．９５未満であることがさらに好ましい。本発明の重合体を用いることにより、重合体中にカルド構造のような煩雑な構造を導入することなく、ポリマーブレンドという簡便な手法にて目的とするＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を発現する光学補償フィルムを得ることができる。 Re=(nx−ny)×d (B)
(In the formula, nx represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane, and d represents the film thickness.)
When the resin composition of the present invention is stretched and used as an optical compensation film, since it is possible to suppress a hue change, the in-plane retardation Re(450) at λ=450 nm and the in-plane retardation Re(550) at λ=550 nm are suppressed. The ratio Re(450)/Re(550) is preferably less than 1.00, more preferably less than 0.98, and even more preferably less than 0.95. By using the polymer of the present invention, the desired Re(450)/Re(550) is expressed by a simple method of polymer blending without introducing a complicated structure such as a cardo structure into the polymer. An optical compensation film can be obtained.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、未延伸でも位相差を発現することから、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｙ＜ｎｘ≦ｎｚまたはｎｙ≦ｎｘ＜ｎｚまたはｎｙ≦ｎｚ＜ｎｘまたはｎｙ＜ｎｚ≦ｎｘのいずれかである光学補償フィルムとして用いることができる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention develops a retardation even if it is unstretched. Therefore, the refractive index in the fast axis direction in the film plane is nx, and the refractive index in the in-plane direction orthogonal thereto is ny. As an optical compensation film, the respective relationships are any of ny<nx≦nz or ny≦nx<nz or ny≦nz<nx or ny<nz≦nx when the refractive index in the thickness direction of the film is nz. Can be used.

本発明の共重合体を用いた光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により製造することができる。 The method for producing an optical film using the copolymer of the present invention is not particularly limited, and for example, it can be produced by a method such as a solution casting method or a melt casting method.

溶液キャスト法は、該重合体を溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムなどがある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。 The solution casting method is a method in which a solution (hereinafter referred to as a dope) in which the polymer is dissolved is cast on a supporting substrate and then the solvent is removed by heating or the like to obtain a film. At that time, as a method for casting the dope on the supporting substrate, for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method or the like is used. Particularly, industrially, a method of continuously extruding a dope from a die onto a belt-shaped or drum-shaped supporting substrate is generally used. Examples of the supporting substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel or a ferro type, and a film such as polyethylene terephthalate. In the solution casting method, when forming a film having high transparency, thickness accuracy and excellent surface smoothness, the solution viscosity of the dope is an extremely important factor, preferably 10 to 20,000 cPs, More preferably, it is 10000 cPs.

この際の該重合体を用いたフィルムの塗布厚は、優れた表面平滑性、光学特性が得られることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは５〜１００μｍであり、特に好ましくは１０〜６０μｍである。 In this case, the coating thickness of the film using the polymer is preferably 1 to 200 μm after drying, more preferably 5 to 100 μm, and particularly preferably 10 because excellent surface smoothness and optical characteristics can be obtained. -60 μm.

また、溶融キャスト法は、該重合体を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。 The melt casting method is a molding method in which the polymer is melted in an extruder, extruded into a film form from a slit of a T die, and then taken out while being cooled by a roll or air.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention can be used by peeling it from the base glass substrate or other optical film, and also as a laminate with the base glass substrate or other optical film. Can be used.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、延伸して使用することもできる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention can also be stretched and used.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール／ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、該光学補償フィルム同士又は他の光学補償フィルムと積層することもできる。 The optical compensation film using the polymer of the present invention can be laminated with a polarizing plate to be used as a circular or elliptical polarizing plate, and laminated with a polarizer containing polyvinyl alcohol/iodine or the like to form a polarizing plate. Is also possible. Further, the optical compensation films may be laminated with each other or with another optical compensation film.

本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、フィルム成形時又は位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には、ヒンダード系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、高い酸化防止効果が得られることから、該位相差フィルムを構成する重合体１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。 The optical compensation film using the polymer of the present invention preferably contains an antioxidant in order to enhance the thermal stability of the retardation film itself during film formation. Examples of the antioxidant include hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, and other antioxidants, and these antioxidants may be used alone or in combination. Since the antioxidant action is synergistically improved, it is preferable to use the hindered antioxidant and the phosphorus antioxidant together, and in that case, relative to 100 parts by weight of the hindered antioxidant. It is more preferable to use a phosphorus-based antioxidant in a mixture of 100 to 500 parts by weight. Further, the amount of the antioxidant added is preferably 0.01 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer constituting the retardation film, because a high antioxidant effect is obtained, and 0.5 -1 part by weight is more preferred.

また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等を必要に応じて配合してもよい。 Further, as the ultraviolet absorber, for example, benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate or the like may be blended as necessary.

本発明の重合体を用いた光学フィルムは、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されていてもよい。 The optical film using the polymer of the present invention may be blended with other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, inorganic fillers, pigments, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants and the like. ..

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた光学補償フィルムに適した重合体を提供することができる。 According to the present invention, optical properties such as a film having a large refractive index in the thickness direction, a large in-plane retardation, and a small wavelength dependence, which are useful as a compensation film or an antireflection film for the contrast and viewing angle characteristics of a liquid crystal display. It is possible to provide a polymer which is excellent in optical compensation film and is suitable for an optical compensation film.

本発明の重合体は、位相差特性及び相溶性に優れる光学補償フィルムに適した重合体であり、特に液晶表示素子用及び有機ＥＬ用の光学補償フィルム用として適したものである。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The polymer of the present invention is a polymer suitable for an optical compensation film having excellent retardation properties and compatibility, and is particularly suitable for an optical compensation film for liquid crystal display devices and organic EL.

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
＜重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＥＣＺ４００Ｓ）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。また、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、ＣＨＮ元素分析より求めた。
＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレンまたは標準プルラン換算値として求めた。
＜ガラス転移温度の測定＞
示差走査熱量計（セイコーインスツル製、商品名ＤＳＣ６２２０）を用いて測定した。
＜フィルムの三次元屈折率の測定＞
全自動複屈折計（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ）を用いて測定した。 The various physical properties shown in the examples were measured by the following methods.
<Composition of polymer>
It was determined by proton nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) spectrum analysis using a nuclear magnetic resonance measurement device (trade name JNM-ECZ400S manufactured by JEOL Ltd.). In addition, those that are difficult to obtain by 1 H-NMR spectrum analysis were determined by CHN elemental analysis.
<Measurement of number average molecular weight>
Using a gel permeation chromatography (GPC) device (manufactured by Tosoh Corporation, trade name HLC-8320GPC (with column GMH HR- H)), using tetrahydrofuran or N,N-dimethylformamide as a solvent at 40°C Then, it was determined as a standard polystyrene or standard pullulan conversion value.
<Measurement of glass transition temperature>
The measurement was performed using a differential scanning calorimeter (manufactured by Seiko Instruments Inc., trade name DSC6220).
<Measurement of three-dimensional refractive index of film>
It measured using the fully automatic birefringence meter (Oji Scientific Instruments make, brand name KOBRA-WPR).

合成例１
容量５０ｍｌのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル６．１８ｇ、４−メトキシスチレン３．８２ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０７ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−４−メトキシスチレン共重合体７．６ｇを得た。 Synthesis example 1
In a glass ampoule having a volume of 50 ml, 6.18 g of ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 3.82 g of 4-methoxystyrene, 1 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent and 0.07 g of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator. Was charged, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the container, dropped into 200 ml of methanol for precipitation, and then vacuum dried at 80° C. for 10 hours to obtain ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate-4. 7.6 g of -methoxystyrene copolymer was obtained.

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−４−メトキシスチレン共重合体の数平均分子量は３１０００であり、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位／４−メトキシスチレン残基単位＝４６／５４（モル％）であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ethyl-4-methoxystyrene copolymer was 31,000, and the copolymer composition was α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ethyl residue unit. It was confirmed that /4-methoxystyrene residue unit=46/54 (mol %).

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−４−メトキシスチレン共重合体のガラス転移温度は２１５℃であった。 The glass transition temperature of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ethyl-4-methoxystyrene copolymer was 215°C.

合成例２
容量５０ｍｌのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル３．９２ｇ、スチレン２．０８ｇ、メタクリル酸メチル４．００ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０５ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル−スチレン−メタクリル酸メチル共重合体８．０ｇを得た。 Synthesis example 2
In a glass ampoule having a capacity of 50 ml, 3.92 g of α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl, 2.08 g of styrene, 4.00 g of methyl methacrylate, 1 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent, and tert-butyl peroxypiper as a polymerization initiator. 0.05 g of barrate was added, and the atmosphere was replaced with nitrogen, followed by sealing under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the container, dropped into 200 ml of methanol to cause precipitation, and vacuum dried at 80° C. for 10 hours to obtain α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl-styrene. -8.0 g of methyl methacrylate copolymer was obtained.

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル−スチレン−メタクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は２４０００であり、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位／スチレン残基単位／メタクリル酸メチル残基単位＝３７／５２／１１（モル％）であることを確認した。 The number-average molecular weight of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl-styrene-methyl methacrylate copolymer was 24,000, and the copolymer composition was α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue. It was confirmed that the unit/styrene residue unit/methyl methacrylate residue unit=37/52/11 (mol %).

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル−スチレン−メタクリル酸メチル共重合体のガラス転移温度は１９９℃であった。 The glass transition temperature of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl-styrene-methyl methacrylate copolymer was 199°C.

合成例３
容量５０ｍｌのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル６．６２ｇ、４−メチルスチレン３．３８ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０７ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル−４−メチルスチレン共重合体７．２ｇを得た。 Synthesis example 3
In a glass ampoule having a volume of 50 ml, 6.62 g of propyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 3.38 g of 4-methylstyrene, 1 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent, and 0.07 g of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator. Was charged, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the container, dropped into 200 ml of methanol to cause precipitation, and vacuum dried at 80° C. for 10 hours to give α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl-4. -7.2 g of methylstyrene copolymer was obtained.

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル−４−メチルスチレン共重合体の数平均分子量は３１０００であり、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位／４−メチルスチレン残基単位＝４４／５６（モル％）であることを確認した。 The obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl-4-methylstyrene copolymer had a number average molecular weight of 31,000, and the copolymer composition was α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl residue unit. It was confirmed that /4-methylstyrene residue unit=44/56 (mol %).

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル−４−メチルスチレン共重合体のガラス転移温度は２０３℃であった。 The glass transition temperature of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl-4-methylstyrene copolymer was 203°C.

合成例４
容量５０ｍｌのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−エトキシエチル３．９０ｇ、２−ビニルナフタレン２．８８ｇ、アクリル酸メチル３．２２ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０４ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−エトキシエチル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸メチル共重合体５．９ｇを得た。 Synthesis example 4
In a glass ampoule having a volume of 50 ml, 3.90 g of 2-ethoxyethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 2.88 g of 2-vinylnaphthalene, 3.22 g of methyl acrylate, 1 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent and a polymerization initiator. 0.04 g of tert-butyl peroxypivalate was added, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the mixture was sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 200 ml of methanol to cause precipitation, and then vacuum dried at 80° C. for 10 hours to obtain α-cyano-4-hydroxycinnamic acid 2-ethoxy. 5.9 g of an ethyl-2-vinylnaphthalene-methyl acrylate copolymer was obtained.

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−エトキシエチル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸メチル共重合体の数平均分子量は２１０００であり、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−エトキシエチル残基単位／２−ビニルナフタレン残基単位／アクリル酸メチル残基単位＝３６／４９／１５（モル％）であることを確認した。 The number-average molecular weight of the obtained α-cyano-4-hydroxycinnamic acid 2-ethoxyethyl-2-vinylnaphthalene-methyl acrylate copolymer was 21,000, and the copolymer composition was α-cyano-4-hydroxy. It was confirmed that 2-ethoxyethyl cinnamate residue unit/2-vinylnaphthalene residue unit/methyl acrylate residue unit=36/49/15 (mol %).

得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−エトキシエチル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸メチル共重合体のガラス転移温度は２０８℃であった。 The glass transition temperature of the obtained 2-ethoxyethyl-2-vinylnaphthalene-methyl acrylate copolymer of α-cyano-4-hydroxycinnamic acid was 208°C.

合成例５
容量５０ｍｌのガラスアンプルに４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル６．２０ｇ、スチレン３．８０ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０８ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体７．８ｇを得た。 Synthesis example 5
4-Hydroxybenzalmalononitrile 6.20 g, styrene 3.80 g, tetrahydrofuran 1 g as a polymerization solvent and tert-butylperoxypivalate 0.08 g as a polymerization initiator were put into a glass ampoule having a volume of 50 ml, and after nitrogen substitution, It was sealed under reduced pressure. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the container, dropped into 200 ml of methanol for precipitation, and vacuum dried at 80° C. for 10 hours to give 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer 7 0.8 g was obtained.

得られた４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体の数平均分子量は２７０００であり、共重合体組成は４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位／スチレン残基単位＝４７／５３（モル％）であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer was 27,000, and the copolymer composition was 4-hydroxybenzalmalononitrile residue unit/styrene residue unit=47/53 (mol %) was confirmed.

得られた４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体のガラス転移温度は１９７℃であった。 The glass transition temperature of the obtained 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer was 197°C.

合成例６
容量５０ｍｌのガラスアンプルにα−シアノケイ皮酸エチル６．５９ｇ、スチレン３．４１ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０８ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノケイ皮酸エチル−スチレン共重合体７．９ｇを得た。 Synthesis example 6
In a glass ampoule having a capacity of 50 ml, 6.59 g of ethyl α-cyanocinnamate, 3.41 g of styrene, 1 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent and 0.08 g of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator were added, and the pressure was reduced under nitrogen. It was sealed in the state. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the container, dropped into 200 ml of methanol for precipitation, and then vacuum dried at 80° C. for 10 hours to obtain an α-ethyl cyanocinnamate-styrene copolymer 7. 9 g was obtained.

得られたα−シアノケイ皮酸エチル−スチレン共重合体の数平均分子量は１０１０００であり、共重合体組成はα−シアノケイ皮酸エチル残基単位／スチレン残基単位＝４５／５５（モル％）であることを確認した。 The number-average molecular weight of the obtained α-ethyl cyanocinnamate-styrene copolymer was 101,000, and the copolymer composition was such that ethyl α-cyanocinnamate residue unit/styrene residue unit=45/55 (mol %). Was confirmed.

得られたα−シアノケイ皮酸エチル−スチレン共重合体のガラス転移温度は２１０℃であった。 The glass transition temperature of the obtained α-cyanocinnamate-styrene copolymer was 210°C.

合成例７
容量５０ｍｌのガラスアンプルにベンザルマロノニトリル５．９７ｇ、スチレン４．０３ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．０９ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、ベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体７．４ｇを得た。 Synthesis example 7
5.97 g of benzalmalononitrile, 4.03 g of styrene, 1 g of tetrahydrofuran as a polymerization solvent and 0.09 g of tert-butylperoxypivalate as a polymerization initiator were put in a glass ampoule having a volume of 50 ml, and the atmosphere was replaced with nitrogen, and then, under reduced pressure. It was sealed. This glass ampoule was placed in a constant temperature bath at 50° C. and held for 48 hours for radical polymerization. After the completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out of the container, dropped into 200 ml of methanol for precipitation, and vacuum dried at 80° C. for 10 hours to give 7.4 g of a benzalmalononitrile-styrene copolymer. Obtained.

得られたベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体の数平均分子量は８９０００であり、共重合体組成はベンザルマロノニトリル残基単位／スチレン残基単位＝４１／５９（モル％）であることを確認した。 The number average molecular weight of the obtained benzalmalononitrile-styrene copolymer was 89000, and the copolymer composition was benzalmalononitrile residue unit/styrene residue unit=41/59 (mol %). confirmed.

得られたベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体のガラス転移温度は１７９℃であった。 The glass transition temperature of the obtained benzalmalononitrile-styrene copolymer was 179°C.

実施例１
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例１で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−４−メトキシスチレン共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４８μｍ）。 Example 1
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of the α-cyano-4-hydroxycinnamate-4-methoxystyrene copolymer obtained in 1 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to give a 15% by weight resin solution. A polyethylene terephthalate film was drowned with a coater and dried at a drying temperature of 40° C. and then at 150° C. in two stages to obtain a film having a width of 150 mm. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching was 48 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

実施例２
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例２で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル−スチレン−メタクリル酸メチル共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４５μｍ）。 Example 2
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of the α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl-styrene-methyl methacrylate copolymer obtained in 2 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to obtain a 15% by weight resin solution. Then, it was dripped on a polyethylene terephthalate film with a coater and dried at a drying temperature of 40° C. and then at two stages at 150° C. to obtain a film having a width of 150 mm. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching 45 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

実施例３
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例３で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル−４−メチルスチレン共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み５２μｍ）。 Example 3
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of α-cyano-4-hydroxycinnamic acid propyl-4-methylstyrene copolymer obtained in 3 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to give a 15% by weight resin solution. A polyethylene terephthalate film was drowned with a coater and dried at a drying temperature of 40° C. and then at 150° C. in two stages to obtain a film having a width of 150 mm. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching 52 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

実施例４
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例４で得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸２−エトキシエチル−２−ビニルナフタレン−アクリル酸メチル共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４３μｍ）。 Example 4
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of α-cyano-4-hydroxycinnamic acid 2-ethoxyethyl-2-vinylnaphthalene-methyl acrylate copolymer obtained in 4 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution. A resin solution of 15% by weight was prepared, which was drowned on a polyethylene terephthalate film by a coater and dried in two stages at a drying temperature of 40° C. and then at 150° C. to obtain a film having a width of 150 mm. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching 43 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

実施例５
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例５で得られた４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み５３μｍ）。 Example 5
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of the 4-hydroxybenzalmalononitrile-styrene copolymer obtained in 5 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to obtain a 15 wt% resin solution, which was then coated on a polyethylene terephthalate film. After being drowned and dried at a drying temperature of 40.degree. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching 53 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

比較例１
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例６で得られたα−シアノケイ皮酸エチル−スチレン共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み５５μｍ）。 Comparative Example 1
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of the α-cyanocinnamate-styrene copolymer obtained in 6 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to give a 15 wt% resin solution, which was then coated on a polyethylene terephthalate film by a coater. After drowning and drying at a drying temperature of 40° C. and two stages at 150° C., a film having a width of 150 mm was obtained. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching 55 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズを測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance and haze of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムはヘーズが高く、目的とする光学特性を有していなかった。 The obtained film had a high haze and did not have desired optical characteristics.

比較例２
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８ｇと合成例７で得られたベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体２ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４７μｍ）。 Comparative example 2
8 g of ethyl cellulose (ETHOCEL standard 100 manufactured by Dow Chemical Company, molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5) and 8 g 2 g of the benzalmalononitrile-styrene copolymer obtained in 7 was dissolved in a toluene/ethyl acetate=8/2 (weight ratio) solution to give a 15% by weight resin solution, which was then drowned on a polyethylene terephthalate film with a coater. After drying at a drying temperature of 40° C. and two-stage drying at 150° C., a film having a width of 150 mm was obtained. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness 47 μm after stretching).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズを測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance and haze of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムはヘーズが高く、目的とする光学特性を有していなかった。 The obtained film had a high haze and did not have desired optical characteristics.

比較例３
エチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０ｇをトルエン／酢酸エチル＝８／２（重量比）溶液に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で１．５倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。 Comparative Example 3
Ethyl cellulose (ETHOCEL standard manufactured by Dow Chemical Co. 100), molecular weight Mn=55,000, molecular weight Mw=176,000, Mw/Mn=3.2, total substitution degree DS=2.5 10 g of toluene/ Ethyl acetate=8/2 (weight ratio) Dissolved in a solution of 15% by weight, drowned on a polyethylene terephthalate film with a coater, dried at a temperature of 40° C. and then dried at 150° C. for two stages, and then dried. A 150 mm film was obtained. The obtained film was cut into 50 mm square and uniaxially stretched 1.5 times at 140° C. (thickness after stretching 40 μm).

得られた光学補償フィルムの全光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。 The total light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.

得られたフィルムは、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が目的とする光学特性を有していなかった。 The obtained film did not have the desired optical properties of Re(450)/Re(550).

本発明は、新規な重合体を提供するものであり、該重合体はフィルム、特に光学補償フィルム等としての利用が期待されるものである。 The present invention provides a novel polymer, which is expected to be used as a film, particularly as an optical compensation film.

Claims (8)

以下の一般式（１）で表される単量体残基単位１モル％以上５０モル％以下を含んでなることを特徴とする重合体。
（ここで、Ｒ１はエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１）（ここで、Ｘ１は、水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示す。）またはシアノ基のいずれかの基を示し、Ｒ２〜Ｒ５は水素もしくは任意の置換基示し、Ｒ２〜Ｒ５は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。） A polymer comprising a monomer residue unit represented by the following general formula (1) in an amount of 1 mol% or more and 50 mol% or less.
(Wherein, R 1 is an ester group (-C (= O) OX 1 ) ( wherein, X 1 is hydrogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl having 1 to 12 carbon atoms Group, or a group selected from the group consisting of cyclic groups having 3 to 14 carbon atoms) or a cyano group, R 2 to R 5 represent hydrogen or any substituent, and R 2 To R 5 may form a condensed ring structure with adjacent substituents.) 前記一般式（１）で表される単量体残基単位におけるＲ１がエステル基であることを特徴とする請求項１に記載の重合体。 The polymer according to claim 1, wherein R 1 in the monomer residue unit represented by the general formula (1) is an ester group. 前記一般式（１）で表される単量体残基単位を含み、さらに以下の一般式（２）で表される単量体残基単位を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の重合体。
（ここで、Ｒ６〜Ｒ１０はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、メルカプト基、アルコキシ基（−ＯＸ２）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ３または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ４）、アミノ基（−ＮＸ５（Ｘ６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ７）（Ｘ８）または−ＮＸ９Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１０）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１１）（ここで、Ｘ２〜Ｘ１１は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基からなる群から選択される基を示し、アルキル基もしくは環状基の水素が任意のヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよい）からなる群から選択される基を示す。また、Ｒ６〜Ｒ１０は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。） The monomer residue unit represented by the general formula (1) is included, and further, the monomer residue unit represented by the following general formula (2) is included. The polymers described.
(Here, R 6 to R 10 are each independently hydrogen, halogen, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms, Cyano group, nitro group, hydroxy group, carboxy group, mercapto group, alkoxy group (-OX 2 ), ester group (-C(=O)OX 3 or -CO(=O)-X 4 ), amino group (- NX 5 (X 6), an amide group (-C (= O) N ( X 7) (X 8) or -NX 9 C (= O) X 10) , or an acyl group (-C (= O) X 11 ) (Here, X 2 to X 11 are each independently a group consisting of a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyclic group having 3 to 14 carbon atoms. A group selected from the group consisting of alkyl group or hydrogen of the cyclic group which may be substituted with a substituent containing an arbitrary hetero atom), and R 6 to R 10. May form a condensed ring structure with adjacent substituents.) 少なくとも一般式（１）で表される単量体残基単位５モル％以上５０モル％以下、および一般式（２）で表される単量体残基単位５モル％以上９５モル％以下を含み、ガラス転移温度が１３０℃以上であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載の重合体。 At least 5 mol% or more and 50 mol% or less of the monomer residue unit represented by the general formula (1) and 5 mol% or more and 95 mol% or less of the monomer residue unit represented by the general formula (2) The polymer according to any one of claims 1 to 3, wherein the polymer has a glass transition temperature of 130°C or higher. 請求項１乃至４いずれか一項に記載の重合体とエーテル基、エステル基、カルボニル基、カーボネート基から選択される少なくとも１以上の置換基を有する樹脂を含んでなることを特徴とする樹脂組成物。 A resin composition comprising the polymer according to any one of claims 1 to 4 and a resin having at least one substituent selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group, and a carbonate group. Stuff. 請求項１乃至５いずれか一項に記載の重合体もしくは樹脂組成物を含んでなることを特徴とする光学フィルム。 An optical film comprising the polymer or the resin composition according to claim 1. λ＝４５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ（４５０）とλ＝５５０ｎｍにおける面内位相差Ｒｅ（５５０）の比（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））が１．００未満であることを特徴とする請求項６に記載の光学フィルムを用いた位相差フィルム。 The ratio (Re(450)/Re(550)) of the in-plane retardation Re(450) at λ=450 nm and the in-plane retardation Re(550) at λ=550 nm is less than 1.00. A retardation film using the optical film according to claim 6. フィルムのヘーズが２％未満であることを特徴とする請求項６または７に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 6, wherein the haze of the film is less than 2%.
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