JP2020077841A - スピンテクスチャ制御装置、スピンテクスチャ制御方法、およびメモリ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1(a)は、本発明の第一実施形態に係る、スピンテクスチャ制御装置100の構成を模式的に示す断面図である。スピンテクスチャ制御装置100は、主に、基材101と、基材の一面101aに形成された積層体102と、積層体102に接続された電源103と、を備えている。本明細書では、スキルミオン、磁気バブル、磁壁等に代表されるトポロジカルな磁気構造(磁気秩序、磁気模様)のことを総称して、「スピンテクスチャ」と呼ぶ。
0.2nm<Ta<0.5nm
0.5nm<Tb<3.5nm
Tc>50nm
図3(a)は、本発明の第二実施形態に係る、スピンテクスチャ制御装置200の構成を模式的に示す断面図である。図3(b)は、スピンテクスチャ制御装置200を、上部電極層107側から見た斜視図である。スピンテクスチャ制御装置200では、第二磁性体部102A、ひいては磁性体膜105の厚みが、積層方向と直交する方向D2において略一様となっている。磁性体膜105以外の構成については、第一実施形態のスピンテクスチャ制御装置100と同様であり、対応する箇所については、形状の違いによらず、同じ符号で示している。
本発明の第三実施形態に係るスピンテクスチャ制御装置(不図示)は、磁性体膜が、鉄とコバルトのうち少なくとも一方と、重希土類金属と、の合金からなり、かつ第二磁性体部が、積層方向と直交する方向において、一端側に近づくにつれて薄くなっている。磁性体膜以外の構成については、第一実施形態のスピンテクスチャ制御装置と同様である。第三実施形態のスピンテクスチャ制御装置においても、第一実施形態、第二実施形態のスピンテクスチャ制御装置と同様の効果を得ることができる。
上述したスピンテクスチャ制御装置100において、積層体102内の位置、積層体102に印加する電圧と、ヒステリシス曲線の関係について調べた。
上述したスピンテクスチャ制御装置100において、磁性層105A(磁性体膜105)に印加した電圧VG、磁場Hzの大きさに依存して、磁性層105Aの磁化状態が変化する様子を調べた。磁性層105AをCoNiで形成し、その厚さを0.5nmとした。遷移金属層105BをPtで形成し、その厚さを0.5nmとした。絶縁層106をSiO2で形成し、その厚さを100nmとした。上部電極層107をITOとし、下部電極層104は遷移金属層(Pt)で兼用する構成とした。図6(a)〜(d)は、各条件において、上部電極層107側から見た磁性層105Aの磁気光学カー効果画像(MOKE)画像である。
上述したスピンテクスチャ制御装置100において、上部電極層107と下部電極層104との間に電圧VGを印加した。振動電圧VGの周波数を7Hzとし、振動の範囲を−8V〜0Vとした。初期状態の磁性層105Aの磁化を、上向きとした。
積層体の第二磁性体部102Aを構成する磁性体膜105の細線パターンに対し、時間変動する電圧を印加した。細線パターンについては、幅を6μmとし、長手方向の長さを500μmとした。磁場は印加しなかった。
図1のスピンテクスチャ制御装置100において、積層体の第二磁性体部102Aを構成する磁性体膜105に対し、厚み方向D1に電圧を印加し、積層方向と直交する方向D2(x方向)における磁性層105Aの垂直磁気異方性の勾配を小さくした。磁性層105Aとしては、x方向に1000nm、y方向に200nm、z方向に0〜0.5nmの長さを有するものを用いた。この磁性層105Aについて、飽和磁化Msを550kA・m−1とし、Heisenberg交換係数Aを22pJ・m−1とし、DMI定数を1.2mJ・m−2とした。
第二実施形態のスピンテクスチャ制御装置200において、斜めスパッタリングを行って形成された磁性体膜105について、長手方向D2における位置と、ヒステリシス曲線の関係について調べた。ここでは、磁性体膜105として、下地層、TbFeCo層、キャッピング層を順に積層したものを用いた。TbFeCo層の膜厚は3nmである。下地層とキャッピング層としては、Ptからなり、1.5nmの厚みを有するものを用いた。
第二実施形態のスピンテクスチャ制御装置200において、電圧印加に伴ってTbFeCoからなる磁性体膜105中の磁壁(スピンテクスチャ)が移動する様子を、磁気光学カー効果(極カー効果)による磁区観測装置を用いて調べた。図11(a)は、磁性体膜105を上部電極層107と下部電極層104とで挟み、両電極を介し、磁性体膜105に対して電圧VGを印加する状態を、模式的に示す図である。磁性体膜105の膜厚は3nm、上部電極層107と下部電極層104の膜厚は共に1.5nmである。ここでは、磁性体膜105と上部電極層107との間にある酸化シリコン(SiO2)の絶縁層の図示を省略している。また、磁性体膜105と下部電極層104との間にもSiO2絶縁層(不図示)が挿入されている。絶縁層の膜厚は何れも100nmである。図11(b)〜(e)は、それぞれ、印加する電圧VGを1.0V、1.5V、2.0V、2.5Vとした場合の磁性体膜105の極カー効果画像において、磁壁近傍を拡大したものである。上部電極層の膜厚が1.5nmと薄いため、光が上部電極層を透過し磁性体膜105の表面で反射することができる。磁性体膜105は、その厚み方向(上部電極107側)に磁化した黒色領域(磁区)と、厚み方向と直交する面内方向に磁化した白色領域(磁区)とで構成されており、二つの領域(磁区)の境界が磁壁に相当する。
101・・・基材
101a・・・基材の一面
102・・・積層体
102A・・・第二磁性体部
102B・・・第一磁性体部
102a・・・積層体の一端
102b・・・積層体の他端
103・・・電源
104・・・下部電極層
105・・・磁性体膜
105A・・・磁性層
105B・・・遷移金属層
105a・・・磁性体膜の一端側
105b・・・磁性体膜の中央
105c・・・磁性体膜の他端側
106・・・絶縁層
107・・・上部電極層
108・・・レーザー光照射手段
10・・・基材ホルダ
10C・・・回転軸
20・・・基材
30、31・・・ターゲット
D1・・・積層方向
D2・・・積層方向と直交する方向
EF・・・電場
S・・・スキルミオン
Claims (8)
- 基材と、
前記基材の一面に、下部電極層、磁性体膜、絶縁層、上部電極層が順に積層されてなる積層体と、
前記下部電極層と前記上部電極層との間に電圧を印加する電源と、を備え、
前記磁性体膜が、膜面に垂直な方向に磁気異方性を有しており、前記磁気異方性が、前記積層体の積層方向に直交する方向において、連続的に単調に増加または減少している、ことを特徴とするスピンテクスチャ制御装置。 - 前記磁性体膜が、鉄とコバルトのうち少なくとも一方と、重希土類金属と、の合金からなることを特徴とする請求項1に記載のスピンテクスチャ制御装置。
- 前記積層体の積層方向において、前記磁性体膜が、磁性層と遷移金属層とが交互に積層されてなるサンドイッチ構造を有する、ことを特徴とする請求項1に記載のスピンテクスチャ制御装置。
- 前記磁性体膜が、前記積層方向と直交する方向において、一端側に近づくにつれて薄くなっている、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のスピンテクスチャ制御装置。
- 前記磁性体膜が、前記積層方向と直交する方向において、他端側に配置された板状の第一磁性体部と、
前記第一磁性体部の側面から突出し、前記一端側に向かって延在する少なくとも一つの第二磁性体部と、で構成されていることを特徴とする請求項4に記載のスピンテクスチャ制御装置。 - 前記磁性体膜が、前記積層方向と直交する方向において、前記一端側に近づくにつれて薄くなっており、前記積層方向からの平面視において、前記第二磁性体部の幅が10nm以上20μm以下であることを特徴とする請求項5に記載のスピンテクスチャ制御装置。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載のスピンテクスチャ制御装置を用い、
前記下部電極層と前記上部電極層との間に印加する電圧を調整することにより、前記磁性体膜内でスピンテクスチャを制御することを特徴とする、スピンテクスチャ制御方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載のスピンテクスチャ制御装置において制御される、前記スピンテクスチャの状態に対応したデータを記憶することを特徴とするメモリ装置。
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