JP2020066038A - レーザ加工装置、レーザ加工装置の制御方法およびレーザ加工装置の制御プログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】精度の高い加工をすること。【解決手段】レーザ加工装置であって、加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射部と、加工対象物からのレーザ光の反射光に基づいて、光照射部から加工対象物までの距離を測定する測定部と、測定された距離に基づいて、加工制御する加工制御部と、を備えた。【選択図】 図1
Description
本発明は、レーザ加工装置、レーザ加工装置の制御方法およびレーザ加工装置の制御プログラムに関する。
上記技術分野において、特許文献1には、露光用光の反射光をCCDカメラで受像し、フォーカス位置の調整を行う技術が開示されている。
しかしながら、上記文献に記載の技術では、精度の高い加工をすることができなかった。
本発明の目的は、上述の課題を解決する技術を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明に係るレーザ加工装置は、
加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射部と、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、前記光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定部と、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御部と、
を備えた。
加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射部と、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、前記光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定部と、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御部と、
を備えた。
上記目的を達成するため、本発明に係るレーザ加工装置の制御方法は、
加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射ステップと、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定ステップと、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御ステップと、
加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射ステップと、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定ステップと、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御ステップと、
上記目的を達成するため、本発明に係るレーザ加工装置の制御プログラムは、
加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射ステップと、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定ステップと、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御ステップと、
をコンピュータに実行させる。
加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射ステップと、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定ステップと、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御ステップと、
をコンピュータに実行させる。
本発明によれば、レーザ光の反射光に基づいて距離を測定するので、精度の高い加工をすることができる。
以下に、本発明を実施するための形態について、図面を参照して、例示的に詳しく説明記載する。ただし、以下の実施の形態に記載されている、構成、数値、処理の流れ、機能要素などは一例に過ぎず、その変形や変更は自由であって、本発明の技術範囲を以下の記載に限定する趣旨のものではない。
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態としてのレーザ加工装置100について、図1を用いて説明する。レーザ加工装置100は、レーザ光を用いて加工対象物などを加工する装置である。図1に示すように、レーザ加工装置100は、光照射部101、測定部102および加工制御部103を含む。
本発明の第1実施形態としてのレーザ加工装置100について、図1を用いて説明する。レーザ加工装置100は、レーザ光を用いて加工対象物などを加工する装置である。図1に示すように、レーザ加工装置100は、光照射部101、測定部102および加工制御部103を含む。
光照射部101は、加工モデルに基づいて、レーザ光121を加工対象物111へと照射する。測定部102は、加工対象物111からのレーザ光121の反射光に基づいて、光照射部101から加工対象物111までの距離を測定する。加工制御部103は、測定された距離に基づいて、加工制御する。
本実施形態によれば、レーザ光の反射光に基づいて距離を測定するので、精度の高い加工をすることができる。
[第2実施形態]
次に本発明の第2実施形態に係るレーザ加工装置について、図2乃至図5を用いて説明する。図2は、本実施形態に係るレーザ加工装置の構成を説明するための図である。レーザ加工装置200は、加工ステージ201、光照射部202、測定部203、形状計測部204、比較部205および加工制御部206を有する。加工ステージ201は、加工対象物211が加工される。つまり、加工対象物211は、加工ステージ201において加工される。
次に本発明の第2実施形態に係るレーザ加工装置について、図2乃至図5を用いて説明する。図2は、本実施形態に係るレーザ加工装置の構成を説明するための図である。レーザ加工装置200は、加工ステージ201、光照射部202、測定部203、形状計測部204、比較部205および加工制御部206を有する。加工ステージ201は、加工対象物211が加工される。つまり、加工対象物211は、加工ステージ201において加工される。
光照射部202は、レーザ光221を加工対象物211へ照射する。レーザ光221には、赤外レーザ光や可視レーザ光が含まれるが、これらには限定されない。レーザ光221には、例えば、固体レーザ光やガスレーザ光が含まれてもよい。さらに、レーザ光221には、紫外レーザ光や青色レーザ光が含まれてもよい。
光照射部202は、用途や目的などに応じて、レーザ光221を切り替えて照射する。加工対象物211の加工を行う場合には、光照射部202は、加工用のレーザ光221に切り替えて、照射する。また、加工対象物211の状態が知りたい場合には、光照射部202は、可視光のレーザ光221に切り替えて、照射する。さらに、加工対象物211からの距離が知りたい(距離を測定したい)場合には、光照射部202は、赤外光(IR:Infrared)のレーザ光221に切り替えて、照射する。なお、距離が知りたい場合に用いられるレーザ光221は、赤外光のレーザ光221には限定されない。
測定部203は、加工対象物211からのレーザ光221の反射光に基づいて、加工対象物からの距離を測定する。また、測定部203が距離を測定するタイミングは、例えば、加工対象物211の加工中または加工終了後などである。
測定部203は、加工対象物211からのレーザ光221の反射光を受光する受光部を有する。受光部は、例えば、赤外光を受光可能な受光素子(受光センサ)である。受光素子は、例えば、CCD(Charged Coupled Devices)センサやCMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)センサなどであるが、これらには限定されない。測定部203における距離の測定は、例えば、TOF(Time of Flight;飛行時間)方式や、三角法方式、位相差方式(フェイズシフト)などにより求められる。距離の測定は、それぞれの方式の特徴に応じて、適宜選択できる。
形状計測部204は、測定された距離に基づいて、加工対象物211の形状を計測する。形状計測部204は、測定部203で受光した受光データを受け取る。そして、形状計測部204が受け取った受光データには、反射光がどの位置からの反射光であるかなどのデータが含まれているので、これらの位置情報と測定部203で測定した距離とを用いることにより、形状計測部204は、加工対象物211の形状を計測する。すなわち、形状計測部204は、加工対象物211の立体形状などを読み取り可能なスキャナとして動作する。
なお、レーザ加工装置200による加工が、積層造形であれば、加工対象物211の形状の計測は、1層ごとに行っても、複数層ごとにおこなっても、加工対象物の加工が全て終了してから行ってもよい。例えば、1層ごとや複数層ごとに形状測定を行えば、加工対象物211の加工や造形を行いつつ、その都度修正を加えながら加工や造形を行えるので、より精度の高い加工や造形を行うことができる。このように、形状計測を行いながら、加工や造形を行えば、品質の高い加工品や造形物が得られる。また、得られた加工品や造形物の歩留まりも向上する。
比較部205は、形状計測部204により計測された加工対象物211の形状と加工モデル(造形モデル)とを比較する。
加工制御部206は、比較部205による比較結果に応じて加工制御する。加工対象物211の加工完了後に加工対象物211の形状計測を行い、比較部205により比較を行った結果、加工対象物211の形状と加工モデルの形状とが一致しない場合、加工制御部206は、例えば、不一致部分の追加工などを行う。
また、加工対象物211の加工中に加工対象物211の形状計測を行い、比較部205により比較を行った結果、加工対象物211の形状と加工モデルの形状とが一致しない場合、加工制御部206は、例えば、不一致部分の追加工を行い、その後、残りの加工を行う。追加工は、例えば、不要な部分を削る加工や、不足部分を追加する加工などであるがこれらには限定されない。レーザ加工装置200は、追加工の他にも、加工プログラムの変更やレーザ光の照射条件の変更などにより、不一致部分の是正を行う。
レーザ加工装置200のオペレータは、操作用コンピュータ270を用いてレーザ加工装置200を操作する。オペレータは、操作用コンピュータ270のCAD(Computer Aided Design)などで作成した加工や造形に用いる加工データ(造形データ)をレーザ加工装置200に送信する。なお、CADは、操作用コンピュータ270とは別のコンピュータにインストールされていてもよい。
そして、操作用コンピュータ270から加工データを受信したレーザ加工装置200は、受信した加工データに基づいて、レーザ光221の照射などを制御する。なお、加工データや造形データの作成は、CADを用いての作成には限られず、例えば、スマートフォンのアプリケーションやCAE(Computer Aided Engineering)などを用いて作成してもよい。
図3は、本実施形態に係るレーザ加工装置の光照射部の構成を説明する図である。光照射部202は、光源301、レーザ光源302、レーザ光源303、二次元MEMS(Micro Electro Mechanical System)ミラー304および受光部305を有する。二次元MEMSミラー304は、電気機械式ミラーである。
光源301は、固体レーザやガスレーザ、半導体レーザの発振器である。そして、光源301から放射されたレーザ光は光を誘導する光ファイバ311を経由して集光部312へと導かれる。集光部312は、集光レンズやコリメータレンズなどを含む。
レーザ光源302は、赤外レーザ光の光源である。また、レーザ光源303は、高出力のレーザ光の光源である。そして、レーザ光源302およびレーザ光源303から放射されたレーザ光は、集光部322,332へと導かれる。集光部322,332は、集光レンズやコリメータレンズなどを含む。レーザ光源302,303は、半導体LD(Laser Diode;レーザダイオード)であり、各波長のレーザ光などを放射(発振)するレーザ光発振素子である。
二次元MEMSミラー304は、電気機械式ミラーである。二次元MEMSミラー304は、外部から入力された制御信号に基づいて駆動される駆動ミラーであり、水平方向(X方向)および垂直方向(Y方向)に角度を変えてレーザ光を反射するように振動する。二次元MEMSミラー304で反射されたレーザ光は、画角補正素子(不図示)により画角の補正がなされる。そして、画角の補正がなされたレーザ光が、加工対象物211上や加工面上を走査され、所望の加工や造形が行われる。なお、画角補正素子は、必要に応じて設置される。なお、二次元MEMSミラー304を用いる代わりに、一次元MEMSミラーを2つ用いてもよい。
ここで、光源301から放射されたレーザ光は、ミラー320およびミラー340で反射して二次元MEMSミラー304へと到達する。同様に、レーザ光源302から放射されたレーザ光は、ミラー310およびミラー340で反射して二次元MEMSミラー304へと到達する。レーザ光源303から放射されたレーザ光は、ミラー330およびミラー340で反射して二次元MEMSミラー304へと到達する。ミラー340は、光照射部201の底部(底面)に配置されている。そして、ミラー310は、レーザ光源302からのレーザ光の反射光を底面に配置されたミラー340へ向けて、下方向へ反射させる。ミラー320は、レーザ光源301からのレーザ光の反射光を底面に配置されたミラー340へ向けて下方向へ反射させる。同様に、ミラー330は、レーザ光源303からのレーザ光の反射光を底面に配置されたミラー340へ向けて、下方向へ反射させる。そして、ミラー340は、ミラー340の上方に配置されている二次元MEMSミラー304に向けて、上方向へミラー310,320,330からの各レーザ光を反射させる。二次元MEMSミラー304は、ミラー340からの反射光を二次元方向に走査させて照射する。
光源301、レーザ光源302,303から放射された各レーザ光は、各ミラー310,320,330で反射した後は、同じ光路(1つの光路)を通過して、加工対象物211へと到達する。
受光部305は、加工対象物211からの反射光351を受光する受光素子である。二次元MEMSミラー304からレーザ光が放射されたことを検知するセンサを二次元MEMSミラー304やその周辺に設けておけば、二次元MEMSミラー304から放射されたレーザ光が反射光351として受光部305に到達するまでの時間を計測できる。これにより、例えば、TOF方式により距離を計測できる。
受光部305は、フォトディテクタ(PD)であるが、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)などであってもよい。なお、図3では、光照射部202に受光部305が設置された例で説明をしたが、反射光351を受光できる位置であれば、いずれの位置であってもよい。
また、レーザ加工装置200は、受光部305を備えたので、加工中や加工後に機上計測を行うことができる装置となっている。したがって、例えば、レーザ加工装置200においては、加工中の計測により、その都度、加工条件などを変更、修正しながら加工対象物211の加工を行うことができる。
図4は、本実施形態に係るレーザ加工装置の有する加工テーブルの一例を説明する図である。加工テーブル401は、加工ID(Identifier)411に関連付けて位置・距離412、計測形状413、比較結果414および制御内容415を記憶する。加工ID411は、加工を識別するための識別子である。位置・距離412は、加工対象物211の表面上の各点(位置)からの距離を示す。計測形状413は、計測された加工対象物211の形状である。比較結果414は、計測された加工対象物211の形状と加工モデルの形状とを比較した結果である。制御内容415は、比較結果に基づいて行われる加工制御の内容を示す。そして、レーザ加工装置200は、例えば、加工テーブル401を参照して加工制御を実行する。
図5は、本実施形態に係るレーザ加工装置のハードウェア構成を示すブロック図である。CPU(Central Processing Unit)510は、演算制御用のプロセッサであり、プログラムを実行することで図2のレーザ加工装置200の機能構成部を実現する。CPU510は複数のプロセッサを有し、異なるプログラムやモジュール、タスク、スレッドなどを並行して実行してもよい。ROM(Read Only Memory)520は、初期データおよびプログラムなどの固定データおよびその他のプログラムを記憶する。また、ネットワークインタフェース530は、ネットワークを介して他の装置などと通信する。なお、CPU510は1つに限定されず、複数のCPUであっても、あるいは画像処理用のGPU(Graphics Processing Unit)を含んでもよい。また、ネットワークインタフェース530は、CPU510とは独立したCPUを有して、RAM(Random Access Memory)540の領域に送受信データを書き込みあるいは読み出しするのが望ましい。また、RAM540とストレージ550との間でデータを転送するDMAC(Direct Memory Access Controller)を設けるのが望ましい(図示なし)。さらに、CPU510は、RAM540にデータが受信あるいは転送されたことを認識してデータを処理する。また、CPU510は、処理結果をRAM540に準備し、後の送信あるいは転送はネットワークインタフェース530やDMACに任せる。
RAM540は、CPU510が一時記憶のワークエリアとして使用するランダムアクセスメモリである。RAM540には、本実施形態の実現に必要なデータを記憶する領域が確保されている。位置・距離541は、加工対象物211からの距離である。形状542は、計測された加工対象物211の形状である。比較結果543は、計測された加工対象物211の形状と加工モデルの形状とを比較した結果である。制御内容544は、比較した結果に応じた加工制御の内容である。これらのデータは、例えば、加工テーブル401から展開される。
送受信データ545は、ネットワークインタフェース530を介して送受信されるデータである。また、RAM540は、各種アプリケーションモジュールを実行するためのアプリケーション実行領域546を有する。
ストレージ550には、データベースや各種のパラメータ、あるいは本実施形態の実現に必要な以下のデータまたはプログラムが記憶されている。ストレージ550は、加工テーブル401を格納する。加工テーブル401は、図4に示した、加工ID411と制御内容415などとの関係を管理するテーブルである。
ストレージ550は、さらに、光照射モジュール551、測定モジュール552、加工制御モジュール553、形状計測モジュール554および比較モジュール555を格納する。光照射モジュール551は、レーザ光を加工対象物211へ照射するモジュールである。測定モジュール552は、加工対象物211からの反射光351に基づいて、加工対象物211からの距離を測定するモジュールである。加工制御モジュール553は、測定された距離や、比較結果に応じて加工を制御するモジュールである。形状計測モジュール554は、測定された距離に基づいて、加工対象物211の形状を計測するモジュールである。比較モジュール555は、計測された加工対象物211の形状と加工モデルの形状とを比較するモジュールである。これらのモジュール551〜555は、CPU510によりRAM540のアプリケーション実行領域546に読み出され、実行される。制御プログラム556は、レーザ加工装置200の全体を制御するためのプログラムである。
入出力インタフェース560は、入出力機器との入出力データをインタフェースする。入出力インタフェース560には、表示部561、操作部562、が接続される。また、入出力インタフェース560には、さらに、記憶媒体564が接続されてもよい。さらに、音声出力部であるスピーカ563や、音声入力部であるマイク(図示せず)、あるいは、GPS位置判定部が接続されてもよい。なお、図5に示したRAM540やストレージ550には、レーザ加工装置200が有する汎用の機能や他の実現可能な機能に関するプログラムやデータは図示されていない。
図6Aは、本実施形態に係るレーザ加工装置の処理手順を説明するフローチャートである。このフローチャートは、図5のCPU510がRAM540を使用して実行し、図2のレーザ加工装置200の機能構成部を実現する。なお、図6Aのフローチャートは、加工対象物211の加工が終了した後に距離や形状の計測を行う場合のフローチャートを示している。
ステップS601において、レーザ加工装置200は、加工プログラムを受信する。ステップS603において、レーザ加工装置200は、受信した加工プログラムに基づいて、加工対象物211の加工を実行する。ステップS605において、レーザ加工装置200は、加工対象物211の加工が終了したか否かを判定する。加工が終了していない場合(ステップS605のNO)、レーザ加工装置200は、ステップS603に戻り、加工を続ける。加工が終了した場合(ステップS605のYES)、レーザ加工装置200は、次のステップへ進む。
ステップS607において、レーザ加工装置200は、反射光351に基づいて、加工対象物211からの距離を計測する。ステップS609において、レーザ加工装置200は、測定された距離に基づいて、加工対象物211の形状を計測する。ステップS611において、レーザ加工装置200は、計測された加工対象物211の形状と、加工モデルとを比較する。ステップS613において、レーザ加工装置200は、比較結果が不一致か否かを判定する。比較結果が不一致でない場合(ステップS613のNO)、つまり、計測された加工対象物211の形状と加工モデルの形状とが一致する場合、レーザ加工装置200は、処理を終了する。
比較結果が不一致の場合(ステップS613のYES)、つまり、計測された加工対象物211の形状と加工モデルの形状とが一致しない場合、レーザ加工装置200は、ステップS615へと進む。ステップS615において、レーザ加工装置200は、追加工を行い、不一致部分の修正などを行う。ステップS617において、レーザ加工装置200は、追加工が終了したか否かを判定する。追加工が終了していない場合(ステップS617のNO)、レーザ加工装置200は、ステップS615へ戻り、追加工を継続する。追加工が終了した場合(ステップS617のYES)、レーザ加工装置200は、処理を終了する。
図6Bは、本実施形態に係るレーザ加工装置の他の動作手順を説明するフローチャートである。なお、図6Bのフローチャートは、加工対象物211の加工中に距離や形状の計測を行う場合のフローチャートを示しており、図6Aと同じステップに同じステップ番号を付して説明を省略する。ステップS631において、レーザ加工装置200は、追加工や造形プログラムの変更などにより不一致部分を修正する。
本実施形態によれば、精度の高い加工をすることができる。また、加工面からの距離や、加工対象物の形状を計測するので、加工中にレーザ光の照射条件を変更でき、より精度の高い加工を行える。さらに、受光部を設けたので、加工中に、機上計測が可能となり、加工対象物の加工状態や造形物の造形状態を確認できる。また、機上計測が可能なので、その都度修正を加えつつ、加工や造形を行うことができる。
[第3実施形態]
次に本発明の第3実施形態に係るレーザ加工装置について、図7乃至図10を用いて説明する。図7は、本実施形態に係るレーザ加工装置の構成を説明するための図である。本実施形態に係るレーザ加工装置は、上記第2実施形態と比べると、報知部を有する点で異なる。その他の構成および動作は、第2実施形態と同様であるため、同じ構成および動作については同じ符号を付してその詳しい説明を省略する。
次に本発明の第3実施形態に係るレーザ加工装置について、図7乃至図10を用いて説明する。図7は、本実施形態に係るレーザ加工装置の構成を説明するための図である。本実施形態に係るレーザ加工装置は、上記第2実施形態と比べると、報知部を有する点で異なる。その他の構成および動作は、第2実施形態と同様であるため、同じ構成および動作については同じ符号を付してその詳しい説明を省略する。
レーザ加工装置700は、報知部701を有する。報知部701は、比較部205による比較結果を報知する。報知部701は、例えば、計測した加工対象物211の形状がモデルの形状と一致しない場合に、加工のエラーとしてレーザ加工装置700のオペレータなどに報知する。
報知部701による報知は、例えば、レーザ加工装置700に取り付けられているモニタなどの表示機器にエラーメッセージを表示することにより行われる。また、報知部701による報知は、レーザ加工装置700に取り付けられているランプなどを点滅させたり、スピーカなどから報知音を出したりすることにより行われる。さらに、報知部701は、レーザ加工装置700のオペレータが有するスマートフォンなどの携帯機器にエラーメッセージを送信して、オペレータにエラーの発生を報知する。
このように、報知部701により、エラーを報知すれば、オペレータなどがレーザ加工装置700による加工を中止することができる。また、レーザ加工装置700は、報知部701によりエラーを報知した後、所定時間経過した場合には、オペレータからの加工中止指示がなくても、加工を中止してもよい。
図8は、本実施形態に係るレーザ加工装置の有する報知テーブルの一例を説明する図である。報知テーブル801は、加工ID411に関連付けて報知フラグ811を記憶する。報知フラグ811は、比較結果が不一致である場合に立てられるフラグである。報知フラグ811が立つと、レーザ加工装置700は、不一致の比較結果をエラーとして報知する。
図9は、本実施形態に係るレーザ加工装置のハードウェア構成を説明するブロック図である。RAM940は、CPU510が一時記憶のワークエリアとして使用するランダムアクセスメモリである。RAM940には、本実施形態の実現に必要なデータを記憶する領域が確保されている。報知フラグ941は、比較結果が不一致である場合にたてられるフラグである。このデータは、例えば、報知テーブル801から展開される。
図10は、本実施形態に係るレーザ加工装置の動作手順を説明するフローチャートである。このフローチャートは、図9のCPU510がRAM940を使用して実行し、図7のレーザ加工装置700の機能構成部を実現する。ステップS1001において、レーザ加工装置700は、不一致の比較結果をエラーとしてオペレータなどに報知する。なお、ここでは、加工対象物211の加工完了後に形状比較をするフローチャートを用いて説明をしたが、加工対象物211の加工中に形状比較をする場合も同様である。
本実施形態によれば、不一致の比較結果を報知するので、レーザ加工装置のオペレータは容易に不一致であることを知ることができる。また、オペレータは、不一致の比較結果を容易に知ることができるので、その後の対策も迅速に行える。
[他の実施形態]
以上、実施形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。また、それぞれの実施形態に含まれる別々の特徴を如何様に組み合わせたシステムまたは装置も、本発明の範疇に含まれる。
以上、実施形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。また、それぞれの実施形態に含まれる別々の特徴を如何様に組み合わせたシステムまたは装置も、本発明の範疇に含まれる。
また、本発明は、複数の機器から構成されるシステムに適用されてもよいし、単体の装置に適用されてもよい。さらに、本発明は、実施形態の機能を実現する情報処理プログラムが、システムあるいは装置に直接あるいは遠隔から供給される場合にも適用可能である。したがって、本発明の機能をコンピュータで実現するために、コンピュータにインストールされるプログラム、あるいはそのプログラムを格納した媒体、そのプログラムをダウンロードさせるWWW(World Wide Web)サーバも、本発明の範疇に含まれる。特に、少なくとも、上述した実施形態に含まれる処理ステップをコンピュータに実行させるプログラムを格納した非一時的コンピュータ可読媒体(non-transitory computer readable medium)は本発明の範疇に含まれる。
Claims (7)
- 加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射部と、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、前記光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定部と、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御部と、
を備えたレーザ加工装置。 - 測定された前記距離に基づいて、前記加工対象物の形状を計測する形状計測部と、
前記形状計測部により計測された前記形状と、前記加工モデルと、を比較する比較部と、
をさらに備え、
前記加工制御部は、前記比較部による比較結果に応じて加工制御する請求項1に記載のレーザ加工装置。 - 前記比較部による比較結果を報知する報知部をさらに備えた請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 前記測定部は、前記加工対象物の加工中または加工終了後に、前記距離を測定する請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
- 前記光照射部は、電気機械式ミラーを有する請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
- 加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射ステップと、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定ステップと、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御ステップと、
を含むレーザ加工装置の制御方法。 - 加工モデルに基づいて、レーザ光を加工対象物へと照射する光照射ステップと、
前記加工対象物からの前記レーザ光の反射光に基づいて、光照射部から前記加工対象物までの距離を測定する測定ステップと、
測定された前記距離に基づいて、加工制御する加工制御ステップと、
をコンピュータに実行させるレーザ加工装置の制御プログラム。
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