JP2020046568A - Photosensitive ctp flexographic printing original plate - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
本発明は、コンピュータ製版技術により凸版印刷版を製造するために使用される感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版に関する。本発明は、特に、バリヤ層が感光性樹脂層との密着経時安定性に優れ、得られる印刷版の網点再現性に優れるバリヤ層を設けたＣＴＰフレキソ印刷原版に関する。 The present invention relates to a photosensitive CTP flexographic printing plate precursor used for producing a relief printing plate by computer plate making technology. The present invention particularly relates to a CTP flexographic printing plate precursor having a barrier layer in which the barrier layer has excellent stability over time in contact with the photosensitive resin layer and the resulting printing plate has excellent dot reproducibility.
近年、フレキソ印刷の分野において、デジタル画像形成技術として知られるコンピュータ製版技術（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ ｔｏ Ｐｌａｔｅ、ＣＴＰ技術）は、極めて一般的なものになってきている。ＣＴＰ技術は、コンピュータ上で処理された情報を印刷原版上に直接出力してレリーフとなる凹凸パターンを得る方法である。この技術により、ネガフィルムの製造工程が不要となり、コストとネガ作成に必要な時間を削減できる。 In recent years, in the field of flexographic printing, computer plate making technology (CTP technology), which is known as digital image forming technology, has become extremely popular. The CTP technique is a method of directly outputting information processed on a computer onto a printing original to obtain a relief pattern serving as a relief. This technique eliminates the need for a negative film manufacturing process, thereby reducing costs and the time required to make the negative.
ＣＴＰ技術では、光重合すべきでない領域を覆うために、従来から用いられているネガフィルムが印刷版内で形成統合されるマスクに取って代えられる。この統合マスクを得る方法として、感光性樹脂層上に化学線に対して不透明な感熱マスク層（感赤外線層）を設け、赤外線レーザでこの感熱マスク層を蒸発させることにより画像マスクを形成する方法が広く使用されている。 In CTP technology, the traditionally used negative film is replaced by a mask that is formed and integrated in the printing plate to cover areas that should not be photopolymerized. As a method of obtaining this integrated mask, a method of forming an image mask by providing a heat-sensitive mask layer (infrared ray-sensitive layer) opaque to actinic radiation on a photosensitive resin layer and evaporating the heat-sensitive mask layer with an infrared laser. Is widely used.
感熱マスク層には、放射線不透明材料であるカーボンブラックとバインダーよりなるものが一般的に使われている。感熱マスク層は、赤外線レーザによりアブレーションされるものであり、より薄い層が、アブレーション効率の点から好ましい。また、薄膜であるほどレリーフに与える皺の影響も少ない。ただし、感熱マスク層は、光重合層に対する化学放射線の透過を阻止するために、一般的に２．０以上の透過光学濃度（遮光性）が求められる。 As the heat-sensitive mask layer, a material composed of carbon black as a radiation opaque material and a binder is generally used. The heat-sensitive mask layer is ablated by an infrared laser, and a thinner layer is preferable in terms of ablation efficiency. Also, the thinner the film, the less the effect of wrinkles on the relief. However, the heat-sensitive mask layer is generally required to have a transmission optical density (light-shielding property) of 2.0 or more in order to prevent transmission of actinic radiation to the photopolymerization layer.
特許文献１の感光性フレキソＣＴＰ印刷原版は、感光性樹脂層、保護層、感熱マスク層から構成されており、保護層は、バリヤ層とも呼ばれる。感光性樹脂層と感熱マスク層との間に配置されるバリヤ層は、感光性樹脂層と感熱マスク層の間の物質移動を防ぐ働きと、大気中の酸素による感光性樹脂層の重合阻害を防ぐ働きを有しており、重要な役割を果たす。 The photosensitive flexographic CTP printing original plate of Patent Document 1 includes a photosensitive resin layer, a protective layer, and a heat-sensitive mask layer, and the protective layer is also called a barrier layer. The barrier layer disposed between the photosensitive resin layer and the thermal mask layer functions to prevent mass transfer between the photosensitive resin layer and the thermal mask layer, and to inhibit polymerization of the photosensitive resin layer due to oxygen in the atmosphere. It has a function to prevent and plays an important role.
特許文献２には、ポリビニルアルコール(ＰＶＡ)と合成ゴム系エマルジョン化合物とを含有するバリヤ層(保護層)が開示されているが、バリヤ層が感光性樹脂層との密着経時安定性の悪いものであった。つまり、特許文献２は高温高湿度下での長期保存時によって感光性樹脂層の低分子量成分が移行し、感光性樹脂層とバリヤ層との間で密着性が低下することで剥離する問題が発生していた。 Patent Literature 2 discloses a barrier layer (protective layer) containing polyvinyl alcohol (PVA) and a synthetic rubber-based emulsion compound. However, the barrier layer has poor adhesion stability with a photosensitive resin layer over time. Met. In other words, Patent Document 2 has a problem that the low molecular weight component of the photosensitive resin layer is transferred by long-term storage under a high temperature and a high humidity, and the adhesion between the photosensitive resin layer and the barrier layer is reduced, thereby causing a problem of peeling. Had occurred.
一方、最近、微細な文字に対する要望が厳しくなっている。特許文献１のフレキソ印刷原版では、保護層には感光層と実質的に非相溶の物質が単独で使用されており酸素遮断性が非常に高いために、レリーフの文字サイズは本来の画像に相当する感熱マスク層の開口部サイズ（赤外線レーザによりアブレーションされた開口部のサイズ）よりも大きくなった。その結果、本来の印刷デザインよりも太った暗いハイライトの印刷物できなかった。又、特許文献３のフレキソ印刷原版では、保護層を使用していないために、レリーフサイズは感熱マスク層の開口サイズよりも大幅に小さくなるが、微細な網点はレリーフのエッジが丸みを帯びた形状（ラウンドトップ）となる。その結果、レリーフエッジが丸みを帯びているため、僅かに印刷版への圧力（印圧）を加えた印刷条件であっても太った暗いハイライトの印刷物となる印刷品位の低下が起こっていた。このように、微細な文字レリーフが本来のデザインと同一となるフレキソ印刷原版が得られていない問題があった。このような状況から優れた印刷品位を得るためにレリーフの文字サイズはＣＴＰマスク層開口サイズ（赤外線レーザによりアブレーションされた開口部のサイズ）と同一となる画像再現性が求められていた。 On the other hand, recently, demands for fine characters have become severe. In the flexographic printing original plate of Patent Document 1, a material substantially incompatible with the photosensitive layer is used alone for the protective layer, and the oxygen barrier property is extremely high. The opening size of the corresponding thermal mask layer (the size of the opening ablated by the infrared laser) was larger. As a result, a printed matter with a dark highlight thicker than the original print design could not be obtained. Further, in the flexographic printing original plate of Patent Document 3, the relief size is significantly smaller than the opening size of the thermal mask layer because no protective layer is used, but fine halftone dots have rounded edges of the relief. Shape (round top). As a result, since the relief edge is rounded, the print quality, which is a thick dark highlight printed matter, has occurred even under a printing condition in which a slight pressure (printing pressure) is applied to the printing plate. As described above, there is a problem that a flexographic printing original plate in which fine character relief is the same as the original design has not been obtained. Under such circumstances, in order to obtain excellent print quality, image reproducibility in which the character size of the relief is the same as the opening size of the CTP mask layer (the size of the opening ablated by the infrared laser) has been required.
従って、高温高湿度下に長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で界面剥離を起こさない密着性とレリーフの文字サイズはＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性が得られる高品質な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版が強く望まれている。 Therefore, even if the photosensitive resin layer and the barrier layer are stored for a long period of time at high temperature and high humidity, the adhesion between the photosensitive resin layer and the barrier layer does not occur, and the image size of the relief is the same as the opening size of the CTP mask layer. There is a strong demand for a high quality photosensitive CTP flexographic printing plate.
本発明は、上記従来技術の現状に鑑み創案されたものであり、その目的は、高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で界面剥離がなく、得られる微細な文字レリーフがＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性を有する高品質な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-mentioned state of the art, and its purpose is to provide an interface without peeling between the photosensitive resin layer and the barrier layer even when stored for a long time in a high temperature and high humidity environment. An object of the present invention is to provide a high-quality photosensitive CTP flexographic printing plate precursor having image reproducibility in which the fine character relief obtained is the same as the opening size of the CTP mask layer.
本発明者らは、上記目的を達成するべく鋭意研究を行った結果、分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）、及び分子内にアルキレングリコール構造単位を特定の割合で含有するポリアミド樹脂（Ｂ）という二種類の特定のポリアミド樹脂をポリアミド樹脂（Ｂ）がバリヤ層中に１０質量％以上２５質量％未満の範囲で含有させることによって、高温高湿度下に長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で界面剥離を起こさない密着性とレリーフの文字サイズはＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have conducted intensive studies to achieve the above object. As a result, the polyamide resin (A) containing a basic nitrogen atom in the molecule and the alkylene glycol structural unit in the molecule in a specific ratio are contained. Even when the polyamide resin (B) is contained in the barrier layer in a range of 10% by mass or more and less than 25% by mass in the barrier layer, two kinds of specific polyamide resins, the polyamide resin (B), can be stored for a long time under high temperature and high humidity. The present inventors have found that the adhesion between the photosensitive resin layer and the barrier layer does not cause peeling and that the image size of the relief can be the same as the opening size of the CTP mask layer. Was.
即ち、本発明は、以下の（１）〜（３）の構成を有するものである。
（１）少なくとも支持体、感光性樹脂層、バリヤ層、及び感熱マスク層が順次積層されてなる感光性凸版印刷原版であって、バリヤ層が、分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）と、分子内にアルキレングリコール構造単位を４０〜７０質量％含有するポリアミド樹脂(Ｂ)とを含有し、且つポリアミド樹脂(Ａ)とポリアミド樹脂(Ｂ)の合計量に対するポリアミド樹脂(Ｂ)の含有量が全ポリアミド樹脂中に１０質量％以上２５質量％未満を含有することを特徴とする水現像可能な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版。
（２）ポリアミド樹脂(Ｂ)が、ポリエーテルアミド又はポリエーテルエステルアミドであり、アルキレングリコール構造単位が、数平均分子量４００〜１０００のポリエチレングリコール又はポリエチレングリコール共重合体に由来することを特徴とする（１）の水現像可能な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版
（３）ポリアミド樹脂(Ａ)が、ピペラジン環を分子内に含有するポリアミドであることを特徴とする（１）又は（２）の水現像可能な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版。
That is, the present invention has the following configurations (1) to (3).
(1) A photosensitive relief printing plate precursor in which at least a support, a photosensitive resin layer, a barrier layer, and a heat-sensitive mask layer are sequentially laminated, wherein the barrier layer contains a basic nitrogen atom in the molecule. (A) and a polyamide resin (B) containing 40 to 70% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule, and a polyamide resin (B) based on the total amount of the polyamide resin (A) and the polyamide resin (B). The photosensitive CTP flexographic printing plate precursor capable of being developed with water, characterized in that the content of (1) is at least 10% by mass and less than 25% by mass in all polyamide resins.
(2) The polyamide resin (B) is a polyetheramide or a polyetheresteramide, and the alkylene glycol structural unit is derived from polyethylene glycol or a polyethylene glycol copolymer having a number average molecular weight of 400 to 1,000. (1) The water-developable photosensitive CTP flexographic printing plate precursor (3) wherein the polyamide resin (A) is a polyamide containing a piperazine ring in the molecule. Possible photosensitive CTP flexographic printing plate.
本発明は、上記従来技術の現状に鑑み創案されたものであり、その目的は、高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で界面剥離がなく、微細な文字レリーフが赤外線レーザによりアブレーションされたＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性が得られる高品質な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版を提供することができる。 The present invention has been made in view of the above-mentioned state of the art, and its purpose is to prevent fine separation between the photosensitive resin layer and the barrier layer even after long-term storage in a high-temperature and high-humidity environment. It is possible to provide a high-quality photosensitive CTP flexographic printing plate precursor capable of obtaining image reproducibility in which a character relief is the same as the opening size of a CTP mask layer ablated by an infrared laser.
以下、本発明のフレキソ印刷原版を詳細に説明する。 Hereinafter, the flexographic printing original plate of the present invention will be described in detail.
本発明のフレキソ印刷原版は、少なくとも支持体、感光性樹脂層、バリヤ層、及び感熱マスク層が順次積層された基本構成を有する。 The flexographic printing original plate of the present invention has a basic structure in which at least a support, a photosensitive resin layer, a barrier layer, and a heat-sensitive mask layer are sequentially laminated.
本発明のフレキソ印刷原版に使用される支持体は、可撓性であるが、寸法安定性に優れた材料が好ましく、例えばスチール、アルミニウム、銅、ニッケルなどの金属製支持体、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、またはポリカーボネートフィルムなどの熱可塑性樹脂製支持体を使用することができる。これらの中でも、寸法安定性に優れ、充分に高い粘弾性を有するポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。支持体の厚みは、機械的特性、形状安定化あるいは印刷版製版時の取り扱い性等から、５０〜３５０μｍ、好ましくは１００〜２５０μｍが望ましい。また、必要により、支持体と感光性樹脂層との接着性を向上させるために、それらの間に接着剤を設けても良い。 The support used for the flexographic printing plate precursor of the present invention is flexible, but a material excellent in dimensional stability is preferable, for example, steel, aluminum, copper, a metal support such as nickel, a polyethylene terephthalate film, A support made of a thermoplastic resin such as a polyethylene naphthalate film, a polybutylene terephthalate film, or a polycarbonate film can be used. Among these, a polyethylene terephthalate film having excellent dimensional stability and sufficiently high viscoelasticity is particularly preferred. The thickness of the support is preferably from 50 to 350 μm, and more preferably from 100 to 250 μm, from the viewpoint of mechanical properties, shape stabilization, and handling during printing plate making. If necessary, an adhesive may be provided between the support and the photosensitive resin layer in order to improve the adhesion between the support and the photosensitive resin layer.
本発明のフレキソ印刷原版に使用される感光性樹脂層は、合成高分子化合物、光重合性不飽和化合物、及び光重合開始剤の必須成分と、可塑剤、熱重合防止剤、染料、顔料、紫外線吸収剤、香料、又は酸化防止剤などの任意の添加剤とを含有するものである。 The photosensitive resin layer used in the flexographic printing plate precursor of the present invention is a synthetic polymer compound, a photopolymerizable unsaturated compound, and essential components of a photopolymerization initiator, a plasticizer, a thermal polymerization inhibitor, a dye, a pigment, It contains an optional additive such as a UV absorber, a fragrance, or an antioxidant.
本発明のフレキソ印刷原版に使用されるバリヤ層は、光硬化していない感光性樹脂層の柔軟性が高い場合にその効果が発揮される。柔軟性の評価は、押し込み変位量で評価できる。柔軟性が高い感光性樹脂層としては、例えば高分子化合物としてラテックスより得られる水分散性重合体を含有する感光性樹脂層を挙げることができる。 The barrier layer used in the flexographic printing plate precursor of the present invention exhibits its effect when the photosensitive resin layer that has not been photocured has high flexibility. Flexibility can be evaluated by the amount of indentation displacement. Examples of the highly flexible photosensitive resin layer include a photosensitive resin layer containing a water-dispersible polymer obtained from latex as a polymer compound.
水分散性重合体を得ることが可能なラテックスとしては、ポリブタジエンラテックス、天然ゴムラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックス、ポリクロロプレンラテックス、ポリイソプレンラテックス、ポリウレタンラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックス、ビニルピリジン重合体ラテックス、ブチル重合体ラテックス、チオコール重合体ラテックス、アクリレート重合体ラテックスなどの水分散ラテックス重合体や、これらの重合体にアクリル酸やメタクリル酸などの他の成分を共重合して得られる重合体が挙げられる。これらの中でも、分子鎖中にブタジエン骨格またはイソプレン骨格を含有する水分散ラテックス重合体が、硬度やゴム弾性の点から好ましく用いられる。具体的には、ポリブタジエンラテックス、スチレン−ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ラテックス、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックス、ポリイソプレンラテックスが好ましい。ラテックスより得られる重合体は、独立した微粒子として光重合性不飽和化合物中に存在することが好ましい。 Examples of the latex capable of obtaining the water-dispersible polymer include polybutadiene latex, natural rubber latex, styrene-butadiene copolymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer latex, polychloroprene latex, polyisoprene latex, polyurethane latex, and methyl latex. Water-dispersed latex polymers such as methacrylate-butadiene copolymer latex, vinylpyridine polymer latex, butyl polymer latex, thiochol polymer latex, acrylate polymer latex, and other polymers such as acrylic acid and methacrylic acid. And a polymer obtained by copolymerizing the above components. Among them, a water-dispersed latex polymer containing a butadiene skeleton or an isoprene skeleton in a molecular chain is preferably used from the viewpoint of hardness and rubber elasticity. Specifically, polybutadiene latex, styrene-butadiene copolymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer latex, methyl methacrylate-butadiene copolymer latex, and polyisoprene latex are preferred. The polymer obtained from the latex is preferably present as independent fine particles in the photopolymerizable unsaturated compound.
本発明のフレキソ印刷原版に使用される感光性樹脂層は、合成高分子化合物として水現像性を低下させない範囲で室温で固形の合成ゴムを含有しても良い。具体的な合成ゴムとしては、ブタジエンゴム、ニトリル・ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン・イソプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴムから選ばれる高分子量の合成ゴムである。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併合して用いてもよい。この中でも、ブタジエンゴム、ニトリル・ブタジエンゴムが好ましく、ブタジエンゴムが最も好ましい。また、共役ジエン系ゴム成分の水分散ラテックスから得られる疎水性重合体とゴムとが、それぞれ共通の骨格構造を有することが好ましい。これにより、感光性樹脂層の機械的強度が向上し、耐刷性を備えた印刷版を得ることができる。感光性樹脂層を構成する感光性樹脂組成物中の共役ジエン系ゴム成分の配合量は、好ましくは１〜１０質量％、さらに好ましくは１〜７質量％である。 The photosensitive resin layer used in the flexographic printing plate precursor of the present invention may contain a synthetic rubber solid at room temperature as long as the water developability is not reduced as a synthetic polymer compound. Specific synthetic rubber is a high molecular weight synthetic rubber selected from butadiene rubber, nitrile / butadiene rubber, isoprene rubber, styrene / isoprene rubber, and styrene / butadiene rubber. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, butadiene rubber and nitrile-butadiene rubber are preferred, and butadiene rubber is most preferred. Further, it is preferable that the hydrophobic polymer and the rubber obtained from the aqueous dispersion latex of the conjugated diene rubber component have a common skeleton structure. Thereby, the mechanical strength of the photosensitive resin layer is improved, and a printing plate having printing durability can be obtained. The compounding amount of the conjugated diene-based rubber component in the photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin layer is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 1 to 7% by mass.
感光性樹脂組成物には、柔軟性を付与するなどの目的で可塑剤を添加することができる。可塑剤の配合量は、０．１〜３０質量％であることが好ましい。より好ましくは５〜２０質量％である。配合量を上記の範囲とすることで、感光性樹脂組成物の強度を保ちつつ柔軟性を付与できる。 A plasticizer can be added to the photosensitive resin composition for the purpose of imparting flexibility. The blending amount of the plasticizer is preferably 0.1 to 30% by mass. More preferably, it is 5 to 20% by mass. When the amount is in the above range, flexibility can be imparted while maintaining the strength of the photosensitive resin composition.
可塑剤としては、一般的に版材を柔軟化する性質を有するものであれば特に限定されるものではないが、他成分と相溶性が良好なものが好ましい。具体的には、室温で液状のポリエン化合物やエステル結合を有する化合物が挙げられる。室温で液状のポリエン化合物としては、液状のポリブタジエン、ポリイソプレン、さらにそれらの末端基あるいは側鎖を変性したマレイン化物、エポキシ化物などが挙げられる。エステル結合を有する化合物としては、フタル酸エステル、リン酸エステル、セバシン酸エステル、アジピン酸エステル、分子量１０００〜３０００のポリエステル等が挙げられる。 The plasticizer is not particularly limited as long as it generally has a property of softening the plate material, but a plasticizer having good compatibility with other components is preferable. Specifically, a polyene compound which is liquid at room temperature or a compound having an ester bond can be used. Examples of the polyene compound which is liquid at room temperature include liquid polybutadiene, polyisoprene, and a maleated or epoxidized compound having modified terminal groups or side chains thereof. Examples of the compound having an ester bond include a phthalate, a phosphate, a sebacate, an adipate, and a polyester having a molecular weight of 1,000 to 3,000.
本発明の感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版は、感光性樹脂層と感熱マスク層との間に、分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）と、分子内にアルキレングリコール構造単位を４０〜７０質量％含有するポリアミド樹脂（Ｂ）とを含有するバリヤ層を設け、且つポリアミド樹脂(Ａ)とポリアミド樹脂(Ｂ)の合計量に対するポリアミド樹脂(Ｂ)の含有量が全ポリアミド樹脂中に１０質量％以上２５質量％未満を含有することを最大の特徴とする。このような二種類の特定のポリアミド樹脂中のポリアミド樹脂(Ｂ)の含有率が低いバリヤ層を設けることで、高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で剥離がなく、微細な文字レリーフが赤外線レーザによりアブレーションされたＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性が得られる高品質な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版を提供することができる。 The photosensitive CTP flexographic printing plate precursor of the present invention comprises a polyamide resin (A) containing a basic nitrogen atom in the molecule between the photosensitive resin layer and the heat-sensitive mask layer, and 40 alkylene glycol structural units in the molecule. A barrier layer containing a polyamide resin (B) containing 70% by mass to 70% by mass, and the content of the polyamide resin (B) relative to the total amount of the polyamide resin (A) and the polyamide resin (B) is included in all the polyamide resins. The greatest feature is that it contains 10% by mass or more and less than 25% by mass. By providing a barrier layer having a low content of the polyamide resin (B) in such two kinds of specific polyamide resins, the barrier layer between the photosensitive resin layer and the barrier layer can be stored for a long period of time under a high temperature and high humidity environment. Accordingly, a high-quality photosensitive CTP flexographic printing original plate capable of obtaining image reproducibility in which fine character relief is the same as the opening size of a CTP mask layer ablated by an infrared laser without being separated can be provided.
分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）とは、主鎖または側鎖の一部分に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂である。塩基性窒素原子とは、アミド基ではないアミノ基を構成する窒素原子である。そのようなポリアミドとしては、第３級窒素原子を主鎖中に有するポリアミドが好ましい。塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）としては、例えば、塩基性窒素原子を含むジアミンとして、ピペラジン環を有するジアミンやメチルイミノビスプロピルアミン等の塩基性窒素原子を含むジアミンをジアミン成分として用いて共重合することにより得られるポリアミドである。ポリアミド樹脂（Ａ）は、水溶性であることが好ましい。水溶性の面から、ポリアミド樹脂（Ａ）は、ピペラジン環を有するジアミンを用いることが特に好ましい。ピペラジン環を有するジアミンとしては、１，４−ビス（３−アミノエチル）ピペラジン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジンなどが挙げられる。また、ポリアミド樹脂（Ａ）は物性面より一部に塩基性窒素原子を含有しないジアミン、ジカルボン酸やアミノカルボン酸等の原料を用いて共重合しても良い。分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂を得る方法は、例えば特開昭５０−７６０５号公報に開示されている。 The polyamide resin (A) containing a basic nitrogen atom in the molecule is a polyamide resin containing a basic nitrogen atom in a part of a main chain or a side chain. The basic nitrogen atom is a nitrogen atom constituting an amino group that is not an amide group. As such a polyamide, a polyamide having a tertiary nitrogen atom in the main chain is preferable. Examples of the polyamide resin containing a basic nitrogen atom (A) include, as a diamine containing a basic nitrogen atom, a diamine containing a basic nitrogen atom such as a diamine having a piperazine ring or methyliminobispropylamine as a diamine component. And a polyamide obtained by copolymerization. The polyamide resin (A) is preferably water-soluble. From the viewpoint of water solubility, it is particularly preferable that the polyamide resin (A) use a diamine having a piperazine ring. Examples of the diamine having a piperazine ring include 1,4-bis (3-aminoethyl) piperazine, 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine, and N- (2-aminoethyl) piperazine. Further, the polyamide resin (A) may be copolymerized using a raw material such as a diamine, dicarboxylic acid or aminocarboxylic acid which does not partially contain a basic nitrogen atom from the viewpoint of physical properties. A method for obtaining a polyamide resin containing a basic nitrogen atom in the molecule is disclosed in, for example, JP-A-50-7605.
分子内にアルキレングリコール構造単位を４０〜７０質量％含有するポリアミド樹脂（Ｂ）とは、共重合ポリアミド中に６−ナイロン及び／又は６６−ナイロンを６０〜３０質量％含有し、且つアルキレングリコール構造単位を４０〜７０質量％含有するポリアミド樹脂である。アルキレングリコール構造単位としては、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール共重合体に由来するものが好ましく、特にポリエチレングリコールに由来するものが水現像性の面から好ましい。ポリエチレングリコール共重合体としては、ポリエチレングリコールの含有率が５０質量％以上の共重合体であり、共重合する成分としてポリプロピレングリコールやポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。アルキレングリコール構造単位の含有率は、好ましくは４０〜６５質量％である。アルキレングリコール構造単位の含有率が上記の範囲内であれば、ポリエーテル結合の量を適度に含有しているため、バリヤ層のコート性やＣＴＰマスク層開口サイズに対する画像再現性に優れる。アルキレングリコール構造単位の由来するポリエチレングリコールやポリエチレングリコール共重合体の数平均分子量としては、バリヤ層の膜物性とガラス転移点の面から４００〜１０００が好ましく、４００〜８００がより好ましい。また、水溶性を向上させるためにポリアミド樹脂（Ｂ）の分子中に塩基性窒素原子を含有させても良い。 The polyamide resin (B) containing 40 to 70% by mass of an alkylene glycol structural unit in a molecule is a copolymer polyamide containing 60 to 30% by mass of 6-nylon and / or 66-nylon and having an alkylene glycol structure It is a polyamide resin containing 40 to 70% by mass of units. As the alkylene glycol structural unit, those derived from polyethylene glycol and a polyethylene glycol copolymer are preferred, and those derived from polyethylene glycol are particularly preferred from the viewpoint of water developability. The polyethylene glycol copolymer is a copolymer having a polyethylene glycol content of 50% by mass or more, and examples of the copolymerizable component include polypropylene glycol and polytetramethylene glycol. The content of the alkylene glycol structural unit is preferably from 40 to 65% by mass. When the content of the alkylene glycol structural unit is within the above range, since the amount of the polyether bond is appropriately contained, the coatability of the barrier layer and the image reproducibility with respect to the opening size of the CTP mask layer are excellent. The number average molecular weight of the polyethylene glycol or polyethylene glycol copolymer derived from the alkylene glycol structural unit is preferably from 400 to 1,000, more preferably from 400 to 800, from the viewpoint of the physical properties of the barrier layer and the glass transition point. Further, in order to improve the water solubility, the polyamide resin (B) may contain a basic nitrogen atom in the molecule.
分子内にアルキレングリコール構造単位を含有するポリアミド樹脂（Ｂ）としては、ポリエーテルアミド又はポリエーテルエステルアミドが使用できるが、耐加水分解性の面よりポリエーテルアミドが好ましい。ポリエーテルアミドは、特開昭５５−７９４３７号公報に従って合成することができる。具体的には、ポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα，ω−ジアミノポリオキシエチレンをジアミン成分として用いることでポリエーテルアミドを合成することができる。一方、ポリエーテルエステルアミドは、ポリエチレングリコールを原料として用い、エステル結合によりポリエチレングリコールを分子内に導入するという一般的な方法で合成できる。 As the polyamide resin (B) containing an alkylene glycol structural unit in the molecule, polyetheramide or polyetheresteramide can be used, but polyetheramide is preferable from the viewpoint of hydrolysis resistance. Polyetheramide can be synthesized according to JP-A-55-79437. Specifically, polyetheramide can be synthesized by adding acrylonitrile to both ends of polyethylene glycol and reducing it with hydrogen to use α, ω-diaminopolyoxyethylene as a diamine component. On the other hand, polyetheresteramide can be synthesized by a general method using polyethyleneglycol as a raw material and introducing polyethyleneglycol into the molecule through an ester bond.
本発明では、分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）は、バリヤ層に水溶性又は水分散性を付与すると共にバリヤ層に適度な硬度を付与する役割を有する。一方、分子内にアルキレングリコール構造単位を４０〜７０質量％含有するポリアミド樹脂（Ｂ）は、アルキレングリコール構造単位中のポリエーテル結合の存在により、適度な酸素バリヤ性を有し、印刷版の画像再現性を良好なものにする。つまり、微細な文字レリーフがＣＴＰマスク層開口サイズ（赤外線レーザによりアブレーションされた開口部のサイズ）と同一となる優れた画像再現性が得られる。 In the present invention, the polyamide resin (A) containing a basic nitrogen atom in the molecule has a role of imparting water solubility or water dispersibility to the barrier layer and imparting appropriate hardness to the barrier layer. On the other hand, the polyamide resin (B) containing the alkylene glycol structural unit in the molecule in an amount of from 40 to 70% by mass has an appropriate oxygen barrier property due to the presence of the polyether bond in the alkylene glycol structural unit. Make reproducibility good. That is, excellent image reproducibility in which the fine character relief is the same as the opening size of the CTP mask layer (the size of the opening ablated by the infrared laser) is obtained.
バリヤ層中のポリアミド樹脂（Ａ）とポリアミド樹脂（Ｂ）の合計量に対するポリアミド樹脂（Ｂ）の含有量は、１０質量％以上２５質量％未満であり、好ましくは１５質量％〜２０質量％未満の範囲である。ポリアミド樹脂（Ｂ）の含有率が１０質量％以上２５質量％未満の範囲にあることにより、本発明の画像再現性に対して適度な酸素バリヤ性が得られ、又、感光性樹脂層成分とのなじみが悪くなることから高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層成分が移行することはなく、感光性樹脂層とバリヤ層との間で界面剥離は発生しない。 The content of the polyamide resin (B) based on the total amount of the polyamide resin (A) and the polyamide resin (B) in the barrier layer is 10% by mass or more and less than 25% by mass, and preferably 15% by mass to less than 20% by mass. Range. When the content of the polyamide resin (B) is in the range of 10% by mass or more and less than 25% by mass, an appropriate oxygen barrier property with respect to the image reproducibility of the present invention can be obtained. Therefore, even if the photosensitive resin layer is stored for a long time in a high-temperature and high-humidity environment, the components of the photosensitive resin layer do not migrate, and no interface peeling occurs between the photosensitive resin layer and the barrier layer.
バリヤ層は、性能に悪影響を及ぼさない範囲で添加剤を含有しても良い。添加剤としては、可塑剤、各種安定剤などが挙げられる。また、バリヤ層の欠点を低減するために性能に悪影響を及ぼさない範囲で、消泡剤やレベリング剤等の添加剤を配合しても良い。 The barrier layer may contain additives as long as the performance is not adversely affected. Examples of the additive include a plasticizer and various stabilizers. Further, in order to reduce the defects of the barrier layer, additives such as an antifoaming agent and a leveling agent may be blended as long as the performance is not adversely affected.
消泡剤としては、メタノール、エタノール、ブタノールなど低級アルコール系消泡剤、シリコーン系消泡剤、鉱物油系消泡剤、トリブチルホスフェート、オレイン酸などの有機極性化合物系消泡剤、ポリプロピレングリコール誘導体などのポリエーテル系消泡剤などが挙げられる。その使用量は、バリヤ層の質量に対して通常、５質量％以下である。 Antifoaming agents include lower alcohol-based antifoaming agents such as methanol, ethanol, and butanol, silicone-based antifoaming agents, mineral oil-based antifoaming agents, organic polar compound-based antifoaming agents such as tributyl phosphate and oleic acid, and polypropylene glycol derivatives. And the like. The amount used is usually 5% by mass or less based on the mass of the barrier layer.
レベリング剤としては、アクリル系レベリング剤、ビニルエーテル系レベリング剤、シ
リコーン系レベリング剤、フッ素−ケイ素系レベリング剤、アセチレングリコール系レベ
リング剤等が挙げられ、これらのうち、１種または２種以上を組み合わせて用いることが
できる。このようなレベリング剤の中でも、アクリル系レベリング剤、ビニルエーテル系レベリング剤、アセチレングリコール系レベリング剤を用いることが好ましい。これにより、得られるバリヤ層の表面を、より平坦化することができる。
Examples of the leveling agent include an acrylic leveling agent, a vinyl ether-based leveling agent, a silicone-based leveling agent, a fluorine-silicon-based leveling agent, an acetylene glycol-based leveling agent, and the like. Can be used. Among such leveling agents, it is preferable to use an acrylic leveling agent, a vinyl ether type leveling agent, and an acetylene glycol type leveling agent. Thereby, the surface of the obtained barrier layer can be further flattened.
一般的には、バリヤ層は２種類の機能を有していると考えられてきた。１つは、隣接する感光性樹脂層あるいは感熱マスク層との間で物質が移動することを防ぐ『層間バリヤ性』が挙げられる。もう１つは、感光性樹脂層に向かってマスクを介して活性光線を全面照射する際の重合阻害を防ぐ『酸素バリヤ性』が挙げられる。『酸素バリヤ性』が最適化することで、高温高湿度下に長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で剥離を起こさない密着性とレリーフの文字サイズが赤外線レーザによりアブレーションされたＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性を得られるかどうかが重要である。 Generally, it has been considered that the barrier layer has two functions. One is an "interlayer barrier property" that prevents a substance from moving between an adjacent photosensitive resin layer or a heat-sensitive mask layer. The other is "oxygen barrier property" that prevents polymerization inhibition when irradiating the entire surface with actinic rays toward the photosensitive resin layer via a mask. By optimizing the oxygen barrier property, infrared laser ablation of the adhesion and relief character size that does not cause peeling between the photosensitive resin layer and the barrier layer even after long-term storage at high temperature and high humidity It is important to obtain image reproducibility that is the same as the opening size of the CTP mask layer.
本発明において、レリーフの文字サイズがＣＴＰマスク層開口サイズと同一とは、感熱マスク層に形成した画像（ネガフィルムと同じ）と比較して、感熱マスク層が独立点として直径２００μの点を形成した点に対して得られた印刷版が１９０μｍ〜２１０μｍの範囲内である場合を示す。ＣＴＰマスク層開口サイズの評価はＣＴＰマスク層開口サイズ再現性として評価した。 In the present invention, when the character size of the relief is the same as the opening size of the CTP mask layer, a point of 200 μm in diameter is formed as an independent point in the thermal mask layer as compared with an image formed on the thermal mask layer (same as a negative film). The case where the obtained printing plate is in the range of 190 μm to 210 μm with respect to the point indicated is shown. The evaluation of the opening size of the CTP mask layer was evaluated as the reproducibility of the opening size of the CTP mask layer.
本発明のフレキソ印刷原版で使用される感熱マスク層は、赤外線レーザーを吸収して熱に変換する機能と紫外光を遮断する機能を有する材料であるカーボンブラックと、その分散バインダーと、被膜形成可能なバインダーポリマーとから構成される。分散バインダーと被膜形成可能なバインダーポリマーとは、兼用することもできる。また、これら以外の任意成分として、顔料分散剤、フィラー、界面活性剤又は塗布助剤などを、本発明の効果を損なわない範囲で含有することができる。 The heat-sensitive mask layer used in the flexographic printing plate precursor of the present invention is a material having a function of absorbing infrared laser and converting it to heat and a function of blocking ultraviolet light, a carbon black as a material having a function of dispersing the same, and a film-forming material. And a suitable binder polymer. The dispersing binder and the binder polymer capable of forming a film can be used in combination. In addition, as an optional component other than these, a pigment dispersant, a filler, a surfactant, a coating aid, and the like can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired.
本発明のフレキソ印刷原版に使用される感熱マスク層は、特に限定されないが、水現像性であることが好ましい。具体的な感熱マスク層としては、極性基含有ポリアミドとブチラール樹脂とを組合せた感熱マスク層（特許第４２００５１０号）、感光性樹脂層中のポリマーと同じ構造を持つポリマーとアクリル樹脂とを含有する感熱マスク層（特許第５７１０９６１号）、アニオン性ポリマーと側鎖にエステル結合を有するケン化度が０％以上９０％以下のポリマーとを含有する感熱マスク層（特許第５５２５０７４号）などが挙げられる。 The heat-sensitive mask layer used in the flexographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited, but is preferably water-developable. Specific examples of the heat-sensitive mask layer include a heat-sensitive mask layer obtained by combining a polar group-containing polyamide and a butyral resin (Japanese Patent No. 4200510), a polymer having the same structure as the polymer in the photosensitive resin layer, and an acrylic resin. A heat-sensitive mask layer (Japanese Patent No. 5710961); and a heat-sensitive mask layer containing an anionic polymer and a polymer having an ester bond in a side chain and having a saponification degree of 0% or more and 90% or less (Japanese Patent No. 5525074). .
本発明のフレキソ印刷原版を製造する方法は特に限定されないが、一般的には以下のようにして製造される。
まず、感熱マスク層のカーボンブラック以外のバインダー等の成分を適当な溶媒に溶解させ、そこにカーボンブラックを分散させて分散液を作製する。次に、このような分散液を感熱マスク層用支持体（例えばポリエチレンテレフタレートフィルム）上に塗布して、溶媒を蒸発させる。その後、バリヤ層成分を上塗りし、一方の積層体を作成する。さらに、これとは別に、支持体上に塗工により感光性樹脂層を形成し、他方の積層体を作成する。このようにして得られた二つの積層体を、圧力及び／又は加熱下に、感光性樹脂層がバリヤ層に隣接するように積層する。なお、感熱マスク層用支持体は、印刷原版の完成後はその表面の保護フィルムとして機能する。
The method for producing the flexographic printing plate precursor of the present invention is not particularly limited, but is generally produced as follows.
First, a component such as a binder other than carbon black of the heat-sensitive mask layer is dissolved in an appropriate solvent, and carbon black is dispersed therein to prepare a dispersion. Next, such a dispersion is applied onto a support for a heat-sensitive mask layer (for example, a polyethylene terephthalate film), and the solvent is evaporated. Thereafter, a barrier layer component is overcoated to form one of the laminates. Further, separately from this, a photosensitive resin layer is formed on the support by coating, and the other laminate is formed. The two laminates thus obtained are laminated under pressure and / or heat so that the photosensitive resin layer is adjacent to the barrier layer. The support for the heat-sensitive mask layer functions as a protective film on the surface of the printing plate after completion of the printing plate.
本発明のＣＴＰ印刷原版から印刷版を製造する方法としては、保護フィルムが存在する場合には、まず保護フィルムを感光性印刷版から除去する。その後、感熱マスク層をＩＲレーザにより画像様に照射して、感光性樹脂層上にマスクを形成する。好適なＩＲレーザの例としては、ＮＤ／ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）又はダイオードレーザ（例、８３０ｎｍ）を挙げることができる。コンピュータ製版技術に好適なレーザシステムは、市販されており、例えばＣＤＩ Ｓｐａｒｋ（エスコ・グラフィックス社）を使用することができる。このレーザシステムは、印刷原版を保持する回転円筒ドラム、ＩＲレーザの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータからレーザ装置に直接移される。 As a method for producing a printing plate from the CTP printing original plate of the present invention, if a protective film is present, the protective film is first removed from the photosensitive printing plate. Thereafter, the thermal mask layer is irradiated imagewise with an IR laser to form a mask on the photosensitive resin layer. Examples of suitable IR lasers include an ND / YAG laser (1064 nm) or a diode laser (eg, 830 nm). Laser systems suitable for computer platemaking technology are commercially available, for example, CDI Spark (Esco Graphics) can be used. This laser system includes a rotating cylindrical drum for holding a printing plate, an irradiation device of an IR laser, and a layout computer, and image information is directly transferred from the layout computer to the laser device.
画像情報を感熱マスク層に書き込んだ後、感光性印刷原版にマスクを介して活性光線を全面照射する。これは版をレーザシリンダに取り付けた状態で行うことも可能であるが、版をレーザ装置から除去し、慣用の平板な照射ユニットで照射する方が規格外の版サイズに対応可能な点で有利であり、一般的である。活性光線としては、１５０〜５００ｎｍ、特に３００〜４００ｎｍの波長を有する紫外線を使用することができる。その光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用することができる。その後、照射された版は現像され、印刷版を得る。現像工程は、慣用の現像ユニットで実施することができる。 After the image information is written on the heat-sensitive mask layer, the photosensitive printing plate precursor is irradiated with actinic rays through the mask. This can be done with the plate attached to the laser cylinder, but removing the plate from the laser and irradiating it with a conventional flat irradiation unit is advantageous in that it can accommodate non-standard plate sizes. And general. Ultraviolet rays having a wavelength of 150 to 500 nm, particularly 300 to 400 nm can be used as the actinic ray. As the light source, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a zirconium lamp, a carbon arc lamp, a fluorescent lamp for ultraviolet rays and the like can be used. Thereafter, the irradiated plate is developed to obtain a printing plate. The developing step can be performed by a conventional developing unit.
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中（本文）の部数は質量部を表わす。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. The number of parts in the examples (the text) indicates parts by mass.
以下に各実施例に用いた材料を説明する。 Hereinafter, the materials used in each example will be described.
＜塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂（Ａ）の合成＞
Ａ−１：ε−カプロラクタム５２０質量部、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジンアジペート４００質量部、３−ビスアミノメチルシクロヘキサンアジペート８０質量部と水１０００質量部をオートクレーブ中に仕込み、窒素置換後、密閉して徐々に加熱した。内圧が１ＭＰａに達した時点から、その圧力を保持できなくなるまで水を留出させ、約２時間で常圧に戻し、その後１時間常圧で反応させた。最高重合反応温度は２５５℃であった。これにより、塩基性窒素原子含有ポリアミド樹脂を得た。
Ａ−２：ε−カプロラクタム ９０質量部、Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラジンとアジピン酸のナイロン塩 ９１０質量部および水１０００質量部をオートクレーブに入れ、内部の空気を窒素ガスで置換した後に２００℃で１時間加熱し、次いで水分を除去して、水溶性の塩基性窒素原子含有ポリアミド樹脂を得た。
Ａ−３：ε−カプロラクタム５４０質量部、１，４−ビス（３−アミノエチル）ピペラジンアジペート３８０質量部、３−ビスアミノメチルシクロヘキサンアジペート８０質量部と水１０００質量部をオートクレーブ中に仕込み、窒素置換後、密閉して徐々に加熱した。内圧が１ＭＰａに達した時点から、その圧力を保持できなくなるまで水を留出させ、約２時間で常圧に戻し、その後１時間常圧で反応させた。最高重合反応温度は２５５℃であった。これにより、塩基性窒素原子含有ポリアミド樹脂を得た。
<Synthesis of polyamide resin (A) containing basic nitrogen atom>
A-1: 520 parts by mass of ε-caprolactam, 400 parts by mass of 1,4-bis (3-aminopropyl) piperazine adipate, 80 parts by mass of 3-bisaminomethylcyclohexane adipate and 1000 parts by mass of water were charged into an autoclave, and nitrogen was charged. After the replacement, the container was closed and heated gradually. From the time when the internal pressure reached 1 MPa, water was distilled off until the pressure could not be maintained, and the pressure was returned to normal pressure in about 2 hours, and then the reaction was performed at normal pressure for 1 hour. The highest polymerization reaction temperature was 255 ° C. Thus, a basic nitrogen atom-containing polyamide resin was obtained.
A-2: 90 parts by mass of ε-caprolactam, 910 parts by mass of nylon salt of N- (2-aminoethyl) piperazine and adipic acid, and 1000 parts by mass of water were placed in an autoclave, and the inside air was replaced with nitrogen gas. The mixture was heated at 1 ° C. for 1 hour and then water was removed to obtain a water-soluble polyamide resin containing a basic nitrogen atom.
A-3: 540 parts by mass of ε-caprolactam, 380 parts by mass of 1,4-bis (3-aminoethyl) piperazine adipate, 80 parts by mass of 3-bisaminomethylcyclohexane adipate and 1000 parts by mass of water were charged in an autoclave, and nitrogen was charged. After the replacement, the container was closed and heated gradually. From the time when the internal pressure reached 1 MPa, water was distilled off until the pressure could not be maintained, and the pressure was returned to normal pressure in about 2 hours, and then the reaction was performed at normal pressure for 1 hour. The highest polymerization reaction temperature was 255 ° C. Thus, a basic nitrogen atom-containing polyamide resin was obtained.
＜アルキレングリコール構造単位を含有するポリアミド樹脂（Ｂ）の合成＞
Ｂ−１：数平均分子量６００のポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩７９０質量部、ε−カプロラクタム２１０質量部を通常の条件で溶融重合した。得られたポリアミドは、分子中にアルキレングリコール構造単位を５９質量％含有するＰＥＧ含有ポリアミド樹脂であった。
Ｂ−２：数平均分子量６００のポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩６０４質量部、ε−カプロラクタム３９６質量部をＢ−１と同様にして溶融重合した。得られたポリアミドは、分子中にアルキレングリコール構造単位を４５質量％含有するＰＥＧ含有ポリアミド樹脂であった。
Ｂ−３：数平均分子量６００のポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩８３９質量部、ε−カプロラクタム２６１質量部をＢ−１と同様にして溶融重合した。得られたポリアミドは、分子中にアルキレングリコール構造単位を５５質量％含有するＰＥＧ含有ポリアミド樹脂であった。
Ｂ−４：数平均分子量５００のポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩７９０質量部、ε−カプロラクタム２１０質量部を通常の条件で溶融重合した。得られたポリアミドは、分子中にアルキレングリコール構造単位を５４質量％含有するＰＥＧ含有ポリアミド樹脂であった。
Ｂ−５：数平均分子量８００のポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩７３０質量部、ε−カプロラクタム２７０質量部を通常の条件で溶融重合した。得られたポリアミドは、分子中にアルキレングリコール構造単位を５７質量％含有するＰＥＧ含有ポリアミド樹脂であった。
Ｂ−６：数平均分子量６００のポリエチレングリコールの両末端にアクリロニトリルを付加し、これを水素還元して得たα、ω−ジアミノポリオキシエチレンとアジピン酸との当モル塩３０９質量部、ε−カプロラクタム６９１質量部を通常の条件で溶融重合した。得られたポリアミドは、分子中にアルキレングリコール構造単位を３１質量％含有するＰＥＧ含有ポリアミド樹脂であった。
なお、得られたポリアミド樹脂Ｂ−１〜Ｂ−７の分子中のアルキレングリコール構造単位の含有率は、原料の仕込み投入量から計算した。
<Synthesis of polyamide resin (B) containing alkylene glycol structural unit>
B-1: Acrylonitrile is added to both ends of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 600, and hydrogen reduction is performed to obtain 790 parts by mass of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid, ε- 210 parts by mass of caprolactam were melt polymerized under ordinary conditions. The resulting polyamide was a PEG-containing polyamide resin containing 59% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule.
B-2: Acrylonitrile is added to both ends of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 600, and hydrogen reduction is performed to obtain 604 parts by mass of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid, ε- 396 parts by mass of caprolactam were melt-polymerized in the same manner as in B-1. The resulting polyamide was a PEG-containing polyamide resin containing 45% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule.
B-3: Acrylonitrile is added to both ends of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 600, and hydrogen reduction is carried out to obtain 839 parts by mass of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid, ε- 261 parts by mass of caprolactam were melt-polymerized in the same manner as in B-1. The obtained polyamide was a PEG-containing polyamide resin containing 55% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule.
B-4: Acrylonitrile is added to both ends of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 500 and hydrogen reduction is performed, and 790 parts by mass of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid, ε- 210 parts by mass of caprolactam were melt polymerized under ordinary conditions. The obtained polyamide was a PEG-containing polyamide resin containing 54% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule.
B-5: acrylonitrile is added to both ends of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 800 and hydrogen reduction is performed, and 730 parts by mass of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid, ε- 270 parts by mass of caprolactam were melt polymerized under ordinary conditions. The resulting polyamide was a PEG-containing polyamide resin containing 57% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule.
B-6: acrylonitrile is added to both ends of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 600 and hydrogen reduction is carried out to obtain 309 parts by mass of an equimolar salt of α, ω-diaminopolyoxyethylene and adipic acid, ε- 691 parts by mass of caprolactam were melt-polymerized under ordinary conditions. The resulting polyamide was a PEG-containing polyamide resin containing 31% by mass of an alkylene glycol structural unit in the molecule.
The content of the alkylene glycol structural units in the molecules of the obtained polyamide resins B-1 to B-7 was calculated from the charged amounts of the raw materials.
＜バリヤ層用塗工液組成物作成＞
表１の組成比率のポリアミド樹脂（Ａ）とポリアミド樹脂（Ｂ）とを固形分濃度が１０質量％となるように６０℃でエタノールに溶解し、バリヤ層用塗工液作成を作成した。
<Preparation of coating composition for barrier layer>
The polyamide resin (A) and the polyamide resin (B) having the composition ratios shown in Table 1 were dissolved in ethanol at 60 ° C. so that the solid content concentration became 10% by mass, to prepare a coating solution for a barrier layer.
＜感熱マスク層作成＞
感熱マスク層の塗工液には、カーボンブラック分散液（オリエント化学工業（株）製、ＡＭＢＫ−８）と共重合ポリアミドの混合物を用いた。混合物中の各成分の混合割合は、固形分質量比でカーボンブラック：ブチラール樹脂：共重合ポリアミド＝３５：２８：３７であった。次にＰＥＴフィルム（東洋紡（株）、Ｅ５０００、厚さ１００μｍ）の両面に離型処理を施した後、感熱マスク層塗工液をバーコーター♯１２を用いて塗工し、１２０℃×５分乾燥した。この時の光学濃度は２．３であった。この光学濃度は白黒透過濃度計ＤＭ−５２０（大日本スクリーン製造（株））によって測定した。
<Create thermal mask layer>
As a coating solution for the heat-sensitive mask layer, a mixture of a carbon black dispersion (AMBK-8, manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.) and a copolymerized polyamide was used. The mixing ratio of each component in the mixture was as follows: carbon black: butyral resin: copolyamide = 35: 28: 37 in terms of solid mass ratio. Next, after both sides of a PET film (Toyobo Co., Ltd., E5000, thickness: 100 μm) are subjected to a release treatment, a heat-sensitive mask layer coating liquid is coated using a bar coater # 12, and the coating is performed at 120 ° C. × 5 minutes. Dried. The optical density at this time was 2.3. The optical density was measured by a black and white transmission densitometer DM-520 (Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd.).
＜バリヤ層を設けた感熱マスク層積層体のフィルムの作成＞
作成した感熱マスク層の上に、バリヤ層用塗工液を所定の厚みになるように適切な種類のバーコーターを用いて塗工し、１２０℃×５分乾燥し、バリヤ層を最上層に設けた感熱マスク層積層体のフィルムを得た。
<Preparation of heat-sensitive mask layer laminate film with barrier layer>
On the created heat-sensitive mask layer, a coating solution for a barrier layer is applied using a suitable type of bar coater so as to have a predetermined thickness, and dried at 120 ° C. for 5 minutes to make the barrier layer the uppermost layer. A film of the provided heat-sensitive mask layer laminate was obtained.
＜感光性樹脂層用感光性樹脂組成物の作成＞
ブタジエンラテックス（ＮｉｐｏｌＬＸ１１１ＮＦ 不揮発分５５％ 日本ゼオン（株）製）７０質量部、アクリロニトリル−ブタジエンラテックス（ＮｉｐｏｌＳＸ１５０３ 不揮発分４２％ 日本ゼオン（株）製）３０質量部、親水性重合体（ＰＦＴ−３、ウレタンウレア構造を有する分子量約２００００の重合体、不揮発分２５％ 共栄社化学（株）製）２０質量部、オリゴブタジエンアクリレート（ＡＢＵ−２Ｓ 共栄社化学（株）製）２０質量部、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート（分子量３０４、ＮＫエステルＡ−ＤＣＰ新中村化学（株）製）０．９質量部、フェノキシジエチレングリコールアクリレート（分子量約２３６、ＡＭＰ−２０ＧＹ、新中村化学（株）製）６部、光重合開始剤１．０質量部、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル０．０３質量部をトルエン６質量部とともに容器中で混合してから、次に加圧ニーダーを用いて１０５℃で混練し、その後トルエンと水を減圧除去することにより、感光性樹脂層に用いる感光性樹脂組成物を得た。この組成物の押し込み変位量を測定したところ、１３μｍであった。
<Preparation of photosensitive resin composition for photosensitive resin layer>
70 parts by mass of butadiene latex (Nipol LX111NF, nonvolatile content 55%, made by Nippon Zeon Co., Ltd.), 30 parts by mass of acrylonitrile-butadiene latex (NipolSX1503, nonvolatile content 42%, made by Zeon Corporation), hydrophilic polymer (PFT-3, urethane) A polymer having a urea structure and a molecular weight of about 20,000, a nonvolatile content of 25%, 20 parts by mass of Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 20 parts by mass of oligobutadiene acrylate (ABU-2S, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), tricyclodecane dimethylol diol 0.9 parts by mass of acrylate (molecular weight: 304, NK ester A-DCP manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 6 parts of phenoxydiethylene glycol acrylate (molecular weight: about 236, AMP-20GY, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), photopolymerization started 1.0 parts by mass of a polymerization inhibitor 0.03 parts by mass of droquinone monomethyl ether was mixed in a container together with 6 parts by mass of toluene, then kneaded at 105 ° C. using a pressure kneader, and then toluene and water were removed under reduced pressure to obtain a photosensitive solution. A photosensitive resin composition used for a resin layer was obtained. When the indentation displacement of this composition was measured, it was 13 μm.
＜印刷原版作成＞
共重合ポリエステル系接着剤を塗工したＰＥＴフィルム支持体（東洋紡（株）、Ｅ５０００、厚さ１２５μｍ）上に上記感光性樹脂組成物を配置し、その上からバリヤ層を最上層に設けた感熱マスク層積層体のフィルムを重ね合わせた。ヒートプレス機を用いて１００℃でラミネートし、ＰＥＴ支持体、接着層、感光性樹脂層、保護層、感熱マスク層および離型処理ＰＥＴ保護フィルム（カバーフィルム）からなるフレキソ印刷原版を得た。版の総厚は１．９０ｍｍであった。
<Print master plate creation>
The above-mentioned photosensitive resin composition was placed on a PET film support (Toyobo Co., Ltd., E5000, thickness 125 μm) coated with a copolymerized polyester adhesive, and a barrier layer was provided on the uppermost layer from above. The films of the mask layer laminate were overlaid. Lamination was performed at 100 ° C. using a heat press machine to obtain an original flexographic printing plate comprising a PET support, an adhesive layer, a photosensitive resin layer, a protective layer, a heat-sensitive mask layer, and a release-treated PET protective film (cover film). The total thickness of the plate was 1.90 mm.
＜印刷原版からの印刷版の作成＞
原版のＰＥＴ支持体側から化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ１０Ｒ、３６５ｎｍにおける照度８ｍＷ／ｃｍ２）を１分間照射した。続いて、離型処理ＰＥＴフィルム（カバーフィルム）を剥離した。この版を、Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｍａｇｅｒ Ｓｐａｒｋ（バルコ社製）の回転ドラムに感熱マスク層が表側にくるように巻き付け、真空引き後、画像形成を行った。アブレーション後、版を取り出し平面に戻し、化学線（光源Ｐｈｉｌｉｐｓ１０Ｒ、３６５ｎｍにおける照度８ｍＷ／ｃｍ２）を６分照射した。その後、Ａ＆Ｖ（株）製現像機（Ｓｔｕｃｋ Ｓｙｓｔｅｍ）で、４０℃で８分現像を行った。現像液には、食器洗剤Ｃａｓｃａｄｅ（米国Ｐ＆Ｇ製）を１％添加した水道水を使用した。現像後、６０℃で１０分乾燥し、化学線を１０分間照射し、最後に表面粘着性を除去するために殺菌灯を５分間照射した。
<Creating a printing plate from a printing plate>
The original was irradiated with actinic radiation (illuminance: 8 mW / cm 2 at 365 nm, Philips 10R, 365 nm) for 1 minute from the PET support side. Subsequently, the release-treated PET film (cover film) was peeled off. This plate was wound around a rotating drum of Digital Imager Spark (manufactured by Barco) so that the heat-sensitive mask layer was on the front side, and after evacuation, an image was formed. After the ablation, the plate was taken out, returned to a flat surface, and irradiated with actinic radiation (illuminance of 8 mW / cm 2 at Philips 10R, 365 nm) for 6 minutes. Thereafter, development was performed at 40 ° C. for 8 minutes using a developing machine (Stuck System) manufactured by A & V Corporation. Tap water to which 1% of dishwashing detergent Cascade (manufactured by P & G, USA) was added was used as the developing solution. After development, the film was dried at 60 ° C. for 10 minutes, irradiated with actinic radiation for 10 minutes, and finally irradiated with a germicidal lamp for 5 minutes to remove surface stickiness.
＜評価方法＞
バリヤ層と感光性樹脂層との密着安定性：作製したフレキソ印刷版原版を幅１０ｃｍで長さが１０ｃｍにカットし、評価サンプルとした。サンプルを３５℃の恒温室で相対湿度８０％の条件下、平面台の上に１日間及び３０日間保存し、サンプルを調整した。恒温室で調整したサンプルを平坦な場所に１分間静置し、カバーフィルムを剥離した。剥離した後、目視でバリヤ層が感光性樹脂層より剥離していないかを観察し、以下の基準で密着性を判定した。
○：バリヤ層と感光性樹脂層との界面剥離が確認されなかったもの
△：バリヤ層と感光性樹脂層との界面剥離がサンプルの端部に確認されたもの×：バリヤ層と感光性樹脂層との界面剥離がサンプルの全面に確認されたもの
<Evaluation method>
Adhesion stability between barrier layer and photosensitive resin layer: The prepared flexographic printing plate precursor was cut into a width of 10 cm and a length of 10 cm to obtain an evaluation sample. The sample was stored for 1 day and 30 days on a flat table under the condition of a relative humidity of 80% in a constant temperature room at 35 ° C. to prepare the sample. The sample prepared in the constant temperature room was allowed to stand on a flat place for 1 minute, and the cover film was peeled off. After peeling, it was visually observed whether the barrier layer was peeled from the photosensitive resin layer, and the adhesion was determined based on the following criteria.
：: No peeling of the interface between the barrier layer and the photosensitive resin layer was observed. △: One where the peeling of the interface between the barrier layer and the photosensitive resin layer was confirmed at the end of the sample. X: Barrier layer and the photosensitive resin. Interfacial delamination with the layer was confirmed on the entire surface of the sample
ＣＴＰマスク層開口サイズ再現性：赤外線レーザによりアブレーションして形成した直径２００μｍの独立点のＣＴＰ層を用いて独立点のレリーフを作成し、ＣＴＰマスク層開口サイズに対するレリーフの再現性として評価した。レーザー顕微鏡（ＶＫ９５１０、キーエンス社製）を用いて１０００倍の拡大で、ピッチ０．１μｍで立体画像の独立点の直径を測定した。なお、線の中心部高さから２μｍ低下するまでの水平距離をレリーフ独立点直径とした。評価は以下の判定基準で判断した。
○：独立点のトップ直径が１９０μｍから２１０μｍの範囲にある。
△：独立点のトップ直径が１８０μｍから１９０μｍ未満、又は２１０μｍを超えて２２０μｍ以下の範囲にある。
×：独立点のトップ直径が１８０μｍ未満、又は２２０μｍを超えた範囲にある。
CTP mask layer opening size reproducibility: An independent point relief was formed using a 200 μm diameter independent point CTP layer formed by ablation with an infrared laser, and evaluated as the reproducibility of the relief with respect to the CTP mask layer opening size. Using a laser microscope (VK9510, manufactured by KEYENCE CORPORATION), the diameter of an independent point of the stereoscopic image was measured at a pitch of 0.1 μm at a magnification of 1000 times. The horizontal distance from the center of the line to the height of 2 μm was defined as the relief independent point diameter. Evaluation was made based on the following criteria.
：: The top diameter of the independent point is in the range of 190 μm to 210 μm.
Δ: The top diameter of the independent point is in the range of 180 μm to less than 190 μm, or more than 210 μm and 220 μm or less.
×: The top diameter of the independent point is less than 180 μm or more than 220 μm.
レリーフトップ形状再現性：赤外線レーザによりアブレーションして形成した直径２００μｍの独立点のＣＴＰ層を用いて直径２００μｍの独立点のレリーフトップの形状を評価した。評価は顕微鏡を用いて１００倍に拡大した直径２００μｍの独立点レリーフトップの形状を断面で観察し、以下の判定基準で判定した。
○：独立点レリーフトップの端部に丸みが見られない。
×：独立点レリーフトップの端部に丸みが見られる。
Relief top shape reproducibility: The shape of a relief top having a 200 μm diameter independent point was evaluated using a CTP layer having a 200 μm diameter independent point formed by ablation using an infrared laser. In the evaluation, the shape of the independent point relief top having a diameter of 200 μm, which was magnified 100 times, was observed on a cross section using a microscope, and the evaluation was made according to the following criteria.
：: No roundness is observed at the end of the relief point of the independent point.
X: Roundness is seen at the end of the independent point relief top.
押し込み変位量の測定：支持体の上に１．７０ｍｍの厚みを有する感光性樹脂層が配置された印刷原版に直径１０ｍｍの円盤状の圧子を１２０ｇ重の荷重で６０秒間負荷し、その際の変位量をＯＮＯ ＳＯＫＫＩ製ＬＩＮＥＡＲ ＳＥＮＳＯＲ（ＧＳ−１１２）を用いて測定した。押し込み変位量が大きいほど、版は柔軟である。 Measurement of indentation displacement: A disc-shaped indenter having a diameter of 10 mm was applied to a printing original plate having a photosensitive resin layer having a thickness of 1.70 mm placed on a support with a load of 120 g for 60 seconds. The displacement was measured using LINEAR SENSOR (GS-112) manufactured by ONO SOKKI. The greater the indentation displacement, the more flexible the plate.
実施例１
＜感熱マスク層作成＞で作成した感熱マスク層を準備した。次に、表１に示す実施例１のバリヤ層組成比率で＜バリヤ層用塗工液組成物の作成＞に従って塗工液組成物を作成した。次に、＜バリヤ層を設けた感熱マスク層積層体のフィルムの作成＞に従って、バリヤ層を厚みが１．５μｍとなるように感熱マスク層上に塗布・乾燥し、バリヤ層を最上層に設けた感熱マスク層積層体のフィルムを得た。得られた感熱マスク層積層体のフィルムを＜印刷原版作成＞に従って感光性樹脂層とラミネートし、ＰＥＴ支持体、接着層、感光性樹脂層、保護層、感熱マスク層および離型処理ＰＥＴ保護フィルム（カバーフィルム）からなるフレキソ印刷原版を得た。版の総厚は１．９０ｍｍであった。なお、実施例１に用いた感光性樹脂層は、＜感光性樹脂層用感光性樹脂組成物の作成＞で作成したものを用いた。
Example 1
The heat-sensitive mask layer prepared in <Preparation of heat-sensitive mask layer> was prepared. Next, a coating liquid composition was prepared in accordance with <Preparation of coating liquid composition for barrier layer> at a barrier layer composition ratio of Example 1 shown in Table 1. Next, according to <Preparation of film of thermal mask layer laminated body provided with barrier layer>, a barrier layer is applied and dried on thermal mask layer so as to have a thickness of 1.5 μm, and a barrier layer is provided on the uppermost layer. A heat-sensitive mask layer laminate film was obtained. The obtained film of the heat-sensitive mask layer laminate is laminated with a photosensitive resin layer according to <Preparation of printing original plate>, and a PET support, an adhesive layer, a photosensitive resin layer, a protective layer, a heat-sensitive mask layer, and a release-treated PET protective film. A flexographic printing original plate comprising (cover film) was obtained. The total thickness of the plate was 1.90 mm. The photosensitive resin layer used in Example 1 was the one prepared in <Preparation of photosensitive resin composition for photosensitive resin layer>.
実施例２〜９、比較例１〜３
実施例１の製造方法に従って、表１に記載の感熱マスク層組成（質量比）で作成した感熱マスク層を設けたフィルムを用いて実施例１の感光性樹脂層を設け、ＰＥＴ支持体、接着層、感光性樹脂層、バリヤ層、感熱マスク層および離型処理ＰＥＴ保護フィルム（カバーフィルム）からなるフレキソ印刷原版を得た。版の総厚は１．９０ｍｍであった。得られた感熱マスク層及びＣＴＰフレキソ印刷原版を用いて性能評価を行った。これらの性能評価の結果を以下の表１に示す。
Examples 2 to 9, Comparative Examples 1 to 3
According to the manufacturing method of Example 1, the photosensitive resin layer of Example 1 was provided using the film provided with the thermal mask layer prepared with the thermal mask layer composition (mass ratio) shown in Table 1, and the PET support, the adhesive, A flexographic printing original plate comprising a layer, a photosensitive resin layer, a barrier layer, a heat-sensitive mask layer, and a release-treated PET protective film (cover film) was obtained. The total thickness of the plate was 1.90 mm. Performance evaluation was performed using the obtained heat-sensitive mask layer and the CTP flexographic printing original plate. The results of these performance evaluations are shown in Table 1 below.
比較例４
ポリビニルアルコール（ゴーセノール ＫＬ−０３ 日本合成化学（株））とアクリルエマルション（ボンコートＳＥＰ１１９ ＤＩＣ社製、固形分濃度 ４５％）を、５０／５０の固形重量割合で混合してバリヤ層用組成物を得た。得られたバリヤ層用組成物を用いて、作成した感熱マスク層の上に、バリヤ層用塗工液を所定の厚みになるように適切な種類のバーコーターを用いて塗工し、１２５℃×５分乾燥し、バリヤ層を最上層に設けた感熱マスク層積層体のフィルムを得た。得られた感熱マスク層積層体のフィルムを用いて、実施例１と同様にして印刷原版を得た。得られた感熱マスク層及びＣＴＰフレキソ印刷原版を用いて性能評価を行った。
Comparative Example 4
Polyvinyl alcohol (Gohsenol KL-03 Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) and an acrylic emulsion (manufactured by Boncoat SEP119 DIC, solid content: 45%) were mixed at a solid weight ratio of 50/50 to obtain a composition for a barrier layer. Was. Using the obtained barrier layer composition, a barrier layer coating liquid is applied on the prepared thermal mask layer using a suitable type of bar coater so as to have a predetermined thickness. After drying for 5 minutes, a film of a heat-sensitive mask layer laminate having a barrier layer as the uppermost layer was obtained. A printing original plate was obtained in the same manner as in Example 1 using the obtained film of the heat-sensitive mask layer laminate. Performance evaluation was performed using the obtained heat-sensitive mask layer and the CTP flexographic printing original plate.
表１から分かるように、本発明の構成要件を満たす実施例１〜９は、高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で剥離がなく、得られる微細な文字レリーフがＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性であり、又、得られるレリーフトップ形状がフラット形状であり、いずれの性能にも優れる。これに対して、ポリアミド樹脂（Ｂ）の含有量が少ない比較例１は、マスク層開口サイズ再現性に劣る。ポリアミド樹脂（Ｂ）の含有量が多い比較例２は、感光性樹脂層とバリヤ層との密着安定性に劣る。又、ポリアミド樹脂（Ｂ）中のアレキレングリコール構造単位の量が少ない比較例３はマスク層開口サイズ再現性に劣る。比較例４は、低温での耐皺性、感光性樹脂層とバリヤ層との密着安定性及びマスク層開口サイズ再現性に劣る。 As can be seen from Table 1, in Examples 1 to 9 satisfying the constitutional requirements of the present invention, there is no separation between the photosensitive resin layer and the barrier layer even after long-term storage in a high-temperature and high-humidity environment. The character relief has the same image reproducibility as the opening size of the CTP mask layer, and the relief top shape obtained is a flat shape, which is excellent in both performances. On the other hand, Comparative Example 1 in which the content of the polyamide resin (B) is small is inferior in mask layer opening size reproducibility. Comparative Example 2, in which the content of the polyamide resin (B) is large, is inferior in adhesion stability between the photosensitive resin layer and the barrier layer. Comparative Example 3 in which the amount of the alkylene glycol structural unit in the polyamide resin (B) is small is inferior in mask layer opening size reproducibility. Comparative Example 4 is inferior in wrinkle resistance at low temperature, adhesion stability between the photosensitive resin layer and the barrier layer, and reproducibility of the mask layer opening size.
本発明によれば、高温高湿度環境下で長期保存しても感光性樹脂層とバリヤ層との間で層間剥離がなく、得られる微細な文字レリーフがＣＴＰマスク層開口サイズと同一となる画像再現性であり、レリーフトップ形状がフラット形状である高品質な感光性ＣＴＰフレキソ印刷原版を提供することができる。従って、本発明は、極めて有用である。 According to the present invention, there is no delamination between the photosensitive resin layer and the barrier layer even when stored for a long time in a high temperature and high humidity environment, and the obtained fine character relief has the same opening size as the CTP mask layer. A high-quality photosensitive CTP flexographic printing original plate having reproducibility and a flat relief top shape can be provided. Therefore, the present invention is extremely useful.
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022210577A1 (en) | 2021-03-30 | 2022-10-06 | 旭化成株式会社 | Flexographic printing original plate, and method for manufacturing flexographic printing plate |
| JP7458471B2 (en) | 2019-03-01 | 2024-03-29 | 旭化成株式会社 | Original plate for flexo printing plate |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040038147A1 (en) * | 2002-08-20 | 2004-02-26 | Ray Kevin B. | Flexographic element having an integral thermally bleachable mask layer |
| JP2004163925A (en) * | 2002-10-24 | 2004-06-10 | Toray Ind Inc | Photosensitive resin printing plate original, method for manufacturing the same, and method for manufacturing resin letterpress printing plate using the same |
| JP2012022229A (en) * | 2010-07-16 | 2012-02-02 | Toray Ind Inc | Photosensitive resin printing original plate |
-
2018
- 2018-09-20 JP JP2018175886A patent/JP7243098B2/en active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040038147A1 (en) * | 2002-08-20 | 2004-02-26 | Ray Kevin B. | Flexographic element having an integral thermally bleachable mask layer |
| JP2004163925A (en) * | 2002-10-24 | 2004-06-10 | Toray Ind Inc | Photosensitive resin printing plate original, method for manufacturing the same, and method for manufacturing resin letterpress printing plate using the same |
| JP2012022229A (en) * | 2010-07-16 | 2012-02-02 | Toray Ind Inc | Photosensitive resin printing original plate |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7458471B2 (en) | 2019-03-01 | 2024-03-29 | 旭化成株式会社 | Original plate for flexo printing plate |
| WO2022210577A1 (en) | 2021-03-30 | 2022-10-06 | 旭化成株式会社 | Flexographic printing original plate, and method for manufacturing flexographic printing plate |
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