JP2017181781A - Photosensitive resin composition for ctp flexographic printing plate precursor and printing plate precursor obtained from the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、コンピュータ製版(Computer to Plate)技術によりフレキソ印刷版を製造するために使用される感光性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a photosensitive resin composition used for producing a flexographic printing plate by a computer to plate technology.
近年、フレキソ印刷の分野において、デジタル画像形成技術として知られるCTP技術は、極めて一般的なものになってきている。CTP技術は、コンピュータ上で処理された情報を印刷版上に直接出力してレリーフとなる凹凸パターンを得る方法である。この技術により、ネガフィルムの製造工程が不要となり、コストとネガ作成に必要な時間を削減することができる。 In recent years, in the field of flexographic printing, CTP technology known as digital image forming technology has become very common. The CTP technique is a method for obtaining a relief uneven pattern by directly outputting information processed on a computer onto a printing plate. This technique eliminates the need for a negative film manufacturing process, thereby reducing costs and the time required to create the negative.
CTP感光性フレキソ印刷原版としては、感光性樹脂層の上に保護層(バリア層)を設け、さらにその上に感熱マスク層を設けた構成の水現像性感光性フレキソ印刷原版が提案されている(特許文献1)。特許文献1は、優れたレーザーアブレーション性を有する感光性フレキソ印刷原版を提供することができるが、ネガ方式では問題とならなかったレリーフエッジ部の印刷カスレが発生する。そもそもCTP用に設けたアブレーション層はネガフィルムに比べて容易に変形する。このため、レリーフトップ部の形状が容易に変形する欠点を持っている。そのために、印刷ではこのエッジ部盛り上がりによるインク転移ムラ(印刷カスレ)が発生しやすくなっていた。 As a CTP photosensitive flexographic printing original plate, a water-developable photosensitive flexographic printing original plate in which a protective layer (barrier layer) is provided on a photosensitive resin layer and a thermal mask layer is further provided thereon has been proposed. (Patent Document 1). Patent Document 1 can provide a photosensitive flexographic printing original plate having excellent laser ablation properties, but causes printing blur at the relief edge, which was not a problem with the negative method. In the first place, the ablation layer provided for CTP is easily deformed compared to the negative film. For this reason, it has the fault that the shape of a relief top part deform | transforms easily. For this reason, in printing, unevenness of ink transfer (print blur) due to the rising of the edge portion is likely to occur.
また、特許文献1のCTP感光性フレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物は、機械的強度が不足し、印刷時の耐刷性が不足するという欠点があり、その改善が求められていた。 Moreover, the photosensitive resin composition for CTP photosensitive flexographic printing original plate of patent document 1 has the fault that mechanical strength is insufficient and printing durability at the time of printing is insufficient, and the improvement was calculated | required.
このように、従来の水現像可能な感光性樹脂組成物を用いたCTPフレキソ印刷原版では、レーザーアブレーション性能、水現像性、耐刷性、及びレリーフトップ形状変化に伴う印刷カスレの解決に関して全てを満足させるというものではなかった。 As described above, the CTP flexographic printing original plate using the conventional water-developable photosensitive resin composition is all about the laser ablation performance, water developability, printing durability, and the solution of printing blur caused by the relief top shape change. It wasn't to satisfy.
本発明者は、かかる問題に対処するために、感光性樹脂組成物の架橋成分に特定の水酸基含有光重合性モノマーを使用することを提案した(特許文献2参照)。しかしながら、特許文献2は、もっぱら水分散ラテックスを主成分とする感光性樹脂組成物を対象とするものであり、特定のゴムを主成分とする感光性樹脂組成物においてレーザーアブレーション性能、水現像性、耐刷性、及びレリーフトップ形状変化に伴う印刷カスレを解決することは何ら考慮されていない。 In order to cope with such a problem, the present inventor has proposed to use a specific hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer as a crosslinking component of the photosensitive resin composition (see Patent Document 2). However, Patent Document 2 is intended exclusively for a photosensitive resin composition mainly composed of a water-dispersed latex. In the photosensitive resin composition mainly composed of a specific rubber, laser ablation performance, water developability However, no consideration is given to solving printing blur due to printing durability and relief top shape change.
本発明は、かかる従来技術の現状に鑑み創案されたものであり、その目的は、感光性樹脂組成物中に特定の種類のゴムを含有するCTP水現像性フレキソ版において、従来通りの現像性・画像再現性を保持しながら、CTP版特有の課題であるレリーフエッジ部の盛り上がりによる印刷カスレを抑え、さらに耐刷性をも満足する高性能なCTP感光性フレキソ印刷原版及びそのための感光性樹脂組成物を提供することにある。 The present invention was devised in view of the current state of the prior art, and the object thereof is to develop the conventional developability in a CTP water-developable flexographic plate containing a specific type of rubber in a photosensitive resin composition.・ High-performance CTP photosensitive flexographic printing plate and photosensitive resin for suppressing printing shading due to bulging of the relief edge, which is a problem unique to the CTP plate, while maintaining image reproducibility and satisfying printing durability It is to provide a composition.
本発明者らは、かかる目的を達成するために鋭意検討した結果、印刷原版中の感光性樹脂層の架橋成分に特定の水酸基含有光重合性モノマーを特定の量で使用することにより、所望の効果が得られることを見出し、本発明の完成に至った。 As a result of intensive investigations to achieve such an object, the present inventors have used a specific hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in a specific amount as a crosslinking component of the photosensitive resin layer in the printing original plate, thereby obtaining a desired amount. The inventors have found that an effect can be obtained and have completed the present invention.
即ち、本発明は、以下の(1)〜(3)の構成を有するものである。
(1)少なくとも(A)スチレン誘導体と共役ジエンからなるブロック共重合体、(B)光重合性不飽和化合物、(C)光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物であって、(B)光重合性不飽和化合物が、(B−1)水酸基非含有光重合性モノマー、(B−2)ペンタエリスリトール骨格、ジペンタエリスリトール骨格又はグリセリン骨格を持つ重量平均分子量200〜1500の水酸基含有光重合性モノマーからなり、(B)光重合性不飽和化合物中の(B−2)水酸基含有光重合性モノマーの含有量が1〜20質量%であることを特徴とするCTPフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物。
(2)(B−2)感光性樹脂組成物中の水酸基含有光重合性モノマー由来の水酸基の濃度が0.01〜0.13等量モル/kgであることを特徴とする(1)に記載のCTPフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物。
(3)(1)又は(2)に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層の表面に、バリア層を介して感熱マスク層を設けたことを特徴とするCTPフレキソ印刷原版。
That is, the present invention has the following configurations (1) to (3).
(1) A photosensitive resin composition comprising at least (A) a block copolymer comprising a styrene derivative and a conjugated diene, (B) a photopolymerizable unsaturated compound, and (C) a photopolymerization initiator, The photopolymerizable unsaturated compound is (B-1) a hydroxyl group-free photopolymerizable monomer, (B-2) a hydroxyl group-containing photopolymerization having a weight average molecular weight of 200 to 1500 having a pentaerythritol skeleton, a dipentaerythritol skeleton or a glycerin skeleton. And (B-2) a photopolymerizable unsaturated compound containing (B-2) a hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in an amount of 1 to 20% by mass. Resin composition.
(2) (B-2) In (1), the concentration of the hydroxyl group derived from the hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in the photosensitive resin composition is 0.01 to 0.13 equivalent mol / kg. The photosensitive resin composition for CTP flexographic printing original plates as described.
(3) A CTP flexographic printing original plate, wherein a thermal mask layer is provided on the surface of the photosensitive resin layer comprising the photosensitive resin composition according to (1) or (2) via a barrier layer.
本発明の感光性樹脂組成物は、使用する光重合性不飽和化合物において特定の水酸基含有光重合性モノマーを特定の量で含有するようにしたので、カッピング、カバーフィルム剥離性、感熱マスク層耐性、機械的強伸度、及び現像性に優れたCTP感光性フレキソ印刷原版を提供することができる。特に、本発明の感光性樹脂組成物は、感光性樹脂層と感熱マスク層の間にバリア層を設けたCTPフレキソ印刷原版に使用される場合に顕著な効果を奏する。 Since the photosensitive resin composition of the present invention contains a specific hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in a specific amount in the photopolymerizable unsaturated compound to be used, cupping, cover film peelability, heat sensitive mask layer resistance Further, it is possible to provide a CTP photosensitive flexographic printing original plate excellent in mechanical strength and developability. In particular, the photosensitive resin composition of the present invention has a remarkable effect when used in a CTP flexographic printing original plate in which a barrier layer is provided between the photosensitive resin layer and the thermal mask layer.
以下、本発明のCTPフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれから得られるCTPフレキソ印刷原版について説明する。 Hereinafter, the photosensitive resin composition for CTP flexographic printing original plate of the present invention and the CTP flexographic printing original plate obtained therefrom will be described.
本発明のCTPフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物は、少なくとも(A)スチレン誘導体と共役ジエンからなるブロック共重合体、(B)光重合性不飽和化合物、(C)光重合開始剤を含み、特に(B)光重合性不飽和化合物として特定の(B−2)水酸基含有光重合性モノマーを特定の量で使用したことに特徴がある。 The photosensitive resin composition for CTP flexographic printing plate precursor of the present invention contains at least (A) a block copolymer comprising a styrene derivative and a conjugated diene, (B) a photopolymerizable unsaturated compound, and (C) a photopolymerization initiator. In particular, the (B) photopolymerizable unsaturated compound is characterized in that a specific (B-2) hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer is used in a specific amount.
(A)スチレン誘導体と共役ジエンからなるブロック共重合体とは、少なくとも主としてスチレン由来の構造単位からなる重合体ブロックと、共役ジエン由来の構造単位からなる重合体ブロックを有するブロック共重合体である。スチレン誘導体と共役ジエンからなるブロック共重合体は、スチレン由来の構造単位を10〜25質量%、好ましくは15〜25質量%含み、共役ジエン由来の構造単位を90〜75質量%、好ましくは85〜75質量%含む。スチレン誘導体と共役ジエンからなるブロック共重合体には、スチレン以外のスチレン系モノマー由来の構造単位を含んでいても差し支えない。スチレン以外のスチレン系モノマーとしては、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−t−ブチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン等が挙げられる。一方、共役ジエン由来の構造単位からなる重合体ブロックにおける共役ジエンとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、2,3−ジメチルブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられ、ブタジエン、イソプレンが好ましい。上記のモノマー、共役ジエンは、1種単独でも2種以上を組み合わせて用いてもよい。スチレン系ブロック共重合体の具体例としては、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SIS)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)等が挙げられる。これらの市販品としては、例えば、クレイトンポリマー社製の「クレイトンD」(商品名)、旭化成ケミカルズ株式会社製の「タフプレン」(商品名)と「アサプレンT」(商品名)、JSR株式会社製の「JSR TR」(商品名)と「JSR SIS」(商品名)、日本ゼオン社製の「クインタック」(商品名)等が挙げられる。これらの中でも、耐摩耗性や力学物性に優れるスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)が好ましい。 (A) A block copolymer composed of a styrene derivative and a conjugated diene is a block copolymer having at least a polymer block composed mainly of structural units derived from styrene and a polymer block composed of structural units derived from conjugated diene. . The block copolymer composed of a styrene derivative and a conjugated diene contains 10 to 25% by mass, preferably 15 to 25% by mass of a structural unit derived from styrene, and 90 to 75% by mass, preferably 85, of a structural unit derived from a conjugated diene. Contains ~ 75% by mass. The block copolymer comprising a styrene derivative and a conjugated diene may contain structural units derived from styrene monomers other than styrene. Examples of styrene monomers other than styrene include α-methyl styrene, o-methyl styrene, m-methyl styrene, p-methyl styrene, pt-butyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, vinyl naphthalene, and vinyl anthracene. Can be mentioned. On the other hand, examples of the conjugated diene in the polymer block composed of a structural unit derived from a conjugated diene include butadiene, isoprene, chloroprene, 2,3-dimethylbutadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, and the like. Isoprene is preferred. The above monomers and conjugated dienes may be used singly or in combination of two or more. Specific examples of the styrene block copolymer include styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), and the like. Is mentioned. As these commercially available products, for example, “Clayton D” (trade name) manufactured by Clayton Polymer Co., Ltd., “Toughprene” (trade name) and “Asaprene T” (trade name) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, and JSR Corporation “JSR TR” (trade name) and “JSR SIS” (trade name), “Quintac” (trade name) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., and the like. Among these, a styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS) excellent in wear resistance and mechanical properties is preferable.
感光性樹脂組成物中の(A)成分の配合量は70〜85質量%であることが好ましい。70質量%未満では、印刷板としての柔軟性が不足し、85質量%を超えると、印刷版の強度が悪化するおそれがある。 It is preferable that the compounding quantity of (A) component in the photosensitive resin composition is 70-85 mass%. If it is less than 70% by mass, the flexibility as a printing plate is insufficient, and if it exceeds 85% by mass, the strength of the printing plate may be deteriorated.
(B)光重合性不飽和化合物は、(B−1)水酸基非含有光重合性モノマー及び(B−2)水酸基含有光重合性モノマーからなる。感光性樹脂組成物中の(B)成分の配合量は7〜15質量%であることが好ましい。7質量%未満では、印刷版の画像再現性が悪くなり、15質量%を超えると、印刷版として硬度が高くなりすぎるおそれがある。 The (B) photopolymerizable unsaturated compound comprises (B-1) a hydroxyl group-free photopolymerizable monomer and (B-2) a hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer. It is preferable that the compounding quantity of (B) component in the photosensitive resin composition is 7-15 mass%. If it is less than 7% by mass, the image reproducibility of the printing plate is deteriorated, and if it exceeds 15% by mass, the hardness of the printing plate may be too high.
(B−1)水酸基非含有光重合性モノマーは、分子内に水酸基を有さないエチレン重合性不飽和炭化水素化合物である。(B−1)成分は、刷版表面の架橋密度を上げるために、本発明の効果を阻害しない範囲で添加されることができる。水酸基非含有光重合性モノマーは、分子量が100〜500で、少なくとも2個以上のエチレン性不飽和基を末端又は側鎖に有する化合物であることが好ましく、具体的には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられ、特に1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート及び1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレートが好ましい。 (B-1) The hydroxyl group-free photopolymerizable monomer is an ethylenically unsaturated hydrocarbon compound having no hydroxyl group in the molecule. The component (B-1) can be added within a range that does not impair the effects of the present invention in order to increase the crosslinking density of the printing plate surface. The hydroxyl group-free photopolymerizable monomer is preferably a compound having a molecular weight of 100 to 500 and having at least two ethylenically unsaturated groups at the terminal or side chain. Specifically, ethylene glycol di (meta ) Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol dimethacrylate, pentaerythritol Tetra Acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate and the like, in particular 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and 1,9-nonanediol di (meth) acrylate.
(B−2)水酸基含有光重合性モノマーは、分子内に少なくとも1個以上の水酸基を有するエチレン重合性不飽和炭化水素化合物である。構造としては、ペンタエリスリトール骨格、ジペンタエリスリトール骨格、またはグリセリン骨格の中で少なくとも一つの骨格を持ち、前記骨格由来の水酸基を分子内に持つ。これらの骨格にはエチレングリコールやプロピレングリコール等の二価アルコールを付加させても良い。感光性樹脂組成物中の水酸基含有光重合性モノマー由来の水酸基の濃度としては、0.01〜0.2等量モル/kgが好ましい。感光性樹脂組成物中の水酸基含有光重合性モノマー由来の水酸基の濃度の下限は、より好ましくは0.05等量モル/kgであり、更に好ましくは0.1モル/kgである。感光性樹脂組成物中の水酸基含有光重合性モノマー由来の水酸基の濃度の上限は、より好ましくは0.15等量モル/kgであり、更に好ましくは0.13モル/kgである。水酸基濃度が上記範囲未満では、カッピングが発生するおそれがあり、上記範囲を超えると、カバーフィルムが剥離できないおそれがある。また、水酸基含有光重合性モノマーの重量平均分子量は、200〜1500であり、200〜1000が好ましく、210〜900がより好ましい。水酸基含有光重合性モノマーの重量平均分子量が上記範囲未満では、感光性樹脂成分がマイグレートしやすくなるおそれがあり、上記範囲を超えると、カッピング抑制効果を発現しないおそれがある。この(B−2)成分は、主露光時に非露後部から露光部に感光性樹脂成分が感光性樹脂版表層に染み出し、感熱マスク層やバリア層などの感光性樹脂版表層の組織を膨潤、溶解させて離型部分のタック性を増加することから防ぐ役割を有する。 (B-2) The hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer is an ethylenically unsaturated hydrocarbon compound having at least one hydroxyl group in the molecule. As a structure, it has at least one skeleton among a pentaerythritol skeleton, a dipentaerythritol skeleton, or a glycerin skeleton, and has a hydroxyl group derived from the skeleton in the molecule. A dihydric alcohol such as ethylene glycol or propylene glycol may be added to these skeletons. The concentration of the hydroxyl group derived from the hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in the photosensitive resin composition is preferably 0.01 to 0.2 equivalent mol / kg. The lower limit of the concentration of the hydroxyl group derived from the hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in the photosensitive resin composition is more preferably 0.05 equivalent mol / kg, still more preferably 0.1 mol / kg. The upper limit of the concentration of the hydroxyl group derived from the hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer in the photosensitive resin composition is more preferably 0.15 equivalent mol / kg, still more preferably 0.13 mol / kg. If the hydroxyl group concentration is less than the above range, cupping may occur, and if it exceeds the above range, the cover film may not be peeled off. Moreover, the weight average molecular weight of a hydroxyl-containing photopolymerizable monomer is 200-1500, 200-1000 are preferable and 210-900 are more preferable. If the weight average molecular weight of the hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer is less than the above range, the photosensitive resin component may be easily migrated, and if it exceeds the above range, the cupping suppressing effect may not be exhibited. This (B-2) component swells the structure of the photosensitive resin plate surface layer such as the heat-sensitive mask layer and the barrier layer, and the photosensitive resin component oozes out from the non-dewed back portion to the exposed portion during the main exposure. , Have a role to prevent from dissolving and increasing the tackiness of the release part.
(B−2)水酸基含有光重合性モノマーとしては、具体的には、ペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、(ポリ)グリシジルエーテルペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、ジペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、ポリグリシジルエーテルジペンタエリスリトール(ポリ)アクリレート、フタル酸グリシジル(ポリ)アクリレート、フタル酸ポリグリシジル(ポリ)アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸グリシジル(ポリ)アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ポリグリシジル(ポリ)アクリレート、トリメチロールプロパングリシジル(ポリ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリグリシジル(ポリ)アクリレート、エトキシ化グリシジル(ジ)アクリレート、プロポキシ化グリシジル(ジ)アクリレート、ポリグリシジル(ポリ)アクリレート、以上のアクリレート及び/又はメタクリレートが挙げられる。(B)光重合性不飽和化合物中の(B−2)成分の配合量は、1〜20質量%であり、好ましくは1.5〜19質量%である。(B−2)成分の配合量が上記範囲未満では、カッピング抑制効果に劣り、印刷カスレが生じるおそれがあり、上記範囲を超えると、感熱マスク層耐性に劣るおそれがある。 (B-2) Specific examples of the hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer include pentaerythritol (poly) acrylate, ethoxylated pentaerythritol (poly) acrylate, propoxylated pentaerythritol (poly) acrylate, and (poly) glycidyl ether penta. Erythritol (poly) acrylate, dipentaerythritol (poly) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol (poly) acrylate, propoxylated dipentaerythritol (poly) acrylate, polyglycidyl ether dipentaerythritol (poly) acrylate, glycidyl phthalate (poly) ) Acrylate, polyglycidyl phthalate (poly) acrylate, glycidyl hexahydrophthalate (poly) acrylate, polyglycidyl hexahydrophthalate ( I) acrylate, trimethylolpropane glycidyl (poly) acrylate, trimethylolpropane polyglycidyl (poly) acrylate, ethoxylated glycidyl (di) acrylate, propoxylated glycidyl (di) acrylate, polyglycidyl (poly) acrylate, And / or methacrylate. (B) The compounding quantity of (B-2) component in a photopolymerizable unsaturated compound is 1-20 mass%, Preferably it is 1.5-19 mass%. If the blending amount of the component (B-2) is less than the above range, the effect of suppressing cupping may be inferior, and printing blur may occur. If the amount exceeds the above range, the heat-sensitive mask layer resistance may be inferior.
(C)光重合開始剤は、光によって重合性の炭素−炭素不飽和基を重合させることができるものであれば、特に限定されない。なかでも、光吸収によって、自己分解や水素引き抜きによってラジカルを生成する機能を有するものが好ましく用いられる。例えば、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、ベンジル類、アセトフェノン類、ジアセチル類などが挙げられる。感光性樹脂組成物中の(C)成分の配合量は、0.1〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.2〜5質量%である。(C)成分の配合量が上記範囲未満では、上記重合効果が十分に得られず、上記範囲を超えると、樹脂の透明性が損なわれ、シャープなレリーフが得られないことがある。 (C) A photoinitiator will not be specifically limited if it can superpose | polymerize a polymerizable carbon-carbon unsaturated group with light. Especially, what has the function to produce | generate a radical by self-decomposition or hydrogen abstraction by light absorption is used preferably. Examples include benzoin alkyl ethers, benzophenones, anthraquinones, benzyls, acetophenones, diacetyls and the like. 0.1-10 mass% is preferable, and, as for the compounding quantity of (C) component in the photosensitive resin composition, More preferably, it is 0.2-5 mass%. When the blending amount of the component (C) is less than the above range, the above polymerization effect is not sufficiently obtained, and when it exceeds the above range, the transparency of the resin is impaired and a sharp relief may not be obtained.
本発明の感光性樹脂組成物においては、本発明の効果を阻害しない範囲において、種々の特性向上を目的として、凝集防止剤、可塑剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、消泡剤、香料などの他の成分を適宜添加することができる。 In the photosensitive resin composition of the present invention, an anti-aggregation agent, a plasticizer, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, a dye, a pigment, an antifoam are used for the purpose of improving various properties within the range not impairing the effects of the present invention. Other components, such as an agent and a fragrance | flavor, can be added suitably.
本発明の感光性樹脂組成物は、CTPフレキソ印刷原版の感光性樹脂層に用いるためのものである。本発明のCTPフレキソ印刷原版は、少なくとも支持体、感光性樹脂層、バリア層及び感熱マスク層の構成からなるものである。 The photosensitive resin composition of the present invention is for use in a photosensitive resin layer of a CTP flexographic printing original plate. The CTP flexographic printing original plate of the present invention comprises at least a support, a photosensitive resin layer, a barrier layer, and a thermal mask layer.
本発明の原版に使用される支持体は、可撓性であるが、寸法安定性に優れた材料が好ましく、例えばスチール、アルミニウム、銅、ニッケルなどの金属製支持体、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、またはポリカーボネートフィルムなどの熱可塑性樹脂製支持体を挙げることができる。これらの中でも、寸法安定性に優れ、充分に高い粘弾性を有するポリエチレンテレフタレートフイルムが特に好ましい。支持体の厚みは、機械的特性、形状安定性あるいは印刷版製版時の取り扱い性等から50〜350μm、好ましくは100〜250μmが望ましい。また、必要により、支持体と感光性樹脂層との接着性を向上させるために、それらの間に接着剤を設けても良い。 The support used in the original plate of the present invention is flexible but is preferably a material having excellent dimensional stability. For example, a metal support such as steel, aluminum, copper, nickel, polyethylene terephthalate film, polyethylene Mention may be made of thermoplastic resin supports such as phthalate films, polybutylene terephthalate films, or polycarbonate films. Among these, a polyethylene terephthalate film having excellent dimensional stability and sufficiently high viscoelasticity is particularly preferable. The thickness of the support is from 50 to 350 μm, preferably from 100 to 250 μm, from the viewpoint of mechanical properties, shape stability, or handleability during plate making. Moreover, in order to improve the adhesiveness of a support body and the photosensitive resin layer, you may provide an adhesive agent between them as needed.
本発明の原版に使用されるバリア層は、感光性樹脂層と感熱マスク層の間の物質移動と、感光性樹脂層の酸素による重合阻害を防止するために設けられる。本発明によれば、かかるバリア層を設けることで、レリーフのトップ形状をフラットドットとすることができるという効果も奏される。バリア層は、酸素を遮断することができるか又は酸素の透過性を低下させることができるポリマーであれば特に制限されず、水に可溶性または不溶性のいずれのポリマーを使用しても構成することができる。バリア層を構成するポリマーとしては、例えばポリアミド、部分鹸化酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース等のアルキルセルロース類、ポリアクリル酸、ポリエチレンオキシド、セルロース系ポリマー(特にヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ニトロセルロース)、セルロースアセテートブチレート、ポリブチラール、ブチルゴム、NBRゴム、アクリルゴム、スチレン―ブタジエンゴム、ラテックス、可溶性ポリエステルが挙げられる。これらのポリマーは、一種類の使用に限定されず、二種類以上のポリマーを組み合わせて使用することもできる。バリア層としては、感熱マスク層よりも熱分解温度の高いものが好ましい。バリア層の熱分解温度が感熱マスク層よりも低ければ、感熱マスク層のアブレーションの際に、バリア層も熱分解されてしまうことがあるからである。 The barrier layer used in the original plate of the present invention is provided in order to prevent mass transfer between the photosensitive resin layer and the heat-sensitive mask layer and polymerization inhibition due to oxygen in the photosensitive resin layer. According to the present invention, by providing such a barrier layer, there is also an effect that the top shape of the relief can be a flat dot. The barrier layer is not particularly limited as long as it is a polymer that can block oxygen or reduce oxygen permeability, and can be constituted by using any polymer that is soluble or insoluble in water. it can. Examples of the polymer constituting the barrier layer include polyamides, partially saponified vinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, alkyl celluloses such as methyl cellulose, polyacrylic acid, polyethylene oxide, cellulose polymers (particularly hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, nitro Cellulose), cellulose acetate butyrate, polybutyral, butyl rubber, NBR rubber, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, latex, and soluble polyester. These polymers are not limited to one type of use, and two or more types of polymers can be used in combination. The barrier layer preferably has a higher thermal decomposition temperature than the thermal mask layer. This is because if the thermal decomposition temperature of the barrier layer is lower than that of the thermal mask layer, the barrier layer may also be thermally decomposed during the ablation of the thermal mask layer.
バリア層の層厚としては、0.2μm〜3.0μmが好ましく、さらに好ましくは0.2m〜1.5μmの範囲である。上記下限未満になると酸素バリア性が不十分であり、レリーフの版面に荒れが生じるおそれがある。上記上限を越えると、細線再現不良が起こるおそれがある。 The thickness of the barrier layer is preferably 0.2 μm to 3.0 μm, more preferably 0.2 m to 1.5 μm. If it is less than the above lower limit, the oxygen barrier property is insufficient and the relief plate surface may be roughened. If the above upper limit is exceeded, there is a risk that fine line reproduction failure will occur.
本発明の原版に使用される感熱マスク層は、赤外線レーザーを吸収し熱に変換する機能と紫外光を遮断する機能を有する材料であるカーボンブラックと、その分散バインダーとから構成される。また、これら以外の任意成分として、顔料分散剤、フィラー、界面活性剤又は塗布助剤などを本発明の効果を損なわない範囲で含有することができる。 The heat-sensitive mask layer used in the original plate of the present invention is composed of carbon black, which is a material having a function of absorbing infrared laser and converting it into heat, and a function of blocking ultraviolet light, and a dispersion binder thereof. Further, as an optional component other than these, a pigment dispersant, a filler, a surfactant, a coating aid or the like can be contained within a range that does not impair the effects of the present invention.
感熱マスク層は、化学線に関して2.0以上の光学濃度であることが好ましく、さらに好ましくは2.0〜4.0の光学濃度であり、特に好ましくは2.2〜3.5の光学濃度である。 The thermal mask layer preferably has an optical density of 2.0 or more with respect to actinic radiation, more preferably an optical density of 2.0 to 4.0, and particularly preferably an optical density of 2.2 to 3.5. It is.
感熱マスク層の層厚は、0.5〜2.5μmが好ましく、1.0〜2.0μmがより好ましい。上記下限以上であれば、高い塗工技術を必要とせず、一定以上の光学濃度を得ることができる。また、上記上限以下であれば、感熱マスク層の蒸発に高いエネルギーを必要とせず、コスト的に有利である。 The layer thickness of the heat sensitive mask layer is preferably 0.5 to 2.5 μm, and more preferably 1.0 to 2.0 μm. If it is more than the said minimum, a high coating technique is not required but an optical density more than fixed can be obtained. Moreover, if it is below the said upper limit, high energy is not required for evaporation of a thermal mask layer, and it is advantageous in cost.
感熱マスク層上には、剥離可能な可撓性カバーフィルムを設けて印刷原版を保護することが好ましい。好適な剥離可能な可撓性カバーフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルムを挙げることができる。しかしながら、このような保護フィルムは絶対に必要というものではない。 It is preferable to protect the printing original plate by providing a peelable flexible cover film on the heat sensitive mask layer. Suitable examples of the peelable flexible cover film include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, and a polybutylene terephthalate film. However, such a protective film is not absolutely necessary.
本発明の印刷原版から印刷版を製造する方法としては、保護フィルムが存在する場合には、まず保護フィルムを感光性印刷版から除去する。その後、感熱マスク層をIRレーザにより画像様に照射して、感光性樹脂層上にマスクを形成する。好適なIRレーザの例としては、ND/YAGレーザ(1064nm)又はダイオードレーザ(例、830nm)を挙げることができる。コンピュータ製版技術に好適なレーザシステムは、市販されており、例えばCDI SpArk(エスコ・グラフィックス社)を使用することができる。このレーザシステムは、印刷原版を保持する回転円筒ドラム、IRレーザの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータからレーザ装置に直接移される。 As a method for producing a printing plate from the printing original plate of the present invention, when a protective film is present, the protective film is first removed from the photosensitive printing plate. Thereafter, the thermal mask layer is irradiated imagewise with an IR laser to form a mask on the photosensitive resin layer. Examples of suitable IR lasers include ND / YAG laser (1064 nm) or diode laser (eg, 830 nm). Laser systems suitable for computer plate making technology are commercially available, and for example, CDI SpArk (Esco Graphics) can be used. This laser system includes a rotating cylindrical drum that holds a printing original, an IR laser irradiation device, and a layout computer, and image information is directly transferred from the layout computer to the laser device.
画像情報を感熱マスク層に書き込んだ後、感光性印刷原版にマスクを介して活性光線を全面照射する。これは版をレーザシリンダに取り付けた状態で行うことも可能であるが、版をレーザ装置から除去し、慣用の平板な照射ユニットで照射する方が規格外の版サイズに対応可能な点で有利であり一般的である。活性光線としては、150〜500nm、特に300〜400nmの波長を有する紫外線を使用することができる。その光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用することができる。その後、照射された版は現像され、印刷版を得る。現像工程は、慣用の現像ユニットで実施することができる。 After the image information is written on the heat-sensitive mask layer, the photosensitive printing original plate is irradiated with actinic rays through the mask. This can be done with the plate attached to the laser cylinder, but removing the plate from the laser device and irradiating with a conventional flat irradiation unit is advantageous in that it can cope with non-standard plate sizes. It is general. As the actinic ray, ultraviolet rays having a wavelength of 150 to 500 nm, particularly 300 to 400 nm can be used. As the light source, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a zirconium lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, or the like can be used. Thereafter, the irradiated plate is developed to obtain a printing plate. The development step can be performed with a conventional development unit.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples.
実施例1:
<感熱マスク層の作成>
分散バインダーの準備
分散バインダーとして、ブチラール樹脂及び第三アミン基含有ポリアミドを準備した。ブチラール樹脂としては、積水化学工業(株)製のBM−5を使用した。第三アミン基含有ポリアミドとしては、以下のようにして合成したものを使用した。
Example 1:
<Creation of thermal mask layer>
Preparation of Dispersion Binder As a dispersion binder, a butyral resin and a tertiary amine group-containing polyamide were prepared. As the butyral resin, BM-5 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. was used. As the tertiary amine group-containing polyamide, one synthesized as follows was used.
第三アミン基含有ポリアミドの合成
ε−カプロラクタム50重量部、N,N、−ジ(γ−アミノプロピル)ピペラジンアジペート40重量部、3−ビスアミノメチルシクロヘキサンアジペート10重量部と水100重量部をオートクレーブ中に仕込み、窒素置換後、密閉して徐々に加熱した。内圧が10kg/m3に達した時点から、その圧力を保持できなくなるまで水を留出させ、約2時間で常圧に戻し、その後1時間常圧で反応させた。最高重合反応温度は255℃であった。これにより、融点137℃、比粘度1.96の第三アミン基含有ポリアミドを得た。
Synthesis of tertiary amine group-containing polyamide Autoclaving 50 parts by weight of ε-caprolactam, 40 parts by weight of N, N, -di (γ-aminopropyl) piperazine adipate, 10 parts by weight of 3-bisaminomethylcyclohexane adipate and 100 parts by weight of water The solution was charged into the interior, purged with nitrogen, sealed and gradually heated. From the time when the internal pressure reached 10 kg / m 3 , water was distilled off until the pressure could not be maintained, returned to normal pressure in about 2 hours, and then reacted at normal pressure for 1 hour. The maximum polymerization reaction temperature was 255 ° C. As a result, a tertiary amine group-containing polyamide having a melting point of 137 ° C. and a specific viscosity of 1.96 was obtained.
感熱マスク層塗工液の調製
分散バインダーとしてのブチラール樹脂及び第三アミン基含有ポリアミドを1:1の質量比で溶媒に溶解させ、そこに分散バインダーと等量のカーボンブラックを分散させて分散液を調製し、感熱マスク層塗工液とした。なお、使用した溶媒は、メタノールとエタノールの70:30の重量割合の混合液であった。
Preparation of thermal mask layer coating liquid Butyral resin and tertiary amine group-containing polyamide as a dispersion binder are dissolved in a solvent at a mass ratio of 1: 1, and an amount of carbon black equivalent to the dispersion binder is dispersed therein to form a dispersion liquid. Was prepared as a heat-sensitive mask layer coating solution. The solvent used was a mixed solution of methanol and ethanol in a weight ratio of 70:30.
感熱マスク層の作成
両面に離型処理を施したPETフィルム支持体(東洋紡績(株)、E5000、厚さ100μm)に、感熱マスク層塗工液を、層厚が1.5μmになるように適宜選択したバーコーターを用いて塗工し、120℃×5分乾燥して感熱マスク層〔フィルム積層体(I)〕を作成した。
Preparation of heat-sensitive mask layer A PET film support (Toyobo Co., Ltd., E5000, thickness 100 μm) subjected to mold release treatment on both sides is coated with a heat-sensitive mask layer coating solution so that the layer thickness becomes 1.5 μm. Coating was performed using an appropriately selected bar coater, and drying was performed at 120 ° C. for 5 minutes to prepare a heat-sensitive mask layer [film laminate (I)].
バリア層の作成
バリア層を構成するポリマーとして、低ケン化度ポリビニルアルコール(KH20、日本合成(株)製)と可塑剤(サンフレックスSE270、三洋化成工業製、脂肪族多価アルコール系ポリエーテルポリオール、固形分濃度85%)を、70/30の質量割合で混合し、バリア層塗工液を得た。感熱マスク層を設けたフィルム積層体(I)の感熱マスク層上に、乾燥後の塗膜の厚みが2.0μmとなるようにバーコーターでバリア層塗工液を塗工し、120℃×5分乾燥してフィルム積層体(II)を得た。
Preparation of Barrier Layer As a polymer constituting the barrier layer, low saponification degree polyvinyl alcohol (KH20, manufactured by Nihon Gosei Co., Ltd.) and plasticizer (Sunflex SE270, manufactured by Sanyo Chemical Industries, aliphatic polyhydric alcohol polyether polyol) , Solid content concentration 85%) was mixed at a mass ratio of 70/30 to obtain a barrier layer coating solution. On the heat-sensitive mask layer of the film laminate (I) provided with the heat-sensitive mask layer, a barrier layer coating solution was applied with a bar coater so that the thickness of the coating film after drying was 2.0 μm, The film laminate (II) was obtained by drying for 5 minutes.
<フレキソ印刷原版の作成>
(A)スチレン誘導体と共役ジエンからなるブロック共重合体としてポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンブロック共重合体80質量部、(B−1)水酸基非含有光重合性モノマーとして1,6−ヘキサメチレンジオールジアクリレート6質量部、1,6−ヘキサメチレンジオールジメタクリレート3質量部、(B−2)水酸基含有光重合性モノマーとしてペンタエリスリトールトリアクリレート2質量部、(C)光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール1.5質量部、可塑剤としてナフテン油(シェルフレックス 371)5.9質量部、及び安定剤として2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール1.5質量部とハイドロキノンモノメチルエーテル0.1質量部の混合物を、二軸押出機を用いて樹脂温度160〜170℃で押出し、スロットダイから吐出した。ダイから吐出された溶融樹脂を、ポリエステルウレタン系接着層で被覆された125μmのポリエチレンテレフタレートフィルムが給送されている下方カレンダーロールと、剥離層で被覆された125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に感熱マスク層を設けたカバーフィルムが給送されている上方カレンダーロールの間に通して、総厚さ1.7mmのフレキソ印刷原版を製造した。
<Preparation of flexographic printing plate>
(A) 80 parts by mass of a polystyrene-polybutadiene-polystyrene block copolymer as a block copolymer comprising a styrene derivative and a conjugated diene, (B-1) 1,6-hexamethylenediol diacrylate as a hydroxyl-free photopolymerizable monomer 6 parts by mass, 3 parts by mass of 1,6-hexamethylenediol dimethacrylate, (B-2) 2 parts by mass of pentaerythritol triacrylate as a hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer, and (C) benzyldimethyl ketal as a photopolymerization initiator. 5 parts by weight, 5.9 parts by weight of naphthenic oil (Shelfex 371) as a plasticizer, 1.5 parts by weight of 2,6-di-tert-butyl-p-cresol and 0.1 part by weight of hydroquinone monomethyl ether as a stabilizer Part of the mixture using a twin screw extruder at a resin temperature of 160-17. Extruded at 0 ° C. and discharged from a slot die. The molten resin discharged from the die is a heat-sensitive mask layer on a lower calender roll fed with a 125 μm polyethylene terephthalate film coated with a polyester urethane adhesive layer and a 125 μm polyethylene terephthalate film coated with a release layer. The flexographic printing original plate having a total thickness of 1.7 mm was manufactured by passing it between upper calendar rolls to which a cover film provided with a film was fed.
<評価レリーフの作成>
フレキソ印刷原版を350nmにおける照度8.0w/m2の紫外線ランプ(PHILIPS社製 10R)を用いて、裏露光を行い、カバーフィルムを剥離した。次にIRレーザー照射機で少なくとも線幅300μmの細線を含む画像をフレキソ印刷原版の感熱マスク層にアブレーションした。その後、同様の紫外線ランプで主露光し、現像装置で現像した。現像液としては、フレキソ現像専用溶剤を使用した。次いで現像された版表面の溶剤を除去し、65℃で2時間分間乾燥し、同様の紫外線ランプを用いて5分間後露光を行い、その後、殺菌灯を5分間照射して表面処理をし、評価レリーフを得た。
<Creation of evaluation relief>
The flexographic printing original plate was subjected to back exposure using an ultraviolet lamp (10R manufactured by PHILIPS) at 350 nm and an illuminance of 8.0 w / m 2 , and the cover film was peeled off. Next, an image containing fine lines having a line width of at least 300 μm was ablated on the thermal mask layer of the flexographic printing plate using an IR laser irradiation machine. Thereafter, main exposure was performed with the same ultraviolet lamp, and development was performed with a developing device. As the developer, a solvent for flexographic development was used. Subsequently, the solvent on the developed plate surface is removed, dried at 65 ° C. for 2 hours, subjected to post-exposure for 5 minutes using the same ultraviolet lamp, and then subjected to surface treatment by irradiation with a germicidal lamp for 5 minutes. An evaluation relief was obtained.
各性能評価を以下に示す測定方法によって行なった。 Each performance evaluation was performed by the measuring method shown below.
<カッピング評価>
上記方法で作成した評価レリーフを金属製ボードに磁石を使って固定し、KEIENCE製超深度カラー3D形状測定顕微鏡(VK‐9500)で評価レリーフの300μm細線を3D撮影した。300μm細線トップ部の最も低い所から最も高いところまでの距離(μm)をカッピング値とした。カッピング値は、数値が低いほど良好であることを示す。
<Copping evaluation>
The evaluation relief created by the above method was fixed to a metal board using a magnet, and a 300 μm fine line of the evaluation relief was photographed in 3D with a KEIENCE ultra-deep color 3D shape measurement microscope (VK-9500). The distance (μm) from the lowest point to the highest point of the 300 μm fine wire top was taken as the cupping value. The cupping value indicates that the lower the value, the better.
<カバーフィルム剥離性評価>
カバーフィルム剥離性は、上記方法で作成したフレキソ印刷原版を24時間遮光条件で放置した後、カバーフィルムを剥離できるものを○、カバーフィルムを剥離できないものを×とした。
<Cover film peelability evaluation>
For the cover film peelability, the flexographic printing original plate prepared by the above method was left as it was under light-shielding conditions for 24 hours, and then the cover film could be peeled off, and the cover film could not be peeled off.
<感熱マスク層(コート層)耐性評価>
(B)光重合性不飽和化合物に対する感熱マスク層(コート層)耐性の評価は、厚さ125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上にバリア層(ポリビニルアルコール)と感熱マスク層(ブチラール樹脂及び第三アミン基含有ポリアミドにカーボンブラックを分散)をコーティングしたカバーフィルムのコート表面に、(B)光重合性不飽和化合物を含ませたガーゼを貼り付けた。10分後に(B)光重合性不飽和化合物を含ませたガーゼを外して新しいガーゼでコート面を擦り、その時点でコートがはがれるものを×とし、24時間後に(B)光重合性不飽和化合物を含ませたガーゼを外して新しいガーゼでコート面を擦り、その時点でコートが剥がれるものを△とした。なお、×にも△にも該当するものは×とし、×にも△にも該当しないものを○とした。
<Heat sensitive mask layer (coat layer) resistance evaluation>
(B) Evaluation of heat-sensitive mask layer (coat layer) resistance to photopolymerizable unsaturated compound was carried out by using a barrier layer (polyvinyl alcohol) and a heat-sensitive mask layer (butyral resin and tertiary amine group) on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 125 μm. A gauze containing (B) a photopolymerizable unsaturated compound was affixed to the surface of the cover film coated with polyamide dispersed in carbon black. After 10 minutes, remove the gauze containing (B) the photopolymerizable unsaturated compound, rub the coated surface with new gauze, and mark that where the coat peels off at that time as x, and after 24 hours (B) photopolymerizable unsaturated The gauze containing the compound was removed, and the coated surface was rubbed with a new gauze. In addition, the thing applicable to x and △ was set to x, and the thing which does not correspond to x and △ was set as ◯.
実施例2〜8
実施例2〜8、比較例1〜3は、成分及びその配合割合のみを表1のように変更した以外は実施例1と同様にして感光性樹脂組成物及びフレキソ印刷原版を作成し、評価した。なお、表1中の各成分の配合割合は、質量部で示されている。感光性樹脂組成物の詳細と評価結果を表1に示す。
Examples 2-8
In Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 to 3, a photosensitive resin composition and a flexographic printing original plate were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that only the components and the blending ratio thereof were changed as shown in Table 1. did. In addition, the mixture ratio of each component in Table 1 is shown by the mass part. Details of the photosensitive resin composition and evaluation results are shown in Table 1.
表1の結果から明らかなように、本発明の範囲内である実施例1〜8はいずれも、カッピング、カバーフィルム剥離性、感熱マスク層(コート層)耐性のいずれにおいても良好である。これに対して、(B−2)水酸基含有光重合性モノマーの分子量が小さすぎる比較例1は、カバーフィルム剥離性に劣る。(B−2)水酸基含有光重合性モノマーを使用していない比較例2は、カッピングに劣る。(B−2)水酸基含有光重合性モノマーの含有量が多すぎる比較例3は、感熱マスク層耐性に劣る。 As is clear from the results in Table 1, Examples 1 to 8 which are within the scope of the present invention are all good in cupping, cover film peelability, and thermal mask layer (coat layer) resistance. In contrast, Comparative Example 1 in which the molecular weight of the (B-2) hydroxyl group-containing photopolymerizable monomer is too small is inferior in the cover film peelability. (B-2) The comparative example 2 which does not use the hydroxyl-containing photopolymerizable monomer is inferior to cupping. (B-2) The comparative example 3 with too much content of a hydroxyl-containing photopolymerizable monomer is inferior to heat-sensitive mask layer tolerance.
本発明の感光性樹脂組成物を用いたフレキソ印刷原版は、画像再現性、現像性に優れ、なおかつレリーフエッジ部の盛り上がりを最小限に抑えることで印刷カスレが発生せず、しかも耐刷性も満足するので、CTP感光性フレキソ印刷原版として有効に利用することができる。 The flexographic printing plate using the photosensitive resin composition of the present invention is excellent in image reproducibility and developability, and also prevents printing scum by minimizing the bulge of the relief edge, and also has printing durability. Since it is satisfied, it can be effectively used as a CTP photosensitive flexographic printing original plate.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016068840A JP2017181781A (en) | 2016-03-30 | 2016-03-30 | Photosensitive resin composition for ctp flexographic printing plate precursor and printing plate precursor obtained from the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017181781A true JP2017181781A (en) | 2017-10-05 |
Family
ID=60006011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2016068840A Pending JP2017181781A (en) | 2016-03-30 | 2016-03-30 | Photosensitive resin composition for ctp flexographic printing plate precursor and printing plate precursor obtained from the same |
Country Status (1)
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---|---|---|---|---|
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