JP2020033418A - Base material for surface protective film, production method of the base material, surface protective film using the base material, and optical film with surface productive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面保護フィルム用基材、該基材の製造方法、該基材を用いた表面保護フィルム、および表面保護フィルム付光学フィルムに関する。 The present invention relates to a substrate for a surface protective film, a method for producing the substrate, a surface protective film using the substrate, and an optical film with a surface protective film.
光学フィルム（例えば、偏光板、偏光板を含む積層体）には、当該光学フィルムが適用される画像表示装置が実際に使用されるまでの間、当該光学フィルム（最終的には、画像表示装置）を保護するために表面保護フィルムが剥離可能に貼り合わせられている。実用的には、光学フィルム／表面保護フィルムの積層体が表示セルに貼り合わせられて画像表示装置が作製され、当該積層体が貼り合わせられた状態で画像表示装置が光学試験（例えば、点灯試験）に供され、その後の適切な時点で表面保護フィルムが剥離除去される。表面保護フィルムは、代表的には、基材としての樹脂フィルムと粘着剤層とを有する。従来の表面保護フィルムによれば、光学検査の際に光漏れ、着色、虹ムラ等が発生し、光学検査の精度低下の原因となる場合がある。その結果、画像表示装置自体には問題がないにもかかわらず出荷前の光学検査で不良と判断されてしまう場合があり、これにより、画像表示装置の製造から出荷までの効率が低下してしまうという問題がある。さらに、表面保護フィルム（実質的には、基材）は、貼り合わせ時および剥離時の操作性を考慮して、優れた可撓性が求められている。 An optical film (for example, a polarizing plate or a laminate including a polarizing plate) includes the optical film (finally, the image display device) until the image display device to which the optical film is applied is actually used. In order to protect the surface protection film, a surface protection film is releasably attached. Practically, an optical display / surface protective film laminate is bonded to a display cell to produce an image display device, and the image display device is subjected to an optical test (for example, a lighting test) in a state where the laminate is bonded. ), And at an appropriate time thereafter, the surface protective film is peeled off. The surface protective film typically has a resin film as a substrate and an adhesive layer. According to the conventional surface protection film, light leakage, coloring, rainbow unevenness, and the like occur during an optical inspection, which may cause a decrease in the accuracy of the optical inspection. As a result, there is a case where the image display device itself is determined to be defective by an optical inspection before shipment even though there is no problem in the image display device itself, thereby lowering the efficiency from manufacture to shipment of the image display device. There is a problem. Furthermore, the surface protective film (substantially, the substrate) is required to have excellent flexibility in consideration of the operability at the time of bonding and peeling.
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、優れた可撓性または耐折り曲げ性を有し、かつ、光学検査時の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制し得る表面保護フィルム用基材を提供することにある。 The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, and its main object is to have excellent flexibility or bending resistance, and to prevent light leakage, coloring and rainbow unevenness during optical inspection. An object of the present invention is to provide a surface protective film base material that can be favorably suppressed.
本発明の実施形態による表面保護フィルム用基材は、ポリカーボネート系樹脂を含むフィルムで構成され、面内位相差Ｒｅ（５５０）が３０ｎｍ以下であり、ＭＩＴ試験における破断までの折り曲げ回数が５００回以上である。
１つの実施形態においては、上記ポリカーボネート系樹脂が、下記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含む：
本発明の別の局面によれば、上記表面保護フィルム用基材の製造方法が提供される。この製造方法は、ポリカーボネート系樹脂を含むフィルム形成材料をフィルム状に成形すること、および、該成形されたフィルムを逐次二軸延伸または同時二軸延伸することを含み、該逐次二軸延伸または同時二軸延伸における延伸温度がＴｇ＋１０℃〜Ｔｇ＋３０℃である。
本発明のさらに別の局面によれば、表面保護フィルムが提供される。この表面保護フィルムは、上記表面保護フィルム用基材と粘着剤層とを含む。
本発明のさらに別の局面によれば、表面保護フィルム付光学フィルムが提供される。この表面保護フィルム付光学フィルムは、光学フィルムと、該光学フィルムに剥離可能に貼り合わせられた上記表面保護フィルムと、を含む。
The substrate for a surface protection film according to the embodiment of the present invention is formed of a film containing a polycarbonate resin, has an in-plane retardation Re (550) of 30 nm or less, and has a number of bending times of 500 or more before breaking in an MIT test. It is.
In one embodiment, the polycarbonate resin contains a structural unit derived from a dihydroxy compound represented by the following formula (1):
According to another aspect of the present invention, there is provided a method for producing the substrate for a surface protective film. This manufacturing method includes forming a film-forming material containing a polycarbonate-based resin into a film, and sequentially or biaxially stretching the formed film, wherein the sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching is performed. The stretching temperature in biaxial stretching is Tg + 10 ° C. to Tg + 30 ° C.
According to still another aspect of the present invention, a surface protective film is provided. This surface protection film includes the above-mentioned substrate for a surface protection film and an adhesive layer.
According to still another aspect of the present invention, there is provided an optical film with a surface protection film. This optical film with a surface protective film includes an optical film and the above-mentioned surface protective film releasably bonded to the optical film.
本発明の実施形態によれば、ポリカーボネート系樹脂を含むフィルムを所定の延伸条件（代表的には、延伸温度）で延伸することにより、非常に小さい面内位相差と優れた可撓性または耐折り曲げ性とを両立した表面保護フィルム用基材を実現することができる。 According to an embodiment of the present invention, a film containing a polycarbonate resin is stretched under a predetermined stretching condition (typically, a stretching temperature), so that a very small in-plane retardation and excellent flexibility or resistance can be obtained. A base material for a surface protective film that is compatible with bending property can be realized.
以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.
Ａ．表面保護フィルム用基材
本発明の実施形態による表面保護フィルム用基材は、ポリカーボネート系樹脂を含むフィルムで構成される。ポリカーボネート系樹脂は、好ましくは、下記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含む。
より具体的には、上記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物としては、例えば、イソソルビド、イソマンニドおよびイソイデットが挙げられる。これらは立体異性体の関係にある。これらの立体異性体は、単独で用いてもよく組み合わせて用いてもよい。 More specifically, examples of the dihydroxy compound represented by the above formula (1) include isosorbide, isomannide, and isoidet. These are in a stereoisomeric relationship. These stereoisomers may be used alone or in combination.
ポリカーボネート系樹脂は、必要に応じて、上記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位以外の構造単位（以下、他の構造単位と称する場合がある）をさらに含んでいてもよい。このような他の構造単位をさらに含むことにより、加工容易性および耐衝撃性を改良することができる。 The polycarbonate-based resin may further include a structural unit other than the structural unit derived from the dihydroxy compound represented by the formula (1) (hereinafter, may be referred to as another structural unit) as needed. . By further including such other structural units, workability and impact resistance can be improved.
他の構造単位は、好ましくは、芳香族環を有さないジヒドロキシ化合物に由来する構造単位であり得る。具体例としては、国際公開第２００４／１１１１０６号に記載の脂肪族ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位および国際公開第２００７／１４８６０４号に記載の脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を挙げることができる。 The other structural unit may preferably be a structural unit derived from a dihydroxy compound having no aromatic ring. Specific examples include a structural unit derived from an aliphatic dihydroxy compound described in WO 2004/111106 and a structural unit derived from an alicyclic dihydroxy compound described in WO 2007/148604. .
好ましい脂肪族ジヒドロキシ化合物としては、例えば、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールが挙げられる。 Preferred aliphatic dihydroxy compounds include, for example, ethylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, and 1,6-hexanediol.
好ましい脂環式ジヒドロキシ化合物としては、例えば、５員環構造または６員環構造を含む脂環式ジヒドロキシ化合物が挙げられる。６員環構造は共有結合によって椅子形または舟形に固定されていてもよい。５員環構造または６員環構造を含む脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むことにより、得られるポリカーボネートの耐熱性を高くすることができる。脂環式ジヒドロキシ化合物に含まれる炭素原子数は、好ましくは７０以下であり、より好ましくは５０以下であり、さらに好ましくは３０以下である。好ましい脂環式ジヒドロキシ化合物の具体例としては、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、アダマンタンジオール、およびペンタシクロペンタデカンジメタノールが挙げられる。より好ましくは、シクロヘキサンジメタノールまたはトリシクロデカンジメタノールである。経済性および耐熱性に優れるからである。特に、下記式（２）で表されるトリシクロデカンジメタノールに由来する構造単位を含むことにより、経済性、耐熱性および光学特性のバランスに優れたポリカーボネート樹脂を得ることができる。
脂肪族ジヒドロキシ化合物は、単独で用いてもよく２種以上を組み合わせて用いてもよい。脂環式ジヒドロキシ化合物もまた、単独で用いてもよく２種以上を組み合わせて用いてもよい。脂肪族ジヒドロキシ化合物と脂環式ジヒドロキシ化合物とを組み合わせて用いてもよい。 The aliphatic dihydroxy compounds may be used alone or in combination of two or more. The alicyclic dihydroxy compound may also be used alone or in combination of two or more. An aliphatic dihydroxy compound and an alicyclic dihydroxy compound may be used in combination.
ポリカーボネート樹脂における上記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の含有割合は、好ましくは３０モル％以上であり、より好ましくは５０モル％以上である。一方、当該含有割合は、好ましくは９０モル％以下であり、より好ましくは８０モル％以下である。 The content ratio of the structural unit derived from the dihydroxy compound represented by the above formula (1) in the polycarbonate resin is preferably at least 30 mol%, more preferably at least 50 mol%. On the other hand, the content ratio is preferably 90 mol% or less, more preferably 80 mol% or less.
ポリカーボネート樹脂における上記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と上記脂環式ジヒドロキシ化合物に由来する構成単位とのモル比率は、好ましくは９５：５〜３０：７０であり、より好ましくは８０：２０〜４０：６０である。モル比率がこのような範囲であれば、ガラス転移温度の維持による耐熱性の向上が可能となる。さらに、上記式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位のみで構成されるポリカーボネート樹脂では達成が困難な、成形加工性、機械強度および耐熱性の優れたバランスを実現することができる。 The molar ratio of the structural unit derived from the dihydroxy compound represented by the above formula (1) to the structural unit derived from the alicyclic dihydroxy compound in the polycarbonate resin is preferably 95: 5 to 30:70, Preferably it is 80:20 to 40:60. When the molar ratio is within such a range, the heat resistance can be improved by maintaining the glass transition temperature. Furthermore, it is possible to realize an excellent balance of moldability, mechanical strength and heat resistance, which is difficult to achieve with a polycarbonate resin composed only of a structural unit derived from the dihydroxy compound represented by the above formula (1). .
ポリカーボネート樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。 The polycarbonate resin may contain a structural unit derived from a dihydroxy compound other than the above, as long as the effects of the present invention are not impaired.
ポリカーボネート樹脂およびその製造方法の詳細は、例えば特開２０１６−０５３６０３号公報に記載されており、当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。 Details of the polycarbonate resin and the method for producing the same are described in, for example, JP-A-2006-053603, and the description of the publication is incorporated herein by reference.
本発明の実施形態においては、表面保護フィルム用基材の面内位相差Ｒｅ（５５０）は３０ｎｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ以下であり、特に好ましくは５ｎｍ以下である。面内位相差Ｒｅ（５５０）は小さいほど好ましく、その下限は理想的には０ｎｍであり、例えば１ｎｍであり得る。面内位相差Ｒｅ（５５０）がこのような範囲であれば、本発明の表面保護フィルム用基材を用いた表面保護フィルムを画像表示装置の光学検査に供した場合に、光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制することができる。その結果、画像表示装置の光学検査の精度を顕著に向上させることができ、画像表示装置の製造から出荷までの効率を向上させることができる。このような面内位相差Ｒｅ（５５０）は、上記のような特定のポリカーボネート樹脂を含むフィルムを後述するような所定の延伸条件で延伸することにより実現することができる。なお、本明細書において「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。したがって、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。ここで、「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率である。 In the embodiment of the present invention, the in-plane retardation Re (550) of the substrate for a surface protective film is 30 nm or less, preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, and still more preferably 10 nm or less. And particularly preferably 5 nm or less. The smaller the in-plane retardation Re (550), the better, and the lower limit is ideally 0 nm, for example 1 nm. When the in-plane retardation Re (550) is in such a range, when a surface protective film using the substrate for a surface protective film of the present invention is subjected to an optical inspection of an image display device, light leakage, coloring and Rainbow unevenness can be favorably suppressed. As a result, the accuracy of the optical inspection of the image display device can be remarkably improved, and the efficiency of the image display device from manufacture to shipment can be improved. Such an in-plane retardation Re (550) can be realized by stretching a film containing the above specific polycarbonate resin under predetermined stretching conditions as described later. In this specification, “Re (λ)” is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of λ nm at 23 ° C. Re (λ) is determined by the formula: Re = (nx−ny) × d, where d (nm) is the thickness of the layer (film). Therefore, “Re (550)” is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Here, “nx” is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index becomes maximum (ie, the slow axis direction), and “ny” is the direction perpendicular to the slow axis in the plane (ie, fast phase). (Axial direction).
表面保護フィルム用基材の厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは３０ｎｍ以下であり、より好ましくは２５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１５ｎｍ以下であり、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）は小さいほど好ましく、その下限は理想的には０ｎｍであり、例えば２ｎｍであり得る。厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）がこのような範囲であれば、上記の光学検査において斜め方向の光漏れ、着色および虹ムラを良好に抑制することができる。その結果、大型の画像表示装置の光学検査においても精度を顕著に向上させることができる。表面保護フィルム用基材のＮｚ係数は、好ましくは１．１〜４．０であり、より好ましくは１．５〜３．５である。したがって、表面保護フィルム用基材の屈折率特性は、例えばｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係を示し得る。Ｎｚ係数がこのような範囲であれば、光学検査において斜め方向の光漏れ、着色および虹ムラをさらに良好に抑制することができる。「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。したがって、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。ここで、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。さらに、「Ｎｚ係数」は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（λ）／Ｒｅ（λ）で求められる。 The thickness direction retardation Rth (550) of the surface protective film substrate is preferably 30 nm or less, more preferably 25 nm or less, further preferably 15 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. The thickness direction retardation Rth (550) is preferably as small as possible, and the lower limit is ideally 0 nm, for example, 2 nm. When the thickness direction retardation Rth (550) is within such a range, oblique light leakage, coloring, and rainbow unevenness can be favorably suppressed in the above-described optical inspection. As a result, accuracy can be significantly improved even in optical inspection of a large-sized image display device. The Nz coefficient of the substrate for a surface protective film is preferably from 1.1 to 4.0, more preferably from 1.5 to 3.5. Therefore, the refractive index characteristics of the substrate for a surface protective film may show, for example, a relationship of nx> ny> nz. When the Nz coefficient is in such a range, oblique light leakage, coloring, and rainbow unevenness can be more favorably suppressed in the optical inspection. “Rth (λ)” is a retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of λ nm at 23 ° C. Rth (λ) is determined by the formula: Rth = (nx−nz) × d, where d (nm) is the thickness of the layer (film). Therefore, “Rth (550)” is a retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of 550 nm at 23 ° C. Here, “nz” is the refractive index in the thickness direction. Further, the “Nz coefficient” is obtained by Nz = Rth (λ) / Re (λ).
表面保護フィルム用基材は、面内位相差が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、面内位相差が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、面内位相差が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。 The substrate for a surface protective film may exhibit an inverse dispersion wavelength characteristic in which the in-plane retardation increases according to the wavelength of the measurement light, and the positive chromatic dispersion in which the in-plane retardation decreases according to the wavelength of the measurement light. A characteristic may be exhibited, and a flat wavelength dispersion characteristic in which the in-plane phase difference hardly changes even with the wavelength of the measurement light may be exhibited.
表面保護フィルム用基材の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であり、特に好ましくは９５％以上である。さらに、表面保護フィルム用基材のヘイズは、好ましくは１．０％以下であり、より好ましくは０．７％以下であり、さらに好ましくは０．５％以下であり、特に好ましくは０．３％以下である。本発明の実施形態によれば、上記のような非常に小さい面内位相差Ｒｅ（５５０）を有し、かつ、このように非常に優れた透明性を有する表面保護フィルム用基材を実現することができる。 The total light transmittance of the substrate for a surface protective film is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, further preferably 90% or more, and particularly preferably 95% or more. Further, the haze of the surface protective film substrate is preferably 1.0% or less, more preferably 0.7% or less, further preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.3% or less. % Or less. According to the embodiment of the present invention, a substrate for a surface protective film having a very small in-plane retardation Re (550) as described above and having such excellent transparency is realized. be able to.
本発明の実施形態においては、表面保護フィルム用基材は、ＭＩＴ試験における破断までの折り曲げ回数が５００回以上であり、好ましくは１０００回以上であり、より好ましくは１５００回以上であり、さらに好ましくは２０００回以上である。すなわち、表面保護フィルム用基材は、非常に優れた可撓性または耐折り曲げ性を有し得る。表面保護フィルム用基材のこのような優れた可撓性または耐折り曲げ性に起因して、貼り合わせ時および剥離時の操作性に優れ、かつ、割れが抑制された表面保護フィルムを得ることができる。本発明の実施形態によれば、このような優れた可撓性または耐折り曲げ性と上記のような非常に小さい面内位相差Ｒｅ（５５０）とを両立することができる。このような両立を実現したことが、本発明の成果の１つである。なお、ＭＩＴ試験は、ＪＩＳ Ｐ ８１１５に準拠して行われ得る。 In the embodiment of the present invention, the substrate for a surface protective film has a number of bending times to break in an MIT test of 500 times or more, preferably 1000 times or more, more preferably 1500 times or more, and still more preferably. Is 2000 times or more. That is, the substrate for a surface protection film can have very excellent flexibility or bending resistance. Due to such excellent flexibility or bending resistance of the substrate for a surface protective film, it is possible to obtain a surface protective film which is excellent in operability at the time of bonding and peeling and in which cracking is suppressed. it can. According to the embodiment of the present invention, such excellent flexibility or bending resistance and extremely small in-plane retardation Re (550) as described above can be compatible. Achieving such compatibility is one of the results of the present invention. The MIT test can be performed in accordance with JIS P8115.
表面保護フィルム用基材の弾性率は、好ましくは、引張速度１００ｍｍ／ｍｉｎにおいて５０ＭＰａ〜３５０ＭＰａである。弾性率がこのような範囲であれば、搬送性および操作性に優れた表面保護フィルムを得ることができる。本発明の実施形態によれば、優れた弾性率（強さ）と上記のような優れた可撓性または耐折り曲げ性（柔らかさ）とを両立することができる。なお、弾性率は、ＪＩＳ Ｋ ７１２７：１９９９に準拠して測定される。 The elastic modulus of the substrate for a surface protective film is preferably 50 MPa to 350 MPa at a tensile speed of 100 mm / min. When the elastic modulus is in such a range, a surface protective film having excellent transportability and operability can be obtained. According to the embodiment of the present invention, it is possible to achieve both excellent elastic modulus (strength) and excellent flexibility or bending resistance (softness) as described above. The elastic modulus is measured according to JIS K 7127: 1999.
表面保護フィルム用基材の引張伸度は、好ましくは７０％〜２００％である。引張伸度がこのような範囲であれば、搬送中に破断しにくいという利点を有する。なお、引張伸度は、ＪＩＳ Ｋ ６７８１に準拠して測定される。 The tensile elongation of the substrate for a surface protective film is preferably 70% to 200%. When the tensile elongation is in such a range, there is an advantage that it is difficult to break during transportation. The tensile elongation is measured according to JIS K6781.
表面保護フィルム用基材の厚みは、代表的には１０μｍ〜１００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜７５μｍである。 The thickness of the substrate for a surface protective film is typically from 10 μm to 100 μm, preferably from 20 μm to 75 μm.
Ｂ．表面保護フィルム用基材の製造方法
本発明の実施形態による表面保護フィルム用基材の製造方法は、上記Ａ項に記載のポリカーボネート樹脂を含むフィルム形成材料（樹脂組成物）をフィルム状に成形すること、および、該成形されたフィルムを延伸することを含む。
B. Method for Producing Substrate for Surface Protective Film In the method for producing a substrate for surface protective film according to the embodiment of the present invention, a film-forming material (resin composition) containing the polycarbonate resin described in the above section A is formed into a film. And stretching the formed film.
フィルム形成材料は、上記ポリカーボネート樹脂に加えて、他の樹脂を含んでいてもよく、添加剤を含んでいてもよく、溶媒を含んでいてもよい。添加剤としては、目的に応じて任意の適切な添加剤が採用され得る。添加剤の具体例としては、反応性希釈剤、可塑剤、界面活性剤、充填剤、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤、導電材、難燃剤が挙げられる。添加剤の数、種類、組み合わせ、添加量等は目的に応じて適切に設定され得る。 The film-forming material may contain another resin in addition to the above-mentioned polycarbonate resin, may contain an additive, and may contain a solvent. Any appropriate additive can be adopted as the additive depending on the purpose. Specific examples of additives include a reactive diluent, a plasticizer, a surfactant, a filler, an antioxidant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a leveling agent, a thixotropic agent, an antistatic agent, a conductive material, and a flame retardant. Is mentioned. The number, type, combination, addition amount, and the like of the additives can be appropriately set according to the purpose.
フィルム形成材料からフィルムを形成する方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。押出成形法またはキャスト塗工法が好ましい。得られるフィルムの平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、表面保護フィルム用基材に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。 As a method of forming a film from a film forming material, any appropriate forming method can be adopted. Specific examples include a compression molding method, a transfer molding method, an injection molding method, an extrusion molding method, a blow molding method, a powder molding method, an FRP molding method, a cast coating method (for example, a casting method), a calendar molding method, and a hot press. And the like. Extrusion molding or cast coating is preferred. This is because the smoothness of the obtained film can be improved and good optical uniformity can be obtained. The molding conditions can be set as appropriate according to the composition and type of the resin used, the characteristics desired for the substrate for the surface protective film, and the like.
フィルムの延伸方法は、代表的には二軸延伸であり、より詳細には逐次二軸延伸または同時二軸延伸である。面内位相差Ｒｅ（５５０）が小さく、かつ、可撓性または耐折り曲げ性に優れた表面保護フィルム用基材が得られるからである。逐次二軸延伸または同時二軸延伸は、代表的にはテンター延伸機を用いて行われる。したがって、フィルムの延伸方向は、代表的にはフィルムの長さ方向および幅方向である。 The stretching method of the film is typically biaxial stretching, and more specifically, sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching. This is because a substrate for a surface protective film having a small in-plane retardation Re (550) and excellent in flexibility or bending resistance can be obtained. The sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching is typically performed using a tenter stretching machine. Therefore, the stretching direction of the film is typically the length direction and the width direction of the film.
延伸温度は、表面保護フィルム用基材に所望される面内位相差および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。具体的には、延伸温度は、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、代表的にはＴｇ＋１０℃〜Ｔｇ＋３０℃である。このような温度で延伸することにより、本発明の実施形態において適切な特性を有する表面保護フィルム用基材が得られ得る。 The stretching temperature can vary depending on the in-plane retardation and thickness desired for the surface protective film substrate, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching ratio, and the like. Specifically, the stretching temperature is typically Tg + 10 ° C. to Tg + 30 ° C. with respect to the glass transition temperature (Tg) of the film. By stretching at such a temperature, a substrate for a surface protective film having appropriate characteristics in the embodiment of the present invention can be obtained.
延伸倍率は、表面保護フィルム用基材に所望される面内位相差および厚み、使用される樹脂の種類、使用されるフィルムの厚み、延伸温度等に応じて変化し得る。二軸延伸（例えば、逐次二軸延伸または同時二軸延伸）を採用する場合には、第１の方向（例えば、長さ方向）の延伸倍率と第２の方向（例えば、幅方向）の延伸倍率とは、好ましくはその差ができる限り小さく、より好ましくは実質的に等しい。このような構成であれば、面内位相差Ｒｅ（５５０）が小さく、かつ、可撓性または耐折り曲げ性に優れた表面保護フィルム用基材が得られ得る。二軸延伸（例えば、逐次二軸延伸または同時二軸延伸）を採用する場合には、延伸倍率は、第１の方向（例えば、長さ方向）および第２の方向（例えば、幅方向）のそれぞれについて、例えば１．１倍〜３．０倍であり得る。 The stretching ratio can be changed according to the in-plane retardation and thickness desired for the surface protective film substrate, the type of resin used, the thickness of the film used, the stretching temperature, and the like. When employing biaxial stretching (for example, sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching), stretching ratio in the first direction (for example, length direction) and stretching in the second direction (for example, width direction) The magnification is preferably as small as possible, more preferably substantially equal. With such a configuration, a base material for a surface protective film having a small in-plane retardation Re (550) and excellent in flexibility or bending resistance can be obtained. When biaxial stretching (for example, sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching) is employed, the stretching ratio is determined in the first direction (for example, the length direction) and the second direction (for example, the width direction). For each, it can be, for example, 1.1-3.0 times.
本発明の実施形態においては、延伸速度は、好ましくは１０％／秒以下であり、より好ましくは７％／秒以下であり、さらに好ましくは５％／秒以下であり、特に好ましくは２．５％／秒以下である。上記のような特定のポリカーボネート樹脂を含むフィルムをこのような小さい延伸速度で延伸することにより、面内位相差Ｒｅ（５５０）が小さく、かつ、可撓性または耐折り曲げ性に優れた表面保護フィルム用基材が得られ得る。延伸速度の下限は、例えば１．２％／秒であり得る。延伸速度が小さすぎると、生産性が実用的でなくなる場合がある。なお、二軸延伸（例えば、逐次二軸延伸または同時二軸延伸）を採用する場合には、第１の方向（例えば、長さ方向）の延伸速度と第２の方向（例えば、幅方向）の延伸速度とは、好ましくはその差ができる限り小さく、より好ましくは実質的に等しい。このような構成であれば、面内位相差Ｒｅ（５５０）をより小さくし、かつ、可撓性または耐折り曲げ性をより優れたものとすることができる。 In the embodiment of the present invention, the stretching speed is preferably 10% / sec or less, more preferably 7% / sec or less, further preferably 5% / sec or less, and particularly preferably 2.5% / sec or less. % / Sec or less. By stretching a film containing the specific polycarbonate resin as described above at such a low stretching speed, a surface protective film having a small in-plane retardation Re (550) and excellent in flexibility or bending resistance. A substrate for use can be obtained. The lower limit of the stretching speed can be, for example, 1.2% / sec. If the stretching speed is too low, the productivity may not be practical. When biaxial stretching (for example, sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching) is employed, the stretching speed in the first direction (for example, the length direction) and the second direction (for example, the width direction) Is preferably as small as possible, and more preferably substantially equal. With such a configuration, the in-plane retardation Re (550) can be further reduced, and the flexibility or bending resistance can be further improved.
Ｃ．表面保護フィルム
上記Ａ項およびＢ項に記載の表面保護フィルム用基材は、表面保護フィルムに好適に用いられ得る。したがって、本発明の実施形態は、表面保護フィルムも包含する。本発明の実施形態による表面保護フィルムは、上記Ａ項およびＢ項に記載の表面保護フィルム用基材と粘着剤層とを含む。
C. Surface protective film The substrate for a surface protective film described in the above sections A and B can be suitably used for a surface protective film. Therefore, embodiments of the present invention also include a surface protection film. The surface protective film according to the embodiment of the present invention includes the surface protective film substrate described in the above section A and B and an adhesive layer.
粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。粘着剤のベース樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ゴム系樹脂が挙げられる。このようなベース樹脂は、例えば、特開２０１５−１２０３３７号公報または特開２０１１−２０１９８３号公報に記載されている。これらの公報の記載は、本明細書に参考として援用される。耐薬品性、浸漬時における処理液の浸入を防止するための密着性、被着体への自由度等の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。粘着剤に含まれ得る架橋剤としては、例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物が挙げられる。粘着剤は、例えばシランカップリング剤を含んでいてもよい。粘着剤の配合処方は、目的および所望の特性に応じて適切に設定され得る。 Any appropriate pressure-sensitive adhesive can be adopted as the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer. Examples of the base resin of the pressure-sensitive adhesive include an acrylic resin, a styrene resin, a silicone resin, a urethane resin, and a rubber resin. Such a base resin is described in, for example, JP-A-2015-120337 or JP-A-2011-201983. The descriptions in these publications are incorporated herein by reference. Acrylic resins are preferred from the viewpoints of chemical resistance, adhesion for preventing the intrusion of the treatment liquid during immersion, and the degree of freedom for the adherend. Examples of the crosslinking agent that can be included in the pressure-sensitive adhesive include an isocyanate compound, an epoxy compound, and an aziridine compound. The pressure-sensitive adhesive may include, for example, a silane coupling agent. The formulation of the pressure-sensitive adhesive can be appropriately set according to the purpose and desired properties.
粘着剤層の貯蔵弾性率は、好ましくは１．０×１０４Ｐａ〜１．０×１０７Ｐａであり、より好ましくは２．０×１０４Ｐａ〜５．０×１０６Ｐａである。粘着剤層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、ロール形成時のブロッキングを抑制することができる。なお、貯蔵弾性率は、例えば、温度２３℃および角速度０．１ｒａｄ／ｓでの動的粘弾性測定から求めることができる。 The storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably from 1.0 × 10 4 Pa to 1.0 × 10 7 Pa, and more preferably from 2.0 × 10 4 Pa to 5.0 × 10 6 Pa. When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is in such a range, blocking during roll formation can be suppressed. The storage elastic modulus can be determined, for example, from dynamic viscoelasticity measurement at a temperature of 23 ° C. and an angular velocity of 0.1 rad / s.
粘着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜６０μｍであり、より好ましくは３μｍ〜３０μｍである。厚みが薄すぎると、粘着性が不十分となり、粘着界面に気泡等が入り込む場合がある。厚みが厚すぎると、粘着剤がはみ出すなどの不具合が生じやすくなる。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 μm to 60 μm, and more preferably 3 μm to 30 μm. If the thickness is too small, the adhesiveness becomes insufficient, and air bubbles and the like may enter the adhesive interface. If the thickness is too large, problems such as sticking out of the pressure-sensitive adhesive tend to occur.
実用的には、表面保護フィルムが実際に使用される（すなわち、光学フィルムまたは画像表示装置に貼り合わせられる）までの間、粘着剤層表面にセパレーターが剥離可能に仮着されている。セパレーターを設けることにより、粘着剤層を保護するとともに、表面保護フィルムをロール状に巻き取ることが可能となる。セパレーターとしては、例えば、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチック（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレン）フィルム、不織布または紙などが挙げられる。セパレーターの厚みは、目的に応じて任意の適切な厚みを採用することができる。セパレーターの厚みは、例えば１０μｍ〜１００μｍである。 Practically, the separator is temporarily attached to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in a releasable manner until the surface protective film is actually used (that is, bonded to an optical film or an image display device). By providing the separator, the pressure-sensitive adhesive layer can be protected, and the surface protection film can be wound into a roll. Examples of the separator include a plastic (for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, polypropylene) film, nonwoven fabric, or the like, which is surface-coated with a release agent such as a silicone-based release agent, a fluorine-based release agent, or a long-chain alkyl acrylate-based release agent. Paper and the like. Any appropriate thickness can be adopted for the thickness of the separator depending on the purpose. The thickness of the separator is, for example, 10 μm to 100 μm.
Ｄ．表面保護フィルム付光学フィルム
上記Ｃ項に記載の表面保護フィルムは、光学フィルム（最終的には、画像表示装置）が実際に使用されるまでの間、当該光学フィルムを保護するために用いられる。したがって、本発明の実施形態は、表面保護フィルム付光学フィルムも包含する。本発明の実施形態による表面保護フィルム付光学フィルムは、光学フィルムと、当該光学フィルムに剥離可能に貼り合わせられた上記Ｃ項に記載の表面保護フィルムとを含む。
D. Optical Film with Surface Protection Film The surface protection film described in the above section C is used to protect the optical film until the optical film (finally, an image display device) is actually used. Therefore, the embodiment of the present invention also includes an optical film with a surface protection film. An optical film with a surface protective film according to an embodiment of the present invention includes an optical film and the surface protective film according to the above item C, which is releasably attached to the optical film.
光学フィルムは、単一フィルムであってもよく積層体であってもよい。光学フィルムの具体例としては、偏光子、位相差フィルム、偏光板（代表的には、偏光子と保護フィルムとの積層体）、タッチパネル用導電性フィルム、表面処理フィルム、ならびに、これらを目的に応じて適切に積層した積層体（例えば、反射防止用円偏光板、タッチパネル用導電層付偏光板、位相差層付偏光板、プリズムシート一体型偏光板）が挙げられる。 The optical film may be a single film or a laminate. Specific examples of the optical film include a polarizer, a retardation film, a polarizing plate (typically, a laminate of a polarizer and a protective film), a conductive film for a touch panel, a surface-treated film, and for these purposes. A laminate (for example, an anti-reflection circular polarizer, a polarizer with a conductive layer for a touch panel, a polarizer with a retardation layer, and a prism sheet-integrated polarizer) appropriately laminated according to the requirements is given.
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例における「部」および「％」は重量基準である。 Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The measuring method of each characteristic in the example is as follows. Unless otherwise specified, “parts” and “%” in Examples are on a weight basis.
（１）面内位相差Ｒｅ（５５０）および厚み方向位相差Ｒｔｈ（５５０）
実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材（二軸延伸フィルム）を長さ４ｃｍおよび幅４ｃｍに切り出し、測定試料とした。当該測定試料について、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製、製品名「Ａｘｏｓｃａｎ」を用いて面内位相差および厚み方向位相差を測定した。測定波長は５５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
（２）ヘイズ
上記（１）と同様の測定試料について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、ＨＭ−１５０型）を用いてヘイズを測定した。測定温度は２３℃であった。
（３）ＭＩＴ試験
ＭＩＴ試験は、ＪＩＳ Ｐ ８１１５に準拠して行った。具体的には、実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材（二軸延伸フィルム）を長さ１５ｃｍおよび幅１．５ｃｍに切り出し、測定試料とした。測定試料をＭＩＴ耐折疲労試験機ＢＥ−２０２型（テスター産業（株）製）に取り付け（荷重１．０ｋｇｆ、クランプのＲ：０．３８ｍｍ）、試験速度９０ｃｐｍおよび折り曲げ角度９０°で２０００回を上限として繰り返し折り曲げを行い、測定試料が破断した時の折り曲げ回数を試験値とした。
（４）虹ムラ
実施例および比較例で得られた表面保護フィルム用基材（二軸延伸フィルム）を、クロスニコル状態の２枚の偏光板の間に配置した。その際、表面保護フィルム用基材の長さ方向と一方の偏光板の透過軸方向とが平行となるように表面保護フィルム用基材を配置した。その状態で下側偏光板の下側から蛍光灯の光を照射し、虹ムラの有無を目視により観察した。以下の基準で評価した。
○：虹ムラは認められなかった
△：虹ムラがわずかに認められた
×：虹ムラが顕著に認められた
（５）可撓性または耐折り曲げ性
表面保護フィルム用基材（二軸延伸フィルム）について１８０°折り曲げ試験を１００回繰り返し、破断の有無を確認した。以下の基準で評価した。
○：破断は認められなかった
×：破断が認められた
(1) In-plane retardation Re (550) and thickness direction retardation Rth (550)
The substrate for a surface protection film (biaxially stretched film) obtained in each of the examples and comparative examples was cut into a length of 4 cm and a width of 4 cm to obtain a measurement sample. The in-plane retardation and the thickness direction retardation of the measurement sample were measured using “Axoscan” manufactured by Axometrics. The measurement wavelength was 550 nm, and the measurement temperature was 23 ° C.
(2) Haze For the same measurement sample as in the above (1), the haze was measured using a haze meter (HM-150 type, manufactured by Murakami Color Research Laboratory). The measurement temperature was 23 ° C.
(3) MIT test The MIT test was performed according to JIS P8115. Specifically, the base material (biaxially stretched film) for a surface protective film obtained in each of the examples and comparative examples was cut into a length of 15 cm and a width of 1.5 cm to obtain a measurement sample. The measurement sample was attached to an MIT bending fatigue tester BE-202 type (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) (load: 1.0 kgf, R of the clamp: 0.38 mm), 2000 times at a test speed of 90 cpm and a bending angle of 90 °. The bending was repeatedly performed as an upper limit, and the number of times of bending when the measurement sample was broken was taken as a test value.
(4) Nijimura The surface protective film base material (biaxially stretched film) obtained in each of Examples and Comparative Examples was disposed between two polarizing plates in a crossed Nicols state. At this time, the surface protection film substrate was arranged such that the length direction of the surface protection film substrate was parallel to the transmission axis direction of one of the polarizing plates. In this state, light from a fluorescent lamp was irradiated from below the lower polarizing plate, and the presence or absence of rainbow unevenness was visually observed. Evaluation was made according to the following criteria.
：: no rainbow unevenness was observed
Δ: Slight rainbow unevenness was observed
×: Rainbow unevenness was remarkably observed. (5) Flexibility or bending resistance A 180 ° bending test was repeated 100 times for the surface protective film substrate (biaxially stretched film), and the presence or absence of breakage was confirmed. Evaluation was made according to the following criteria.
：: No break was observed
×: rupture was observed
＜実施例１＞
１−１．ポリカーボネート樹脂フィルムの作製
市販のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含有するポリカーボネート樹脂（三菱化学（株）製、商品名ＤＵＲＡＢＩＯ Ｔ７４５０Ａ、Ｔｇ：１３２℃、イソソルビド構造単位６２モル％、トリシクロデカンジメタノール構造単位３８モル％）を８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２５０℃）、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２５０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１６０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
<Example 1>
1-1. Preparation of Polycarbonate Resin Film A polycarbonate resin containing a structural unit derived from a commercially available dihydroxy compound (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: DURABIO T7450A, Tg: 132 ° C, isosorbide structural unit 62 mol%, tricyclodecane dimethanol structure (Unit: 38 mol%) was vacuum-dried at 80 ° C. for 5 hours, and then a single screw extruder (manufactured by Isuzu Kakoki Co., Ltd., screw diameter 25 mm, cylinder set temperature: 250 ° C.), T-die (width 200 mm, set temperature: 250) ° C), a chill roll (setting temperature: 120 to 130 ° C) and a film forming apparatus equipped with a winder, to produce a polycarbonate resin film having a thickness of 160 µm.
１−２．表面保護フィルム用基材の作製
上記で得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、長さ方向および幅方向にそれぞれ２倍に同時二軸延伸した。延伸温度は［Ｔｇ＋１０℃］（すなわち、１３９℃）、延伸速度は長さ方向および幅方向ともに１．４％／秒であった。このようにして、表面保護フィルム用基材（厚み４０μｍ）を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は６ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１１ｎｍであり、ヘイズは０．３％であり、ＭＩＴ試験値は上限の２０００回を超えるものであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
1-2. Preparation of Surface Protective Film Substrate The polycarbonate resin film obtained above was simultaneously biaxially stretched twice in the length and width directions. The stretching temperature was [Tg + 10 ° C.] (that is, 139 ° C.), and the stretching speed was 1.4% / sec in both the length direction and the width direction. Thus, a substrate for a surface protective film (thickness: 40 μm) was obtained. The Re (550) of the obtained substrate for surface protective film was 6 nm, the Rth (550) was 11 nm, the haze was 0.3%, and the MIT test value exceeded the upper limit of 2000 times. Was. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜実施例２＞
延伸温度を［Ｔｇ＋２０℃］としたこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は４ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は９ｎｍであり、ヘイズは０．３％であり、ＭＩＴ試験値は上限の２０００回を超えるものであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Example 2>
A substrate for a surface protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the stretching temperature was set to [Tg + 20 ° C.]. The Re (550) of the obtained substrate for a surface protective film was 4 nm, the Rth (550) was 9 nm, the haze was 0.3%, and the MIT test value exceeded the upper limit of 2000 times. Was. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜実施例３＞
延伸温度を［Ｔｇ＋３０℃］としたこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は４ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１３ｎｍであり、ヘイズは０．３％であり、ＭＩＴ試験値は上限の２０００回を超えるものであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Example 3>
A substrate for a surface protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the stretching temperature was set to [Tg + 30 ° C.]. The Re (550) of the obtained base material for surface protective film was 4 nm, the Rth (550) was 13 nm, the haze was 0.3%, and the MIT test value exceeded the upper limit of 2000 times. Was. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜実施例４＞
実施例１と同様の方法で厚み１００μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製し、得られる表面保護フィルム用基材の厚みを２５μｍとしたこと以外は実施例２と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は５ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は７ｎｍであり、ヘイズは０．２％であり、ＭＩＴ試験値は上限の２０００回を超えるものであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Example 4>
A polycarbonate resin film having a thickness of 100 μm was prepared in the same manner as in Example 1, and a substrate for a surface protection film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the obtained substrate for a surface protection film was 25 μm. Was. The Re (550) of the obtained base material for surface protective film was 5 nm, the Rth (550) was 7 nm, the haze was 0.2%, and the MIT test value exceeded the upper limit of 2000 times. Was. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜実施例５＞
実施例１と同様の方法で厚み３００μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製し、得られる表面保護フィルム用基材の厚みを７５μｍとしたこと以外は実施例２と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は５ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１９ｎｍであり、ヘイズは０．６％であり、ＭＩＴ試験値は１５１５回であった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Example 5>
A polycarbonate resin film having a thickness of 300 μm was prepared in the same manner as in Example 1, and a substrate for a surface protection film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the obtained substrate for a surface protection film was 75 μm. Was. Re (550) of the obtained base material for surface protective film was 5 nm, Rth (550) was 19 nm, haze was 0.6%, and MIT test value was 1515 times. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜比較例１＞
ポリカーボネート樹脂フィルムの代わりに市販のノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン社製、商品名「ゼオノア」、Ｔｇ：１５０℃）を用いたこと、および、延伸温度を［Ｔｇ＋２０℃］としたこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は２ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は８ｎｍであり、ヘイズは０．１％であり、ＭＩＴ試験値は１５０回であった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Comparative Example 1>
Example 1 except that a commercially available norbornene-based resin film (trade name “Zeonor”, Tg: 150 ° C., manufactured by Zeon Corporation) was used instead of the polycarbonate resin film, and the stretching temperature was set to [Tg + 20 ° C.]. In the same manner as in Example 1, a substrate for a surface protective film was obtained. The Re (550) of the obtained base material for surface protective film was 2 nm, the Rth (550) was 8 nm, the haze was 0.1%, and the MIT test value was 150 times. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜比較例２＞
ポリカーボネート樹脂フィルムの代わりに超高位相差ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱ケミカル社製、商品名「ダイアホイル」、Ｔｇ：８１℃）を用いたこと、および、延伸温度を［Ｔｇ＋２０℃］としたこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は４５００ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は６０００ｎｍであり、ヘイズは１．３％であり、ＭＩＴ試験値は上限の２０００回を超えるものであった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Comparative Example 2>
Performed except that an ultra-high retardation polyethylene terephthalate film (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "Dia Foil", Tg: 81 ° C) was used instead of the polycarbonate resin film, and the stretching temperature was set to [Tg + 20 ° C]. A substrate for a surface protective film was obtained in the same manner as in Example 1. Re (550) of the obtained substrate for surface protective film was 4500 nm, Rth (550) was 6000 nm, haze was 1.3%, and the MIT test value exceeded the upper limit of 2000 times. Was. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜比較例３＞
延伸温度を［Ｔｇ＋３５℃］としたこと以外は実施例１と同様にして表面保護フィルム用基材を得た。得られた表面保護フィルム用基材のＲｅ（５５０）は６ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１１ｎｍであり、ヘイズは０．３％であり、ＭＩＴ試験値は７５８回であった。得られた表面保護フィルム用基材を上記（４）および（５）の評価に供した。結果を表１に示す。
<Comparative Example 3>
A substrate for a surface protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the stretching temperature was set to [Tg + 35 ° C.]. The Re (550) of the obtained substrate for surface protective film was 6 nm, the Rth (550) was 11 nm, the haze was 0.3%, and the MIT test value was 758 times. The obtained substrate for a surface protective film was subjected to the evaluations of the above (4) and (5). Table 1 shows the results.
＜評価＞
表１から明らかなように、本発明の実施例の表面保護フィルム用基材は、虹ムラが防止され、かつ、優れた耐折り曲げ性（または可撓性）を有することがわかる。これは、特定のポリカーボネート樹脂を含むフィルムを所定範囲の延伸温度で延伸することにより実現され得ると推察される。なお、光漏れおよび着色についても虹ムラと同様の結果が得られることを確認した。
<Evaluation>
As is clear from Table 1, it can be seen that the substrate for a surface protective film according to the example of the present invention prevents rainbow unevenness and has excellent bending resistance (or flexibility). It is presumed that this can be realized by stretching a film containing a specific polycarbonate resin at a stretching temperature in a predetermined range. In addition, it was confirmed that the same result as that of the rainbow unevenness was obtained for light leakage and coloring.
本発明の表面保護フィルム用基材は、表面保護フィルムに好適に用いられる。本発明の表面保護フィルムは、光学フィルム（最終的には、画像表示装置）が実際に使用されるまでの間、当該光学フィルムを保護するために用いられる。本発明の表面保護フィルム用基材および表面保護フィルムを用いることにより、画像表示装置の光学検査の精度を顕著に向上させることができる。
The substrate for a surface protective film of the present invention is suitably used for a surface protective film. The surface protective film of the present invention is used to protect the optical film until the optical film (finally, the image display device) is actually used. By using the surface protective film substrate and the surface protective film of the present invention, the precision of the optical inspection of the image display device can be significantly improved.
Claims (7)
An optical film with a surface protective film, comprising: an optical film; and the surface protective film according to claim 6, which is releasably attached to the optical film.
Priority Applications (1)
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| JP2018159531A JP2020033418A (en) | 2018-08-28 | 2018-08-28 | Base material for surface protective film, production method of the base material, surface protective film using the base material, and optical film with surface productive film |
Applications Claiming Priority (1)
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2018
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