JP2019174050A - 半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム - Google Patents
半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019174050A JP2019174050A JP2018062068A JP2018062068A JP2019174050A JP 2019174050 A JP2019174050 A JP 2019174050A JP 2018062068 A JP2018062068 A JP 2018062068A JP 2018062068 A JP2018062068 A JP 2018062068A JP 2019174050 A JP2019174050 A JP 2019174050A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- fluid
- facility
- heat recovery
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/58—Multistep processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/02—Treatment of water, waste water, or sewage by heating
- C02F1/04—Treatment of water, waste water, or sewage by heating by distillation or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24H—FLUID HEATERS, e.g. WATER OR AIR HEATERS, HAVING HEAT-GENERATING MEANS, e.g. HEAT PUMPS, IN GENERAL
- F24H1/00—Water heaters, e.g. boilers, continuous-flow heaters or water-storage heaters
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24H—FLUID HEATERS, e.g. WATER OR AIR HEATERS, HAVING HEAT-GENERATING MEANS, e.g. HEAT PUMPS, IN GENERAL
- F24H4/00—Fluid heaters characterised by the use of heat pumps
- F24H4/02—Water heaters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Heat-Pump Type And Storage Water Heaters (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
Description
2b 蒸発器
2c コンプレッサ
2d 凝縮器
2e 膨張弁
2a 閉ループ配管
2 ヒートポンプ
6 蓄熱部
6a 容器
6b,6c 仕切り壁
61〜63 第1〜3の水室
11 純水供給設備
12 排水回収設備
13 排水処理設備
100 半導体製造設備における水処理設備
101 半導体製造設備
113 逆浸透膜装置
114 樹脂塔
118 加熱装置
119a,119b 限外ろ過膜装置
121 除害設備
131 排水蒸発装置
132 排水蒸留装置
142 冷却塔
H1 第1の熱交換部
H2 第2の熱交換部
HM 中間熱交換部
L1 第1の配管
L2 第2の配管
L14 第1のリターンライン
LM1 第1の中間ループ配管
LM2 第2の中間ループ配管
LR 還流配管
UP1 温超純水ユースポイント
UP2 常温超純水ユースポイント
Claims (13)
- 冷媒を蒸発させる蒸発器と、前記冷媒を圧縮するコンプレッサと、前記冷媒を凝縮させる凝縮器と、前記冷媒を膨張させる膨張弁とがこの順で閉ループ配管上に配置されているヒートポンプを有し、
前記蒸発器は半導体製造設備における水処理設備を常時流れる第1の流体から吸熱し、前記水処理設備を流れる第2の流体が前記凝縮器から排出された熱によって加熱される、半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム。 - 前記凝縮器から排出された熱を蓄熱し、蓄熱された熱で前記第2の流体を加熱する蓄熱部を有する、請求項1に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記蓄熱部は、
中間循環水を貯蔵する容器であって、前記容器の一方の端部に位置する第1の水室と前記容器の他方の端部に位置する第Nの水室(Nは2以上の自然数)とを少なくとも含むN個の水室に前記容器を区分するN−1個の仕切り壁を有し、前記中間循環水が互いに隣接する前記水室の間を流通可能な容器と、
前記第Nの水室の下部と前記第1の水室の上部との間を延び、途中に前記凝縮器との熱交換部を有する第1の中間ループ配管と、
前記第1の水室の下部と前記第Nの水室の上部との間を延び、途中に前記第2の流体との熱交換部を有する第2の中間ループ配管と、
を有する、請求項2に記載の排熱回収再利用システム。 - 前記第1の流体は、前記水処理設備に設けられたガスの除害設備の排水である、請求項1から3のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記第1の流体は、前記水処理設備から外部に放出される放流水である、請求項1から3のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記水処理設備は前記半導体製造設備に純水または超純水を供給する純水供給設備を有し、
前記純水供給設備は、純水または超純水の加熱装置と、前記加熱装置と前記半導体製造設備のユースポイントとの間に設けられる限外ろ過膜装置と、前記限外ろ過膜装置と前記ユースポイントとを接続する配管と、前記配管から分岐し、前記ユースポイントで使用されない純水または超純水を前記加熱装置の上流に戻すリターンラインと、を有し、
前記第1の流体は、前記限外ろ過膜装置の非透過水、または前記リターンラインを流れる純水若しくは超純水である、請求項1から3のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。 - 前記第1の流体は、前記半導体製造設備の空調機の冷却塔の出口水である、請求項1から3のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記第1の流体の温度は30℃以上、40℃以下である、請求項1から7のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記水処理設備は前記半導体製造設備に純水または超純水を供給する純水供給設備を有し、
前記純水供給設備は、原水を浄化する樹脂塔を有し、
前記第2の流体は、前記樹脂塔を再生するために前記樹脂塔に供給される水である、請求項1から8のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。 - 前記第2の流体を40℃以上、50℃以下の範囲に加熱するための温度制御手段を有する、請求項9に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記水処理設備は前記半導体製造設備に純水または超純水を供給する純水供給設備を有し、
前記純水供給設備は、原水を浄化する逆浸透膜装置を有し、
前記第2の流体は、前記逆浸透膜装置の入口水である、請求項1から8のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。 - 前記第2の流体を5℃以上、30℃以下の範囲に加熱するための温度制御手段を有する、請求項11に記載の排熱回収再利用システム。
- 前記水処理設備は排水処理設備を有し、
前記排水処理設備は、排水を蒸発させる排水蒸発装置と排水を蒸留する排水蒸留装置の少なくともいずれかを有し、
前記第2の流体は、前記排水蒸発装置と前記排水蒸留装置の少なくともいずれかの供水である、請求項1から8のいずれか1項に記載の排熱回収再利用システム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018062068A JP7112226B2 (ja) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム |
PCT/JP2019/011735 WO2019188670A1 (ja) | 2018-03-28 | 2019-03-20 | 半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム |
TW108110204A TWI805722B (zh) | 2018-03-28 | 2019-03-25 | 半導體製造設備中之水處理設備的廢熱回收再利用系統 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018062068A JP7112226B2 (ja) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019174050A true JP2019174050A (ja) | 2019-10-10 |
JP7112226B2 JP7112226B2 (ja) | 2022-08-03 |
Family
ID=68059900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018062068A Active JP7112226B2 (ja) | 2018-03-28 | 2018-03-28 | 半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7112226B2 (ja) |
TW (1) | TWI805722B (ja) |
WO (1) | WO2019188670A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113686020A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-11-23 | 刘怡菲 | 一种水源高温热泵热水机 |
KR20220158630A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
KR20220158631A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
WO2023149086A1 (ja) * | 2022-02-03 | 2023-08-10 | Jfeスチール株式会社 | 熱回収装置、熱回収方法及び鋼板の製造方法 |
JP7506476B2 (ja) | 2019-12-27 | 2024-06-26 | サッポロビール株式会社 | 廃熱回収給湯システム及び廃熱回収給湯方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114247291B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-08-11 | 浙江志澄环境资源科技有限公司 | 一种去除工业二氧化碳捕获***中热稳盐的工作方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06320141A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-11-22 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 燃料電池発電プラント用純水製造システム |
WO2002067301A1 (fr) * | 2001-02-20 | 2002-08-29 | Tokyo Electron Limited | Systeme d'utilisation de rejet thermique, procede d'utilisation de rejet thermique et installation de production de semiconducteurs |
JP2011021775A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Daikin Industries Ltd | 蓄熱利用システム |
JP2011242039A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Miura Co Ltd | 廃熱回収システムおよびコージェネレーションシステム |
JP2011245413A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Japan Organo Co Ltd | 水処理システム及び水処理方法 |
JP2012091117A (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Japan Organo Co Ltd | 水処理システム |
JP2013115117A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Tokyo Electron Ltd | 資源再利用装置、処理装置群コントローラ、資源再利用システム、資源再利用方法、及び資源再利用プログラム |
JP2018043229A (ja) * | 2017-05-24 | 2018-03-22 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012057098A1 (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | オルガノ株式会社 | 水処理システム及び水処理方法 |
-
2018
- 2018-03-28 JP JP2018062068A patent/JP7112226B2/ja active Active
-
2019
- 2019-03-20 WO PCT/JP2019/011735 patent/WO2019188670A1/ja active Application Filing
- 2019-03-25 TW TW108110204A patent/TWI805722B/zh active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06320141A (ja) * | 1993-03-19 | 1994-11-22 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 燃料電池発電プラント用純水製造システム |
WO2002067301A1 (fr) * | 2001-02-20 | 2002-08-29 | Tokyo Electron Limited | Systeme d'utilisation de rejet thermique, procede d'utilisation de rejet thermique et installation de production de semiconducteurs |
JP2011021775A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Daikin Industries Ltd | 蓄熱利用システム |
JP2011242039A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Miura Co Ltd | 廃熱回収システムおよびコージェネレーションシステム |
JP2011245413A (ja) * | 2010-05-26 | 2011-12-08 | Japan Organo Co Ltd | 水処理システム及び水処理方法 |
JP2012091117A (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Japan Organo Co Ltd | 水処理システム |
JP2013115117A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Tokyo Electron Ltd | 資源再利用装置、処理装置群コントローラ、資源再利用システム、資源再利用方法、及び資源再利用プログラム |
JP2018043229A (ja) * | 2017-05-24 | 2018-03-22 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7506476B2 (ja) | 2019-12-27 | 2024-06-26 | サッポロビール株式会社 | 廃熱回収給湯システム及び廃熱回収給湯方法 |
KR20220158630A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
KR20220158631A (ko) | 2021-05-24 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 서브팹 에어리어 설치 장치 |
CN113686020A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-11-23 | 刘怡菲 | 一种水源高温热泵热水机 |
WO2023149086A1 (ja) * | 2022-02-03 | 2023-08-10 | Jfeスチール株式会社 | 熱回収装置、熱回収方法及び鋼板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019188670A1 (ja) | 2019-10-03 |
TWI805722B (zh) | 2023-06-21 |
JP7112226B2 (ja) | 2022-08-03 |
TW202003096A (zh) | 2020-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2019188670A1 (ja) | 半導体製造設備における水処理設備の排熱回収再利用システム | |
JP5918110B2 (ja) | 取水装置及び取水方法 | |
JP7145482B2 (ja) | 汚泥処理用の排ガス浄化および熱回収システムおよび方法 | |
JPH0463755B2 (ja) | ||
JP5959135B2 (ja) | 取水装置及び取水方法 | |
WO2010124972A2 (en) | Power plant with co2 capture and water treatment plant | |
WO2013121547A1 (ja) | 海水淡水化システム | |
CN109476509B (zh) | 超纯水制造装置 | |
CN109011668B (zh) | 一种基于高含盐废水的结晶盐分离提纯*** | |
CN109562959B (zh) | 超纯水制造装置 | |
JP2009039599A (ja) | 水処理システム | |
JP5775267B2 (ja) | 水処理システム | |
JP5743490B2 (ja) | 水処理システム及び水処理方法 | |
KR20130102088A (ko) | 수처리 시스템 및 수처리 방법 | |
Seigworth et al. | Case study: Integrating membrane processes with evaporation to achieve economical zero liquid discharge at the Doswell Combined Cycle Facility | |
WO2017066534A1 (en) | Hybrid cooling and desalination system | |
JP4475925B2 (ja) | 脱塩処理装置および脱塩処理方法 | |
JP2012115813A (ja) | 生物処理方式による排水処理設備用ヒートポンプシステム、及びこれを備えた生物処理方式による排水処理設備、並びに、生物処理方式による排水処理設備用ヒートポンプシステムの制御方法 | |
KR100733696B1 (ko) | 해수담수화장치 | |
CN211025713U (zh) | 一种余热回收消白联合废水浓缩的装置 | |
JP2009162514A (ja) | 加圧水型原子力発電所の2次系系統水浄化システム | |
CN210764813U (zh) | 一种余热回收消白联合废水处理的装置 | |
AU2011364139B2 (en) | Exhaust gas treatment system and exhaust gas treatment method | |
CN206410267U (zh) | 一种空调 | |
JP5743489B2 (ja) | 水処理システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210810 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220705 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7112226 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |