JP2019119010A - Polishing sheet and polishing method - Google Patents

Abstract

To provide a polishing sheet capable of efficiently polishing a hard material such as a metal product so as to form a smooth surface with minimal unevenness.SOLUTION: A polishing sheet includes: a substrate; a plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binding material; and an intermediate layer provided between the three-dimensional elements and the substrate so as to join the substrate and the three-dimensional elements, where Young's modulus of the substrate at 25°C is 3.0×10Pa or more; and Young's modulus of the intermediate layer at 25°C is from 1.0×10Pa to 5.0×10Pa inclusive.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、研磨シート及び研磨方法に関する。   The present invention relates to a polishing sheet and a polishing method.

従来から、金属製品等に平滑面を形成するために様々な研磨材が検討されている。例えば、特許文献１及び２には、三次元形状を有する研磨部を備えた研磨材が記載されている。   Heretofore, various abrasives have been studied in order to form a smooth surface on a metal product or the like. For example, Patent Documents 1 and 2 describe abrasives provided with a polishing portion having a three-dimensional shape.

特表平９−５０２６６５号公報Japanese Patent Publication No. 9-502665 特開２０１５−２２３６５３号公報JP, 2015-223653, A

本発明は、金属製品等の硬質材料を効率良く研磨して、凹凸の少ない平滑面を形成することが可能な研磨シート、及び、当該研磨シートを用いて研磨対象物を効率良く研磨することが可能な研磨方法を提供することを目的とする。   The present invention efficiently polishes a hard material such as a metal product, and is capable of forming a smooth surface with less unevenness, and efficiently polishing an object to be polished using the polishing sheet. The aim is to provide a possible polishing method.

本発明の一側面は、基材と、砥粒及び結合材を含有する複数の立体要素と、立体要素と基材との間に設けられ、基材と立体要素とを接合する中間層と、を含み、基材の２５℃におけるヤング率が３．０×１０^９Ｐａ以上であり、中間層の２５℃におけるヤング率が１．０×１０^７Ｐａ以上５．０×１０^８Ｐａ以下である、研磨シートに関する。 One aspect of the present invention is a substrate, a plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binder, an intermediate layer provided between the three-dimensional elements and the substrate, and joining the substrate and the three-dimensional elements. And the Young's modulus at 25 ° C. of the substrate is 3.0 × 10 ⁹ Pa or more, and the Young's modulus at 25 ° C. of the intermediate layer is 1.0 × 10 ⁷ Pa or more and 5.0 × 10 ⁸ Pa or less , Polishing sheet.

このような研磨シートによれば、高荷重下での研磨において、対象面の凹凸を十分に低減できる。このため、上記研磨シートによれば、金属製品等の硬質材料を高荷重研磨により効率良く研磨でき、凹凸の少ない平滑面を容易に形成することができる。   According to such a polishing sheet, it is possible to sufficiently reduce the unevenness of the target surface in the polishing under high load. For this reason, according to the above-mentioned abrasive sheet, hard materials such as metal products can be efficiently polished by high load polishing, and a smooth surface with few irregularities can be easily formed.

本発明の他の一側面は、上記研磨シートを用いた研磨方法であって、研磨シートを１．０×１０^６Ｐａ以上の荷重で研磨対象物に押し付けて、研磨シートと研磨対象物とを摺動させる工程を含む、研磨方法に関する。 Another aspect of the present invention is a polishing method using the above-mentioned abrasive sheet, wherein the abrasive sheet is pressed against the object to be polished with a load of 1.0 × 10 ⁶ Pa or more, and the polishing sheet and the object to be polished are The present invention relates to a polishing method including a sliding step.

このような研磨方法では、上記研磨シートを用いているため、研磨対象物を効率良く研磨でき、研磨対象物に凹凸の少ない平滑面を容易に形成することができる。   In such a polishing method, since the above-mentioned polishing sheet is used, the object to be polished can be efficiently polished, and a smooth surface with few irregularities can be easily formed on the object to be polished.

本発明の更に他の一側面は、基材と、砥粒及び結合材を含有する複数の立体要素と、立体要素と基材との間に設けられ、基材と立体要素とを接合する中間層と、を含み、結合材が、アクリルモノマーを含有する樹脂組成物の硬化物を含み、当該アクリルモノマーの６０質量％以上が、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートからなる群より選択される多官能モノマーである、研磨シートに関する。   Yet another aspect of the present invention is an intermediate provided between a substrate, a plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binder, and the three-dimensional elements and the substrate, and joining the substrate and the three-dimensional elements And the binder contains a cured product of a resin composition containing an acrylic monomer, and 60% by mass or more of the acrylic monomer contains tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2- (2-hydroxyethyl) isocyanate). An abrasive sheet, which is a multifunctional monomer selected from the group consisting of hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate.

このような研磨シートによれば、高荷重下での研磨において、対象面の凹凸を十分に低減できる。このため、上記研磨シートによれば、金属製品等の硬質材料を高荷重研磨により効率良く研磨でき、凹凸の少ない平滑面を容易に形成することができる。   According to such a polishing sheet, it is possible to sufficiently reduce the unevenness of the target surface in the polishing under high load. For this reason, according to the above-mentioned abrasive sheet, hard materials such as metal products can be efficiently polished by high load polishing, and a smooth surface with few irregularities can be easily formed.

本発明は、金属製品等の硬質材料を効率良く研磨して、凹凸の少ない平滑面を形成することが可能な研磨シート、及び、当該研磨シートを用いて研磨対象物を効率良く研磨することが可能な研磨方法を提供することを目的とする。   The present invention efficiently polishes a hard material such as a metal product, and is capable of forming a smooth surface with less unevenness, and efficiently polishing an object to be polished using the polishing sheet. The aim is to provide a possible polishing method.

研磨シートの一態様を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the one aspect | mode of a grinding | polishing sheet. 研磨シートの他の一態様を示す断面図である。It is a cross-sectional view showing another aspect of the polishing sheet. （ａ）は研磨シートが有する立体形状の一態様を示す図であり、（ｂ）は研磨シートが有する立体形状の他の一態様を示す図である。(A) is a figure which shows the one aspect | mode of the three-dimensional shape which a grinding | polishing sheet has, (b) is a figure which shows the other one aspect | mode of the three-dimensional shape which a grinding | polishing sheet has. （ａ）は研磨シートが有する立体形状の一態様を示す図であり、（ｂ）は研磨シートが有する立体形状の他の一態様を示す図である。(A) is a figure which shows the one aspect | mode of the three-dimensional shape which a grinding | polishing sheet has, (b) is a figure which shows the other one aspect | mode of the three-dimensional shape which a grinding | polishing sheet has.

以下、図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について説明する。なお、図面の説明において同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は理解を容易にするため一部を誇張して描いており、寸法比率等は図面に記載のものに限定されるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same elements will be denoted by the same reference symbols, without redundant description. Further, the drawings are drawn with exaggeration in part for ease of understanding, and dimensional ratios and the like are not limited to those described in the drawings.

（研磨シート）
本実施形態に係る研磨シートは、基材と、砥粒及び結合材を含有する複数の立体要素と、立体要素と基材との間に設けられ、基材と立体要素とを接合する中間層と、を含む。 (Abrasive sheet)
The polishing sheet according to the present embodiment is an intermediate layer which is provided between a substrate, a plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a bonding material, and the three-dimensional elements and the substrate, and bonds the substrate and the three-dimensional elements. And.

本実施形態において、研磨シートは、（ａ）基材の２５℃におけるヤング率が３．０×１０^９Ｐａ以上であり、且つ、中間層の２５℃におけるヤング率が１．０×１０^７Ｐａ以上５．０×１０^８Ｐａ以下であるか、（ｂ）結合材が、アクリルモノマーを含有する樹脂組成物の硬化物を含み、且つ、当該アクリルモノマーの６０質量％以上が、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートからなる群より選択される多官能モノマーである、という特徴を有している。研磨シートは、上記（ａ）及び（ｂ）の少なくとも一方の特徴を有していればよく、両方の特徴を有していてもよい。 In this embodiment, the abrasive sheet has a Young's modulus at 25 ° C. of at least 3.0 × 10 ⁹ Pa and a Young's modulus at 25 ° C. of the intermediate layer of 1.0 × 10 ⁷ Pa. above 5.0 or at × ¹⁰ 8 Pa or less, (b) binder comprises a cured product of the resin composition containing an acrylic monomer, and more than 60 wt% of said acrylic monomer is tris (2- It is characterized in that it is a polyfunctional monomer selected from the group consisting of hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate. The abrasive sheet may have at least one of the features (a) and (b), and may have both features.

なお、本明細書中、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートは、「（２，４，６−Ｔｒｉｏｘｏ−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎａｎｅ−１，３，５−ｔｒｉｙｌ）ｔｒｉｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ」（（２，４，６，−トリオキソ−１，３，５−トリアジナン−１，３，５−トリイル）トリエチレントリアクリラート）であり、下記式（Ａ−１）で表される化合物を示す。また、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートは、「２−｛３−［２−（Ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙ）ｅｔｈｙｌ］−５−（２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ）−２，４，６−ｔｒｉｏｘｏ−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎａｎ−１−ｙｌ｝ｅｔｈｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ」（２−｛３−［２−（アクリロイルオキシ）エチル］−５−（２−ヒドロキシエチル）−２，４，６−トリオキソ−１，３，５−トリアジナン−１−イル｝エチルアクリラート）であり、下記式（Ａ−２）で表される化合物を示す。   In the present specification, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate is “(2,4,6-Trioxo-1,3,5-triazinane-1,3,5-triyl) triethylene triacrylate” ( (2,4,6-trioxo-1,3,5-triazinan-1,3,5-triyl) triethylene triacrylate), which is a compound represented by the following formula (A-1). In addition, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate can be prepared by the method described in "2- {3- [2- (Acryloyloxy) ethyl] -5- (2-hydroxyethyl) -2,4,6-trioxo-1,3, 5-triazinan-1-yl} ethyl acrylate "(2- {3- [2- (acryloyloxy) ethyl] -5- (2-hydroxyethyl) -2,4,6-trioxo-1,3,5-) (Triazinan-1-yl} ethyl acrylate) which is a compound represented by the following formula (A-2).

本実施形態に係る研磨シートによれば、高荷重下での研磨において、対象面の凹凸を十分に低減できる。このため、上記研磨シートによれば、金属製品等の硬質材料を高荷重研磨により効率良く研磨でき、凹凸の少ない平滑面を容易に形成することができる。   According to the polishing sheet according to the present embodiment, the unevenness on the target surface can be sufficiently reduced in the polishing under high load. For this reason, according to the above-mentioned abrasive sheet, hard materials such as metal products can be efficiently polished by high load polishing, and a smooth surface with few irregularities can be easily formed.

上記（ａ）の特徴を有する研磨シートは、剛直な基材を有するため、固定された硬質材料に対して研磨シートを摺動させやすく、高荷重研磨への適応性に優れる。また、当該研磨シートは、基材と立体要素との間に柔軟な中間層が設けられており、当該中間層が緩衝層として機能する。このため、上記研磨シートでは、高荷重研磨時に中間層上の複数の立体要素がそれぞれ硬質材料の凹凸に追従し、凹凸の少ない平滑面を容易に形成できる。   The abrasive sheet having the feature (a) described above has a rigid base material, so it is easy to slide the abrasive sheet against the fixed hard material, and is excellent in adaptability to high load polishing. In addition, the polishing sheet is provided with a flexible intermediate layer between the substrate and the three-dimensional element, and the intermediate layer functions as a buffer layer. For this reason, in the above-mentioned abrasive sheet, a plurality of three-dimensional elements on the intermediate layer follow the irregularities of the hard material at the time of high load polishing, and it is possible to easily form a smooth surface with few irregularities.

なお、本明細書中、基材のヤング率は、ＩＳＯ ５２７−３に準拠した、フィルムに対する引張特性に関する試験により測定される値を示す。   In addition, in this specification, the Young's modulus of a base material shows the value measured by the test regarding the tensile property with respect to a film based on ISO 527-3.

また、本明細書中、中間層のヤング率及び結合材のヤング率は、ＩＳＯ ６７２１−５に準拠した周波数１Ｈｚでの曲げ振動による動的粘弾性測定を以下の条件で行い、当該測定の結果から算出される複素弾性率の値を示す。
（測定条件）
・測定装置：Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製Ｓｏｌｉｄｓ Ａｎａｌｙｚｅｒ ＲＳＡ ＩＩＩ
・測定モード：Ｔｈｒｅｅ Ｐｏｉｎｔ Ｂｅｎｄｉｎｇ
・支持端間距離：４０ｍｍ
・周波数：１Ｈｚ
・試験片概寸法：幅１０ｍｍ×長さ５０ｍｍ×厚さ２ｍｍ
・歪：０．０５％ In addition, in the present specification, the Young's modulus of the intermediate layer and the Young's modulus of the binder are subjected to dynamic viscoelasticity measurement based on flexural vibration at a frequency of 1 Hz based on ISO 6721-5 under the following conditions, and the results of the measurement Shows the value of the complex elastic modulus calculated from
(Measurement condition)
Measurement device: Solids Analyzer RSA III manufactured by Rheometric Scientific
・ Measurement mode: Three Point Bending
・ Support end distance: 40 mm
・ Frequency: 1 Hz
・ Test specimen general dimensions: Width 10 mm × length 50 mm × thickness 2 mm
Strain: 0.05%

上記（ｂ）の特徴を有する研磨シートは、結合材が特定のイソシアヌレート構造を有する硬化物から構成される。このような結合材は圧縮降伏応力が高くなるため、高荷重研磨時に、研磨面に係る圧力を維持しつつ変形するため、硬質材料に対する密着性が向上し、高い研磨力が得られる。このため、上記研磨シートでは、高荷重研磨において対象面の凹凸を容易に除去でき、凹凸の少ない平滑面を容易に形成できる。   The abrasive sheet having the feature (b) is composed of a cured product in which the binder has a specific isocyanurate structure. Since such a bonding material has high compressive yield stress, it deforms while maintaining the pressure applied to the polishing surface at the time of high load polishing, so the adhesion to a hard material is improved and high polishing force can be obtained. For this reason, in the case of the above-mentioned polishing sheet, the unevenness on the target surface can be easily removed in high load polishing, and a smooth surface with less unevenness can be easily formed.

なお、本明細書中、圧縮降伏応力は、以下の測定方法及び算出方法により求められる値を示す。
（測定方法）
角柱の試験片を２枚の平行板面に挟み、荷重を加えて破壊するまでの応力と歪の関係を求めた（試験片寸法、圧縮ひずみ算出方法を除いてＩＳＯ ６０４準拠）。
・測定装置：Ｏｒｉｅｎｔｅｃ社製Ｔｅｎｓｉｌｏｎ万能試験機（１ＫＮロードセル使用）
・圧縮速度：１ｍｍ／分
・圧縮ひずみ：圧縮呼びひずみ（ｎｏｍｉｎａｌ ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｖｅ ｓｔｒａｉｎ）
・試験片寸法：２ｍｍ×２ｍｍ×５ｍｍ
（算出方法）
上記測定方法で得られた圧縮応力−ひずみ曲線は、始めに弾性変形による直線部分が現れ、変曲点を経て、部分的に生じた塑性変形による緩やかな直線部分が現れる。この２つの直線部分の各線形回帰直線の交点の圧縮応力値を、圧縮降伏応力として求める。 In the present specification, the compressive yield stress indicates a value determined by the following measurement method and calculation method.
(Measuring method)
Test pieces of a rectangular column were held between two parallel plate surfaces, and the relationship between stress and strain until load was applied and broken was determined (in accordance with ISO 604 except test piece dimensions and compression strain calculation method).
・ Measurement device: Tendeclon universal testing machine made by Orientec (using 1KN load cell)
・ Compression speed: 1 mm / min ・ Compression strain: Nominal compressive strain
Test specimen dimensions: 2 mm × 2 mm × 5 mm
(Calculation method)
In the compressive stress-strain curve obtained by the above-mentioned measuring method, a linear portion due to elastic deformation first appears, and through a point of inflection, a gentle linear portion due to partially generated plastic deformation appears. The compressive stress value at the intersection of each linear regression line of the two linear portions is determined as the compressive yield stress.

以下、図面を参照して研磨シートの好適な一態様について詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of the abrasive sheet will be described in detail with reference to the drawings.

図１は、研磨シートの好適な一態様を示す断面図である。図１に示す研磨シート１０は、基材１１と、砥粒及び結合材を含有する立体要素１２と、基材１１及び立体要素１２の間に配置され、基材１１の一方面上に立体要素１２を接合する中間層１３と、を備えている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a preferred embodiment of the polishing sheet. The polishing sheet 10 shown in FIG. 1 is disposed between the base 11, the three-dimensional element 12 containing the abrasive grains and the bonding material, and the base 11 and the three-dimensional element 12. And an intermediate layer 13 for bonding 12.

基材１１としては、例えば、紙基材、布基材、スポンジ基材、樹脂フィルム、金属フィルム等が挙げられる。   Examples of the substrate 11 include paper substrates, cloth substrates, sponge substrates, resin films, metal films and the like.

紙基材としては、例えば、クラフト紙、含浸紙、コート紙、合成紙等が挙げられる。また、布基材としては、綿布、レーヨン布、ポリエステル布、またはこれらの混紡等が挙げられる。また、スポンジ基材としては、ポリウレタンフォーム、ポリエチレンフォーム、メラミンフォーム等が挙げられる。   Examples of the paper base include kraft paper, impregnated paper, coated paper, synthetic paper and the like. The cloth substrate may, for example, be a cotton cloth, a rayon cloth, a polyester cloth, or a mixture of these. Moreover, as a sponge base material, a polyurethane foam, a polyethylene foam, a melamine foam etc. are mentioned.

基材１１は、中間層１３と接する面が平滑であることが好ましく、平滑さと好適なヤング率とを両立しやすい観点からは、樹脂フィルム及び／又は金属フィルムを含むことが好ましい。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム等が挙げられる。金属フィルムとしては、熱伝導性が高く、摩擦熱放出が期待できる観点から、金属箔が好ましく、例えばアルミニウム泊、銅箔等が挙げられる。基材１１は、複数の樹脂フィルムを積層した積層体であってもよく、複数の金属フィルムを積層した積層体であってもよく、樹脂フィルムと金属フィルムとを含む積層体であってもよい。   The substrate 11 preferably has a smooth surface in contact with the intermediate layer 13 and preferably contains a resin film and / or a metal film from the viewpoint of easily achieving both smoothness and a suitable Young's modulus. As a resin film, a polyester film, a polyimide film, a polyamide film etc. are mentioned, for example. The metal film is preferably a metal foil from the viewpoint of high thermal conductivity and expectation of frictional heat release, and examples thereof include aluminum foil, copper foil and the like. The substrate 11 may be a laminated body in which a plurality of resin films are laminated, may be a laminated body in which a plurality of metal films are laminated, or may be a laminated body including a resin film and a metal film .

基材１１の中間層１３と接する面には、例えば中間層１３との接着性の向上等を目的として、表面処理が施されていてよい。当該表面処理としては、例えば、火炎処理、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン若しくは酸化性の酸による酸化処理、スパッタエッチング等による表面処理、又は、ポリエチレンアクリル酸、ポリウレタン等によるプライマー処理などが挙げられる。   The surface of the substrate 11 in contact with the intermediate layer 13 may be subjected to surface treatment, for example, for the purpose of improving the adhesion to the intermediate layer 13. Examples of the surface treatment include flame treatment, corona treatment, plasma treatment, oxidation treatment with ozone or oxidizing acid, surface treatment with sputter etching or the like, or primer treatment with polyethylene acrylic acid, polyurethane or the like.

基材１１の中間層１３と反対側の面には、例えば研磨装置への適応性の向上等を目的として、表面処理が施されていてよい。当該表面処理としては、例えば、サンドブラスト処理による粗面化処理、無機粒子含有樹脂によるすべり止め層の形成、感圧接着剤による接着層の付与等が挙げられる。   The surface of the base 11 opposite to the intermediate layer 13 may be subjected to a surface treatment, for example, for the purpose of improving the adaptability to a polishing apparatus. Examples of the surface treatment include roughening treatment by sand blast treatment, formation of anti-slip layer by inorganic particle-containing resin, application of adhesive layer by pressure-sensitive adhesive, and the like.

基材１１の厚さは特に限定されず、例えば１５μｍ以上であってよく、６０μｍ以上であってもよい。また、基材１１の厚さは、例えば５００μｍ以下であってよく、３５０μｍ以下であってもよい。基材１１の厚さを厚くすると、高荷重研磨時の基材の破損が顕著に抑制され、高荷重研磨の安定性が向上する。また、基材１１の厚さを薄くすると、研磨対象物に対する追従性が一層向上する。   The thickness of the substrate 11 is not particularly limited, and may be, for example, 15 μm or more, or 60 μm or more. In addition, the thickness of the substrate 11 may be, for example, 500 μm or less, and may be 350 μm or less. When the thickness of the substrate 11 is increased, breakage of the substrate at the time of high load polishing is significantly suppressed, and the stability of high load polishing is improved. In addition, when the thickness of the substrate 11 is reduced, the followability to the object to be polished is further improved.

基材１１は、２５℃におけるヤング率が３．０×１０^９Ｐａ以上であることが好ましい。このような基材１１を有することで、固定された硬質材料に対して研磨シート１０を摺動させやすくなり、高荷重研磨への適応性に優れた研磨シート１０となる。 The substrate 11 preferably has a Young's modulus at 25 ° C. of 3.0 × 10 ⁹ Pa or more. By having such a base material 11, it becomes easy to slide the abrasive sheet 10 with respect to the fixed hard material, and it becomes the abrasive sheet 10 excellent in the adaptability to high load grinding.

基材１１の２５℃におけるヤング率は、上記効果がより顕著に得られる観点から、３．５×１０^９Ｐａ以上がより好ましく、３．８×１０^９Ｐａ以上が更に好ましい。なお、基材１１が金属フィルムである場合、基材１１の２５℃におけるヤング率は更に高くてよく、例えば１０×１０^９Ｐａ以上であってもよく、２０×１０^９以上であってもよい。 The Young's modulus at 25 ° C. of the substrate 11 is preferably 3.5 × 10 ⁹ Pa or more, more preferably 3.8 × 10 ⁹ Pa or more, from the viewpoint that the above-described effects are more remarkably obtained. When the substrate 11 is a metal film, the Young's modulus at 25 ° C. of the substrate 11 may be higher, for example, 10 × 10 ⁹ Pa or more, or 20 × 10 ⁹ or more. .

基材１１の２５℃におけるヤング率の上限は特に限定されない。基材１１の２５℃におけるヤング率は、ロール状製品への加工性の観点からは、例えば２５０×１０^９Ｐａ以下が好ましく、１５０×１０^９以下がより好ましい。なお、基材１１が樹脂フィルムである場合、基材１１の２５℃におけるヤング率は更に低くてよく、例えば２０×１０^９Ｐａ以下であってもよく、１５×１０^９Ｐａ以下であってもよい。 The upper limit of the Young's modulus at 25 ° C. of the substrate 11 is not particularly limited. The Young's modulus at 25 ° C. of the substrate 11 is preferably, for example, 250 × 10 ⁹ Pa or less, more preferably 150 × 10 ⁹ or less, from the viewpoint of processability to a roll-shaped product. When the substrate 11 is a resin film, the Young's modulus at 25 ° C. of the substrate 11 may be lower, for example, 20 × 10 ⁹ Pa or less, or 15 × 10 ⁹ Pa or less Good.

基材１１は、破断伸びが２００％以下であることが好ましい。このような基材１１は、高荷重研磨時において立体要素１２をより強固に固定でき、研磨性能が一層向上する傾向がある。   The base material 11 preferably has a breaking elongation of 200% or less. Such a base material 11 can fix the three-dimensional element 12 more firmly at the time of high load polishing, and the polishing performance tends to be further improved.

上記効果がより顕著に得られる観点から、基材１１の破断伸びは、１８０％以下がより好ましく、１５０％以下が更に好ましい。なお、基材１１が金属フィルムである場合、基材１１の破断伸びは更に低くてよく、例えば４０％以下であってよく、３０％以下であってもよい。   From the viewpoint of obtaining the above effects more remarkably, the breaking elongation of the base material 11 is more preferably 180% or less, and still more preferably 150% or less. When the substrate 11 is a metal film, the breaking elongation of the substrate 11 may be lower, for example, 40% or less, or 30% or less.

基材１１の破断伸びの下限は特に限定されず、例えば１％以上であってよく、３％以上であってもよい。なお、基材１１が樹脂フィルムである場合、基材１１の破断伸びは更に高くてよく、例えば２０％以上であってもよく、４０％以上であってもよい。   The lower limit of the breaking elongation of the substrate 11 is not particularly limited, and may be, for example, 1% or more, or 3% or more. When the substrate 11 is a resin film, the breaking elongation of the substrate 11 may be higher, for example, 20% or more, or 40% or more.

立体要素１２は、研磨対象物を研磨するための砥粒と、砥粒を結着する結合材とを含んでいる。立体要素１２によって、研磨シート１０の研磨面には、研磨対象物と接する凸部と研磨対象物と接しない凹部とが形成される。すなわち、研磨シート１０における立体要素１２は、研磨面が凸部及び凹部を有するように設けられた要素ということができる。   The three-dimensional element 12 includes an abrasive for polishing an object to be polished and a bonding material for binding the abrasive. The three-dimensional element 12 forms, on the polishing surface of the polishing sheet 10, a convex portion in contact with the object to be polished and a recess not in contact with the object to be polished. That is, the three-dimensional element 12 in the polishing sheet 10 can be said to be an element provided so that the polishing surface has a convex portion and a concave portion.

研磨シート１０は、複数の立体要素１２を有しており、立体要素１２同士は互いに独立している。このような構成を有することで、高荷重研磨時に複数の立体要素１２がそれぞれ研磨対象物の凹凸に追従することができる。   The polishing sheet 10 has a plurality of three-dimensional elements 12, and the three-dimensional elements 12 are independent of each other. By having such a configuration, the plurality of three-dimensional elements 12 can follow the unevenness of the object to be polished at the time of high load polishing.

砥粒は、研磨シート１０の用途（例えば、研磨対象物の種類、研磨シートを適用する研磨装置の種類等）に応じて適宜選択してよい。砥粒としては、例えば、ダイヤモンド、溶融酸化アルミニウム、熱処理酸化アルミニウム、セラミック酸化アルミニウム、シリコンカーバイド、アルミナジルコニア、ガーネット、立方体窒化ホウ素等が挙げられ、これらは一種を単独で用いても二種以上を混合して用いても、これらを集結砥粒状に加工してもよい。これらのうち、ダイヤモンド、シリコンカーバイド、立方体窒化ホウ素は、硬質材料の高荷重研磨への適性が高く、特に好適である。   The abrasive grains may be appropriately selected according to the use of the polishing sheet 10 (for example, the type of the object to be polished, the type of polishing apparatus to which the polishing sheet is applied, and the like). Examples of the abrasive include diamond, molten aluminum oxide, heat-treated aluminum oxide, ceramic aluminum oxide, silicon carbide, alumina zirconia, garnet, cubic boron nitride and the like, and two or more of these may be used alone or in combination. Even if it mixes and uses, you may process these into a collection abrasive grain. Among these, diamond, silicon carbide and cubic boron nitride are particularly suitable because they are highly suitable for high load polishing of hard materials.

砥粒の平均粒径は、研磨シート１０の用途に応じて適宜選択してよい。砥粒の平均粒径は、例えば０．３μｍ以上であってよく、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上である。また、砥粒の平均粒径は、例えば５０μｍ以下であってよく、好ましくは３５μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下である。また、砥粒を集結して用いる場合には、その平均粒径は、例えば５μｍ以上であってよく、このましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上である。また、集結砥粒の平均粒径は、例えば５ｍｍ以下であってよく、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下である。   The average particle size of the abrasive grains may be appropriately selected according to the application of the polishing sheet 10. The average particle size of the abrasive grains may be, for example, 0.3 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and more preferably 10 μm or more. The average particle size of the abrasive grains may be, for example, 50 μm or less, preferably 35 μm or less, and more preferably 20 μm or less. When the abrasive grains are collected and used, the average particle size may be, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more, and more preferably 20 μm or more. In addition, the average particle diameter of the aggregated abrasive grains may be, for example, 5 mm or less, preferably 1 mm or less, and more preferably 500 μm or less.

なお、本明細書中、研磨粒子の平均粒径は、レーザー回折／散乱式粒度分布測定を用いて測定される体積累積粒径Ｄ５０である。具体的な測定条件は以下のとおりであるが、同様の原理に基づき同等の値が得られることが当業者にとって理解できる限り、他の測定装置及び条件を用いることを妨げない。
・測定装置：レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置ＬＡ−９２０（株式会社堀場製作所、京都府京都市）
・解析ソフトウェア：ＬＡ−９２０ ｆｏｒ Ｗｉｎｄｏｗｓ（登録商標）
・砥粒量：１５０ｍｇ
・分散媒：イオン交換水１５０ｍＬ
・循環速度（水の撹拌速度）：設定値１５
・超音波発振：あり（ＬＡ−９２０内蔵の超音波装置を使用）
・測定温度：室温（２５℃）
・相対湿度：８５％以下
・Ｈｅ−Ｎｅレーザー光透過率：８５％
・タングステンランプ透過率：８５％
・相対屈折率：１．８０に設定（ダイヤモンドの相対屈折率：１．８１）
・測定時間：２０秒
・データ取り込み数：１０
・粒径基準：体積 In the present specification, the average particle diameter of the abrasive particles is the volume cumulative particle diameter D50 measured using laser diffraction / scattering type particle size distribution measurement. Although the specific measurement conditions are as follows, as long as those skilled in the art can understand that equivalent values can be obtained based on the same principle, it does not prevent using other measurement devices and conditions.
Measurement device: Laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device LA-920 (Horiba, Ltd., Kyoto City, Kyoto Prefecture)
Analysis software: LA-920 for Windows (registered trademark)
・ Abrasive weight: 150 mg
Dispersion medium: 150 mL of ion exchanged water
Circulating speed (water stirring speed): set value 15
・ Ultrasonic oscillation: Yes (using an ultrasonic device with built-in LA-920)
・ Measurement temperature: room temperature (25 ° C)
Relative humidity: 85% or less He-Ne laser light transmittance: 85%
-Tungsten lamp transmittance: 85%
-Relative refractive index: Set to 1.80 (relative refractive index of diamond: 1.81)
Measurement time: 20 seconds Number of data acquisition: 10
Particle size standard: volume

砥粒の番手は、ＪＩＳ Ｒ−６００１−２：２０１７で定義され、例えば＃２８０〜＃３００００であってよく、好ましくは＃６００〜＃２００００である。   The abrasive grain count is defined in JIS R-6001-2: 2017, and may be, for example, # 280 to # 30000, preferably # 600 to # 20000.

立体要素１２中の砥粒の含有量は、結合材１００質量部に対して、例えば０．２質量部以上であってよく、０．４質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。また、立体要素１２中の砥粒の含有量は、結合材１００質量部に対して、例えば８００質量部以下であってよく、６００質量部以下が好ましく、５００質量部以下がより好ましい。   The content of the abrasive grains in the three-dimensional element 12 may be, for example, 0.2 parts by mass or more, preferably 0.4 parts by mass or more, and more preferably 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the bonding material. In addition, the content of the abrasive grains in the three-dimensional element 12 may be, for example, 800 parts by mass or less, preferably 600 parts by mass or less, and more preferably 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the bonding material.

結合材は、砥粒を分散させるマトリックスということができる。結合材は、例えば、熱硬化性樹脂組成物の硬化物であってよく、光硬化性樹脂組成物の硬化物であってもよい。   The bonding material can be said to be a matrix that disperses the abrasive grains. The binder may be, for example, a cured product of a thermosetting resin composition, or may be a cured product of a photocurable resin composition.

結合材は、２５℃におけるヤング率が１．０×１０^９Ｐａ以上であることが好ましい。このような結合材によれば、高荷重下でも立体要素１２の形状を十分に維持でき、研磨対象物に対する研磨力がより顕著に発現される傾向がある。 The binder preferably has a Young's modulus at 25 ° C. of 1.0 × 10 ⁹ Pa or more. According to such a bonding material, the shape of the three-dimensional element 12 can be sufficiently maintained even under high load, and the polishing force on the object to be polished tends to be more significantly developed.

上記効果がより顕著に得られる観点からは、結合材の２５℃におけるヤング率は、２．０×１０^９Ｐａ以上がより好ましく、４．０×１０^９Ｐａ以上が更に好ましい。結合材の２５℃におけるヤング率の上限は特に限定されず、例えば２０×１０^９以下であってよく、１５×１０^９以下であってもよい。 From the viewpoint of obtaining the above effects more remarkably, the Young's modulus at 25 ° C. of the binder is more preferably 2.0 × 10 ⁹ Pa or more, and still more preferably 4.0 × 10 ⁹ Pa or more. The upper limit of the Young's modulus at 25 ° C. of the binder is not particularly limited, and may be, for example, 20 × 10 ⁹ or less, or 15 × 10 ⁹ or less.

好適な一態様において、結合材は、フェノール樹脂を含むものであってよい。このような結合材は、後述の好適なヤング率を得られやすい。   In a preferred embodiment, the binder may comprise a phenolic resin. Such a binder is likely to obtain a suitable Young's modulus described later.

好適な他の一態様において、結合材は、アクリルモノマーを含有する樹脂組成物の硬化物であってよい。アクリルモノマーは、アクリロイル基及びメタアクリロイル基からなる群より選択される少なくとも１種の重合性基を有する化合物である。上記樹脂組成物は、アクリルモノマーの重合によって硬化され、結合材を構成する硬化物となる。   In another preferred embodiment, the binder may be a cured product of a resin composition containing an acrylic monomer. The acrylic monomer is a compound having at least one polymerizable group selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group. The said resin composition is hardened | cured by superposition | polymerization of an acryl monomer, and turns into hardened | cured material which comprises a binder.

上記樹脂組成物は、アクリルモノマーの６０質量％以上が、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートからなる群より選択される多官能モノマーであってよい。これにより、圧縮降伏応力の高い結合材が形成されるため、高荷重研磨時に研磨面に係る圧力を維持しつつ結合材を変形させることができ、硬質材料に対する密着性を向上させ、高い研磨力を得ることができる。   The resin composition is a polyfunctional monomer in which 60% by mass or more of the acrylic monomer is selected from the group consisting of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate. You may As a result, a binder having a high compressive yield stress is formed, so that the binder can be deformed while maintaining the pressure applied to the polishing surface at the time of high load polishing, and the adhesion to a hard material is improved, and a high polishing force is obtained. You can get

アクリルモノマー中の上記多官能モノマーの含有量は、好ましくは６５質量％以上であり、より好ましくは８５質量％以上であり、９５質量％以上であってよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％以上であってもよい。   The content of the polyfunctional monomer in the acrylic monomer is preferably 65% by mass or more, more preferably 85% by mass or more, 95% by mass or more, and 99% by mass or more. , 100 mass% or more may be sufficient.

上記樹脂組成物は、上記多官能モノマー以外の他のアクリルモノマーを更に含有していてもよい。他のアクリルモノマーとしては、単独ポリマーでのガラス転移温度が２５℃以上のものが好ましい。他のアクリルモノマーとしては、例えば、単官能モノマーとして、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート等が挙げられ、二官能モノマーとして、トリシクロデカンメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、多官能モノマーとして、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。   The above-mentioned resin composition may further contain other acrylic monomers other than the above-mentioned polyfunctional monomer. As another acrylic monomer, those having a glass transition temperature of 25 ° C. or higher for a single polymer are preferable. Examples of other acrylic monomers include, as monofunctional monomers, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate and the like, and as difunctional monomers, tricyclodecanemethanol Di (meth) acrylate, bisphenol A ethylene oxide modified di (meth) acrylate, etc. may be mentioned, and as polyfunctional monomers, trimethylpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol Pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, ε-caprolactone modified tris- (2-acryloxyethyl) isocyanurate Etc. The.

上記樹脂組成物中のアクリルモノマーの含有量は、樹脂組成物中の固形分の総量基準で、例えば９０質量％以上であってよく、好ましくは９５質量％以上、より好ましくは９９質量％以上である。上記樹脂組成物中のアクリルモノマーの含有量の上限は特に限定されない。   The content of the acrylic monomer in the resin composition may be, for example, 90% by mass or more, preferably 95% by mass or more, and more preferably 99% by mass or more, based on the total amount of solids in the resin composition. is there. The upper limit of the content of the acrylic monomer in the resin composition is not particularly limited.

上記樹脂組成物は、アクリルモノマーの重合を開始させるための重合開始剤を更に含有していてよい。重合開始剤としては、熱重合開始剤及び光重合開始剤が挙げられ、これらのうちフリーラジカル重合を開始させるための光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、例えば、分子内開裂タイプとして、ベンゾイン誘導体、ベンジルケタール、α−ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、アシルフォスフィンオキサイド、チタノセン類、Ｏ−アシルオキシム類等が挙げられ、水素引き抜きタイプとして、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、チオキサントン等が挙げられる。   The resin composition may further contain a polymerization initiator for initiating the polymerization of the acrylic monomer. Examples of the polymerization initiator include a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator, and among these, a photopolymerization initiator for initiating free radical polymerization is preferable. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin derivatives, benzyl ketal, α-hydroxyacetophenone, α-aminoacetophenone, acylphosphine oxide, titanocenes, O-acyloximes and the like as an intramolecular cleavage type. As the withdrawal type, benzophenone, Michler's ketone, thioxanthone and the like can be mentioned.

上記樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、重合開始剤の種類等に応じて適宜変更してよい。上記樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、アクリルモノマー１００質量部に対して、例えば０．１質量部以上であってよく、好ましくは０．５質量部以上、より好ましくは１．０質量部以上である。また、上記樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、アクリルモノマー１００質量部に対して、例えば１０質量部以下であってよく、好ましくは５質量部以下、より好ましくは３質量部以下である。   The content of the polymerization initiator in the resin composition may be changed as appropriate depending on the type of the polymerization initiator and the like. The content of the polymerization initiator in the resin composition may be, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass or more, and more preferably 1.0, with respect to 100 parts by mass of the acrylic monomer. It is more than mass part. In addition, the content of the polymerization initiator in the resin composition may be, for example, 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the acrylic monomer. is there.

上記樹脂組成物は、アクリルモノマー及び重合開始剤以外の他の成分を更に含んでいてもよい。他の成分としては、例えばカップリング剤、湿潤剤、染料、顔料、可塑剤、フィラー、剥離剤、研磨補助剤、及びその他の添加剤等が挙げられる。   The resin composition may further contain other components other than the acrylic monomer and the polymerization initiator. Other components include, for example, coupling agents, wetting agents, dyes, pigments, plasticizers, fillers, release agents, polishing aids, and other additives.

図１において、立体要素１２は、断面が三角形状を成す形状として記載したが、立体要素１２の形状は必ずしもこれに限定されない。立体要素１２は、例えば、凸部を頂点とし、底面で中間層１３と接合する錐体構造を有していてよい。また、立体要素１２は、例えば、一側辺で凸部を成し、該側辺と対向する側面で中間層１３と接合する三角柱構造を有していてもよい。   In FIG. 1, the three-dimensional element 12 is described as having a triangular cross section, but the shape of the three-dimensional element 12 is not necessarily limited thereto. The three-dimensional element 12 may have, for example, a pyramidal structure having a convex portion as an apex and joining to the intermediate layer 13 at the bottom surface. In addition, the three-dimensional element 12 may have, for example, a triangular prism structure in which a convex portion is formed at one side edge and the intermediate layer 13 is joined to a side surface facing the side edge.

また、立体要素１２は、例えば、一方底面で凸部を成し、他方底面で中間層１３と接合する、柱体構造を有していてもよい。また、立体要素１２は、例えば、一方底面で凸部を成し、他方底面で中間層１３と接合する、錐台構造を有していてもよい。   Also, the three-dimensional element 12 may have, for example, a columnar structure in which a convex portion is formed on one bottom surface and the middle surface 13 is joined to the intermediate layer 13 on the other bottom surface. The three-dimensional element 12 may have, for example, a frustum structure in which a convex portion is formed on one bottom surface and the middle surface 13 is joined to the middle layer 13 on the other bottom surface.

立体要素１２は、多層構造を有していてもよい。例えば、立体要素１２は、研粒及び結合材からなる研磨材層と、結合材からなる支持層とから構成されていてもよい。   The three-dimensional element 12 may have a multilayer structure. For example, the three-dimensional element 12 may be composed of an abrasive layer made of grinding and bonding material and a support layer made of bonding material.

立体要素１２の高さ（研磨面の凹部から凸部までの高さ）は、例えば、２〜８００μｍであってよく、４〜４００μｍであってもよい。   The height of the three-dimensional element 12 (the height from the concave portion to the convex portion on the polishing surface) may be, for example, 2 to 800 μm, or may be 4 to 400 μm.

中間層１３は、基材１１と立体要素１２との間に配置され、基材１１及び立体要素１２を接合する層である。   The intermediate layer 13 is a layer disposed between the substrate 11 and the three-dimensional element 12 and bonding the substrate 11 and the three-dimensional element 12.

中間層１３の２５℃におけるヤング率は、１．０×１０^７Ｐａ以上であることが好ましい。このような中間層１３は、立体要素１２を基材１１上に十分に固定できるため、研磨時の立体要素１２の脱落等を十分に抑制できる。 The Young's modulus at 25 ° C. of the intermediate layer 13 is preferably 1.0 × 10 ⁷ Pa or more. Such an intermediate layer 13 can sufficiently fix the three-dimensional element 12 on the base material 11, and therefore, the detachment of the three-dimensional element 12 can be sufficiently suppressed at the time of polishing.

上記効果がより顕著に奏される観点から、中間層１３の２５℃におけるヤング率は、３．０×１０^７Ｐａ以上が好ましく、５．０×１０^７Ｐａ以上がより好ましい。 From the viewpoint of achieving the above effects more remarkably, the Young's modulus at 25 ° C. of the intermediate layer 13 is preferably 3.0 × 10 ⁷ Pa or more, and more preferably 5.0 × 10 ⁷ Pa or more.

また、中間層１３の２５℃におけるヤング率は、５．０×１０^８Ｐａ以下であることが好ましい。このような中間層１３は高荷重研磨時に緩衝層として機能し、複数の立体要素１２をそれぞれ研磨対象物の凹凸に追従させることができる。このため、このような中間層１３によれば、凹凸の少ない平滑面を容易に形成できる。 The Young's modulus of the intermediate layer 13 at 25 ° C. is preferably 5.0 × 10 ⁸ Pa or less. Such an intermediate layer 13 functions as a buffer layer at the time of high load polishing, and can make the plurality of three-dimensional elements 12 follow the unevenness of the object to be polished. Therefore, according to such an intermediate layer 13, it is possible to easily form a smooth surface with few irregularities.

上記効果がより顕著に奏される観点から、中間層１３の２５℃におけるヤング率は、４．０×１０^８Ｐａ以下が好ましく、２．０×１０^８Ｐａ以下がより好ましい。 From the viewpoint of achieving the above effects more remarkably, the Young's modulus at 25 ° C. of the intermediate layer 13 is preferably 4.0 × 10 ⁸ Pa or less, more preferably 2.0 × 10 ⁸ Pa or less.

中間層１３の構成材料は、基材１１と立体要素１２とを接合できるものであれば特に限定されない。中間層１３は、例えば、熱硬化性樹脂組成物の硬化物で構成されていてよく、光硬化性樹脂組成物の硬化物で構成されていてもよい。   The constituent material of the intermediate layer 13 is not particularly limited as long as it can bond the base 11 and the three-dimensional element 12. The mid layer 13 may be composed of, for example, a cured product of a thermosetting resin composition, or may be composed of a cured product of a photocurable resin composition.

好適な一態様において、中間層１３は、ウレタンアクリレートを含む樹脂組成物の硬化物で構成されていてよい。このような中間層１３は、上述の好適なヤング率と、基材１１及び立体要素１２間の強固な接着力とを両立しやすい傾向がある。   In a preferred embodiment, the intermediate layer 13 may be composed of a cured product of a resin composition containing urethane acrylate. Such an intermediate layer 13 tends to be compatible with the preferable Young's modulus described above and the strong adhesion between the substrate 11 and the three-dimensional element 12.

ウレタンアクリレートは、ウレタン結合と、アクリロイル基及びメタアクリロイル基からなる群より選択される少なくとも一種の重合性基と、を有する重合性化合物ということができる。ウレタンアクリレートの具体例としては、例えば、ポリエステル骨格含有ウレタンアクリレート、ポリエーテル骨格含有ウレタンアクリレート、脂肪族ウレタンアクリレート、芳香族ウレタンアクリレート等が挙げられる。   The urethane acrylate can be said to be a polymerizable compound having a urethane bond and at least one polymerizable group selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group. Specific examples of the urethane acrylate include polyester skeleton-containing urethane acrylate, polyether skeleton-containing urethane acrylate, aliphatic urethane acrylate, aromatic urethane acrylate and the like.

上記樹脂組成物は、ウレタンアクリレート以外の他の重合性化合物を更に含んでいてよい。他の重合性化合物は、ウレタンアクリレートと共重合可能な化合物から適宜選択してよい。他の重合性化合物としては、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート、グリシジルメタクリレート、（メタ）アクリル酸等が挙げられる。また、上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂等のウレタンアクリレートとは共重合しない重合性化合物を更に含んでもよい。   The resin composition may further contain another polymerizable compound other than urethane acrylate. Other polymerizable compounds may be appropriately selected from compounds copolymerizable with urethane acrylate. Other polymerizable compounds include, for example, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclic trimethylolpropane formal acrylate, glycidyl methacrylate, (meth) acrylic acid and the like. It can be mentioned. The resin composition may further contain a polymerizable compound which is not copolymerized with urethane acrylate such as epoxy resin.

上記樹脂組成物中の重合性化合物に占めるウレタンアクリレートの割合は、例えば４０質量％以上であってよく、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上である。これにより、上述の好適なヤング率がより得られやすくなる。   The proportion of urethane acrylate in the polymerizable compound in the resin composition may be, for example, 40% by mass or more, preferably 50% by mass or more, and more preferably 70% by mass or more. This makes it easier to obtain the preferred Young's modulus described above.

上記樹脂組成物中の重合性化合物に占めるウレタンアクリレートの割合の上限は特に限定されず、例えば９９．９質量％以下であってよく、９９質量％以下であってもよい。   The upper limit of the ratio of urethane acrylate to the polymerizable compound in the resin composition is not particularly limited, and may be, for example, 99.9% by mass or less, and may be 99% by mass or less.

上記樹脂組成物は、ウレタンアクリレートの重合を開始させるための重合開始剤を更に含有していてよい。重合開始剤としては、熱重合開始剤及び光重合開始剤が挙げられ、これらのうちフリーラジカル重合を開始させるための光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、例えば、分子内開裂タイプとしてベンゾイン誘導体、ベンジルケタール、α−ヒドロキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノン、アシルフォスフィンオキサイド、チタノセン類、Ｏ−アシルオキシム類等が挙げられ、水素引き抜きタイプとしてベンゾフェノン、ミヒラーケトン、チオキサントン等が挙げられる。   The resin composition may further contain a polymerization initiator for initiating polymerization of urethane acrylate. Examples of the polymerization initiator include a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator, and among these, a photopolymerization initiator for initiating free radical polymerization is preferable. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin derivatives as an intramolecular cleavage type, benzyl ketal, α-hydroxyacetophenone, α-aminoacetophenone, acylphosphine oxide, titanocenes, O-acyloximes, etc. As a type, benzophenone, Michler's ketone, thioxanthone and the like can be mentioned.

上記樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、重合開始剤の種類等に応じて適宜変更してよい。上記樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して、例えば０．１質量部以上であってよく、好ましくは０．５質量部以上、より好ましくは１．０質量部以上である。また、上記樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して、例えば５０質量部以下であってよく、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは１０質量部以下である。   The content of the polymerization initiator in the resin composition may be changed as appropriate depending on the type of the polymerization initiator and the like. The content of the polymerization initiator in the resin composition may be, for example, 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass or more, more preferably 1. parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is 0 mass part or more. In addition, the content of the polymerization initiator in the resin composition may be, for example, 50 parts by mass or less, preferably 20 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is.

上記樹脂組成物は、重合性化合物及び硬化剤以外の他の成分を更に含んでいてもよい。他の成分としては、例えばカップリング剤、湿潤剤、染料、顔料、可塑剤、フィラー、及びその他の添加剤等が挙げられる。   The resin composition may further contain other components other than the polymerizable compound and the curing agent. Other components include, for example, coupling agents, wetting agents, dyes, pigments, plasticizers, fillers, and other additives.

研磨シート１０において、中間層１３は立体要素１２と共に立体的に成形され、研磨面の凹部を構成している。また、研磨シート１０は、複数の中間層１３を有しており、複数の中間層１３は、それぞれ一つの立体要素１２と基材１１とを接合している。すなわち、研磨シート１０では、一つの中間層１３上に一つの立体要素１２が設けられている。   In the polishing sheet 10, the intermediate layer 13 is three-dimensionally formed together with the three-dimensional element 12, and constitutes a recess of the polishing surface. Further, the polishing sheet 10 has a plurality of intermediate layers 13, and the plurality of intermediate layers 13 join one three-dimensional element 12 and the base material 11, respectively. That is, in the polishing sheet 10, one three-dimensional element 12 is provided on one intermediate layer 13.

本実施形態において、中間層の形状は上記の形状に限定されない。例えば、研磨シートは、複数の立体要素が一つの中間層によって立体要素と接合されていてもよい。言い換えると、一つの中間層上に複数の立体要素が設けられていてもよい。   In the present embodiment, the shape of the intermediate layer is not limited to the above shape. For example, in the polishing sheet, a plurality of three-dimensional elements may be joined to the three-dimensional elements by one intermediate layer. In other words, a plurality of three-dimensional elements may be provided on one intermediate layer.

図２は、研磨シートの他の一態様を示す断面図である。図２に示す研磨シート２０は、基材２１と、複数の立体要素２２と、基材１１及び複数の立体要素２２の間に配置され、基材１１及び複数の立体要素を接合する中間層２３と、を備えている。中間層２３は、一方面側で基材１１と接合し、他方面側で複数の立体要素２２と接合している。中間層２３の立体要素２２と接する側の面は、立体要素２２と共に立体的に成形され、研磨面の凹部を構成している。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing another aspect of the polishing sheet. The polishing sheet 20 illustrated in FIG. 2 is disposed between the base 21, the plurality of three-dimensional elements 22, and the base 11 and the plurality of three-dimensional elements 22, and is an intermediate layer 23 that bonds the base 11 and the plurality of three-dimensional elements. And have. The intermediate layer 23 is joined to the base 11 on one side and joined to the plurality of three-dimensional elements 22 on the other side. The surface of the intermediate layer 23 on the side in contact with the three-dimensional element 22 is three-dimensionally shaped together with the three-dimensional element 22 and constitutes a recess of the polishing surface.

基材２１及び立体要素２２は、研磨シート１０における基材１１及び立体要素１２と同じであってよく、中間層２３はその形状以外、研磨シート１０における中間層２３と同じであってよい。   The base 21 and the three-dimensional element 22 may be the same as the base 11 and the three-dimensional element 12 in the abrasive sheet 10, and the intermediate layer 23 may be the same as the intermediate layer 23 in the abrasive sheet 10 except for the shapes thereof.

なお、中間層２３は立体要素２２と共に立体的に成形され、研磨面に立体形状を成しているが、中間層２３は必ずしも立体的に成形されている必要はなく、中間層２３の平滑面上に立体要素２２が設けられていてもよい。   Although the intermediate layer 23 is three-dimensionally formed with the three-dimensional element 22 and has a three-dimensional shape on the polishing surface, the intermediate layer 23 does not necessarily have to be three-dimensionally formed, and the smooth surface of the intermediate layer 23 A three-dimensional element 22 may be provided on top.

本実施形態において、研磨シートの研磨面には、立体要素（場合により、立体要素及び中間層）によって立体形状が形成されている。以下、図面を参照して、当該立体形状の好適な態様について例示する。   In the present embodiment, a three-dimensional shape is formed on the polishing surface of the polishing sheet by three-dimensional elements (in some cases, three-dimensional elements and an intermediate layer). Hereinafter, with reference to drawings, it illustrates about the suitable aspect of the said three-dimensional shape.

図３（ａ）は、研磨シートが有する立体形状の一態様を示す上面図である。立体部１２１は、頂点が凸部をなし、底面で基材側に接合する錐体構造（三角錐構造）を有している。なお、図３（ａ）中、複数の立体部１２１は錐体構造の底辺で互いに接しているが、複数の立体部１２１は互いに離間していてもよい。   FIG. 3A is a top view showing one aspect of the three-dimensional shape of the polishing sheet. The three-dimensional part 121 has a pyramidal structure (triangular pyramid structure) in which the apex forms a convex part and is joined to the base material side at the bottom surface. Although a plurality of solid parts 121 are in contact with each other at the base of the pyramidal structure in FIG. 3A, the plurality of solid parts 121 may be separated from each other.

図３（ａ）中、符号ｏは立体部１２１の底辺長さを示し、符号ｐは隣接する立体部１２１の頂点間距離を示す。ｏは、例えば、５μｍ〜１０００μｍであってよく、好ましくは１０μｍ〜５００μｍである。ｐは、例えば、５μｍ〜１０００μｍであってよく、１０μｍ〜５００μｍである。   In FIG. 3A, the symbol o indicates the base length of the solid portion 121, and the symbol p indicates the distance between the apexes of the adjacent solid portions 121. o may be, for example, 5 μm to 1000 μm, preferably 10 μm to 500 μm. p may be, for example, 5 μm to 1000 μm, and is 10 μm to 500 μm.

図３（ｂ）は、研磨シートが有する立体形状の他の一態様を示す上面図である。立体部１２２は、一方底面で凸部をなし、他方底面で基材側に接合する錐台構造を有している。図３（ｂ）中、複数の立体部１２２は互いに離間しているが、複数の立体部１２２は基材側の底辺で互いに接していてもよい。   FIG. 3B is a top view showing another aspect of the three-dimensional shape of the polishing sheet. The three-dimensional portion 122 has a frustum structure in which a convex portion is formed on the bottom surface on one side and is joined to the base material side on the bottom surface on the other side. Although several solid parts 122 are mutually spaced apart in FIG.3 (b), several solid parts 122 may contact mutually at the base side by the side of a base material.

図３（ｂ）中、符号ｏは立体部１２２の基材側の底辺長さを示し、符号ｕは隣接する立体部１２２の底辺間距離を示し、符号ｙは立体部１２２の凸部をなす側の底辺長さを示す。ｏは、例えば、５μｍ〜２０００μｍであってよく、好ましくは１０μｍ〜１０００μｍである。ｕは、例えば、０〜１０００μｍであってよく、好ましくは２μｍ〜５００μｍである。ｙは、例えば、０．５μｍ〜１８００μｍであってよく、好ましくは１μｍ〜９００μｍである。   In FIG. 3B, the symbol o indicates the base length of the solid portion 122 on the base side, the symbol u indicates the distance between the base portions of the adjacent solid portions 122, and the symbol y indicates a convex portion of the solid portion 122. Indicates the base length of the side. o may be, for example, 5 μm to 2000 μm, preferably 10 μm to 1000 μm. u may be, for example, 0 to 1000 μm, preferably 2 μm to 500 μm. y may be, for example, 0.5 μm to 1800 μm, preferably 1 μm to 900 μm.

図４（ａ）は、研磨シートが有する立体形状の他の一態様を示す斜視断面図である。立体部１２３は、一側辺で凸部をなし、該側辺と対向する側面で基材側に接合する三角柱構造を有している。立体部１２３は、立体要素１３２と中間層１３３とを含む多層構造を有している。   FIG. 4A is a perspective sectional view showing another aspect of the three-dimensional shape of the polishing sheet. The three-dimensional portion 123 has a convex portion at one side edge, and has a triangular prism structure joined to the base material at a side surface facing the side edge. The three-dimensional part 123 has a multilayer structure including the three-dimensional element 132 and the intermediate layer 133.

なお、図４（ａ）では三角柱構造及び多層構造を有する立体要素を図示したが、三角柱構造を有する立体部は、多層構造を有さず、立体要素のみから構成されていてもよい。   Although FIG. 4A illustrates a three-dimensional element having a triangular prism structure and a multilayer structure, a three-dimensional part having a triangular prism structure may have only a three-dimensional element without having a multilayer structure.

立体部１２３の頂角αは、例えば３０°〜１５０°であってよく、４５°〜１４０°であってよい。図４（ａ）中、符号ｈは立体部１２３の高さを示し、符号ｓは立体要素１３２の高さを示す。ｈは、例えば、１０μｍ〜１００００μｍであってよく、好ましくは２０μｍ〜１０００μｍである。ｓは、例えば、立体部の高さｈの５％〜９５％であってよく、好ましくは１０％〜９０％である。   The apex angle α of the three-dimensional part 123 may be, for example, 30 ° to 150 °, and may be 45 ° to 140 °. In FIG. 4A, the symbol h indicates the height of the solid portion 123, and the symbol s indicates the height of the solid element 132. h may be, for example, 10 μm to 10000 μm, and preferably 20 μm to 1000 μm. s may be, for example, 5% to 95% of the height h of the three-dimensional part, and preferably 10% to 90%.

図４（ａ）中、符号ｗは立体部１２３の短底辺の長さ（立体部１２３の幅）を示し、符号ｐは立体部１２３の頂上間距離を示し、符号ｕは隣接する立体部１２３の長底辺間距離を示す。ｗは、例えば、２μｍ〜２０００μｍであってよく、好ましくは４μｍ〜１０００μｍである。ｐは、例えば、２μｍ〜４０００μｍであってよく、好ましくは４μｍ〜２０００μｍである。ｕは、例えば０〜２０００μｍであってよく、好ましくは０〜１０００μｍである。   In FIG. 4A, the symbol w indicates the length of the short base of the solid portion 123 (the width of the solid portion 123), the symbol p indicates the distance between the tops of the solid portion 123, and the symbol u indicates the adjacent solid portion 123. Indicates the distance between the long bottoms of w may be, for example, 2 μm to 2000 μm, preferably 4 μm to 1000 μm. p may be, for example, 2 μm to 4000 μm, preferably 4 μm to 2000 μm. u may be, for example, 0 to 2000 μm, preferably 0 to 1000 μm.

立体部１２３の長さ（長底辺の長さ）は、研磨シートの全域に亘って伸長されていてよい。この場合、立体部１２３の長底辺方向の両端部がいずれも研磨シートの端部付近にあり、複数の立体部１２３は縞状に配置される。   The length (length of the long bottom side) of the solid portion 123 may be extended over the entire area of the polishing sheet. In this case, both ends in the direction of the long bottom side of the solid portion 123 are in the vicinity of the end portion of the polishing sheet, and the plurality of solid portions 123 are arranged in stripes.

また、立体部１２３は、長底辺の長さを適当な長さ、例えば５μｍ〜１００００μｍ、としてもよい。この場合の例を図４（ｂ）に示す。図４（ｂ）において、立体部１２４の端面は、下から鋭角をつけて切り取られた形状としているが、立体部１２４の端面はこのような形状に限定されない。   In addition, the three-dimensional part 123 may set the length of the long base to a suitable length, for example, 5 μm to 10000 μm. An example of this case is shown in FIG. In FIG. 4B, the end face of the three-dimensional part 124 has a shape cut at an acute angle from below, but the end face of the three-dimensional part 124 is not limited to such a shape.

図４（ｂ）中、符号ｌは立体部１２４の長底辺の長さを示し、符号ｘは隣接する立体部１２４の短底辺間距離を示す。ｌは、例えば５μｍ〜１００００μｍであってよく、好ましく１０μｍ〜５０００μｍである。ｘは、例えば、０〜２０００μｍであってよく、好ましくは０〜１０００μｍである。   In FIG. 4 (b), the symbol l indicates the length of the long bottom of the solid portion 124, and the symbol x indicates the distance between the short bottoms of the adjacent solid portions 124. For example, l may be 5 μm to 10000 μm, preferably 10 μm to 5000 μm. For example, x may be 0 to 2000 μm, preferably 0 to 1000 μm.

本実施形態に係る研磨シートは、高荷重下での研磨において、対象面の凹凸を十分に低減できる。このため、上記研磨シートは、高荷重研磨の用途に好適に用いることができる。すなわち、上記研磨シートは高荷重研磨用研磨シートであってよい。   The grinding | polishing sheet which concerns on this embodiment can fully reduce the unevenness | corrugation of an object surface in grinding | polishing under high load. Therefore, the above-mentioned abrasive sheet can be suitably used for high load polishing applications. That is, the polishing sheet may be a high load polishing polishing sheet.

高荷重研磨における荷重は、例えば１．０×１０^６Ｐａ以上であってよく、１．２×１０^６Ｐａ以上が好ましく、１．５×１０^６Ｐａ以上が更に好ましい。また、高荷重研磨における荷重は、例えば５．０×１０^６Ｐａ以下であってよく、３．０×１０^６Ｐａ以下が好ましい。 The load in the high load polishing may be, for example, 1.0 × 10 ⁶ Pa or more, preferably 1.2 × 10 ⁶ Pa or more, and more preferably 1.5 × 10 ⁶ Pa or more. Further, the load in the high load polishing may be, for example, 5.0 × 10 ⁶ Pa or less, preferably 3.0 × 10 ⁶ Pa or less.

また、本実施形態に係る研磨シートは、高荷重研磨に好適であるため、金属製品等の硬質材料の研磨用途に好適に用いることができる。すなわち、上記研磨シートは、硬質材料研磨用研磨シートであってよい。   Moreover, since the grinding | polishing sheet which concerns on this embodiment is suitable for high load grinding | polishing, it can be used suitably for grinding | polishing use of hard materials, such as a metal product. That is, the abrasive sheet may be an abrasive sheet for hard material abrasion.

硬質材料は、例えば、ＩＳＯ ８４８６−２：２００７で定義されるビッカース硬度がＨＶ１５０以上である材料を示す。硬質材料の例としては、例えば、炭素鋼、ステンレス、チタン、タングステン、及び、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、ジルコニア、アルミナ等のセラミック材料などが挙げられる。   The hard material is, for example, a material having a Vickers hardness of HV150 or more as defined in ISO 8486-2: 2007. Examples of hard materials include, for example, carbon steel, stainless steel, titanium, tungsten, and ceramic materials such as silicon carbide, aluminum nitride, zirconia, and alumina.

（研磨方法）
本実施形態に係る研磨方法は、上記研磨シートを研磨対象物に押し付けて、研磨シートと研磨対象物とを摺動させる工程を含む。 (Polishing method)
The polishing method according to the present embodiment includes the step of pressing the polishing sheet against an object to be polished and sliding the polishing sheet and the object to be polished.

本実施形態において、研磨シートを研磨対象物に押し付けるときの荷重は、例えば１．０×１０^６Ｐａ以上の高荷重であってよい。当該荷重は、例えば１．２×１０^６Ｐａ以上が好ましく、１．５×１０^６Ｐａ以上が更に好ましい。当該荷重の上限は、例えば５．０×１０^６Ｐａ以下であってよく、３．０×１０^６Ｐａ以下が好ましい。 In the present embodiment, the load when pressing the polishing sheet against the object to be polished may be, for example, a high load of 1.0 × 10 ⁶ Pa or more. For example, 1.2 × 10 ⁶ Pa or more is preferable, and the load is more preferably 1.5 × 10 ⁶ Pa or more. The upper limit of the load may be, for example, 5.0 × 10 ⁶ Pa or less, preferably 3.0 × 10 ⁶ Pa or less.

研磨シートと研磨対象物との摺動は、一方を固定して他方を摺り動かすことで実施してよく、両方を摺り動かすことで実施してもよい。本実施形態では、これらのうち、研磨対象物を固定して、研磨シートを摺動させる方法が特に好ましい。   The sliding between the polishing sheet and the object to be polished may be performed by fixing one side and sliding the other, or by sliding both. In the present embodiment, among these, the method of fixing the object to be polished and sliding the polishing sheet is particularly preferable.

研磨対象物は特に限定されないが、上記研磨シートを用いたことによる効果を顕著に得る観点からは、上述の硬質材料であることが好ましい。   The object to be polished is not particularly limited, but it is preferable to use the above-mentioned hard material from the viewpoint of remarkably achieving the effect by using the above-mentioned abrasive sheet.

本実施形態では、研磨シートと研磨対象物とを摺動させる際に、潤滑液を介在させてもよい。潤滑液は、水溶性と不水溶性とに大別される。水溶性の潤滑液としては、ソリュブルタイプ、ソリューションタイプ、エマルションタイプがあり、これらのいずれを使用してもよい。また、不水溶性の潤滑液としては、鉱油及び／又は脂肪油から構成された潤滑液が挙げられ、当該潤滑液は、極圧添加剤を含んでいても含んでいなくてもよい。   In the present embodiment, when sliding the polishing sheet and the object to be polished, a lubricating liquid may be interposed. The lubricating fluid is roughly classified into water-soluble and water-insoluble. As the water-soluble lubricating liquid, there are soluble type, solution type and emulsion type, any of which may be used. In addition, as the water-insoluble lubricating fluid, a lubricating fluid composed of mineral oil and / or fatty oil may be mentioned, and the lubricating fluid may or may not contain an extreme pressure additive.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。   As mentioned above, although the suitable embodiment of the present invention was described, the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to the examples.

（実施例Ａ−１）
＜立体要素形成用組成物（ａ−１）の調製＞
フェノール樹脂としてＰＲ−５３０７４（液状レゾール型フェノール樹脂：住友ベークライト社（東京都品川区）製、不揮発分７５％）を用い、立体要素形成用組成物（ａ−１）を調製した。
具体的には、１４０質量部のＰＲ−５３０７４と、１７．５質量部のプロピレングリコールメチルエーテルと、１７．５質量部のプロピレングリコールメチルエーテルアセテートと混合して、第一の混合液を得た。次いで、３００質量部のダイヤモンド砥粒（平均粒径１５μｍ）と２００質量部のイソプロピルアルコールとを混合して、第二の混合液を得た。第一の混合液及び第二の混合液を混合して、立体要素形成用組成物（ａ−１）を調製した。 Example A-1
<Preparation of Composition (a-1) for Forming Three-Dimensional Element>
A composition for forming a three-dimensional element (a-1) was prepared using PR-53074 (liquid resol-type phenol resin: 75% nonvolatile fraction manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., Shinagawa-ku, Tokyo) as a phenol resin.
Specifically, 140 parts by mass of PR-53074, 17.5 parts by mass of propylene glycol methyl ether, and 17.5 parts by mass of propylene glycol methyl ether acetate were mixed to obtain a first mixed liquid. . Then, 300 parts by mass of diamond abrasive grains (average particle diameter 15 μm) and 200 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed to obtain a second mixed liquid. The first mixed solution and the second mixed solution were mixed to prepare a steric element forming composition (a-1).

＜中間層形成用組成物（ｂ−１）＞
ウレタンアクリレートとしてＣＮ９９１（アルケマ社（Ｃｏｌｏｍｂｅｓ Ｃｅｄｅｘ， Ｆｒａｎｃｅ）製）を用い、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、７８．４３質量部のＣＮ９９１と、１９．６１質量部のテトラヒドロフルフリルアクリレートと、１．９６質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社（Ｗａａｌｗｉｊｋ，Ｔｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ）製）とを混合して、中間層形成用組成物（ｂ−１）を調製した。 <Composition for forming intermediate layer (b-1)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared using CN991 (manufactured by Alkema, Colombes Cedex, France) as a urethane acrylate.
Specifically, 78.43 parts by mass of CN991, 19.61 parts by mass of tetrahydrofurfuryl acrylate, and 1.96 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 369, manufactured by IGM Resins (Waalwijk, The Netherlands) The composition for forming an intermediate layer (b-1) was prepared by mixing

＜基材＞
基材として、ＰＥＴフィルム（厚さ７５μｍ、２５℃におけるヤング率は４×１０^９Ｐａ）を準備した。 <Base material>
A PET film (75 μm thick, Young's modulus at 25 ° C. is 4 × 10 ⁹ Pa) was prepared as a substrate.

（研磨シートの作製）
表面に図３（ａ）に示す立体形状に対応する凹部を有するポリプロピレン製賦形フィルムを準備した。賦形フィルム上に立体要素形成用組成物（ａ−１）をバーコーターで塗布し、賦形フィルムの凹部に組成物（ａ−１）を充填し、７５℃で３分間乾燥させた。
次に、賦形フィルム上に、中間層形成用組成物（ｂ−１）を塗布し、基材として厚さ７５μｍの透明ポリエステルフィルムを重ね、ロールで加圧して積層した。ポリエステルフィルムの側から紫外線を照射し、次いで、９０℃で２４時間加熱した。
賦形フィルムを剥離し、１１０℃で２４時間、追加加熱を行うことで、研磨シートを得た。 (Preparation of abrasive sheet)
A polypropylene shaped film having recesses on the surface corresponding to the three-dimensional shape shown in FIG. 3 (a) was prepared. The composition for forming a three-dimensional element (a-1) was applied on a shaped film by a bar coater, the recessed portion of the shaped film was filled with the composition (a-1), and dried at 75 ° C. for 3 minutes.
Next, the composition for intermediate layer formation (b-1) was apply | coated on the forming film, the 75-micrometer-thick transparent polyester film was piled up as a base material, and it pressurized by roll and laminated | stacked. It was irradiated with ultraviolet light from the side of the polyester film and then heated at 90 ° C. for 24 hours.
The shaped film was peeled off, and additional heating was performed at 110 ° C. for 24 hours to obtain an abrasive sheet.

（実施例Ａ−２）
＜中間層形成用組成物（ｂ−２）＞
ウレタンアクリレートとしてＣＮ９９１（アルケマ社製）、エポキシ樹脂としてＹＤＣＮ−７００−１０（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、新日鉄住金化学株式会社（東京都千代田区）製）を用い、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、５６．４９質量部のＣＮ９９１と、１８．８３質量部のテトラヒドロフルフリルアクリレートと、４．０１質量部のイソボルニルアクリレートと、１５．０６質量部のＹＤＣＮ−７００−１０と、１．６０質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）と、４．０１質量部のエポキシ樹脂硬化剤（２−エチル−４−メチルイミダゾール）とを混合して、中間層形成用組成物（ｂ−２）を調製した。 Example A-2
<Composition for forming intermediate layer (b-2)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared using CN991 (manufactured by Arkema) as the urethane acrylate and YDCN-700-10 (cresol novolac epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Sumikin Chemical Co., Ltd. (Chiyoda-ku, Tokyo)) as the epoxy resin. .
Specifically, 56.49 parts by mass of CN991, 18.83 parts by mass of tetrahydrofurfuryl acrylate, 4.01 parts by mass of isobornyl acrylate, 15.06 parts by mass of YDCN-700-10 and the like , 1.60 parts by weight of a photopolymerization initiator (Omnirad 907, manufactured by IGM Resins) and 4.01 parts by weight of an epoxy resin curing agent (2-ethyl-4-methylimidazole) to obtain an intermediate layer The composition for formation (b-2) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
中間層形成用組成物（ｂ−１）に代えて中間層形成用組成物（ｂ−２）を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example A-1, except that the composition for intermediate layer formation (b-2) was used instead of the composition for intermediate layer formation (b-1).

（実施例Ａ−３）
＜中間層形成用組成物（ｂ−３）＞
ウレタンアクリレートとしてＣＮ９９１（アルケマ社製）を用い、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、７３．１７質量部のＣＮ９９１と、２４．３９質量部の環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレートと、２．４４質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社）とを混合して、中間層形成用組成物（ｂ−３）を調製した。 Example A-3
<Composition for forming intermediate layer (b-3)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared using CN991 (manufactured by Arkema) as a urethane acrylate.
Specifically, 73.17 parts by mass of CN991, 24.39 parts by mass of cyclic trimethylolpropane formal acrylate, and 2.44 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 369, manufactured by IGM Resins) Thus, a composition (b-3) for forming an intermediate layer was prepared.

＜研磨シートの作製＞
中間層形成用組成物（ｂ−１）に代えて中間層形成用組成物（ｂ−３）を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example A-1, except that the composition for intermediate layer formation (b-3) was used instead of the composition for intermediate layer formation (b-1).

（実施例Ａ−４）
＜立体要素形成用組成物（ａ−２）の調製＞
ダイヤモンド砥粒として、平均粒径２０μｍのダイヤモンド砥粒を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして立体要素形成用組成物（ａ−２）を調製した。 Example A-4
<Preparation of Composition (a-2) for Forming Three-Dimensional Element>
A three-dimensional element-forming composition (a-2) was prepared in the same manner as in Example A-1, except that diamond abrasive grains having an average particle diameter of 20 μm were used as the diamond abrasive grains.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ａ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ａ−２）を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as in Example A-1, except that the composition for forming a three-dimensional element (a-2) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (a-1).

（比較例Ｘ−１）
＜中間層形成用組成物（ｂ−４）＞
ウレタンアクリレートを用いずに、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、３６．５５質量部のイソボルニルアクリレートと、２１．６９質量部のトリメチロールプロパントリアクリレート（ＳＲ３５１Ｓ、アルケマ社製）と、３６．１５質量部のＹＤＣＮ−７００−１０と、１．６０質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）と、４．０１質量部のエポキシ樹脂硬化剤（２−エチル−４−メチルイミダゾール）とを混合して、中間層形成用組成物（ｂ−４）を調製した。 (Comparative Example X-1)
<Composition for forming intermediate layer (b-4)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared without using urethane acrylate.
Specifically, 36.15 parts by mass of isobornyl acrylate, 21.69 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (SR351S, manufactured by Arkema), and 36.15 parts by mass of YDCN-700-10; 1.60 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 907, manufactured by IGM Resins) and 4.01 parts by mass of an epoxy resin curing agent (2-ethyl-4-methylimidazole) are mixed to form an intermediate layer Composition (b-4) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
中間層形成用組成物（ｂ−１）に代えて中間層形成用組成物（ｂ−４）を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example A-1, except that the composition for intermediate layer formation (b-4) was used instead of the composition for intermediate layer formation (b-1).

（比較例Ｘ−２）
＜中間層形成用組成物（ｂ−５）＞
ウレタンアクリレートとしてＣＮ９９１（アルケマ社製）を用い、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、４８．７８質量部のＣＮ９９１と、１６．２６質量部の環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレートと、３２．５２質量部のＳＲ３６８Ｄ（トリメチロールプロパントリアクリレート：トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート＝７０：３０（質量比）の混合物、アルケマ社製）と、２．４４質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）とを混合して、中間層形成用組成物（ｂ−５）を調製した。 (Comparative Example X-2)
<Composition for forming intermediate layer (b-5)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared using CN991 (manufactured by Arkema) as a urethane acrylate.
Specifically, 48.78 parts by mass of CN991, 16.26 parts by mass of cyclic trimethylolpropane formal acrylate, and 32.52 parts by mass of SR368D (trimethylolpropane triacrylate: tris (2-hydroxyethyl) isocyanate Composition for forming an intermediate layer by mixing a mixture of nurate triacrylate = 70: 30 (mass ratio) (manufactured by Arkema) and 2.44 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 369, manufactured by IGM Resins) A substance (b-5) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
中間層形成用組成物（ｂ−１）に代えて中間層形成用組成物（ｂ−５）を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example A-1, except that the composition for intermediate layer formation (b-5) was used instead of the composition for intermediate layer formation (b-1).

（比較例Ｘ−３）
＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ａ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ａ−２）を用い、中間層形成用組成物（ｂ−１）に代えて中間層形成用組成物（ｂ−４）を用いたこと以外は、実施例Ａ−１と同様にして研磨シートを作製した。 (Comparative example X-3)
<Preparation of abrasive sheet>
Composition for formation of an intermediate layer (b-1) using the composition for formation of a three-dimensional element (a-2) in place of the composition (a-1) for formation of a three-dimensional element An abrasive sheet was produced in the same manner as in Example A-1 except that -4) was used.

（研磨シートの評価（１））
実施例及び比較例で作製した研磨シートについて、以下の条件（１）で研磨試験を行い、６０秒間でのカット量及び研磨面の表面粗さＲａを求めた。結果を表１及び表２に示す。
＜研磨試験の条件（１）＞
・被研磨物：Ｓ４５Ｃ（熱処理なし）
・被研磨物サイズ：１０ｍｍΦ×１５０ｍｍ長さ
・研磨装置：スーパーフィニッシャ―（松田精機製）
・回転速度：８２５ｒｐｍ
・フィルム送り：なし
・オシレーション速度：１０００ｒｐｍ
・研削液：シムテック５００（ＣＩＭＣＯＯＬ ＦＬＵＩＤＳ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製） ２％水溶液
・バックアップロール硬度：ショアＡ ３０°
・切りこみ量：４．２ｍｍ
・研磨時間：６０秒
・カット量：被研磨物の研磨試験後の重量減量をカット量とした。
・表面平均粗さＲａ：以下の装置・条件で測定した。
装置：株式会社ミツトヨ社製 ＳＵＲＦＴＥＳＴ ＳＶ−３１００Ｈ４
測定条件：ＪＩＳ Ｂ−０６０１：２００１（ＩＳＯ ４２８７：１９９７）準拠
カットオフ：０．８ｍｍ
評価長さ：４ｍｍ (Evaluation of polishing sheet (1))
About the grinding | polishing sheet produced by the Example and the comparative example, the grinding | polishing test was done on condition of the following (1), and cut amount in 60 seconds and surface roughness Ra of the grinding | polishing surface were calculated | required. The results are shown in Tables 1 and 2.
<Conditions of polishing test (1)>
· Abrasive: S45C (without heat treatment)
· Abrasive material size: 10 mm × × 150 mm length · Polishing device: Super finisher (made by Matsuda Seiki)
・ Rotation speed: 825 rpm
・ Film feed: None ・ Oscillation speed: 1000 rpm
Grinding fluid: Simtec 500 (manufactured by CIMCOOL FLUIDS TECHNOLOGY) 2% aqueous solution Backup roll hardness: Shore A 30 °
・ The cut amount: 4.2mm
Polishing time: 60 seconds Cut amount: The weight loss after the polishing test of the object to be polished was taken as the cut amount.
Surface Average Roughness Ra: Measured under the following device conditions.
Device: SURFTEST SV-3100H4 manufactured by Mitutoyo Corporation
Measurement conditions: JIS B-0601: 2001 (ISO 4287: 1997) compliant Cutoff: 0.8 mm
Evaluation length: 4 mm

（中間層及び結合材の評価（１））
中間層及び結合材のヤング率は、以下の評価用試験片を作成し、測定した。
一対の２ｍｍ厚みのガラス板２枚の間に０．５ｍｍ厚み片面剥離用シリコーン処理ＰＥＴフィルムを介して、中間層形成用組成物を２ｍｍのギャップを保持して挟み込んだ。ガラス面両側から紫外線を照射して硬化させた後、研磨シート作製と同じ加熱処理を行うことで、板状硬化物を得た。得られた板状硬化物を、ダイヤモンドカッターで所定のサイズに加工することで、中間層評価用試験片を得た。
また、立体要素形成用組成物から砥粒を除いた組成に対しても同様に行うことで、板状硬化物を得た。得られた板状硬化物を、ダイヤモンドカッターで所定のサイズに加工することで、結合材評価用試験片を得た。
中間層評価用試験片及び結合材評価用試験片を用いて、上述の方法で中間層のヤング率及び結合材のヤング率を求めた。結果を表１に示す。 (Evaluation of interlayer and binder (1))
The Young's modulus of the intermediate layer and the binder was prepared by measuring the following test specimens for evaluation.
The composition for forming an intermediate layer was sandwiched by holding a 2 mm gap between a pair of 2 mm thick glass plates via a 0.5 mm thick silicone release PET film for single-sided peeling. After irradiating and hardening an ultraviolet-ray from glass surface both sides, the plate-like hardened | cured material was obtained by performing the heat processing same as polishing sheet preparation. The obtained plate-like cured product was processed into a predetermined size by a diamond cutter to obtain a test piece for evaluation of an intermediate layer.
Moreover, the plate-like hardened | cured material was obtained by similarly performing with respect to the composition except an abrasive grain from the composition for three-dimensional element formation. The obtained plate-like cured product was processed into a predetermined size by a diamond cutter to obtain a test piece for evaluating a binder.
The Young's modulus of the intermediate layer and the Young's modulus of the binder were determined by the method described above using the interlayer evaluation test piece and the binder evaluation test piece. The results are shown in Table 1.

実施例Ａ−１〜Ａ−３と比較例Ｘ−１〜Ｘ−２とを比較すると、実施例Ａ−１〜Ａ−３では、十分なカット量（例えば、３０ｍｇ／分以上）を維持しつつ、Ｒａの小さい平滑面を形成することができた。また、実施例Ａ−４と比較例Ｘ−３とを比較すると、実施例Ａ−４では、カット量が低減したもののＲａが顕著に小さくなり、より凹凸の少ない平滑面を形成することができた。   When Example A-1 to A-3 and Comparative Example X-1 to X-2 are compared, in Example A-1 to A-3, a sufficient cut amount (for example, 30 mg / min or more) is maintained It was possible to form a smooth surface with small Ra. Moreover, when Example A-4 and Comparative Example X-3 are compared, in Example A-4, although the cut amount is reduced, Ra is significantly reduced, and a smooth surface with less unevenness can be formed. The

（実施例Ｂ−１）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−１）の調製＞
特定の多官能モノマーを含むアクリルモノマーを用い、立体要素形成用組成物（ｃ−１）を調製した。
具体的には、１００質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート（ＳＲ３６８、アルケマ社製）と、１．８質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）と、３質量部のシランカップリング剤（ＫＢＭ−５０３、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社製（東京都千代田区））と、２９３質量部のダイヤモンド砥粒（平均粒径１５μｍ）と、１７６質量部のプロピレングリコールメチルエーテルとを混合して、立体要素形成用組成物（ｃ−１）を調製した。 Example B-1
<Preparation of Composition (c-1) for Forming Three-Dimensional Element>
The composition for forming a steric element (c-1) was prepared using an acrylic monomer containing a specific polyfunctional monomer.
Specifically, 100 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (SR 368, manufactured by Arkema) and 1.8 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 369, manufactured by IGM Resins), 3 parts by mass of a silane coupling agent (KBM-503, 3- (methacryloyloxy) propyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (Chiyoda-ku, Tokyo)), and 293 parts by mass of diamond abrasive (average particle size 15 μm) and 176 parts by mass of propylene glycol methyl ether were mixed to prepare a steric element forming composition (c-1).

＜中間層形成用組成物（ｄ−１）＞
ウレタンアクリレートとしてＣＮ９９１（アルケマ社製）を用い、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、７８．４３質量部のＣＮ９９１と、１９．６１質量部のテトラヒドロフルフリルアクリレートと、１．９６質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）とを混合して、中間層形成用組成物（ｄ−１）を調製した。 <Composition for forming intermediate layer (d-1)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared using CN991 (manufactured by Arkema) as a urethane acrylate.
Specifically, 78.43 parts by mass of CN991, 19.61 parts by mass of tetrahydrofurfuryl acrylate, and 1.96 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 369, manufactured by IGM Resins) are mixed. The composition for intermediate layer formation (d-1) was prepared.

＜基材＞
基材として、ＰＥＴフィルム（厚さ７５μｍ、２５℃におけるヤング率は４×１０^９Ｐａ）を準備した。 <Base material>
A PET film (75 μm thick, Young's modulus at 25 ° C. is 4 × 10 ⁹ Pa) was prepared as a substrate.

（研磨シートの作製）
表面に図３（ａ）に示す立体形状に対応する凹部を有するポリプロピレン製賦形フィルムを準備した。賦形フィルム上に立体要素形成用組成物（ｃ−１）をバーコーターで塗布し、賦形フィルムの凹部に組成物（ｃ−１）を充填し、７５℃で３分間乾燥させた。
次に、賦形フィルム上に、中間層形成用組成物（ｄ−１）を塗布し、基材として厚さ７５μｍの透明ポリエステルフィルムを重ね、ロールで加圧して積層した。ポリエステルフィルムの側から紫外線を照射し、次いで、賦形フィルムを剥離し、７０℃で２４時間加熱することで、研磨シートを得た。 (Preparation of abrasive sheet)
A polypropylene shaped film having recesses on the surface corresponding to the three-dimensional shape shown in FIG. 3 (a) was prepared. The composition for forming a three-dimensional element (c-1) was applied on a shaped film by a bar coater, the recessed portion of the shaped film was filled with the composition (c-1), and dried at 75 ° C. for 3 minutes.
Next, the composition for intermediate layer formation (d-1) was apply | coated on the forming film, the 75-micrometer-thick transparent polyester film was overlap | superposed as a base material, and it pressurized by roll and laminated | stacked. An ultraviolet ray was irradiated from the side of the polyester film, and then the shaped film was peeled off and heated at 70 ° C. for 24 hours to obtain an abrasive sheet.

（実施例Ｂ−２）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−２）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、１００質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの混合物（ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−３１３、ジアクリレート体含有率３０〜４０質量％、東亞合成株式会社（東京都港区）製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−２）を調製した。 Example B-2
<Preparation of Composition (c-2) for Forming Three-Dimensional Element>
A mixture of 100 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (ARONIX M-313, Composition for forming a three-dimensional element (c-2) in the same manner as in Example B-1 except that a diacrylate body content of 30 to 40 mass% and Toagosei Co., Ltd. (Minato-ku, Tokyo) were used. Were prepared.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−２）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was replaced with the composition for forming a cubic element (c-2).

（実施例Ｂ−３）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−３）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、７０質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの混合物（ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−３１３、ジアクリレート体含有率３０〜４０質量％、東亞合成株式会社製）、並びに３０質量部のイソシアヌレート系トリアクリレート（ＮＫ ＥＳＴＥＲ Ａ９３００−１ＣＬ）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−３）を調製した。 Example B-3
<Preparation of Composition (c-3) for Forming Three-Dimensional Element>
A mixture of 70 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (ARONIX M-313, Same as Example B-1 except that a diacrylate body content of 30 to 40% by mass, manufactured by Toagosei Co., Ltd., and 30 parts by mass of isocyanurate triacrylate (NK ESTER A9300-1CL) were used. Thus, a steric component forming composition (c-3) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−３）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was used instead of the composition for forming a cubic element (c-1).

（実施例Ｂ−４）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−４）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、９０質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの混合物（ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−３１３、ジアクリレート体含有率３０〜４０質量％、東亞合成株式会社製）、並びに１０質量部のイソボルニルアクリレートを用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−４）を調製した。 Example B-4
<Preparation of Composition (c-4) for Forming Three-Dimensional Element>
A mixture of 90 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (ARONIX M-313, Composition for forming a steric element in the same manner as in Example B-1 except that a diacrylate body content of 30 to 40% by mass, manufactured by Toagosei Co., Ltd., and 10 parts by mass of isobornyl acrylate was used (C-4) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−４）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was replaced with the composition for forming a cubic element (c-4).

（実施例Ｂ−５）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−５）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、７０質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの混合物（ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−３１３（ジアクリレート体含有率３０−４０質量％）、東亞合成株式会社製）、並びに３０質量部のイソボルニルアクリレートを用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−５）を調製した。 Example B-5
<Preparation of Composition (c-5) for Forming Three-Dimensional Element>
A mixture of 70 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (ARONIX M-313 ( Composition for forming a steric element in the same manner as in Example B-1 except that a diacrylate body content of 30 to 40% by mass, Toagosei Co., Ltd., and 30 parts by mass of isobornyl acrylate were used. An article (c-5) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−５）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was replaced with the composition for forming a cubic element (c-5).

（実施例Ｂ−６）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−６）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、１００質量部のＳＲ３６８Ｄ（トリメチロールプロパントリアクリレート：トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート＝７０：３０（質量比）の混合物、アルケマ社製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−６）を調製した。 Example B-6
<Preparation of Composition (c-6) for Forming Three-Dimensional Element>
A mixture of 100 parts by weight of SR368D (trimethylolpropane triacrylate: tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate = 70: 30 (mass ratio), instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, Arkema The composition for forming a steric element (c-6) was prepared in the same manner as in Example B-1 except that the product manufactured by Co. was used.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−６）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was used instead of the composition for forming a cubic element (c-1).

（実施例Ｂ−７）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−７）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、４０質量部のトリメチロールプロパントリアクリレート（ＳＲ３５１、アルケマ社製）及び６０質量部の２−フェノキシエチルアクリレート（ＳＲ３３９、アルケマ社製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−７）を調製した。 Example B-7
<Preparation of Composition (c-7) for Forming Three-Dimensional Element>
Instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, 40 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (SR 351 manufactured by Arkema) and 60 parts by mass of 2-phenoxyethyl acrylate (SR 339 manufactured by Arkema) are used The composition for forming a steric element (c-7) was prepared in the same manner as Example B-1 except for the above.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−７）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was used instead of the composition for forming a cubic element (c-1).

（実施例Ｂ−８）
＜立体要素形成用組成物（ｃ−８）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、１００質量部のイソシアヌレート系トリアクリレート（ＮＫ ＥＳＴＥＲ Ａ９３００−１ＣＬ、新中村化学工業株式会社（和歌山県和歌山市）製）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして、立体要素形成用組成物（ｃ−８）を調製した。 Example B-8
<Preparation of Composition (c-8) for Forming Three-Dimensional Element>
Other than using 100 parts by mass of isocyanurate triacrylate (NK ESTER A93001CL, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. (Wakayama City, Wakayama)) in place of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate In the same manner as in Example B-1, a composition for forming a steric element (c-8) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−８）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a cubic element (c-1) was used instead of the composition for forming a cubic element (c-1).

（実施例Ｂ−９）
＜中間層形成用組成物（ｄ−２）＞
ウレタンアクリレートを用いずに、中間層形成用組成物を調製した。
具体的には、３６．５５質量部のイソボルニルアクリレートと、２１．６９質量部のトリメチロールプロパントリアクリレート（ＳＲ３５１Ｓ、アルケマ社製）と、３６．１５質量部のＹＤＣＮ−７００−１０と、１．６０質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）と、４．０１質量部のエポキシ樹脂硬化剤（２−エチル−４−メチルイミダゾール）とを混合して、中間層形成用組成物（ｄ−２）を調製した。 (Example B-9)
<Composition for forming intermediate layer (d-2)>
A composition for forming an intermediate layer was prepared without using urethane acrylate.
Specifically, 36.15 parts by mass of isobornyl acrylate, 21.69 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (SR351S, manufactured by Arkema), and 36.15 parts by mass of YDCN-700-10; 1.60 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 907, manufactured by IGM Resins) and 4.01 parts by mass of an epoxy resin curing agent (2-ethyl-4-methylimidazole) are mixed to form an intermediate layer Composition (d-2) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
表面に図３（ａ）に示す立体形状に対応する凹部を有するポリプロピレン製賦形フィルムを準備した。賦形フィルム上に立体要素形成用組成物（ｃ−３）をバーコーターで塗布し、賦形フィルムの凹部に組成物（ｃ−３）を充填し、７５℃で３分間乾燥させた。
次に、賦形フィルム上に、中間層形成用組成物（ｄ−２）を塗布し、基材として厚さ７５μｍの透明ポリエステルフィルムを重ね、ロールで加圧して積層した。ポリエステルフィルムの側から紫外線を照射した。次いで、７０℃で２４時間加熱することにより、研磨シートを得た。 <Preparation of abrasive sheet>
A polypropylene shaped film having recesses on the surface corresponding to the three-dimensional shape shown in FIG. 3 (a) was prepared. The composition for forming a three-dimensional element (c-3) was applied on a shaped film by a bar coater, the recessed portion of the shaped film was filled with the composition (c-3), and dried at 75 ° C. for 3 minutes.
Next, the composition for intermediate layer formation (d-2) was apply | coated on the forming film, the 75-micrometer-thick transparent polyester film was piled up as a base material, and it pressurized by roll and laminated | stacked. It irradiated ultraviolet rays from the side of the polyester film. Subsequently, the polishing sheet was obtained by heating at 70 degreeC for 24 hours.

（実施例Ｂ−１０）
＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−３）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−４）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−９と同様にして研磨シートを作製した。 Example B-10
<Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as in Example B-9, except that the composition for forming a three-dimensional element (c-4) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (c-3).

（実施例Ｂ−１１）
＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−３）に代えて立体要素形成用組成物（ｃ−５）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−９と同様にして研磨シートを作製した。 (Example B-11)
<Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-9 except that the composition for forming a cubic element (c-5) was used instead of the composition for forming a cubic element (c-3).

（研磨シートの評価（２））
実施例及び比較例で作製した研磨シートについて、以下の条件（２）で研磨試験を行い、３０秒間でのカット量及び研磨面の表面粗さＲａを求めた。結果を表３、表４及び表５に示す。
＜研磨試験の条件（２）＞
・被研磨物：硬度ＨＲＣ５５度に高周波焼き入れをしたＳ４５Ｃ
・被研磨物サイズ：１０ｍｍΦ×２００ｍｍ長さ
・研磨装置：スーパーフィニッシャ―（松田精機製）
・回転速度：８２５ｒｐｍ
・フィルム送り：なし
・オシレーション速度：１０００ｒｐｍ
・研削液：シムテック５００（ＣＩＭＣＯＯＬ ＦＬＵＩＤＳ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製）２％水溶液
・バックアップロール硬度：ショアＡ ３０°
・切りこみ量：４．２ｍｍ
・研磨時間：３０秒
・カット量：被研磨物の研磨試験後の重量減量をカット量とした。
・表面平均粗さＲａ：以下の装置・条件で測定した。
装置：株式会社ミツトヨ社製 ＳＵＲＦＴＥＳＴ ＳＶ−３１００Ｈ４
測定条件：ＪＩＳ Ｂ−０６０１：２００１（ＩＳＯ ４２８７：１９９７）準拠
カットオフ：０．８ｍｍ
評価長さ：４ｍｍ (Evaluation of abrasive sheet (2))
About the grinding | polishing sheet produced by the Example and the comparative example, the grinding | polishing test was done on condition of the following (2), and cut amount in 30 seconds and surface roughness Ra of the grinding | polishing surface were calculated | required. The results are shown in Tables 3, 4 and 5.
<Conditions of polishing test (2)>
· Abrasive: S45C induction hardened to hardness HRC 55 °
· Abrasive material size: 10 mm × × 200 mm length · Polishing device: Super finisher (made by Matsuda Seiki)
・ Rotation speed: 825 rpm
・ Film feed: None ・ Oscillation speed: 1000 rpm
Grinding fluid: Simtec 500 (manufactured by CIMCOOL FLUIDS TECHNOLOGY) 2% aqueous solution Backup roll hardness: Shore A 30 °
・ The cut amount: 4.2mm
Polishing time: 30 seconds Cut amount: The weight loss after the polishing test of the object to be polished was taken as the cut amount.
Surface Average Roughness Ra: Measured under the following device conditions.
Device: SURFTEST SV-3100H4 manufactured by Mitutoyo Corporation
Measurement conditions: JIS B-0601: 2001 (ISO 4287: 1997) compliant Cutoff: 0.8 mm
Evaluation length: 4 mm

（中間層及び結合材の評価（２））
中間層のヤング率、並びに結合材のヤング率及び圧縮降伏応力は、以下の評価用試験片を作成し、測定した。
一対の２ｍｍ厚みのガラス板２枚の間に０．５ｍｍ厚み片面剥離用シリコーン処理ＰＥＴフィルムを介して、中間層形成用組成物を２ｍｍのギャップを保持して挟み込んだ。ガラス面両側から紫外線を照射して硬化させた後、研磨シート作製と同じ加熱処理を行うことで、板状硬化物を得た。得られた板状硬化物を、ダイヤモンドカッターで所定のサイズに加工することで、中間層評価用試験片を得た。
また、立体要素形成用組成物から砥粒を除いた組成に対しても同様に行うことで、板状硬化物を得た。得られた板状硬化物を、ダイヤモンドカッターで所定のサイズに加工することで、結合材評価用試験片を得た。
中間層評価用試験片及び結合材評価用試験片を用いて、上述の方法で中間層のヤング率、並びに結合材のヤング率及び圧縮降伏応力を求めた。結果を表３、表４及び表５に示す。 (Evaluation of interlayer and binder (2))
The Young's modulus of the intermediate layer, and the Young's modulus and the compressive yield stress of the binder were prepared and measured for the following test specimens.
The composition for forming an intermediate layer was sandwiched by holding a 2 mm gap between a pair of 2 mm thick glass plates via a 0.5 mm thick silicone release PET film for single-sided peeling. After irradiating and hardening an ultraviolet-ray from glass surface both sides, the plate-like hardened | cured material was obtained by performing the heat processing same as polishing sheet preparation. The obtained plate-like cured product was processed into a predetermined size by a diamond cutter to obtain a test piece for evaluation of an intermediate layer.
Moreover, the plate-like hardened | cured material was obtained by similarly performing with respect to the composition except an abrasive grain from the composition for three-dimensional element formation. The obtained plate-like cured product was processed into a predetermined size by a diamond cutter to obtain a test piece for evaluating a binder.
Using the intermediate layer evaluation test piece and the bonding material evaluation test piece, the Young's modulus of the intermediate layer, and the Young's modulus and the compressive yield stress of the bonding material were determined by the method described above. The results are shown in Tables 3, 4 and 5.

なお、表３〜表５中、「モノマー（Ａ）量」は、立体要素形成用組成物における、アクリルモノマー全量に対するトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート又はトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの含有量（質量％）を示す。また、「圧縮降伏応力」は、各研磨シートにおける結合材の圧縮降伏応力（ＭＰａ）を示す。   In Tables 3 to 5, “the amount of monomer (A)” is tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate or tris (2-hydroxyethyl) isocyanate based on the total amount of acrylic monomers in the composition for forming a steric element The content (mass%) of the nurate diacrylate is shown. Moreover, "compression yield stress" shows the compression yield stress (MPa) of the bonding material in each polishing sheet.

実施例Ｂ−６〜Ｂ−８では、ヤング率が所定の範囲の中間層を用いることで、実施例Ｂ−９〜Ｂ−１１と比較してＲａのより小さい平滑面を形成することができた。また、実施例Ｂ−９〜Ｂ−１１では、特定の多官能モノマーを用いることで、実施例Ｂ−６〜Ｂ−８と比較して圧縮降伏応力の高い結合材が形成され、より高いカット量が実現された。そして、実施例Ｂ−１〜Ｂ−５では、ヤング率が所定の範囲の中間層を用い、且つ、特定の多官能モノマーを用いて立体要素を形成することで、高いカット率と小さいＲａとを両立することができた。   In Examples B-6 to B-8, a smooth surface having a smaller Ra compared to Examples B-9 to B-11 can be formed by using an intermediate layer having a Young's modulus in a predetermined range. The Moreover, in Examples B-9 to B-11, a binder having a high compressive yield stress is formed by using a specific polyfunctional monomer, and a cut is higher than that of Examples B-6 to B-8. The quantity was realized. And in Example B-1-B-5, a high cut rate and small Ra are obtained by using an intermediate | middle layer with a predetermined | prescribed range of Young's modulus, and forming a three-dimensional element using a specific polyfunctional monomer. I was able to

（実施例Ｃ−１）
＜立体要素形成用組成物（ｅ−１）の調製＞
特定の多官能モノマーを含むアクリルモノマーを用い、立体要素形成用組成物（ｅ−１）を調製した。
具体的には、１００質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート（ＳＲ３６８、アルケマ社製）と、１．８質量部の光重合開始剤（Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）と、４．４質量部のシランカップリング剤（ＫＢＭ−５０３、３−（メタクリロイルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、信越化学工業株式会社）と、４４３質量部のアルミナ砥粒（ＷＡ＃８００、フジミインコーポレーテッド株式会社（愛知県清須市）製）と、１７６質量部のプロピレングリコールメチルエーテルとを混合して、立体要素形成用組成物（ｅ−１）を調製した。 Example C-1
<Preparation of Composition (e-1) for Forming Three-Dimensional Element>
The composition for forming a steric element (e-1) was prepared using an acrylic monomer containing a specific polyfunctional monomer.
Specifically, 100 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (SR 368, manufactured by Arkema) and 1.8 parts by mass of a photopolymerization initiator (Omnirad 369, manufactured by IGM Resins), 4.4 parts by mass of a silane coupling agent (KBM-503, 3- (methacryloyloxy) propyltrimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and 443 parts by mass of alumina abrasive grains (WA # 800, Fujimi Incorporated Co., Ltd.) A company (manufactured by Kiyosu City, Aichi Prefecture) and 176 parts by mass of propylene glycol methyl ether were mixed to prepare a composition for forming a steric element (e-1).

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｃ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｅ−１）を用いたこと以外は、実施例Ｂ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
A polishing sheet was produced in the same manner as Example B-1, except that the composition for forming a three-dimensional element (e-1) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (c-1).

（実施例Ｃ−２）
＜立体要素形成用組成物（ｅ−２）の調製＞
フィラーとして１００質量部の重質炭酸カルシウムフィラー（エスカロン＃８００、三共精粉株式会社（岡山県新見市）製）を更に混合したこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして立体要素形成用組成物（ｅ−２）を調製した。 Example C-2
Preparation of Composition for Forming Three-Dimensional Element (e-2)
A three-dimensional element was formed in the same manner as in Example C-1, except that 100 parts by mass of a heavy calcium carbonate filler (Escalon # 800, manufactured by Sankyo Seimitsu Co., Ltd. (Niomi-shi, Okayama)) was further mixed as a filler. Composition (e-2) was prepared.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｅ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｅ−２）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
An abrasive sheet was produced in the same manner as Example C-1, except that the composition for forming a three-dimensional element (e-2) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (e-1).

（実施例Ｃ−３）
＜立体要素形成用組成物（ｅ−３）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、１００質量部のトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの混合物（ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−３１３、ジアクリレート体含有率３０〜４０質量％、東亞合成株式会社製）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして立体要素形成用組成物（ｅ−３）を調製した。 Example C-3
<Preparation of Composition (e-3) for Forming Three-Dimensional Element>
A mixture of 100 parts by mass of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (ARONIX M-313, A composition for forming a steric element (e-3) was prepared in the same manner as in Example C-1 except that a diacrylate body content of 30 to 40% by mass, manufactured by Toagosei Co., Ltd. was used.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｅ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｅ−３）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
An abrasive sheet was produced in the same manner as in Example C-1, except that the composition for forming a three-dimensional element (e-3) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (e-1).

（実施例Ｃ−４）
＜立体要素形成用組成物（ｅ−４）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、１００質量部のＳＲ３６８Ｄ（トリメチロールプロパントリアクリレート：トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート＝７０：３０（質量比）の混合物、アルケマ社製）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして立体要素形成用組成物（ｅ−４）を調製した。 Example C-4
Preparation of Composition for Forming Three-Dimensional Element (e-4)
A mixture of 100 parts by weight of SR368D (trimethylolpropane triacrylate: tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate = 70: 30 (mass ratio), instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, Arkema A composition for forming a steric element (e-4) was prepared in the same manner as in Example C-1 except that a commercial product) was used.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｅ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｅ−４）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
An abrasive sheet was produced in the same manner as in Example C-1, except that the composition for forming a three-dimensional element (e-4) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (e-1).

（実施例Ｃ−５）
＜立体要素形成用組成物（ｅ−５）の調製＞
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートに代えて、４０質量部のトリメチロールプロパントリアクリレート（ＳＲ３５１、アルケマ社製）及び６０質量部の２−フェノキシエチルアクリレート（ＳＲ３３９、アルケマ社製）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして立体要素形成用組成物（ｅ−５）を調製した。 (Example C-5)
<Preparation of Composition (e-5) for Forming Three-Dimensional Element>
Instead of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, 40 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (SR 351 manufactured by Arkema) and 60 parts by mass of 2-phenoxyethyl acrylate (SR 339 manufactured by Arkema) are used The composition for forming a steric element (e-5) was prepared in the same manner as Example C-1 except for the above.

＜研磨シートの作製＞
立体要素形成用組成物（ｅ−１）に代えて立体要素形成用組成物（ｅ−５）を用いたこと以外は、実施例Ｃ−１と同様にして研磨シートを作製した。 <Preparation of abrasive sheet>
An abrasive sheet was produced in the same manner as in Example C-1, except that the composition for forming a three-dimensional element (e-5) was used instead of the composition for forming a three-dimensional element (e-1).

実施例及び比較例で作製した研磨シートについて、上述の研磨シートの評価（２）と同じ方法で３０秒間でのカット量及び研磨面の表面粗さＲａを求めた。結果を表６に示す。   The cut amount in 30 seconds and the surface roughness Ra of the abraded surface were determined in the same manner as in the evaluation (2) of the above-mentioned abrasive sheet for the abrasive sheets produced in the examples and comparative examples. The results are shown in Table 6.

また、上述の中間層及び結合材の評価（２）と同じ方法で評価用試験片を作成し、中間層のヤング率、並びに結合材のヤング率及び圧縮降伏応力を求めた。結果を表６に示す。   Moreover, the test piece for evaluation was created by the same method as evaluation (2) of the above-mentioned intermediate | middle layer and a binder, and the Young's modulus of an intermediate | middle layer, and the Young's modulus and compressive yield stress of a binder were calculated | required. The results are shown in Table 6.

なお、表６中、「モノマー（Ａ）量」は、立体要素形成用組成物における、アクリルモノマー全量に対するトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート又はトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートの含有量（質量％）を示す。また、「圧縮降伏応力」は、各研磨シートにおける結合材の圧縮降伏応力（ＭＰａ）を示す。   In Table 6, “monomer (A) amount” refers to tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate or tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate relative to the total amount of acrylic monomers in the composition for forming a steric element The content (mass%) of Moreover, "compression yield stress" shows the compression yield stress (MPa) of the bonding material in each polishing sheet.

実施Ｃ−１〜Ｃ−５では、アルミナ砥粒を用いてＲａの小さい平滑面を形成することができた。また、特に実施例Ｃ−１〜Ｃ−３では、特定の多官能モノマーを用いることで、実施例Ｃ−４〜Ｃ−５と比較して圧縮降伏応力の高い結合材が形成され、より高いカット量が実現された。   In Examples C-1 to C-5, alumina abrasive grains were used to form a smooth surface having a small Ra. In addition, in particular, in Examples C-1 to C-3, by using a specific polyfunctional monomer, a binder having a high compressive yield stress is formed as compared with Examples C-4 to C-5, which is higher. The cut amount was realized.

１０，２０…研磨シート、１１，２１…基材、１２，２２…立体要素、１３，２３…中間層、１２１，１２２，１２３，１２３…立体部。   10, 20 ... polishing sheet, 11, 21 ... base material, 12, 22 ... three-dimensional element, 13, 23 ... middle layer, 121, 122, 123, 123 ... three-dimensional part.

Claims (9)

基材と、
砥粒及び結合材を含有する複数の立体要素と、
前記立体要素と前記基材との間に設けられ、前記基材と前記立体要素とを接合する中間層と、
を含み、
前記基材の２５℃におけるヤング率が３．０×１０^９Ｐａ以上であり、
前記中間層の２５℃におけるヤング率が１．０×１０^７Ｐａ以上５．０×１０^８Ｐａ以下である、研磨シート。 A substrate,
A plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binder;
An intermediate layer provided between the three-dimensional element and the substrate and joining the substrate and the three-dimensional element;
Including
The Young's modulus at 25 ° C. of the substrate is 3.0 × 10 ⁹ Pa or more,
The polishing sheet whose Young's modulus at 25 degrees C of the said intermediate | middle layer is 1.0 * 10 < ⁷ > Pa or more and 5.0 * 10 < ⁸ > Pa or less. 前記結合材の２５℃におけるヤング率が１．０×１０^９Ｐａ以上である、請求項１に記載の研磨シート。 The abrasive sheet according to claim 1, wherein a Young's modulus at 25 ° C. of the binder is 1.0 × 10 ⁹ Pa or more. 前記結合材が、
アクリルモノマーを含有する樹脂組成物の硬化物を含み、
前記アクリルモノマーの６０質量％以上が、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートからなる群より選択される多官能モノマーである、請求項１又は２に記載の研磨シート。 The binder is
A cured product of a resin composition containing an acrylic monomer,
4. The multifunctional monomer selected from the group consisting of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate in an amount of 60% by mass or more of the acrylic monomer. The abrasive sheet as described in 2. 前記基材の破断伸びが、２００％以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の研磨シート。   The abrasive sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the breaking elongation of the substrate is 200% or less. 前記基材が、樹脂フィルム及び金属フィルムからなる群より選択される少なくとも一つを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨シート。   The abrasive sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate comprises at least one selected from the group consisting of a resin film and a metal film. 前記中間層が、ウレタンアクリレートを含む樹脂組成物の硬化物を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の研磨シート。   The abrasive sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the intermediate layer contains a cured product of a resin composition containing urethane acrylate. 前記結合材が、フェノール樹脂を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の研磨シート。   The abrasive sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein the binder contains a phenol resin. 基材と、
砥粒及び結合材を含有する複数の立体要素と、
前記立体要素と前記基材との間に設けられ、前記基材と前記立体要素とを接合する中間層と、
を含み、
前記結合材が、アクリルモノマーを含有する樹脂組成物の硬化物を含み、
前記アクリルモノマーの６０質量％以上が、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジアクリレートからなる群より選択される多官能モノマーである、研磨シート。 A substrate,
A plurality of three-dimensional elements containing abrasive grains and a binder;
An intermediate layer provided between the three-dimensional element and the substrate and joining the substrate and the three-dimensional element;
Including
The binder includes a cured product of a resin composition containing an acrylic monomer,
The polishing sheet whose 60 mass% or more of the said acrylic monomer is a polyfunctional monomer selected from the group which consists of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate diacrylate. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の研磨シートを用いた研磨方法であって、
前記研磨シートを１．０×１０^６Ｐａ以上の荷重で研磨対象物に押し付けて、前記研磨シートと前記研磨対象物とを摺動させる工程を含む、研磨方法。
It is a grinding | polishing method using the grinding | polishing sheet as described in any one of Claims 1-8, Comprising:
A polishing method comprising the step of pressing the polishing sheet against an object to be polished with a load of 1.0 × 10 ⁶ Pa or more to slide the polishing sheet and the object to be polished.

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