JP2019084058A - Polishing pad - Google Patents

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市川　正明
Masaaki Ichikawa
正明 市川
祥一 増田
Shoichi Masuda
祥一 増田
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Abstract

To provide a polishing pad that is deformable with a smaller force.SOLUTION: A polishing pad includes a substrate made of non-woven fabric. The substrate has a flat-plate shape extending in a first direction perpendicular to a thickness direction and in a second direction perpendicular to both the thickness direction and the first direction. The substrate is divided into a plurality of blocks arranged in the second direction and extending in the first direction. A boundary portion extending in the first direction is formed between each pair of the blocks, and a plurality of slits are formed in the boundary portion. The slits are formed through the substrate in the thickness direction and extend in the first direction. The slits in the boundary portion are spaced in the first direction. A pair of the blocks that are next to each other in the second direction are connected to each other by a connection portion formed between the slits.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、研磨パッドに関する。   The present invention relates to a polishing pad.

従来、不織布で構成される基材を備える研磨パッドが知られている。例えば、特許文献１の研磨パッドは、対象物に付着した汚れを除去するために、対象物のすり磨きを行うのに用いられる。   DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the polishing pad provided with the base material comprised with a nonwoven fabric is known. For example, the polishing pad of Patent Document 1 is used to polish an object to remove dirt attached to the object.

特開２０１１−１８９１８９号公報JP, 2011-189189, A

ここで、作業者が研磨パッドを用いて清掃を行う時に、対象物の形状に合わせて、研磨パッドを曲げる場合がある。作業者は、研磨パッドを曲げた状態を維持しながら、対象物のすり磨きを行う。このような研磨パッドでは、作業者が研磨パッドを曲げる際に、曲げるために研磨パッドに力を付与する必要がある。従って、作業の容易性の観点から、研磨パッドを曲げるために必要な力を低減することが要請されていた。   Here, when the operator performs cleaning using the polishing pad, the polishing pad may be bent in accordance with the shape of the object. The operator polishes the object while keeping the polishing pad bent. In such a polishing pad, when an operator bends the polishing pad, it is necessary to apply a force to the polishing pad to bend. Therefore, from the viewpoint of ease of operation, it has been required to reduce the force required to bend the polishing pad.

本発明の一形態に係る研磨パッドは、不織布で構成される基材を備える研磨パッドであって、基材は、厚み方向と直交する第１の方向と、厚み方向及び第１の方向と直交する第２の方向と、に広がる平板状の形状をなし、基材は、第１の方向に延びると共に第２の方向に配列された複数のブロックに区画され、一対のブロック同士の間には、第１の方向に延びる境界部が形成され、境界部には、基材を厚み方向に貫通し、且つ第１の方向に延びる複数のスリットが形成され、境界部において、複数のスリットは、第１の方向に互いに離間して配置され、第２の方向に隣り合う一対のブロック同士は、スリット間に形成された接続部にて互いに接続されている。   A polishing pad according to an aspect of the present invention is a polishing pad comprising a base material composed of a non-woven fabric, wherein the base material is orthogonal to a first direction orthogonal to the thickness direction and to the thickness direction and the first direction. And the base material is divided into a plurality of blocks extending in the first direction and arranged in the second direction, and between the pair of blocks And a boundary portion extending in the first direction is formed, and the boundary portion includes a plurality of slits penetrating the base material in the thickness direction and extending in the first direction, and the plurality of slits is formed at the boundary portion. A pair of blocks which are disposed apart from each other in the first direction and are adjacent to each other in the second direction are connected to each other at a connection portion formed between the slits.

本発明によれば、曲げるために必要な力を低減することができる研磨パッドを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a polishing pad capable of reducing the force required to bend.

図１は、実施形態に係る研磨パッドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a polishing pad according to an embodiment. 図２（ａ）は、研磨パッドをＸ軸方向から見た図であり、図２（ｂ）は、研磨パッドを曲げた時にＸ軸方向から見た図である。FIG. 2A is a view of the polishing pad as viewed from the X-axis direction, and FIG. 2B is a view as viewed from the X-axis direction when the polishing pad is bent. 図３は、研磨パッドを曲げた時のスリットの状態を厚み方向から見たときの様子を示す図である。FIG. 3 is a view showing a state of the slit when the polishing pad is bent as viewed from the thickness direction. 図４は、一つあたりのブロックのＹ軸方向における寸法を決定するためのモデルを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a model for determining the dimension in the Y-axis direction of one block. 図５（ａ）は、比較例に係る研磨パッドを厚み方向から見た図であり、図５（ｂ）は、比較例に係る研磨パッドをＸ軸方向から見た図であり、図５（ｃ）は、比較例に係る研磨パッドを曲げた時にＸ軸方向から見た図である。FIG. 5A is a view of the polishing pad according to the comparative example as viewed from the thickness direction, and FIG. 5B is a view of the polishing pad according to the comparative example as viewed from the X-axis direction. c) is a view seen from the X-axis direction when the polishing pad according to the comparative example is bent. 図６（ａ），（ｂ）は、変形例に係る研磨パッドを厚み方向から見た図である。6 (a) and 6 (b) are views of a polishing pad according to a modification as viewed from the thickness direction.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一又は相当要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, the same or corresponding elements are denoted by the same reference numerals and redundant description will be omitted.

図１を参照して、本発明の実施形態に係る研磨パッド１について説明する。図１は、研磨パッドの斜視図である。図１に示すように、研磨パッド１は、基材２を備える。なお、本実施形態では、基材２の厚み方向と直交する方向をＸ軸方向（第１の方向）とし、厚み方向及びＸ軸と直交する方向をＹ軸方向（第２の方向）とする。基材２は、Ｘ軸方向とＹ軸方向と、に広がる平板状をなす。基材２は、厚み方向に対向する主面２ｃ，２ｄを有している。なお、図１においては、基材２はＸ軸方向に長辺を有し、Ｙ軸方向に短辺を有する。ただし、基材２の形状は特に限定されず、Ｘ軸方向の辺とＹ軸方向の辺の長さの比率は適宜変更されてよい。研磨パッド１のサイズは、作業者が手の平で保持しながら作業を行えるサイズであってよく、例えば、厚みは２０〜４０ｍｍ、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の寸法は１００〜１５０ｍｍであってよい。   A polishing pad 1 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a perspective view of a polishing pad. As shown in FIG. 1, the polishing pad 1 includes a substrate 2. In the present embodiment, a direction orthogonal to the thickness direction of the substrate 2 is taken as an X-axis direction (first direction), and a direction orthogonal to the thickness direction and the X-axis is taken as a Y-axis direction (second direction). . The base 2 has a flat plate shape that extends in the X-axis direction and the Y-axis direction. The base material 2 has main surfaces 2c and 2d opposed in the thickness direction. In FIG. 1, the base material 2 has a long side in the X-axis direction and a short side in the Y-axis direction. However, the shape of the base material 2 is not particularly limited, and the ratio of the sides in the X-axis direction and the sides in the Y-axis direction may be appropriately changed. The size of the polishing pad 1 may be such that an operator can carry out work while holding it with a palm. For example, the thickness may be 20 to 40 mm, and the dimensions in the X axis direction and the Y axis direction may be 100 to 150 mm.

まず、基材２として、水溶性バインダーを用いたタイプのものを採用した場合について、例示する。基材２は不織布で構成される。不織布には、研磨粒子を保持するための研磨コーティングがなされている。研磨清掃物品において使用するのに適している不織ウェブは、限定されないが、エアレイド、カーディング、ステッチボンド、スパンボンド、ウェットレイド、メルトブロー構造で構成される。研磨清掃物品での使用に適している繊維としては、天然および合成繊維、およびその混合物が挙げられる。ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート）、ナイロン（例えば、ヘキサメチレンアジポアミド、ポリカプロラクタム）、ポリプロピレン、アクリル（アクリロニトリルのポリマーから形成される）、レーヨン、酢酸セルロース、ポリ塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリマー、塩化ビニル−アクリロニトリルコポリマー等で構成される繊維などの合成繊維が好ましい。適切な天然繊維としては、綿、羊毛、ジュート、および麻の繊維が挙げられる。使用される繊維は、未使用繊維、または例えば、衣料品の切断、カーペットの製造、繊維の製造、または紡織繊維の加工から再生された屑繊維であることができる。繊維材料は、均一繊維または複合繊維などのコンポジット繊維（例えば、コスパンのシース・コア繊維（ｃｏ−ｓｐｕｎ ｓｈｅａｔｈ−ｃｏｒｅ ｆｉｂｅｒ））であることができる。ウェブの異なる部分（例えば、第１ウェブ部分、第２ウェブ部分、および中間ウェブ部分）に異なる繊維を含む物品を提供することもまた、本発明の範囲内である。ウェブの繊維は好ましくは、引き伸ばされ、けん縮されるが、押出し成形プロセスによって形成される連続フィラメント、ならびに連続繊維であることもできる。   First, the case where a type using a water-soluble binder is adopted as the substrate 2 will be exemplified. The base 2 is made of non-woven fabric. The non-woven fabric is provided with an abrasive coating for retaining abrasive particles. Nonwoven webs suitable for use in abrasive cleaning articles include, but are not limited to, air laid, carded, stitch bonded, spunbonded, wet laid, meltblown structures. Fibers suitable for use in abrasive cleaning articles include natural and synthetic fibers, and mixtures thereof. Polyester (eg, polyethylene terephthalate), nylon (eg, hexamethylene adipamide, polycaprolactam), polypropylene, acrylic (formed from a polymer of acrylonitrile), rayon, cellulose acetate, polyvinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride Synthetic fibers such as fibers composed of acrylonitrile copolymer etc. are preferred. Suitable natural fibers include cotton, wool, jute and hemp fibers. The fibers used can be virgin fibers or scrap fibers regenerated, for example, from the cutting of articles of clothing, the production of carpets, the production of fibers, or the processing of textile fibers. The fibrous material can be a composite fiber, such as a uniform fiber or a bicomponent fiber (e.g., co-spun sheath-core fiber). It is also within the scope of the present invention to provide articles comprising different fibers in different parts of the web (e.g. the first web part, the second web part and the intermediate web part). The fibers of the web are preferably drawn and crimped, but can also be continuous filaments formed by an extrusion process, as well as continuous fibers.

研磨コーティングは、基材２に研磨粒子を保持し、かつ固定するものである。研磨コーティングは、水溶性バインダーを含有する。研磨パッド１の使用時に溶媒にさらされるまで、水溶性バインダーは、基材２の不織布に研磨粒子を保持かつ固定するために固化されている。溶媒は、清掃の際に用いられるものであり、水溶性バインダーを溶解し始め、研磨粒子を研磨パッド１から剥離させる。水溶性バインダーは、オリゴマーまたはポリマーであることができ、コポリマーおよびそのブレンドを含む。水溶性バインダーとして使用するのに適している、ポリマーおよびコポリマーの非制限的な例としては、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン／酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースデンプン、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、セルロースエーテルポリマー、ポリエチルオキサゾリン、ポリエチレンオキシドのエステル、ポリエチレンオキシドのエステルとポリプロピレンオキシドとのコポリマー、ポリエチレンオキシドのウレタン、およびポリエチレンオキシドのウレタンとポリプロピレンオキシドとのコポリマーが挙げられる。   The abrasive coating holds and fixes the abrasive particles to the substrate 2. The abrasive coating contains a water soluble binder. The water soluble binder is solidified to hold and fix the abrasive particles to the nonwoven fabric of the substrate 2 until exposed to the solvent at the time of use of the polishing pad 1. The solvent is used at the time of cleaning and starts dissolving the water-soluble binder and causes the abrasive particles to peel off the polishing pad 1. The water soluble binder can be an oligomer or a polymer, including copolymers and blends thereof. Non-limiting examples of polymers and copolymers suitable for use as water soluble binders are polyethylene glycol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose starch, polyethylene oxide , Polyacrylamide, polyacrylic acid, cellulose ether polymer, polyethyl oxazoline, ester of polyethylene oxide, copolymer of ester of polyethylene oxide with polypropylene oxide, urethane of polyethylene oxide, and copolymer of urethane of polyethylene oxide with polypropylene oxide Be

水溶性バインダーは、界面活性剤であることができる。さらに、水溶性バインダーは、そのうちの１つが界面活性剤であり得る、種々の水溶性バインダーの組み合わせを含み得る。また、水溶性バインダーは、種々の界面活性剤の組み合わせを含み得る。   The water soluble binder can be a surfactant. In addition, the water soluble binder may comprise a combination of various water soluble binders, one of which may be a surfactant. Also, the water soluble binder can comprise a combination of various surfactants.

本発明において有用な界面活性剤は、水に容易に溶解する界面活性剤である。さらに、界面活性剤は、通常の家庭の清掃用途において優れた起泡性、清掃、油落ち特性を提供し、清掃する表面から着色汚れ、グリース、油、汚れ、垢および堆積物を除去するのに役立つ。   Surfactants useful in the present invention are surfactants that are readily soluble in water. In addition, surfactants provide excellent lathering, cleaning, and oiling properties in normal household cleaning applications and remove stains, greases, oils, dirt, grime and deposits from surfaces to be cleaned. To help.

本発明の研磨清掃物品で使用される界面活性剤としては、１種または複数種のアニオン性、カチオン性、非イオン性、両性界面活性剤、ならびにかかる界面活性剤の組み合わせが挙げられる。界面活性剤は、使用者の皮膚に優しく、非毒性であることが望まれる。１種または複数種のアニオン性、カチオン性、非イオン性、および／または両性界面活性剤のブレンドにおいて、より高い濃度のアニオン界面活性剤が、泡立ちおよび洗浄力の向上のために望ましいことは本発明の範囲内である。   Surfactants used in the abrasive cleaning articles of the present invention include one or more anionic, cationic, nonionic, amphoteric surfactants, as well as combinations of such surfactants. Surfactants are desired to be gentle and non-toxic to the skin of the user. In blends of one or more anionic, cationic, nonionic, and / or amphoteric surfactants, it is desirable that higher concentrations of anionic surfactants be desirable for improved foaming and detergency. Within the scope of the invention.

研磨粒子は、水溶性バインダーによって基材２の不織布に剥離可能に固定される。本発明による物品の製造に使用される研磨粒子は、公知のあらゆる研磨材、ならびにかかる材料の組み合わせおよび凝集物を含む。柔らかい研磨材としては、限定されないが、フリント、シリカ、軽石、および炭酸カルシウムなどの無機材料、ならびにポリエステル、ポリ塩化ビニル、メタクリレート、メチルメタクリレート、ポリカーボネート、およびポリスチレンなどの有機ポリマー材料、ならびに上記の材料のいずれかの組み合わせが挙げられる。硬い研磨材としては、限定されないが、酸化アルミニウム、熱処理酸化アルミニウムおよび白色酸化アルミニウムなどの酸化アルミニウム、ならびに炭化ケイ素、アルミナジルコニア、ダイヤモンド、セリア、立方晶窒化ホウ素、ざくろ石、および上記の組み合わせが挙げられる。   The abrasive particles are releasably fixed to the nonwoven fabric of the substrate 2 by a water soluble binder. The abrasive particles used in the manufacture of the article according to the invention include all known abrasives, as well as combinations and agglomerates of such materials. Soft abrasives include, but are not limited to, inorganic materials such as flint, silica, pumice, and calcium carbonate, and organic polymer materials such as polyester, polyvinyl chloride, methacrylate, methyl methacrylate, polycarbonate, and polystyrene, and the above materials And any combination of Hard abrasives include, but are not limited to, aluminum oxide, aluminum oxides such as heat treated aluminum oxide and white aluminum oxide, and silicon carbide, alumina zirconia, diamond, ceria, cubic boron nitride, garnet, and combinations of the above. Be

水溶性バインダーおよび研磨粒子に加えて、研磨コーティングは、着色剤、香料、芳香油、保存剤、湿潤剤、消泡剤、カップリング剤、懸濁化剤、顔料、および抗菌性添加剤も含有し得る。これらの更なる成分は、当技術分野でよく知られている。   In addition to the water soluble binder and abrasive particles, the abrasive coating also contains colorants, perfumes, aromatic oils, preservatives, wetting agents, antifoaming agents, coupling agents, suspending agents, pigments, and antimicrobial additives It can. These additional ingredients are well known in the art.

次に、基材２として、熱硬化性接着剤をバインダーとして用いたタイプのものを採用した場合について例示する。好ましい不織布は、ポリアミド（例えば、ポリカプロラクタムやポリヘキサメチルアジパミドから構成されるナイロン６及びナイロン６，６）、ポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン及びポリエチレン）、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート）、及びポリカーボネートのような熱可塑性有機繊維から構成されたものである。ナイロン及びポリエステル繊維から構成された不織布が一般に使用される。   Next, the case where the thing of the type which used the thermosetting adhesive as a binder as a base material 2 is employ | adopted is illustrated. Preferred nonwovens are polyamides (for example nylon 6 and nylon 6, 6 composed of polycaprolactam and polyhexamethyl adipamide), polyolefins (for example polypropylene and polyethylene), polyesters (for example polyethylene terephthalate) and polycarbonates. It consists of such thermoplastic organic fiber. Nonwovens composed of nylon and polyester fibers are commonly used.

繊維の太さは、一般に直径１９〜２５０μｍ程度である。不織布の厚さは一般に２〜５０ｍｍ程度である。配列された繊維は、交差、接触点が摩擦力、接着力等によって互いに結合されている。繊維同士の接着は繊維自体が溶融することで行われてよく、別途接着剤を用いて行われてもよい。   The thickness of the fibers is generally about 19 to 250 μm in diameter. The thickness of the non-woven fabric is generally about 2 to 50 mm. The arranged fibers are connected to one another by intersections, contact points by friction, adhesion and the like. The bonding of the fibers may be performed by melting the fibers themselves, or may be performed separately using an adhesive.

接着剤は、不織布の繊維同士又は不織布の繊維と研磨粒子とを結合させるために用いる。不織布の繊維同士を結合させる接着剤は、不織布の繊維と研磨粒子とを結合させる接着剤と異なるものでもよいし、同じものでもよい。同じ接着剤を用いる場合は、製法上、不織布の繊維同士の結合と、不織布の繊維と研磨粒子との結合を同時に行ってもよい。   The adhesive is used to bond the non-woven fibers to each other or the non-woven fibers and the abrasive particles. The adhesive for bonding the fibers of the non-woven fabric may be different from or the same as the adhesive for bonding the fibers of the non-woven fabric and the abrasive particles. When the same adhesive is used, bonding of non-woven fibers to each other and bonding of non-woven fibers and abrasive particles may be simultaneously performed in the production process.

不織布の繊維同士を結合させる第１接着剤は、熱硬化性接着剤の例としてエポキシ、メラミン、フェノール、イソシアネート及びイソシアヌレート樹脂の水性懸濁液及び有機溶剤溶液、あるいはＳＢＲ、ＳＢＳ、ＳＩＳなどのゴム系ポリマー溶液又は懸濁液を使用することも出来る。これらは浸漬コーティング法、ロールコーティング法、及びスプレーコーティング法等によって繊維に塗布し、硬化させて不織布とする。   The first adhesive for bonding the fibers of the non-woven fabric is, for example, an aqueous suspension of an epoxy, melamine, phenol, isocyanate and isocyanurate resin and an organic solvent solution as an example of a thermosetting adhesive, or an SBR, SBS, SIS, etc. Rubber-based polymer solutions or suspensions can also be used. These are applied to fibers by a dip coating method, a roll coating method, a spray coating method or the like and cured to form a non-woven fabric.

基材２の製造方法は特に限定されない。例えば、繊維のシートを複数積層させて積層体とした後、当該積層体を接着剤で固めることで基材２としてよい。あるいは、繊維を押し出して集合させた後に固めて型で抜くことで基材２としてもよい。   The method for producing the substrate 2 is not particularly limited. For example, after a plurality of sheets of fibers are laminated to form a laminate, the laminate may be solidified with an adhesive to form the base 2. Alternatively, the base material 2 may be obtained by extruding and collecting fibers, and then solidifying and demolding.

基材２は、Ｘ軸方向に延びると共にＹ軸方向に配列された複数のブロック３に区画される。ブロック３は、基材２のＸ軸方向における一方の端部２ａと他方の端部２ｂとの間において、後述のＸ軸方向に延びるスリット６が存在しない領域である。ブロック３は、基材２において、端部２ａと端部２ｂとの間で帯状に延びる。基材２を曲げた時には、ブロック３は、主に対象物と接触して、当該対象物の表面を研磨する領域となる。ブロック３は、Ｙ軸方向に所定のピッチで区画される。ブロック３のピッチの設定方法については、後述する。   The substrate 2 is divided into a plurality of blocks 3 extending in the X-axis direction and arranged in the Y-axis direction. The block 3 is a region where there is no slit 6 extending in the X-axis direction described later between one end 2a and the other end 2b in the X-axis direction of the base material 2. The block 3 extends in a strip shape between the end 2 a and the end 2 b in the base material 2. When the base material 2 is bent, the block 3 mainly comes in contact with the object and becomes an area for polishing the surface of the object. The blocks 3 are partitioned at a predetermined pitch in the Y-axis direction. The setting method of the pitch of the block 3 will be described later.

一対のブロック３同士の間には、Ｘ軸方向に延びる境界部４が形成される。境界部４には、基材２を厚み方向に貫通し、且つＸ軸方向に延びる複数のスリット６が形成される。スリット６は、主面２ｃから厚み方向へ延び、主面２ｄまで及んでいる。スリット６は、ベース部材に複数の板状の刃部が立設した工具を準備し、基材２を当該工具に押し付けて刃部で基材２を貫通させることで形成される。境界部４において、複数のスリット６は、Ｘ軸方向に互いに離間して配置される。このスリット６とスリット６とが離間した位置は、ブロック３同士を接続する接続部７として機能する。従って、Ｙ軸方向に隣り合う一対のブロック３同士は、スリット６間に形成された接続部７にて互いに接続されている。   A boundary 4 extending in the X-axis direction is formed between the pair of blocks 3. The boundary portion 4 is formed with a plurality of slits 6 penetrating the base 2 in the thickness direction and extending in the X-axis direction. The slits 6 extend from the main surface 2c in the thickness direction and extend to the main surface 2d. The slit 6 is formed by preparing a tool in which a plurality of plate-like blade portions are erected on the base member, pressing the base material 2 against the tool to penetrate the base material 2 with the blade portion. In the boundary portion 4, the plurality of slits 6 are disposed apart from each other in the X-axis direction. The position where the slit 6 and the slit 6 are separated functions as a connecting portion 7 which connects the blocks 3 with each other. Therefore, the pair of blocks 3 adjacent to each other in the Y-axis direction are connected to each other at the connection portion 7 formed between the slits 6.

図１においては、一部の境界部４に対して仮想線を付している。境界部４は、Ｘ軸方向に真っ直ぐに延びる直線をなしている。境界部４中には、複数のスリット６と複数の接続部７とが、交互に配置されている。すなわち、「境界部」は、厚み方向から見てスリット６と重なり、端部２ａ、２ｂまで延長させた仮想線を設定した場合、当該仮想線に該当する。このように、境界部４は、一のブロック３と他のブロック３とを仮想的に区切る仮想線である。「スリット」は、基材２に形成された切れ込みの事である。基材２が定常状態にあるとき（図１に示す状態）は、主面２ｃにおけるスリットの縁部６ａ，６ｂ（図２及び図３参照）は互いに接触または近接した状態にある。各ブロック３をＹ軸方向に広げるような力を付与したとき、主面２ｃにおけるスリット６の縁部６ａ，６ｂは、互いに離間するように広がる。「接続部」は、境界部４の仮想線上のうち、スリット６が形成されていない部分に該当する。接続部７は、各ブロック３をＹ軸方向に広がるような力を付与したとき、スリット６のように開口が広がることなく、隣り合うブロック３同士が離れないように固定した部分である。   In FIG. 1, imaginary lines are attached to some of the boundaries 4. The boundary 4 has a straight line extending straight in the X-axis direction. In the boundary portion 4, the plurality of slits 6 and the plurality of connection portions 7 are alternately arranged. That is, the “boundary portion” overlaps the slit 6 when viewed from the thickness direction, and corresponds to the virtual line when the virtual line extended to the end portions 2 a and 2 b is set. Thus, the boundary 4 is a virtual line that virtually divides one block 3 from another block 3. The “slit” is a cut formed in the substrate 2. When the substrate 2 is in the steady state (the state shown in FIG. 1), the edges 6a and 6b (see FIGS. 2 and 3) of the slits in the major surface 2c are in contact or close to each other. When a force is applied to expand each block 3 in the Y-axis direction, the edges 6a and 6b of the slits 6 on the main surface 2c spread apart from each other. The “connection portion” corresponds to a portion on the virtual line of the boundary portion 4 in which the slit 6 is not formed. The connection portion 7 is a portion fixed so that adjacent blocks 3 do not separate from each other without spreading the opening like the slit 6 when a force is applied to expand each block 3 in the Y-axis direction.

このように基材２に対して部分的にスリット６を設けた場合、図２及び図３に示すように、作業者がＹ軸方向に対して基材２を曲げたときに、基材２はスリット６の位置にて開口した状態で曲がる。スリット６では、基材２は、曲げに対して外周側に位置する縁部６ａ，６ａが互いに遠ざかるように開口する。一方、Ｘ軸方向に対して基材２を曲げたとき、基材２はスリット６の位置にて開口することなく曲がる。従って、作業者は、Ｘ軸方向に基材２を曲げる場合に比して、Ｙ軸方向において基材２を容易に曲げることができる。例えば、基材２のＹ軸方向に対する曲げ強度は、基材２のＸ軸方向に対する曲げ強度の１０〜８０％であってよく、１５〜５０％であってよい。なお、曲げ強度は、ＪＩＳ Ｌ−１０９６曲げ反発性Ａ法、ＪＡＰＡＮ ＴＡＰＰＩ ＮＯ．４０に準拠する測定方法により、ガーレー剛軟度試験機で測定することで得られる値を用いる。なお、研磨パッド１を曲げた時には、研磨パッド１自体にスプリングバック力（反発力）が生じる。このような反発力により、脱力後、研磨パッド１は略平らに戻る。また、このような反発力により、作業時には、作業者の手のひら側に研磨パッド１がまとわり付く（付着する）という作用が生じる。   When the slits 6 are partially provided to the base material 2 as described above, as shown in FIGS. 2 and 3, when the operator bends the base material 2 in the Y-axis direction, the base material 2 is formed. Bends in the open state at the position of the slit 6. In the slit 6, the base material 2 opens so that the edge parts 6a and 6a located in the outer peripheral side with respect to bending may mutually estrange. On the other hand, when the base material 2 is bent in the X-axis direction, the base material 2 is bent without opening at the position of the slit 6. Therefore, the worker can easily bend the substrate 2 in the Y-axis direction as compared to bending the substrate 2 in the X-axis direction. For example, the flexural strength of the substrate 2 in the Y-axis direction may be 10 to 80% or 15 to 50% of the flexural strength of the substrate 2 in the X-axis direction. In addition, bending strength is JIS L-1096 bending resilience A method, JAPAN TAPPI NO. A value obtained by measurement with a Gurley stiffness tester using a measurement method in accordance with No. 40 is used. When the polishing pad 1 is bent, a spring back force (repulsive force) is generated on the polishing pad 1 itself. Such a repulsive force causes the polishing pad 1 to return to a substantially flat state after the force is reduced. Further, due to such a repulsive force, at the time of operation, an action of sticking (adhering) the polishing pad 1 to the palm side of the worker occurs.

本実施形態では、ブロック３に対してＹ軸方向における一方側に形成された境界部４の接続部７と、他方側に形成された境界部４の接続部７とは、Ｘ軸方向において異なる位置に配置されている。なお、「異なる位置」とは、接続部７におけるＹ軸方向の中央位置が互いに異なっていればよく、Ｙ軸方向における一部が重なり合っていてもよい。ブロック３に対してＹ軸方向における一方側に形成された境界部４のスリット６と、他方側に形成された境界部４のスリット６とは、Ｘ軸方向において異なる位置に配置されている。すなわち、互いに隣り合う境界部４同士については、一方の境界部のスリット６と、他方の境界部のスリット６とが、千鳥状の位置関係となっている。このように、複数のスリット６が千鳥状に配置されている構造を、スキップスリットと称する場合がある。本実施形態では、一つ飛ばして隣り合う境界部４同士では、スリット６及び境界部４が互いに同じ位置に配置される。すなわち、一対の境界部４が一セットとなって、スリット６の千鳥配置パターンを形成している。   In the present embodiment, the connection portion 7 of the boundary portion 4 formed on one side in the Y-axis direction with respect to the block 3 differs from the connection portion 7 of the boundary portion 4 formed on the other side in the X-axis direction. It is placed in position. The “different positions” may be different from each other as long as the central positions in the Y-axis direction in the connecting portion 7 are different from each other, and parts in the Y-axis direction may overlap each other. The slits 6 of the boundary portion 4 formed on one side in the Y-axis direction with respect to the block 3 and the slits 6 of the boundary portion 4 formed on the other side are arranged at different positions in the X-axis direction. That is, in the border portions 4 adjacent to each other, the slits 6 in one border portion and the slits 6 in the other border portion have a staggered positional relationship. Thus, a structure in which the plurality of slits 6 are arranged in a staggered manner may be referred to as a skip slit. In the present embodiment, the slits 6 and the boundary 4 are arranged at the same position in the boundary 4 adjacent to each other. That is, the pair of boundary portions 4 forms one set to form a staggered arrangement pattern of the slits 6.

上述のように構成されたブロック３、スリット６、及び接続部７の寸法は特に限定されないが、例えば、次のように設定してよい。ブロック３のＹ軸方向における寸法は、２〜４０ｍｍであってよく、２〜２０ｍｍであってよい。スリット６のＸ軸方向における寸法は、５〜５０ｍｍであってよく、１０〜３０ｍｍであってよい。接続部７のＸ軸方向における寸法は、５〜５０ｍｍであってよく、１０〜３０ｍｍであってよい。   The dimensions of the block 3, the slit 6, and the connecting portion 7 configured as described above are not particularly limited, but may be set as follows, for example. The dimension in the Y-axis direction of the block 3 may be 2 to 40 mm, and may be 2 to 20 mm. The dimension in the X-axis direction of the slit 6 may be 5 to 50 mm, and may be 10 to 30 mm. The dimension in the X-axis direction of the connection part 7 may be 5 to 50 mm, and may be 10 to 30 mm.

ここで、ブロック３のＹ軸方向における寸法の設定方法の一例について例示する。例えば、図４に示すような断面円形状の対象物３０を研磨パッド１で磨く場合、研磨パッド１は、少なくとも周方向における８箇所にて対象物３０と接触することが望まれる。図４に示すモデルでは、研磨パッド１の基材２が対象物３０を覆うように曲がった場合、各ブロック３は略真っ直ぐな状態になり、各境界部４の位置で屈曲するものと仮定する。この場合、基材２は、ブロック３の所定の点にて対象物３０と接触する。図４において、対象物３０の外周に一点鎖線で記載された八角形は、基材２の研磨面を示している。従って、対象物３０の直径が５０ｍｍである場合、対象物３０の外周を８等分した時の寸法は、１９．６ｍｍとなる。従って、一つあたりのブロック３のＹ軸方向における寸法は、約２０ｍｍ以下であることが好ましい。   Here, an example of a method of setting the dimension of the block 3 in the Y-axis direction will be illustrated. For example, when polishing an object 30 having a circular cross-sectional shape as shown in FIG. 4 with the polishing pad 1, it is desirable that the polishing pad 1 contact the object 30 at at least eight locations in the circumferential direction. In the model shown in FIG. 4, when the base material 2 of the polishing pad 1 is bent so as to cover the object 30, it is assumed that each block 3 becomes substantially straight and bends at the position of each boundary 4 . In this case, the substrate 2 contacts the object 30 at a predetermined point of the block 3. In FIG. 4, the octagon described by the alternate long and short dash line on the outer periphery of the object 30 indicates the polished surface of the substrate 2. Therefore, when the diameter of the object 30 is 50 mm, the dimension when dividing the outer periphery of the object 30 into eight equal parts is 19.6 mm. Therefore, it is preferable that the dimension in the Y-axis direction of the block 3 per one is about 20 mm or less.

次に、本実施形態に係る研磨パッド１の作用・効果について説明する。   Next, the operation and effects of the polishing pad 1 according to the present embodiment will be described.

研磨パッド１は、不織布で構成される基材２を備える研磨パッド１であって、基材２は、厚み方向と直交するＸ軸方向と、厚み方向及びＸ軸方向と直交するＹ軸方向と、に広がる平板状の形状をなし、基材２は、Ｘ軸方向に延びると共にＹ軸方向に配列された複数のブロック３に区画され、一対のブロック３同士の間には、Ｘ軸方向に延びる境界部４が形成され、境界部４には、基材２を厚み方向に貫通し、且つＸ軸方向に延びる複数のスリット６が形成され、境界部４において、複数のスリット６は、Ｘ軸方向に互いに離間して配置され、Ｙ軸方向に隣り合う一対のブロック３同士は、スリット６間に形成された接続部７にて互いに接続されている。   The polishing pad 1 is a polishing pad 1 provided with a base material 2 composed of a non-woven fabric, and the base material 2 has an X axis direction orthogonal to the thickness direction, and a Y axis direction orthogonal to the thickness direction and the X axis direction. The base material 2 is divided into a plurality of blocks 3 extending in the X-axis direction and arranged in the Y-axis direction, and between the pair of blocks 3 in the X-axis direction. A plurality of slits 6 penetrating the base material 2 in the thickness direction and extending in the X-axis direction are formed in the boundary portion 4, and in the boundary portion 4, the plurality of slits 6 are X A pair of blocks 3 arranged in the axial direction so as to be separated from each other and adjacent to each other in the Y-axis direction are connected to each other at a connecting portion 7 formed between the slits 6.

例えば、図５に示すような比較例に係る研磨パッド１００は、本実施形態のようなスリットを有していない。この場合、作業者が研磨パッド１００を曲げようとすると、基材２の曲げに対する抵抗力が作用する。このため、作業者は研磨パッド１００を曲げるために力を入れることが必要となる。一方、本実施形態に係る研磨パッド１では、基材２のブロック３の境界部４にＸ軸方向へ延びるスリット６が形成されている。基材２は、Ｙ軸方向に対する曲げの力を付与されたとき、スリット６の位置にて容易に広がるように開口する。従って、作業者が研磨パッド１を曲げようとした場合、スリット６が広がることにより、基材２を容易に曲げることができる。また、このようなスリット６を形成した場合であっても、境界部４にはブロック３同士を接続する接続部７が形成されているため、ブロック３同士が切り離されることを防止できる。以上により、研磨パッド１を曲げるときに必要な力を低減することができる。   For example, the polishing pad 100 according to the comparative example as shown in FIG. 5 does not have a slit as in the present embodiment. In this case, when the operator tries to bend the polishing pad 100, a resistance against bending of the substrate 2 acts. For this reason, it is necessary for the operator to apply force to bend the polishing pad 100. On the other hand, in the polishing pad 1 according to the present embodiment, the slit 6 extending in the X-axis direction is formed in the boundary portion 4 of the block 3 of the base material 2. The base material 2 is opened so as to easily spread at the position of the slit 6 when a bending force is applied in the Y-axis direction. Therefore, when the operator tries to bend the polishing pad 1, the base 2 can be easily bent by the slit 6 expanding. Further, even in the case where such a slit 6 is formed, since the connecting portion 7 for connecting the blocks 3 is formed in the boundary portion 4, it is possible to prevent the blocks 3 from being separated. By the above, the force required when bending the polishing pad 1 can be reduced.

ブロック３に対してＹ軸方向における一方側に形成された境界部４の接続部７と、他方側に形成された境界部４の接続部７とは、Ｘ軸方向において異なる位置に配置されていてよい。例えば、後述の図６（ａ）に示すように、Ｙ軸方向に隣り合う接続部７がＸ軸方向において同位置に形成されている場合、このように接続部７が連続した箇所では、基材２を曲げるときの曲げに対する抵抗力が大きくなる。それに対し、Ｙ軸方向に隣り合う接続部７がＸ軸方向において異なる位置に配置されている場合、接続部７を分散して配置できるため、曲げに対する抵抗力が大きくなることを抑制できる。   The connection portion 7 of the boundary portion 4 formed on one side in the Y-axis direction with respect to the block 3 and the connection portion 7 of the boundary portion 4 formed on the other side are arranged at different positions in the X-axis direction. You may For example, as shown in FIG. 6A described later, when the connection portions 7 adjacent to each other in the Y-axis direction are formed at the same position in the X-axis direction, the connection portion 7 is continuous at this point. The resistance to bending when bending the material 2 is increased. On the other hand, when the connection portions 7 adjacent to each other in the Y-axis direction are arranged at different positions in the X-axis direction, the connection portions 7 can be dispersedly arranged, so that an increase in resistance to bending can be suppressed.

基材２のＹ軸方向に対する曲げ強度は、基材２のＸ軸方向に対する曲げ強度の１０〜８０％であってよい。この場合、作業者は、研磨パッド１を容易に曲げて作業を行うことができる。   The bending strength of the base 2 in the Y-axis direction may be 10 to 80% of the bending strength of the base 2 in the X-axis direction. In this case, the worker can easily bend the polishing pad 1 to perform work.

ブロック３のＹ軸方向における寸法は、２〜４０ｍｍであり、スリット６のＸ軸方向における寸法は、５〜５０ｍｍであり、接続部７のＸ軸方向における寸法は、５〜５０ｍｍであってよい。この場合、作業者は、容易に研磨パッド１を曲げることができる。また、研磨パッドの強度も十分に確保することができる。   The dimension of the block 3 in the Y-axis direction may be 2 to 40 mm, the dimension of the slit 6 in the X-axis direction may be 5 to 50 mm, and the dimension of the connection portion 7 in the X-axis direction may be 5 to 50 mm . In this case, the operator can easily bend the polishing pad 1. In addition, the strength of the polishing pad can be sufficiently secured.

研磨パッド１は、不織布で構成される基材２を備える研磨パッド１であって、基材２は、厚み方向と直交するＸ軸方向と、厚み方向及びＸ軸方向と直交するＹ軸方向と、に広がる平板状の形状をなし、基材２には、厚み方向における一方の主面２ｃから厚み方向へ延び、且つ、主面２ｃにおいてＸ軸方向に延びるスリット６が形成され、Ｙ軸方向に複数のスリットが６０形成されている。   The polishing pad 1 is a polishing pad 1 provided with a base material 2 composed of a non-woven fabric, and the base material 2 has an X axis direction orthogonal to the thickness direction, and a Y axis direction orthogonal to the thickness direction and the X axis direction. , And a slit 6 extending in the thickness direction from one of the main surfaces 2c in the thickness direction and extending in the X-axis direction on the main surface 2c is formed in the substrate 2 in the Y-axis direction. There are a plurality of slits 60 formed in.

研磨パッド１では、基材２には、厚み方向における一方の主面２ｃから厚み方向へ延び、且つ、主面２ｃにおいてＸ軸方向に延びるスリット６が形成されている。基材２は、Ｙ軸方向に対する曲げの力を付与されたとき、スリット６の位置にて容易に広がるように開口する。また、Ｙ軸方向に複数のスリットが６０形成されている。これにより、Ｙ軸方向において複数箇所にて、スリット６が開口する。従って、基材２全体を容易に曲げることが可能となる。以上により、研磨パッド１を曲げるときに必要な力を低減することができる。   In the polishing pad 1, a slit 6 extending in the thickness direction from one of the main surfaces 2 c in the thickness direction and extending in the X-axis direction on the main surface 2 c is formed in the base material 2. The base material 2 is opened so as to easily spread at the position of the slit 6 when a bending force is applied in the Y-axis direction. Further, a plurality of slits 60 are formed in the Y-axis direction. Thereby, the slits 6 are opened at a plurality of places in the Y-axis direction. Therefore, it becomes possible to bend the whole substrate 2 easily. By the above, the force required when bending the polishing pad 1 can be reduced.

本発明は上述の実施形態に限定されるものでは無く、適宜変更されてよい。   The present invention is not limited to the embodiments described above, and may be modified as appropriate.

スリット６の配列構造は上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、図６（ａ）に示す研磨パッド１では、ブロック３に対してＹ軸方向における一方側に形成された境界部４の接続部７と、他方側に形成された境界部４の接続部７とは、Ｘ軸方向において互いに同位置に配置されている。このように、スリット６は必ずしも千鳥配置でなくともよい。また、図１に示す実施形態では、二つの境界部４が一セットとなって、スリット６の千鳥配置パターンを形成していた。これに代えて、図６（ｂ）に示すように、更に多数の境界部４が一セットとなって、スリット６の千鳥配置パターンを形成してもよい。あるいは、スリット６の配列パターンは特に規則的なもので無くともよい。   The arrangement structure of the slits 6 is not limited to the above embodiment. For example, in the polishing pad 1 shown in FIG. 6A, the connection portion 7 of the boundary portion 4 formed on one side in the Y-axis direction with respect to the block 3 and the connection portion of the boundary portion 4 formed on the other side 7 are arranged at the same position in the X-axis direction. Thus, the slits 6 do not necessarily have to be in a staggered arrangement. Further, in the embodiment shown in FIG. 1, the two boundaries 4 form one set to form the zigzag arrangement pattern of the slits 6. Instead of this, as shown in FIG. 6B, a plurality of boundary portions 4 may be combined into one set to form a staggered arrangement pattern of the slits 6. Alternatively, the arrangement pattern of the slits 6 may not be particularly regular.

また、上述の実施形態では、スリット６は基材２を貫通していた。これに代えて、スリット６が基材２を貫通しない構成を採用してもよい。例えば、スリット６が基材２の主面２ｃから厚み方向へ延びて、主面２ｄへ及ぶことなく、基材２の内部の所定の位置まで及んでいてよい。   Moreover, in the above-mentioned embodiment, the slit 6 penetrated the base material 2. Instead of this, a configuration in which the slit 6 does not penetrate the base material 2 may be adopted. For example, the slit 6 may extend in the thickness direction from the main surface 2c of the base material 2 and extend to a predetermined position inside the base material 2 without extending to the main surface 2d.

また、上述の実施形態では、Ｘ軸方向のみに延びるスリットが形成されていた。これに加えて、Ｙ軸方向に延びるスリットを追加で形成してもよい。この場合、研磨パッドは、Ｘ軸方向に対しても曲げやすくなる。   Moreover, in the above-mentioned embodiment, the slit extended only in the X-axis direction was formed. In addition to this, a slit extending in the Y-axis direction may be additionally formed. In this case, the polishing pad is easily bent in the X-axis direction.

また、上述の実施形態では、研磨パッドの基材として、長方形板状の部材を例示した。ただし、基材の形状は特に限定されず、あらゆるタイプの基材にスリット構造を適用してよい。例えば、フラップブラシ、ユニタイズドホイール、ユニタイズドパッド、ベベル、ホイールなどに、スリット構造を適用してよい。   Moreover, in the above-mentioned embodiment, the rectangular-plate-shaped member was illustrated as a base material of a polishing pad. However, the shape of the substrate is not particularly limited, and the slit structure may be applied to any type of substrate. For example, the slit structure may be applied to flap brushes, unitized wheels, unitized pads, bevels, wheels, etc.

１…研磨パッド、２…基材、３…ブロック、４…境界部、６…スリット、７…接続部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polishing pad, 2 ... Base material, 3 ... Block, 4 ... Boundary part, 6 ... Slit, 7 ... Connection part.

Claims (5)

不織布で構成される基材を備える研磨パッドであって、
前記基材は、厚み方向と直交する第１の方向と、前記厚み方向及び前記第１の方向と直交する第２の方向と、に広がる平板状の形状をなし、
前記基材は、前記第１の方向に延びると共に前記第２の方向に配列された複数のブロックに区画され、
一対の前記ブロック同士の間には、前記第１の方向に延びる境界部が形成され、
前記境界部には、前記基材を厚み方向に貫通し、且つ前記第１の方向に延びる複数のスリットが形成され、
前記境界部において、複数の前記スリットは、前記第１の方向に互いに離間して配置され、
前記第２の方向に隣り合う一対の前記ブロック同士は、前記スリット間に形成された接続部にて互いに接続されている、研磨パッド。 A polishing pad comprising a substrate composed of non-woven fabric, comprising:
The base material has a flat plate shape extending in a first direction orthogonal to the thickness direction, and a second direction orthogonal to the thickness direction and the first direction,
The substrate is divided into a plurality of blocks extending in the first direction and arranged in the second direction,
A boundary portion extending in the first direction is formed between the pair of blocks,
The boundary portion is formed with a plurality of slits extending through the base in the thickness direction and extending in the first direction.
At the boundary, the plurality of slits are spaced apart from each other in the first direction,
A polishing pad, wherein the pair of blocks adjacent in the second direction are connected to each other at a connection portion formed between the slits. 前記ブロックに対して前記第２の方向における一方側に形成された前記境界部の前記接続部と、前記他方側に形成された前記境界部の前記接続部とは、前記第１の方向において異なる位置に配置されている、請求項１に記載の研磨パッド。   The connection portion of the boundary portion formed on one side in the second direction with respect to the block and the connection portion of the boundary portion formed on the other side are different in the first direction. The polishing pad of claim 1 disposed in a position. 前記基材の前記第２の方向に対する曲げ強度は、前記基材の前記第１の方向に対する曲げ強度の１０〜８０％である、請求項１又は２に記載の研磨パッド。   The polishing pad according to claim 1, wherein a bending strength of the substrate in the second direction is 10 to 80% of a bending strength of the substrate in the first direction. 前記ブロックの前記第２の方向における寸法は、２〜４０ｍｍであり、
前記スリットの前記第１の方向における寸法は、５〜５０ｍｍであり、
前記接続部の前記第１の方向における寸法は、５〜５０ｍｍである、請求項１〜３の何れか一項に記載の研磨パッド。 The dimension in the second direction of the block is 2 to 40 mm,
The dimension of the slit in the first direction is 5 to 50 mm,
The polishing pad according to any one of claims 1 to 3, wherein a dimension of the connection portion in the first direction is 5 to 50 mm. 不織布で構成される基材を備える研磨パッドであって、
前記基材は、厚み方向と直交する第１の方向と、前記厚み方向及び前記第１の方向と直交する第２の方向と、に広がる平板状の形状をなし、
前記基材には、前記厚み方向における一方の主面から前記厚み方向へ延び、且つ、前記主面において前記第１の方向に延びるスリットが形成され、前記第２の方向に複数の前記スリットが形成された、研磨パッド。 A polishing pad comprising a substrate composed of non-woven fabric, comprising:
The base material has a flat plate shape extending in a first direction orthogonal to the thickness direction, and a second direction orthogonal to the thickness direction and the first direction,
In the base material, slits extending in the thickness direction from one main surface in the thickness direction and extending in the first direction are formed on the main surface, and a plurality of the slits are formed in the second direction. Formed, polishing pad.
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