JP2019070687A5 - - Google Patents
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Claims (15)
- 基板と、該基板の上に形成される複数の層を含む反射防止膜とを有する光学素子であって、
前記複数の層のうち最も前記基板から離れた最上層の波長λ(nm)の光に対する屈折率をnm、前記複数の層のうち前記最上層を除く下地層の光学アドミタンスをY=a+ibとするとき、
1.10≦nm≦1.30
なる条件を満足し、
λ=430のとき
(a−1.25)2+(b−0.28)2≦0.452、
λ=1000のとき
(a−1.34)2+(b+0.28)2≧0.302、
λ=1800のとき
(a−1.14)2+(b+0.24)2≦0.302
なる条件を満足することを特徴とする光学素子。 - λ=430のとき
(a−1.25)2+(b−0.28)2≦0.412、
λ=1800のとき
(a−1.14)2+(b+0.24)2≦0.202
なる条件を満足することを特徴とする請求項1に記載の光学素子。 - 430≦λ≦730又は1450≦λ≦1800のとき
(a−1.28) 2 +(b) 2 ≦0.55 2 、
900≦λ≦1100のとき
(a−1.30) 2 +(b+0.28) 2 ≧0.25 2
なる条件を満足することを特徴とする請求項1または2に記載の光学素子。 - 前記最上層の膜厚をdm(nm)とするとき、
125≦nmdm≦250
なる条件を満足することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学素子。 - 430≦λ≦730又は1450≦λ≦1800のとき、前記反射防止膜に対する入射角が0度以上15度以下である光線に対する該反射防止膜の反射率は、1.0%以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記反射防止膜は、7以上の層を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記下地層は互いに異なる材料で構成される複数の層を含み、前記下地層のうち最も高屈折率である材料の屈折率をnH、最も低屈折率である材料の屈折率をnLとするとき、
0.4≦nH−nL≦0.9
なる条件を満足することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光学素子。 - 前記最上層は、空隙を含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記最上層は、酸化シリコンまたはフッ化マグネシウムで構成されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光学素子。
- 前記下地層に含まれる層は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、アルミニウム、シリコン、および、イットリウムの酸化物のうちいずれかの単体またはこれらの混合物で構成されることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光学素子。
- 基板と、該基板の上に形成される複数の層を含む反射防止膜とを有する光学素子の製造方法であって、
前記複数の層のうち最も前記基板から離れた最上層を除く下地層を作製するステップと、
前記複数の層のうち前記最上層を作製するステップと、を有し、
前記最上層の波長λ(nm)の光に対する屈折率をnm、前記下地層の光学アドミタンスをY=a+ibとするとき、
1.10≦nm≦1.30
なる条件を満足し、
λ=430のとき
(a−1.25)2+(b−0.28)2≦0.452、
λ=1000のとき
(a−1.34)2+(b+0.28)2≧0.302、
λ=1800のとき
(a−1.14)2+(b+0.24)2≦0.302
なる条件を満足することを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記最上層を作製するステップは、ゾルゲル法により前記最上層を作製するステップを含むことを特徴とする請求項11に記載の光学素子の製造方法。
- 前記下地層を作製するステップは、真空蒸着法またはスパッタ法により前記下地層を作製するステップを含むことを特徴とする請求項11または12に記載の光学素子の製造方法。
- 複数の光学素子を有し、該複数の光学素子のうち少なくとも一つは請求項1乃至10のいずれか1項に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。
- 請求項14に記載の光学系と、
前記光学系を保持する保持部材と、を有することを特徴する光学機器。
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