JP2019070687A5

JP2019070687A5 -

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Publication number: JP2019070687A5
Application number: JP2017195531A
Authority: JP
Filing date: 2017-10-06
Publication date: 2020-11-19

Claims

基板と、該基板の上に形成される複数の層を含む反射防止膜とを有する光学素子であって、
前記複数の層のうち最も前記基板から離れた最上層の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率をｎ_ｍ、前記複数の層のうち前記最上層を除く下地層の光学アドミタンスをＹ＝ａ＋ｉｂとするとき、
１．１０≦ｎ_ｍ≦１．３０
なる条件を満足し、
λ＝４３０のとき
（ａ−１．２５）^２＋（ｂ−０．２８）^２≦０．４５^２、
λ＝１０００のとき
（ａ−１．３４）^２＋（ｂ＋０．２８）^２≧０．３０^２、
λ＝１８００のとき
（ａ−１．１４）^２＋（ｂ＋０．２４）^２≦０．３０^２
なる条件を満足することを特徴とする光学素子。
λ＝４３０のとき
（ａ−１．２５）^２＋（ｂ−０．２８）^２≦０．４１^２、
λ＝１８００のとき
（ａ−１．１４）^２＋（ｂ＋０．２４）^２≦０．２０^２
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
４３０≦λ≦７３０又は１４５０≦λ≦１８００のとき
（ａ−１．２８） ^２＋（ｂ） ^２ ≦０．５５ ^２、
９００≦λ≦１１００のとき
（ａ−１．３０） ^２＋（ｂ＋０．２８） ^２ ≧０．２５ ^２
なる条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。
前記最上層の膜厚をｄ_ｍ（ｎｍ）とするとき、
１２５≦ｎ_ｍｄ_ｍ≦２５０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学素子。
４３０≦λ≦７３０又は１４５０≦λ≦１８００のとき、前記反射防止膜に対する入射角が０度以上１５度以下である光線に対する該反射防止膜の反射率は、１．０％以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学素子。
前記反射防止膜は、７以上の層を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光学素子。
前記下地層は互いに異なる材料で構成される複数の層を含み、前記下地層のうち最も高屈折率である材料の屈折率をｎ_Ｈ、最も低屈折率である材料の屈折率をｎ_Ｌとするとき、
０．４≦ｎ_Ｈ−ｎ_Ｌ≦０．９
なる条件を満足することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学素子。
前記最上層は、空隙を含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学素子。
前記最上層は、酸化シリコンまたはフッ化マグネシウムで構成されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学素子。
前記下地層に含まれる層は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、アルミニウム、シリコン、および、イットリウムの酸化物のうちいずれかの単体またはこれらの混合物で構成されることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学素子。
基板と、該基板の上に形成される複数の層を含む反射防止膜とを有する光学素子の製造方法であって、
前記複数の層のうち最も前記基板から離れた最上層を除く下地層を作製するステップと、
前記複数の層のうち前記最上層を作製するステップと、を有し、
前記最上層の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率をｎ_ｍ、前記下地層の光学アドミタンスをＹ＝ａ＋ｉｂとするとき、
１．１０≦ｎ_ｍ≦１．３０
なる条件を満足し、
λ＝４３０のとき
（ａ−１．２５）^２＋（ｂ−０．２８）^２≦０．４５^２、
λ＝１０００のとき
（ａ−１．３４）^２＋（ｂ＋０．２８）^２≧０．３０^２、
λ＝１８００のとき
（ａ−１．１４）^２＋（ｂ＋０．２４）^２≦０．３０^２
なる条件を満足することを特徴とする光学素子の製造方法。
前記最上層を作製するステップは、ゾルゲル法により前記最上層を作製するステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学素子の製造方法。
前記下地層を作製するステップは、真空蒸着法またはスパッタ法により前記下地層を作製するステップを含むことを特徴とする請求項１１または１２に記載の光学素子の製造方法。
複数の光学素子を有し、該複数の光学素子のうち少なくとも一つは請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。
請求項１４に記載の光学系と、
前記光学系を保持する保持部材と、を有することを特徴する光学機器。