JP2019066692A - リソグラフィシステム、制御プログラムを更新する方法、プログラム、および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
リソグラフィ装置の制御プログラムの更新を行う際には、稼働中の装置を停止する必要があるため、生産計画・人員計画を考慮して更新時期が決定される。
次に、更新用の制御プログラム(更新プログラム)を取得する。更新プログラムは、光/磁気ディスクのような可搬メディアに記録した形態で、リソグラフィ装置の製造ベンダから提供されるのが一般的である。
次に、リソグラフィ装置での基板処理を終了させて、更新プログラムのインストールを実施することで制御プログラムの更新を実施する。
更新が完了したら、リソグラフィ装置でテストを行い、テストの結果を判断する。
テストの結果に基づき更新成功と判断され次第、停止していたリソグラフィ装置での基板処理を開始する。
このような流れで制御プログラムの更新が完了する。
図1は本実施形態に係るリソグラフィシステム100の構成を示す図である。本実施形態では、基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置として、原版を介して基板を露光する露光装置を使用する例を説明する。図1において、リソグラフィシステム100は、露光装置10と、露光装置10の動作を模擬するシミュレーション装置20とを含む。また、リソグラフィシステム100は、露光装置10およびシミュレーション装置20のうちの一方を制御する第1制御装置30と、露光装置10およびシミュレーション装置20のうちの他方を制御する第2制御装置40とを含む。露光装置10、シミュレーション装置20、第1制御装置30、および第2制御装置40は、例えばネットワーク50を介して相互に通信可能に構成されている。
次に、図6を参照して、第2実施形態を説明する。図1〜5と同じ構成要素には同じ参照符号を付しその説明を省略する。図6において、露光装置10とシミュレーション装置20が、第1制御装置30に接続されている。第1制御装置30は、同じ制御プログラム342および制御パラメータ343を用いて、露光装置10およびシミュレーション装置20を制御する。
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィシステムを用いて基板に原版のパターンを転写する工程と、かかる工程でパターンが転写された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (11)
- 基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置の動作のシミュレーションを行うシミュレーション装置と、
前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの一方を制御する第1制御装置と、
前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの他方を制御する、前記第1制御装置とは異なる第2制御装置と、
を含み、
前記第1制御装置および前記第2制御装置は、前記第1制御装置および前記第2制御装置の制御対象を、前記リソグラフィ装置と前記シミュレーション装置との間で相互に切り替えが可能に構成されている
ことを特徴とするリソグラフィシステム。 - 前記第1制御装置が前記リソグラフィ装置を制御し、前記第2制御装置が前記シミュレーション装置を制御している状態で、前記第2制御装置は、
更新用の制御プログラムを取得してインストールし、
前記インストールされた制御プログラムに基づいて前記シミュレーション装置によるシミュレーションを実行し、該シミュレーションの結果に基づいて該制御プログラムを修正し、
前記第1制御装置および前記第2制御装置は、前記修正された制御プログラムによって前記リソグラフィ装置が制御されるよう前記切り替えを行う
ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィシステム。 - 前記第1制御装置は、前記リソグラフィ装置の制御パラメータを前記第2制御装置に転送することにより、前記第1制御装置と前記第2制御装置との間で制御パラメータと同期させることを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィシステム。
- 前記第2制御装置は、前記シミュレーションを実行する前に前記同期を行うことを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィシステム。
- 前記リソグラフィ装置は、原版を介して前記基板を露光する露光装置であることを特徴とする請求項3または4に記載のリソグラフィシステム。
- 前記制御パラメータは、前記基板に露光を行う領域であるショット領域の配置を規定するレイアウト情報および露光量に関する情報を含むことを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィシステム。
- 前記第2制御装置による前記制御プログラムのインストールおよび修正は、前記リソグラフィ装置の稼働中に実行されることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。
- 前記リソグラフィ装置のキャリブレーションを行うために、前記リソグラフィ装置における処理結果と前記シミュレーション装置における演算結果とを比較する分析装置を更に含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。
- 基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置を制御するための制御プログラムを更新する方法であって、
第1制御装置にインストールされている制御プログラムに基づいて前記リソグラフィ装置が制御されている状態で、前記リソグラフィ装置の動作のシミュレーションを行うシミュレーション装置を制御する第2制御装置により、更新用の制御プログラムを取得するステップと、
前記第2制御装置にインストールされている制御プログラムを、前記取得した制御プログラムで更新するステップと、
前記第2制御装置における前記更新された制御プログラムに基づいて前記シミュレーション装置によるシミュレーションを実行し、該シミュレーションの結果に基づいて該制御プログラムを修正するステップと、
前記修正された制御プログラムによって前記リソグラフィ装置が制御されるように、前記第2制御装置の制御対象を前記シミュレーション装置から前記リソグラフィ装置に切り替えるステップと、
を有することを特徴とする方法。 - コンピュータに、請求項9に記載の方法の各ステップを実行させるためのプログラム。
- 物品を製造する物品製造方法であって、
請求項1乃至8のいずれか1項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有し、前記加工された基板から前記物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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