JP2019056701A5 - - Google Patents

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本発明は、請求項1に記載の位置測定装置、並びに請求項11に記載の位置測定装置の操作方法に関する。特に、本発明は、センサの時間的に変化する測定信号の周波数領域での評価に関する。
位置測定装置は、自動化技術において、特に工作機械において、可動部品の位置ないしは位置変化を測定するために使用される。すなわち、回転伝送器または角度測定装置は、例えば回転する軸の回転運動を測定する。これに対して、長さ測定装置は、相互に可動に配置された機械部品の線形移動を測定する。
増分的におよび絶対的に測定する位置測定装置は基本的に区別され、この場合、例えば光学的、磁気的、誘導的または容量的な種々の物理的測定原理が使用される。
増分的に測定する位置測定装置は、目盛キャリヤ上に配置された増分目盛トラックの走査により位置信号を発生する。増分目盛トラックは、測定方向に規則的に配置された目盛要素を有し、光学的走査原理においては例えば透光性および不透光性目盛線分の列を有する。このタイプの測定は、個々の目盛周期の走査信号は区別できないので、原理的に相対的である。位置測定は、信号周期ないしは信号周期の分割部分を数えることにより行われる。絶対的な基準点を提供するために、たいていの場合、基準見本を有する他の目盛トラックが設けられ、所定の位置においてそれを走査することにより、位置測定のための基準点を提供するいわゆる基準パルスが発生される。
絶対的に測定する位置測定装置の場合、各時点において目盛トラックを走査することにより絶対位置値が決定可能なように、目盛トラックは絶対コード化を有する。
増分位置信号ないしは絶対位置値は、他の処理のために後置電子装置に供給される。位置測定装置が使用される機械が工作機械である場合、後置電子装置は例えば数値制御である。
位置測定装置が、その中でそれが使用される機械と機械的に連結されていることにより、相互作用が発生する。すなわち、位置測定装置の周辺内の機械の機械振動はこれに影響を与え、かつ測定信号の品質、したがって測定精度を低下させることがある。一方で、位置信号の品質は、位置信号がその中で位置実際値として使用される駆動制御回路の精度に影響を与える。機械を最適化するために、このような相互作用を把握する必要がある。このための手段は、後置電子装置内における位置信号ないしは位置値の周波数分析である。これを支援するために、追加のセンサ、例えば加速度センサがしばしば使用される。しかしながら、特に絶対位置測定装置の場合、この可能性は、位置値およびセンサ値の伝送のために使用されるディジタルインタフェースの制限帯域幅により制限される。
EP2375221A2は、位置測定装置内において予め加速度センサの測定値の周波数分析を行いかつそれから位置測定装置の負荷を推測することを提案する。
EP2375221A2
本発明の課題は、位置測定装置の周辺内の機械振動を分析するための改善された解決方法を提供することである。
この課題は、請求項1に記載の位置測定装置により解決される。
ここで、
その上に測定目盛が配置されている目盛キャリヤ、
それを用いて測定目盛を走査することにより位置に依存した測定信号が発生可能な少なくとも1つの位置センサ、
それを用いて位置に依存した測定信号が位置信号に処理可能な処理ユニット、および少なくとも1つのデータ伝送チャネルを介して後置電子装置に位置信号を伝送するインタフェースユニット、を有する位置測定装置が提案され、
この場合、位置測定装置に少なくとも1つの運動センサが付属され、運動センサは時間的に変化する測定信号を発生し、測定信号は信号分析ユニットに供給され、信号分析ユニットにより測定信号が周波数領域で評価可能でありかつこの評価はパラメータに依存し、パラメータは後置電子装置からインタフェースユニットに伝送可能であり、かつ測定信号の評価から得られた結果データはインタフェースユニットから後置電子装置に伝送可能である。
本発明による位置測定装置の有利な構成が、請求項1の従属請求項から得られる。
さらに、本発明の課題は、本発明による位置測定装置の操作方法を提供することである。
この課題は、請求項11に記載の位置測定装置の操作方法により解決される。
ここで、
パラメータを後置電子装置から位置測定装置に伝送するステップ、
信号分析ユニット内において、パラメータを考慮して、測定信号の評価により結果データを決定するステップ、および
結果データを後置電子装置に伝送するステップ、を有する、請求項1ないしは請求項1の従属請求項に記載の位置測定装置の操作方法が提案される。
本発明による方法の有利な構成は、請求項11の従属請求項から得られる。
他の利点は、実施例の以下の説明から得られる。
図1は、本発明による位置測定装置のブロック図を示す。 図2は、位置センサの測定信号の、振幅スペクトルとして形成された周波数スペクトルを示す。 図3は、信号分析ユニットの第1実施形態を示す。 図4は、周波数スペクトルを、適合可能パラメータに対する例で示す。 図5は、周波数分スペクトル、適合可能パラメータに対する他の例で示す。 図6は、次数スペクトルを、適合可能パラメータに対する例で示す。 図7は、信号分析ユニットの第2実施形態を示す。 図8は、本発明による位置測定装置の他の実施例を示す。 図9は、本発明による位置測定装置の他の実施例を示す。 図10は、本発明による位置測定装置の他の実施例を示す。
図1は、本発明による位置測定装置10のブロック図を示す。位置に依存した信号の測定、処理および出力という基本機能を形成するために、位置測定装置10は、測定目盛14を有する目盛キャリヤ12、少なくとも1つの位置センサ20、処理ユニット30、並びにインタフェースユニット40を含む。
本発明により、位置測定装置10は少なくとも1つの運動センサを含む。運動センサは、位置測定装置10または位置測定装置10の部分の運動を検出しかつ電気信号に変換するセンサである。センサは、位置測定装置10のハウジングの内部または外部に配置されていてもよい。この第1実施例において、少なくとも1つの運動センサは、相互に可動に配置された位置測定装置10の部分の、所定の位置ないしは位置変化を決定する位置センサ20である。後に図8および9により示されるように、運動センサは、位置測定とは無関係のセンサから形成されていてもよい。これは、例えば、加速度センサまたは固体伝搬音センサに対して適用される。
この例において、位置センサ20は、目盛キャリヤ12上の測定目盛14を走査するように、適切に形成されている。この場合、目盛キャリヤ12および位置センサ20は、既知のように、例えば、それらがその相対位置が相互に決定されるべき工作機械の可動部品と結合されていることにより、測定方向に相対的に相互に可動に配置されている。
位置測定装置が長さ測定装置であるか角度測定装置(回転伝送器)であるかは本発明と直接関係はない。したがって、目盛キャリヤ12は、目盛方向に配置された測定目盛14を有する直線尺度であっても、または半径方向にディスク回転点の周りに配置された測定目盛14を有する円形ディスクであってもよい。
測定目盛14の走査から、位置に依存する測定信号Mが得られ、測定信号は処理ユニット30に供給される。測定信号Mは、アナログまたはディジタルにコーディングされた信号を含んでもよい。処理ユニット30は測定信号Mを位置信号Pに処理しかつ位置信号をインタフェースユニット40に出力する。ここで処理に他の信号が入力されない場合、信号補正、ディジタル化、等のような処理ステップが実行されてもよい。
さらに、測定信号Mは信号分析ユニット50に供給され、信号分析ユニットは、測定信号Mにより含まれた、少なくとも1つの周波数帯域内の周波数成分の計算および評価を実行するように、適切に形成されている。特に、測定信号Mがディジタルインタフェースを介して位置センサ20から出力可能な、ディジタルコーディングされた信号であるとき、位置センサ20に、実際位置値の出力を指示する要求信号RQが供給されてもよい。
計算のために、時間的に変化する信号の周波数領域への変換、例えば高速フーリエ変換(FFT)またはそれから導かれた方法を実行するように適した任意の数学的評価方法が使用されてもよい。特定の周波数の周波数成分を計算するために、特にゲルツェルアルゴリズムが適している。他の可能性は、ディジタルフィルタを使用すること、およびフィルタリングされたデータから有効値を算出することである。
信号分析から得られた結果データEDは、同様にインタフェースユニット40に供給可能である。
位置測定装置10のインタフェースユニット40は後置電子装置80と通信するために使用される。それは双方向データ伝送チャネル44を有し、それを介して、本発明の範囲内において、後置電子装置80からパラメータPARが位置測定装置10に、並びに逆方向に結果データEDが後置電子装置80に、連続データパケットの形で伝送可能である。パラメータPARは信号分析ユニット50に供給されている。
さらに、インタフェースユニット40は、少なくとも1つの位置センサ20の位置信号Pを後置電子装置80に伝送するように、適切に形成されている。特に、絶対位置値を発生する位置測定装置の場合、これは同様にデータ伝送チャネル44を介して実行可能である。このために、共通の伝送プロトコルが使用されてもよい。
しかしながら、例えば、位置測定装置10が、アナログまたはディジタルの、相互に位相がずれた信号の形の位置信号Pが出力される増分位置測定装置であるとき、その代わりに、他のデータ伝送チャネルが設けられていてもよい。
同様に、特に、(ディジタルコーディングされた形の)位置信号Pの伝送のために、本発明によるデータ伝送チャネル44のほかに、それを介して、後置電子装置80、または後置電子装置80とは異なる他の後置電子装置との独立通信が可能な他のディジタルデータ伝送チャネルが設けられていることが可能である。このように、それの一方が位置測定装置の所定の操作(位置値の測定および伝送)のために、かつそれの他方が本発明による機能(測定信号の信号分析)の形成のために使用可能な2つのディジタルインタフェースが使用可能である。インタフェースは機械的に分離されていることもまた有利でありかつ異なる伝送プロトコルを使用してもよい。
測定目盛14が増分目盛である場合、位置に依存した測定信号Mは周期的であり、すなわち、信号経過はそれぞれの目盛周期ごとに反復される。測定信号Mの信号周波数は目盛キャリヤ12と位置センサ20の間の相対運動および測定目盛14の目盛周期により決定される。たいていの場合、相互に例えば90°の位相ずれを有する、位置に依存した少なくとも2つの測定信号Mが発生される。このようにして、運動方向の決定が可能である。複数の増分位置測定装置の場合、測定目盛14および位置センサ20は、理想的条件下でかつ目盛キャリヤ12と走査ユニット14の間は一定運動速度で測定信号Mが正確に正弦形状であるように、相互に同調されている。したがって、測定信号Mの周波数スペクトルは正確に1つの周波数において信号ピークを有する。このような位置測定装置は、たいていの場合、光学的および磁気的走査原理に基づいている。
さらに、自動化技術において、位置変化がキャリヤ信号の変調により影響される位置測定装置(界磁変調位置測定装置とも呼ばれる)が普及されている。この場合、測定信号Mの周波数スペクトルは、2つの周波数において、キャリヤ信号の信号ピークおよび位置変化により発生される信号ピークを示す。このような位置測定装置は、誘導的または容量的走査原理に基づいている。
位置決定が絶対コード化測定目盛の走査に基づく位置測定装置の場合もまた、例えば、同じ時間間隔で位置値が測定されかつそれぞれ前の測定に対する位置変化が決定されかつ評価されることにより、周波数スペクトルが決定可能である。この場合、理想的条件下でかつ一定運動速度においては、位置変化が一定値を与えることになるので、周波数スペクトル内に信号ピークが発生しないことが適用される。
位置に依存する測定信号Mの周波数スペクトルが、予想される信号ピークのほかに、他の周波数においてもまた信号ピークを示した場合、これは、エラー機能または外部の妨害影響の指示であることがある。図2は、例として、一定運動における増分位置測定装置の位置センサ20の測定信号Mの、振幅スペクトルとして形成された周波数スペクトルを示す。これは、周波数f1ないしf10において、振幅値A1ないしA10を有する信号ピークを示す。周波数f6における信号ピークは最高振幅A6を有しかつ例えば位置信号の信号周波数に対応する。妨害のない操作の場合、周波数スペクトル内に、この信号ピークのほかには他の顕著な信号ピークは発生しないはずである。したがって、周波数f1ないf5およびf7ないしf10における信号ピークは、妨害変数が原因である。
一般的考察により、周波数スペクトル内に信号ピークとして現われる妨害変数は、内部からのみならず外部の境界条件、走査状態またはエラー状態から発生することがある。内部原因は、例えば、可動に装着された位置測定装置の部品の取付(回転伝送器の伝送器軸または長さ測定装置の走査ヘッドの取付)における公差ないしはエラー機能である。
外部妨害変数は、位置測定装置の使用分野においてそれぞれ、例えば、
駆動装置回転伝送器がその軸に連結されている駆動モータの磁気静止モーメント、
位置測定装置以外のジャーナル軸受の公差およびエラー機能、
多軸工作機械における軸駆動装置の相互作用、
位置測定装置の組立エラー、
機械部品、または工作機械における工具の摩耗、または
特に工作機械内のワークの加工における駆動モータの荷重状況、のような種々の原因を有することがある。
自動化技術において、特に工作機械の場合、位置測定装置は、たいていの場合、駆動装置を制御する制御回路に対して位置情報を決定するために使用されるので、これが原因および作用の相互影響となり、すなわち、妨害変数の原因は位置測定に作用し、これは、一方で、制御回路に影響を与える(共鳴効果)。逆推測において、これは、位置に依存する測定信号Mの周波数領域での分析により、妨害の原因を推測することが可能であることを意味する。この知見は、一方で、全体システムの最適化に利用可能である。
妨害変数のできるだけ有効な決定および監視を可能にするために、信号分析ユニット50は、本発明によりパラメータ化可能に構成されている。以下の実施例に示されているように、パラメータ化可能性は、信号分析の実行、並びに信号分析の範囲に関連してもよい。
このために、図3は、信号分析ユニット50の第1実施形態を示す。信号分析ユニットは、データ検出ユニット52、入力メモリ54、出力メモリ55、パラメータメモリ56および計算ユニット58を含む。
パラメータメモリ56は、パラメータPARを記憶するために使用される。これから、パラメータは、計算ユニット58により、および場合によりデータ検出ユニット52によってもまた呼出し可能である。
データ検出ユニット52は、一定時間間隔で測定信号Mの実際測定値を検出するために使用される。時間間隔はサイクル信号から導き出されてもよく、サイクル信号は信号分析ユニット50に供給されかつ例えば計算ユニット58内の経過を制御する。サイクル信号は、水晶制御のサイクル発生器またはPLLから発生されてもよい。測定信号Mがアナログ信号である場合、データ検出ユニット52は、測定信号Mの瞬間値をディジタル測定値に変換するためのアナログ/ディジタル変換器を含む。ディジタル測定値は入口メモリ54内に記憶可能である。これに対して、測定信号Mが予めディジタルにコーディングされている場合、データ検出ユニット52は、実際測定値を読み取りかつそれを入力メモリ54内に記憶するためのインタフェースを含む。場合により、このために、位置センサ20に要求信号RQが出力可能である。
測定値の検出および記憶は、パラメータPARを介して、連続的にまたは命令制御されて実行可能である。連続測定値検出の場合、入力メモリ54は、古い測定値が周期的に上書きされるリングメモリとして形成されていることが有利である。
計算ユニット58は、入力メモリ54内の測定値から、少なくとも1つの周波数帯域内または入力信号の全帯域幅にわたり周波数スペクトル、特に振幅スペクトルを計算し、かつこれから、パラメータメモリ56内に記憶されているパラメータPARに基づいて、結果データEDを決定するように、適切に形成されている。結果データEDは、出力メモリ55内に記憶可能であり、かつそこから、インタフェースユニット40を介して、後置電子装置80に出力可能である。
以下に、図4により、適合可能パラメータに対するいくつかの例が説明される。
周波数帯域の決定により、例えば下限周波数fuおよび上限周波数foの定義により、周波数スペクトルは、ある範囲内において、目的に合わせて評価可能である。これは、妨害が予想される周波数範囲が監視されるべきとき、有利である。下限周波数fuが与えられない場合、周波数帯域は直流電圧値(fu=0Hz)により制限されている。上限周波数foが与えられない場合、周波数帯域は、走査定理により決定されている計算可能な最高周波数により制限されている。図示の例においては、結果データEDは、対応振幅A2、A3およびA4を有する周波数f2、f3およびf4を含む。
下限および上限周波数fo、fuの代わりに、周波数帯域は、中央周波数(上限および下限周波数fo、fuの間の平均値)および帯域幅(上限および下限周波数fo、fuの差)を与えることにより定義されてもよい。
例えば最大振幅を有する周波数の数Nのみが決定されるべきとき、結果範囲は、他のパラメータPARにより制限されてもよい。すなわち、N=2がセットされた場合、結果データは、振幅A2およびA4を有する周波数f2およびf4を含む。
その代わりにまたはそれに追加して、その振幅が限界振幅AGを超える周波数のみが決定されるように、他のパラメータPARを介して限界振幅AGが決定されてもよい。このようにして、確実な判定を可能にするために、その振幅が小さすぎる周波数成分は結果データEDから除外されてもよい。さらに、この選択は、(選択された周波数帯域内の)周波数スペクトルの振幅が、本来、限界振幅AGを超えているかどうかを決定するために利用可能である。この場合、1つのビットのみを含む結果データEDは十分である。図示の例において、結果データEDは、下限周波数fuおよび上限周波数foの間の周波数帯域内に、図示の限界振幅AGが超えられなければならないという条件のもとで、同様に、振幅A2およびA4を有する周波数f2およびf4を含む。
限界振幅AGは、この例においては、一定値により簡単に示されている。しかしながら、これは、任意の数学関数により形成されてもよい。複数の周波数帯域が評価されるべき場合、異なる周波数帯域に異なる限界振幅AGを割り当てることもまた可能である。このようにして、周波数スペクトルの評価に対する基準として使用される複雑な包絡線が形成されてもよい。
図5に示すように、下限周波数fuに対して、上限周波数foに対するよりもより高い周波数が選択されたとき、周波数帯域は評価から除外されてもよい。すなわち、例えば、増分位置測定装置の場合、一定運動速度で、位置信号の信号周波数(例えばf6)がその中に位置する周波数帯域は、妨害から発生した信号ピークのみが評価されるように、目的に合わせて評価から除外されてもよい。
評価に対して、特定の周波数におけるただ1つの振幅値ではなく、周波数帯域内の妨害の和に関心がある場合、同様に、パラメータPARを介して、(選択された周波数帯域内の信号パワーに対応して)周波数帯域内の信号ピークの有効値(二乗平均値、RMS)が計算されるように適合されてもよい。この評価に対してもまた、上記のパラメータPARとの組合せが有利であることがある。
さらに、評価に対して複数の周波数帯域が定義されてもよく、これに対して、場合により、別のパラメータPARが使用されてもよい。
さらに、パラメータPARを介して使用される評価方法(使用されるアルゴリズム)を選択し、かつ例えば周波数スペクトルの計算の基礎とされる周波数分析の定義により、パラメータ化する可能性が提供されてもよい。
位置測定装置10が角度測定装置または回転伝送器である場合、信号分析ユニット50内において、周波数スペクトルの代わりに次数スペクトルが計算されるとき、それは特に有利である。しかしながら、これが周波数範領域での信号分析である場合もまた、次数分析において、次数スペクトルの線に、位置測定装置10の軸、ないしはその角度位置が位置測定装置10により測定される軸の回転数の次数(倍数)が割り当てられている。したがって、次数分析は回転数に依存している。
軸が例えば毎分3000回転で回転する場合、それは50Hz(1/s)の回転数に対応する。したがって、第1次数の信号ピークは50Hzにおける測定信号Mの信号成分に対応する。次に、第2次数は100Hzに位置し、第3次数は150Hzに位置する、等である。
したがって、測定信号Mの妨害はしばしば回転数に依存し、すなわち、回転数の倍数である周波数において発生するので、この評価方法は有利である。これにより、回転数との関係は妨害影響の原因の識別を容易にする。
図6は、次数スペクトルに対する例を示す。第1次数の位置における測定信号Mの信号成分S1は最高信号振幅を有し、第4および第8次数の信号成分S4およびS8は測定信号Mの顕著な妨害成分を示す。この例においては、補助信号Hとして、信号分析ユニット50に回転数信号が供給されている。
周波数スペクトルにおける選択可能パラメータに対応して、ここでもまた、下限次数Ouおよび上限次数Ooにより制限された、選択された次数に対する帯域幅(次数範囲)、並びに信号成分S1ないしS12の信号振幅に対する任意の限界振幅AGが決定されてもよい。
次数スペクトルに基づいて信号分析を実行することは、特に、工作機械によるワークの加工において有利である。例えば、フライス加工において、工具切削によるワーク内への食い込みが振動の原因となることがある。振動の基本周波数は工具刃先の回転数およびフライス加工がその周囲に有する刃先の数に依存する。強い振動は「チャタリング」とも呼ばれ、それはワーク上に加工模様(いわゆるチャタリングマーク)を残すので好ましくない。次数範囲が、(スピンドルの回転数に刃先の数が乗算された)振動が予想される次数に制限された次数スペクトルにより、選択された次数(ないしは複数の次数)の信号振幅を含む結果データEDが発生されることがある。それに追加して、またはその代わりに、選択された次数(ないしは複数の次数)に対して限界振幅AGを決定することにより、振動が限界振幅AGを超えたかどうかが調査可能である。
周波数領域における信号分析のパラメータ化可能性は、加工の境界条件(回転数、工具、粗加工または精密加工、等)へのフレキシブルな適合を可能にする。
信号分析ユニット50は、周波数分析のみならず、次数分析もまた実行するように、適切に形成されていてもよい。いずれの評価方法が使用されるかの選択は、同様に、パラメータPARを介して行われてもよい。
図7は、信号分析ユニット50の代替実施形態を示す。それは、図3により説明された信号分析ユニット50とは、計算ユニット58の構成により異なっている。この例においては、計算ユニット58は、プログラミング可能フィルタ59、並びに後置されたRMS計算ユニット60を含む。
プログラミング可能フィルタ59は、高域フィルタ、低域フィルタ、帯域フィルタまたはノッチフィルタとして形成されていてもよい。場合により、フィルタのフィルタ機能はパラメータPARを介して選択可能であってもよい。前の例と同様に、評価される周波数帯域は、対応する限界周波数fu、fo(ないしは中央周波数および帯域幅)の決定により、同様にパラメータPARを介して適合可能である。
RMS計算ユニット60内において、フィルタリングされたデータの有効値(RMS)、すなわち選択された周波数帯域内の測定信号Mの全ての妨害の平均値が決定可能である。有効値は、信号分析ユニット50のこの変更態様の結果データEDを形成する。複数の周波数帯域の同時評価に対して、他のプログラミング可能フィルタ59およびRMS計算ユニット60が設けられていてもよい。
代替形態において、プログラミング可能フィルタ59は追従フィルタとして形成されている。追従フィルタは、その中央周波数が回転数と共に変化する帯域フィルタである。このために、信号分析ユニット50に、補助信号Hとして回転数信号が供給される。プログラミング可能フィルタ59の中央周波数は、ここでは、回転数信号の周波数に対して相対的に決定され、この場合、中央周波数の回転数信号の周波数からの間隔および帯域幅は、パラメータPARにより適合可能である。しかしながら、次数スペクトルの上記の決定と比較して、実際にはより簡単に、この変更態様により、回転数に依存した妨害が分析可能である。
図7に示した信号分析ユニット50の変更態様の評価方法(フィルタリングおよび有効値の計算)は、図3に示した変更態様の評価方法(周波数分析、次数分析)より複雑ではなくかつより少ない計算作業を必要とするにすぎない。したがって、計算作業が節約されるかまたは強度の計算の原因による動力損失およびこれに関連する位置測定装置内の熱の発生が回避されるべきとき、これは有利である。
上記のパラメータPARは測定信号Mの評価に関するものであり、したがって、評価パラメータと呼ばれてもよい。前の例により示されたように、評価パラメータは、結果データEDのタイプ、すなわち、結果データEDが、個々のビット、個別値、値の対、等であるかもまた直接決定可能である。
評価パラメータのほかに、パラメータPARは、さらに、測定信号Mの評価がいつ行われかついかなる条件で行われるかを決定する実行パラメータを含んでもよい。
すなわち、評価は、後置電子装置80の無条件または条件付きスタート命令によりスタート可能である。無条件スタート命令の場合、測定信号Mの評価のスタートは遅延なく行われる。条件付きスタート命令の場合、スタートは、例えば決定された絶対位置、速度の達成等の少なくとも1つの他の条件に依存する。このために必要な情報は、信号分析ユニット50に、例えば処理ユニット30からの補助信号Hを介して供給可能である。条件付きスタート命令が、位置測定装置10の内部で利用可能ではない情報を必要とする場合、この情報は外部信号を介して位置測定装置10に供給されてもよい。
さらに、測定信号Mの1回の評価のみを行わせるスタート命令は、連続評価をスタートさせるスタート命令から区別されてもよい。後者の場合、実際結果データEDは常に出力メモリ55内で利用可能である。
さらに、測定信号Mの評価を終了させる停止命令が設けられていてもよい。
図8は、本発明による位置測定装置10の他の実施例を示す。図1に関連して既に説明された構成部品は、同じ符号を有する。ここで、前の実施例との相違は、運動センサとして位置センサ20の代わりに別の加速度センサ120が使用されることである。位置センサ20は、この実施例においては、位置測定のみに使用される。このために、位置センサ20の位置測定信号MPは処理ユニット30に供給されている。
特に有利な構成において、加速度センサ120は位置測定装置10の構成部品と機械的に結合されている。このように、加速度センサは位置測定装置10の固定構成要素であり、かつ本発明による分析方法は、機械または装置への、位置測定装置10の所定の取付により、直ちに利用可能である。例えば、加速度センサ120は、位置測定装置10のハウジングの内部に配置されている。長さ測定装置の場合、加速度センサ120は、例えば走査ヘッドのハウジング内に配置されていてもよく、回転伝送器の場合、目盛キャリヤ12および信号処理のための電子装置部品もまたその中に存在するハウジングの内部の適切な場所に配置されていてもよい。工作機械またはロボットアームのように複数の可動軸を有する機械の場合、位置測定装置10、ないしは加速度センサ120がそれと機械的に結合されている構成部品が位置決め過程において共に移動されるとき、位置測定装置10に付属された、(その運動が位置測定装置10により測定される)可動軸以外の他の可動軸の影響は、加速度センサ120により分析可能である。
その代わりに、加速度センサ120は、位置測定装置10の外部で、監視される機械部品に配置されていてもよい。このとき、測定信号Mの、位置測定装置10、ないしは信号分析ユニット50を含む評価電子装置への伝送は、適切なインタフェースを介して行われる。信号伝送は、アナログまたはディジタルで、有線または無線で(光学的にまたは無線信号により)行われてもよい。
一方で、加速度センサ120の測定信号Mは信号分析ユニット50に供給されている。この測定信号Mもまた、時間的に変化する、運動に依存した信号である。したがって、図2ないし7により得られた全ての知見はこの実施例に転用可能であり、かつ信号分析ユニット50は図3および7により説明されたように使用可能である。この場合もまた、測定信号Mを選択可能な時間内でおよび/または割り当てられた周波数帯域内で目的に合わせて評価するために、信号分析ユニット50のパラメータ化可能性はきわめて有利である。
特に評価のスタートが位置に依存して行われるべきとき、処理ユニット30から、対応信号情報を有する補助信号Hが、信号分析ユニット50に出力されてもよい。
この実施形態は、機械の振動が位置測定装置10の範囲内で評価されるべきときもまた、特に有利である。振動はモータの静止モーメントから、ワークの加工、ウォブル効果および不釣合い効果等から発生することがある。
加速度センサの代わりに、運動に依存した測定信号を発生する、例えば固体伝搬音センサまたは機械部品の弾性変形がそれにより測定可能なセンサのような他のセンサが使用されてもよい。
図9は、本発明による位置測定装置10の他の実施例を示す。前の実施例とは、一方で、3つの運動方向X、Y、Z内の加速度を検出する加速度センサ220が使用されることにおいて異なっている。対応測定信号MX、MY、MZは信号分析ユニット50に供給されている。他方で、第1実施例のように、位置測定信号MPが同様に信号分析ユニット50に供給されている。したがって、加速度センサ220のみならず、位置センサ20もまた、本発明による運動センサである。
信号分析ユニット50は、測定信号MX、MY、MZ、MPの完全または部分平行処理用に設計されていることが有利である。それが図3により説明されたような信号分析ユニット50である場合、測定信号MX、MY、MZ、MPの平行処理のために、信号ごとに、データ検出ユニット52、計算ユニット58、入力メモリ54および出力メモリ55が設けられている。全ての測定信号MX、MY、MZ、MPが同じパラメータに基づいて評価されるべき場合、共通に利用可能なパラメータメモリ56で十分である。部分平行処理のために、データ検出を並列に実行しかつ計算のみを相前後して共通の計算ユニット58内において実行することは有意義である。
これと同様に、図7に示した信号分析ユニット50が完全または部分平行処理のために使用されてもよく、この場合もまた、測定信号MX、MY、MZ、MPの測定値を並列に検出しかつ計算のみを相前後して実行することが有利である。
この実施例において、後置電子装置80との通信は、それぞれディジタルの双方向データインタフェースとして形成されていてもよい、2つの別々のデータ伝送チャネル44、46を介して行われる。すなわち、位置測定装置10の所定の操作(特に位置値Pの要求および伝送)に関する通信は、例えばEnDatのような特定の測定装置インタフェースを介して行われてもよく、一方、パラメータPARおよび結果データEDの伝送は、例えばフィールドバス(ProfiBus、ProfiNet、・・・)のような他のデータインタフェースを介して行われてもよい。通信のために、別々のインタフェースモジュール40.1、40.2が設けられていてもよく、これらは、後置電子装置80の異なるモジュール80.1、80.2と結合され、この場合、モジュール80.1、80.2は別々のユニット(装置)であってもよい。
加速度(振動)の原因となる妨害変数が、ここでは3つの空間方向において検出されることにより、このとき、妨害が位置測定装置10に作用する方向が推測可能である。さらに、位置測定信号MPもまた信号分析ユニット50内において評価されるので、妨害変数と位置測定における測定エラーの相関を作成することもまた可能である。パラメータPARの適合により、一方で、目的に合わせて周波数帯域が選択されかつ監視され、他方で、評価に対するスタート時点の決定により、増大された電流消費およびこの結果としての熱の発生によって観察可能な位置測定装置10の電子装置の不必要な負荷が回避可能である。この場合、特に、評価のパラメータ化可能性により、特に有効な機械特性の分析が可能であることは明らかである。
図10は、本発明による位置測定装置10の他の実施例を示す。この位置測定装置10は、回転伝送器または角度測定装置として形成されている。したがって、目盛キャリヤ12は、回転点Dの周りに回転可能に取り付けられた円形ディスクまたはリングである。測定目盛14は回転点Dの周りに同心に配置され、かつ2つの位置センサ20.1、20.2により走査される。その部分測定信号M1、M2は処理ユニット30に供給され、かつ位置信号Pに処理される。周囲の(例えば180°だけオフセットされた)異なる位置にある測定目盛14の走査により、目盛キャリヤ12の偏心運動およびウォブル運動から発生する測定エラーが補正可能である。
それ自身既知の、位置信号Pの補正方法のほかに、部分測定信号M1、M2は前処理ユニット25にもまた供給され、前処理ユニットは部分測定信号M1、M2を測定信号Mに処理する。前処理ユニット25は、このために、目盛キャリヤ12の偏心運動および/またはウォブル運動に対する尺度である、部分測定信号M1、M2の差信号を形成することが有利である。位置センサ20.1、20.2は、このように、前処理ユニット25と結合されて、本発明による運動センサを形成する。
目盛キャリヤ12の周囲に等間隔に配置されていることが有利な、2つより多い位置センサが使用されてもよい。特に大きな直径を有する目盛キャリヤの場合、位置センサ20.1、20.2は別のハウジング内に配置されていてもよい。
測定信号Mの評価のために、図3または7に示した信号分析ユニット50が使用されてもよい。場合により、この実施例においてもまた、信号分析ユニット50内において、パラメータPARを介して選択可能な複数の評価方法が利用可能であってもよい。
この実施例は、目盛キャリヤ12の偏心運動および/またはウォブル運動の詳細な分析を可能にし、これから、同様に、その回転運動が位置測定装置10により測定される軸の支持、並びに位置測定装置10のこの軸への取付を推測することが可能である。図1、7および8に示した実施例の構成特徴を有する組合せが可能である。
本発明は、記載の実施例に制限されず、請求項の範囲内において、当業者により代替態様が形成可能であることは当然である。特に、上記の実施例により示されたパラメータ以外の追加または代替パラメータを必要とする代替評価方法に基づいた信号分析ユニット50が使用されてもよい。
10 位置測定装置
12 目盛キャリヤ
14 測定目盛
20 運動センサ、位置センサ
20.1、20.2 位置センサ
25 前処理ユニット
30 処理ユニット
40 インタフェースユニット
40.1、40.2 インタフェースモジュール
44、46 データ伝送チャネル
50 信号分析ユニット
52 信号検出ユニット、データ検出ユニット
54 入力メモリ
55 出力メモリ
56 パラメータメモリ
58 計算ユニット
59 プログラミング可能フィルタ
60 RMS計算ユニット
80 後置電子装置
80.1、80.2 モジュール
120、220 運動センサ、加速度センサ
A 振幅値、振幅
AG 限界振幅
D 回転点
ED 結果データ
f 周波数
fo 上限周波数
fu 下限周波数
H 補助信号
M、MP、MX、MY、MZ 測定信号
M1、M2 部分測定信号
次数
Oo 上限次数
Ou 下限次数
P 位置信号、位置値
PAR パラメータ
RQ 要求信号
S 信号成分
X、Y、Z 運動方向

Claims (15)

  1. その上に測定目盛(14)が配置されている目盛キャリヤ(12)と、
    少なくとも1つの位置センサ(20)であって、該位置センサを用いて測定目盛(14)を走査することにより位置に依存した測定信号(M、MP)を発生可能である、前記少なくとも1つの位置センサ(20)と、
    処理ユニットであって、該処理ユニットを用いて前記位置に依存した測定信号(M、MP)を位置信号(P)に処理可能である、前記処理ユニットと、
    少なくとも1つのデータ伝送チャネル(44、46)を介して後置電子装置(80)に前記位置信号(P)を伝送するインタフェースユニット(40)と、を有する位置測定装置において、
    前記位置測定装置(10)に少なくとも1つの運動センサ(20、120、220)が付属され、該運動センサは時間的に変化する測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)を発生し、該測定信号は信号分析ユニット(50)に供給され、該信号分析ユニットにより測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)が周波数領域で評価可能でありかつこの評価はパラメータ(PAR)に依存し、パラメータは後置電子装置(80)からインタフェースユニット(40)に伝送可能であり、かつ測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の評価から得られた結果データ(ED)はインタフェースユニット(40)から後置電子装置(80)に伝送可能である、位置測定装置。
  2. 少なくとも1つの運動センサ(20、120、220)は位置センサ(20)である、請求項1に記載の位置測定装置。
  3. 少なくとも1つの運動センサ(20、120、220)は、測定目盛(14)の走査により部分測定信号(M1、M2)を発生する少なくとも2つの位置センサ(20.1、20.2)、および部分測定信号(M1、M2)を測定信号(M)に処理する前処理ユニット(25)から形成されている、請求項1に記載の位置測定装置。
  4. 少なくとも1つの運動センサ(20、120、220)は加速度センサまたは固体伝搬音センサである、請求項1ないし3のいずれかに記載の位置測定装置。
  5. 信号分析ユニット(50)は、パラメータ(PAR)を記憶することが可能なパラメータメモリ(56)を有する、請求項1ないし4のいずれかに記載の位置測定装置。
  6. 信号分析ユニット(50)は、少なくとも1つの運動センサ(20、120、220)の測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の測定値を検出する信号検出ユニット(52)、並びに結果データ(ED)を計算する計算ユニット(58)を有し、この場合、結果データ(ED)はパラメータ(PAR)に依存する、請求項1ないし5のいずれかに記載の位置測定装置。
  7. 計算ユニット(58)内において測定値の周波数分析が実行可能である、請求項6に記載の位置測定装置。
  8. 信号分析ユニット(50)に、回転数信号である補助信号(H)が供給され、かつ計算ユニット(58)内において、測定値の次数分析が実行可能である、請求項6に記載の位置測定装置。
  9. 計算ユニット(58)は、測定値をフィルタリングするプログラミング可能フィルタ(59)、並びにフィルタリングされた測定値から有効値を計算するRMS計算ユニット(60)を有する、請求項6に記載の位置測定装置。
  10. 少なくとも1つの運動センサ(20、120、220)は位置測定装置(10)の構成部品と機械的に結合されている、請求項1ないし9のいずれかに記載の位置測定装置。
  11. パラメータ(PAR)を後置電子装置(80)から位置測定装置(10)に伝送するステップ、
    信号分析ユニット(50)内において、パラメータ(PAR)を考慮して、測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の周波数領域における評価により結果データ(ED)を決定するステップ、および結果データ(ED)を後置電子装置(80)に伝送するステップ、を有する、請求項1ないし10のいずれかに記載の位置測定装置の操作方法。
  12. パラメータ(PAR)は評価パラメータを含む、請求項11に記載の方法。
  13. パラメータ(PAR)は、次の評価パラメータ、
    周波数帯域(fu、fo)、
    次数範囲(Ou、Oo)、
    限界振幅(AG)、
    結果周波数の数(N)、
    評価方法、
    プログラミング可能フィルタ(59)のフィルタ機能、の少なくとも1つを含む、請求項12に記載の方法。
  14. パラメータ(PAR)は実行パラメータを含む、請求項11ないし13のいずれかに記載の方法。
  15. パラメータ(PAR)は、次の実行パラメータ、
    測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の評価のための無条件スタート命令、
    測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の評価のための条件付きスタート命令、
    測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の1回の評価のための命令、
    測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の連続評価のための命令、
    測定信号(M、MP、MX、MY、MZ)の評価の終了のための停止命令、の少なくとも1つを含む、請求項14に記載の方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6085658B1 (ja) * 2015-10-28 2017-02-22 Thk株式会社 位置検出装置及び位置検出装置付き運動案内装置
IT201700068900A1 (it) * 2017-06-21 2018-12-21 Algra S P A Dispositivo per il posizionamento angolare preciso di porta-utensili utilizzabili su macchine a controllo numerico e porta-utensili provvisto di tale dispositivo
JP7071790B2 (ja) * 2017-11-10 2022-05-19 株式会社ミツトヨ 変位測定装置
CN110489604B (zh) * 2019-07-31 2023-09-05 中国航发沈阳发动机研究所 一种用于燃气轮机试验测量数据的解析方法及***
EP3809109A1 (en) * 2019-10-16 2021-04-21 Siemens Aktiengesellschaft Smart motor data analytics with real-time algorithm
DE102020124933A1 (de) 2020-09-24 2022-03-24 Sick Ag Verfahren zum Überwachen einer Welle
EP4372319A1 (de) * 2022-11-17 2024-05-22 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Positionsmesssystem und verfahren zur bitseriellen mittelwertbildung von positionswerten

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3829815A1 (de) * 1988-09-02 1990-03-22 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Positionsmesseinrichtung
DE19539633C2 (de) 1995-10-25 1998-06-04 Heraeus Instr Gmbh & Co Kg Verfahren zur Ermittlung einer Unwucht eines mittels einer Antriebseinrichtung in Drehung versetzten Rotors einer Zentrifuge und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
AU2003257412A1 (en) * 2002-04-13 2003-11-11 I-For-T Gmbh Vibration sensor and method for monitoring the condition of rotating components and bearings
WO2007123533A1 (en) * 2006-04-21 2007-11-01 Flowserve Management Company Rotary encoder frequency analysis
CN100491897C (zh) * 2007-05-14 2009-05-27 上海大学 对径及平行多位测量轧辊圆度误差和机床主轴运动误差的方法
JP4591491B2 (ja) * 2007-09-14 2010-12-01 日本精工株式会社 鉄道車両用センサ付回転支持装置
DE102007057376A1 (de) * 2007-11-26 2009-05-28 Baumer Hübner GmbH Drehgeber mit interner Fehlerkontrolle und Verfahren hierzu
ES2385173T3 (es) * 2008-07-23 2012-07-19 Sick Stegmann Gmbh Procedimiento para la transmisión de datos digital bidireccional
SE534939C2 (sv) 2010-04-09 2012-02-21 Leine & Linde Ab Förfarande och anordning för att bestämma parametrar relaterade till typer av vibrationer för en avkodare monterad på en axel
DE102011083042A1 (de) * 2010-11-29 2012-05-31 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Überwachungseinheit und Verfahren zur Überwachung von Positionssignalen inkrementaler Positionsmesseinrichtungen
CN102564476B (zh) * 2011-10-28 2014-08-06 北京航空航天大学 多点扰动定位方法
ES2639768T3 (es) * 2012-01-30 2017-10-30 S.P.M. Instrument Ab Aparato y procedimiento para analizar la condición de una máquina con una parte rotativa
DE102012201651A1 (de) * 2012-02-03 2013-08-08 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung
DE102012207656A1 (de) * 2012-05-08 2013-11-14 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung und Verfahren zum Betreiben der Positionsmesseinrichtung
EP2690737B1 (de) 2012-07-25 2017-08-30 Nexans Anordnung mit drei supraleitfähigen Phasenleitern
DE102013219277A1 (de) * 2013-09-25 2015-03-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Arbeitstaktsignals
DE102014212288A1 (de) * 2014-06-26 2015-12-31 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Triggersignals in einer Positionsmesseinrichtung und Positionsmesseinrichtung hierzu
DE102014225867A1 (de) * 2014-12-15 2016-06-16 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Arbeitstaktsignals einer Positionsmesseinrichtung
CN104897089A (zh) * 2015-06-18 2015-09-09 四川汇源光通信有限公司 输电线动弯应变量测量***及方法
ES2656388T3 (es) * 2015-07-27 2018-02-27 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Dispositivo de medición de posición y procedimiento para su funcionamiento
DE102015223061A1 (de) * 2015-11-23 2017-05-24 Dr. Johannes Heidenhain Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung Winkelmesseinrichtung und Verfahren zum Betreiben einer Winkelmesseinrichtung

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