JP2019054041A - Holding device - Google Patents

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Abstract

To suppress the worsening of the uniformity of a temperature distribution of a first surface of a ceramic plate owing to the presence of a hole for a terminal.SOLUTION: A holding device 100 comprises: a ceramic plate 10 having a first surface substantially orthogonal to a first direction Z; a base member 20; an adhesive part 30; a first heating resistor disposed in each segment of the ceramic plate; and a plurality of power-supply pads 70 each disposed at a location corresponding to a hole Ht1 for a terminal in a second surface S2 of the ceramic plate. The holding device further comprises: a connection member 72 provided for each of the plurality of power-supply pads; one mount connector or flexible printed wiring board, having a plurality of conductive regions 84; a power-supply terminal 80 electrically connected to each connection member; and an insulative spacer 90 disposed between two power-supply pads adjacent to each other.SELECTED DRAWING: Figure 9

Description

本明細書に開示される技術は、対象物を保持する保持装置に関する。   The technology disclosed in this specification relates to a holding device that holds an object.

例えば半導体を製造する際にウェハを保持する保持装置として、静電チャックが用いられる。静電チャックは、セラミックス板と、ベース部材と、セラミックス板とベース部材とを接着する接着部と、セラミックス板の内部に設けられたチャック電極とを備えており、チャック電極に電圧が印加されることにより発生する静電引力を利用して、セラミックス板の表面(以下、「吸着面」という)にウェハを吸着して保持する。   For example, an electrostatic chuck is used as a holding device for holding a wafer when manufacturing a semiconductor. The electrostatic chuck includes a ceramic plate, a base member, an adhesive portion for bonding the ceramic plate and the base member, and a chuck electrode provided inside the ceramic plate, and a voltage is applied to the chuck electrode. The wafer is adsorbed and held on the surface of the ceramic plate (hereinafter referred to as “adsorption surface”) by utilizing the electrostatic attractive force generated by this.

静電チャックの吸着面に保持されたウェハの温度分布が不均一になると、ウェハに対する各処理(成膜、エッチング等)の精度が低下するおそれがあるため、静電チャックにはウェハの温度分布をできるだけ均一にする性能が求められる。そのため、例えば、セラミックス板に配置された発熱抵抗体(ヒータ)による加熱や、ベース部材に形成された冷媒流路に冷媒を供給することによる冷却によって、セラミックス板の吸着面の温度制御が行われる。   If the temperature distribution of the wafer held on the chucking surface of the electrostatic chuck becomes non-uniform, the accuracy of each process (film formation, etching, etc.) on the wafer may be reduced. Is required to be as uniform as possible. Therefore, for example, the temperature control of the adsorption surface of the ceramic plate is performed by heating with a heating resistor (heater) arranged on the ceramic plate or cooling by supplying a refrigerant to the refrigerant flow path formed in the base member. .

静電チャックには、発熱抵抗体への給電のための構成が設けられている。具体的には、ベース部材および接着部に端子用孔を構成する貫通孔が形成されている。また、セラミックス板の吸着面とは反対側の表面(以下、「下面」という)における端子用孔に対応する位置(端子用孔の延伸方向において端子用孔と重なる位置)に、発熱抵抗体と電気的に接続された給電パッドが配置されている。端子用孔には給電端子が挿入され、該給電端子は給電パッドと電気的に接続されている。このような構成では、電源から、給電端子および給電パッドを介して、発熱抵抗体への給電が行われる。   The electrostatic chuck is provided with a configuration for supplying power to the heating resistor. Specifically, a through hole that forms a terminal hole is formed in the base member and the bonding portion. In addition, the heating resistor is disposed at a position corresponding to the terminal hole on the surface opposite to the adsorption surface of the ceramic plate (hereinafter referred to as “lower surface”) (position overlapping the terminal hole in the extending direction of the terminal hole). An electrically connected power supply pad is disposed. A power supply terminal is inserted into the terminal hole, and the power supply terminal is electrically connected to the power supply pad. In such a configuration, power is supplied from the power source to the heating resistor through the power supply terminal and the power supply pad.

従来、発熱抵抗体への給電のための給電端子として、実装コネクタやフレキシブルプリント配線板(Flexible Printed Circuits、以下、「FPC」という)を用いることにより、複数の発熱抵抗体用の給電端子を集約する技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, a plurality of power supply terminals for heating resistors are gathered by using a mounting connector or a flexible printed circuit board (hereinafter referred to as “FPC”) as a power supply terminal for supplying power to the heating resistor. The technique to do is known (for example, refer patent document 1).

近年、ウェハの温度分布の均一性をさらに向上させるために、セラミックス板の全部または一部が複数の仮想的な領域(以下、「セグメント」という)に分割され、各セグメントに発熱抵抗体が配置された構成が採用されることがある。このような構成によれば、セラミックス板の各セグメントに配置された発熱抵抗体への印加電圧を個別に制御することによって各セグメントの温度を個別に制御することができ、その結果、セラミックス板の吸着面の温度分布の均一性(すなわち、ウェハの温度分布の均一性)をさらに向上させることができる。   In recent years, in order to further improve the uniformity of the temperature distribution of the wafer, all or part of the ceramic plate is divided into a plurality of virtual regions (hereinafter referred to as “segments”), and heating resistors are arranged in each segment. May be adopted. According to such a configuration, the temperature of each segment can be individually controlled by individually controlling the voltage applied to the heating resistor disposed in each segment of the ceramic plate. The uniformity of the temperature distribution on the suction surface (that is, the uniformity of the temperature distribution of the wafer) can be further improved.

このようなセラミックス板の各セグメントに発熱抵抗体が配置された構成において、発熱抵抗体への給電のための給電端子として実装コネクタやFPCを用いると、複数の発熱抵抗体用の給電端子を集約することができ、その結果、ベース部材および接着部に形成される端子用孔の個数を減らすことができる。ベース部材および接着部に形成される端子用孔の位置では、ベース部材とセラミックス板との間の伝熱性が低下するため、ベース部材に形成された冷媒流路に供給される冷媒によるセラミックス板の冷却効果が低下し、セラミックス板の吸着面における対応する箇所が温度特異点となり、吸着面の温度分布の均一性が低下するおそれがある。そのため、端子用孔の個数を減らすことができれば、端子用孔の存在に起因するセラミックス板の吸着面の温度分布の均一性の低下を抑制することができるため、好ましい。   In a configuration in which a heating resistor is arranged in each segment of such a ceramic plate, when a mounting connector or FPC is used as a feeding terminal for feeding power to the heating resistor, a plurality of feeding terminals for the heating resistor are aggregated. As a result, the number of terminal holes formed in the base member and the bonding portion can be reduced. At the positions of the terminal holes formed in the base member and the bonding portion, the heat transfer between the base member and the ceramic plate is reduced, so that the ceramic plate by the refrigerant supplied to the refrigerant flow path formed in the base member. The cooling effect is reduced, and the corresponding portion on the adsorption surface of the ceramic plate becomes a temperature singularity, which may reduce the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface. Therefore, if the number of terminal holes can be reduced, it is preferable because a decrease in the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface of the ceramic plate due to the presence of the terminal holes can be suppressed.

国際公開第2017/115758号International Publication No. 2017/115758

しかしながら、従来の静電チャックの構成では、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の吸着面の温度特異点により吸着面の温度分布の均一性が低下することを十分に抑制することができない、という課題がある。すなわち、上述したような実装コネクタやFPCを用いて複数の発熱抵抗体用の給電端子を集約した構成では、1つの端子用孔に対応する位置に複数の給電パッドが配置されるため、端子用孔が大きくなりやすく、その結果、端子用孔の存在に起因してセラミックス板の吸着面の温度分布の均一性が低下しやすい。また、端子用孔を小さくするために給電パッド間の間隔を短くすると、給電パッド間の短絡が発生するおそれがある。このように、従来の静電チャックの構成では、端子用孔の大きさを小さくすることが容易ではないため、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の吸着面の温度特異点により吸着面の温度分布の均一性が低下することを十分に抑制することができない、という課題がある。   However, in the configuration of the conventional electrostatic chuck, it is not possible to sufficiently suppress the uniformity of the temperature distribution on the suction surface due to the temperature singularity of the suction surface of the ceramic plate due to the presence of the terminal holes. There is a problem. That is, in the configuration in which a plurality of power supply terminals for heating resistors are aggregated using the above-described mounting connector or FPC, a plurality of power supply pads are arranged at positions corresponding to one terminal hole. The holes are likely to be large, and as a result, the uniformity of the temperature distribution on the adsorption surface of the ceramic plate tends to be reduced due to the presence of the terminal holes. Further, if the interval between the power supply pads is shortened in order to reduce the terminal hole, a short circuit between the power supply pads may occur. As described above, in the configuration of the conventional electrostatic chuck, it is not easy to reduce the size of the terminal hole. Therefore, the temperature of the adsorption surface of the ceramic plate due to the presence of the terminal hole makes the adsorption surface There exists a subject that it cannot fully suppress that the uniformity of temperature distribution falls.

なお、このような課題は、静電引力を利用してウェハを保持する静電チャックに限らず、セラミックス板と、ベース部材と、接着部と、セラミックス板の各セグメント内に配置された発熱抵抗体とを備え、セラミックス板の表面上に対象物を保持する保持装置一般に共通の課題である。   Such a problem is not limited to the electrostatic chuck that holds the wafer by using electrostatic attraction, but the heating resistor disposed in each segment of the ceramic plate, the base member, the bonding portion, and the ceramic plate. This is a common problem for a holding device that includes a body and holds an object on the surface of a ceramic plate.

本明細書では、上述した課題を解決することが可能な技術を開示する。    In this specification, the technique which can solve the subject mentioned above is disclosed.

本明細書に開示される技術は、例えば、以下の形態として実現することが可能である。   The technology disclosed in the present specification can be realized as, for example, the following forms.

(1)本明細書に開示される保持装置は、第1の方向に略直交する略平面状の第1の表面と、第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有するセラミックス板と、第3の表面を有し、前記第3の表面が前記セラミックス板の前記第2の表面に対向するように配置され、冷媒流路と、前記第3の表面に開口する第1の貫通孔と、が形成されたベース部材と、前記セラミックス板の前記第2の表面と前記ベース部材の前記第3の表面との間に配置され、前記ベース部材の前記第1の貫通孔と連通し、前記第1の貫通孔と共に端子用孔を構成する第2の貫通孔が形成された接着部と、前記セラミックス板の少なくとも一部を前記第1の方向に直交する方向に並ぶ複数のセグメントに仮想的に分割したときの各前記セグメント内に配置された第1の発熱抵抗体と、前記セラミックス板の前記第2の表面における前記端子用孔に対応する位置に配置され、複数の前記第1の発熱抵抗体と電気的に接続された導電性の複数の給電パッドと、を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、さらに、前記複数の給電パッドのそれぞれについて設けられた接続部材と、複数の導電領域を有する1つの実装コネクタまたはフレキシブルプリント配線板により構成され、前記端子用孔内において各前記導電領域が各前記接続部材と電気的に接続された給電端子と、前記給電端子と前記セラミックス板の前記第2の表面との間において、互いに隣り合う2つの前記給電パッドの間に配置された絶縁性のスペーサーと、を備える。本保持装置では、互いに隣り合う2つの給電パッドの間に絶縁性のスペーサーが配置されているため、2つの給電パッドの間の絶縁性が向上する(すなわち、短絡の可能性が低下する)。そのため、そのようなスペーサーが配置されていない構成と比較して、2つの給電パッドの間隔を短くすることができ、その結果、端子用孔の大きさ(径)を小さくすることができる。従って、本保持装置によれば、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の第1の表面の温度特異点により第1の表面の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。 (1) A holding device disclosed in the present specification is a ceramic having a substantially planar first surface that is substantially orthogonal to a first direction and a second surface opposite to the first surface. A first surface that has a plate and a third surface, the third surface is disposed to face the second surface of the ceramic plate, and opens to the coolant channel and the third surface; A base member formed with a through-hole, and is disposed between the second surface of the ceramic plate and the third surface of the base member, and communicates with the first through-hole of the base member. And a plurality of segments in which at least a part of the ceramic plate is arranged in a direction perpendicular to the first direction, and an adhesive portion in which a second through hole that forms a terminal hole is formed together with the first through hole. The first source arranged in each segment when virtually divided into A plurality of conductive power supply pads disposed at positions corresponding to the terminal holes on the second surface of the ceramic plate and electrically connected to the plurality of first heating resistors; A holding device for holding an object on the first surface of the ceramic plate, and further comprising a connection member provided for each of the plurality of power supply pads and a plurality of conductive regions. A power supply terminal that is configured by a connector or a flexible printed wiring board, and each of the conductive regions is electrically connected to the connection member in the terminal hole, the power supply terminal, and the second surface of the ceramic plate And an insulating spacer disposed between the two power supply pads adjacent to each other. In this holding device, since the insulating spacer is disposed between two power feeding pads adjacent to each other, the insulation between the two power feeding pads is improved (that is, the possibility of a short circuit is reduced). Therefore, compared with a configuration in which such a spacer is not arranged, the interval between the two power supply pads can be shortened, and as a result, the size (diameter) of the terminal hole can be reduced. Therefore, according to this holding device, it can suppress that the uniformity of the temperature distribution of the 1st surface falls by the temperature singularity of the 1st surface of the ceramic board resulting from presence of the hole for terminals.

(2)上記保持装置において、前記接続部材は、前記給電パッド上に配置された導電性の基部と、前記基部から前記セラミックス板の前記第2の表面から遠ざかる方向に延びる導電性の棒状部と、を有し、前記セラミックス板の前記第2の表面における前記端子用孔に対応する位置に、第1の前記給電パッドと、前記第1の給電パッドを挟んで隣り合う第2および第3の前記給電パッドと、を含む3つ以上の前記給電パッドが配置され、前記スペーサーは、前記第1の給電パッドと前記第2の給電パッドとの間である第1の位置と、前記第1の給電パッドと前記第3の給電パッドとの間である第2の位置と、に配置され、前記保持装置は、さらに、前記第1の位置に配置された前記スペーサーと前記第2の位置に配置された前記スペーサーとの間に充填され、前記第1の給電パッドと、前記第1の給電パッドについて設けられた前記接続部材における前記基部と前記棒状部における前記基部側の一部分と、を覆う絶縁性樹脂を備える構成としてもよい。本保持装置では、第1の給電パッドと第2の給電パッドとの間の第1の位置に配置されたスペーサーと、第1の給電パッドと第3の給電パッドとの間の第2の位置に配置されたスペーサーとの間に、絶縁性樹脂が充填されており、該絶縁性樹脂が、第1の給電パッドと、第1の給電パッドについて設けられた接続部材における基部と棒状部における基部側の一部分とを覆っている。そのため、絶縁性樹脂の存在により、第1の給電パッドと第2および第3の給電パッドとの間の絶縁性、および、各給電パッドに設けられた接続部材の間の絶縁性が向上する(すなわち、短絡の可能性が低下する)。従って、そのような絶縁性樹脂が充填されていない構成と比較して、各給電パッドの間隔をさらに短くすることができ、その結果、端子用孔の大きさ(径)をさらに小さくすることができる。そのため、本保持装置によれば、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の第1の表面の温度特異点により第1の表面の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。 (2) In the holding device, the connection member includes a conductive base portion disposed on the power supply pad, and a conductive rod-shaped portion extending from the base portion in a direction away from the second surface of the ceramic plate. , And at the position corresponding to the terminal hole on the second surface of the ceramic plate, the first power supply pad and the second and third adjacent to each other across the first power supply pad Three or more of the power supply pads including the power supply pad are disposed, and the spacer has a first position between the first power supply pad and the second power supply pad, and the first power supply pad. A second position between the power supply pad and the third power supply pad; and the holding device is further disposed at the second position and the spacer disposed at the first position. Said spacer and An insulating resin that is filled in between and covers the first power supply pad and the base portion of the connecting member provided for the first power supply pad and a portion of the rod-shaped portion on the base side. Also good. In the holding device, the spacer disposed at the first position between the first power supply pad and the second power supply pad, and the second position between the first power supply pad and the third power supply pad. Insulating resin is filled between the spacers disposed on the first power feeding pad, a base in the connecting member provided for the first power feeding pad, and a base in the rod-shaped part. Covering part of the side. Therefore, the presence of the insulating resin improves the insulation between the first power supply pad and the second and third power supply pads and the insulation between the connection members provided on each power supply pad ( That is, the possibility of a short circuit is reduced). Therefore, compared with a configuration in which such an insulating resin is not filled, the interval between the power supply pads can be further shortened, and as a result, the size (diameter) of the terminal hole can be further reduced. it can. Therefore, according to the present holding device, it is more effectively suppressed that the uniformity of the temperature distribution of the first surface is lowered due to the temperature singularity of the first surface of the ceramic plate due to the presence of the terminal hole. be able to.

(3)上記保持装置において、前記スペーサーにおける前記セラミックス板の前記第2の表面に対向する側とは反対側の表面は、前記第1の方向に対して0度より大きく90度より小さい傾きを有する略平面状の第1の領域を有し、前記給電端子は、前記端子用孔内に配置され、前記第1の方向に略平行な方向に延びる第1の端子部分と、前記第1の端子部分における前記セラミックス板の前記第2の表面に近い側の端部から、前記スペーサーの前記表面の前記第1の領域に沿って、前記セラミックス板の前記第2の表面に近づく方向に延びる部分であり、前記接続部材と電気的に接続された箇所を含む第2の端子部分と、を有する構成としてもよい。給電端子の第2の端子部分が第1の方向に略直交する方向に延びる構成では、給電端子が、第1の端子部分と第2の端子部分との接続箇所で比較的大きく(深く)折り曲げられることとなる。また、上記接続箇所では、折り曲げに伴う導電領域の破損を抑制するために、ある程度以上のR(曲率半径)を確保して折り曲げられる。そのため、このような構成では、第1の方向に直交する方向における上記接続箇所の大きさが比較的大きくなり、その結果、給電端子を収容する端子用孔の大きさ(径)が比較的大きくなる。これに対し、本保持装置では、給電端子の第2の端子部分が、第1の端子部分におけるセラミックス板の第2の表面に近い側の端部からスペーサーの第1の領域に沿ってセラミックス板の第2の表面に近づく方向に延びているため、給電端子における第1の端子部分と第2の端子部分との接続箇所での折り曲げの程度が比較的小さく(浅く)なる。そのため、本保持装置では、第1の方向に直交する方向における上記接続箇所の大きさが比較的小さくなり、その結果、給電端子を収容する端子用孔の大きさ(径)をさらに小さくすることができる。従って、本保持装置によれば、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の第1の表面の温度特異点により第1の表面の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。 (3) In the holding device, a surface of the ceramic plate opposite to the side facing the second surface of the spacer has an inclination greater than 0 degree and less than 90 degrees with respect to the first direction. A first region of the first terminal portion disposed in the terminal hole and extending in a direction substantially parallel to the first direction; and A portion extending from an end portion of the terminal portion closer to the second surface of the ceramic plate along the first region of the surface of the spacer in a direction approaching the second surface of the ceramic plate. It is good also as a structure which has a 2nd terminal part containing the location electrically connected with the said connection member. In the configuration in which the second terminal portion of the power supply terminal extends in a direction substantially orthogonal to the first direction, the power supply terminal is bent relatively large (deeply) at the connection portion between the first terminal portion and the second terminal portion. Will be. Moreover, in the said connection location, in order to suppress the failure | damage of the electroconductive area | region accompanying bending, it is bent, ensuring R (curvature radius) more than a certain amount. Therefore, in such a configuration, the size of the connection portion in the direction orthogonal to the first direction is relatively large, and as a result, the size (diameter) of the terminal hole that accommodates the power supply terminal is relatively large. Become. On the other hand, in this holding device, the second terminal portion of the power supply terminal is located along the first region of the spacer from the end portion of the first terminal portion on the side close to the second surface of the ceramic plate. Therefore, the degree of bending at the connection portion between the first terminal portion and the second terminal portion of the power supply terminal is relatively small (shallow). Therefore, in this holding device, the size of the connecting portion in the direction orthogonal to the first direction is relatively small, and as a result, the size (diameter) of the terminal hole that accommodates the power feeding terminal is further reduced. Can do. Therefore, according to the present holding device, it is more effectively suppressed that the uniformity of the temperature distribution of the first surface is lowered due to the temperature singularity of the first surface of the ceramic plate due to the presence of the terminal hole. be able to.

(4)上記保持装置において、前記給電端子は、はんだによって前記接続部材に接合されている構成としてもよい。本保持装置によれば、給電端子と接続部材の棒状部との間の電気的接続を確保した強固な接合を実現することができる。 (4) In the holding device, the power supply terminal may be bonded to the connection member by solder. According to the present holding device, it is possible to realize strong bonding that secures electrical connection between the power supply terminal and the rod-shaped portion of the connecting member.

(5)上記保持装置において、前記端子用孔の前記第1の方向に直交する断面形状は、所定の方向の長さL1に対する、前記所定の方向に直交する方向の長さL2の比(L2/L1)が、3以上である形状である構成としてもよい。本保持装置によれば、端子用孔の断面形状を比較的長細い形状とすることができるため、一般に比較的長細い断面形状を有する実装コネクタやフレキシブルプリント配線板により構成された給電端子が配置される端子用孔の大きさ(径)を小さくすることができる。従って、本保持装置によれば、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の第1の表面の温度特異点により第1の表面の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。 (5) In the holding device, the cross-sectional shape orthogonal to the first direction of the terminal hole is a ratio of the length L2 in the direction orthogonal to the predetermined direction to the length L1 in the predetermined direction (L2 / L1) may have a configuration of 3 or more. According to the holding device, since the cross-sectional shape of the terminal hole can be made relatively long and thin, a power supply terminal constituted by a mounting connector or a flexible printed wiring board having a relatively long and thin cross-sectional shape is generally arranged. Thus, the size (diameter) of the terminal hole can be reduced. Therefore, according to this holding device, it can suppress that the uniformity of the temperature distribution of the 1st surface falls by the temperature singularity of the 1st surface of the ceramic board resulting from presence of the hole for terminals.

(6)上記保持装置において、前記ベース部材の前記第3の表面は、略円形であり、前記端子用孔の前記第1の方向に直交する断面形状は、前記第3の表面の円周方向に略平行な方向に沿って湾曲した形状であり、前記給電端子は、少なくとも前記第3の表面の径方向に沿って外周側の端部において、前記円周方向に略平行な方向に沿って複数に分割されている構成としてもよい。本保持装置では、第1の方向視でベース部材の冷媒流路の形状が湾曲していたとしても、端子用孔を冷媒流路の形状に沿わせるように湾曲した形状とすれば、冷媒流路と端子用孔との間の距離を略均一にすることができる。そのため、本保持装置によれば、端子用孔の存在に起因したセラミックス板の第1の表面の温度特異点により第1の表面の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。 (6) In the holding device, the third surface of the base member is substantially circular, and a cross-sectional shape orthogonal to the first direction of the terminal hole is a circumferential direction of the third surface. The power supply terminal extends along a direction substantially parallel to the circumferential direction at least at an end portion on the outer peripheral side along the radial direction of the third surface. It is good also as a structure divided | segmented into plurality. In this holding device, even if the shape of the refrigerant flow path of the base member is curved as viewed in the first direction, if the terminal hole is curved to follow the shape of the refrigerant flow path, The distance between the path and the terminal hole can be made substantially uniform. Therefore, according to the present holding device, it is more effectively suppressed that the uniformity of the temperature distribution of the first surface is lowered due to the temperature singularity of the first surface of the ceramic plate due to the presence of the terminal hole. be able to.

(7)上記保持装置において、前記給電端子は、前記端子用孔の外に配置され、前記径方向に沿って外周側に延びる第3の端子部分を有する構成としてもよい。本保持装置によれば、給電端子における第3の端子部分同士が重なることを抑制することができ、給電端子の取り回しを容易にすることができる。 (7) In the holding device, the power supply terminal may be configured to include a third terminal portion that is disposed outside the terminal hole and extends to the outer peripheral side along the radial direction. According to this holding device, it is possible to prevent the third terminal portions of the power supply terminal from overlapping each other, and to easily handle the power supply terminal.

(8)上記保持装置において、さらに、前記セラミックス板に配置され、前記第1の方向における位置が前記第1の発熱抵抗体とは異なる第2の発熱抵抗体を備え、前記端子用孔は、前記第1の方向視で、前記第2の発熱抵抗体と重ならない位置に配置されていることを特徴とする構成としてもよい。本保持装置によれば、端子用孔の存在に起因して第2の発熱抵抗体の温度特異点が生ずることを抑制できるため、セラミックス板の第1の表面の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。 (8) The holding device further includes a second heating resistor disposed on the ceramic plate and having a position in the first direction different from the first heating resistor, and the terminal hole includes: It is good also as a structure characterized by arrange | positioning in the position which does not overlap with a said 2nd heating resistor in the said 1st direction view. According to the present holding device, it is possible to suppress the occurrence of the temperature singularity of the second heating resistor due to the presence of the terminal hole, so that the uniformity of the temperature distribution on the first surface of the ceramic plate is lowered. This can be more effectively suppressed.

なお、本明細書に開示される技術は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、保持装置、静電チャック、CVDヒータ等のヒータ装置、真空チャック、それらの製造方法等の形態で実現することが可能である。   The technique disclosed in the present specification can be realized in various forms, for example, forms such as a holding device, an electrostatic chuck, a heater device such as a CVD heater, a vacuum chuck, and a manufacturing method thereof. Can be realized.

第1実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing an external configuration of an electrostatic chuck 100 according to a first embodiment. 第1実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XZ cross-sectional structure of the electrostatic chuck 100 in 1st Embodiment. 第1実施形態における静電チャック100のXY平面(上面)構成を概略的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows roughly the XY plane (upper surface) structure of the electrostatic chuck 100 in 1st Embodiment. 静電チャック100のセラミックス板10に配置された第1の発熱抵抗体層50および第1の発熱抵抗体用ドライバ51の構成を模式的に示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a configuration of a first heating resistor layer 50 and a first heating resistor driver 51 arranged on a ceramic plate 10 of the electrostatic chuck 100. 1つのセグメントSEに配置された1つの第1の発熱抵抗体500のXY断面構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically XY cross-section structure of the 1st 1st heating resistor 500 arrange | positioned at 1 segment SE. 静電チャック100のセラミックス板10に配置された第2の発熱抵抗体層60のXY断面構成を模式的に示す説明図である。4 is an explanatory diagram schematically showing an XY cross-sectional configuration of a second heating resistor layer 60 disposed on a ceramic plate 10 of the electrostatic chuck 100. FIG. 静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のXY平面構成を示す説明図である。3 is an explanatory view showing an XY plane configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100. FIG. 静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のXZ断面構成を示す説明図である。3 is an explanatory diagram showing an XZ cross-sectional configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100. FIG. 静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のYZ断面構成を示す説明図である。4 is an explanatory diagram showing a YZ cross-sectional configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100. FIG. 静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のXY断面構成を示す説明図である。3 is an explanatory diagram showing an XY cross-sectional configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100. FIG. 第2実施形態の静電チャック100aにおける1つの第1の端子用孔Ht1付近のXZ断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the XZ cross-sectional structure of one 1st terminal hole Ht1 vicinity in the electrostatic chuck 100a of 2nd Embodiment.

A.第1実施形態:
A−1.静電チャック100の構成:
図1は、第1実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、第1実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、第1実施形態における静電チャック100のXY平面(上面)構成を概略的に示す説明図である。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック100は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。図4以降についても同様である。
A. First embodiment:
A-1. Configuration of the electrostatic chuck 100:
FIG. 1 is a perspective view schematically showing an external configuration of the electrostatic chuck 100 in the first embodiment, and FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing an XZ cross-sectional configuration of the electrostatic chuck 100 in the first embodiment. FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing an XY plane (upper surface) configuration of the electrostatic chuck 100 according to the first embodiment. In each figure, XYZ axes orthogonal to each other for specifying the direction are shown. In this specification, for convenience, the positive direction of the Z-axis is referred to as the upward direction, and the negative direction of the Z-axis is referred to as the downward direction. However, the electrostatic chuck 100 is actually installed in a direction different from such a direction. May be. The same applies to FIG.

静電チャック100は、対象物(例えばウェハW)を静電引力により吸着して保持する装置であり、例えば半導体製造装置の真空チャンバー内でウェハWを固定するために使用される。静電チャック100は、所定の配列方向(本実施形態では上下方向(Z軸方向))に並べて配置されたセラミックス板10およびベース部材20を備える。セラミックス板10とベース部材20とは、セラミックス板10の下面S2(図2参照)とベース部材20の上面S3とが上記配列方向に対向するように配置される。   The electrostatic chuck 100 is a device that attracts and holds an object (for example, a wafer W) by electrostatic attraction, and is used, for example, to fix the wafer W in a vacuum chamber of a semiconductor manufacturing apparatus. The electrostatic chuck 100 includes a ceramic plate 10 and a base member 20 that are arranged in a predetermined arrangement direction (in the present embodiment, the vertical direction (Z-axis direction)). The ceramic plate 10 and the base member 20 are arranged so that the lower surface S2 (see FIG. 2) of the ceramic plate 10 and the upper surface S3 of the base member 20 face each other in the arrangement direction.

セラミックス板10は、上述した配列方向(Z軸方向)に略直交する略円形平面状の上面(以下、「吸着面」という)S1を有する板状部材であり、セラミックス(例えば、アルミナや窒化アルミニウム等)により形成されている。セラミックス板10の直径は例えば50mm〜500mm程度(通常は200mm〜350mm程度)であり、セラミックス板10の厚さは例えば1mm〜10mm程度である。セラミックス板10の吸着面S1は、特許請求の範囲における第1の表面に相当し、セラミックス板10の下面S2は、特許請求の範囲における第2の表面に相当し、Z軸方向は、特許請求の範囲における第1の方向に相当する。また、本明細書では、Z軸方向に直交する方向を「面方向」という。   The ceramic plate 10 is a plate-like member having a substantially circular planar upper surface (hereinafter referred to as “adsorption surface”) S1 substantially orthogonal to the arrangement direction (Z-axis direction) described above, and ceramics (for example, alumina or aluminum nitride). Etc.). The diameter of the ceramic plate 10 is, for example, about 50 mm to 500 mm (usually about 200 mm to 350 mm), and the thickness of the ceramic plate 10 is, for example, about 1 mm to 10 mm. The adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 corresponds to the first surface in the claims, the lower surface S2 of the ceramic plate 10 corresponds to the second surface in the claims, and the Z-axis direction is claimed. This corresponds to the first direction in the range. In this specification, a direction perpendicular to the Z-axis direction is referred to as a “plane direction”.

図2に示すように、セラミックス板10の内部には、導電性材料(例えば、タングステン、モリブデン、白金等)により形成されたチャック電極40が配置されている。Z軸方向視でのチャック電極40の形状は、例えば略円形である。チャック電極40に電源(図示しない)から電圧が印加されると、静電引力が発生し、この静電引力によってウェハWがセラミックス板10の吸着面S1に吸着固定される。   As shown in FIG. 2, a chuck electrode 40 made of a conductive material (for example, tungsten, molybdenum, platinum, etc.) is disposed inside the ceramic plate 10. The shape of the chuck electrode 40 as viewed in the Z-axis direction is, for example, a substantially circular shape. When a voltage is applied to the chuck electrode 40 from a power source (not shown), an electrostatic attractive force is generated, and the wafer W is attracted and fixed to the attracting surface S1 of the ceramic plate 10 by the electrostatic attractive force.

セラミックス板10の内部には、また、それぞれ導電性材料(例えば、タングステン、モリブデン、白金等)により形成された、第1の発熱抵抗体層50と、第1の発熱抵抗体用ドライバ51と、第2の発熱抵抗体層60と、各種ビアとが配置されている。本実施形態では、第1の発熱抵抗体層50はチャック電極40より下側に配置され、第1の発熱抵抗体用ドライバ51は第1の発熱抵抗体層50より下側に配置され、第2の発熱抵抗体層60は、第1の発熱抵抗体用ドライバ51より下側に配置されている。これらの構成については、後に詳述する。なお、このような構成のセラミックス板10は、例えば、セラミックスグリーンシートを複数枚作製し、所定のセラミックスグリーンシートにビア孔の形成やメタライズペーストの印刷等の加工を行い、これらのセラミックスグリーンシートを熱圧着し、切断等の加工を行った上で焼成することにより作製することができる。   Inside the ceramic plate 10, a first heating resistor layer 50, a first heating resistor driver 51, each formed of a conductive material (for example, tungsten, molybdenum, platinum, etc.), The second heating resistor layer 60 and various vias are arranged. In the present embodiment, the first heating resistor layer 50 is disposed below the chuck electrode 40, the first heating resistor driver 51 is disposed below the first heating resistor layer 50, The second heating resistor layer 60 is disposed below the first heating resistor driver 51. These configurations will be described in detail later. For example, the ceramic plate 10 having such a structure is manufactured by producing a plurality of ceramic green sheets and performing processing such as formation of via holes and printing of metallized paste on a predetermined ceramic green sheet. It can be produced by thermocompression bonding, firing and cutting.

ベース部材20は、例えばセラミックス板10と同径の、または、セラミックス板10より径が大きい円形平面の板状部材であり、例えば金属(アルミニウムやアルミニウム合金等)により形成されている。ベース部材20の直径は例えば220mm〜550mm程度(通常は220mm〜350mm)であり、ベース部材20の厚さは例えば20mm〜40mm程度である。   The base member 20 is, for example, a circular flat plate-like member having the same diameter as the ceramic plate 10 or a larger diameter than the ceramic plate 10 and is made of, for example, metal (aluminum, aluminum alloy, etc.). The diameter of the base member 20 is, for example, about 220 mm to 550 mm (usually 220 mm to 350 mm), and the thickness of the base member 20 is, for example, about 20 mm to 40 mm.

ベース部材20は、セラミックス板10の下面S2とベース部材20の上面S3との間に配置された接着部30によって、セラミックス板10に接合されている。接着部30は、例えばシリコーン系樹脂やアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の接着材により構成されている。接着部30の厚さは、例えば0.1mm〜1mm程度である。ベース部材20の上面S3は、特許請求の範囲における第3の表面に相当する。   The base member 20 is joined to the ceramic plate 10 by an adhesive portion 30 disposed between the lower surface S2 of the ceramic plate 10 and the upper surface S3 of the base member 20. The adhesion part 30 is comprised by adhesive materials, such as silicone resin, acrylic resin, an epoxy resin, for example. The thickness of the bonding part 30 is, for example, about 0.1 mm to 1 mm. The upper surface S3 of the base member 20 corresponds to the third surface in the claims.

ベース部材20の内部には冷媒流路21が形成されている。冷媒流路21に冷媒(例えば、フッ素系不活性液体や水等)が流されると、ベース部材20が冷却され、接着部30を介したベース部材20とセラミックス板10との間の伝熱(熱引き)によりセラミックス板10が冷却され、セラミックス板10の吸着面S1に保持されたウェハWが冷却される。これにより、ウェハWの温度制御が実現される。   A coolant channel 21 is formed inside the base member 20. When a coolant (for example, a fluorine-based inert liquid or water) flows through the coolant channel 21, the base member 20 is cooled, and heat transfer between the base member 20 and the ceramic plate 10 via the adhesive portion 30 ( The ceramic plate 10 is cooled by heat pulling, and the wafer W held on the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is cooled. Thereby, the temperature control of the wafer W is realized.

A−2.第1の発熱抵抗体層50の構成および第1の発熱抵抗体層50に関連する構成:
上述したように、セラミックス板10には、第1の発熱抵抗体層50と第1の発熱抵抗体用ドライバ51とが配置されている(図2参照)。図4は、静電チャック100のセラミックス板10に配置された第1の発熱抵抗体層50および第1の発熱抵抗体用ドライバ51の構成を模式的に示す説明図である。図4の上段には、第1の発熱抵抗体層50の一部のXZ断面構成が模式的に示されており、図4の下段には、第1の発熱抵抗体用ドライバ51の一部のXY平面構成が模式的に示されている。
A-2. Configuration of the first heating resistor layer 50 and configuration related to the first heating resistor layer 50:
As described above, the first heating resistor layer 50 and the first heating resistor driver 51 are arranged on the ceramic plate 10 (see FIG. 2). FIG. 4 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the first heating resistor layer 50 and the first heating resistor driver 51 arranged on the ceramic plate 10 of the electrostatic chuck 100. The upper part of FIG. 4 schematically shows the XZ sectional configuration of a part of the first heating resistor layer 50, and the lower part of FIG. 4 shows a part of the first heating resistor driver 51. The XY plane configuration is schematically shown.

ここで、図3に示すように、本実施形態の静電チャック100では、セラミックス板10が、面方向(Z軸方向に直交する方向)に並ぶ複数の(例えば100個以上の)セグメントSEに仮想的に分割されている。より具体的には、Z軸方向視で、セラミックス板10が、吸着面S1の中心点CPを中心とする同心円状の複数の第1の境界線BL1によって複数の仮想的な環状領域(ただし、中心点CPを含む領域のみは円状領域)に分割され、さらに各環状領域が、吸着面S1の径方向RDに延びる複数の第2の境界線BL2によって吸着面S1の円周方向CDに並ぶ複数の仮想的な領域であるセグメントSEに分割されている。なお、本実施形態では、ベース部材20の上面S3は、セラミックス板10の吸着面S1と中心点CPを共有する略同心円状であるため、セラミックス板10の吸着面S1の円周方向CDは、ベース部材20の上面S3の円周方向CDでもあり、セラミックス板10の吸着面S1の径方向RDは、ベース部材20の上面S3の径方向RDでもある。   Here, as shown in FIG. 3, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the ceramic plate 10 is arranged in a plurality of (for example, 100 or more) segments SE arranged in the plane direction (direction orthogonal to the Z-axis direction). Virtually divided. More specifically, when viewed in the Z-axis direction, the ceramic plate 10 has a plurality of virtual annular regions (provided that a plurality of concentric first boundary lines BL1 centering on the center point CP of the suction surface S1). Only the region including the center point CP is divided into circular regions), and each annular region is arranged in the circumferential direction CD of the suction surface S1 by a plurality of second boundary lines BL2 extending in the radial direction RD of the suction surface S1. The segment SE is divided into a plurality of virtual areas. In the present embodiment, since the upper surface S3 of the base member 20 has a substantially concentric shape that shares the center point CP with the suction surface S1 of the ceramic plate 10, the circumferential direction CD of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is It is also the circumferential direction CD of the upper surface S3 of the base member 20, and the radial direction RD of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is also the radial direction RD of the upper surface S3 of the base member 20.

図4に示すように、第1の発熱抵抗体層50は、複数の第1の発熱抵抗体500を含んでいる。複数の第1の発熱抵抗体500のそれぞれは、セラミックス板10に設定された複数のセグメントSEの1つに配置されている。すなわち、本実施形態の静電チャック100では、複数のセグメントSEのそれぞれに、1つの第1の発熱抵抗体500が配置されている。   As shown in FIG. 4, the first heating resistor layer 50 includes a plurality of first heating resistors 500. Each of the plurality of first heating resistors 500 is disposed in one of the plurality of segments SE set on the ceramic plate 10. That is, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, one first heating resistor 500 is disposed in each of the plurality of segments SE.

図5は、1つのセグメントSEに配置された1つの第1の発熱抵抗体500のXY断面構成を模式的に示す説明図である。図5に示すように、第1の発熱抵抗体500は、第1の発熱抵抗体500の両端を構成する一対のパッド部504と、一対のパッド部504の間を結ぶ線状の抵抗線部502とを備える。本実施形態では、抵抗線部502は、Z軸方向視で、セグメントSE内の各位置をできるだけ偏り無く通るような形状とされている。他のセグメントSEに配置された第1の発熱抵抗体500の構成も同様である。   FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing an XY cross-sectional configuration of one first heating resistor 500 arranged in one segment SE. As shown in FIG. 5, the first heating resistor 500 includes a pair of pad portions 504 constituting both ends of the first heating resistor 500 and a linear resistance line portion connecting the pair of pad portions 504. 502. In the present embodiment, the resistance wire portion 502 is shaped so as to pass through each position in the segment SE as much as possible as viewed in the Z-axis direction. The same applies to the configuration of the first heating resistor 500 arranged in the other segment SE.

また、静電チャック100は、各第1の発熱抵抗体500への給電のための構成を備えている。上述した第1の発熱抵抗体用ドライバ51は、各第1の発熱抵抗体500への給電のための構成の一部である。図4に示すように、第1の発熱抵抗体用ドライバ51は、第1の導電ライン511および第2の導電ライン512から構成された複数のライン対510を含んでいる。なお、図4に示す例では、第2の導電ライン512は、複数のライン対510に共有されている。ライン対510毎に個別の第2の導電ライン512が用意されてもよい。   Further, the electrostatic chuck 100 has a configuration for supplying power to each first heating resistor 500. The first heating resistor driver 51 described above is a part of a configuration for supplying power to each first heating resistor 500. As shown in FIG. 4, the first heating resistor driver 51 includes a plurality of line pairs 510 each composed of a first conductive line 511 and a second conductive line 512. In the example shown in FIG. 4, the second conductive line 512 is shared by a plurality of line pairs 510. A separate second conductive line 512 may be provided for each line pair 510.

図4および図5に示すように、1つのライン対510を構成する第1の導電ライン511は、ビア対53を構成する一方のビア531を介して、第1の発熱抵抗体500の一端(パッド部504)に電気的に接続されており、該ライン対510を構成する第2の導電ライン512は、該ビア対53を構成する他方のビア532を介して、該第1の発熱抵抗体500の他端(パッド部504)に電気的に接続されている。   As shown in FIGS. 4 and 5, the first conductive line 511 constituting one line pair 510 is connected to one end of the first heating resistor 500 (via one via 531 constituting the via pair 53 ( The second conductive line 512 that is electrically connected to the pad portion 504) and that forms the line pair 510 is connected to the first heating resistor through the other via 532 that forms the via pair 53. It is electrically connected to the other end (pad portion 504) of 500.

また、図2に示すように、静電チャック100には、1つまたは複数の第1の端子用孔Ht1が形成されており、各第1の端子用孔Ht1には給電端子80の一部分が収容されている。また、セラミックス板10の下面S2における第1の端子用孔Ht1に対応する位置(第1の端子用孔Ht1の延伸方向において第1の端子用孔Ht1と重なる位置)には、導電性の複数の給電パッド70が配置されている。各給電パッド70は、第1の端子用孔Ht1に挿入された給電端子80と電気的に接続されていると共に、ビア54を介して第1の発熱抵抗体用ドライバ51と電気的に接続されている。なお、本実施形態では、静電チャック100に設けられる給電パッド70の総数は、静電チャック100に設けられる第1の発熱抵抗体500の総数より多いが、第1の発熱抵抗体用ドライバ51によってまとめられるので、第1の発熱抵抗体500の総数の2倍よりは少ない。   As shown in FIG. 2, the electrostatic chuck 100 is formed with one or more first terminal holes Ht1, and a portion of the power supply terminal 80 is formed in each first terminal hole Ht1. Contained. In addition, there is a plurality of conductive layers at positions corresponding to the first terminal holes Ht1 on the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (positions overlapping the first terminal holes Ht1 in the extending direction of the first terminal holes Ht1). The power supply pad 70 is arranged. Each power supply pad 70 is electrically connected to the power supply terminal 80 inserted in the first terminal hole Ht1 and is also electrically connected to the first heating resistor driver 51 via the via 54. ing. In the present embodiment, the total number of power supply pads 70 provided on the electrostatic chuck 100 is larger than the total number of first heating resistors 500 provided on the electrostatic chuck 100, but the first heating resistor driver 51. Therefore, it is less than twice the total number of the first heating resistors 500.

電源(図示しない)から給電端子80、給電パッド70、ビア54、第1の発熱抵抗体用ドライバ51、および、ビア531,532を介して第1の発熱抵抗体500に電圧が印加されると、第1の発熱抵抗体500が発熱する。これにより、第1の発熱抵抗体500が配置されたセグメントSEが加熱される。セラミックス板10の各セグメントSEに配置された第1の発熱抵抗体500への印加電圧を個別に制御することにより、各セグメントSEの温度を個別に制御することができる。なお、静電チャック100における第1の端子用孔Ht1付近の構成については、後に詳述する。   When a voltage is applied from the power source (not shown) to the first heating resistor 500 through the feeding terminal 80, the feeding pad 70, the via 54, the first heating resistor driver 51, and the vias 531 and 532. The first heating resistor 500 generates heat. As a result, the segment SE in which the first heating resistor 500 is disposed is heated. By individually controlling the voltage applied to the first heating resistor 500 arranged in each segment SE of the ceramic plate 10, the temperature of each segment SE can be individually controlled. The configuration in the vicinity of the first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100 will be described in detail later.

A−3.第2の発熱抵抗体層60の構成および第2の発熱抵抗体層60に関連する構成:
上述したように、セラミックス板10には、第2の発熱抵抗体層60が配置されている(図2参照)。図6は、静電チャック100のセラミックス板10に配置された第2の発熱抵抗体層60のXY断面構成を模式的に示す説明図である。
A-3. Configuration of second heating resistor layer 60 and configuration related to second heating resistor layer 60:
As described above, the second heating resistor layer 60 is disposed on the ceramic plate 10 (see FIG. 2). FIG. 6 is an explanatory diagram schematically showing an XY cross-sectional configuration of the second heating resistor layer 60 disposed on the ceramic plate 10 of the electrostatic chuck 100.

図6に示すように、第2の発熱抵抗体層60は、2つの第2の発熱抵抗体600を含んでいる。各第2の発熱抵抗体600は、第2の発熱抵抗体600両端を構成する一対のパッド部604と、一対のパッド部604の間を結ぶ線状の抵抗線部602とを備える。一方の第2の発熱抵抗体600は、例えば、Z軸方向視でセラミックス板10における外周側の領域に配置され、他方の第2の発熱抵抗体600は、例えば、セラミックス板10における中心側の領域に配置される。Z軸方向視での各第2の発熱抵抗体600の形状は、例えば、略螺旋形である。第2の発熱抵抗体600は、特許請求の範囲における第2の発熱抵抗体に相当する。   As shown in FIG. 6, the second heating resistor layer 60 includes two second heating resistors 600. Each second heating resistor 600 includes a pair of pad portions 604 that form both ends of the second heating resistor 600 and a linear resistance wire portion 602 that connects the pair of pad portions 604. One second heating resistor 600 is disposed, for example, in a region on the outer peripheral side of the ceramic plate 10 as viewed in the Z-axis direction, and the other second heating resistor 600 is, for example, a central side of the ceramic plate 10. Placed in the area. The shape of each second heating resistor 600 as viewed in the Z-axis direction is, for example, a substantially spiral shape. The second heating resistor 600 corresponds to the second heating resistor in the claims.

また、静電チャック100は、各第2の発熱抵抗体600への給電のための構成を備えている。具体的には、図2に示すように、静電チャック100には、1つまたは複数の第2の端子用孔Ht2が形成されており、第2の端子用孔Ht2には給電端子180の一部分が収容されている。また、セラミックス板10の下面S2における第2の端子用孔Ht2に対応する位置(第2の端子用孔Ht2の延伸方向において第2の端子用孔Ht2と重なる位置)には、導電性の給電パッド170が配置されている。給電パッド170は、第2の端子用孔Ht2に挿入された給電端子180と電気的に接続されていると共に、ビア対63を構成するビア631,632(図6参照)を介して第2の発熱抵抗体600と電気的に接続されている。   In addition, the electrostatic chuck 100 has a configuration for supplying power to each second heating resistor 600. Specifically, as shown in FIG. 2, the electrostatic chuck 100 has one or a plurality of second terminal holes Ht <b> 2, and the second terminal hole Ht <b> 2 has a power supply terminal 180. Part is housed. Further, a conductive power supply is provided at a position corresponding to the second terminal hole Ht2 on the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (a position overlapping the second terminal hole Ht2 in the extending direction of the second terminal hole Ht2). A pad 170 is disposed. The power supply pad 170 is electrically connected to the power supply terminal 180 inserted into the second terminal hole Ht2 and is connected to the second via the vias 631 and 632 (see FIG. 6) constituting the via pair 63. The heating resistor 600 is electrically connected.

電源(図示しない)から給電端子180、給電パッド170、および、ビア631,632を介して第2の発熱抵抗体600に電圧が印加されると、第2の発熱抵抗体600が発熱する。これにより、第2の発熱抵抗体600が配置されたセラミックス板10が加熱される。本実施形態では、第2の発熱抵抗体600は、セラミックス板10の全体または比較的大きな領域単位での吸着面S1の温度制御に用いられ、上述した第1の発熱抵抗体500は、セラミックス板10のセグメントSE単位での吸着面S1の温度制御に用いられる。   When a voltage is applied from the power source (not shown) to the second heating resistor 600 through the feeding terminal 180, the feeding pad 170, and the vias 631, 632, the second heating resistor 600 generates heat. As a result, the ceramic plate 10 on which the second heating resistor 600 is disposed is heated. In the present embodiment, the second heating resistor 600 is used for temperature control of the adsorption surface S1 of the entire ceramic plate 10 or a relatively large region unit, and the first heating resistor 500 described above is a ceramic plate. It is used for temperature control of the suction surface S1 in units of 10 segments SE.

A−4.静電チャック100における第1の端子用孔Ht1付近の詳細構成:
次に、静電チャック100における第1の端子用孔Ht1付近の詳細構成について説明する。図7は、静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のXY平面構成を示す説明図であり、図8は、静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のXZ断面構成を示す説明図であり、図9は、静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のYZ断面構成を示す説明図であり、図10は、静電チャック100における1つの第1の端子用孔Ht1付近のXY断面構成を示す説明図である。図7には、静電チャック100を下側(ベース部材20の下面S4側)から見たときの第1の端子用孔Ht1付近のXY平面構成が示されており、図8には、図2のX1部のXZ断面構成(図10のVIII−VIIIの位置の断面構成)が拡大されて、かつ、一部省略されて示されており、図9には、図2のX1部のYZ断面構成(図10のIX−IXの位置の断面構成)が拡大されて、かつ、一部省略されて示されており、図10には、図8および図9のX−Xの位置におけるXY断面構成が一部省略されて示されている。
A-4. Detailed configuration near the first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100:
Next, a detailed configuration in the vicinity of the first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100 will be described. FIG. 7 is an explanatory diagram showing an XY plane configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100. FIG. 8 is a diagram in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100. FIG. 9 is an explanatory diagram showing an XZ cross-sectional configuration, FIG. 9 is an explanatory diagram showing a YZ cross-sectional configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100, and FIG. It is explanatory drawing which shows XY cross-sectional structure of the vicinity of the 1st terminal hole Ht1. FIG. 7 shows an XY plane configuration in the vicinity of the first terminal hole Ht1 when the electrostatic chuck 100 is viewed from the lower side (the lower surface S4 side of the base member 20). 2 is an enlarged and partially omitted illustration of the XZ cross-sectional configuration of the X1 portion of FIG. 2 (the cross-sectional configuration at the position VIII-VIII in FIG. 10). FIG. 9 shows the YZ of the X1 portion of FIG. The cross-sectional configuration (the cross-sectional configuration at the position of IX-IX in FIG. 10) is enlarged and partially omitted, and FIG. 10 shows the XY at the position of XX in FIGS. The cross-sectional configuration is partially omitted.

図8および図9に示すように、ベース部材20には、ベース部材20の上面S3に開口し、かつ、ベース部材20の下面S4に至るまで延びるベース部材貫通孔22が形成されている。また、接着部30には、ベース部材貫通孔22に連通する接着部貫通孔32が形成されている。さらに、本実施形態では、セラミックス板10の下面S2に、接着部貫通孔32に連通する凹部12が形成されている。第1の端子用孔Ht1は、互いに連通するベース部材貫通孔22と接着部貫通孔32と凹部12とから構成されている。本実施形態では、第1の端子用孔Ht1は、Z軸方向に略平行に延びる形状である。また、本実施形態では、ベース部材貫通孔22と接着部貫通孔32と凹部12との径(Z軸方向に直交する方向の大きさ)は、略同一である。ただし、ベース部材貫通孔22と接着部貫通孔32と凹部12とが互いに連通している限り、それらの径が互いに異なっていてもよい。ベース部材貫通孔22は、特許請求の範囲における第1の貫通孔に相当し、接着部貫通孔32は、特許請求の範囲における第2の貫通孔に相当する。   As shown in FIGS. 8 and 9, the base member 20 is formed with a base member through hole 22 that opens to the upper surface S <b> 3 of the base member 20 and extends to the lower surface S <b> 4 of the base member 20. Further, an adhesive portion through hole 32 communicating with the base member through hole 22 is formed in the adhesive portion 30. Further, in the present embodiment, the concave portion 12 communicating with the bonding portion through hole 32 is formed on the lower surface S <b> 2 of the ceramic plate 10. The first terminal hole Ht <b> 1 includes a base member through hole 22, an adhesive portion through hole 32, and a recess 12 that communicate with each other. In the present embodiment, the first terminal hole Ht1 has a shape extending substantially parallel to the Z-axis direction. Moreover, in this embodiment, the diameter (size of the direction orthogonal to a Z-axis direction) of the base member through-hole 22, the adhesion part through-hole 32, and the recessed part 12 is substantially the same. However, as long as the base member through-hole 22, the adhesion part through-hole 32, and the recessed part 12 are mutually connected, those diameters may mutually differ. The base member through hole 22 corresponds to a first through hole in the claims, and the adhesive portion through hole 32 corresponds to a second through hole in the claims.

また、図7に示すように、第1の端子用孔Ht1のZ軸方向に直交する断面(XY断面)の形状は、比較的細長い形状である。具体的には、第1の端子用孔Ht1のXY断面の形状は、所定の方向(例えばX方向)の長さL1に対する、該所定の方向に直交する方向(例えばY方向)の長さL2の比(L2/L1)が、3以上である形状である。   Further, as shown in FIG. 7, the shape of the cross section (XY cross section) orthogonal to the Z-axis direction of the first terminal hole Ht1 is a relatively elongated shape. Specifically, the shape of the XY cross section of the first terminal hole Ht1 is a length L2 in a direction (for example, Y direction) orthogonal to the predetermined direction with respect to the length L1 in the predetermined direction (for example, X direction). The ratio (L2 / L1) is 3 or more.

さらに、図7に示すように、第1の端子用孔Ht1のXY断面の形状は、ベース部材20の上面S3の円周方向CDに略平行な方向に沿って湾曲した形状である。また、第1の端子用孔Ht1は、Z軸方向視で、第2の発熱抵抗体600と重ならない位置(例えば、径方向RDにおいて第2の発熱抵抗体600の一部分と第2の発熱抵抗体600の他の一部分との間の位置)に配置されている。   Further, as shown in FIG. 7, the shape of the first terminal hole Ht1 in the XY cross section is a curved shape along a direction substantially parallel to the circumferential direction CD of the upper surface S3 of the base member 20. Further, the first terminal hole Ht1 is located at a position that does not overlap the second heating resistor 600 when viewed in the Z-axis direction (for example, a part of the second heating resistor 600 and the second heating resistor in the radial direction RD). (Position between other parts of the body 600).

上述したように、セラミックス板10の下面S2における第1の端子用孔Ht1に対応する位置(第1の端子用孔Ht1の延伸方向において第1の端子用孔Ht1と重なる位置であり、本実施形態では凹部12の位置)には、導電性の複数の給電パッド70が配置されている。給電パッド70は、上述した第1の発熱抵抗体用ドライバ51や各ビアを介して第1の発熱抵抗体500と電気的に接続されている。本実施形態では、給電パッド70は、セラミックス板10の製造の際に、所定のセラミックスグリーンシートに印刷されたメタライズペーストが、その後にセラミックスグリーンシートと同時に焼成されることにより形成される。このようにすれば、セラミックス板10に強固に接合された給電パッド70を形成することができる。なお、セラミックス板10の焼成の後に、給電パッド70を形成してもよい。   As described above, the position corresponding to the first terminal hole Ht1 on the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (the position overlapping the first terminal hole Ht1 in the extending direction of the first terminal hole Ht1, In the embodiment, a plurality of conductive power supply pads 70 are arranged at the positions of the recesses 12). The power supply pad 70 is electrically connected to the first heating resistor 500 through the first heating resistor driver 51 and the vias described above. In the present embodiment, when the ceramic plate 10 is manufactured, the power supply pad 70 is formed by firing a metallized paste printed on a predetermined ceramic green sheet and then simultaneously firing the ceramic green sheet. In this way, it is possible to form the power supply pad 70 that is firmly bonded to the ceramic plate 10. The power supply pad 70 may be formed after firing the ceramic plate 10.

各給電パッド70には、接続部材72が取り付けられている。本実施形態では、接続部材72は、ろう材78により、給電パッド70に接合されている。接続部材72は、給電パッド70上に配置された導電性の基部74と、基部74からセラミックス板10の下面S2から遠ざかる方向(例えば下方向)に延びる導電性の棒状部76とを有する。面方向(Z軸に直交する方向)において、接続部材72の基部74は、給電パッド70より小さい。また、面方向において、接続部材72の棒状部76は、基部74より小さい(細い)。   A connection member 72 is attached to each power supply pad 70. In the present embodiment, the connection member 72 is joined to the power supply pad 70 by the brazing material 78. The connection member 72 has a conductive base portion 74 disposed on the power supply pad 70 and a conductive rod-like portion 76 extending from the base portion 74 in a direction away from the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (for example, downward). In the surface direction (direction perpendicular to the Z axis), the base 74 of the connection member 72 is smaller than the power supply pad 70. Further, in the surface direction, the rod-like portion 76 of the connecting member 72 is smaller (thin) than the base portion 74.

図7に示すように、本実施形態では、1つの第1の端子用孔Ht1について、1列に並んだ6個の接続部材72の組が2組配置されている。そのため、接続部材72が取り付けられた給電パッド70についても、1つの第1の端子用孔Ht1について、1列に並んだ6個の給電パッド70の組が2組配置されている。   As shown in FIG. 7, in this embodiment, two sets of six connection members 72 arranged in a row are arranged for one first terminal hole Ht1. Therefore, also for the power supply pad 70 to which the connection member 72 is attached, two sets of six power supply pads 70 arranged in a row are arranged for one first terminal hole Ht1.

また、上述したように、第1の端子用孔Ht1には給電端子80の一部分が収容されている。本実施形態では、給電端子80は、複数の導電領域84(図9参照)を有するフレキシブルプリント配線板(FPC)により構成されている。FPCは、絶縁材料(例えば、ポリイミド)により形成されたベースフィルム上に導電性材料(例えば銅)により形成された導電領域84が設けられ、その上に絶縁材料(例えば、ポリイミド)により形成されたカバーフィルムが配置された配線板である。FPCにより構成された給電端子80は、非常に薄く、かつ、自在に折り曲げ可能である。   Further, as described above, a part of the power supply terminal 80 is accommodated in the first terminal hole Ht1. In the present embodiment, the power supply terminal 80 is configured by a flexible printed wiring board (FPC) having a plurality of conductive regions 84 (see FIG. 9). In the FPC, a conductive region 84 formed of a conductive material (for example, copper) is provided on a base film formed of an insulating material (for example, polyimide), and formed on the insulating film (for example, polyimide). A wiring board on which a cover film is disposed. The power supply terminal 80 constituted by the FPC is very thin and can be bent freely.

給電端子80は、第1の端子部分81と、第2の端子部分82と、第3の端子部分83とを有する。第1の端子部分81は、第1の端子用孔Ht1内に配置され、Z軸方向に略平行な方向に延びる部分である。   The power feeding terminal 80 includes a first terminal portion 81, a second terminal portion 82, and a third terminal portion 83. The first terminal portion 81 is a portion that is disposed in the first terminal hole Ht1 and extends in a direction substantially parallel to the Z-axis direction.

給電端子80の第2の端子部分82は、第1の端子部分81におけるセラミックス板10の下面S2に近い側の端部から延びる部分である。本実施形態では、第2の端子部分82は、第1の端子部分81の延伸方向(Z軸方向)に略直交する方向に延びている。第2の端子部分82の導電領域84の部分には複数の孔85が形成されており、各孔85には接続部材72の棒状部76が挿通されている。これにより、給電端子80の導電領域84が、接続部材72と電気的に接続され、ひいては、給電パッド70と電気的に接続される。また、給電端子80の孔85付近の部分は、はんだ88によって接続部材72に接合されている。   The second terminal portion 82 of the power supply terminal 80 is a portion extending from the end portion of the first terminal portion 81 on the side close to the lower surface S2 of the ceramic plate 10. In the present embodiment, the second terminal portion 82 extends in a direction substantially orthogonal to the extending direction (Z-axis direction) of the first terminal portion 81. A plurality of holes 85 are formed in the conductive region 84 portion of the second terminal portion 82, and the rod-shaped portion 76 of the connection member 72 is inserted into each hole 85. As a result, the conductive region 84 of the power supply terminal 80 is electrically connected to the connection member 72, and thus is electrically connected to the power supply pad 70. Further, the portion near the hole 85 of the power supply terminal 80 is joined to the connection member 72 by the solder 88.

給電端子80の第3の端子部分83は、第1の端子用孔Ht1の外に配置され、ベース部材20の上面S3の径方向RDに沿って外周側に延びる部分である。第3の端子部分83における第1の端子部分81との接続部分とは反対側の端部には、コネクタ(不図示)が設けられている。   The third terminal portion 83 of the power supply terminal 80 is a portion that is disposed outside the first terminal hole Ht1 and extends outward along the radial direction RD of the upper surface S3 of the base member 20. A connector (not shown) is provided at the end of the third terminal portion 83 opposite to the connection portion with the first terminal portion 81.

なお、図7に示すように、給電端子80は、少なくとも径方向RDに沿った外周側の端部において、円周方向CDに略平行な方向に沿って複数に分割されている。具体的には、給電端子80が完全に複数に分割されているか、または、給電端子80の上記外周側の端部に1つまたは複数のスリットが形成されている。本実施形態では、給電端子80が2つに分割されており、給電端子80の2つの部分のそれぞれに6つの接続部材72が接続されている。   As shown in FIG. 7, the power supply terminal 80 is divided into a plurality of portions along a direction substantially parallel to the circumferential direction CD at least at an outer peripheral end portion along the radial direction RD. Specifically, the power supply terminal 80 is completely divided into a plurality of parts, or one or a plurality of slits are formed at the outer peripheral end of the power supply terminal 80. In this embodiment, the power supply terminal 80 is divided into two, and six connection members 72 are connected to each of the two portions of the power supply terminal 80.

また、本実施形態の静電チャック100は、給電端子80とセラミックス板10の下面S2との間において、互いに隣り合う2つの給電パッド70の間に配置された絶縁性のスペーサー90を備える。スペーサー90は、例えば、耐熱性のある樹脂(ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂等)により形成されている。   In addition, the electrostatic chuck 100 of the present embodiment includes an insulating spacer 90 disposed between two power supply pads 70 adjacent to each other between the power supply terminal 80 and the lower surface S2 of the ceramic plate 10. The spacer 90 is made of, for example, a heat resistant resin (polyimide resin, epoxy resin, polyether ether ketone resin, etc.).

図10に示すように、スペーサー90は、Z軸方向視で、各給電パッド70を取り囲むように一体的に形成されている。従って、1つの給電パッド70(以下、「第1の給電パッド70(1)」という)と、第1の給電パッド70(1)を挟んで隣り合う2つの給電パッド70(以下、「第2の給電パッド70(2)」および「第3の給電パッド70(3)」という)との合計3つの給電パッド70に注目すると、スペーサー90は、第1の給電パッド70(1)と第1の給電パッド70(1)の一方側に隣り合う第2の給電パッド70(2)との間である第1の位置P1と、第1の給電パッド70(1)と第1の給電パッド70(1)の他方側に隣り合う第3の給電パッド70(3)との間である第2の位置P2との両方に配置されている。   As shown in FIG. 10, the spacer 90 is integrally formed so as to surround each power supply pad 70 when viewed in the Z-axis direction. Therefore, one power supply pad 70 (hereinafter referred to as “first power supply pad 70 (1)”) and two power supply pads 70 (hereinafter referred to as “second power supply”) sandwiching the first power supply pad 70 (1). When a total of three power supply pads 70 including a power supply pad 70 (2) and a third power supply pad 70 (3) are referred to, the spacer 90 includes the first power supply pad 70 (1) and the first power supply pad 70 (1). The first position P1 between the second power supply pad 70 (2) adjacent to one side of the power supply pad 70 (1), the first power supply pad 70 (1), and the first power supply pad 70. It is arrange | positioned both in the 2nd position P2 which is between the 3rd electric power feeding pads 70 (3) adjacent to the other side of (1).

なお、本実施形態では、スペーサー90は、セラミックス板10の下面S2(凹部12)上に配置されている。スペーサー90におけるセラミックス板10の下面S2に対向する側とは反対側の表面は、Z軸方向に略直交するような平面となっている。給電端子80の第2の端子部分82は、スペーサー90の上記平面に沿って延びている。すなわち、スペーサー90は、Z軸方向において、セラミックス板10の下面S2から給電端子80の第2の端子部分82の表面に至るまで延びている。   In the present embodiment, the spacer 90 is disposed on the lower surface S2 (recessed portion 12) of the ceramic plate 10. The surface of the spacer 90 opposite to the side facing the lower surface S2 of the ceramic plate 10 is a flat surface that is substantially orthogonal to the Z-axis direction. The second terminal portion 82 of the power supply terminal 80 extends along the plane of the spacer 90. That is, the spacer 90 extends from the lower surface S2 of the ceramic plate 10 to the surface of the second terminal portion 82 of the power supply terminal 80 in the Z-axis direction.

また、本実施形態では、スペーサー90(例えば、第1の位置P1に配置されたスペーサー90)とスペーサー90(例えば、第2の位置P2に配置されたスペーサー90)との間に、絶縁性樹脂92が充填されている(図9参照)。絶縁性樹脂92は、例えば、耐熱性があり、かつ、弾性があるシリコーン樹脂により形成されている。絶縁性樹脂92は、給電パッド70と、該給電パッド70上に設けられた接続部材72における基部74と棒状部76における基部74側の一部分と、を覆っている。なお、本実施形態では、スペーサー90が、各給電パッド70を取り囲むように一体的に形成されているため、絶縁性樹脂92は、一体形成されたスペーサー90における一部分と他の一部分との間に充填されていると言える。   In the present embodiment, an insulating resin is interposed between the spacer 90 (for example, the spacer 90 disposed at the first position P1) and the spacer 90 (for example, the spacer 90 disposed at the second position P2). 92 is filled (see FIG. 9). The insulating resin 92 is formed of, for example, a heat-resistant and elastic silicone resin. The insulating resin 92 covers the power supply pad 70, the base portion 74 of the connecting member 72 provided on the power supply pad 70, and a portion of the rod-shaped portion 76 on the base 74 side. In the present embodiment, since the spacer 90 is integrally formed so as to surround each power supply pad 70, the insulating resin 92 is interposed between a part of the integrally formed spacer 90 and another part. It can be said that it is filled.

なお、本実施形態における静電チャック100の第1の端子用孔Ht1付近の構成の製造方法は、例えば、以下の通りである。はじめに、セラミックス板10の下面S2に形成された各給電パッド70に、接続部材72をろう付けする。次に、各給電パッド70の周りに、例えば耐熱性樹脂材料によってスペーサー90を形成する。次に、スペーサー90における一部分と他の一部分との間に、絶縁性樹脂92を充填する。次に、第1の端子用孔Ht1内に給電端子80を挿入し、給電端子80に形成された各孔85に接続部材72の棒状部76を挿通し、その状態で、給電端子80と接続部材72とを半田付けする。以上の製造方法により、上述した第1の端子用孔Ht1付近の構成が実現される。   In addition, the manufacturing method of the structure of the vicinity of the first terminal hole Ht1 of the electrostatic chuck 100 in the present embodiment is as follows, for example. First, the connection member 72 is brazed to each power supply pad 70 formed on the lower surface S <b> 2 of the ceramic plate 10. Next, a spacer 90 is formed around each power supply pad 70 using, for example, a heat resistant resin material. Next, an insulating resin 92 is filled between a part of the spacer 90 and another part. Next, the power supply terminal 80 is inserted into the first terminal hole Ht1, the rod-like portion 76 of the connection member 72 is inserted into each hole 85 formed in the power supply terminal 80, and in this state, the power supply terminal 80 is connected. The member 72 is soldered. With the above manufacturing method, the configuration in the vicinity of the first terminal hole Ht1 described above is realized.

なお、静電チャック100における第2の端子用孔Ht2付近の構成は、第1の端子用孔Ht1付近の構成と同様であるため、説明を省略する。   The configuration in the vicinity of the second terminal hole Ht2 in the electrostatic chuck 100 is the same as the configuration in the vicinity of the first terminal hole Ht1, and a description thereof will be omitted.

A−5.本実施形態の効果:
以上説明したように、本実施形態の静電チャック100は、Z軸方向に略直交する略平面状の吸着面S1と吸着面S1とは反対側の下面S2とを有するセラミックス板10と、上面S3がセラミックス板10の下面S2に対向するように配置され、冷媒流路21と、上面S3に開口するベース部材貫通孔22と、が形成されたベース部材20と、セラミックス板10の下面S2とベース部材20の上面S3との間に配置され、ベース部材貫通孔22と連通し、ベース部材貫通孔22と共に第1の端子用孔Ht1を構成する接着部貫通孔32が形成された接着部30とを備え、セラミックス板10の吸着面S1上にウェハW等の対象物を保持する保持装置である。
A-5. Effects of this embodiment:
As described above, the electrostatic chuck 100 of the present embodiment includes the ceramic plate 10 having the substantially flat suction surface S1 substantially perpendicular to the Z-axis direction and the lower surface S2 opposite to the suction surface S1, and the upper surface. S3 is disposed so as to face the lower surface S2 of the ceramic plate 10, and the base member 20 in which the refrigerant flow path 21 and the base member through-hole 22 opening in the upper surface S3 are formed, and the lower surface S2 of the ceramic plate 10 An adhesive portion 30 that is disposed between the upper surface S3 of the base member 20 and communicates with the base member through-hole 22 and has an adhesive-portion through-hole 32 that forms the first terminal hole Ht1 together with the base member through-hole 22. And a holding device for holding an object such as a wafer W on the suction surface S1 of the ceramic plate 10.

また、本実施形態の静電チャック100では、セラミックス板10の少なくとも一部がZ軸方向に直交する方向に並ぶ複数のセグメントSEに仮想的に分割されており、各セグメントSE内に第1の発熱抵抗体500が配置されている。また、静電チャック100は、セラミックス板10の下面S2における第1の端子用孔Ht1に対応する位置に配置され、複数の第1の発熱抵抗体500と電気的に接続された導電性の複数の給電パッド70と、複数の給電パッド70のそれぞれについて設けられた接続部材72と、複数の導電領域84を有するFPCにより構成され、第1の端子用孔Ht1内において各導電領域84が各接続部材72と電気的に接続された給電端子80とを備える。   Further, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, at least a part of the ceramic plate 10 is virtually divided into a plurality of segments SE arranged in a direction orthogonal to the Z-axis direction, and the first SE within each segment SE. A heating resistor 500 is arranged. The electrostatic chuck 100 is disposed at a position corresponding to the first terminal hole Ht1 on the lower surface S2 of the ceramic plate 10, and is electrically connected to the plurality of first heating resistors 500. Power supply pad 70, connection member 72 provided for each of the plurality of power supply pads 70, and FPC having a plurality of conductive regions 84, and each conductive region 84 is connected to each other in first terminal hole Ht1. A power supply terminal 80 electrically connected to the member 72 is provided.

さらに、本実施形態の静電チャック100は、給電端子80とセラミックス板10の下面S2との間において、互いに隣り合う2つの給電パッド70の間に配置された絶縁性のスペーサー90を備える(図8〜図10参照)。そのため、本実施形態の静電チャック100では、2つの給電パッド70の間の絶縁性が向上する(すなわち、短絡の可能性が低下する)。従って、スペーサー90が配置されていない構成と比較して、給電パッド70同士の間隔を短くすることができ、その結果、第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)を小さくすることができる。第1の端子用孔Ht1の位置では、ベース部材20とセラミックス板10との間の伝熱性が低下するため、ベース部材20に形成された冷媒流路21に供給される冷媒によるセラミックス板10の冷却効果が低下し、セラミックス板10の吸着面S1における対応する箇所が温度特異点となり、吸着面S1の温度分布の均一性が低下するおそれがある。本実施形態の静電チャック100によれば、第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)を小さくすることができるため、第1の端子用孔Ht1の存在に起因したセラミックス板10の吸着面S1の温度特異点により吸着面S1の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。   Furthermore, the electrostatic chuck 100 of the present embodiment includes an insulating spacer 90 disposed between two power supply pads 70 adjacent to each other between the power supply terminal 80 and the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (see FIG. 8 to FIG. 10). Therefore, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the insulation between the two power supply pads 70 is improved (that is, the possibility of a short circuit is reduced). Therefore, compared with the configuration in which the spacer 90 is not disposed, the interval between the power supply pads 70 can be shortened, and as a result, the size (diameter) of the first terminal hole Ht1 can be reduced. . Since heat transfer between the base member 20 and the ceramic plate 10 is reduced at the position of the first terminal hole Ht1, the ceramic plate 10 made of the refrigerant supplied to the refrigerant flow path 21 formed in the base member 20 is used. The cooling effect is reduced, and the corresponding location on the suction surface S1 of the ceramic plate 10 becomes a temperature singularity, which may reduce the uniformity of the temperature distribution on the suction surface S1. According to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, since the size (diameter) of the first terminal hole Ht1 can be reduced, the adsorption of the ceramic plate 10 due to the presence of the first terminal hole Ht1. It can suppress that the uniformity of the temperature distribution of adsorption | suction surface S1 falls by the temperature singularity of surface S1.

また、本実施形態の静電チャック100では、接続部材72は、給電パッド70上に配置された導電性の基部74と、基部74からセラミックス板10の下面S2から遠ざかる方向に延びる導電性の棒状部76とを有する(図8〜図10参照)。また、セラミックス板10の下面S2における第1の端子用孔Ht1に対応する位置に、第1の給電パッド70(1)と、第1の給電パッド70(1)を挟んで隣り合う第2および第3の給電パッド70(2),70(3)とを含む3つ以上の給電パッド70が配置されている。また、スペーサー90は、第1の給電パッド70(1)と第2の給電パッド70(2)との間である第1の位置P1と、第1の給電パッド70(1)と第3の給電パッド70(3)との間である第2の位置P2とに配置される。また、本実施形態の静電チャック100は、さらに、第1の位置P1に配置されたスペーサー90と第2の位置P2に配置されたスペーサー90との間に充填され、第1の給電パッド70(1)と、第1の給電パッド70(1)について設けられた接続部材72における基部74と棒状部76における基部74側の一部分と、を覆う絶縁性樹脂92を備える。上述したように、本実施形態の静電チャック100はスペーサー90を備えるが、スペーサー90とセラミックス板10との間やスペーサー90と給電端子80との間に隙間が存在するおそれがあり、絶縁性の点で向上の余地がある。本実施形態の静電チャック100では、絶縁性樹脂92の存在により、第1の給電パッド70(1)と第2および第3の給電パッド70(2),70(3)との間の絶縁性、および、各給電パッド70に設けられた接続部材72の間の絶縁性が向上する(すなわち、短絡の可能性が低下する)。従って、絶縁性樹脂92が充填されていない構成と比較して、各給電パッド70の間隔をさらに短くすることができ、その結果、第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)をさらに小さくすることができる。そのため、本実施形態の静電チャック100によれば、第1の端子用孔Ht1の存在に起因したセラミックス板10の吸着面S1の温度特異点により吸着面S1の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。特に、本実施形態の静電チャック100では、面方向において、接続部材72の棒状部76は基部74より小さい(細い)。そのため、絶縁性樹脂92が給電パッド70と、接続部材72の基部74と、棒状部76における基部74側の一部分とを覆っていると、給電パッド70と接続部材72との組合せについて、互いに隣り合う2つの組合せ間の絶縁距離が棒状部76間の距離で決まることになり、各給電パッド70の間隔をさらに短くしても絶縁性を確保することができる。従って、第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)をさらに小さくすることができ、第1の端子用孔Ht1の存在に起因したセラミックス板10の吸着面S1の温度特異点により吸着面S1の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。   Further, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the connection member 72 has a conductive base 74 disposed on the power supply pad 70 and a conductive rod-like shape extending from the base 74 in a direction away from the lower surface S2 of the ceramic plate 10. Part 76 (see FIGS. 8 to 10). The first power supply pad 70 (1) and the second power supply pad 70 (1) adjacent to each other at the position corresponding to the first terminal hole Ht1 on the lower surface S2 of the ceramic plate 10 are provided. Three or more power supply pads 70 including the third power supply pads 70 (2) and 70 (3) are arranged. The spacer 90 includes the first position P1 between the first power supply pad 70 (1) and the second power supply pad 70 (2), the first power supply pad 70 (1), and the third power supply pad 70 (1). It arrange | positions in the 2nd position P2 between the electric power feeding pads 70 (3). Further, the electrostatic chuck 100 of the present embodiment is further filled between the spacer 90 disposed at the first position P1 and the spacer 90 disposed at the second position P2, and the first power supply pad 70 is filled. (1) and an insulating resin 92 that covers the base 74 in the connecting member 72 provided for the first power supply pad 70 (1) and a part of the rod-like portion 76 on the base 74 side. As described above, the electrostatic chuck 100 according to the present embodiment includes the spacer 90. However, there is a possibility that a gap may exist between the spacer 90 and the ceramic plate 10 or between the spacer 90 and the power supply terminal 80. There is room for improvement. In the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the insulation between the first power supply pad 70 (1) and the second and third power supply pads 70 (2) and 70 (3) due to the presence of the insulating resin 92. And the insulation between the connection members 72 provided on each power supply pad 70 (that is, the possibility of a short circuit is reduced). Therefore, compared with a configuration in which the insulating resin 92 is not filled, the interval between the power supply pads 70 can be further shortened. As a result, the size (diameter) of the first terminal hole Ht1 is further reduced. can do. Therefore, according to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the uniformity of the temperature distribution on the suction surface S1 is reduced due to the temperature singularity of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 due to the presence of the first terminal hole Ht1. This can be more effectively suppressed. In particular, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the rod-like portion 76 of the connection member 72 is smaller (thin) than the base 74 in the surface direction. Therefore, when the insulating resin 92 covers the power supply pad 70, the base 74 of the connection member 72, and a part of the rod-shaped portion 76 on the base 74 side, the combination of the power supply pad 70 and the connection member 72 is adjacent to each other. The insulation distance between two matching combinations is determined by the distance between the rod-like portions 76, and insulation can be ensured even if the interval between the power supply pads 70 is further shortened. Therefore, the size (diameter) of the first terminal hole Ht1 can be further reduced, and the adsorption surface S1 is caused by the temperature singularity of the adsorption surface S1 of the ceramic plate 10 due to the presence of the first terminal hole Ht1. It can suppress more effectively that the uniformity of temperature distribution falls.

また、本実施形態の静電チャック100では、給電端子80は、はんだ88によって接続部材72に接合されている(図8および図9参照)。そのため、本実施形態の静電チャック100によれば、給電端子80と接続部材72の棒状部76との間の電気的接続を確保した強固な接合を実現することができる。   In the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the power supply terminal 80 is joined to the connection member 72 by solder 88 (see FIGS. 8 and 9). For this reason, according to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, it is possible to realize strong bonding that ensures electrical connection between the power supply terminal 80 and the rod-like portion 76 of the connecting member 72.

また、本実施形態の静電チャック100では、第1の端子用孔Ht1のZ軸方向に直交する断面形状は、所定の方向の長さL1に対する、該所定の方向に直交する方向の長さL2の比(L2/L1)が、3以上である形状である(図7参照)。すなわち、第1の端子用孔Ht1の断面形状は、比較的長細い形状である。そのため、本実施形態の静電チャック100では、一般に比較的長細い断面形状を有するFPCにより構成された給電端子80が配置される第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)を小さくすることができる。従って、本実施形態の静電チャック100によれば、第1の端子用孔Ht1の存在に起因したセラミックス板10の吸着面S1の温度特異点により吸着面S1の温度分布の均一性が低下することを抑制することができる。   In the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the cross-sectional shape orthogonal to the Z-axis direction of the first terminal hole Ht1 is the length in the direction orthogonal to the predetermined direction with respect to the length L1 in the predetermined direction. The ratio of L2 (L2 / L1) is 3 or more (see FIG. 7). That is, the cross-sectional shape of the first terminal hole Ht1 is a relatively long and thin shape. Therefore, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the size (diameter) of the first terminal hole Ht1 in which the power supply terminal 80 that is generally configured by an FPC having a relatively long and thin cross-sectional shape is disposed is reduced. Can do. Therefore, according to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the uniformity of the temperature distribution of the suction surface S1 is reduced due to the temperature singularity of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 due to the presence of the first terminal hole Ht1. This can be suppressed.

また、本実施形態の静電チャック100では、ベース部材20の上面S3は略円形であり、第1の端子用孔Ht1のZ軸方向に直交する断面形状は、ベース部材20の上面S3の円周方向CDに略平行な方向に沿って湾曲した形状であり、給電端子80は、少なくともベース部材20の上面S3の径方向RDに沿って外周側の端部において、円周方向CDに略平行な方向に沿って複数に分割されている(図7参照)。そのため、本実施形態の静電チャック100では、Z軸方向視でベース部材20の冷媒流路21の形状が湾曲していたとしても、第1の端子用孔Ht1を冷媒流路21の形状に沿わせるように湾曲した形状とすれば、冷媒流路21と第1の端子用孔Ht1との間の距離を略均一にすることができる。従って、本実施形態の静電チャック100によれば、第1の端子用孔Ht1の存在に起因したセラミックス板10の吸着面S1の温度特異点により吸着面S1の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。また、本実施形態の静電チャック100では、第1の端子用孔Ht1を、Z軸方向視でベース部材20の冷媒流路21と重ならない位置に配置することが容易になるため、第1の端子用孔Ht1の存在に起因してセラミックス板10の吸着面S1の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。さらに、本実施形態の静電チャック100では、給電端子80が複数に分割されているため、第1の端子用孔Ht1を湾曲した形状に形成した場合であっても、給電端子80の断面積を維持したまま、給電端子80を第1の端子用孔Ht1内に配置することができる。   In the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the upper surface S3 of the base member 20 is substantially circular, and the cross-sectional shape perpendicular to the Z-axis direction of the first terminal hole Ht1 is a circle on the upper surface S3 of the base member 20. The power supply terminal 80 has a shape that is curved along a direction substantially parallel to the circumferential direction CD, and the power supply terminal 80 is substantially parallel to the circumferential direction CD at least at the outer end along the radial direction RD of the upper surface S3 of the base member 20. It is divided into a plurality along a certain direction (see FIG. 7). Therefore, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, even if the shape of the refrigerant flow path 21 of the base member 20 is curved as viewed in the Z-axis direction, the first terminal hole Ht1 is formed in the shape of the refrigerant flow path 21. If the shape is curved so as to be along, the distance between the coolant channel 21 and the first terminal hole Ht1 can be made substantially uniform. Therefore, according to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the uniformity of the temperature distribution of the suction surface S1 is reduced due to the temperature singularity of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 due to the presence of the first terminal hole Ht1. This can be more effectively suppressed. Further, in the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the first terminal hole Ht1 can be easily disposed at a position that does not overlap the refrigerant flow path 21 of the base member 20 as viewed in the Z-axis direction. It can be further effectively suppressed that the uniformity of the temperature distribution of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 is reduced due to the presence of the terminal hole Ht1. Furthermore, in the electrostatic chuck 100 according to the present embodiment, the power supply terminal 80 is divided into a plurality of parts, so that even if the first terminal hole Ht1 is formed in a curved shape, the cross-sectional area of the power supply terminal 80 is increased. The power supply terminal 80 can be disposed in the first terminal hole Ht1 while maintaining the above.

また、本実施形態の静電チャック100では、給電端子80は、第1の端子用孔Ht1の外に配置され、径方向RDに沿って外周側に延びる第3の端子部分83を有する(図7〜図9参照)。本実施形態の静電チャック100によれば、給電端子80における第3の端子部分83同士が重なることを抑制することができ、給電端子80の取り回しを容易にすることができる。   In the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the power supply terminal 80 includes the third terminal portion 83 that is disposed outside the first terminal hole Ht1 and extends outward along the radial direction RD (see FIG. 7 to 9). According to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the third terminal portions 83 of the power supply terminal 80 can be prevented from overlapping with each other, and the power supply terminal 80 can be easily handled.

また、本実施形態の静電チャック100は、さらに、セラミックス板10に配置され、Z軸方向における位置が第1の発熱抵抗体500とは異なる第2の発熱抵抗体600を備え、第1の端子用孔Ht1は、Z軸方向視で、第2の発熱抵抗体600と重ならない位置に配置されている(図7参照)。そのため、本実施形態の静電チャック100によれば、第1の端子用孔Ht1の存在に起因して第2の発熱抵抗体600の温度特異点が生ずることを抑制できるため、セラミックス板10の吸着面S1の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。   The electrostatic chuck 100 of the present embodiment further includes a second heating resistor 600 that is disposed on the ceramic plate 10 and that is different from the first heating resistor 500 in the position in the Z-axis direction. The terminal hole Ht1 is disposed at a position that does not overlap the second heating resistor 600 when viewed in the Z-axis direction (see FIG. 7). Therefore, according to the electrostatic chuck 100 of the present embodiment, the temperature singularity of the second heating resistor 600 due to the presence of the first terminal hole Ht1 can be suppressed. It can suppress more effectively that the uniformity of the temperature distribution of adsorption surface S1 falls.

B.第2実施形態:
図11は、第2実施形態の静電チャック100aにおける1つの第1の端子用孔Ht1付近のXZ断面構成を示す説明図である。以下では、第2実施形態の静電チャック100aの構成の内、上述した第1実施形態の静電チャック100の構成と同一の構成については、同一の符号を付すことによってその説明を適宜省略する。
B. Second embodiment:
FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating an XZ cross-sectional configuration in the vicinity of one first terminal hole Ht1 in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment. Hereinafter, among the configurations of the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the same configurations as those of the electrostatic chuck 100 of the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. .

図11に示すように、第2実施形態の静電チャック100aの構成は、上述した第1実施形態の静電チャック100の構成と比較して、スペーサー90aと給電端子80aの構成が異なっている。具体的には、第2実施形態の静電チャック100aでは、スペーサー90aにおけるセラミックス板10の下面S2に対向する側とは反対側の表面(以下、「スペーサー下面SS」という)は、Z軸方向に対して0度より大きく90度より小さい傾きθ1(例えば、45度程度の傾き)を有する斜めの略平面状の領域(本実施形態ではスペーサー下面SSの全領域であり、特許請求の範囲における第1の領域に相当する)を有している。   As shown in FIG. 11, the configuration of the electrostatic chuck 100a of the second embodiment is different from the configuration of the electrostatic chuck 100 of the first embodiment described above in the configuration of the spacer 90a and the power supply terminal 80a. . Specifically, in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the surface of the spacer 90a opposite to the side facing the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (hereinafter referred to as “spacer lower surface SS”) is in the Z-axis direction. Is an oblique substantially planar region having an inclination θ1 (for example, an inclination of about 45 degrees) larger than 0 degree and smaller than 90 degrees (in this embodiment, the entire area of the spacer lower surface SS, Corresponding to the first region).

また、第2実施形態の静電チャック100aでは、給電端子80aの第1の端子部分81は、第1実施形態の静電チャック100と同様に、第1の端子用孔Ht1内に配置され、Z軸方向に略平行な方向に延びている。一方、第2実施形態の静電チャック100aでは、給電端子80aの第2の端子部分82aは、第1の端子部分81におけるセラミックス板10の下面S2に近い側の端部から、スペーサー下面SSに沿って、セラミックス板10の下面S2に近づく方向に斜めに延びている。   Further, in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the first terminal portion 81 of the power supply terminal 80a is disposed in the first terminal hole Ht1 similarly to the electrostatic chuck 100 of the first embodiment, and It extends in a direction substantially parallel to the Z-axis direction. On the other hand, in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the second terminal portion 82a of the power supply terminal 80a extends from the end portion of the first terminal portion 81 on the side close to the lower surface S2 of the ceramic plate 10 to the spacer lower surface SS. Along the direction, the ceramic plate 10 extends obliquely in a direction approaching the lower surface S2.

このように、第2実施形態の静電チャック100aでは、スペーサー90aにおけるセラミックス板10の下面S2に対向する側とは反対側の表面であるスペーサー下面SSは、Z軸方向に対して0度より大きく90度より小さい傾きθ1を有する略平面状の領域を有している。また、給電端子80aは、第1の端子部分81と第2の端子部分82aとを有する。第1の端子部分81は、第1の端子用孔Ht1内に配置され、Z軸方向に略平行な方向に延びている。また、第2の端子部分82aは、第1の端子部分81におけるセラミックス板10の下面S2に近い側の端部から、スペーサー下面SSに沿って、セラミックス板10の下面S2に近づく方向に延びている。ここで、上記第1実施形態の静電チャック100のように、給電端子80の第2の端子部分82がZ軸方向に略直交する方向に延びる構成では(図8参照)、給電端子80が、第1の端子部分81と第2の端子部分82との接続箇所で比較的大きく(深く)折り曲げられることとなる。また、上記接続箇所では、折り曲げに伴う導電領域84の破損を抑制するために、ある程度以上のR(曲率半径)を確保して折り曲げられる。そのため、このような構成では、Z軸方向に直交する方向における上記接続箇所の大きさ(図8のL11)が比較的大きくなり、その結果、給電端子80を収容する第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)が比較的大きくなる。これに対し、第2実施形態の静電チャック100aでは、給電端子80aの第2の端子部分82aが、第1の端子部分81におけるセラミックス板10の下面S2に近い側の端部からスペーサー下面SSに沿ってセラミックス板10の下面S2に近づく方向に延びているため、給電端子80aにおける第1の端子部分81と第2の端子部分82aとの接続箇所での折り曲げの程度が比較的小さく(浅く)なる。そのため、第2実施形態の静電チャック100aでは、Z軸方向に直交する方向における上記接続箇所の大きさ(図11のL21)が比較的小さくなり、その結果、給電端子80aを収容する第1の端子用孔Ht1の大きさ(径)をさらに小さくすることができる。従って、第2実施形態の静電チャック100aによれば、第1の端子用孔Ht1の存在に起因したセラミックス板10の吸着面S1の温度特異点により吸着面S1の温度分布の均一性が低下することをさらに効果的に抑制することができる。   Thus, in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the spacer lower surface SS, which is the surface opposite to the side facing the lower surface S2 of the ceramic plate 10 in the spacer 90a, is at 0 degrees with respect to the Z-axis direction. It has a substantially planar region having an inclination θ1 that is larger than 90 degrees. The power supply terminal 80a includes a first terminal portion 81 and a second terminal portion 82a. The first terminal portion 81 is disposed in the first terminal hole Ht1 and extends in a direction substantially parallel to the Z-axis direction. The second terminal portion 82a extends from the end of the first terminal portion 81 on the side close to the lower surface S2 of the ceramic plate 10 in a direction approaching the lower surface S2 of the ceramic plate 10 along the spacer lower surface SS. Yes. Here, in the configuration in which the second terminal portion 82 of the power supply terminal 80 extends in a direction substantially orthogonal to the Z-axis direction as in the electrostatic chuck 100 of the first embodiment (see FIG. 8), the power supply terminal 80 is The first terminal portion 81 and the second terminal portion 82 are bent relatively large (deep) at the connection portion. Moreover, in order to suppress damage to the conductive region 84 due to bending, the connection portion is bent with a certain R (curvature radius) secured. Therefore, in such a configuration, the size of the connection portion (L11 in FIG. 8) in the direction orthogonal to the Z-axis direction is relatively large, and as a result, the first terminal hole Ht1 that accommodates the power supply terminal 80. Is relatively large (diameter). On the other hand, in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the second terminal portion 82a of the power supply terminal 80a extends from the end of the first terminal portion 81 closer to the lower surface S2 of the ceramic plate 10 to the spacer lower surface SS. Is extending in a direction approaching the lower surface S2 of the ceramic plate 10 along the line, so that the degree of bending at the connection point between the first terminal portion 81 and the second terminal portion 82a in the power supply terminal 80a is relatively small (shallow). )Become. Therefore, in the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the size of the connection portion (L21 in FIG. 11) in the direction orthogonal to the Z-axis direction is relatively small, and as a result, the first that accommodates the power supply terminal 80a. The size (diameter) of the terminal hole Ht1 can be further reduced. Therefore, according to the electrostatic chuck 100a of the second embodiment, the uniformity of the temperature distribution of the suction surface S1 is reduced due to the temperature singularity of the suction surface S1 of the ceramic plate 10 due to the presence of the first terminal hole Ht1. This can be more effectively suppressed.

C.変形例:
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
C. Variation:
The technology disclosed in the present specification is not limited to the above-described embodiment, and can be modified into various forms without departing from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

上記実施形態における静電チャック100の構成は、あくまで一例であり、種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、静電チャック100が、第1の発熱抵抗体500への給電のための構成として、第1の発熱抵抗体用ドライバ51を備えているが、静電チャック100が第1の発熱抵抗体用ドライバ51を備えていないとしてもよい。そのような構成では、例えば、電源から給電端子80、給電パッド70、および、ビアを介して第1の発熱抵抗体500に電圧が印加される。また、上記実施形態では、静電チャック100が、第2の発熱抵抗体600への給電のための構成として、第1の発熱抵抗体用ドライバ51のようなドライバを備えていないが、静電チャック100が第2の発熱抵抗体600への給電のための構成として第1の発熱抵抗体用ドライバ51と同様のドライバを備えていてもよい。そのような構成では、例えば、電源から給電端子180、給電パッド170、ビア、ドライバ、および、ビアを介して第2の発熱抵抗体600に電圧が印加される。   The configuration of the electrostatic chuck 100 in the above embodiment is merely an example, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the electrostatic chuck 100 includes the first heating resistor driver 51 as a configuration for supplying power to the first heating resistor 500. One heating resistor driver 51 may not be provided. In such a configuration, for example, a voltage is applied from the power source to the first heating resistor 500 via the power supply terminal 80, the power supply pad 70, and the via. In the above-described embodiment, the electrostatic chuck 100 does not include a driver such as the first heating resistor driver 51 as a configuration for supplying power to the second heating resistor 600. The chuck 100 may include a driver similar to the first heating resistor driver 51 as a configuration for supplying power to the second heating resistor 600. In such a configuration, for example, a voltage is applied from the power source to the second heating resistor 600 via the power supply terminal 180, the power supply pad 170, the via, the driver, and the via.

また、上記実施形態では、静電チャック100が第2の発熱抵抗体層60を備えているが、静電チャック100が第2の発熱抵抗体層60を備えていないとしてもよい。   In the above embodiment, the electrostatic chuck 100 includes the second heating resistor layer 60, but the electrostatic chuck 100 may not include the second heating resistor layer 60.

また、上記実施形態では、セラミックス板10の下面S2に凹部12が形成されているが、セラミックス板10の下面S2に凹部12が形成されていなくてもよい。この場合には、第1の端子用孔Ht1は、互いに連通するベース部材貫通孔22と接着部貫通孔32とから構成される。なお、セラミックス板10の下面S2に凹部12が形成されていると、給電パッド70の損傷を回避しつつ、セラミックス板10の下面S2を研磨することができるため、好ましい。   Moreover, in the said embodiment, although the recessed part 12 is formed in the lower surface S2 of the ceramic board 10, the recessed part 12 does not need to be formed in the lower surface S2 of the ceramic board 10. FIG. In this case, the first terminal hole Ht1 includes a base member through hole 22 and an adhesive portion through hole 32 that communicate with each other. It is preferable that the recess 12 is formed on the lower surface S2 of the ceramic plate 10 because the lower surface S2 of the ceramic plate 10 can be polished while avoiding damage to the power supply pad 70.

また、上記実施形態では、1つの第1の端子用孔Ht1について12個の給電パッド70が1列に並べて配置されているが、1つの第1の端子用孔Ht1について設けられる給電パッド70の個数は任意に変更可能であるし、1つの第1の端子用孔Ht1について給電パッド70が2列以上に並べて配置されるとしてもよい。   Further, in the above embodiment, twelve power supply pads 70 are arranged in a row for one first terminal hole Ht1, but the power supply pads 70 provided for one first terminal hole Ht1 are arranged. The number can be arbitrarily changed, and the power supply pads 70 may be arranged in two or more rows for one first terminal hole Ht1.

また、上記実施形態における第1の端子用孔Ht1の形状は、あくまで一例であり、種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、第1の端子用孔Ht1のZ軸方向に直交する断面(XY断面)の形状は、比較的細長い形状(L2/L1が3以上である形状)であり、かつ、ベース部材20の上面S3の円周方向CDに略平行な方向に沿って湾曲した形状であるとしているが、第1の端子用孔Ht1のXY断面の形状は必ずしもそのような形状である必要はない。また、上記実施形態では、第1の端子用孔Ht1は、Z軸方向視で第2の発熱抵抗体600と重ならない位置に配置されているとしているが、必ずしもそのような配置である必要はない。   In addition, the shape of the first terminal hole Ht1 in the above embodiment is merely an example and can be variously modified. For example, in the above-described embodiment, the shape of the cross section (XY cross section) perpendicular to the Z-axis direction of the first terminal hole Ht1 is a relatively elongated shape (shape where L2 / L1 is 3 or more), and Although the shape of the upper surface S3 of the base member 20 is curved along a direction substantially parallel to the circumferential direction CD, the shape of the first terminal hole Ht1 in the XY section is not necessarily such a shape. Absent. In the above embodiment, the first terminal hole Ht1 is arranged at a position that does not overlap with the second heating resistor 600 when viewed in the Z-axis direction. However, such arrangement is not necessarily required. Absent.

また、上記実施形態では、第1の端子用孔Ht1に配置されたスペーサー90は一体形成されているとしているが、第1の端子用孔Ht1においてスペーサー90が複数の部分に分割されているとしてもよい。また、上記実施形態では、第1の端子用孔Ht1に絶縁性樹脂92が充填されているが、必ずしも絶縁性樹脂92が充填されている必要はない。   In the above embodiment, the spacer 90 disposed in the first terminal hole Ht1 is integrally formed. However, the spacer 90 is divided into a plurality of portions in the first terminal hole Ht1. Also good. In the above embodiment, the first terminal hole Ht1 is filled with the insulating resin 92. However, the insulating resin 92 is not necessarily filled.

また、上記第2実施形態では、スペーサー90aにおけるセラミックス板10の下面S2に対向する側とは反対側の表面(スペーサー下面SS)の全領域が、Z軸方向に対して0度より大きく90度より小さい傾きθ1を有する略平面状であり、給電端子80aの第2の端子部分82aが、スペーサー下面SSに沿ってセラミックス板10の下面S2に近づく方向に斜めに延びているとしているが、スペーサー下面SSの一部の領域のみがZ軸方向に対して0度より大きく90度より小さい傾きθ1を有する略平面状であり、第2の端子部分82aが、スペーサー下面SSにおける上記一部の領域に沿ってセラミックス板10の下面S2に近づく方向に斜めに延びているとしてもよい。   In the second embodiment, the entire region of the surface of the spacer 90a opposite to the side facing the lower surface S2 of the ceramic plate 10 (spacer lower surface SS) is greater than 0 degrees and 90 degrees with respect to the Z-axis direction. Although the second terminal portion 82a of the power supply terminal 80a has a substantially flat shape having a smaller inclination θ1, the second terminal portion 82a extends obliquely along the spacer lower surface SS in a direction approaching the lower surface S2 of the ceramic plate 10. Only a partial region of the lower surface SS has a substantially planar shape having an inclination θ1 larger than 0 degree and smaller than 90 degrees with respect to the Z-axis direction, and the second terminal portion 82a is the partial region on the spacer lower surface SS. It is good also as extending diagonally in the direction which approaches the lower surface S2 of the ceramic board 10 along a line.

また、上記実施形態における給電端子80の構成は、あくまで一例であり、種々変形可能である。例えば、上記実施形態では、給電端子80が複数に分割されたりスリットが設けられたりしているが、必ずしもそのような構成である必要はない。また、上記実施形態では、給電端子80がFPCにより構成されているが、給電端子80が実装コネクタにより構成されているとしてもよい。また、上記実施形態では、接続部材72が、基部74と棒状部76とを有するとしているが、接続部材72の構成は、給電端子80と電気的に接続可能な限りにおいて任意に変更可能である。   In addition, the configuration of the power supply terminal 80 in the above embodiment is merely an example, and various modifications can be made. For example, in the above embodiment, the power supply terminal 80 is divided into a plurality of parts or provided with slits, but such a configuration is not necessarily required. Moreover, in the said embodiment, although the electric power feeding terminal 80 is comprised by FPC, the electric power feeding terminal 80 is good also as being comprised by the mounting connector. Moreover, in the said embodiment, although the connection member 72 is supposed to have the base part 74 and the rod-shaped part 76, the structure of the connection member 72 can be arbitrarily changed as long as it can electrically connect with the electric power feeding terminal 80. .

また、静電チャック100に形成されたすべての第1の端子用孔Ht1付近について、上記実施形態において説明した構成が採用される必要はなく、少なくとも1つの第1の端子用孔Ht1付近について、上記実施形態において説明した構成が採用されればよい。また、上記実施形態では、静電チャック100における第2の端子用孔Ht2付近の構成は、第1の端子用孔Ht1付近の構成と同様であるとしているが、第2の端子用孔Ht2付近の構成は、他の公知の構成であってもよい。   Further, it is not necessary to adopt the configuration described in the above embodiment for all the vicinity of the first terminal hole Ht1 formed in the electrostatic chuck 100, and for the vicinity of at least one first terminal hole Ht1. The configuration described in the above embodiment may be employed. In the above embodiment, the configuration in the vicinity of the second terminal hole Ht2 in the electrostatic chuck 100 is the same as the configuration in the vicinity of the first terminal hole Ht1, but in the vicinity of the second terminal hole Ht2. The other configuration may be other known configurations.

また、上記実施形態では、静電チャック100の内部に配置された各導電性部材のZ軸方向における位置に関し、上側(吸着面S1に近い側)から順に、チャック電極40、第1の発熱抵抗体層50、第1の発熱抵抗体用ドライバ51、第2の発熱抵抗体層60の順に配置されているが、これらの内の少なくとも2つの層の位置関係が逆になってもよい。例えば、上記実施形態では、第2の発熱抵抗体層60が第1の発熱抵抗体層50より下側に位置する(その結果、各セグメントSEにおいて第2の発熱抵抗体600が第1の発熱抵抗体500より下側に位置する)が、第2の発熱抵抗体層60が第1の発熱抵抗体層50より上側に位置する(その結果、各セグメントSEにおいて第2の発熱抵抗体600が第1の発熱抵抗体500より上側に位置する)としてもよい。   In the above-described embodiment, the chuck electrode 40 and the first heating resistor are sequentially arranged from the upper side (side closer to the suction surface S1) with respect to the position in the Z-axis direction of each conductive member disposed inside the electrostatic chuck 100. Although the body layer 50, the first heating resistor driver 51, and the second heating resistor layer 60 are arranged in this order, the positional relationship between at least two of these layers may be reversed. For example, in the above embodiment, the second heating resistor layer 60 is positioned below the first heating resistor layer 50 (as a result, the second heating resistor 600 is the first heating element in each segment SE. The second heating resistor layer 60 is positioned above the first heating resistor layer 50 (as a result, the second heating resistor 600 is located in each segment SE). It may be located above the first heating resistor 500).

また、上記実施形態において、第2の発熱抵抗体600への給電のための構成の一部(例えば、給電端子、ビア、導電ライン等)が、第1の発熱抵抗体500への給電ためにも利用されるとしてもよく、反対に、第1の発熱抵抗体500への給電のための構成の一部(例えば、給電端子、ビア、導電ライン等)が、第2の発熱抵抗体600への給電ためにも利用されるとしてもよい。また、上記実施形態において、各ビアは、単数のビアにより構成されてもよいし、複数のビアのグループにより構成されてもよい。   In the above embodiment, a part of the configuration for supplying power to the second heating resistor 600 (for example, a power supply terminal, a via, a conductive line, etc.) is used to supply power to the first heating resistor 500. On the contrary, a part of the configuration for supplying power to the first heat generating resistor 500 (for example, a power supply terminal, a via, a conductive line, etc.) is supplied to the second heat generating resistor 600. It may be used for power supply. In the above embodiment, each via may be configured by a single via or a group of a plurality of vias.

また、上記実施形態におけるセグメントSEの設定態様は、任意に変更可能である。例えば、上記実施形態では、各セグメントSEが吸着面S1の円周方向に並ぶように複数のセグメントSEが設定されているが、各セグメントSEが格子状に並ぶように複数のセグメントSEが設定されてもよい。また、例えば、上記実施形態では、静電チャック100の全体が複数のセグメントSEに仮想的に分割されているが、静電チャック100の一部分が複数のセグメントSEに仮想的に分割されていてもよい。  Moreover, the setting aspect of the segment SE in the said embodiment can be changed arbitrarily. For example, in the above embodiment, the plurality of segments SE are set so that the segments SE are arranged in the circumferential direction of the suction surface S1, but the plurality of segments SE are set so that the segments SE are arranged in a lattice pattern. May be. Further, for example, in the above embodiment, the entire electrostatic chuck 100 is virtually divided into a plurality of segments SE, but a part of the electrostatic chuck 100 may be virtually divided into a plurality of segments SE. Good.

また、上記実施形態では、セラミックス板10の内部に1つのチャック電極40が設けられた単極方式が採用されているが、セラミックス板10の内部に一対のチャック電極40が設けられた双極方式が採用されてもよい。また、上記実施形態の静電チャック100における各部材を形成する材料は、あくまで例示であり、各部材が他の材料により形成されてもよい。   Further, in the above embodiment, a monopolar system in which one chuck electrode 40 is provided inside the ceramic plate 10 is adopted, but a bipolar system in which a pair of chuck electrodes 40 is provided inside the ceramic plate 10 is employed. It may be adopted. Moreover, the material which forms each member in the electrostatic chuck 100 of the said embodiment is an illustration to the last, and each member may be formed with another material.

また、本発明は、静電引力を利用してウェハWを保持する静電チャック100に限らず、セラミックス板の表面上に対象物を保持する他の保持装置(例えば、CVDヒータ等のヒータ装置や真空チャック等)にも適用可能である。   In addition, the present invention is not limited to the electrostatic chuck 100 that holds the wafer W using electrostatic attraction, but other holding devices that hold an object on the surface of a ceramic plate (for example, a heater device such as a CVD heater). Or a vacuum chuck).

10:セラミックス板 12:凹部 20:ベース部材 21:冷媒流路 22:ベース部材貫通孔 30:接着部 32:接着部貫通孔 40:チャック電極 50:発熱抵抗体層 51:発熱抵抗体用ドライバ 53:ビア対 54:ビア 60:発熱抵抗体層 63:ビア対 70:給電パッド 72:接続部材 74:基部 76:棒状部 78:ろう材 80:給電端子 81:第1の端子部分 82:第2の端子部分 83:第3の端子部分 84:導電領域 85:孔 88:はんだ 90:スペーサー 92:絶縁性樹脂 100:静電チャック 170:給電パッド 180:給電端子 500:第1の発熱抵抗体 502:抵抗線部 504:パッド部 510:ライン対 511:第1の導電ライン 512:第2の導電ライン 531:ビア 532:ビア 600:第2の発熱抵抗体 602:抵抗線部 604:パッド部 631:ビア 632:ビア 10: Ceramic plate 12: Recess 20: Base member 21: Refrigerant flow path 22: Base member through hole 30: Adhering part 32: Adhering part through hole 40: Chuck electrode 50: Heating resistor layer 51: Heating resistor driver 53 : Via pair 54: Via 60: Heating resistor layer 63: Via pair 70: Power supply pad 72: Connection member 74: Base 76: Rod-shaped part 78: Brazing material 80: Power supply terminal 81: First terminal part 82: Second Terminal portion 83: third terminal portion 84: conductive region 85: hole 88: solder 90: spacer 92: insulating resin 100: electrostatic chuck 170: power supply pad 180: power supply terminal 500: first heating resistor 502 : Resistance line portion 504: pad portion 510: line pair 511: first conductive line 512: second conductive line 531: via 532: Via 600: Second heating resistor 602: Resistance wire portion 604: Pad portion 631: Via 632: Via

Claims (8)

第1の方向に略直交する略平面状の第1の表面と、第1の表面とは反対側の第2の表面と、を有するセラミックス板と、
第3の表面を有し、前記第3の表面が前記セラミックス板の前記第2の表面に対向するように配置され、冷媒流路と、前記第3の表面に開口する第1の貫通孔と、が形成されたベース部材と、
前記セラミックス板の前記第2の表面と前記ベース部材の前記第3の表面との間に配置され、前記ベース部材の前記第1の貫通孔と連通し、前記第1の貫通孔と共に端子用孔を構成する第2の貫通孔が形成された接着部と、
前記セラミックス板の少なくとも一部を前記第1の方向に直交する方向に並ぶ複数のセグメントに仮想的に分割したときの各前記セグメント内に配置された第1の発熱抵抗体と、
前記セラミックス板の前記第2の表面における前記端子用孔に対応する位置に配置され、複数の前記第1の発熱抵抗体と電気的に接続された導電性の複数の給電パッドと、
を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置において、さらに、
前記複数の給電パッドのそれぞれについて設けられた接続部材と、
複数の導電領域を有する1つの実装コネクタまたはフレキシブルプリント配線板により構成され、前記端子用孔内において各前記導電領域が各前記接続部材と電気的に接続された給電端子と、
前記給電端子と前記セラミックス板の前記第2の表面との間において、互いに隣り合う2つの前記給電パッドの間に配置された絶縁性のスペーサーと、
を備えることを特徴とする、保持装置。
A ceramic plate having a substantially planar first surface substantially orthogonal to the first direction and a second surface opposite to the first surface;
A third surface, wherein the third surface is disposed so as to face the second surface of the ceramic plate; a refrigerant flow path; and a first through hole that opens to the third surface; A base member formed with,
The ceramic plate is disposed between the second surface of the ceramic plate and the third surface of the base member, communicates with the first through hole of the base member, and has a terminal hole together with the first through hole. An adhesive part in which a second through hole is formed;
A first heating resistor disposed in each segment when virtually dividing at least a part of the ceramic plate into a plurality of segments arranged in a direction orthogonal to the first direction;
A plurality of conductive power supply pads disposed at positions corresponding to the terminal holes on the second surface of the ceramic plate and electrically connected to the plurality of first heating resistors;
A holding device for holding an object on the first surface of the ceramic plate,
A connection member provided for each of the plurality of power supply pads;
A power supply terminal constituted by one mounting connector or a flexible printed wiring board having a plurality of conductive regions, wherein each conductive region is electrically connected to each connection member in the terminal hole,
An insulating spacer disposed between the two power supply pads adjacent to each other between the power supply terminal and the second surface of the ceramic plate;
A holding device comprising:
請求項1に記載の保持装置において、
前記接続部材は、前記給電パッド上に配置された導電性の基部と、前記基部から前記セラミックス板の前記第2の表面から遠ざかる方向に延びる導電性の棒状部と、を有し、
前記セラミックス板の前記第2の表面における前記端子用孔に対応する位置に、第1の前記給電パッドと、前記第1の給電パッドを挟んで隣り合う第2および第3の前記給電パッドと、を含む3つ以上の前記給電パッドが配置され、
前記スペーサーは、前記第1の給電パッドと前記第2の給電パッドとの間である第1の位置と、前記第1の給電パッドと前記第3の給電パッドとの間である第2の位置と、に配置され、
前記保持装置は、さらに、前記第1の位置に配置された前記スペーサーと前記第2の位置に配置された前記スペーサーとの間に充填され、前記第1の給電パッドと、前記第1の給電パッドについて設けられた前記接続部材における前記基部と前記棒状部における前記基部側の一部分と、を覆う絶縁性樹脂を備えることを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 1, wherein
The connection member includes a conductive base portion disposed on the power supply pad, and a conductive rod-shaped portion extending from the base portion in a direction away from the second surface of the ceramic plate,
At a position corresponding to the terminal hole on the second surface of the ceramic plate, the first power supply pad, the second and third power supply pads adjacent to each other across the first power supply pad, And three or more power supply pads including
The spacer has a first position between the first power supply pad and the second power supply pad, and a second position between the first power supply pad and the third power supply pad. And placed in
The holding device is further filled between the spacer disposed at the first position and the spacer disposed at the second position, and includes the first power supply pad and the first power supply. A holding device comprising: an insulating resin that covers the base portion of the connection member provided for the pad and a portion of the rod-like portion on the base portion side.
請求項1または請求項2に記載の保持装置において、
前記スペーサーにおける前記セラミックス板の前記第2の表面に対向する側とは反対側の表面は、前記第1の方向に対して0度より大きく90度より小さい傾きを有する略平面状の第1の領域を有し、
前記給電端子は、
前記端子用孔内に配置され、前記第1の方向に略平行な方向に延びる第1の端子部分と、
前記第1の端子部分における前記セラミックス板の前記第2の表面に近い側の端部から、前記スペーサーの前記表面の前記第1の領域に沿って、前記セラミックス板の前記第2の表面に近づく方向に延びる部分であり、前記接続部材と電気的に接続された箇所を含む第2の端子部分と、
を有することを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 1 or 2,
The surface of the spacer opposite to the side facing the second surface of the ceramic plate has a substantially planar first surface having an inclination greater than 0 degrees and smaller than 90 degrees with respect to the first direction. Has an area,
The power supply terminal is
A first terminal portion disposed in the terminal hole and extending in a direction substantially parallel to the first direction;
The first terminal portion approaches the second surface of the ceramic plate along the first region of the surface of the spacer from an end portion of the ceramic plate close to the second surface. A second terminal portion including a portion that extends in a direction and is electrically connected to the connection member;
A holding device characterized by comprising:
請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記給電端子は、はんだによって前記接続部材に接合されていることを特徴とする、保持装置。
In the holding device according to any one of claims 1 to 3,
The holding device, wherein the power supply terminal is joined to the connection member by solder.
請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の保持装置において、
前記端子用孔の前記第1の方向に直交する断面形状は、所定の方向の長さL1に対する、前記所定の方向に直交する方向の長さL2の比(L2/L1)が、3以上である形状であることを特徴とする、保持装置。
In the holding device according to any one of claims 1 to 4,
The cross-sectional shape orthogonal to the first direction of the terminal hole is such that the ratio (L2 / L1) of the length L2 in the direction orthogonal to the predetermined direction to the length L1 in the predetermined direction is 3 or more. A holding device having a certain shape.
請求項5に記載の保持装置において、
前記ベース部材の前記第3の表面は、略円形であり、
前記端子用孔の前記第1の方向に直交する断面形状は、前記第3の表面の円周方向に略平行な方向に沿って湾曲した形状であり、
前記給電端子は、少なくとも前記第3の表面の径方向に沿って外周側の端部において、前記円周方向に略平行な方向に沿って複数に分割されていることを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 5, wherein
The third surface of the base member is substantially circular;
The cross-sectional shape orthogonal to the first direction of the terminal hole is a shape curved along a direction substantially parallel to the circumferential direction of the third surface,
The holding device is characterized in that the power supply terminal is divided into a plurality along a direction substantially parallel to the circumferential direction at least at an outer peripheral end portion along the radial direction of the third surface. .
請求項6に記載の保持装置において、
前記給電端子は、前記端子用孔の外に配置され、前記径方向に沿って外周側に延びる第3の端子部分を有することを特徴とする、保持装置。
The holding device according to claim 6, wherein
The power feeding terminal includes a third terminal portion that is disposed outside the terminal hole and extends outward along the radial direction.
請求項5から請求項7までのいずれか一項に記載の保持装置において、さらに、
前記セラミックス板に配置され、前記第1の方向における位置が前記第1の発熱抵抗体とは異なる第2の発熱抵抗体を備え、
前記端子用孔は、前記第1の方向視で、前記第2の発熱抵抗体と重ならない位置に配置されていることを特徴とする、保持装置。
The holding device according to any one of claims 5 to 7, further comprising:
A second heating resistor disposed on the ceramic plate and having a position in the first direction different from the first heating resistor;
The holding device according to claim 1, wherein the terminal hole is disposed at a position that does not overlap the second heating resistor as viewed in the first direction.
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