JP2019049625A - 現像部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】イオン導電剤の浸みだしが少なく、且つ導電性が高く、さらに、現像部材の帯電付与性の耐久変動が小さい現像部材、並びにこの現像部材を用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。【解決手段】導電性の基体と表面層とを有する現像部材であって、該表面層は樹脂を含む樹脂層であり、該樹脂層は、特定のアニオンを含み、該樹脂は、構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と、構造式(3)で示される部分構造と、を有することを特徴とする現像部材。【選択図】なし
Description
本発明は電子写真装置に用いられる現像部材を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
電子写真画像形成装置に用いられている現像部材や帯電部材の如き、導電層を備えた電子写真用部材は、該導電層の電気抵抗値を、例えば、1.0×105〜1.0×109Ωに制御する必要がある。導電層の電気抵抗値を、上記の範囲に制御するために、イオン導電剤を含有させることが知られている。しかしながら、イオン導電剤によって導電性を制御してなる導電層は、長期に亘る使用により、イオン導電剤由来のイオンが、導電層中で偏在し、導電性が変化する場合がある。
このような課題に対し、特許文献1では、弾性層と、該弾性層の外周部に設けられたウレタンコート層を備える導電性ローラが開示されている。その導電性ローラは、該ウレタンコート層が、水酸基を2個有するイオン液体と、該イオン液体以外のポリオールと、ポリイソシアネートとの反応物で構成されている。
本発明者らの検討によれば、特許文献1に係る導電性ローラは、一方のイオンがウレタン樹脂の分子内に固定されていることにより、長期の使用によっても導電性が変化しにくい、という効果を奏することを確認している。しかしながら、特許文献1に係る導電性ローラを、現像ローラとして、長期に亘る電子写真画像の形成に供したところ、得られる電子写真画像にかぶりが生じる場合があった。
本発明の一態様は、長期の使用によっても、高品位な電子写真画像を形成し得る現像部材の提供に向けたものである。
また本発明の他の態様は、高品位な電子写真画像を安定して出力できる電子写真装置及びそれに用いられるプロセスカートリッジの提供に向けたものである。
また本発明の他の態様は、高品位な電子写真画像を安定して出力できる電子写真装置及びそれに用いられるプロセスカートリッジの提供に向けたものである。
本発明の一態様によれば、導電性の基体と、表面層とを有する現像部材であって、
該表面層は樹脂及びアニオンを含み、
該アニオンは、フッ化スルホン酸アニオン、フッ化カルボン酸アニオン、フッ化スルホニルイミドアニオン、フッ化スルホニルメチドアニオン、フッ化アルキルフッ化ホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン及びジシアンアミドアニオンからなる群から選択される少なくとも一つであり、
該樹脂は、
構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と構造式(3)で示される部分構造と、を有する現像部材:
該表面層は樹脂及びアニオンを含み、
該アニオンは、フッ化スルホン酸アニオン、フッ化カルボン酸アニオン、フッ化スルホニルイミドアニオン、フッ化スルホニルメチドアニオン、フッ化アルキルフッ化ホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン及びジシアンアミドアニオンからなる群から選択される少なくとも一つであり、
該樹脂は、
構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と構造式(3)で示される部分構造と、を有する現像部材:
Xは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を表し、
Xが窒素原子の場合、pは1であり、Xが酸素原子又は硫黄原子の場合、pは0であり、
R11〜R15は、各々独立に、下記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR11〜R15のうちの何れか2つは(c)である:
(a)水素原子、
(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造。]、
nは2以上4以下の整数であり、
R35は炭素数2以上4以下のアルキレン基を表し、複数のR35は同一でも異なっていてもよく、
R31〜R34は、各々独立に、下記(d)〜(f)からなる群から選択される何れかであって、複数のR34は同一でも異なっていてもよく、且つR31〜R34のうちの少なくとも4つは(f)である:
(d)水素原子、
(e)炭素数1〜4のアルキル基、
(f)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合又はウレア結合を介して結合している部分を含む構造。]。
また本発明の他の態様によれば、電子写真装置の本体に着脱可能に構成されており、少なくとも現像手段を有しているプロセスカートリッジであって、該現像手段が、上記に記載の現像部材を有することを特徴とするプロセスカートリッジが提供される。
さらに本発明の他の態様によれば、少なくとも現像手段を備えている電子写真装置であって、該現像手段が上記に記載の現像部材を有することを特徴とする電子写真装置が提供される。
本発明の一態様によれば、高品位な電子写真画像の安定的な形成に資する現像部材を得ることができる。
また本発明によれば、高品位な電子写真画像を安定して形成することのできるプロセスカートリッジ及び電子写真装置を得ることができる。
また本発明によれば、高品位な電子写真画像を安定して形成することのできるプロセスカートリッジ及び電子写真装置を得ることができる。
本発明者らは、特許文献1に係る導電性ローラを現像ローラとして用いた場合において、多数枚の電子写真画像を形成するに連れて、電子写真画像にかぶりが生じるという課題の発生メカニズムを検討した。その過程で、電子写真画像の形成工程における当該導電性ローラの表面に担持されているトナーの帯電量が、初期と比較して低下していることを知見した。
そして、本発明者らは、トナーの帯電量の低下が、導電性ローラの表面層中のアニオンが、表面層の基材に近い側に偏在したことに起因しているものと推測した。
すなわち、現像部材上におけるトナーの帯電量は、トナーが接している現像部材の表面及びその近傍の原子の電子状態に影響を受ける。
そして、本発明者らは、トナーの帯電量の低下が、導電性ローラの表面層中のアニオンが、表面層の基材に近い側に偏在したことに起因しているものと推測した。
すなわち、現像部材上におけるトナーの帯電量は、トナーが接している現像部材の表面及びその近傍の原子の電子状態に影響を受ける。
特許文献1に係る導電性ローラの表面層中には、カチオン構造を分子内に有するウレタン樹脂と、フリーなアニオンとが存在する。新品の状態においては、アニオンは表面層の厚み方向に偏在することなく均一に分布している。そのため、表面層全体にわたって正電荷と負電荷が釣り合っており、導電性ローラの表面は電気的に中性に保たれている。しかしながら、現像ローラとして、長期に亘る電子写真画像の形成に供した場合、導電性ローラと電子写真感光体との間のバイアスの印加によって、アニオンは、表面層中を、基材に向かって移動する。その結果、アニオンは、表面層中の基材に近い側に偏在し、現像部材の表面近傍のアニオンの濃度が低下する。一方、当該アニオンと対をなすカチオンは、ウレタン樹脂の分子内に固定されているため、当該バイアスの印加によっても表面層中を移動しにくい。そのため、導電性ローラの表面及びその近傍においては、カチオンの濃度が、アニオンの濃度よりも高くなり、導電性ローラの表面は、新品の状態のときと比較して、正電荷を帯びるようになる。その結果、トナーは、現像部材との摩擦に起因する負の電荷を帯びたとしても、導電性ローラの表面に担持されている間に、導電性ローラの表面層の表面の正電荷と結びつき、トナーの帯電量が減少すると考えられる。
すなわち、特許文献1に係る導電性ローラにおける前記課題は、表面層が、カチオン構造を分子内に有する樹脂と、当該樹脂よりも相対的に表面層内を移動しやすいアニオンとを含むことに起因するものと考えられる。一方、カチオン構造を分子内に有する樹脂と、当該樹脂よりも相対的に表面層内を移動しやすいアニオンとを含む表面層が、長期に使用によっても導電性が変化しにくい、というメリットを有することは前記した通りである。
なお、特許文献1に係る導電性ローラの課題、すなわち、バイアスを印加し続けた場合におけるトナーのトリボの変動は、表面層中の樹脂が、水酸基を2つ有するカチオンを原料に用いて形成されてなる樹脂であり、且つ、アニオンが導電性の高い特定のアニオンである場合に、特に顕著に表れた。
表面層の中で、樹脂の分子内のカチオンとアニオンは静電的に相互作用しており、アニオンは、複数の固定化されたカチオンの間をホッピング伝導により移動すると考えられる。そのため、アニオンの動きやすさは、カチオンの自由度によっても影響を受ける。
また、カチオンの自由度は、樹脂にカチオン構造を与える、樹脂の原料であるイオン導電剤の水酸基の数が2個の場合と、3個以上の場合とで、顕著な違いが表れる。
すなわち、本発明に係る、水酸基を2個有するイオン導電剤を用いて得られる樹脂においては、カチオン構造は2か所でポリマー鎖と結合している。この場合、カチオン構造は、ミクロブラウン運動しやすい。一方、水酸基を3個有するイオン導電剤を用いて得られる樹脂においては、カチオンは、3か所でポリマー鎖と結合している。カチオン構造は、樹脂の分岐部、すなわち架橋点に位置するため、カチオン構造の自由度は低下すると考えられる。
そのため、水酸基を2個有するイオン導電剤を用いて得られる樹脂をアニオンと共に含む表面層を有する現像部材は、バイアスの印加によって、アニオンの偏在が、より生じやすいものと考えられる。
表面層の中で、樹脂の分子内のカチオンとアニオンは静電的に相互作用しており、アニオンは、複数の固定化されたカチオンの間をホッピング伝導により移動すると考えられる。そのため、アニオンの動きやすさは、カチオンの自由度によっても影響を受ける。
また、カチオンの自由度は、樹脂にカチオン構造を与える、樹脂の原料であるイオン導電剤の水酸基の数が2個の場合と、3個以上の場合とで、顕著な違いが表れる。
すなわち、本発明に係る、水酸基を2個有するイオン導電剤を用いて得られる樹脂においては、カチオン構造は2か所でポリマー鎖と結合している。この場合、カチオン構造は、ミクロブラウン運動しやすい。一方、水酸基を3個有するイオン導電剤を用いて得られる樹脂においては、カチオンは、3か所でポリマー鎖と結合している。カチオン構造は、樹脂の分岐部、すなわち架橋点に位置するため、カチオン構造の自由度は低下すると考えられる。
そのため、水酸基を2個有するイオン導電剤を用いて得られる樹脂をアニオンと共に含む表面層を有する現像部材は、バイアスの印加によって、アニオンの偏在が、より生じやすいものと考えられる。
本発明者らは、特許文献1に係る導電性ローラの表面層が有するメリットを損なうことなく、当該表面層の構成に起因する課題を解決し得る現像部材を得ることを目的として検討を重ねた。
その結果、アニオン、及び、構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と構造式(3)で示される部分構造と、を有する樹脂を含む表面層を備えた現像部材が、上記の目的の達成に有効であることを見出した。
その結果、アニオン、及び、構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と構造式(3)で示される部分構造と、を有する樹脂を含む表面層を備えた現像部材が、上記の目的の達成に有効であることを見出した。
Xは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を表し、
Xが窒素原子の場合、pは1であり、Xが酸素原子又は硫黄原子の場合、pは0であり、
R11〜R15は、各々独立に、下記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR11〜R15のうちの何れか2つは(c)である:
(a)水素原子、
(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造。]、
nは2以上4以下の整数であり、
R35は炭素数2以上4以下のアルキレン基を表し、R35は同一でも異なっていてもよく、
R31〜R34は、各々独立に、下記(d)〜(f)からなる群から選択される何れかであって、R34は同一でも異なっていてもよく、且つR31〜R34のうちの少なくとも4つは(f)である:
(d)水素原子、
(e)炭素数1〜4のアルキル基、
(f)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合又はウレア結合を介して結合している部分を含む構造。]。
この現像部材に対して電圧を印加し続けた場合、アニオンは、表面層中の基材側に偏在し、、現像部材の表面は、正電荷を帯び得る。しかしながら、樹脂の分子内に組み込まれている構造式(3)で示されるアミノ構造中の窒素原子は、非共有電子対を有している。そのため、現像部材の表面に担持されたトナーの負電荷が、現像部材の表面に奪われても、該アミノ構造中の窒素原子が有する非共有電子対によって、負電荷が再び付与されると考えられる。そのため、本態様に係る現像部材は、バイアスの印加によって、表面が正電荷を帯びたとしても、表面に担持するトナーの帯電量の変動を有効に抑制し得る。
以下、本発明の一態様に係る現像部材について、図面を参照しながら説明する。
本発明の一態様に係る現像部材としては、例えば、ローラ形状の現像部材(以降、「現像ローラ」ともいう)、及び、ブレード形状を有する現像部材(以降、「現像ブレード」ともいう)が挙げられる。
図1(a)に示す現像ローラは、導電性の基体2と、その外周の、表面層としての弾性層3とを有する。図1(b)に示す現像ローラは、導電性の基体2、基体2の外周を被覆する弾性層3及び、弾性層3の外周を被覆する表面層4を有する。図1(c)に示すように、現像ローラは、弾性層3と表面層4の間に中間層5を配置した3層構造、又は、中間層5を複数配置した多層構成であってもよい。図1(b)及び(c)の場合、本発明の表面層は、表面層4に適用可能である。また本発明に係る現像部材を現像ブレードとして適用した際の一実施形態を図2に示す。本発明に係る現像部材は、図2に示すように、支持基材K−2と、その外側を被覆した樹脂層50とからなることができる。この場合樹脂層50が、本発明に係る樹脂からなる表面層である。この場合樹脂層50は、上記現像ローラとして使用する樹脂と同様な樹脂を使用することができる。
本発明の一態様に係る現像部材としては、例えば、ローラ形状の現像部材(以降、「現像ローラ」ともいう)、及び、ブレード形状を有する現像部材(以降、「現像ブレード」ともいう)が挙げられる。
図1(a)に示す現像ローラは、導電性の基体2と、その外周の、表面層としての弾性層3とを有する。図1(b)に示す現像ローラは、導電性の基体2、基体2の外周を被覆する弾性層3及び、弾性層3の外周を被覆する表面層4を有する。図1(c)に示すように、現像ローラは、弾性層3と表面層4の間に中間層5を配置した3層構造、又は、中間層5を複数配置した多層構成であってもよい。図1(b)及び(c)の場合、本発明の表面層は、表面層4に適用可能である。また本発明に係る現像部材を現像ブレードとして適用した際の一実施形態を図2に示す。本発明に係る現像部材は、図2に示すように、支持基材K−2と、その外側を被覆した樹脂層50とからなることができる。この場合樹脂層50が、本発明に係る樹脂からなる表面層である。この場合樹脂層50は、上記現像ローラとして使用する樹脂と同様な樹脂を使用することができる。
<基体>
基体2は、現像部材1の電極及び支持部材として機能するものであり、例えば、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼の如き金属又は合金;クロム、又はニッケルで鍍金処理を施した鉄;導電性を有する合成樹脂の如き導電性の材質で構成される。またその形態は、中実であってもよく、中空であってもよい。
基体2は、現像部材1の電極及び支持部材として機能するものであり、例えば、アルミニウム、銅合金、ステンレス鋼の如き金属又は合金;クロム、又はニッケルで鍍金処理を施した鉄;導電性を有する合成樹脂の如き導電性の材質で構成される。またその形態は、中実であってもよく、中空であってもよい。
<弾性層>
弾性層3は、現像部材と感光体との当接部において、所定の幅のニップを形成するために必要な弾性を現像部材に与えるものである。
弾性層3は、通常ゴム材料の成型体により形成されることが好ましい。ゴム材料としては以下のものが挙げられる。エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム(EPDM)、アクリルニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、クロロプレンゴム(CR)、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、NBRの水素化物、ウレタンゴム。これらは単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。
これらの中でも、特に、長期に亘って他の部材(現像剤規制ブレード等)が当接した場合にも圧縮永久歪みを弾性層に生じさせにくいことから、シリコーンゴムが好ましい。シリコーンゴムとしては、付加硬化型のシリコーンゴムの硬化物等が挙げられる。更に言えば、付加硬化型ジメチルシリコーンゴムの硬化物とすることが特に好ましい。
弾性層3は、現像部材と感光体との当接部において、所定の幅のニップを形成するために必要な弾性を現像部材に与えるものである。
弾性層3は、通常ゴム材料の成型体により形成されることが好ましい。ゴム材料としては以下のものが挙げられる。エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム(EPDM)、アクリルニトリル−ブタジエンゴム(NBR)、クロロプレンゴム(CR)、天然ゴム(NR)、イソプレンゴム(IR)、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、NBRの水素化物、ウレタンゴム。これらは単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。
これらの中でも、特に、長期に亘って他の部材(現像剤規制ブレード等)が当接した場合にも圧縮永久歪みを弾性層に生じさせにくいことから、シリコーンゴムが好ましい。シリコーンゴムとしては、付加硬化型のシリコーンゴムの硬化物等が挙げられる。更に言えば、付加硬化型ジメチルシリコーンゴムの硬化物とすることが特に好ましい。
弾性層3中には、導電性付与剤、非導電性充填剤、架橋剤、触媒の如き各種添加剤が適宜配合される。導電性付与剤としては、カーボンブラック;アルミニウム、銅の如き導電性金属;酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。このうち、カーボンブラックは比較的容易に入手でき、良好な導電性が得られるので特に好ましい。導電性付与剤としてカーボンブラックを用いる場合は、ゴム材料中のゴム100質量部に対して2〜50質量部配合される。非導電性充填剤としては、シリカ、石英粉末、酸化チタン、酸化亜鉛又は炭酸カルシウムが挙げられる。架橋剤としては、ジ−t−ブチルパ−オキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパ−オキシ)ヘキサン又はジクミルパーオキサイドが挙げられる。
<表面層>
表面層4は、樹脂、及び、アニオンを含む。該アニオンは、フッ化スルホン酸アニオン、フッ化カルボン酸アニオン、フッ化スルホニルイミドアニオン、フッ化スルホニルメチドアニオン、フッ化アルキルフッ化ホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン及びジシアンアミドアニオンからなる群から選択される少なくとも一つである。
表面層4は、樹脂、及び、アニオンを含む。該アニオンは、フッ化スルホン酸アニオン、フッ化カルボン酸アニオン、フッ化スルホニルイミドアニオン、フッ化スルホニルメチドアニオン、フッ化アルキルフッ化ホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン及びジシアンアミドアニオンからなる群から選択される少なくとも一つである。
<アニオン>
フッ化スルホン酸アニオンとしては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、フルオロメタンスルホン酸アニオン、パーフルオロエチルスルホン酸アニオン、パーフルオロプロピルスルホン酸アニオン、パーフルオロブチルスルホン酸アニオン、パーフルオロペンチルスルホン酸アニオン、パーフルオロヘキシルスルホン酸アニオン、パーフルオロオクチルスルホン酸アニオンが挙げられる。
フッ化スルホン酸アニオンとしては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、フルオロメタンスルホン酸アニオン、パーフルオロエチルスルホン酸アニオン、パーフルオロプロピルスルホン酸アニオン、パーフルオロブチルスルホン酸アニオン、パーフルオロペンチルスルホン酸アニオン、パーフルオロヘキシルスルホン酸アニオン、パーフルオロオクチルスルホン酸アニオンが挙げられる。
フッ化カルボン酸アニオンとしては、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロプロピオン酸アニオン、パーフルオロ酪酸アニオン、パーフルオロ吉草酸アニオン、パーフルオロカプロン酸アニオンが挙げられる。
フッ化スルホニルイミドアニオンとしては、トリフルオロメタンスルホニルイミドアニオン、パーフルオロエチルスルホニルイミドアニオン、パーフルオロプロピルスルホニルイミドアニオン、パーフルオロブチルスルホニルイミドアニオン、パーフルオロペンチルスルホルイミドアニオン、パーフルオロヘキシルスルホニルイミドアニオン、パーフルオロオクチルスルホニルイミドアニオン、フルオロスルホニルイミドアニオン、又はシクロ−ヘキサフルオロプロパン−1,3−ビス(スルホニル)イミドの如き環状アニオンが挙げられる。
フッ化スルホニルメチドアニオンとしては、トリフルオロメタンスルホニルメチドアニオン、パーフルオロエチルスルホニルメチドアニオン、パーフルオロプロピルスルホニルメチドアニオン、パーフルオロブチルスルホニルメチドアニオン、パーフルオロペンチルスルホニルメチドアニオン、パーフルオロヘキシルスルホニルメチドアニオン、パーフルオロオクチルスルホニルメチドアニオンが挙げられる。
フッ化アルキルフッ化ホウ酸アニオンとしては、トリフルオロメチルトリフルオロホウ酸アニオン、ペンタフルオロエチルトリフルオロホウ酸アニオンが挙げられる。
以上に挙げたアニオンの中でも、イオン導電剤のアニオンとしては、フッ化スルホニルイミドアニオンが、得られる表面層の導電性が高くなる点で好ましい。
樹脂は、構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と構造式(3)で示される部分構造と、を有する。
Xは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を表し、
Xが窒素原子の場合、pは1であり、Xが酸素原子又は硫黄原子の場合、pは0であり、
R11〜R15は、各々独立に、下記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR11〜R15のうちの何れか2つは(c)である:
(a)水素原子、
(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造。]、
nは2以上4以下の整数であり、
R35は炭素数2以上4以下のアルキレン基を表し、複数のR35は同一でも異なっていてもよく、
R31〜R34は、各々独立に、下記(d)〜(f)からなる群から選択される何れかであって、複数のR34は同一でも異なっていてもよく、且つR31〜R34のうちの少なくとも4つは(f)である:
(d)水素原子、
(e)炭素数1〜4のアルキル基、
(f)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合又はウレア結合を介して結合している部分を含む構造。]。
<構造式(1)及び(2)>
構造式(1)において、R11〜R15は、各々独立に、下記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR11〜R15のうちの何れか2つは(c)である。
(a)水素原子
(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基
(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造
また構造式(2)において、R21〜R26は、各々独立に、前記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR21〜R26のうちの何れか2つは(c)である。
構造式(1)において、R11〜R15は、各々独立に、下記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR11〜R15のうちの何れか2つは(c)である。
(a)水素原子
(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基
(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造
また構造式(2)において、R21〜R26は、各々独立に、前記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR21〜R26のうちの何れか2つは(c)である。
前記(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基及びn−ヘキシル基等の直鎖のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基等の分岐鎖を有するアルキル基、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基等が挙げられる。
前記(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造としては、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、トリエチレングリコールエーテル基等の水酸基を有する構造と、イソシアネート基とが反応した後の構造等が挙げられる。
構造式(1)で示される部分構造の中でも、イオン導電剤の添加量が少なくても比較的導電性の高い現像部材が得られる点で、Xが窒素原子であるものが好ましい。
前記(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造としては、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、トリエチレングリコールエーテル基等の水酸基を有する構造と、イソシアネート基とが反応した後の構造等が挙げられる。
構造式(1)で示される部分構造の中でも、イオン導電剤の添加量が少なくても比較的導電性の高い現像部材が得られる点で、Xが窒素原子であるものが好ましい。
<構造式(3)>
構造式(3)において、R35で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基及びイソプロピレン基が挙げられる。なお、R35は同一でも異なっていてもよい。
R31〜R34は、各々独立に、下記(d)〜(f)からなる群から選択される何れかであって、R34は同一でも異なっていてもよく、且つR31〜R34のうちの少なくとも4つは(f)である。
(d)水素原子
(e)炭素数1〜4のアルキル基
(f)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造
構造式(3)において、R35で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基及びイソプロピレン基が挙げられる。なお、R35は同一でも異なっていてもよい。
R31〜R34は、各々独立に、下記(d)〜(f)からなる群から選択される何れかであって、R34は同一でも異なっていてもよく、且つR31〜R34のうちの少なくとも4つは(f)である。
(d)水素原子
(e)炭素数1〜4のアルキル基
(f)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造
前記(e)炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基が挙げられる。
前記(f)の構造としては、前記(c)の構造として例示した構造のほか、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノペンチル基、アミノヘキシル基、アミノヘプチル基、アミノオクチル基と、イソシアネート基とが反応した後の構造等が挙げられる。
前記(f)の構造としては、前記(c)の構造として例示した構造のほか、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノペンチル基、アミノヘキシル基、アミノヘプチル基、アミノオクチル基と、イソシアネート基とが反応した後の構造等が挙げられる。
構造式(3)で示される部分構造の中でも、反応前の原料の取扱いが容易である点から、構造式(4)で示される化合物と、ポリイソシアネートとの反応に由来する部分構造であることが好ましい。
[構造式(4)中、
mは2以上4以下の整数を表し、
R45は炭素数2以上4以下のアルキレン基であり、R45は同一でも異なっていてもよく、
R41〜R44は各々独立に下記RA又はRBであって、R44は同一でも異なっていてもよく、且つR41〜R44のうちの少なくとも4つはRAであり、
RBは水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表す。
RAは下記(g)〜(i)からなる群から選ばれる何れかであり、
(g)炭素数1以上8以下のヒドロキシアルキル基、
(h)炭素数2以上8以下のアミノアルキル基、
(i)下記構造式(5)で示される基。]、
mは2以上4以下の整数を表し、
R45は炭素数2以上4以下のアルキレン基であり、R45は同一でも異なっていてもよく、
R41〜R44は各々独立に下記RA又はRBであって、R44は同一でも異なっていてもよく、且つR41〜R44のうちの少なくとも4つはRAであり、
RBは水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表す。
RAは下記(g)〜(i)からなる群から選ばれる何れかであり、
(g)炭素数1以上8以下のヒドロキシアルキル基、
(h)炭素数2以上8以下のアミノアルキル基、
(i)下記構造式(5)で示される基。]、
[構造式(5)中、R51は、炭素数2〜5のアルキレン基であり、R51は同一でも異なっていてもよく、jは、2又は3である。]
<構造式(4)及び(5)>
構造式(4)において、R45で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基としては、R35で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基として例示した基と同様の基が挙げられる。
RBで表される炭素数1以上4以下のアルキル基としては、前記(e)炭素数1〜4のアルキル基として例示した基と同様の基が挙げられる。
構造式(4)において、R45で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基としては、R35で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基として例示した基と同様の基が挙げられる。
RBで表される炭素数1以上4以下のアルキル基としては、前記(e)炭素数1〜4のアルキル基として例示した基と同様の基が挙げられる。
(g)炭素数1以上8以下のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプチル、ヒドロキシオクチル等が挙げられる。ヒドロキシアルキル基を構成するアルキルとしては、直鎖、分岐鎖、及び環状のアルキルを挙げることができる。なかでも、直鎖アルキルが好ましい。また、アルキルにおけるヒドロキシの置換位置はいずれの位置でもよいが、アルキルの末端にヒドロキシが置換していることが好ましい。このようなヒドロキシアルキル基としては、例えば、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロキシヘプチル等を挙げることができる。
(h)炭素数2以上8以下のアミノアルキル基としては、アミノエチル基、アミノプロピル基、アミノブチル基、アミノペンチル基、アミノヘキシル、アミノヘプチル、アミノオクチル等が挙げられる。アミノアルキル基を構成するアルキルとしては、直鎖、分岐鎖、及び環状のアルキルを挙げることができる。なかでも、直鎖アルキルが好ましい。また、アルキルにおけるアミノの置換位置はいずれの位置でもよいが、アルキルの末端にアミノが置換していることが好ましい。このようなアミノアルキル基としては、例えば、2−アミノエチル、3−アミノプロピル、4−アミノブチル、5−アミノペンチル、6−アミノヘプチル等を挙げることができる。
構造式(5)において、R51で表される炭素数2以上5以下のアルキレン基としては、R35で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基として例示した基と同様の基が挙げられる。
構造式(5)において、R51で表される炭素数2以上5以下のアルキレン基としては、R35で表される炭素数2以上4以下のアルキレン基として例示した基と同様の基が挙げられる。
前記構造式(4)で示される化合物の中でも、現像部材の連続使用による帯電付与能の安定性の観点から、構造式(6)で示される化合物が好ましい。この理由としては、構造式(4)で示される化合物がポリイソシアネートと反応した後の構造の違いにより、後述するアニオンの局在化が起こりにくいためと推測している。すなわち、構造式(4)で示される化合物の中でも、構造式(6)で示される化合物を用いた場合、アミノ化合物の周囲に、ウレタン結合が形成される。その結果、ウレタン結合同士でハードセグメントを形成し、アニオンの局在化を防ぐものと考えられる。
[構造式(6)中、R61〜R64は、各々独立に、炭素数2又は3のアルキレン基であり、複数のR64は同一でも異なっていてもよく、kは2以上4以下の整数を表す。]。
以上、前記表面層(樹脂層)を構成する樹脂の構造について説明したが、該樹脂の中でも、反応に用いる原料の取り扱いが容易であることから、
ポリイソシアネートと、前記構造式(4)で示される化合物と、
構造式(7)及び構造式(8)からなる群から選択される少なくとも1つの化合物との反応物であることが好ましい。
ポリイソシアネートと、前記構造式(4)で示される化合物と、
構造式(7)及び構造式(8)からなる群から選択される少なくとも1つの化合物との反応物であることが好ましい。
[構造式(7)中、Yは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子であり、
Yが窒素原子の場合、qは1であり、Yが酸素原子又は硫黄原子の場合、qは0であり、
R71〜R75は、各々独立に、下記(g)〜(i)からなる群から選択される何れかであって、且つR71〜R75のうちの何れか2つは(i)である。
(g)水素原子、
(h)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(i)末端に水酸基を有する基 。]、
Yが窒素原子の場合、qは1であり、Yが酸素原子又は硫黄原子の場合、qは0であり、
R71〜R75は、各々独立に、下記(g)〜(i)からなる群から選択される何れかであって、且つR71〜R75のうちの何れか2つは(i)である。
(g)水素原子、
(h)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(i)末端に水酸基を有する基 。]、
[構造式(8)中、R81〜R86は、各々独立に、前記(g)〜(i)からなる群から選択される何れかであって、且つR81〜R86のうちの何れか2つは(i)である。]。
構造式(7)で示される化合物の中では、少量の添加量でも、比較的導電性の高い現像部材が得られる点で、Yが窒素原子であるものが好ましい。
構造式(7)で示される化合物の中では、少量の添加量でも、比較的導電性の高い現像部材が得られる点で、Yが窒素原子であるものが好ましい。
<表面層(樹脂層)の製造方法>
表面層は、例えば、当該表面層が含む樹脂の原料を含む表面層形成用の塗料の塗膜を、弾性層上に形成し、該塗膜中の該樹脂の原料同士を反応させることによって形成することができる。
表面層は、例えば、当該表面層が含む樹脂の原料を含む表面層形成用の塗料の塗膜を、弾性層上に形成し、該塗膜中の該樹脂の原料同士を反応させることによって形成することができる。
該塗料は、樹脂の原料として、下記(i)〜(iii)を含む。
(i)樹脂中に構造式(1)及び構造式(2)の少なくとも一方で示されるカチオン性の部分構造を導入するためのイオン導電剤;
(ii)樹脂中に構造式(3)で示されるアミノ構造を導入するためのアミノ化合物;
(iii)該イオン導電剤及び該アミノ化合物と反応させることによりウレタン樹脂を形成するポリイソシアネート。
(i)樹脂中に構造式(1)及び構造式(2)の少なくとも一方で示されるカチオン性の部分構造を導入するためのイオン導電剤;
(ii)樹脂中に構造式(3)で示されるアミノ構造を導入するためのアミノ化合物;
(iii)該イオン導電剤及び該アミノ化合物と反応させることによりウレタン樹脂を形成するポリイソシアネート。
<(i)イオン導電剤>
イオン導電剤は、水酸基を2つ持つ化合物であり、カチオンとアニオンを有している。カチオンの構造は、前記構造式(7)又は(8)で示される化合物に対応する。
イオン導電剤は、水酸基を2つ持つ化合物であり、カチオンとアニオンを有している。カチオンの構造は、前記構造式(7)又は(8)で示される化合物に対応する。
この中でも、得られる表面層の導電性が比較的高い点で、イミダゾリウムカチオン及びピリジニウムカチオンが好ましい。
また、その中でもイミダゾリウムカチオンが特に好ましい。この理由は、イミダゾリウムカチオンの正電荷はイミダゾリウム環上に非局在化しており、トナーの帯電がカチオン性有機基によって奪われてしまう効果を比較的抑えることができるためである。
イオン導電剤のアニオンは、前述したとおりである。
また、その中でもイミダゾリウムカチオンが特に好ましい。この理由は、イミダゾリウムカチオンの正電荷はイミダゾリウム環上に非局在化しており、トナーの帯電がカチオン性有機基によって奪われてしまう効果を比較的抑えることができるためである。
イオン導電剤のアニオンは、前述したとおりである。
イオン導電剤の配合量は、表面層に対して0.01質量部以上20質量部以下であることが好ましい。0.01質量部以上であると導電性の高い表面層が得られる。20質量部以下であるとイオン導電剤の浸みだしが少ない表面層が得られる。
本発明に係るイオン導電剤は、例えばメンシュトキン反応等の、公知の求核置換反応を一段階又は複数の段階用いて前駆体を合成した後、公知のイオン交換反応を行うことによって得ることができる。
従って、求核剤には、例えばイミダゾール化合物、ピリジン化合物、ピラゾール化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物等の、求核性の窒素原子を有する化合物を用いることができる。
また、求電子剤には、例えば水酸基を置換したハロゲン化アルキル化合物等を用いることができる。
更に、イオン交換反応に用いるアルカリ金属塩には、例えばフッ化アルキルスルホン酸リチウム塩や、フッ化アルキルスルホニルイミドカリウム塩等の、本発明に係るアニオンを含むアルカリ金属塩を用いることができる。
求核置換反応に用いる求核剤、求電子剤及びイオン交換反応に用いるアルカリ金属塩を所望の組み合わせに変更することで、目的のイオン導電剤を公知の方法の組み合わせによって合成することができる。
従って、求核剤には、例えばイミダゾール化合物、ピリジン化合物、ピラゾール化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物等の、求核性の窒素原子を有する化合物を用いることができる。
また、求電子剤には、例えば水酸基を置換したハロゲン化アルキル化合物等を用いることができる。
更に、イオン交換反応に用いるアルカリ金属塩には、例えばフッ化アルキルスルホン酸リチウム塩や、フッ化アルキルスルホニルイミドカリウム塩等の、本発明に係るアニオンを含むアルカリ金属塩を用いることができる。
求核置換反応に用いる求核剤、求電子剤及びイオン交換反応に用いるアルカリ金属塩を所望の組み合わせに変更することで、目的のイオン導電剤を公知の方法の組み合わせによって合成することができる。
<(ii)アミノ化合物>
アミノ化合物は、前記構造式(4)で示される化合物、好ましくは前記構造式(6)で示される化合物に対応する。
アミノ化合物は、前記構造式(4)で示される化合物、好ましくは前記構造式(6)で示される化合物に対応する。
アミノ化合物の官能基は、アミノ基よりも水酸基の方が好ましい。これは、ポリイソシアネートとの反応後に得られる結合が、水酸基の場合(ウレタン結合)とアミノ基の場合(ウレア結合)とで異なるためである。アミノ化合物の反応後の構造であるアミノ構造の周囲にウレタン結合が存在した方が、ウレタン樹脂中の他のウレタン結合との水素結合による相互作用が強くなり、アミノ構造が樹脂中でより移動し難くなるためである。
本発明に係るアミノ化合物は、一分子内に少なくとも4つ以上の官能基(水酸基又は一級アミン基)を有している。そのためポリイソシアネートと複数の箇所で結合する。官能基の数(以下「基数」とあらわす)は、大きいほど好ましい。これは、アミノ化合物が、樹脂に多点で反応するため、得られる樹脂のアミノ構造が耐久前後で移動しづらく、帯電付与性の変化が小さくなるためである。
また、アミノ化合物のnが大きいほど、トナーへ負電荷を補充する能力が高くなり、帯電付与性の変動が小さくなるため、好ましい。
アミノ化合物の配合量は、表面層に対して1質量部以上30質量部以下であることが好ましい。1質量部以上であると連続使用前後の帯電付与性の変動が少ない現像部材が得られる。30質量部以下であると柔軟性に優れる現像部材が得られる。
本発明に係るアミノ化合物は、一分子内に少なくとも4つ以上の官能基(水酸基又は一級アミン基)を有している。そのためポリイソシアネートと複数の箇所で結合する。官能基の数(以下「基数」とあらわす)は、大きいほど好ましい。これは、アミノ化合物が、樹脂に多点で反応するため、得られる樹脂のアミノ構造が耐久前後で移動しづらく、帯電付与性の変化が小さくなるためである。
また、アミノ化合物のnが大きいほど、トナーへ負電荷を補充する能力が高くなり、帯電付与性の変動が小さくなるため、好ましい。
アミノ化合物の配合量は、表面層に対して1質量部以上30質量部以下であることが好ましい。1質量部以上であると連続使用前後の帯電付与性の変動が少ない現像部材が得られる。30質量部以下であると柔軟性に優れる現像部材が得られる。
<(iii)ポリイソシアネート>
イソシアネート化合物の例としては、エチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)の如き脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、シクロヘキサン1,3−ジイソシアネート、シクロヘキサン1,4−ジイソシアネートの如き脂環式ポリイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4‘−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートの如き芳香族ポリイソシアネート及びこれらの共重合物やイソシアヌレート体、TMPアダクト体、ビウレット体、そのブロック体等のイソシアネート化合物が挙げられる。
この中でも、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネートの如き芳香族ポリイソシアネートが好ましい。これらの化合物は、カチオンの有する水酸基との反応性が高く、樹脂に結合していないカチオンの割合が減る。そのためイオン導電剤の浸みだしの少ない表面層が得られる。
また、ポリイソシアネートとして、後述するポリエーテルポリオール又はポリエステルポリオールを、あらかじめ2,4−トリレンジイソシアネート(TDI)、1,4−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)の如きイソシアネートと反応させたイソシアネート末端プレポリマーとして用いることが好ましい。この理由は、ポリエーテルポリオール又はポリエステルポリオールと、イオン導電剤又はアミノ化合物を分散させて樹脂中に配置できるためである。そのため柔軟性に優れる表面層が得られる。
ポリイソシアネートの配合量は、前記イオン導電剤が有する水酸基及び前記アミノ化合物が有する水酸基及び/又はアミノ基の合計の数1.0に対して、イソシアネート基の比率が1.0から2.0の範囲であることが好ましい。1.0以上であると帯電付与性に優れる表面層が得られる。2.0以下であると柔軟性に優れる表面層が得られる。なお、上記の合計の数は、ポリオールを用いる場合には、ポリオールが有する水酸基の数を含む
イソシアネート化合物の例としては、エチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)の如き脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、シクロヘキサン1,3−ジイソシアネート、シクロヘキサン1,4−ジイソシアネートの如き脂環式ポリイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、4,4‘−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートの如き芳香族ポリイソシアネート及びこれらの共重合物やイソシアヌレート体、TMPアダクト体、ビウレット体、そのブロック体等のイソシアネート化合物が挙げられる。
この中でも、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネートの如き芳香族ポリイソシアネートが好ましい。これらの化合物は、カチオンの有する水酸基との反応性が高く、樹脂に結合していないカチオンの割合が減る。そのためイオン導電剤の浸みだしの少ない表面層が得られる。
また、ポリイソシアネートとして、後述するポリエーテルポリオール又はポリエステルポリオールを、あらかじめ2,4−トリレンジイソシアネート(TDI)、1,4−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)の如きイソシアネートと反応させたイソシアネート末端プレポリマーとして用いることが好ましい。この理由は、ポリエーテルポリオール又はポリエステルポリオールと、イオン導電剤又はアミノ化合物を分散させて樹脂中に配置できるためである。そのため柔軟性に優れる表面層が得られる。
ポリイソシアネートの配合量は、前記イオン導電剤が有する水酸基及び前記アミノ化合物が有する水酸基及び/又はアミノ基の合計の数1.0に対して、イソシアネート基の比率が1.0から2.0の範囲であることが好ましい。1.0以上であると帯電付与性に優れる表面層が得られる。2.0以下であると柔軟性に優れる表面層が得られる。なお、上記の合計の数は、ポリオールを用いる場合には、ポリオールが有する水酸基の数を含む
<ポリオール>
表面層形成用の塗料は、上記イオン導電剤及びアミノ化合物以外のポリオール(以降、「他のポリオール」ともいう)を更に含んでいてもよい。他のポリオールは、複数の水酸基を分子内に有しており、水酸基は前記ポリイソシアネートと反応する。他のポリオールとしては、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエーテルポリオールとポリエステルポリオールが挙げられる。ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが挙げられる。またポリエステルポリオールとしては、1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,4−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコールの如きジオール成分や、トリメチロールプロパンの如きトリオール成分と、アジピン酸、無水フタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロキシフタル酸等とのジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオールが挙げられる。
表面層形成用の塗料は、上記イオン導電剤及びアミノ化合物以外のポリオール(以降、「他のポリオール」ともいう)を更に含んでいてもよい。他のポリオールは、複数の水酸基を分子内に有しており、水酸基は前記ポリイソシアネートと反応する。他のポリオールとしては、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエーテルポリオールとポリエステルポリオールが挙げられる。ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールが挙げられる。またポリエステルポリオールとしては、1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,4−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコールの如きジオール成分や、トリメチロールプロパンの如きトリオール成分と、アジピン酸、無水フタル酸、テレフタル酸、ヘキサヒドロキシフタル酸等とのジカルボン酸との縮合反応により得られるポリエステルポリオールが挙げられる。
表面層には、本発明の効果が損なわれない程度に、必要によって本発明に係る樹脂以外の一般的な樹脂、ゴム材料、配合剤、導電性付与剤、非導電性充填剤、架橋剤、触媒を添加しても良い。添加してもよいチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、アクリルニトリル−ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、ウレタンゴム等が挙げられる。配合剤としては、例えば、樹脂に対して一般的に用いられる充填剤、軟化剤、加工助剤、粘着付与剤、粘着防止剤、発泡剤等が挙げられる。導電性付与剤としては、例えば、カーボンブラック;アルミニウム、銅の如き導電性金属;導電性酸化亜鉛、導電性酸化錫、導電性酸化チタンの如き導電性金属酸化物の微粒子を用いることができる。非導電性充填剤としては、例えば、シリカ、石英粉末、酸化チタン、又は炭酸カルシウムが挙げられる。架橋剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、テトラエトキシシラン、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン又はジクミルパーオキサイドが挙げられる。
現像部材の表面層として表面粗度が必要な場合は、表面層に粗さ制御のための微粒子を添加しても良い。特に本発明の現像部材を現像ローラに適用する場合、その表面層に用いられる粗さ制御用微粒子としては、体積平均粒径が3〜20μmであることが、トナーを搬送する能力に優れる現像ローラが得られるため好ましい。また、表面層に添加する微粒子添加量は、表面層の樹脂固形分100質量部に対し、1〜50質量部であることが、本発明の効果を損なわないため好ましい。粗さ制御用微粒子には、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂の微粒子を用いることができる。
表面層の形成方法としては特に限定されるものではないが、塗料によるスプレー、浸漬、又はロールコートが挙げられる。特開昭57−5047号公報に記載されているような浸漬槽上端から塗料をオーバーフローさせる浸漬塗工方法は、表面層を形成する方法として、簡便で生産安定性に優れている。また図1(a)に示す弾性層3に本発明に係る表面層を適用する際の表面層の形成方法としては、現像部材において公知の方法を用いることができる。例えば、基体と、表面層用の材料とを共に押出して成型する方法や、表面層形成用材料が液状であれば、円筒状のパイプと、このパイプの両端に配設された基体を保持するための駒と、基体とを配設した金型にこの材料を注入し、加熱硬化する方法等が挙げられる。また図2に示す樹脂層50に、本発明に係る表面層を適用する際の形成方法としては、特に限定されるものではない。例えば上記形成方法(スプレー、浸漬、ロールコート)の他、表面層を支持基材K−2と共に押し出しして成形し、その後加熱硬化させる方法等を適用することができる。
本発明の現像部材は、現像ローラや、現像ブレード等の電子写真用部材に適用できる。
本発明の現像部材を現像装置内の現像ローラに適用する場合、現像剤は磁性又は非磁性のものであってもよく、一成分又は二成分のものでもよい。現像装置は非接触型又は接触型のものであってもよい。
本発明の現像部材を現像装置内の現像ローラに適用する場合、現像剤は磁性又は非磁性のものであってもよく、一成分又は二成分のものでもよい。現像装置は非接触型又は接触型のものであってもよい。
<プロセスカートリッジ、電子写真装置>
図3は、本発明に係るプロセスカートリッジの断面図である。図3に示したプロセスカートリッジ17は、現像ローラ16、現像ブレード21、及び電子写真感光体18、クリーニングブレード26、廃トナー収容容器25、及び、帯電ローラ24が一体化されている。また、当該プロセスカートリッジは、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されている。現像装置22は、トナー容器20を含み、トナー容器20中には、トナー15が充填されている。トナー容器20中のトナー15は、トナー供給ローラ19によって現像ローラ16の表面に供給され、現像ブレード21によって、現像ローラ16の表面に所定の厚みのトナーの層が形成される。
図3は、本発明に係るプロセスカートリッジの断面図である。図3に示したプロセスカートリッジ17は、現像ローラ16、現像ブレード21、及び電子写真感光体18、クリーニングブレード26、廃トナー収容容器25、及び、帯電ローラ24が一体化されている。また、当該プロセスカートリッジは、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されている。現像装置22は、トナー容器20を含み、トナー容器20中には、トナー15が充填されている。トナー容器20中のトナー15は、トナー供給ローラ19によって現像ローラ16の表面に供給され、現像ブレード21によって、現像ローラ16の表面に所定の厚みのトナーの層が形成される。
図4は、本発明に係る電子写真装置の断面図である。図4の電子写真装置には、現像ローラ16、トナー供給ローラ19、トナー容器20及び現像ブレード21からなる現像装置22が脱着可能に装着されている。本発明に係る電子写真装置では、現像部材を、現像ローラ16及び/又は現像ブレード21として用いる。また、感光体18、クリーニングブレード26、廃トナー収容容器25、帯電ローラ24からなるプロセスカートリッジ17が脱着可能に装着されている。また、感光体18、クリーニングブレード26、廃トナー収容容器25、帯電ローラ24は電子写真装置本体に配備されていてもよい。感光体18は矢印方向に回転し、感光体18を帯電処理するための帯電ローラ24によって一様に帯電され、感光体18に静電潜像を書き込む露光手段であるレーザー光23により、その表面に静電潜像が形成される。上記静電潜像は、感光体18に対して接触配置される現像装置22によってトナーを付与されることにより現像され、トナー像として可視化される。
現像は、露光部にトナー像を形成する所謂反転現像を行っている。可視化された感光体18上のトナー像は、転写部材である転写ローラ29によって、記録媒体である紙34に転写される。紙34は、給紙ローラ35及び吸着ローラ36を経て装置内に給紙され、エンドレスベルト状の転写搬送ベルト32により感光体18と転写ローラ29の間に搬送される。転写搬送ベルト32は、従動ローラ33、駆動ローラ28、テンションローラ31により稼働している。転写ローラ29及び吸着ローラ36には、バイアス電源30から電圧が印加されている。トナー像を転写された紙34は、定着装置27により定着処理され、装置外に排紙されプリント動作が終了する。
一方、紙34に転写されずに感光体18上に残存したトナーは、クリーニングブレード26により掻き取られ、廃トナー収容容器25に収納される。
一方、紙34に転写されずに感光体18上に残存したトナーは、クリーニングブレード26により掻き取られ、廃トナー収容容器25に収納される。
現像装置22は、一成分現像剤としてトナーを収容したトナー容器20と、トナー容器20内の長手方向に延在する開口部に位置し感光体18と対向設置された現像剤担持体としての現像ローラ16とを備えている。この現像装置22は感光体18上の静電潜像を現像して可視化するようになっている。
以下に、図1(b)に示すように、現像部材1の表面層4に本発明に係る表面層を適用した場合及び、図2に示すように、現像ブレードの樹脂層50に本発明に係る表面層を適用した場合の、実施例及び比較例を示す。本発明はこれら実施例等に限定されるものではない。
(弾性ローラK−1の作成)
SUS304製の直径6mm、全長278.9mmの芯金に、プライマー(商品名、DY35−051;東レダウコーニング社製)を塗布し、温度180℃に加熱したオーブンで20分間焼きつけ基体とした。
上記で用意した基体を金型に配置し、以下の材料を混合した付加型シリコーンゴム組成物を金型内に形成されたキャビティに注入した。
<付加型シリコーンゴム組成物>
・液状シリコーンゴム材料
(商品名、SE6724A/B;東レ・ダウコーニング社製) 100質量部
・カーボンブラック
(商品名、トーカブラック#4300;東海カーボン社製) 15質量部
・耐熱性付与剤としてのシリカ粉体 0.2質量部
・白金触媒 0.1質量部
続いて、金型を15分間、150度に加熱して、シリコーンゴムを加硫して硬化させた。周面に硬化したシリコーンゴム層が形成された基体を金型から脱型した後、当該基体を、さらに温度180℃で1時間加熱して、シリコーンゴム層の硬化反応を完了させた。こうして、基体の外周に直径12mmのシリコーンゴム弾性層が形成された弾性ローラK−1を作製した。
SUS304製の直径6mm、全長278.9mmの芯金に、プライマー(商品名、DY35−051;東レダウコーニング社製)を塗布し、温度180℃に加熱したオーブンで20分間焼きつけ基体とした。
上記で用意した基体を金型に配置し、以下の材料を混合した付加型シリコーンゴム組成物を金型内に形成されたキャビティに注入した。
<付加型シリコーンゴム組成物>
・液状シリコーンゴム材料
(商品名、SE6724A/B;東レ・ダウコーニング社製) 100質量部
・カーボンブラック
(商品名、トーカブラック#4300;東海カーボン社製) 15質量部
・耐熱性付与剤としてのシリカ粉体 0.2質量部
・白金触媒 0.1質量部
続いて、金型を15分間、150度に加熱して、シリコーンゴムを加硫して硬化させた。周面に硬化したシリコーンゴム層が形成された基体を金型から脱型した後、当該基体を、さらに温度180℃で1時間加熱して、シリコーンゴム層の硬化反応を完了させた。こうして、基体の外周に直径12mmのシリコーンゴム弾性層が形成された弾性ローラK−1を作製した。
(支持基材K−2の作製)
厚さ0.08mmのSUSシート(日新製鋼社製)を、長さ200mm、幅23mmの寸法にプレス切断し、支持基材K−2を作製した。
厚さ0.08mmのSUSシート(日新製鋼社製)を、長さ200mm、幅23mmの寸法にプレス切断し、支持基材K−2を作製した。
(表面層の調製)
以下に本発明に係る表面層を得るための合成例を示す。
<イオン導電剤の合成>
(イオン導電剤A−1の合成)
ジムロートを取り付けたナスフラスコに撹拌子とテトラヒドロフラン(以下THF、関東化学社製)50mlを入れ、水素化ナトリウム(関東化学社製) 12.5g(0.52mol)を分散させ、ナスフラスコを氷浴で冷却する。求核剤であるG−1(イミダゾール、東京化成工業社製)8.8g(0.13mol)をTHF 50mlに溶解させた溶液をゆっくり滴下した後、氷浴を取り外し室温で2時間撹拌する。求電子剤であるH−1(2−ブロモエタノール)(東京化成工業社製)41.3g(0.33mol)を室温で加えた後、70℃で7時間加熱還流した。反応後の反応液をろ過し、不溶分をTHFで洗い流し、得られたろ液の溶媒を減圧留去した。再びジクロロメタンに溶解させ、ろ過し、ろ液を回収後溶媒を減圧留去した。得られた濃縮物をジエチルエーテルにて洗浄し、減圧下乾燥し、イオン導電剤前駆体を28g得た。続いて、得られたイオン導電剤のアニオンを目的のアニオンに交換させるため、得られたイオン導電剤前駆体の全量を、メタノール100mlに室温で溶解させた。溶液を撹拌させながら、純水50mlに溶解させたイオン交換塩I−1(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、関東化学社製)57.4gを添加し、室温で24時間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末としてイオン導電剤A−1を得た。
以下に本発明に係る表面層を得るための合成例を示す。
<イオン導電剤の合成>
(イオン導電剤A−1の合成)
ジムロートを取り付けたナスフラスコに撹拌子とテトラヒドロフラン(以下THF、関東化学社製)50mlを入れ、水素化ナトリウム(関東化学社製) 12.5g(0.52mol)を分散させ、ナスフラスコを氷浴で冷却する。求核剤であるG−1(イミダゾール、東京化成工業社製)8.8g(0.13mol)をTHF 50mlに溶解させた溶液をゆっくり滴下した後、氷浴を取り外し室温で2時間撹拌する。求電子剤であるH−1(2−ブロモエタノール)(東京化成工業社製)41.3g(0.33mol)を室温で加えた後、70℃で7時間加熱還流した。反応後の反応液をろ過し、不溶分をTHFで洗い流し、得られたろ液の溶媒を減圧留去した。再びジクロロメタンに溶解させ、ろ過し、ろ液を回収後溶媒を減圧留去した。得られた濃縮物をジエチルエーテルにて洗浄し、減圧下乾燥し、イオン導電剤前駆体を28g得た。続いて、得られたイオン導電剤のアニオンを目的のアニオンに交換させるため、得られたイオン導電剤前駆体の全量を、メタノール100mlに室温で溶解させた。溶液を撹拌させながら、純水50mlに溶解させたイオン交換塩I−1(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、関東化学社製)57.4gを添加し、室温で24時間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末としてイオン導電剤A−1を得た。
(イオン導電剤A−5〜A−16、A−20、A−21、A−23及びA−26の合成)
原料となる求核剤、求電子剤、イオン交換塩の種類及び配合量を、表1に記載の通り変更した以外は、イオン導電剤A−1の合成と同様にして、イオン導電剤A−5〜A−16、A−20、A−21、A−23及びA−26を得た。なお、表1中の求核剤No.、求電子剤No.及びイオン交換塩No.の詳細は、表2〜表4に記載した。
原料となる求核剤、求電子剤、イオン交換塩の種類及び配合量を、表1に記載の通り変更した以外は、イオン導電剤A−1の合成と同様にして、イオン導電剤A−5〜A−16、A−20、A−21、A−23及びA−26を得た。なお、表1中の求核剤No.、求電子剤No.及びイオン交換塩No.の詳細は、表2〜表4に記載した。
(イオン導電剤A−2の合成)
ジムロートを取り付けたフラスコに、求核剤であるG−1(イミダゾール、東京化成工業社製)6.1g(0.09mol)、求電子剤であるH−3(2−[2−(2−クロロエトキシ)エトキシ]エタノール、東京化成工業社製)23.7g(0.14mol)、炭酸カリウム(関東化学社製)25g(0.18mol)、アセトン200mlを加え、一晩加熱還流させた。反応後、反応液をろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製し、求核剤が三級化された化合物を得た。
続いて得られた化合物をジクロロメタン50mlに溶解させ、求電子剤であるH−1(2−ブロモ−エタノール、東京化成工業社製)17.5g(0.14mol)を加え、40℃で18時間加熱還流した。反応後溶媒を減圧留去し、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥後白色粉末として四級化されたイオン導電剤前駆体を得た。
続いて、アニオンを目的のアニオンとするために、得られたイオン導電剤前駆体の全量を、メタノール100mlに室温で溶解させた。溶液を撹拌させながら、純水50mlに溶解させたイオン交換塩I−1(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、関東化学社製)40.2gを添加し、室温で24時間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末であるイオン導電剤A−2を得た。
ジムロートを取り付けたフラスコに、求核剤であるG−1(イミダゾール、東京化成工業社製)6.1g(0.09mol)、求電子剤であるH−3(2−[2−(2−クロロエトキシ)エトキシ]エタノール、東京化成工業社製)23.7g(0.14mol)、炭酸カリウム(関東化学社製)25g(0.18mol)、アセトン200mlを加え、一晩加熱還流させた。反応後、反応液をろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去した後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)で精製し、求核剤が三級化された化合物を得た。
続いて得られた化合物をジクロロメタン50mlに溶解させ、求電子剤であるH−1(2−ブロモ−エタノール、東京化成工業社製)17.5g(0.14mol)を加え、40℃で18時間加熱還流した。反応後溶媒を減圧留去し、ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥後白色粉末として四級化されたイオン導電剤前駆体を得た。
続いて、アニオンを目的のアニオンとするために、得られたイオン導電剤前駆体の全量を、メタノール100mlに室温で溶解させた。溶液を撹拌させながら、純水50mlに溶解させたイオン交換塩I−1(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、関東化学社製)40.2gを添加し、室温で24時間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末であるイオン導電剤A−2を得た。
(イオン導電剤A−3及びA−4の合成)
原料となる求核剤、求電子剤の種類及び配合量を、表5に記載の通り変更した以外は、イオン導電剤前駆体A−2の合成と同様にして、イオン導電剤前駆体A−3及びA−4を得た。
原料となる求核剤、求電子剤の種類及び配合量を、表5に記載の通り変更した以外は、イオン導電剤前駆体A−2の合成と同様にして、イオン導電剤前駆体A−3及びA−4を得た。
(イオン導電剤A−17の合成)
求電子剤H−1(2−ブロモエタノール)10g(0.08mol)に、N,N−ジメチルホルムアミド中イミダゾールの存在下tert−ブチルジメチルシリルクロリドを室温で3時間反応させ、酢酸エチル/水中で分液し乾燥後水酸基をシリル化した化合物を得た。蒸留したTHF 400mlに、不活性雰囲気下求核剤G−6(5−ブロモ−4−メチル−2−フェニル−1,3−オキサゾール)12.8g(0.054mol)を溶解させ、ドライアイス/メタノール浴で−78℃に冷却した。続いてn−ブチルリチウム/ヘキサン2.6mol/l溶液(関東化学社製)23ml(60mmol)をゆっくり滴下し、30分撹拌した。
続いて、シリル化したH−1のTHF溶液(50ml)を滴下した。−78℃で3時間、室温で一晩反応させた後、反応溶液に塩酸を加え、室温で1時間撹拌し脱シリル化させた。
溶媒を減圧留去した後、ジクロロメタン/水で分液し、乾燥させて、白色粉末である5−ヒドロキシエチル−4−メチル−2−フェニル−1,3−オキサゾールを得た。これをジクロロメタン50mlに溶解させ、四級化のための求電子剤であるH−1(2−ブロモエタノール、東京化成工業社製)7.5g(0.06mol)を加え、40℃で18時間加熱還流した。反応後溶媒を減圧留去し、ジエチルエーテルで洗浄後乾燥し、白色粉末である四級化されたイオン導電剤前駆体を得た。
このイオン導電剤前駆体のアニオンは臭化物イオンである。続いて、アニオンを目的のアニオンに交換させるため、得られたイオン導電剤前駆体の全量を、メタノール100mlに室温で溶解させた。溶液を撹拌させながら、純水50mlに溶解させたイオン交換塩I−3(ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドリチウム、東京化成工業社製)54.2g(0.14mol)を添加し、室温で24時間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末であるイオン導電剤A−17を得た。
求電子剤H−1(2−ブロモエタノール)10g(0.08mol)に、N,N−ジメチルホルムアミド中イミダゾールの存在下tert−ブチルジメチルシリルクロリドを室温で3時間反応させ、酢酸エチル/水中で分液し乾燥後水酸基をシリル化した化合物を得た。蒸留したTHF 400mlに、不活性雰囲気下求核剤G−6(5−ブロモ−4−メチル−2−フェニル−1,3−オキサゾール)12.8g(0.054mol)を溶解させ、ドライアイス/メタノール浴で−78℃に冷却した。続いてn−ブチルリチウム/ヘキサン2.6mol/l溶液(関東化学社製)23ml(60mmol)をゆっくり滴下し、30分撹拌した。
続いて、シリル化したH−1のTHF溶液(50ml)を滴下した。−78℃で3時間、室温で一晩反応させた後、反応溶液に塩酸を加え、室温で1時間撹拌し脱シリル化させた。
溶媒を減圧留去した後、ジクロロメタン/水で分液し、乾燥させて、白色粉末である5−ヒドロキシエチル−4−メチル−2−フェニル−1,3−オキサゾールを得た。これをジクロロメタン50mlに溶解させ、四級化のための求電子剤であるH−1(2−ブロモエタノール、東京化成工業社製)7.5g(0.06mol)を加え、40℃で18時間加熱還流した。反応後溶媒を減圧留去し、ジエチルエーテルで洗浄後乾燥し、白色粉末である四級化されたイオン導電剤前駆体を得た。
このイオン導電剤前駆体のアニオンは臭化物イオンである。続いて、アニオンを目的のアニオンに交換させるため、得られたイオン導電剤前駆体の全量を、メタノール100mlに室温で溶解させた。溶液を撹拌させながら、純水50mlに溶解させたイオン交換塩I−3(ビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミドリチウム、東京化成工業社製)54.2g(0.14mol)を添加し、室温で24時間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し、ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末であるイオン導電剤A−17を得た。
(イオン導電剤A−18の合成)
反応に用いる求核剤とイオン交換塩の種類及び量を、表6に記載のとおり変更した以外は、イオン導電剤A−17と同様にして、イオン導電剤A−18を合成した。
反応に用いる求核剤とイオン交換塩の種類及び量を、表6に記載のとおり変更した以外は、イオン導電剤A−17と同様にして、イオン導電剤A−18を合成した。
(イオン導電剤A−19の合成)
ビス(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウムクロリド20g(0.12mol)をメタノール100mlに溶解させた。この溶液を室温で撹拌しながら、メタノール100mlに溶解させたイオン交換塩I−1(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、関東化学社製)51.7g(0.18mol)を滴下した。室温で24時間撹拌後、メタノールを減圧留去した。ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末であるイオン導電剤A−19(ビス(ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)を33g得た。
ビス(2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウムクロリド20g(0.12mol)をメタノール100mlに溶解させた。この溶液を室温で撹拌しながら、メタノール100mlに溶解させたイオン交換塩I−1(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、関東化学社製)51.7g(0.18mol)を滴下した。室温で24時間撹拌後、メタノールを減圧留去した。ジクロロメタン/水で分液後、有機層を回収し、さらに2回水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、乾燥後、白色粉末であるイオン導電剤A−19(ビス(ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)を33g得た。
(イオン導電剤A−22の合成)
イオン導電剤A−22は市販の1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)をそのまま用いた。
イオン導電剤A−22は市販の1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(東京化成工業社製)をそのまま用いた。
(イオン導電剤A−24の合成)
ジムロートを取り付けたナスフラスコに撹拌子とテトラヒドロフラン(以下THF、関東化学社製)50mlを入れ、水素化ナトリウム(関東化学社製) 12.5g(0.52mol)を分散させ、ナスフラスコを氷浴で冷却した。求核剤であるG−1(イミダゾール、東京化成工業社製)8.8g(0.13mol)をTHF 50mlに溶解させた溶液をゆっくり滴下した後、氷浴を取り外し室温で2時間撹拌した。求電子剤であるH−1(2−ブロモエタノール)(東京化成工業社製)41.3g(0.33mol)を室温で加えた後、70℃で7時間加熱還流した。反応後の反応液をろ過し、不溶分をTHFで洗い流し、得られたろ液の溶媒を減圧留去した。再びジクロロメタンに溶解させ、ろ過し、ろ液を回収後、溶媒を減圧留去した。得られた濃縮物をジエチルエーテルにて洗浄し、減圧下乾燥し、イオン導電剤A−24(1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウム ブロミド)を28g得た。
ジムロートを取り付けたナスフラスコに撹拌子とテトラヒドロフラン(以下THF、関東化学社製)50mlを入れ、水素化ナトリウム(関東化学社製) 12.5g(0.52mol)を分散させ、ナスフラスコを氷浴で冷却した。求核剤であるG−1(イミダゾール、東京化成工業社製)8.8g(0.13mol)をTHF 50mlに溶解させた溶液をゆっくり滴下した後、氷浴を取り外し室温で2時間撹拌した。求電子剤であるH−1(2−ブロモエタノール)(東京化成工業社製)41.3g(0.33mol)を室温で加えた後、70℃で7時間加熱還流した。反応後の反応液をろ過し、不溶分をTHFで洗い流し、得られたろ液の溶媒を減圧留去した。再びジクロロメタンに溶解させ、ろ過し、ろ液を回収後、溶媒を減圧留去した。得られた濃縮物をジエチルエーテルにて洗浄し、減圧下乾燥し、イオン導電剤A−24(1,3−ビス(2−ヒドロキシエチル)イミダゾリウム ブロミド)を28g得た。
(イオン導電剤A−25の合成)
三口フラスコに、純水200mlと、トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムヒドロキシド (45−50%水溶液)18.1ml(0.045mol)を入れた。また、1,1,1−トリフルオロ−N−トリフルオロメチルスルホニルメタンスルホニルアミド(関東化学社製) 11.4g(0.040mol)を純水15.7mlに溶解させた水溶液を滴下ロートに入れた。
三口フラスコ内に窒素を流しながら、かつ、氷浴下で、該三口フラスコ内に、該滴下ロートから、該水溶液を30分かけて滴下した。滴下後、室温(23℃)で24時間撹拌した。次いで、酢酸エチル/純水で3回分液後、有機層を回収し、乾燥後、溶媒を減圧留去し、黄色液体であるイオン導電剤A−25(トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)を11g得た。
得られたイオン導電剤の基本骨格を表7に示す。また、アニオン種、水酸基の数、及び置換基の構造を表8に示す。
三口フラスコに、純水200mlと、トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムヒドロキシド (45−50%水溶液)18.1ml(0.045mol)を入れた。また、1,1,1−トリフルオロ−N−トリフルオロメチルスルホニルメタンスルホニルアミド(関東化学社製) 11.4g(0.040mol)を純水15.7mlに溶解させた水溶液を滴下ロートに入れた。
三口フラスコ内に窒素を流しながら、かつ、氷浴下で、該三口フラスコ内に、該滴下ロートから、該水溶液を30分かけて滴下した。滴下後、室温(23℃)で24時間撹拌した。次いで、酢酸エチル/純水で3回分液後、有機層を回収し、乾燥後、溶媒を減圧留去し、黄色液体であるイオン導電剤A−25(トリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウム ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)を11g得た。
得られたイオン導電剤の基本骨格を表7に示す。また、アニオン種、水酸基の数、及び置換基の構造を表8に示す。
<アミノ化合物の合成>
(アミノ化合物B−1の合成)
撹拌装置、温度計、滴下装置及び温度調整装置を取り付けた反応容器中に、2,2’−ジアミノ−N−メチルジエチルアミン100g(0.85mol)及び反応溶媒として純水200質量部を投入し、撹拌しながら、40℃まで加温した。次に、反応温度を40℃以下に保持しつつ、プロピレンオキシド297質量部(5.13mol)を30分かけて徐々に滴下した。さらに2時間撹拌して反応を行い、反応混合物を得た。得られた反応混合物を減圧下加熱して水を留去し、アミノ化合物B−1(N,N,N”,N”−テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)−N’−メチルジエチレントリアミン)を得た。
(アミノ化合物B−1の合成)
撹拌装置、温度計、滴下装置及び温度調整装置を取り付けた反応容器中に、2,2’−ジアミノ−N−メチルジエチルアミン100g(0.85mol)及び反応溶媒として純水200質量部を投入し、撹拌しながら、40℃まで加温した。次に、反応温度を40℃以下に保持しつつ、プロピレンオキシド297質量部(5.13mol)を30分かけて徐々に滴下した。さらに2時間撹拌して反応を行い、反応混合物を得た。得られた反応混合物を減圧下加熱して水を留去し、アミノ化合物B−1(N,N,N”,N”−テトラキス(2−ヒドロキシプロピル)−N’−メチルジエチレントリアミン)を得た。
(アミノ化合物B−2〜B−17の合成)
反応に使用したアミノ化合物種、付加原料の種類と量、溶媒の種類、反応時間と反応温度を表9に記載のとおり変更した以外は、アミノ化合物B−1と同様にして、アミノ化合物B−2〜B−17を合成した。
反応に使用したアミノ化合物種、付加原料の種類と量、溶媒の種類、反応時間と反応温度を表9に記載のとおり変更した以外は、アミノ化合物B−1と同様にして、アミノ化合物B−2〜B−17を合成した。
<ポリイソシアネートの合成>
(イソシアネート基末端プレポリマーC−1の合成)
窒素雰囲気下、反応容器中でイソシアネートD−1(ポリメリックMDI/(商品名:ミリオネートMR200 日本ポリウレタン工業社製))38質量部に対し、ポリオールF−1(ポリ(テトラメチレングリコール)/(商品名:PTMG2000;三菱化学社製)) 100質量部を反応容器内の温度を65℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度65℃で2時間反応させた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、メチルエチルケトン(MEK)50質量部で希釈し、イソシアネート基含有量3.4%のイソシアネート基末端プレポリマーC−1の溶液を得た。
(イソシアネート基末端プレポリマーC−1の合成)
窒素雰囲気下、反応容器中でイソシアネートD−1(ポリメリックMDI/(商品名:ミリオネートMR200 日本ポリウレタン工業社製))38質量部に対し、ポリオールF−1(ポリ(テトラメチレングリコール)/(商品名:PTMG2000;三菱化学社製)) 100質量部を反応容器内の温度を65℃に保持しつつ、徐々に滴下した。滴下終了後、温度65℃で2時間反応させた。得られた反応混合物を室温まで冷却し、メチルエチルケトン(MEK)50質量部で希釈し、イソシアネート基含有量3.4%のイソシアネート基末端プレポリマーC−1の溶液を得た。
(イソシアネート基末端プレポリマーC−2〜C−4の合成)
反応に用いるイソシアネートとポリオールの種類及び配合量を、表12〜表14に記載の通りに変更した以外は、イソシアネート基末端プレポリマーC−1の場合と同様にして、イソシアネート基末端プレポリマーC−2〜C−4を合成した。
反応に用いるイソシアネートとポリオールの種類及び配合量を、表12〜表14に記載の通りに変更した以外は、イソシアネート基末端プレポリマーC−1の場合と同様にして、イソシアネート基末端プレポリマーC−2〜C−4を合成した。
(実施例1)
以下に、本発明の現像部材の製造法について説明する。
表面層の材料として、以下の材料を撹拌混合した。
<表面層の材料>
・反応性化合物
イソシアネート基末端プレポリマーC−1 286.7質量部
・アミノ化合物B−1 13.3質量部
・イオン導電剤A−1 3.0質量部
・ウレタン樹脂微粒子
(商品名、アートパールC−400;根上工業社製) 90.0質量部
以下に、本発明の現像部材の製造法について説明する。
表面層の材料として、以下の材料を撹拌混合した。
<表面層の材料>
・反応性化合物
イソシアネート基末端プレポリマーC−1 286.7質量部
・アミノ化合物B−1 13.3質量部
・イオン導電剤A−1 3.0質量部
・ウレタン樹脂微粒子
(商品名、アートパールC−400;根上工業社製) 90.0質量部
次に、総固形分比が30質量%となるようにメチルエチルケトン(以下MEK)を加えた後、サンドミルにて混合した。ついで、更に、MEKで粘度10〜13cpsに調整して表面層形成用塗料を調製した。
先に作製した弾性ローラK−1を、表面層形成用塗料に浸漬して、弾性ローラK−1の弾性層の表面に当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度160℃にて1時間加熱処理することで弾性層の外周に膜厚約15μmの表面層を設け、実施例1に係る現像部材を作製した。
先に作製した弾性ローラK−1を、表面層形成用塗料に浸漬して、弾性ローラK−1の弾性層の表面に当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度160℃にて1時間加熱処理することで弾性層の外周に膜厚約15μmの表面層を設け、実施例1に係る現像部材を作製した。
(実施例2〜28)
表面層の材料として、下記表15の材料を用いた以外は実施例1と同様に表面層形成用塗料を調製した。そして、各塗料を弾性ローラK−1に対して、実施例1と同様にして塗布、乾燥及び加熱を行って実施例2〜28に係る現像部材を作製した。
表面層の材料として、下記表15の材料を用いた以外は実施例1と同様に表面層形成用塗料を調製した。そして、各塗料を弾性ローラK−1に対して、実施例1と同様にして塗布、乾燥及び加熱を行って実施例2〜28に係る現像部材を作製した。
(比較例1)
表面層の材料として、アミノ化合物B−16 11.2質量部に対し、イオン導電剤A−1 3.0質量部、イソシアネート基末端プレポリマーC−1 288.8質量部、及びウレタン樹脂微粒子(商品名、アートパールC−400;根上工業社製)90.0質量部、を撹拌混合した。
以降は、実施例1に係る表面層形成用塗料の調製方法と同様にして比較例1に係る表面層形成用塗料を調製した。この表面層形成用塗料を実施例1と同様にして弾性ローラK−1のシリコーンゴム弾性層の表面に塗工、乾燥させて表面層を形成し、比較例1の現像部材を作製した。
表面層の材料として、アミノ化合物B−16 11.2質量部に対し、イオン導電剤A−1 3.0質量部、イソシアネート基末端プレポリマーC−1 288.8質量部、及びウレタン樹脂微粒子(商品名、アートパールC−400;根上工業社製)90.0質量部、を撹拌混合した。
以降は、実施例1に係る表面層形成用塗料の調製方法と同様にして比較例1に係る表面層形成用塗料を調製した。この表面層形成用塗料を実施例1と同様にして弾性ローラK−1のシリコーンゴム弾性層の表面に塗工、乾燥させて表面層を形成し、比較例1の現像部材を作製した。
(比較例2〜12)
表面層の材料として、下記表16及び17の材料を用いた以外は比較例1と同様に表面層形成用塗料を調製した。そして、各塗料を弾性ローラK−1に対して、比較例1と同様にして塗布、乾燥及び加熱を行って比較例2〜12に係る現像部材を作製した。なお、比較例3〜6は、アミノ化合物の代わりに、表16に示す比較例用ポリオールを用いた。
表面層の材料として、下記表16及び17の材料を用いた以外は比較例1と同様に表面層形成用塗料を調製した。そして、各塗料を弾性ローラK−1に対して、比較例1と同様にして塗布、乾燥及び加熱を行って比較例2〜12に係る現像部材を作製した。なお、比較例3〜6は、アミノ化合物の代わりに、表16に示す比較例用ポリオールを用いた。
<比較例用ポリオール>
(参考例1及び2)
表面層の材料として、アミノ化合物B−1 12.7質量部に対し、イオン導電剤A−25 2.9質量部、イソシアネート基末端プレポリマーC−1 287.3質量部、及びウレタン樹脂微粒子(商品名、アートパールC−400;根上工業社製)90.0質量部、を撹拌混合した。以降は、実施例1に係る表面層形成用塗料の調製方法と同様にして参考例1に係る表面層形成用塗料を調製した。この表面層形成用塗料を実施例1と同様にして弾性ローラK−1のシリコーンゴム弾性層の表面に塗工、乾燥させて表面層を形成し、参考例1の現像部材を作製した。またイオン導電剤の種類と量を下記表18に示すとおりに変更した以外は、参考例1と同様にして参考例2の現像部材を作製した。
表面層の材料として、アミノ化合物B−1 12.7質量部に対し、イオン導電剤A−25 2.9質量部、イソシアネート基末端プレポリマーC−1 287.3質量部、及びウレタン樹脂微粒子(商品名、アートパールC−400;根上工業社製)90.0質量部、を撹拌混合した。以降は、実施例1に係る表面層形成用塗料の調製方法と同様にして参考例1に係る表面層形成用塗料を調製した。この表面層形成用塗料を実施例1と同様にして弾性ローラK−1のシリコーンゴム弾性層の表面に塗工、乾燥させて表面層を形成し、参考例1の現像部材を作製した。またイオン導電剤の種類と量を下記表18に示すとおりに変更した以外は、参考例1と同様にして参考例2の現像部材を作製した。
(実施例29)
図2に本発明の樹脂をブレード表面に形成した場合の断面図を示す。先に作製した支持基材K−2を、長手側端部からの長さ51が1.5mmになるように、実施例1の表面層形成用塗料に浸漬して、当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度160℃にて1時間加熱処理することで、SUSシートの長手側端部表面に膜厚52が約15μmの樹脂層50を設け、実施例29に係る現像ブレードを作製した。
図2に本発明の樹脂をブレード表面に形成した場合の断面図を示す。先に作製した支持基材K−2を、長手側端部からの長さ51が1.5mmになるように、実施例1の表面層形成用塗料に浸漬して、当該塗料の塗膜を形成し、乾燥させた。さらに温度160℃にて1時間加熱処理することで、SUSシートの長手側端部表面に膜厚52が約15μmの樹脂層50を設け、実施例29に係る現像ブレードを作製した。
(実施例30、実施例31及び比較例13)
表面層形成用の塗料に用いた材料の種類を表19に記載の通り変更した以外は、実施例29と同様にして、実施例30、実施例31及び比較例13に係る現像ブレードを作製した。
表面層形成用の塗料に用いた材料の種類を表19に記載の通り変更した以外は、実施例29と同様にして、実施例30、実施例31及び比較例13に係る現像ブレードを作製した。
表面層中の樹脂が、構造式(1)〜(3)で示される構造を含むことは、例えば熱分解GC/MS、発生ガス分析(EGA−MS)、FT−IR又はNMRによる分析等により確認することが可能である。
本実施例で得られた表面層については、熱分解装置(商品名:パイロホイルサンプラーJPS−700、日本分析工業社製)及びGC/MS装置(商品名:Focus GC/ISQ、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)を用い、熱分解温度を590℃、キャリアガスとしてヘリウムを使用し、分析を行った。その結果、得られたフラグメントピークから、表面層中の樹脂が、構造式(1)〜(3)に示される構造を有していることが確認された。
こうして得られた実施例1〜28及び比較例1〜12に係る現像部材を現像ローラ16として、以下の項目について評価を行った。
本実施例で得られた表面層については、熱分解装置(商品名:パイロホイルサンプラーJPS−700、日本分析工業社製)及びGC/MS装置(商品名:Focus GC/ISQ、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製)を用い、熱分解温度を590℃、キャリアガスとしてヘリウムを使用し、分析を行った。その結果、得られたフラグメントピークから、表面層中の樹脂が、構造式(1)〜(3)に示される構造を有していることが確認された。
こうして得られた実施例1〜28及び比較例1〜12に係る現像部材を現像ローラ16として、以下の項目について評価を行った。
<現像ローラとしての評価>
[現像ローラ電流値の測定]
現像ローラ電流値は、23℃、45%RH(以下N/Nと記す)の環境中に6時間以上現像ローラを放置し、N/N環境下で測定を行った。
図5に本発明に係るローラ電流値評価冶具の概略構成図を示す。表面層の導電性が高い(抵抗が低い)と、ローラに流れる電流値が大きくなる。そのため、一定電圧印加時の現像ローラに流れる電流値を測定することで、表面層の導電性を評価できる。まず、図5(a)において、導電性の軸受け38を介して導電性の基体2の両端を各々4.9Nの荷重で押しながら、直径40mmの円柱形金属37を回転させ、現像ローラ16を60rpmの速度で従動回転させる。次に高圧電源39によって電圧50Vを印加し、円柱形金属37とグランドとの間に配設した既知の電気抵抗(現像ローラ16の電気抵抗に対して2桁以上電気抵抗が低いもの)を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計40(FLUKE社製 189TRUE RMS MULTIMETER)を用いた。測定した電位差と抵抗器の電気抵抗から、現像ローラ16を介して円柱形金属37に流れた電流を計算により求める。ここで、該電位差の計測は、電圧印加2秒後から3秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をローラ電流値とした。
[現像ローラ電流値の測定]
現像ローラ電流値は、23℃、45%RH(以下N/Nと記す)の環境中に6時間以上現像ローラを放置し、N/N環境下で測定を行った。
図5に本発明に係るローラ電流値評価冶具の概略構成図を示す。表面層の導電性が高い(抵抗が低い)と、ローラに流れる電流値が大きくなる。そのため、一定電圧印加時の現像ローラに流れる電流値を測定することで、表面層の導電性を評価できる。まず、図5(a)において、導電性の軸受け38を介して導電性の基体2の両端を各々4.9Nの荷重で押しながら、直径40mmの円柱形金属37を回転させ、現像ローラ16を60rpmの速度で従動回転させる。次に高圧電源39によって電圧50Vを印加し、円柱形金属37とグランドとの間に配設した既知の電気抵抗(現像ローラ16の電気抵抗に対して2桁以上電気抵抗が低いもの)を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計40(FLUKE社製 189TRUE RMS MULTIMETER)を用いた。測定した電位差と抵抗器の電気抵抗から、現像ローラ16を介して円柱形金属37に流れた電流を計算により求める。ここで、該電位差の計測は、電圧印加2秒後から3秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をローラ電流値とした。
[現像ローラの摩擦帯電量]
現像ローラの摩擦帯電量の測定は、温度35℃、相対湿度85%(以下H/H)の環境中に6時間以上現像ローラを放置してから、H/H環境下において、下記手順に従って行った。
測定には、図6に示した測定部を、カスケード式表面帯電量測定装置TS−100AT(商品名、京セラケミカル社製)に接続して使用した。図6のように絶縁支持棒48に現像ローラ16を設置し、キャリア43を粉体投入口41に投入して10秒間落下させてキャリア43に接触帯電を生じさせた。キャリアは、標準キャリアN−01(日本画像学会)を使用した。絶縁板45上に設置された受け皿44内に落下したキャリア43の総帯電量を、コンデンサ46と並列に接続された電位計47で測定し、帯電量Q〔μC〕とした。さらに、受け皿44内に落下したキャリアの質量(g)を測定し、これらの値から、単位質量あたりの帯電量Q/M(μC/g)を帯電量とした。なお、本測定での現像ローラ16によって得られる摩擦帯電量を、初期ローラ帯電量とした。さらに、下記[かぶり画像評価]の際に、画像10000枚出力後の現像ローラ16をレーザープリンターから取出し、図6に示す測定装置に設置し、再度ローラ帯電量を測定し、耐久後のローラ帯電量とした。
現像ローラの摩擦帯電量の測定は、温度35℃、相対湿度85%(以下H/H)の環境中に6時間以上現像ローラを放置してから、H/H環境下において、下記手順に従って行った。
測定には、図6に示した測定部を、カスケード式表面帯電量測定装置TS−100AT(商品名、京セラケミカル社製)に接続して使用した。図6のように絶縁支持棒48に現像ローラ16を設置し、キャリア43を粉体投入口41に投入して10秒間落下させてキャリア43に接触帯電を生じさせた。キャリアは、標準キャリアN−01(日本画像学会)を使用した。絶縁板45上に設置された受け皿44内に落下したキャリア43の総帯電量を、コンデンサ46と並列に接続された電位計47で測定し、帯電量Q〔μC〕とした。さらに、受け皿44内に落下したキャリアの質量(g)を測定し、これらの値から、単位質量あたりの帯電量Q/M(μC/g)を帯電量とした。なお、本測定での現像ローラ16によって得られる摩擦帯電量を、初期ローラ帯電量とした。さらに、下記[かぶり画像評価]の際に、画像10000枚出力後の現像ローラ16をレーザープリンターから取出し、図6に示す測定装置に設置し、再度ローラ帯電量を測定し、耐久後のローラ帯電量とした。
[かぶり画像評価]
評価対象としての導電性ローラを、図4に示す構成を有するレーザープリンター(商品名、LBP7700C;キヤノン(株)製)に現像ローラ16として装填してかぶりの評価を行った。先ず、評価対象の現像ローラ16を装填したレーザープリンターをH/H環境中に設置後6時間以上静置した。次いで、黒色で、印字率1%の画像を所定枚数のコピー用紙に対して、100枚ごとに10分の休止時間を設けながら、間欠出力した後に、新しいコピー用紙に白ベタ画像を出力し、白ベタ画像の出力中にプリンターを停止した。この時、感光体上に付着した現像剤をテープ(商品名、CT18;ニチバン(株)製)ではがし取り、反射濃度計(商品名、TC−6DS/A;(有)東京電色製)にて反射率を測定した。テープの反射率を基準としたときの反射率の低下量(%)を測定し、これをかぶり値とした。
印字率1%の画像を100枚出力した後に測定したかぶり値を初期かぶり値、印字率1%の画像を10000枚出力した後に測定したものを耐久後のかぶり値とした。
評価対象としての導電性ローラを、図4に示す構成を有するレーザープリンター(商品名、LBP7700C;キヤノン(株)製)に現像ローラ16として装填してかぶりの評価を行った。先ず、評価対象の現像ローラ16を装填したレーザープリンターをH/H環境中に設置後6時間以上静置した。次いで、黒色で、印字率1%の画像を所定枚数のコピー用紙に対して、100枚ごとに10分の休止時間を設けながら、間欠出力した後に、新しいコピー用紙に白ベタ画像を出力し、白ベタ画像の出力中にプリンターを停止した。この時、感光体上に付着した現像剤をテープ(商品名、CT18;ニチバン(株)製)ではがし取り、反射濃度計(商品名、TC−6DS/A;(有)東京電色製)にて反射率を測定した。テープの反射率を基準としたときの反射率の低下量(%)を測定し、これをかぶり値とした。
印字率1%の画像を100枚出力した後に測定したかぶり値を初期かぶり値、印字率1%の画像を10000枚出力した後に測定したものを耐久後のかぶり値とした。
[トナーの摩擦帯電量]
トナーに対する現像ローラの帯電付与性を評価するために、摩擦帯電量を測定した。上記かぶり画像評価の際に、現像ローラの、現像剤規制ブレードと、感光体当接位置に挟まれた部分のうち範囲が狭い部分に担持されたトナーを、金属円筒管と円筒フィルターにより吸引捕集した。その際、金属円筒管を通じてコンデンサに蓄えられた電荷量(測定機 商品名、8252;エーディーシー社製)と、吸引された現像剤の質量を測定した。これらの値から、単位質量あたりの電荷量(μC/g)を算出した。負帯電性のトナーを用いる場合、単位質量あたりの電荷量の符号が負であり、絶対値が大きいほど、現像ローラの帯電付与性が高いと言える。上記かぶり評価の時と同様に、印字率1%の画像を100枚出力した後に測定した帯電量を初期帯電量、印字率1%の画像を10000枚出力した後に測定したものを耐久後の帯電量とした。
実施例毎に用いたイオン導電剤及びアミノ化合物の種類と、得られた現像ローラの電流値、初期及び耐久後の現像ローラの帯電量、初期及び耐久後の帯電量とかぶりの値を、表20及び表21に示す。
トナーに対する現像ローラの帯電付与性を評価するために、摩擦帯電量を測定した。上記かぶり画像評価の際に、現像ローラの、現像剤規制ブレードと、感光体当接位置に挟まれた部分のうち範囲が狭い部分に担持されたトナーを、金属円筒管と円筒フィルターにより吸引捕集した。その際、金属円筒管を通じてコンデンサに蓄えられた電荷量(測定機 商品名、8252;エーディーシー社製)と、吸引された現像剤の質量を測定した。これらの値から、単位質量あたりの電荷量(μC/g)を算出した。負帯電性のトナーを用いる場合、単位質量あたりの電荷量の符号が負であり、絶対値が大きいほど、現像ローラの帯電付与性が高いと言える。上記かぶり評価の時と同様に、印字率1%の画像を100枚出力した後に測定した帯電量を初期帯電量、印字率1%の画像を10000枚出力した後に測定したものを耐久後の帯電量とした。
実施例毎に用いたイオン導電剤及びアミノ化合物の種類と、得られた現像ローラの電流値、初期及び耐久後の現像ローラの帯電量、初期及び耐久後の帯電量とかぶりの値を、表20及び表21に示す。
実施例1〜28に係る現像ローラは、表面層に本発明に係る樹脂を含有しているため、初期と耐久後の帯電量の変動が小さく、高品質な画像が得られている。
特に、実施例1〜7及び12〜18に係る樹脂は、実施例8〜11と比較して、アミノ化合物に水酸基を有する化合物を用いているため、耐久前後の帯電量の変化量がより小さく、安定した画像が得られている。
さらに実施例1〜7に係る樹脂は、実施例19〜21及び24〜26に係る樹脂とは、樹脂中のアニオンがフッ化スルホニルイミドアニオンを有するイオン導電剤を用いているか否かの点で相違する。係る樹脂の相違点により、実施例1〜7に係る現像部材は、実施例19〜21及び24〜26に係る現像部材に比して、帯電量の変化量がより小さく、より安定した画像が得られている。
上記実施例に対し、比較例1〜6に係る樹脂は、本発明に係るアミノ化合物を用いていない。そのため、比較例1〜6に係る現像部材は、実施例に係る現像部材に比して、耐久前後の帯電量の変化が大きく、かぶりが悪化している。
また上記実施例に対し、比較例7〜12に係る樹脂は、本発明に係るイオン導電剤を用いていない。そのため、比較例7〜12に係る現像部材は、実施例に係る現像部材に比して、耐久前後の帯電量の変化が大きく、かぶりが悪化している。
また参考例1及び2に係る樹脂は、イオン導電剤の水酸基の数が3個以上である。そのため、参考例1及び2の現像部材は、耐久前後の帯電量の変動が発生していない。
特に、実施例1〜7及び12〜18に係る樹脂は、実施例8〜11と比較して、アミノ化合物に水酸基を有する化合物を用いているため、耐久前後の帯電量の変化量がより小さく、安定した画像が得られている。
さらに実施例1〜7に係る樹脂は、実施例19〜21及び24〜26に係る樹脂とは、樹脂中のアニオンがフッ化スルホニルイミドアニオンを有するイオン導電剤を用いているか否かの点で相違する。係る樹脂の相違点により、実施例1〜7に係る現像部材は、実施例19〜21及び24〜26に係る現像部材に比して、帯電量の変化量がより小さく、より安定した画像が得られている。
上記実施例に対し、比較例1〜6に係る樹脂は、本発明に係るアミノ化合物を用いていない。そのため、比較例1〜6に係る現像部材は、実施例に係る現像部材に比して、耐久前後の帯電量の変化が大きく、かぶりが悪化している。
また上記実施例に対し、比較例7〜12に係る樹脂は、本発明に係るイオン導電剤を用いていない。そのため、比較例7〜12に係る現像部材は、実施例に係る現像部材に比して、耐久前後の帯電量の変化が大きく、かぶりが悪化している。
また参考例1及び2に係る樹脂は、イオン導電剤の水酸基の数が3個以上である。そのため、参考例1及び2の現像部材は、耐久前後の帯電量の変動が発生していない。
<現像ブレードとしての評価>
実施例29〜31及び比較例13に係る現像ブレードを用いて、以下の項目について評価を行った。
[現像ブレードの電流値評価]
現像ブレードの電流値の測定は、N/Nの環境中に6時間以上現像ブレードを放置し、N/N環境下で測定を行った。図7に、本測定で用いる、現像ブレードの電流値を評価するための冶具の概略構成図を示す。図7(a)に示すように、冶具内に固定されている円柱形金属53に対して、現像ブレードの樹脂層50が接触するようにセットする。この際、現像ブレードを固定する冶具(図示せず)には、高さ方向の調整バルブが設置されているため、円柱形金属53に対して一定の荷重0.3N/cmがかかるように調整する。次に、図7(b)に示すように、導電性のクリップ54にて支持基材K−2の片側端部を保持し、高圧電源55によって電圧(100V)を印加した。そして、円柱形金属53とグランドとの間に配設した既知の電気抵抗(現像ブレードの電気抵抗値に対して2桁以上電気抵抗が低いもの)を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計56(商品名:189TRUE RMS MULTIMETER、FRUKE社製)を用いた。測定した電位差と抵抗器の電気抵抗とから、現像ブレードを介して円柱形金属53に流れた電流を計算により求め、ブレード電流値とした。ここで、前記電位差の計測は、電圧印加2秒後から3秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をブレード電流値とした。
実施例29〜31及び比較例13に係る現像ブレードを用いて、以下の項目について評価を行った。
[現像ブレードの電流値評価]
現像ブレードの電流値の測定は、N/Nの環境中に6時間以上現像ブレードを放置し、N/N環境下で測定を行った。図7に、本測定で用いる、現像ブレードの電流値を評価するための冶具の概略構成図を示す。図7(a)に示すように、冶具内に固定されている円柱形金属53に対して、現像ブレードの樹脂層50が接触するようにセットする。この際、現像ブレードを固定する冶具(図示せず)には、高さ方向の調整バルブが設置されているため、円柱形金属53に対して一定の荷重0.3N/cmがかかるように調整する。次に、図7(b)に示すように、導電性のクリップ54にて支持基材K−2の片側端部を保持し、高圧電源55によって電圧(100V)を印加した。そして、円柱形金属53とグランドとの間に配設した既知の電気抵抗(現像ブレードの電気抵抗値に対して2桁以上電気抵抗が低いもの)を有する抵抗器の両端の電位差を計測した。当該電位差の計測には、電圧計56(商品名:189TRUE RMS MULTIMETER、FRUKE社製)を用いた。測定した電位差と抵抗器の電気抵抗とから、現像ブレードを介して円柱形金属53に流れた電流を計算により求め、ブレード電流値とした。ここで、前記電位差の計測は、電圧印加2秒後から3秒間サンプリングを行い、その平均値から計算される値をブレード電流値とした。
[現像ブレードの摩擦帯電量]
図6の装置において、現像ローラの代わりに現像ブレードを用い、現像ブレードの樹脂層50に対して、キャリア43が接触帯電するように設置した。さらに、キャリア43の落下する方向と、現像ブレードの樹脂層50の平面のなす角度が45°になるように調節した。それ以外は[現像ローラの摩擦帯電量]と同様にして現像ブレードの摩擦帯電量を測定した。なお、本測定での現像ブレードによって得られる摩擦帯電量を、ブレード帯電量とした。
図6の装置において、現像ローラの代わりに現像ブレードを用い、現像ブレードの樹脂層50に対して、キャリア43が接触帯電するように設置した。さらに、キャリア43の落下する方向と、現像ブレードの樹脂層50の平面のなす角度が45°になるように調節した。それ以外は[現像ローラの摩擦帯電量]と同様にして現像ブレードの摩擦帯電量を測定した。なお、本測定での現像ブレードによって得られる摩擦帯電量を、ブレード帯電量とした。
[かぶり画像評価・現像剤の摩擦帯電量]
図4に示す構成を有するレーザープリンター(商品名、LBP7700C;キヤノン(株)製)において、現像ローラは変更せず、現像ブレード21として、本実施例又は比較例に係る現像ブレードを装填した。それ以外は、現像ローラの[かぶり画像評価]、[現像剤の摩擦帯電量]と同様にして、[かぶり画像評価]、[トナーの摩擦帯電量]を実施した。
<現像ブレードとしての評価>を行った時の、実施例毎に用いたイオン導電剤及びアミノ化合物の種類と、得られた現像ブレードのブレード電流値、ブレード帯電量、初期及び耐久後の帯電量とかぶりの値を下記表22に示す。
図4に示す構成を有するレーザープリンター(商品名、LBP7700C;キヤノン(株)製)において、現像ローラは変更せず、現像ブレード21として、本実施例又は比較例に係る現像ブレードを装填した。それ以外は、現像ローラの[かぶり画像評価]、[現像剤の摩擦帯電量]と同様にして、[かぶり画像評価]、[トナーの摩擦帯電量]を実施した。
<現像ブレードとしての評価>を行った時の、実施例毎に用いたイオン導電剤及びアミノ化合物の種類と、得られた現像ブレードのブレード電流値、ブレード帯電量、初期及び耐久後の帯電量とかぶりの値を下記表22に示す。
実施例29、30及び31では、本発明に係る構造の樹脂を有する現像ブレードを用いているため、耐久前後の帯電量の変動が小さく、安定した画像が得られている。それに対して比較例13では、用いたアミノ化合物のnが小さいため、耐久前後の帯電量の変動が大きく、耐久後のかぶりが悪化する結果となった。
1:現像部材
2:基体
3:弾性層
4:表面層
5:中間層
2:基体
3:弾性層
4:表面層
5:中間層
Claims (8)
- 導電性の基体と、表面層とを有する現像部材であって、
該表面層は、樹脂及びアニオンを含み、
該アニオンは、
フッ化スルホン酸アニオン、フッ化カルボン酸アニオン、フッ化スルホニルイミドアニオン、フッ化スルホニルメチドアニオン、フッ化アルキルフッ化ホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン及びジシアンアミドアニオンからなる群から選択される少なくとも一つであり、
該樹脂は、
構造式(1)及び構造式(2)からなる群から選択される少なくとも1つの部分構造と
構造式(3)で示される部分構造と、を有することを特徴とする現像部材:
Xは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を表し、
Xが窒素原子の場合、pは1であり、Xが酸素原子又は硫黄原子の場合、pは0であり、
R11〜R15は、各々独立に、下記(a)〜(c)からなる群から選択される何れかであって、且つR11〜R15のうちの何れか2つは(c)である:
(a)水素原子、
(b)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(c)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合を介して結合している部分を含む構造。]、
nは2以上4以下の整数であり、
R35は炭素数2以上4以下のアルキレン基を表し、R35は同一でも異なっていてもよく、
R31〜R34は、各々独立に、下記(d)〜(f)からなる群から選択される何れかであって、R34は同一でも異なっていてもよく、且つR31〜R34のうちの少なくとも4つは(f)である:
(d)水素原子、
(e)炭素数1〜4のアルキル基、
(f)該樹脂のポリマー鎖とウレタン結合又はウレア結合を介して結合している部分を含む構造。]。 - 前記構造式(3)で示される部分構造が、構造式(4)で示される化合物と、ポリイソシアネートとの反応に由来するウレタン結合又はウレア結合とを含む部分構造である請求項1に記載の現像部材:
mは2以上4以下の整数を表し、
R45は炭素数2以上4以下のアルキレン基であり、R45は同一でも異なっていてもよく、
R41〜R44は各々独立に下記RA又はRBであって、R44は同一でも異なっていてもよく、且つR41〜R44のうちの少なくとも4つはRAであり、
RBは、水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表す。
RAは、下記(g)〜(i)からなる群から選ばれる何れかであり、
(g)炭素数1以上8以下のヒドロキシアルキル基、
(h)炭素数2以上8以下のアミノアルキル基、
(i)下記構造式(5)で示される基。]、
- 前記構造式(4)で示される化合物が、構造式(6)で示される化合物である請求項2に記載の現像部材:
- 前記樹脂が、
ポリイソシアネートと、
前記構造式(4)で示される化合物と、
構造式(7)及び構造式(8)からなる群から選択される少なくとも1つの化合物との反応物である請求項2又は3に記載の現像部材:
Yが窒素原子の場合、qは1であり、Yが酸素原子又は硫黄原子の場合、qは0であり、
R71〜R75は、各々独立に、下記(g)〜(i)からなる群から選択される何れかであって、且つR71〜R75のうちの何れか2つは(i)である。
(g)水素原子、
(h)炭素数1〜6の飽和炭化水素基、
(i)末端に水酸基を有する基 。]、
- 前記構造式(1)中、Xが窒素原子である請求項1〜4の何れか一項に記載の現像部材。
- 前記アニオンが、フッ化スルホニルイミドアニオンである請求項1〜5の何れか一項に記載の現像部材。
- 電子写真装置の本体に着脱可能に構成されており、少なくとも現像手段を有しているプロセスカートリッジであって、該現像手段が、請求項1〜6の何れか1項に記載の現像部材を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
- 少なくとも現像手段を備えている電子写真装置であって、該現像手段が請求項1〜6の何れか1項に記載の現像部材を有することを特徴とする電子写真装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017173304A JP2019049625A (ja) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 現像部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2019049625A true JP2019049625A (ja) | 2019-03-28 |
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ID=65905595
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JP2017173304A Pending JP2019049625A (ja) | 2017-09-08 | 2017-09-08 | 現像部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
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JP (1) | JP2019049625A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117756720A (zh) * | 2023-12-18 | 2024-03-26 | 东方电气股份有限公司 | 可聚合季铵盐抗菌剂及其制备和在合成抗菌型聚酯中的应用 |
-
2017
- 2017-09-08 JP JP2017173304A patent/JP2019049625A/ja active Pending
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