JP2018518702A - マイクロリソグラフィ投影装置の照明系及びそのような系内の照射分布を調節する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
角度照射分布という用語は、マスク平面内の特定の点に向けて収束する光束の全光エネルギが、光束を構成する光線の異なる方向の間でどのように配分されるかを説明するものである。
上述のように、通常はマスク上の全ての点を少なくとも走査積分後には同じ照射分布で照明するのが望ましい。走査積分後にマスク上の複数の点が異なる照射で照明される場合に、通常、ウェーハレベルにおいて臨界寸法(CD)の望ましくない変化がもたらされる。例えば、照射変化が存在する場合に、マスク上では均一な線の感光体上における像は、その長さに沿って照射変化を有する可能性もある。レジストの固定露光閾値に起因して、そのような照射変化は、線の像によって定義される構造の幅変化に直接変換される。
本明細書では、いずれかの電磁放射線、特に可視光、UV光、DUV光、VUV光、及びEUV光、並びにX線を表す上で「光」という用語を使用する。
図1は、本発明による投影露光装置10の非常に簡略化した斜視図である。装置10は、例えば、エキシマレーザとして実現することができる光源11を含む。この実施形態では、光源11は、193nmの中心波長を有する投影光を生成する。他の波長、例えば、157nm又は248nmも同様に想定される。
図2は、別の例示的なパターン18を含有するマスク16の拡大斜視図である。簡略化の目的で、パターン18は、Y方向に沿って延びる特徴部19のみを含むと仮定する。更に、Y方向に沿って延びる特徴部19は、感光層22上にX二重極照明設定を用いて最適に結像されると仮定する。
図3は、図1に示す照明系12を通る子午断面図である。明瞭化の目的で、図3の図は大きく簡略化したものであり、正確な縮尺のものではない。特に、これは、異なる光学ユニットを1つ又は極めて少数の光学要素だけによって表すことを意味する。実際には、これらのユニットは、有意に多くのレンズ及び他の光学要素を含むことができる。
次いで、投影光ビーム34は瞳形成ユニット36に入射し、その後の平面に可変空間照射分布を生成する。この目的のために、瞳形成ユニット36は、アクチュエータを用いて2つの直交軸の周りに個々に傾斜させることができる小さいミラー40のアレイ38を含む。図4は、2つの平行光ビーム42、44が、これらの光ビームが入射するミラー40の傾斜角に依存して異なる方向にどのように反射されるかを示すミラーアレイ38の斜視図である。図3及び図4では、ミラーアレイ38は6x6個のミラー40のみを含むが、実際には数百個又は数千個のミラー40さえも含むことができる。
照射調節ユニット52は、第1の空間光変調器54aと第2の空間光変調器54bを含む。各空間光変調器54a、54bは、個々に制御されるように構成された光偏向要素55のアレイを含む。図3に図示の実施形態では、光偏向要素55は、この図の拡大抜粋図C及び第1の空間光変調器54aの斜視図である図5の拡大抜粋図C’で見ることができるように、マイクロミラーである。ミラーアレイ38のミラー40とは対照的に、各光偏向要素55は、2つの安定作動状態、すなわち、面Sに投影光を向けて誘導する「オン」状態と、投影光を光吸収面57a又は57bに向けて誘導する「オフ」状態とのみを有する。空間光変調器54a、54bは、例えば、ビームプロジェクター内で一般的に使用される場合のように、デジタルミラーデバイス(DMD)として実現することができる。そのようなデバイスは、2つの作動状態の間で毎秒何千回も切り換えを行うことができる数百万個までのマイクロミラーを含むことができる。
この実施形態では、照射調節ユニット52によって照明される面Sは、光学インテグレータ68の前部境界面である。図3に示す光学インテグレータ68は、光学ラスター要素74の第1のアレイ70と第2のアレイ72を含む。図6は、2つのアレイ70、72の斜視図である。各アレイ70、72は、支持板の各側にそれぞれX方向及びY方向に沿って延びる円柱レンズの平行アレイを含む。2つの円柱レンズが交差する空間領域が光学ラスター要素74を形成する。従って、各光学ラスター要素74は、円柱曲面を有するマイクロレンズと見なすことができる。円柱レンズの使用は、特に光学ラスター要素74の屈折力がX方向とY方向とに沿って異なるべきである場合であれば有利である。光学インテグレータ68上の正方形照射分布を通常そうであるように、スリット形照明視野14に変形される場合は異なる屈折力が必要である。以下では、空間光変調器52に向く光学ラスター要素74の面を光入射ファセット75とも呼ぶ。
視野絞り平面80は、マスク台(図示せず)を用いてマスク16が配置されたマスク平面88上に視野絞り対物系86によって結像される。マスク平面88上には調節可能視野絞り82も結像され、調節可能視野絞り82は、少なくとも走査方向Yに沿って延びる照明視野14の短辺を定義する。視野絞り対物系86とマスク16の間には、照明系10内のハウジング内に設けられた開口部又はガラス窓によって形成することができる光射出口89がある。
1.瞳形成
図7は、瞳形成ユニット36が第1及び第2の空間光変調器54a、54bの光偏向要素55上にどのようにして照射分布を生成するかを略示している。簡略化の目的で、ビームスプリッタキューブ56a、56bを示していない。
光入射ファセット75はラスター視野平面84内に位置付けられるので、光入射ファセット75上の照射分布は、第2のアレイ72の光学ラスター要素74及び第2のコンデンサー78を通して視野絞り平面80上に結像される。
照明系12では、光入射ファセット75上の点上の照射を調節するために照射調節ユニット52が使用される。図9では、各極27が、2つの空間光変調器54a、54bの光偏向要素55の重ね合わせ像である複数の小区域55’にわたって延びることを見ることができる。第1の空間光変調器54aの光偏向要素55のうちの1つが「オフ」状態に入れられた場合に、ある一定の光入射ファセット75上の共役区域は、第1の空間光変調器54aによって照明されなくなり、従って、陰り55a’を形成する。投影光のうちの10%が第1の空間光変調器54a上に入射するので、第2の空間光変調器54bの対応する光偏向要素55が「オン」状態にあると仮定すると、陰り55a’における照射は10%だけ低減される。
1.第2の実施形態−対称構成
上記で記述した第1の実施形態では、照射調節ユニット52は、ビームスプリッタキューブ56a、56b内に形成された2つのビーム分割面を含む。それによって非対称カスケード構成がもたらされるが、変調光58a、58bは、各対向する側から同じ入射角で面S上に入射する。
ここで、照射減衰ユニット52の第3の実施形態を図17から図19を参照して以下に説明する。図17は照射減衰ユニット52の斜視図であり、それに対して図18及び図19は、それぞれXZ平面及びYZ平面内の断面図である。
ここで、図20に示す流れ図を参照して本発明の重要な方法段階を以下に要約する。
55 光偏向要素
68 光学インテグレータ
75 光入射ファセット
S 照明系の面
Claims (18)
- マイクロリソグラフィ装置(10)の照明系であって、
a)光源(11)によって生成される投影光を受光するように構成された光入口(13)と、
b)前記光入口(13)からの前記投影光を受光するように配置され、かつ面(S)上の該投影光の照射分布を調節するように構成された照射調節ユニット(52)
を含み、
前記照射調節ユニットが、
個々に制御されるように構成された光偏向要素(55)のアレイを有する空間光変調器(54a,54b;154)、及び
前記投影光を変調光路(59a,59b;159)に沿って伝播する変調光(58a,58b;158)及び該変調光路とは別個の非変調光路(63;163a,163c,163d)に沿って伝播する非変調光(60a,60b;160a,160c,160d)に分割する光スプリッタ(56a,56b;56;156a)、
を含み、
前記空間光変調器(54a,54b;154)が、前記変調光路(59a,59b;159)に配置されるのみであり、
空間光変調器が、前記非変調光路(63;163a,163c,163d)に配置されず、
前記変調光(58a,58b;158)及び前記非変調光(60a,60b;160a,160c,160d)が、前記面上で重なる、
照明系。 - 前記光スプリッタ(56a,56b;56;156a)は、前記照射調節ユニット上に入射する前記投影光の少なくとも70%が前記非変調光路(63;163a,163c,163d)に沿って伝播するように構成されることを特徴とする請求項1に記載の照明系。
- 前記光スプリッタ(56a,56b;56;156a)は、前記投影光によって照明された場合に少なくとも2つの回折次数を生成するように構成された回折光学要素(56;156a)を含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の照明系。
- 前記回折光学要素(156a)は、反射性であり、かつ前記投影光が該回折光学要素上にかすめ入射の下で入射するように配置されることを特徴とする請求項3に記載の照明系。
- 前記光スプリッタ(156a)から射出するゼロ次の光が、前記非変調光の第1の部分(160a)を形成し、
前記光スプリッタ(156a)から射出する非ゼロ次の光(La+1)が、それを前記変調光(158)と該非変調光の第2の部分(160b)とに分割する第2の回折光学要素(156b)上にかすめ入射の下で入射する、
ことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の照明系。 - 前記非変調光の前記第2の部分(160b)は、第3の回折光学要素(156c)上に入射し、そこから全ての回折次数が、前記面(S)に向けて案内されることを特徴とする請求項5に記載の照明系。
- 前記照射調節ユニット(52)は、個々に制御されるように構成された更なる光偏向要素のアレイを有する更なる空間光変調器を含み、かつ
前記光スプリッタは、前記投影光を更なる変調光路に沿って伝播する更なる変調光にも分割し、
前記更なる空間光変調器は、前記更なる変調光路に配置され、
前記変調光、前記更なる変調光、及び前記非変調光は、前記面上で重なる、
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の照明系。 - 前記空間光変調器(68)を前記面(S)上に結像する対物系(64a,64b;164)を含むことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の照明系。
- a)前記投影光によって照明されることになるマスク(16)を配置することができるマスク平面(88)と、
b)複数の2次光源(106)を生成するように構成された光学インテグレータ(68)であって、該光学インテグレータ(68)が、各々が該2次光源(106)のうちの1つに関連付けられて前記面(S)上に配置された複数の光入射ファセット(75)を含み、該光入射ファセット(75)の像が、前記マスク平面(88)内で少なくとも実質的に重なる前記光学インテグレータ(68)と、
c)前記照射調節ユニット(52)を可変的に照明するように構成された瞳形成ユニット(36)と、
を含むことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明系。 - 前記瞳形成ユニット(36)は、ビーム偏向要素(40)のアレイ(38)を含み、
各ビーム偏向要素(40)が、該ビーム偏向要素(40)によって生成された偏向角を変えることによって連続的に可変である位置で前記空間光変調器(54a,54b;154)上のスポット(94)を照明するように構成される、
ことを特徴とする請求項9に記載の照明系。 - マイクロリソグラフィ投影装置(10)の照明系(12)の面(S)上の投影光の照射分布を調節する方法であって、
a)前記投影光を変調光(58a,58b;158)及び非変調光(60a,60b;160a,160c,160d)に分割する段階と、
b)前記変調光(58a,58b;158)を空間光変調器(54a,54b;154)にかつ該空間光変調器から前記面(S)に向ける段階と、
c)前記面(S)上に前記非変調光(60a,60b;160a,160c,160d)を該非変調光が空間光変調器と相互作用することなく該面上で前記変調光と重なるように向ける段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記投影光の少なくとも70%が、非変調光路(63;163a,163c,163d)に沿って伝播することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 回折光学要素(56;156a)が、段階a)で前記投影光を分割することを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の方法。
- 前記投影光は、前記回折光学要素(156a)上にかすめ入射の下で入射することを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 光スプリッタ(156a)から射出するゼロ次の光が、前記非変調光の第1の部分(160a)を形成し、
前記光スプリッタ(156a)から射出する非ゼロ次の光(La+1)が、それを前記変調光(158)及び前記非変調光の第2の部分(160b)に分割する第2の回折光学要素(156b)上にかすめ入射の下で入射する、
ことを特徴とする請求項13又は請求項14に記載の方法。 - 前記非変調光の前記第2の部分(160b)は、第3の回折光学要素(156c)上に入射し、そこから全ての回折次数が、前記面(S)に向けて案内されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記空間光変調器(54a,54b;154)は、前記面(S)上に結像されることを特徴とする請求項11から請求項16のいずれか1項に記載の方法。
- a)光学インテグレータ(68)が、複数の2次光源(106)を生成し、該光学インテグレータ(68)は、各々が該2次光源(106)のうちの1つに関連付けられて前記面(S)上に配置された複数の光入射ファセット(75)を含み、該光入射ファセット(75)の像が、マスク平面(88)内で少なくとも実質的に重ね合わされ、
b)瞳形成ユニット(36)が、照射調節ユニット(52)を可変的に照明する、
ことを特徴とする請求項11から請求項17のいずれか1項に記載の方法。
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