JP2018502441A - 自動式パターン忠実度測定計画生成 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (28)
- 試料に実行されることになっている計測プロセスの1つ以上のパラメータを決定するように構成されたシステムであって、
少なくとも1つのエネルギー源と1つの検出器を含む測定サブシステムを備え、前記エネルギー源は、前記試料に向けられるエネルギーを生成するように構成され、前記検出器は、前記試料からのエネルギーを検出し、検出されたエネルギーに応答して出力を生成するように構成され、
システムはさらに、1つ以上のコンピュータサブシステムを含み、前記コンピュータサブシステムは、
前記測定サブシステムで前記試料に実行される計測プロセス中に測定される関心領域を、前記試料の設計に基づいて自動生成し、
前記測定サブシステムでの計測プロセス中に前記関心領域の第1と第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータを、それぞれ前記関心領域の第1と第2のサブセット内に配置された前記試料の設計の部分に基づいて自動決定するように構成され、前記第1のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータは、前記第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータとは別個に独立して決定されることを特徴とするシステム。 - 請求項1に記載のシステムであって、前記自動生成することと前記自動決定することは、計測プロセスのセットアップ中に実行されることを特徴とするシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記自動生成することと前記自動決定することは、計測プロセスのランタイム中にオンザフライ方式で実行されることを特徴とするシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記自動生成することは、計測プロセスのセットアップ中に設計のルールに基づく検索を実行することを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記自動生成することと前記自動決定することに用いられる試料の設計は、試料上に印刷されない設計フィーチャを含まないことを特徴とするシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムは、電子設計自動化ツールのコンピュータサブシステムを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記関心領域の第1のサブセットに関して自動決定される1つ以上のパラメータは、前記関心領域の第1のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の第1のタイプとなり、前記関心領域の第2のサブセットに関して自動決定される1つ以上のパラメータは、前記関心領域の第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の第2のタイプとなり、前記1つ以上の測定の第1のタイプと第2のタイプは互いに異なることを特徴とするシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムはさらに、前記関心領域の第1と第2のサブセットの試料上の位置を、検出器の出力を前記試料の設計に位置合せすることによって計測プロセス中に決定するように構成されることを特徴とするシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上の測定の前記1つ以上のパラメータは、前記1つ以上の測定が実行される範囲の1つ以上の寸法の境界を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上の測定は、前記試料上に形成された1つ以上の構造の1つ以上のエッジの1つ以上の測定中に検出器によって生成された出力における位置を自動決定することを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムはさらに、前記1つ以上の測定の結果に基づいて、前記関心領域の第1と第2のサブセットのうち一方の1つ以上の属性を自動生成するように構成されるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムはさらに、第1と第2のサブセットのうち一方の関心領域の複数の事例の1つ以上の属性を、1つ以上の測定の結果に基づいて自動生成し、複数の事例のうち2つ以上に関する1つ以上の属性のうち少なくとも1つを比較して、複数の事例のうち2つ以上における異常値を特定するように構成されるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムはさらに、設計における1つ以上のアライメントサイトを自動選択するように構成され、前記計測プロセスは、計測プロセス中に試料上の1つ以上のアライメントサイトのうち少なくとも1つの1つ以上の位置を決定して、前記試料上の第1と第2のサブセットにおける1つ以上の前記関心領域の1つ以上の位置を、試料上の少なくとも1つのアライメントサイトの1つ以上の位置に基づいて決定することを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記計測プロセスは、第1のサブセット内の関心領域と第2のサブセット内の関心領域のうち1つに欠陥が存在するかどうかを、その1つの関心領域内で実行される1つ以上の測定のみに基づいて判断することを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記自動生成することは、前記計測プロセス中に測定される対象の関心領域を、前記設計と、前記試料に実行された検査プロセスの結果に基づいて自動生成することを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記関心領域の第1と第2のサブセットのうち一方に実行される1つ以上の測定は、前記関心領域のうち一方の、前記関心領域のうち他方のクリティカル・ディメンション測定に対するクリティカル・ディメンション測定を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記関心領域の第1と第2のサブセットのうち一方に実行される1つ以上の測定は、前記関心領域のうち一方の、前記関心領域のうち他方のオーバーレイ測定に対するオーバーレイ測定を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記試料はプロセスウィンドウ検証ウェハを備え、前記自動生成することは、前記計測プロセス中に測定される対象の関心領域を、設計と、前記試料に実行された検査プロセスの結果に基づいて自動生成することを含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記計測プロセスは、前記試料に実行される組立プロセスのインラインモニタリング中に前記試料に実行されるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムはさらに、前記関心領域の第1と第2のサブセットのうち1つに実行された1つ以上の測定を、前記関心領域の第1と第2のサブセットのうち1つの設計意図と比較し、前記比較の結果に基づいて光近接効果補正モデルを修正するように構成されるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記1つ以上のコンピュータサブシステムはさらに、前記関心領域の第1と第2のサブセットのうち1つにおける欠陥を、1つ以上の測定に基づいて検出し、前記1つ以上の測定を、検出された欠陥の欠陥属性として報告するように構成されるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記試料はウェハを備えるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記試料はレチクルを備えるシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記試料に向けられるエネルギーは光を含み、前記試料から検出されるエネルギーは光を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記試料に向けられるエネルギーは電子を含み、前記試料から検出されるエネルギーは電子を含むシステム。
- 請求項1に記載のシステムであって、前記試料に向けられるエネルギーはイオンを含むシステム。
- 試料に実行されることになっている計測プロセスの1つ以上のパラメータを決定するためのコンピュータ実装方法を実行するコンピュータシステムで実行可能なプログラム命令を記憶する非一時的コンピュータ可読媒体であって、前記コンピュータ実装方法が、
測定サブシステムで試料に実行される計測プロセス中に測定される関心領域を、試料の設計に基づいて自動生成することを含み、前記測定サブシステムは、少なくとも1つのエネルギー源と1つの検出器を含み、前記エネルギー源は、前記試料に向けられるエネルギーを生成するように構成され、前記検出器は、前記試料からのエネルギーを検出し、検出されたエネルギーに応答して出力を生成するように構成され、
前記方法はさらに、前記測定サブシステムでの計測プロセス中に前記関心領域の第1と第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータを、それぞれ前記関心領域の第1と第2のサブセット内に配置された試料の設計の部分に基づいて自動決定することを含み、前記第1のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータは、前記第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータとは別個に独立して決定されることを特徴とする、非一時的コンピュータ可読媒体。 - 試料に実行されることになっている計測プロセスの1つ以上のパラメータを決定するためのコンピュータ実装方法であって、
測定サブシステムで試料に実行される計測プロセス中に、測定される関心領域を試料の設計に基づいて自動生成することを含み、前記測定サブシステムは、少なくとも1つのエネルギー源と1つの検出器を含み、前記エネルギー源は、前記試料に向けられるエネルギーを生成するように構成され、前記検出器は、前記試料からのエネルギーを検出し、検出されたエネルギーに応答して出力を生成するように構成され、
前記方法はさらに、前記測定サブシステムでの計測プロセス中に前記関心領域の第1と第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータを、それぞれ前記関心領域の第1と第2のサブセット内に配置された試料の設計の部分に基づいて自動決定することを含み、前記第1のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータは、前記第2のサブセットにおいて実行される1つ以上の測定の1つ以上のパラメータとは別個に独立して決定され、前記自動生成と前記自動決定は、1つ以上のコンピュータシステムによって実行されることを特徴とする方法。
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