JP2018190193A - タッチセンサ内蔵表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】接続端子数の増大を抑制することが可能なタッチセンサ内蔵表示装置を提供する。【解決手段】本発明のタッチセンサ内蔵表示装置は、表示領域に設けられた複数の表示素子と、表示領域の外側の周辺領域に引き出された複数の映像信号線と、複数の表示素子上に2次元的に配列され、第1方向に隣り合う第1電極が第1接続線を介して接続された複数の第1電極と、第1電極と同層又は異層で2次元的に配列され、第2方向に隣り合う第2電極が第2接続線を介して接続された複数の第2電極と、複数の第1電極に接続され、周辺領域に引き出された複数の第1タッチ信号線と、周辺領域に設けられた複数の接続端子と、複数の映像信号線の一と複数の接続端子の一との電気的な接続と切断とを切り替える第1スイッチと、複数の第1タッチ信号線の一と複数の接続端子の一との電気的な接続と切断とを切り替える第2スイッチと、を備える。【選択図】図1

Description

本発明は、タッチセンサ内蔵表示装置に関する。
特許文献1には、隣り合う本体部が接続部を介して接続されたX方向に延びる第1の電極と、隣り合う本体部が接続部を介して接続されたY方向に延びる第2の電極とが封止膜を挟んで配置された静電容量方式タッチセンサを内蔵する表示装置が開示されている。
特開2015−50245号公報
ところで、一般に、表示装置の周辺領域には表示素子に繋がる多数の接続端子が設けられている。表示装置にタッチセンサを内蔵させて、周辺領域にタッチセンサに繋がる接続端子を別途設けようとすると、新たな接続端子のためのスペースを確保することが困難なことがある。
本発明の目的は、接続端子数の増大を抑制することが可能なタッチセンサ内蔵表示装置を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明のタッチセンサ内蔵表示装置は、表示領域に設けられた複数の表示素子と、前記表示領域の外側の周辺領域に引き出された、前記複数の表示素子に映像信号を供給する複数の映像信号線と、前記複数の表示素子上に2次元的に配列された複数の第1電極であって、第1方向に隣り合う第1電極は第1接続線を介して接続され、前記第1方向と交差する第2方向に隣り合う第1電極は接続されない、複数の第1電極と、前記第1電極と同層又は異層で2次元的に配列され、それぞれが平面視で前記第1電極に囲まれた複数の第2電極であって、前記第2方向に隣り合う第2電極は、前記第1接続線と絶縁膜を介して平面視で交差する第2接続線を介して接続され、前記第1方向に隣り合う第2電極は接続されない、複数の第2電極と、前記複数の第1電極に接続され、前記周辺領域に引き出された複数の第1タッチ信号線と、前記周辺領域に設けられた複数の接続端子と、前記複数の映像信号線の一と前記複数の接続端子の一との電気的な接続と切断とを切り替える第1スイッチと、前記複数の第1タッチ信号線の一と前記複数の接続端子の前記一との電気的な接続と切断とを切り替える第2スイッチと、を備える。
実施形態に係るタッチセンサ内蔵表示装置の平面図である。 図1に示すII−II線で切断したときの断面図である。 図1に示すIII−III線で切断したときの断面図である。 タッチセンサの一部を拡大した平面図である。 表示動作とタッチ検出との切り替えに係る構成例を示す回路図である。 表示動作とタッチ検出との切り替えに係る構成例を示す平面図である。 表示動作とタッチ検出とのタイミングの一例を示す図である。 表示動作とタッチ検出とのタイミングの他の一例を示す図である。 表示動作とタッチ検出とのタイミングの他の一例を示す図である。 他の実施形態に係るタッチセンサ内蔵表示装置の平面図である。 他の実施形態に係るタッチセンサ内蔵表示装置の平面図である。
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
さらに、本発明の実施形態の詳細な説明において、ある構成物と他の構成物の位置関係を規定する際、「上に」「下に」とは、ある構成物の直上あるいは直下に位置する場合のみでなく、特に断りの無い限りは、間にさらに他の構成物を介在する場合を含むものとする。
図1は、実施形態に係るタッチセンサ内蔵表示装置(以下、単に表示装置ともいう)の平面図である。表示装置の例として、有機EL表示装置を挙げる。表示装置1は、例えば赤、緑及び青からなる複数色の単位画素(サブピクセル)を組み合わせてフルカラーの画素を形成し、フルカラーの画像を表示するようになっている。
表示装置1は、表示パネル10と、表示パネル10の表示領域15上に形成されたタッチセンサ20とを有している。表示パネル10の表示領域15の外側には、周辺領域(額縁領域)11が形成されている。周辺領域11の1つの辺には、外部との電気的接続のためのFPC(フレキシブルプリント基板)13が接続されており、FPC13には、表示領域15に設けられた表示素子(単位画素)を駆動するとともに、タッチセンサ20に対して駆動信号の入力や、検出信号の出力を行うための集積回路チップ12が搭載されている。以下の説明においては、周辺領域11のFPC13が接続された辺に沿った方向をX方向とし、それと直交する方向をY方向とする。
表示領域15には、X方向に延びる複数の走査信号線16と、Y方向に延びる複数の映像信号線17とが形成されている。周辺領域11のうち、表示領域15をX方向に挟んで向かい合う2つの辺の一方には、走査信号線16に走査信号を供給する走査駆動回路6が配置されている。走査駆動回路6は、複数のシフトレジスタを含んでおり、集積回路チップ12から制御信号線18を通じて入力されるタイミング信号に応じて、複数の走査信号線16に順番にオン電圧を印加する。
本実施形態では、周辺領域11のうち、表示領域15をX方向に挟んで向かい合う2つの辺の他方に、タッチセンサ20に駆動信号を供給するタッチ駆動回路28が配置されている。すなわち、タッチ駆動回路28は、表示領域15に対して走査駆動回路6とは反対側に配置されている。タッチ駆動回路28は、集積回路チップ12から制御信号線19を通じて入力されるタイミング信号に応じて、タッチセンサ20のタッチ信号線26に一斉又は順番に駆動信号を出力する。
図1では、周辺領域11のうち、表示領域15をX方向に挟んで向かい合う2つの辺の一方に沿って走査駆動回路6が配置され、他方に沿ってタッチ駆動回路28が配置されているが、走査駆動回路6及びタッチ駆動回路28の各々を両方に配置してもよいし、走査駆動回路6とタッチ駆動回路28とを一体的に形成してもよい。
映像信号線17は、表示領域15をY方向に延びて周辺領域11に引き出されており、集積回路チップ12からの映像信号を表示領域15に設けられた表示素子に供給する。本実施形態では、周辺領域11のFPC13が接続された辺に、複数の切替要素5を含む切替回路4が配置されている。切替要素5は、FPC13に電気的に接続される相手方を、映像信号線17と、タッチセンサ20のタッチ信号線25とで切り替える。なお、映像信号線17の数はタッチ信号線25と比べて十分に多いため、全てのタッチ信号線25はそれぞれ切り替え要素5に接続されるが、大半の映像信号線17は切替要素5を介さずFPC13に直接的に接続される。切替要素5の詳細な構成及び動作については後述する。
図2は、図1に示すII−II線、すなわちタッチ信号線25に沿って切断したときの断面図である。図3は、図1に示すIII−III線、すなわち映像信号線17に沿って切断したときの断面図である。図4は、タッチセンサ20の一部を拡大した平面図である。図5A及び図5Bは、切替要素5の構成例を示す回路図及び平面図である。図1に示すII−II線及びIII−III線は、切替要素5においては図5Bに示した通りとなる。これらの断面図では、断面構造を見易くするため、基板30、平坦化膜51及び画素分離膜55などの一部の層のハッチングを省略している。以下の説明では、積層方向を上方向とする。
基板30は、例えばガラス、又はポリイミド等の可撓性がある樹脂からなる。基板30の上面はアンダーコート層31によって覆われている。アンダーコート層31上には半導体層41が形成されており、半導体層41はゲート絶縁膜33によって覆われている。ゲート絶縁膜33上にはゲート電極43が形成されており、ゲート電極43はパシベーション膜35によって覆われている。ドレイン電極45及びソース電極47は、ゲート絶縁膜33とパシベーション膜35とを貫通して半導体層41に接続されている。半導体層41、ゲート電極43、ドレイン電極45及びソース電極47により薄膜トランジスタ40が構成される。薄膜トランジスタ40は、複数の単位画素のそれぞれに対応するように設けられている。アンダーコート層31、ゲート絶縁膜33及びパシベーション膜35は、例えばSiO又はSiN等の無機絶縁材料で形成されている。半導体層41は、例えばLTPS(Low Temperature Poly-silicon)等の半導体で構成されている。
パシベーション膜35上には、ドレイン電極45及びソース電極47に加えて、薄膜トランジスタ40に接続された映像信号線17、及びFPC13への接続のための接続線48,49が形成されている。ドレイン電極45、ソース電極47、映像信号線17及び接続線48,49は平坦化膜51によって覆われており、平坦化膜51は層間絶縁膜53によって覆われている。ドレイン電極45、ソース電極47、映像信号線17及び接続線48,49は、例えばAl、Ag、Cu、Ni、Ti、Mo等を含む導電性材料で形成されている。平坦化膜51は、例えばアクリル樹脂等の有機絶縁材料で形成され、平坦な上面を有している。層間絶縁膜53は、例えばSiO又はSiN等の無機絶縁材料で形成されている。
層間絶縁膜53上には画素電極61が形成されている。画素電極61は、平坦化膜51と層間絶縁膜53とを貫通してソース電極47に接続されている。画素電極61は、複数の単位画素のそれぞれに対応するように個別に設けられている。本実施形態では、表示パネル10はトップエミッション型であり、画素電極61は反射電極として形成されている。また、周辺領域11には、後述するタッチ信号線25への接続のための接続端子67、及びFPC13への接続のための接続端子68が形成されており、平坦化膜51と層間絶縁膜53とを貫通して接続線48,49にそれぞれ接続されている。画素電極61及び接続端子67,68は、例えばAl、Ag、Cu、Ni、Ti、Mo等を含む導電性材料や、ITO、IZO等の導電性酸化物を含んで形成されている。
画素電極61は画素分離膜55によって覆われている。画素分離膜55はリブ又はバンクとも呼ばれる。画素分離膜55には、画素電極61が底に露出する開口55aが形成されている。開口55aを形成する画素分離膜55の内縁部分は画素電極61の周縁部分に載っており、画素分離膜55は、断面視で底部から上方に向かうに従って幅が細くなる順テーパー形状を有している。なお、画素分離膜55は、周辺領域11のうちの表示領域15との境界近傍に形成されるが、その他の部分には形成されない。画素分離膜55は、例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機絶縁材料で形成されている。
画素分離膜55の開口55aの底に露出した画素電極61上には、発光層63が互いに離れて個別に形成されている。発光層63は、複数の単位画素のそれぞれに対応して例えば赤、緑及び青からなる複数色で発光する。発光層63とともに、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一層が形成されてもよい。発光層63はマスクを用いて個別に蒸着形成される。発光層63は、隣り合う開口55a上及びそれらの間の画素分離膜に亘って連続的に、表示領域15の全体に広がる一様な膜(いわゆるベタ膜)として蒸着形成されてもよく、その場合、発光層63は単色で発光し、カラーフィルタや色変換層によって例えば赤、緑及び青からなる複数色のそれぞれの成分が取り出される。なお、発光層63は蒸着形成に限らず、塗布形成されてもよい。
発光層63及び画素分離膜55は対向電極65によって覆われている。対向電極65は、表示領域15の全体に広がる一様な膜(いわゆるベタ膜)として形成されている。発光層63並びに発光層63を挟む画素電極61及び対向電極65によって発光素子60が構成され、画素電極61と対向電極65の一方が陽極、他方が陰極となり、発光層63は画素電極61と対向電極65との間を流れる電流によって発光する。対向電極65は、例えばITO、IZO等の透明導電材料又はMgAg等の金属薄膜で形成される。
画素分離膜55及び対向電極65は、封止膜(パシベーション膜)70によって覆われることで封止され、水分から遮断される。封止膜70は、例えば無機膜71、有機膜73及び無機膜75を下からこの順に含む三層積層構造を有している。無機膜71,75は、例えばSiO又はSiN等の無機絶縁材料で形成されている。有機膜73は、例えばアクリル樹脂等の有機絶縁材料で形成されており、封止膜70の上面を平坦化させる。
封止膜70の無機膜71,75の外縁は、画素分離膜55の外縁よりも外側で層間絶縁膜53と接している。これに限られず、層間絶縁膜53が省略され、無機膜71,75の外縁と平坦化膜51とが接してもよい。
表示装置1は、封止膜70上にタッチセンサ20を有している。具体的には、封止膜70上に保護絶縁膜81が形成されており、保護絶縁膜81上に2次元的に配列された複数の第1電極21と複数の第2電極22とが形成されており、第1電極21及び第2電極22上に層間絶縁膜83が形成されている。第1電極21と第2電極22とは、静電容量方式タッチセンサの駆動電極と検出電極とを構成する。保護絶縁膜81と層間絶縁膜83とは、例えばアクリル樹脂等の有機絶縁材料又はSiO、SiN等の無機絶縁材料で形成されている。
本実施形態では、保護絶縁膜81の外縁は、封止膜70の無機膜71,75の外縁と一致している。これは、保護絶縁膜81が無機膜71,75を選択的に除去する際のマスクとして利用されるためである。なお、保護絶縁膜81は省略されてもよい。
図1及び図4に示すように、第1電極21と第2電極22のそれぞれは、X方向(第1方向)とこれに交差(例えば直交)するY方向(第2方向)とを対角方向とする矩形状、いわゆる菱形状(ダイヤモンド形状)で形成されている。また、第1電極21と第2電極22のそれぞれは、例えば金属等の導電性材料からなり、導電性材料が平面的に見て発光素子60の発光領域と重ならないように網目状に形成(メッシュ配線)されている。これに限られず、第1電極21と第2電極22とは、例えばITO等の透明導電材料で形成されてもよい。
複数の第1電極21はX方向とY方向とにそれぞれ並んで2次元的に配列されている。これらの第1電極21のうち、X方向に隣り合う第1電極21は第1接続線23を介して接続されており、Y方向に隣り合う第1電極21は接続されていない。すなわち、複数の第1電極21は、X方向に隣り合う第1電極21が第1接続線23を介して接続されることでX方向に延びる複数の電極列をそれぞれ形成しており、それぞれの電極列はY方向には電気的に分離されている。
複数の第2電極22もX方向とY方向とにそれぞれ並んで2次元的に配列されている。これらの第2電極22のうち、Y方向に隣り合う第2電極22は第1接続線23と平面視で交差する第2接続線24を介して接続されており、X方向に隣り合う第2電極22は接続されていない。すなわち、複数の第2電極22は、Y方向に隣り合う第2電極22が第2接続線24を介して接続されることでY方向に延びる複数の電極列を形成しており、それぞれの電極列はX方向には電気的に分離されている。
それぞれの第2電極22は、平面視で第1電極21に囲まれるよう配置されている。例えば、それぞれの第2電極22は、X方向とY方向の両方に交差する方向(例えば45度又は−45度の方向)に隣り合う第1電極21の間に配置されており、4つの第1電極21に囲まれている。第1電極21と第2電極22とは、互いに接触しないように間隔を空けることで電気的に分離されている。
本実施形態では、複数の第1電極21と複数の第2電極22とは、層間絶縁膜83下の層(第1導電層)に配置されている。これに限られず、第1電極21と第2電極22との一方が層間絶縁膜83下の層に配置され、他方が層間絶縁膜83上の層(第2導電層)に配置されてもよい。また、第1電極21と第2電極22との両方が層間絶縁膜83上の層に配置されてもよい。
第1接続線23と第2接続線24とは平面視で交差している。平面視で交差する第1接続線23と第2接続線24との間には層間絶縁膜83が介在しており、両者は電気的に分離されている。
本実施形態では、第2接続線24が、層間絶縁膜83上の層(第2導電層)に配置されたいわゆるブリッジ配線である。第2接続線24は、層間絶縁膜83に形成された開口(スルーホール)83aを通じて第2電極22に接続されている。第2電極22は、例えばAl、Ag、Cu、Ni、Ti、Mo等を含む導電性材料で形成されている。一方、第1接続線23は、層間絶縁膜83下の層(第1導電層)で第1電極21と連続的に形成されている。
これに限られず、第1接続線23が層間絶縁膜83上の層にブリッジ配線として配置され、第2接続線24が層間絶縁膜83下の層で第2電極22と連続的に形成されてもよい。また、第1接続線23がブリッジ配線として第2接続線24と交差する交差部と、第2接続線24がブリッジ配線として第1接続線23と交差する交差部とが混在していてもよい。
本実施形態では、層間絶縁膜83は、表示領域15の全体に広がる一様な膜(いわゆるベタ膜)として形成されている。これに限られず、層間絶縁膜83は、第1接続線23と第2接続線24とが平面視で交差するそれぞれの位置に分離して形成され、第1電極21及び第2電極22を覆わなくてもよい。
タッチセンサ20は、周辺領域11に引き出されたタッチ信号線25,26を有している。タッチ信号線25,26は、ブリッジ配線と同じ層間絶縁膜83上の層(第2導電層)に配置されており、層間絶縁膜83に形成された開口(スルーホール)83aを通じて第1電極21又は第2電極22に接続されている。
第1電極21に接続されたタッチ信号線26は、X方向に引き出されてタッチ駆動回路28に接続されている。タッチ駆動回路28から出力された駆動信号は、タッチ信号線26を介して第1電極21に入力される。すなわち、本実施形態では、第1電極21が駆動電極となる。
第2電極22に接続されたタッチ信号線25は、Y方向に引き出されて切替回路4の各切替要素5に接続されている。第2電極22から出力された検出信号は、タッチ信号線25を介して切替回路4の各切替要素5に入力される。すなわち、本実施形態では、第2電極22が検出電極となる。
図2、図3、図5A及び図5Bに示すように、周辺領域11には、表示領域15に設けられた薄膜トランジスタ40と同様の構成で、薄膜トランジスタからなるスイッチ40A,40Bが設けられている。これらスイッチ40A,40Bの組は、切替要素5を構成する。
スイッチ40A(第1スイッチの例)の一端は映像信号線17に接続されており、他端はFPC13に接続される接続線49に接続されている。スイッチ40B(第2スイッチの例)の一端はタッチ信号線25(第1タッチ信号線の例)に接続される接続線48に接続されており、他端はスイッチ40Aと同じ接続線49に接続されている。
接続線49は、周辺領域11に露出した接続端子68に接続されており、この接続端子68には異方導電部材139を介してFPC13が接続される(図2,3を参照)。接続線49の端部は2つに別れており、一方の端部491がスイッチ40Aが接続され、他方の端部492がスイッチ40Bに接続されている(図5Bを参照)。
接続線48は、周辺領域11に露出した接続端子67に接続されており、この接続端子67にはタッチ信号線25が接続されている(図2を参照)。封止膜70の無機膜71,75の外縁は、表示領域15とスイッチ40A,40Bとの間に位置している。タッチ信号線25は、無機膜71,75上からその外側に無機膜71,75の外縁を跨いで延在し、接続端子67に接続されている。
スイッチ40A,40Bには、集積回路チップ12から制御信号線59(図1を参照)を通じて制御信号が供給される。図5Bでは、スイッチ40A、40Bはそれぞれ薄膜トランジスタによって形成されており、制御信号は各薄膜トランジスタへのゲート電圧として与えられる。集積回路チップ12は、スイッチ40A,40Bを排他的に駆動することによって、接続端子68に電気的に接続される相手方を、映像信号線17とタッチ信号線25とで切り替える。
スイッチ40Aは、制御信号線59に通じるゲート電極43aに印加される電圧に応じて、映像信号線17と接続端子68との電気的な接続と切断とを切り替える。一方、スイッチ40Bは、ゲート電極43bに印加される電圧に応じて、タッチ信号線25と接続端子68との電気的な接続と切断とを切り替える。
例えば、集積回路チップ12は、スイッチ40Aをオン、スイッチ40Bをオフすることによって、映像信号線17と接続端子68とを電気的に接続し、タッチ信号線25と接続端子68とを電気的に切断する。一方、集積回路チップ12は、スイッチ40Aをオフ、スイッチ40Bをオンすることによって、タッチ信号線25と接続端子68とを電気的に接続し、映像信号線17と接続端子68とを電気的に切断する。
このような構成によると、表示動作期間には、映像信号線17と接続端子68とを電気的に接続して集積回路チップ12から映像信号線17に映像信号を出力し、タッチ検出期間には、タッチ信号線25と接続端子68とを電気的に接続してタッチ信号線25から集積回路チップ12に検出信号を入力することが可能となる。すなわち、接続端子68を映像信号の出力と検出信号の入力とに兼用することが可能である。これにより、接続端子68の数の増大を抑制することが可能である。
表示動作期間とタッチ検出期間とのタイミング例について説明する。図6A及び図6Bに示すように、1垂直走査期間を表示動作期間とタッチ検出期間とに分けてよい。図6Aの例では、1垂直走査期間(例えば60Hz表示の場合、約16.66ms)に画面の上半分と下半分とをそれぞれ書込むための上半分画面書込み期間と下半分画面書込み期間とが表示動作期間として含まれ、さらに各書込み期間の後にタッチ検出期間が含まれている。このとき、各タッチ検出期間において一画面分のタッチ検出が実行されるので、図6Aのタイミング例によると、画面を1フレーム書込む毎に、2回のタッチ検出が実行される。
図6Bの例では、1垂直走査期間(例えば120Hz表示の場合、約8.33ms)に全画面を書込むための画面書込み期間が表示動作期間として含まれ、さらに書込み期間の後にタッチ検出期間が含まれている。図6Aの例とは異なり、画面を1フレーム書込む毎に、1回のタッチ検出が実行される。
これらの例のタッチ検出期間では、タッチ駆動回路28から複数のタッチ信号線26に一斉に駆動信号が出力され、複数のタッチ信号線25から集積回路チップ12に一斉に検出信号が入力される。
図7に示すように、1水平走査期間を表示動作期間とタッチ検出期間とに分けてもよい。すなわち、1水平走査期間には、画面の1行を書込むための期間が表示動作期間として含まれ、その後にタッチ検出期間が含まれている。図7の例では、1行が書込まれる毎に、タッチ駆動回路28から複数のタッチ信号線26の1つに駆動信号が出力され、それに対応するタッチ信号線25から集積回路チップ12に検出信号が入力される。
この場合、実際の走査線の行数は、タッチ電極の行数の数十倍であるので、1フレームの表示が完了する間に、数十回のタッチ検出動作が完了することになる。表示フレーム数とタッチ検出回数の比率については制限は無く、例えばk行の書込みを行う毎に1行のタッチ検出動作を行うようにしてもよい。
以下、表示装置1の変形例について説明する。上記実施形態と重複する構成については同番号を付すことで詳細な説明を省略する。
図8に示す表示装置1Aでは、タッチ駆動回路28が省略されており、集積回路チップ12がタッチ信号線26に駆動信号を出力する。タッチ信号線26は、周辺領域11のFPC13が接続される辺まで延びて、切替回路4に含まれる一部の切替要素5に接続されている。この切替要素5は、FPC13に電気的に接続される相手方を映像信号線17とタッチ信号線26とで切り替える。
タッチ信号線26が接続された切替要素5も、上記図5A及び図5Bに示したように、映像信号線17と接続線49とに接続されたスイッチ40Aと、接続線48と接続線49とに接続されたスイッチ40Bとを含んでいる。タッチ信号線26は、上記図2に示したタッチ信号線25と同様に、接続線48に接続されて周辺領域11に露出した接続端子67に接続されている。
本実施形態において、タッチ信号線26が接続された切替要素5に含まれるスイッチ40A(第3スイッチの例)は、映像信号線17と接続端子68との電気的な接続と切断とを切り替える。一方、スイッチ40B(第4スイッチの例)は、タッチ信号線26と接続端子68との電気的な接続と切断とを切り替える。集積回路チップ12は、スイッチ40A,40Bを排他的に駆動する。
このような構成によると、表示動作期間には、映像信号線17と接続端子68とを電気的に接続して集積回路チップ12から映像信号線17に映像信号を出力し、タッチ検出期間には、タッチ信号線26と接続端子68とを電気的に接続して集積回路チップ12からタッチ信号線26に駆動信号を出力することも可能となる。すなわち、接続端子68を映像信号の出力と駆動信号の出力とに兼用することも可能である。
図9に示す表示装置1Bでは、第1電極21が検出電極となり、第2電極22が駆動電極となっている。タッチ駆動回路28は、表示領域15に対してFPC13が接続される接続端子68とは反対側に配置されている。第2電極22に接続されたタッチ信号線25は、Y方向に引き出されてタッチ駆動回路28に接続されている。タッチ駆動回路28から出力された駆動信号は、タッチ信号線25を介して第2電極22に入力される。
第1電極21に接続されたタッチ信号線26は、X方向に引き出され、周辺領域11のFPC13が接続される辺まで延びて、切替回路4の各切替要素5に接続されている。第1電極21から出力された検出信号は、タッチ信号線26を介して切替回路4の各切替要素5に入力される。この切替要素5は、上記図8に示した切替要素5と同様に、FPC13に電気的に接続される相手方を映像信号線17とタッチ信号線26とで切り替える。
本実施形態において、タッチ信号線26が接続された切替要素5に含まれるスイッチ40A(第1スイッチの例)は、映像信号線17と接続端子68との電気的な接続と切断とを切り替える。一方、スイッチ40B(第2スイッチの例)は、タッチ信号線26と接続端子68との電気的な接続と切断とを切り替える。集積回路チップ12は、スイッチ40A,40Bを排他的に駆動する。
このような構成によると、表示動作期間には、映像信号線17と接続端子68とを電気的に接続して集積回路チップ12から映像信号線17に映像信号を出力し、タッチ検出期間には、タッチ信号線26と接続端子68とを電気的に接続してタッチ信号線26から集積回路チップ12に検出信号を入力することが可能となる。すなわち、駆動電極と検出電極との関係が上記実施形態と逆であっても、接続端子68を映像信号の出力と検出信号の入力とに兼用することが可能である。
なお、図9に示すように、本実施形態の切替回路4は、表示領域15の幅の全体ではなく、タッチ信号線26が配置される側の一部のみに配置されてよい。この場合、複数の映像信号線17の一部のみが切替回路4に接続され、その他はFPC13が接続される接続端子68に直接的に接続されてよい。
本実施形態においては、開示例として有機EL表示装置の場合を例示したが、その他の適用例として、液晶表示装置、その他の自発光型表示装置、あるいは電気泳動素子等を有する電子ペーパー型表示装置等、あらゆるフラットパネル型の表示装置が挙げられる。また、中小型から大型まで、特に限定することなく適用が可能であることは言うまでもない。
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
1 タッチセンサ内蔵表示装置、4 切替回路、5 切替要素、6 走査駆動回路、10 表示パネル、11 周辺領域、12 集積回路チップ、13 FPC、15 表示領域、16 走査信号線、17 映像信号線、18,19 制御信号線、20 タッチセンサ、21 第1電極、22 第2電極、23 第1接続線、24 第2接続線、25,26 タッチ信号線、28 タッチ駆動回路、30 基板、31 アンダーコート層、33 ゲート絶縁膜、35 パシベーション膜、40 薄膜トランジスタ、40A,40B スイッチ、41 半導体層、43 ゲート電極、45 ドレイン電極、47 ソース電極、48,49 接続線、491,492 端部、51 平坦化膜、53 層間絶縁膜、55 画素分離膜、55a 開口、60 発光素子、61 画素電極、63 発光層、65 対向電極、67,68 接続端子、70 封止膜、71 無機膜、73 有機膜、75 無機膜、83 層間絶縁膜、83a 開口(スルーホール)、85 保護膜、87 円偏光フィルム、89 カバーフィルム、139 異方導電部材。

Claims (11)

  1. 表示領域に設けられた複数の表示素子と、
    前記表示領域の外側の周辺領域に引き出された、前記複数の表示素子に映像信号を供給する複数の映像信号線と、
    前記複数の表示素子上に2次元的に配列された複数の第1電極であって、第1方向に隣り合う第1電極は第1接続線を介して接続され、前記第1方向と交差する第2方向に隣り合う第1電極は接続されない、複数の第1電極と、
    前記第1電極と同層又は異層で2次元的に配列され、それぞれが平面視で前記第1電極に囲まれた複数の第2電極であって、前記第2方向に隣り合う第2電極は、前記第1接続線と絶縁膜を介して平面視で交差する第2接続線を介して接続され、前記第1方向に隣り合う第2電極は接続されない、複数の第2電極と、
    前記複数の第1電極に接続され、前記周辺領域に引き出された複数の第1タッチ信号線と、
    前記周辺領域に設けられた複数の接続端子と、
    前記複数の映像信号線の一と前記複数の接続端子の一との電気的な接続と切断とを切り替える第1スイッチと、
    前記複数の第1タッチ信号線の一と前記複数の接続端子の前記一との電気的な接続と切断とを切り替える第2スイッチと、
    を備える、タッチセンサ内蔵表示装置。
  2. 前記複数の第2電極に接続され、前記周辺領域に引き出された複数の第2タッチ信号線と、
    前記複数の映像信号線の一と前記複数の接続端子の他の一との電気的な接続と切断とを切り替える第3スイッチと、
    前記複数の第2タッチ信号線の一と前記複数の接続端子の当該他の一との電気的な接続と切断とを切り替える第4スイッチと、
    をさらに備える、請求項1に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  3. 前記第1スイッチと前記第2スイッチとが排他的に動作する、
    請求項1に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  4. 前記第3スイッチと前記第4スイッチとが排他的に動作する、
    請求項2に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  5. 前記複数の第2電極に駆動信号を供給するタッチ駆動回路をさらに備える、
    請求項1に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  6. 前記複数の表示素子に走査信号を供給する走査駆動回路をさらに備え、
    前記タッチ駆動回路は、前記表示領域に対して前記走査駆動回路とは反対側に配置される、
    請求項5に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  7. 前記タッチ駆動回路は、前記表示領域に対して前記複数の接続端子とは反対側に配置される、
    請求項5に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  8. 前記絶縁膜下に形成される第1導電層と、前記絶縁膜上に形成される第2導電層と、をさらに備え、
    前記第1電極、前記第1接続線、前記第2電極及び前記第2接続線のそれぞれは、前記第1導電層又は前記第2導電層に含まれ、
    前記第1タッチ信号線は、前記第2導電層に含まれる、
    請求項1に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  9. 前記絶縁膜下に形成される第1導電層と、前記絶縁膜上に形成される第2導電層と、をさらに備え、
    前記第1電極、前記第1接続線、前記第2電極及び前記第2接続線のそれぞれは、前記第1導電層又は前記第2導電層に含まれ、
    前記第2タッチ信号線は、前記第2導電層に含まれる、
    請求項2に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  10. 前記複数の表示素子上で前記表示領域を覆う封止膜をさらに備え、
    前記封止膜の外縁は、前記表示領域と前記第2スイッチとの間に位置し、
    前記第1タッチ信号線は、前記封止膜上から前記封止膜の外側に、前記封止膜の外縁を跨いで延在する、
    請求項1に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。
  11. 前記複数の表示素子上で前記表示領域を覆う封止膜をさらに備え、
    前記封止膜の外縁は、前記表示領域と前記第4スイッチとの間に位置し、
    前記第2タッチ信号線は、前記封止膜上から前記封止膜の外側に、前記封止膜の外縁を跨いで延在する、
    請求項2に記載のタッチセンサ内蔵表示装置。

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