JP2018168137A - Novel ionic compound and ultraviolet absorber containing the ionic compound - Google Patents

Abstract

To provide a novel ionic compound that reduces coloring in the visible light region when added to a resin, and efficiently absorbs ultraviolet rays in the UV-A region, and also has excellent heat resistance, and an ultraviolet absorber containing the ionic compound.SOLUTION: The present invention provides an ionic compound represented by formula (1) and an ultraviolet absorber containing the compound. (Q is N or P; R-Rare substituted or unsubstituted C1-8 alkyl or C6-24 aryl; Rand Rare C1-8 alkyl, C2-8 alkenyl, C2-8 alkynyl, C6-24 aryl or C1-8 fluoroalkyl; Xis an anion containing a fluorine atom; a is an integer of 1-5, b is an integer of 0-4, c and d are an integer of 0-5, where, a+b is 1-5, c+d is 0-5, m is a+c).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、新規なイオン性化合物及び該イオン性化合物を含有する紫外線吸収剤に関する。   The present invention relates to a novel ionic compound and an ultraviolet absorber containing the ionic compound.

従来、紫外線吸収剤を種々の樹脂に添加することで光安定性を付与することが行われている（特許文献１、非特許文献１）。紫外線吸収剤としては無機系紫外線吸収剤と有機系紫外線吸収剤が知られている。無機系紫外線吸収剤は、耐熱性に優れている反面、選択できる構造の自由度が少なく、長波長紫外線を吸収するものは可視域まで吸収を有するため着色を伴ってしまう。また、樹脂への溶解度が低いことから、樹脂の透明性を損なってしまう。このため、無機系紫外線吸収剤は、特に透明樹脂用途には不適である。これに対して、有機系紫外線吸収剤は、構造設計の自由度が高いために、紫外線吸収剤自体の構造を工夫することによって様々な吸収波長のものを得ることができる。   Conventionally, light stability is imparted by adding an ultraviolet absorber to various resins (Patent Document 1, Non-Patent Document 1). As ultraviolet absorbers, inorganic ultraviolet absorbers and organic ultraviolet absorbers are known. Inorganic ultraviolet absorbers are excellent in heat resistance, but have a low degree of freedom in the structure that can be selected, and those that absorb long-wavelength ultraviolet rays have absorption up to the visible range and are therefore colored. Moreover, since the solubility to resin is low, the transparency of resin will be impaired. For this reason, the inorganic ultraviolet absorber is particularly unsuitable for transparent resin applications. On the other hand, since organic ultraviolet absorbers have a high degree of freedom in structural design, they can be obtained with various absorption wavelengths by devising the structure of the ultraviolet absorber itself.

近年、ポリカーボネート（以下ＰＣという）は、その透明性や強度の高さから、自動車の窓材やＬＥＤランプのカバー材として使用されている。しかしながら、ＰＣは、特にＵＶ−Ａ領域（波長３１５〜４００ｎｍ）の紫外線により劣化するため、このような紫外線が照射される用途に使用する場合には、ＰＣの劣化を引き起こすＵＶ−Ａ領域の紫外線を効率良く吸収する紫外線吸収剤の添加が不可欠である。このことから、樹脂に添加した際に樹脂の可視光領域の着色が少なく、ＵＶ−Ａ領域の紫外線を効率よく吸収する紫外線吸収剤が求められている。   In recent years, polycarbonate (hereinafter referred to as PC) has been used as a window material for automobiles and a cover material for LED lamps because of its transparency and high strength. However, since PC is deteriorated particularly by ultraviolet rays in the UV-A region (wavelength 315 to 400 nm), when used in applications where such ultraviolet rays are irradiated, ultraviolet rays in the UV-A region that cause deterioration of the PC. It is indispensable to add an ultraviolet absorber that efficiently absorbs. For this reason, there is a need for an ultraviolet absorber that absorbs ultraviolet rays in the UV-A region with little coloring in the visible light region of the resin when added to the resin.

また、ＰＣ等の熱可塑性樹脂に対し紫外線吸収剤を均一に混合する際には、各種混練機等を使用し、熱可塑性樹脂を加熱溶融させ、そこへ紫外線吸収剤を添加して混練する手法が一般的である。特にＰＣは混練時の温度が３００℃を超えることもある。しかしながら有機系紫外線吸収剤は一般に、（ｉ）加熱により有機系紫外線吸収剤自身が揮発（以下、要因（ｉ）という）、又は（ｉｉ）加熱により酸化反応等が発生することで有機系紫外線吸収剤が分解し、低沸点成分へと変化して、当該低沸点成分が揮発（以下、要因（ｉｉ）という）することで、紫外線吸収剤の一部が失われるため、耐熱性が低い。   In addition, when uniformly mixing an ultraviolet absorber with a thermoplastic resin such as PC, a method of using various kneaders to heat and melt the thermoplastic resin and kneading it by adding an ultraviolet absorber thereto Is common. In particular, PC may have a kneading temperature exceeding 300 ° C. However, organic ultraviolet absorbers generally absorb organic ultraviolet rays by (i) volatilization of the organic ultraviolet absorber itself by heating (hereinafter referred to as factor (i)), or (ii) oxidation reaction or the like by heating. Since the agent decomposes and changes to a low boiling point component, and the low boiling point component volatilizes (hereinafter referred to as factor (ii)), a part of the ultraviolet absorber is lost, and thus the heat resistance is low.

さらに、熱可塑性樹脂に紫外線吸収剤を添加して混練する際や、紫外線吸収剤を添加した樹脂を加熱して加工する際に、要因（ｉ）や（ｉｉ）により揮発した有機系紫外線吸収剤自身や紫外線吸収剤の分解により発生した低沸点成分により、混練機等の装置内部や金型の汚染、樹脂加工成型品へブルームが付着するといった問題がある。   Furthermore, when an ultraviolet absorber is added to a thermoplastic resin and kneaded, or when the resin to which the ultraviolet absorber is added is heated and processed, the organic ultraviolet absorber volatilized due to factors (i) and (ii) There is a problem that the low boiling point component generated by the decomposition of itself or the ultraviolet absorber causes contamination of the inside of a kneader or the like, a mold, and a resin processed molded product.

本発明者らが、特許文献１及び非特許文献１を参考に、比較的耐熱性に優れるとして知られているベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤についてその耐熱性を評価したところ、満足のいくものではなかった（後述の比較例３及び４参照。）。   When the present inventors evaluated the heat resistance of a benzotriazole-based ultraviolet absorber known to be relatively excellent in heat resistance with reference to Patent Document 1 and Non-Patent Document 1, it is not satisfactory. (See Comparative Examples 3 and 4 below.)

国際公開第２０１６／１７１１９４号パンフレットInternational Publication No. 2016/171194 Pamphlet

「プラスチック添加剤の技術と市場」、６９〜８１頁、シーエムシー出版、２０１４年“Technology and Market of Plastic Additives”, pages 69-81, CM Publishing, 2014

本発明は、上記の背景技術に鑑みてなされたものであり、樹脂に添加した際に樹脂の可視光領域の着色が少なく、ＵＶ−Ａ領域の紫外線を効率よく吸収し、かつ、耐熱性に優れる新規なイオン性化合物及び該イオン性化合物を含有する紫外線吸収剤を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described background art, and when added to a resin, the resin is less colored in the visible light region, efficiently absorbs ultraviolet rays in the UV-A region, and is heat resistant. It is an object of the present invention to provide an excellent novel ionic compound and an ultraviolet absorber containing the ionic compound.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行ったところ、式（１）で表されるオニウム塩化合物が樹脂に添加した際に樹脂の可視光領域の着色が少なく、ＵＶ−Ａ領域の紫外線を効率よく吸収し、かつ、３００℃の加熱条件でも分解又は揮発しにくく耐熱性に優れていることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventor has conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems. As a result, when the onium salt compound represented by the formula (1) is added to the resin, the resin is less colored in the visible light region, and UV-A The inventors have found that the ultraviolet rays in the region are efficiently absorbed, and that they are hardly decomposed or volatilized even under heating conditions of 300 ° C. and have excellent heat resistance, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下の［１］〜［７］に関するものである。   That is, the present invention relates to the following [1] to [7].

［１］式（１）で表される化合物。 [1] A compound represented by formula (1).

式（１）： Formula (1):

（式中、Ｑ^＋は窒素カチオン又はリンカチオンである。Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、置換されていても良い炭素数１〜８のアルキル基又は置換されていても良い炭素数６〜２４のアリール基である。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数２〜８のアルキニル基、炭素数６〜２４のアリール基又は炭素数１〜８のフルオロアルキル基である。Ｘ⁻はフッ素原子を含むアニオンである。ａは１〜５の整数、ｂは０又は１〜４の整数、ｃ及びｄはそれぞれ０又は１〜５の整数である。ただし、ａ＋ｂは１〜５、ｃ＋ｄは０又は１〜５である。ｍはａ＋ｃで表される整数である。）

(Wherein, Q ⁺ is .R ¹ to R ³ is a nitrogen cation or phosphorus cation, each independently, several alkyl group or an optionally substituted carbon substituted carbon atoms and optionally 1-8 6 R ⁴ and R ⁵ are each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. an aryl group or a fluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms 24 .X ^- is an anion containing a fluorine atom .a is an integer of from 1 to 5, b is 0 or an integer of 1 to 4, c and d are Each is 0 or an integer of 1 to 5. However, a + b is 1 to 5, c + d is 0 or 1 to 5. m is an integer represented by a + c.)

［２］下記式（１−１）又は（１−２）で表される化合物。 [2] A compound represented by the following formula (1-1) or (1-2).

式（１−１）： Formula (1-1):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^５、Ｘ⁻、ｂ及びｄは前記に同じである。）

^{(Wherein, Q +, R 1 ~R 5} , X -, b and d are as defined above.)

式（１−２）： Formula (1-2):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。）

^(Wherein, Q ^+, R 1 ^{~R 3} and X ^- is as defined above.)

［３］式（１−３）で表される化合物。 [3] A compound represented by formula (1-3).

式（１−３）： Formula (1-3):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。）

^(Wherein, Q ^+, R 1 ^{~R 3} and X ^- is as defined above.)

［４］Ｑ^＋がリンカチオンである［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。 [4] The compound according to any one of [1] to [3], wherein Q ⁺ is a phosphorus cation.

［５］Ｘ⁻が式（２）： [5] X ⁻ represents the formula (2):

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基、炭素数６〜２４のパーフルオロアリール基又はフッ素原子を示し、Ｒ^６とＲ^７は互いに結合して、環を形成していてもよい。）
で表されるビス（スルホニル）イミドアニオンである［１］〜［４］のいずれかに記載の化合物。

(Wherein R ⁶ and R ⁷ each independently represent a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroaryl group having 6 to 24 carbon atoms or a fluorine atom, and R ⁶ and R ⁷ are bonded to each other). And may form a ring.)
The compound in any one of [1]-[4] which is a bis (sulfonyl) imide anion represented by these.

［６］［１］〜［５］のいずれかに記載の化合物を含む紫外線吸収剤。 [6] An ultraviolet absorber comprising the compound according to any one of [1] to [5].

［７］［６］に記載の紫外線吸収剤を含む樹脂組成物。 [7] A resin composition comprising the ultraviolet absorber according to [6].

樹脂に添加した際に樹脂の可視光領域の着色が少なく、ＵＶ−Ａ領域の紫外線を効率よく吸収し、かつ、耐熱性に優れる新規なイオン性化合物及び該イオン性化合物を含有する紫外線吸収剤を提供できる。   A novel ionic compound that is less colored in the visible light region of the resin when added to the resin, efficiently absorbs ultraviolet rays in the UV-A region, and has excellent heat resistance, and an ultraviolet absorber containing the ionic compound Can provide.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

式（１）中、Q^＋は窒素カチオン又はリンカチオンである。リンカチオンがより好ましい。 In the formula (1), Q ⁺ is a nitrogen cation or a phosphorus cation. Phosphorus cations are more preferred.

Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、置換されていても良い炭素数１〜８のアルキル基、又は置換されていても良い炭素数６〜２４のアリール基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ジイソプロピルフェニル基、（２−フェニルエテニル）フェニル基、メトキシフェニル基等が挙げられ、入手容易性の観点から、好ましくはメチル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基であり、耐熱性の観点から特に好ましくはフェニル基、トリル基である。また、入手容易性の観点から、Ｒ^１〜Ｒ^３が全て同じ置換基であることが好ましいが、Ｒ^１〜Ｒ^３のいずれか又は全てが異なっていてもよい。 R ^{1 to} R ³ are each independently an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an optionally substituted aryl group having 6 to 24 carbon atoms. Specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, cyclopropyl, cyclopentyl Group, cyclohexyl group, phenyl group, tolyl group, naphthyl group, diisopropylphenyl group, (2-phenylethenyl) phenyl group, methoxyphenyl group and the like. From the viewpoint of availability, a methyl group, n- A butyl group, a t-butyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, and a tolyl group are preferable, and a phenyl group and a tolyl group are particularly preferable from the viewpoint of heat resistance. In addition, from the viewpoint of availability, it is preferable that R ^{1 to} R ³ are all the same substituent, but any or all of R ^{1 to} R ³ may be different.

Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数２〜８のアルキニル基、炭素数６〜２４のアリール基、又は炭素数１〜８のフルオロアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、エテニル基、アリル基、エチニル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基、ジイソプロピルフェニル基、トリフルオロメチル基等が挙げられ、入手容易性の観点から、好ましくはメチル基である。 R ⁴ and R ⁵ are each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, or 1 carbon atom. -8 fluoroalkyl groups. Specifically, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, cyclopropyl, cyclopentyl Group, cyclohexyl group, ethenyl group, allyl group, ethynyl group, phenyl group, tolyl group, naphthyl group, diisopropylphenyl group, trifluoromethyl group and the like. From the viewpoint of availability, a methyl group is preferable.

ａは０又は１〜５の整数、ｂは０又は１〜４の整数、ｃ及びｄはそれぞれ０又は１〜５の整数である。ただし、ａ＋ｂは１〜５、ｃ＋ｄは０〜５である。入手容易性の観点から、ａは１であることが好ましい。ｍはａ＋ｃで表される整数である。   a is 0 or an integer of 1 to 5, b is an integer of 0 or 1 to 4, and c and d are 0 or an integer of 1 to 5, respectively. However, a + b is 1-5, c + d is 0-5. From the viewpoint of availability, a is preferably 1. m is an integer represented by a + c.

Ｘ⁻は、フッ素原子を含むアニオンである。Ｘ⁻としては具体的に、テトラフルオロホウ酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロひ酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオンや式（２）で表されるビス（スルホニル）イミドアニオンが挙げられる。耐熱性の観点から、好ましくは式（２）で表されるビス（スルホニル）イミドアニオンである。 X ⁻ is an anion containing a fluorine atom. X ⁻ is specifically represented by a tetrafluoroborate anion, a hexafluorophosphate anion, a hexafluoroantimonate anion, a hexafluoroarsenate anion, a trifluoroacetate anion, a trifluoromethanesulfonate anion, or a formula (2). Bis (sulfonyl) imide anion. From the viewpoint of heat resistance, a bis (sulfonyl) imide anion represented by the formula (2) is preferable.

式（２）： Formula (2):

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基、炭素数６〜２４のパーフルオロアリール基又はフッ素原子を示し、Ｒ^６とＲ^７は互いに結合して、環を形成していてもよい。）

(Wherein R ⁶ and R ⁷ each independently represent a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroaryl group having 6 to 24 carbon atoms or a fluorine atom, and R ⁶ and R ⁷ are bonded to each other). And may form a ring.)

式（２）中、Ｒ^６、Ｒ^７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基、炭素数６〜２４のパーフルオロアリール基又はフッ素原子を示し、好ましくは炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基又はフッ素原子であり、特に好ましくは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。Ｒ^６とＲ^７は互いに結合して、環を形成していてもよい。 In formula (2), R ⁶ and R ⁷ each independently represents a C 1-20 perfluoroalkyl group, a C 6-24 perfluoroaryl group or a fluorine atom, preferably 1-20 carbon atoms. Perfluoroalkyl group or fluorine atom, particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R ⁶ and R ^7, taken together, may form a ring.

式（２）で表されるビス（スルホニル）イミドアニオンとしては、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミドアニオンなどが挙げられ、好ましくはビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミドアニオンであり、特に好ましくは、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミドアニオン、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミドアニオンである。   Examples of the bis (sulfonyl) imide anion represented by the formula (2) include bis (fluorosulfonyl) imide anion, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide anion, bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide anion, bis (nonafluorobutanesulfonyl) ) Imide anion, etc., preferably bis (fluorosulfonyl) imide anion, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide anion, bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide anion, bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide anion, Preferably, a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide anion, a bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide anion, or a bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide anion .

式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）という。）として好ましくは式（１−１）、式（１−２）で表される化合物であり、特に好ましくは式（１−３）で表される化合物である。   The compound represented by formula (1) (hereinafter referred to as compound (1)) is preferably a compound represented by formula (1-1) or formula (1-2), particularly preferably formula (1- It is a compound represented by 3).

式（１−１）： Formula (1-1):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^５、Ｘ⁻、ｂ及びｄは前記に同じである。）

^{(Wherein, Q +, R 1 ~R 5} , X -, b and d are as defined above.)

式（１−２）： Formula (1-2):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。）

^(Wherein, Q ^+, R 1 ^{~R 3} and X ^- is as defined above.)

式（１−３）： Formula (1-3):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。）
で表される化合物。

^(Wherein, Q ^+, R 1 ^{~R 3} and X ^- is as defined above.)
A compound represented by

式（１−１）中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^５、Ｘ⁻、ｂ及びｄは前記に同じである。 In formula (1-1), Q ⁺ , R ^{1 to} R ⁵ , X ⁻ , b and d are the same as described above.

式（１−２）中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。 In formula (1-2), Q ⁺ , R ^{1 to} R ³ and X ⁻ are the same as described above.

式（１−３）中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。 In formula (1-3), Q ⁺ , R ^{1 to} R ³ and X ⁻ are the same as described above.

以下に化合物（１）の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of compound (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

耐熱性及び入手容易性の観点から、化合物（１）として好ましくは（１−１−７８）、（１−１−７９）、（１−１−８０）、（１−１−９８）、（１−１−９９）、（１−１−１００）、（１−１−１１８）、（１−１−１１９）、（１−１−１２０）、（１−１−１３８）、（１−１−１３９）、（１−１−１４０）で表される化合物である。   From the viewpoint of heat resistance and availability, the compound (1) is preferably (1-1-78), (1-1-79), (1-1-80), (1-1-98), ( 1-1-99), (1-1-100), (1-1-118), (1-1-119), (1-1-120), (1-1-138), (1- 1-139) and (1-1-140).

本発明の化合物（１）は、例えば、下記工程１及び２より製造出来る。   The compound (1) of this invention can be manufactured from the following process 1 and 2, for example.

工程１ 下記式（３）で表される第三級化合物（以下、第三級化合物（３）という。）と式（４）で表される含ハロゲン化合物（以下、含ハロゲン化合物（４）という。）を反応させる下記式（５）で表されるオニウム塩化合物（以下、オニウム塩化合物（５）という。）の製造工程。 Step 1 A tertiary compound represented by the following formula (3) (hereinafter referred to as tertiary compound (3)) and a halogen-containing compound represented by formula (4) (hereinafter referred to as halogen-containing compound (4)). ) Is reacted with an onium salt compound represented by the following formula (5) (hereinafter referred to as onium salt compound (5)).

式（３）： Formula (3):

（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は前記に同じである。Ｑは窒素原子又はリン原子である。）

(In the formula, R ^{1 to} R ³ are the same as above. Q is a nitrogen atom or a phosphorus atom.)

式（４）： Formula (4):

（式中、ａ、ｂ、ｃ及びｄは前記に同じ、Ｙはハロゲン原子である。）

(Wherein a, b, c and d are the same as above, and Y is a halogen atom.)

式（５）： Formula (5):

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^５、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｍは前記に同じである。Ｙ⁻はハロゲンイオンである。）

^{(Wherein, Q +, R 1 ~R 5} , a, b, c, d, and m are as defined above .Y ^- is a halogen ion.)

工程２ オニウム塩化合物（５）と下記式（６）で表されるアルカリ金属塩化合物（以下、アルカリ金属塩化合物（６）という。）を反応させる工程。 Step 2 A step of reacting an onium salt compound (5) with an alkali metal salt compound represented by the following formula (6) (hereinafter referred to as alkali metal salt compound (6)).

式（６）：
Ｍ^＋ Ｘ⁻ （６）
（式中、Ｍ^＋はアルカリ金属イオン、Ｘ⁻は前記に同じである。） Formula (6):
M ⁺ X ⁻ (6)
(Wherein M ⁺ is an alkali metal ion, and X ⁻ is the same as described above.)

まず、工程１について説明する。   First, step 1 will be described.

式（３）中、Ｒ^１〜Ｒ^３は前記に同じである。Qは窒素原子又はリン原子である。リン原子がより好ましい。 In formula (3), R ^{1 to} R ³ are the same as described above. Q is a nitrogen atom or a phosphorus atom. A phosphorus atom is more preferable.

第三級化合物（３）の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリフェニルアミン、１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−４−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、１−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−３−（２−フェニルエテニル）ベンゼンなどの第三級窒素化合物、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ｏ−トリル）ホスフィン、トリス（ｍ−トリル）ホスフィン、トリス（ｐ−トリル）ホスフィン等の第三級リン化合物が挙げられる。好ましくは第三級リン化合物であり、特に好ましくはトリフェニルホスフィン、トリス（ｐ−トリル）ホスフィンである。   Specific examples of the tertiary compound (3) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, trioctylamine, diethylmethylamine, triphenylamine, 1- (N, N-dimethylamino) -4- (2-phenyl ether). Terenyl) benzene, tertiary nitrogen compounds such as 1- (N, N-dimethylamino) -3- (2-phenylethenyl) benzene, trimethylphosphine, triethylphosphine, trioctylphosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine And tertiary phosphorus compounds such as tris (o-tolyl) phosphine, tris (m-tolyl) phosphine, and tris (p-tolyl) phosphine. A tertiary phosphorus compound is preferable, and triphenylphosphine and tris (p-tolyl) phosphine are particularly preferable.

式（４）中、ａ、ｂ、ｃ及びｄは前記に同じ、Ｙはハロゲン原子である。ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、反応性及び入手容易性の観点から塩素原子、臭素原子が好ましい。   In formula (4), a, b, c and d are the same as above, and Y is a halogen atom. Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom and a bromine atom are preferable from the viewpoint of reactivity and availability.

含ハロゲン化合物（４）の具体例としては、１−クロロ−４−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、１−ブロモ−４−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、１−ヨード−４−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、１−クロロ−３−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、１−ブロモ−３−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、１−クロロ−４−［２−（４’−メチル）フェニルエテニル］ベンゼン、１−ブロモ−４−［２−（４’−メチル）フェニルエテニル］ベンゼン、１−クロロ−４−［２−（３’，５’−ジメチル）フェニルエテニル］ベンゼン、１−ブロモ−４−［２−（３’，５’−ジメチル）フェニルエテニル］ベンゼン、１−クロロ−４−［２−（４’−クロロ）フェニルエテニル］ベンゼン、１−ブロモ−４−［２−（４’−ブロモ）フェニルエテニル］ベンゼン等が挙げられる。   Specific examples of the halogen-containing compound (4) include 1-chloro-4- (2-phenylethenyl) benzene, 1-bromo-4- (2-phenylethenyl) benzene, 1-iodo-4- (2 -Phenylethenyl) benzene, 1-chloro-3- (2-phenylethenyl) benzene, 1-bromo-3- (2-phenylethenyl) benzene, 1-chloro-4- [2- (4'- Methyl) phenylethenyl] benzene, 1-bromo-4- [2- (4′-methyl) phenylethenyl] benzene, 1-chloro-4- [2- (3 ′, 5′-dimethyl) phenylethenyl Benzene, 1-bromo-4- [2- (3 ′, 5′-dimethyl) phenylethenyl] benzene, 1-chloro-4- [2- (4′-chloro) phenylethenyl] benzene, 1- Bromo-4- [2- (4′- Romo) phenylethenyl] benzene.

式（５）中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^５、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、及びｍは前記に同じである。Ｙ⁻はハロゲンイオンである。ハロゲンイオンとしては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどが挙げられ、好ましくは塩素イオン、臭素イオンである。 In the formula (5), Q ⁺ , R ^{1 to} R ⁵ , a, b, c, d, and m are the same as described above. Y ^- is a halogen ion. Examples of the halogen ion include chlorine ion, bromine ion, iodine ion, and the like, preferably chlorine ion and bromine ion.

以下にオニウム塩化合物（５）の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the onium salt compound (5) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

耐熱性及び入手容易性の観点から、化合物（４）は好ましくは（５−１−２２）、（５−１−２３）、（５−１−２８）、（５−１−２９）、（５−１−３４）、（５−１−３５）、（５−１−４０）、（５−１−４１）で表される化合物である。 From the viewpoint of heat resistance and availability, the compound (4) is preferably (5-1-22), (5-1-23), (5-1-28), (5-1-29), ( 5-1-34), (5-1-35), (5-1-40), (5-1-41).

第三級化合物（３）の使用量は、含ハロゲン化合物（４）のハロゲン原子１モルに対して、通常、１以上、好ましくは１〜１．５モルである。   The usage-amount of a tertiary compound (3) is 1 or more normally with respect to 1 mol of halogen atoms of a halogen-containing compound (4), Preferably it is 1-1.5 mol.

工程１において反応温度は、使用する原料、溶媒等によって最適な温度が異なるが、通常、室温以上であり、好ましくは２０〜２００℃である。   In Step 1, the optimum reaction temperature varies depending on the raw materials, solvents, etc. used, but is usually room temperature or higher, preferably 20 to 200 ° C.

工程１において、溶媒は使用してもしなくてもよい。溶媒を使用する場合、使用する溶媒は反応に影響を与えないものであれば特に制限されない。溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、１−メトキシ−２−プロパノール、エトキシエタノール等のアルコール溶媒、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール等のポリオール溶媒、アセトン、アセトニトリル、トルエン、キシレン等が挙げられ、好ましくはエチレングリコール、アセトニトリル、トルエンである。溶媒の使用量は、第三級化合物（３）１重量部に対して、通常５０重量部以下、好ましくは１０重量部以下である。   In step 1, a solvent may or may not be used. When a solvent is used, the solvent to be used is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. Specific examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, 1-methoxy-2-propanol and ethoxyethanol, polyol solvents such as ethylene glycol, propylene glycol and diethylene glycol, acetone and acetonitrile. , Toluene, xylene, and the like, preferably ethylene glycol, acetonitrile, and toluene. The amount of the solvent used is usually 50 parts by weight or less, preferably 10 parts by weight or less with respect to 1 part by weight of the tertiary compound (3).

工程１の反応は、金属塩触媒を用いて反応を促進させることができる。金属塩触媒の具体例としては、無水塩化ニッケル（ＩＩ）、無水臭化ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物等が挙げられる。金属塩触媒の使用量は、第三級化合物（３）１モルに対して、通常０．０１モル〜１モルであり、好ましくは０．１モル〜０．２モルである。   The reaction of step 1 can be promoted using a metal salt catalyst. Specific examples of the metal salt catalyst include anhydrous nickel (II) chloride, anhydrous nickel (II) bromide, nickel chloride (II) hexahydrate and the like. The usage-amount of a metal salt catalyst is 0.01 mol-1 mol normally with respect to 1 mol of tertiary compounds (3), Preferably it is 0.1 mol-0.2 mol.

工程１において、必要に応じて、窒素、アルゴン、ヘリウム等の反応に影響を与えない不活性ガス雰囲気下で反応させてもよい。   In step 1, if necessary, the reaction may be performed in an inert gas atmosphere that does not affect the reaction of nitrogen, argon, helium, or the like.

反応終了後は、得られた反応液を必要に応じ水で洗浄し、反応液を濃縮することでオニウム塩化合物（５）を単離できる。   After completion of the reaction, the onium salt compound (5) can be isolated by washing the resulting reaction solution with water as necessary and concentrating the reaction solution.

次に、工程２について説明する。   Next, step 2 will be described.

式（６）中、Ｍ^＋はアルカリ金属イオンである。アルカリ金属イオンとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン等が挙げられる。Ｘ⁻は前記に同じである。 In the formula (6), M ⁺ is an alkali metal ion. Examples of alkali metal ions include lithium ions, sodium ions, and potassium ions. X ⁻ is the same as described above.

アルカリ金属塩化合物（６）の具体例としては、テトラフルオロホウ酸ナトリウム、テトラフルオロホウ酸カリウム、ヘキサフルオロリン酸リチウム、ヘキサフルオロリン酸ナトリウム、ヘキサフルオロリン酸カリウム、ヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム、ヘキサフルオロひ酸ナトリウム、トリフルオロ酢酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸カリウムや、下記式（７）で表されるアルカリ金属ビス（スルホニル）イミド化合物が挙げられ、好ましくは下記式（７）で表されるアルカリ金属ビス（スルホニル）イミド化合物である。   Specific examples of the alkali metal salt compound (6) include sodium tetrafluoroborate, potassium tetrafluoroborate, lithium hexafluorophosphate, sodium hexafluorophosphate, potassium hexafluorophosphate, sodium hexafluoroantimonate, hexa Examples include sodium fluoroarsenate, sodium trifluoroacetate, lithium trifluoromethanesulfonate, sodium trifluoromethanesulfonate, potassium trifluoromethanesulfonate, and alkali metal bis (sulfonyl) imide compounds represented by the following formula (7). Preferably, it is an alkali metal bis (sulfonyl) imide compound represented by the following formula (7).

式（７）： Formula (7):

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７及びＭ^＋は前記に同じである。）

(Wherein R ⁶ , R ⁷ and M ⁺ are the same as above).

式（７）中、Ｒ^６、Ｒ^７及びＭ^＋は前記に同じである。 In the formula (7), R ⁶ , R ⁷ and M ⁺ are the same as described above.

式（７）で表されるアルカリ金属ビス（スルホニル）イミド化合物としては、リチウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミドリチウム、ナトリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、カリウム＝ビス（フルオロスルホニル）イミド、リチウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ナトリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、カリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、リチウム＝ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、ナトリウム＝ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、カリウム＝ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド、リチウム＝ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド、ナトリウム＝ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド、カリウム＝ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド等が挙げられる。入手容易性及び耐熱性の観点から、特に好ましくはリチウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、ナトリウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドである。   Examples of the alkali metal bis (sulfonyl) imide compound represented by the formula (7) include lithium = bis (fluorosulfonyl) imide lithium, sodium = bis (fluorosulfonyl) imide, potassium = bis (fluorosulfonyl) imide, lithium = bis (Trifluoromethanesulfonyl) imide, sodium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, potassium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, lithium = bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, sodium = bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, potassium = Bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide, lithium = bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide, sodium = bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide, potassium = Scan (nonafluorobutanesulfonyl) imide, and the like. From the viewpoint of availability and heat resistance, lithium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide and sodium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide are particularly preferable.

工程２において、通常オニウム塩化合物（５）１モルに対して、アルカリ金属塩化合物（６）を０．９５モル以上、好ましくは１〜１．２モルとなる量を反応させる。   In step 2, the alkali metal salt compound (6) is usually reacted in an amount of 0.95 mol or more, preferably 1-1.2 mol, per 1 mol of the onium salt compound (5).

工程２において、オニウム塩化合物（５）とアルカリ金属塩化合物（６）はそれぞれ固体であるため、溶媒を使用して反応させることが好ましい。溶媒の具体例としては、４−メチル−２−ペンタノン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。   In Step 2, since the onium salt compound (5) and the alkali metal salt compound (6) are each solid, it is preferable to react using a solvent. Specific examples of the solvent include 4-methyl-2-pentanone, ethyl acetate, diethyl ether, dichloromethane, chloroform, toluene, xylene, hexane, heptane and the like.

反応温度は、特に制限されないが、通常１０℃以上、好ましくは２０〜６０℃である。   The reaction temperature is not particularly limited, but is usually 10 ° C or higher, preferably 20 to 60 ° C.

反応終了後、必要に応じて得られた反応液を水洗し、反応液を濃縮することで化合物（１）を単離できる。また、得られた化合物（１）は、再結晶等の方法により精製してもよい。   After completion of the reaction, the compound (1) can be isolated by washing the reaction solution obtained as necessary and concentrating the reaction solution. Further, the obtained compound (1) may be purified by a method such as recrystallization.

本発明の化合物（１）は、優れた紫外線吸収性能と高い耐熱性を有するため、紫外線吸収剤として樹脂に添加して使用することができる。化合物（１）を紫外線吸収剤として使用する場合、広範囲の波長領域において、効率的に紫外線を吸収するために、化合物（１）を２種以上組み合わせて使用することも出来る。   Since the compound (1) of the present invention has excellent ultraviolet absorption performance and high heat resistance, it can be used by adding to a resin as an ultraviolet absorber. When compound (1) is used as an ultraviolet absorber, compound (1) can be used in combination of two or more in order to efficiently absorb ultraviolet rays in a wide wavelength range.

本発明の紫外線吸収剤は単独であっても紫外線吸収剤として使用することができるが、必要に応じて公知の紫外線吸収剤やヒンダードアミン系の光安定化剤（ＨＡＬＳ）と組み合わせて混合し、使用することもできる。   Although the ultraviolet absorber of the present invention can be used alone or as an ultraviolet absorber, it can be used in combination with a known ultraviolet absorber or a hindered amine light stabilizer (HALS) if necessary. You can also

公知の紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、シアノアクリレート系、サリシレート系、オキザリニド系等の公知の紫外線吸収剤が挙げられる。   Examples of known ultraviolet absorbers include known ultraviolet absorbers such as benzotriazole, triazine, benzophenone, cyanoacrylate, salicylate, and oxalinide.

ヒンダードアミン系の光安定化剤（ＨＡＬＳ）としては特に限定されないが、加工温度が高い樹脂用途で使用する際には、組み合わせて使用するＨＡＬＳの耐熱性も高いものを選択することが望ましい。   Although it does not specifically limit as a hindered amine light stabilizer (HALS), When using it for the resin use with high processing temperature, it is desirable to select the thing with high heat resistance of HALS used in combination.

本発明の紫外線吸収剤は樹脂に混合することで紫外線吸収剤を含む樹脂組成物とすることができる。本発明の紫外線吸収剤を樹脂に添加する際は、加熱溶融して混練しても良いし、適当な溶媒（例えば、ジクロロメタン、酢酸エチル、トルエン等）と混合して溶液を調製した後、当該溶液を塗布し、溶媒を除去する方法、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の原料モノマー、又は原料モノマーを含む溶液中に混合し、硬化反応を通じて等の方法により、樹脂組成物を成型しても良い。またこれらの工程において、溶媒や後述する各種添加剤と予め混合した組成物として使用することも可能である。   The ultraviolet absorbent of the present invention can be mixed with a resin to form a resin composition containing the ultraviolet absorbent. When adding the ultraviolet absorbent of the present invention to the resin, it may be heated and melted and kneaded, or mixed with an appropriate solvent (for example, dichloromethane, ethyl acetate, toluene, etc.) to prepare a solution. The resin composition may be molded by a method such as applying a solution and removing the solvent, mixing in a raw material monomer such as acrylic resin or epoxy resin, or a solution containing the raw material monomer, and through a curing reaction. In these steps, it can also be used as a composition preliminarily mixed with a solvent and various additives described later.

樹脂としては特に限定されないが、具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ナイロン、ポリカーボネート、ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。本発明の紫外線吸収剤は高い耐熱性が特徴であるため、高温で加熱溶融練する工程や高温で成型する工程を有する用途に対して好適に使用できる。また、本発明の紫外線吸収剤は可視光領域での着色が少ない。このことから、本発明の紫外線吸収剤は透明性が高く、また、加工温度が高いポリカーボネートに対して、特に好適に使用できる。   Although it does not specifically limit as resin, Specifically, polyolefin, such as polyethylene and a polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, an acrylic resin, nylon, polycarbonate, polyester, an epoxy resin, a phenol resin, etc. are mentioned. Since the ultraviolet absorber of the present invention is characterized by high heat resistance, it can be suitably used for applications having a step of heat-melting and kneading at a high temperature and a step of molding at a high temperature. Further, the ultraviolet absorbent according to the present invention is less colored in the visible light region. From this, the ultraviolet absorber of the present invention can be used particularly suitably for polycarbonate having high transparency and high processing temperature.

本発明の紫外線吸収剤の使用量としては、組み合わせて使用する樹脂１００重量部に対して、紫外線吸収剤中の化合物（１）が、通常０．０１〜１０重量部となる量、好ましくは０．１〜３重量部となる量、特に好ましくは０．１〜１重量部となる量である。   The amount of the ultraviolet absorber of the present invention is such that the compound (1) in the ultraviolet absorber is usually 0.01 to 10 parts by weight, preferably 0, per 100 parts by weight of the resin used in combination. The amount of 1 to 3 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 1 part by weight.

本発明の樹脂組成物を製造する際に、用途に応じて各種添加剤を併用することが可能である。これらの添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、難燃剤、透明化剤、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。   When the resin composition of the present invention is produced, various additives can be used in combination depending on the application. These additives include plasticizers, antioxidants, flame retardants, clearing agents, lubricants, antistatic agents and the like.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はなんらこれらに限定されるものではない。なお、実施例中、^１Ｈ−ＮＭＲはブルカー株式会社製ＡＶ４００を使用し、４００ＭＨｚで測定した。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these at all. In the examples, ¹ H-NMR was measured at 400 MHz using Bruker AV400.

［合成例１］トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ブロミドの合成 [Synthesis Example 1] Synthesis of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium bromide

撹拌子を備えたフラスコに、トリフェニルホスフィン２．３ｇ（８．８ミリモル）、塩化ニッケル六水和物０．２ｇ（０．９ミリモル）、１−ブロモ−４−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、２．５ｇ（９．７ミリモル）、エチレングリコール１３．９ｇを加え、１５５℃で２０時間反応した。反応液を室温まで冷却し、水を１１．５ｇ、ジクロロメタン１８．４ｇを加えて、分液操作を行い、有機層を分離した。有機層を水１１．５ｇで二回洗浄した後、減圧濃縮にて溶媒を留去し、微黄色粉末状のトリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ブロミドを４．０ｇ得た（収率８６％）。トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ブロミドの^１Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。

In a flask equipped with a stir bar, 2.3 g (8.8 mmol) of triphenylphosphine, 0.2 g (0.9 mmol) of nickel chloride hexahydrate, 1-bromo-4- (2-phenylethenyl) Benzene, 2.5 g (9.7 mmol), and ethylene glycol 13.9 g were added and reacted at 155 ° C. for 20 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, 11.5 g of water and 18.4 g of dichloromethane were added, and a liquid separation operation was performed to separate the organic layer. After washing the organic layer twice with 11.5 g of water, the solvent was distilled off by concentration under reduced pressure, and 4.0 g of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium bromide in the form of a slightly yellow powder was obtained. Obtained (yield 86%). The result of ¹ H-NMR analysis of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium bromide is shown below.

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝７．９６−７．８８（ｍ，５Ｈ）、７．８５−７．７７（ｍ，６Ｈ）、７．６９−７．５６（ｍ，１０Ｈ）、７．４４−７．２９（ｍ，４Ｈ）、７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ） ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ (ppm) = 7.96-7.88 (m, 5H), 7.85-7.77 (m, 6H), 7.69-7.56 (m, 10H) ), 7.44-7.29 (m, 4H), 7.20 (d, 1H, J = 8.2 Hz)

［合成例２］トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成 Synthesis Example 2 Synthesis of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide

撹拌子を備えたフラスコに、合成例１で合成した、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ブロミド１．２ｇ（２．２ミリモル）、ジクロロメタン１１．５ｇ、７６％のリチウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド水溶液０．９ｇ（２．４ミリモル）、水１１．５ｇを加え、３０分間攪拌した。分液操作を行い、有機層を分離した。有機層を水１１．５ｇで二回洗浄した後、減圧濃縮にて溶媒を留去し、微黄色ガラス状のトリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを１．２ｇ得た（収率７７％）。トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの^１Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。

In a flask equipped with a stirrer, 1.2 g (2.2 mmol) of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium bromide synthesized in Synthesis Example 1, 11.5 g of dichloromethane, 76% 0.9 g (2.4 mmol) of lithium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide aqueous solution and 11.5 g of water were added and stirred for 30 minutes. Liquid separation operation was performed, and the organic layer was separated. After the organic layer was washed twice with 11.5 g of water, the solvent was distilled off by concentration under reduced pressure, and a slightly yellow glassy triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) was obtained. ) 1.2 g of imide was obtained (yield 77%). The result of ¹ H-NMR analysis of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide is shown below.

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝７．９５−７．８５（ｍ，５Ｈ）、７．８１−７．７５（ｍ，６Ｈ）、７．６８−７．５７（ｍ，１０Ｈ）、７．４２−７．３０（ｍ，４Ｈ）、７．２０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ） ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ (ppm) = 7.95-7.85 (m, 5H), 7.81-7.75 (m, 6H), 7.68-7.57 (m, 10H) ), 7.42-7.30 (m, 4H), 7.20 (d, 1H, J = 8.2 Hz)

［合成例３］トリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニルホスホニウム＝ブロミドの合成 Synthesis Example 3 Synthesis of tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenylphosphonium bromide

撹拌子を備えたフラスコに、トリス（ｐ−トリル）ホスフィン２．４ｇ（８．０ミリモル）、塩化ニッケル六水和物０．２ｇ（０．９ミリモル）、１−ブロモ−４−（２−フェニルエテニル）ベンゼン、２．３ｇ（８．８ミリモル）、エチレングリコール１４．６ｇを加え、１６５℃で２４時間反応した。反応液を室温まで冷却し、水を１２．２ｇ、ジクロロメタン１８．３ｇを加えて、分液操作を行い、有機層を分離した。有機層を水１４．６ｇで二回洗浄した後、減圧濃縮にて溶媒を留去し、微黄色粉末状のトリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ブロミドを４．１ｇ得た（収率９２％）。トリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニルホスホニウム＝ブロミドの^１Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。

In a flask equipped with a stir bar, 2.4 g (8.0 mmol) of tris (p-tolyl) phosphine, 0.2 g (0.9 mmol) of nickel chloride hexahydrate, 1-bromo-4- (2- Phenylethenyl) benzene, 2.3 g (8.8 mmol), and 14.6 g of ethylene glycol were added and reacted at 165 ° C. for 24 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, 12.2 g of water and 18.3 g of dichloromethane were added, and a liquid separation operation was performed to separate the organic layer. After washing the organic layer twice with 14.6 g of water, the solvent was distilled off by concentration under reduced pressure, and tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium bromide in the form of slightly yellow powder. 4.1 g (yield 92%) was obtained. The results of ¹ H-NMR analysis of tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenylphosphonium bromide are shown below.

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝７．８７（ｑ，２Ｈ，Ｊ_１＝４．２Ｈｚ，Ｊ_２＝１．４Ｈｚ）、７．６１−７．４７（ｍ，１６Ｈ）、７．４２−７．３７（ｍ，４Ｈ）、７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、２．５４（ｓ，９Ｈ） ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ (ppm) = 7.87 (q, 2H, J ₁ = 4.2 Hz, J ₂ = 1.4 Hz), 7.61-7.47 (m, 16H), 7 .42-7.37 (m, 4H), 7.18 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 2.54 (s, 9H)

［合成例４］トリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの合成 Synthesis Example 4 Synthesis of Tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide

撹拌子を備えたフラスコに、合成例３で合成した、トリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ブロミド４．１ｇ（７．４ミリモル）、ジクロロメタン４１．４ｇ、７６％のリチウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド水溶液３．１ｇ（８．１ミリモル）、水４１．４ｇを加え、３０分間攪拌した。分液操作を行い、有機層を分離した。有機層を水４１．４ｇで二回洗浄した後、減圧濃縮にて溶媒を留去し、微黄色ガラス状のトリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを５．０ｇ得た（収率９０％）。トリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの^１Ｈ−ＮＭＲ分析結果を以下に示す。

In a flask equipped with a stir bar, 4.1 g (7.4 mmol) of tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium bromide synthesized in Synthesis Example 3 and 41.4 g of dichloromethane were synthesized. Then, 3.1 g (8.1 mmol) of 76% lithium-bis (trifluoromethanesulfonyl) imide aqueous solution and 41.4 g of water were added and stirred for 30 minutes. Liquid separation operation was performed, and the organic layer was separated. The organic layer was washed twice with 41.4 g of water, and then the solvent was distilled off by concentration under reduced pressure to give slightly yellow glassy tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis. 5.0 g (90% yield) of (trifluoromethanesulfonyl) imide was obtained. The results of ¹ H-NMR analysis of tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide are shown below.

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）＝７．８７（ｑ，２Ｈ，Ｊ_１＝４．２Ｈｚ，Ｊ_２＝１．４Ｈｚ）、７．６１−７．４７（ｍ，１６Ｈ）、７．４２−７．３７（ｍ，４Ｈ）、７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、２．５４（ｓ，９Ｈ） ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ (ppm) = 7.87 (q, 2H, J ₁ = 4.2 Hz, J ₂ = 1.4 Hz), 7.61-7.47 (m, 16H), 7 .42-7.37 (m, 4H), 7.18 (d, 1H, J = 8.2 Hz), 2.54 (s, 9H)

実施例１〜４及び比較例１、２ ［紫外線吸収性能の評価］ Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 [Evaluation of UV Absorption Performance]

［実施例１］
合成例２で合成したトリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの０．０５ｍＭメタノール溶液を作成し、島津株式会社製紫外可視分光光度計（ＵＶ−２４５０）で２１０ｎｍ〜４５０ｎｍの吸収波長における吸収スペクトルを測定した。ＵＶ−Ａ領域における極大吸収波長は３２８ｎｍであり、その吸収波長におけるモル吸光係数は４２５６０Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ、単位重量あたりの吸光係数は５９Ｌ／ｇ・ｃｍであった。 [Example 1]
A 0.05 mM methanol solution of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide synthesized in Synthesis Example 2 was prepared, and an ultraviolet-visible spectrophotometer (UV) manufactured by Shimadzu Corporation -2450), an absorption spectrum at an absorption wavelength of 210 nm to 450 nm was measured. The maximum absorption wavelength in the UV-A region was 328 nm, the molar extinction coefficient at the absorption wavelength was 42560 L / mol · cm, and the extinction coefficient per unit weight was 59 L / g · cm.

［実施例２］
実施例１において、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、合成例４で合成したトリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを使用し、同様の測定を行った。ＵＶ−Ａ領域における極大吸収波長は３２７ｎｍであり、その吸収波長におけるモル吸光係数は４０５８０Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ、単位重量あたりの吸光係数は５３Ｌ／ｇ・ｃｍであった。 [Example 2]
Instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide in Example 1, tris (p-tolyl) -4- (2- Similar measurements were made using phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide. The maximum absorption wavelength in the UV-A region was 327 nm, the molar extinction coefficient at the absorption wavelength was 40580 L / mol · cm, and the extinction coefficient per unit weight was 53 L / g · cm.

［比較例１］
実施例１において、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イル）−６−ターシャリーブチル−４−メチルフェノール（東京化成株式会社製、ＬＡ−３６の品名で株式会社ＡＤＥＫＡから紫外線吸収剤として市販。）を使用し、同様の測定を行った。ＵＶ−Ａ領域における極大吸収波長は３４９ｎｍであり、その吸収波長におけるモル吸光係数は１５２８０Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ、単位重量あたりの吸光係数は４８Ｌ／ｇ・ｃｍであった。 [Comparative Example 1]
In Example 1, instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 2- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)- The same measurement was performed using 6-tertiarybutyl-4-methylphenol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., commercially available as an ultraviolet absorber from ADEKA Corporation under the product name LA-36). The maximum absorption wavelength in the UV-A region was 349 nm, the molar extinction coefficient at the absorption wavelength was 15280 L / mol · cm, and the extinction coefficient per unit weight was 48 L / g · cm.

実施例１、２及び比較例１の結果を表１に示す。   The results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.

実施例１、２及び比較例１の結果から、本発明の化合物は一般的な紫外線吸収剤と比較してＵＶ−Ａ領域において、同等以上の紫外線吸収性能を示すことがわかった。   From the results of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, it was found that the compound of the present invention exhibited an ultraviolet absorption performance equal to or higher than that of a general ultraviolet absorber in the UV-A region.

［実施例３］
ポリカーボネート（住化スタイロンポリカーボネート株式会社製カリバー２００−１３）に対して１重量部のトリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを添加して混合し、得られたポリカーボネートの粉末を株式会社東洋精機製作所製ミニテストプレス（ＭＰ−ＷＮＬ）により、２８５℃の成型温度にて成型し、１００ｍｍ×１００ｍｍ×１ｍｍのプレートを作成した。得られたプレートの２１０ｎｍ〜４５０ｎｍの吸収波長における吸収スペクトルを測定したところ、２１０〜４００ｎｍの紫外領域のほぼ全域で５以上の吸光度を示した。またプレートは無色透明であった。 [Example 3]
1 part by weight of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide is added to and mixed with polycarbonate (Caliver 200-13 manufactured by Sumika Stylon Polycarbonate Co., Ltd.). The obtained polycarbonate powder was molded at a molding temperature of 285 ° C. by a mini test press (MP-WNL) manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd., to prepare a plate of 100 mm × 100 mm × 1 mm. When the absorption spectrum of the obtained plate at an absorption wavelength of 210 nm to 450 nm was measured, an absorbance of 5 or more was exhibited in almost the entire ultraviolet region of 210 to 400 nm. The plate was colorless and transparent.

［実施例４］
実施例３において、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、トリス（ｐ−トリル）−４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを使用した以外は実施例３と同様にしてプレートを作成した。得られたプレートは２１０〜４００ｎｍの紫外領域のほぼ全域で５以上の吸光度を示した。またプレートは無色透明であった。 [Example 4]
In Example 3, tris (p-tolyl) -4- (2-phenylethenyl) phenyl) instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide) A plate was prepared in the same manner as in Example 3 except that phosphonium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide was used. The obtained plate exhibited an absorbance of 5 or more in almost the entire ultraviolet region of 210 to 400 nm. The plate was colorless and transparent.

［比較例２］
実施例３において、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イル）−６−ターシャリーブチル−４−メチルフェノールを使用した以外は実施例３と同様にしてプレートを作成した。得られたプレートは２１０〜４００ｎｍの紫外領域のほぼ全域で５以上の吸光度を示した。またプレートは微黄色透明であった。 [Comparative Example 2]
In Example 3, instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 2- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)- A plate was prepared in the same manner as in Example 3 except that 6-tertiarybutyl-4-methylphenol was used. The obtained plate exhibited an absorbance of 5 or more in almost the entire ultraviolet region of 210 to 400 nm. The plate was slightly yellow transparent.

実施例３、４及び比較例２の結果から、本発明の化合物を含むポリカーボネートは、２１０〜４００ｎｍの紫外領域のほぼ全域で紫外線を十分に吸収しており、また、可視光領域での着色が少ないことが分かった。   From the results of Examples 3 and 4 and Comparative Example 2, the polycarbonate containing the compound of the present invention sufficiently absorbs ultraviolet rays in almost all of the ultraviolet region of 210 to 400 nm and is colored in the visible light region. It turns out that there are few.

実施例５、実施例６、比較例３及び比較例４ ［耐熱性の評価］   Example 5, Example 6, Comparative Example 3 and Comparative Example 4 [Evaluation of heat resistance]

［実施例５］
トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを１０ｍｇ程度秤量し、株式会社日立製作所製熱分析装置（ＳＴＡ７２２０）にて、供給ガスを窒素とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行ったところ、４６１℃で初期重量から５％の重量減少があった。次に、供給ガスを空気とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行い、３３０℃に達した点から３３０℃で３０分間保持したところ、初期重量からの重量減少割合は３％であった。 [Example 5]
About 10 mg of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide was weighed, and the supply gas was changed to nitrogen with a thermal analyzer (STA7220) manufactured by Hitachi, Ltd. When the temperature was raised from 10 ° C./min to 461 ° C., the weight decreased by 5% from the initial weight. Next, air was used as the supply gas, the temperature was raised from 50 ° C. to 10 ° C./min, and when the temperature reached 330 ° C., the temperature was maintained at 330 ° C. for 30 minutes. The weight loss rate from the initial weight was 3%. It was.

［実施例６］
実施例５においてトリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、化合物（１−１−１３８）を使用し、同様の測定を行った。供給ガスを窒素とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行ったところ、４３１℃で初期重量から５％の重量減少があった。次に、供給ガスを空気とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行い、３３０℃に達した点から３３０℃で３０分間保持したところ、初期重量からの重量減少割合は４％であった。 [Example 6]
In Example 5, instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, the compound (1-138) was used and the same measurement was performed. When the supply gas was changed to nitrogen and the temperature was raised from 50 ° C. to 10 ° C./min, there was a 5% weight loss from the initial weight at 431 ° C. Next, the supply gas was changed to air, the temperature was raised from 50 ° C. to 10 ° C./min, and when the temperature reached 330 ° C., the temperature was maintained at 330 ° C. for 30 minutes. The weight reduction rate from the initial weight was 4%. It was.

［比較例３］
実施例５において、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イル）−６−ターシャリーブチル−４−メチルフェノールを使用し、同様の測定を行った。供給ガスを窒素とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行ったところ、２２５℃で初期重量から５％の重量減少があった。 [Comparative Example 3]
In Example 5, instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 2- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)- The same measurement was performed using 6-tertiarybutyl-4-methylphenol. When the supply gas was changed to nitrogen and the temperature was raised from 50 ° C. to 10 ° C./min, there was a 5% weight loss from the initial weight at 225 ° C.

［比較例３］
実施例５において、トリフェニル（４−（２−フェニルエテニル）フェニル）ホスホニウム＝ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドに代えて、２，２‘−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾル−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（東京化成株式会社製、ＬＡ−３１の品名で株式会社ＡＤＥＫＡから紫外線吸収剤として市販。）を使用し、同様の測定を行った。供給ガスを窒素とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行ったところ、３８５℃で初期重量から５％の重量減少があった。次に、供給ガスを空気とし、５０℃から１０℃／分で昇温を行い、３３０℃に達した点から３３０℃で３０分間保持したところ、初期重量からの重量減少割合は２７％であった。 [Comparative Example 3]
In Example 5, instead of triphenyl (4- (2-phenylethenyl) phenyl) phosphonium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 2,2′-methylenebis [6- (2H-benzotriazole-2- Yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol] (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., commercially available as an ultraviolet absorber from ADEKA Corporation under the product name LA-31). Measurements were made. When the supply gas was changed to nitrogen and the temperature was increased from 50 ° C. to 10 ° C./min, there was a 5% weight loss from the initial weight at 385 ° C. Next, the supply gas was changed to air, the temperature was raised from 50 ° C. to 10 ° C./min, and when the temperature reached 330 ° C., the temperature was maintained at 330 ° C. for 30 minutes. The weight reduction rate from the initial weight was 27%. It was.

実施例５、実施例６、比較例３及び比較例４の結果を表２に示す。   The results of Example 5, Example 6, Comparative Example 3 and Comparative Example 4 are shown in Table 2.

実施例５、実施例６、比較例３及び比較例４の結果から、本発明の化合物は一般的な紫外線吸収剤と比較して非常に優れた耐熱性を有することがわかった。   From the results of Example 5, Example 6, Comparative Example 3 and Comparative Example 4, it was found that the compound of the present invention has very excellent heat resistance as compared with a general ultraviolet absorber.

Claims (7)

式（１）で表される化合物。
式（１）：

（式中、Ｑ^＋は窒素カチオン又はリンカチオンである。Ｒ^１〜Ｒ^３は、それぞれ独立に、置換されていても良い炭素数１〜８のアルキル基又は置換されていても良い炭素数６〜２４のアリール基である。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数２〜８のアルキニル基、炭素数６〜２４のアリール基又は炭素数１〜８のフルオロアルキル基である。Ｘ⁻はフッ素原子を含むアニオンである。ａは１〜５の整数、ｂは０又は１〜４の整数、ｃ及びｄはそれぞれ０又は１〜５の整数である。ただし、ａ＋ｂは１〜５、ｃ＋ｄは０又は１〜５である。ｍはａ＋ｃで表される整数である。） The compound represented by Formula (1).
Formula (1):

(Wherein, Q ⁺ is .R ¹ to R ³ is a nitrogen cation or phosphorus cation, each independently, several alkyl group or an optionally substituted carbon substituted carbon atoms and optionally 1-8 6 R ⁴ and R ⁵ are each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. an aryl group or a fluoroalkyl group having 1 to 8 carbon atoms 24 .X ^- is an anion containing a fluorine atom .a is an integer of from 1 to 5, b is 0 or an integer of 1 to 4, c and d are Each is 0 or an integer of 1 to 5. However, a + b is 1 to 5, c + d is 0 or 1 to 5. m is an integer represented by a + c.) 式（１−１）又は（１−２）で表される化合物。
式（１−１）：

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^５、Ｘ⁻、ｂ及びｄは前記に同じである。）
式（１−２）：

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。） A compound represented by formula (1-1) or (1-2).
Formula (1-1):

^{(Wherein, Q +, R 1 ~R 5} , X -, b and d are as defined above.)
Formula (1-2):

^(Wherein, Q ^+, R 1 ^{~R 3} and X ^- is as defined above.) 式（１−３）で表される化合物。
式（１−３）：

（式中、Ｑ^＋、Ｒ^１〜Ｒ^３及びＸ⁻は前記に同じである。） Compound represented by formula (1-3).
Formula (1-3):

^(Wherein, Q ^+, R 1 ^{~R 3} and X ^- is as defined above.) Ｑ^＋がリンカチオンである請求項１〜３のいずれかに記載の化合物。 The compound according to any one of claims 1 to 3, wherein Q ⁺ is a phosphorus cation. Ｘ⁻が式（２）：

（式中、Ｒ^６、Ｒ^７はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基、炭素数６〜２４のパーフルオロアリール基又はフッ素原子を示し、Ｒ^６とＲ^７は互いに結合して、環を形成していてもよい。）
で表されるビス（スルホニル）イミドアニオンである請求項１〜４のいずれかに記載の化合物。 X ⁻ represents the formula (2):

(Wherein R ⁶ and R ⁷ each independently represent a perfluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a perfluoroaryl group having 6 to 24 carbon atoms or a fluorine atom, and R ⁶ and R ⁷ are bonded to each other). And may form a ring.)
The compound according to any one of claims 1 to 4, which is a bis (sulfonyl) imide anion represented by: 請求項１〜５のいずれかに記載の化合物を含む紫外線吸収剤。 The ultraviolet absorber containing the compound in any one of Claims 1-5. 請求項６に記載の紫外線吸収剤を含む樹脂組成物。 A resin composition comprising the ultraviolet absorber according to claim 6.